JP2019121635A - 光照射装置 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 24
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 12
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 10
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 6
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 abstract description 6
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 11
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2008—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the reflectors, diffusers, light or heat filtering means or anti-reflective means used
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/201—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by an oblique exposure; characterised by the use of plural sources; characterised by the rotation of the optical device; characterised by a relative movement of the optical device, the light source, the sensitive system or the mask
-
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
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- Non-Portable Lighting Devices Or Systems Thereof (AREA)
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Abstract
Description
ある実施形態に従うと、アパーチャ部材は、照射エリアと発光素子との間に配置される平板を含む。矩形開口は、平板に形成されている。
ある実施形態に従うと、反射面は、基台に配置された複数の発光素子から照射される光を最大1回反射する。
(光照射装置100の構成)
図1は、実施形態1に従う光照射装置100の構成の一例を表す図である。図1(A)は、光照射装置100の外観構成を表す。図1(B)は、光照射装置100の分解図を表す。
図2は、光照射装置100をz軸方向から見た図である。図3は、光照射装置100の光源110の照射領域を模式的に表す図である。
なお、矩形開口170が正方形でなく長方形である場合、関係式(1)においてL1は長方形を構成する短辺の長さに設定される。
図5は、関連技術に従う光照射装置200における光源の配置、および照射強度分布を表す図である。図5(A)は、光源110および光源120を含むxz平面で関連技術に従う光照射装置200を切断したときに得られる断面図を表す。図5(B)は、光照射装置200の光源110のみから光が発せられた場合のワークWの表面における照射強度分布を表す。図5(C)は、光照射装置200の光源120のみから光が発せられた場合のワークWの表面における照射強度分布を表す。図5(D)は、光照射装置200の光源110および120から光が発せられた場合のワークWの表面における照射強度分布を表す。図6は、光照射装置200の光源110の照射領域を模式的に表す図である。
図7は、実施形態1に従う光照射装置100における照射強度分布を表す図である。図7(A)は、光源110および光源120を含むxz平面で実施形態1に従う光照射装置100を切断したときに得られる断面図を表す。図7(B)は、光照射装置100の光源110のみから光が発せられた場合のワークWの表面における照射強度分布を表す。図7(C)は、光照射装置100の光源120のみから光が発せられた場合のワークWの表面における照射強度分布を表す。図7(D)は、光照射装置100の光源110および120から光が発せられた場合のワークWの表面における照射強度分布を表す。
図8を参照して、実施形態1に従う光照射装置100の仕様態様について説明する。図8は、ワークWを光照射装置100が走査する状態を表わす図である。光照射装置100は、ワークWにおいて予め定められた経路710上を移動する。一例として、経路710は、ワークWの周辺に沿った矩形に設定される。このとき、移動の方向は、特に限定されない。
変形例1に従う光照射装置は、光照射装置100のハードウェア構成に加えて光学素子をさらに有し、光源110〜140と光学素子とを適切な位置に配置することによって上記の照射条件を満たす。
L2は、矩形開口170の一辺の長さを表す。L3は、レンズから矩形開口170までの長さを表す。
図10は、変形例2に従う光照射装置1000の構成を表す図である。光照射装置1000は、実施形態1に従う光照射装置100と比べて、アパーチャ部材160に替えて平板1010を有する点において相違する。
実施形態1において、筐体150とアパーチャ部材160とが別体として設けられていたが、他の局面において、これらは一体として形成されていてもよい。つまり、筒状部材として機能する筐体150の照射エリアTL側(つまり、ワークW側)に形成されている矩形開口が、アパーチャ部材として機能してもよい。
実施形態1に従う光照射装置100は、アパーチャ部材160の矩形開口170の各角部に各々対応する4つの光源110〜140を有するように構成されている。以下に説明する実施形態2〜4に従う光照射装置は、これら光源110〜140に加え、矩形開口170の各角部に対応する位置以外に配置される光源を有するように構成される。
図14は、実施形態3に従う光照射装置1400の分解図を表す。図15は、光照射装置1400をz軸方向から見た図である。光照射装置1400は、基台105上に配置される光源1410をさらに有する点において、実施形態1に従う光照射装置100と相違する。なお、図14は光照射装置1400の分解図であって、実際の光照射装置1400は、基台105、筐体150、およびアパーチャ部材160がz軸方向に接合されている。
図16は、実施形態4に従う光照射装置1600の分解図を表す。図17は、光照射装置1600をz軸方向から見た図である。光照射装置1600は、実施形態2に従う光照射装置1100の光源1110〜1140と、実施形態3に従う光照射装置1400の光源1410とをさらに有する点において、実施形態1に従う光照射装置100と相違する。なお、図16は光照射装置1600の分解図であって、実際の光照射装置1600は、基台105、筐体150、およびアパーチャ部材160がz軸方向に接合されている。
[構成1] ある実施形態に従うと、照射対象物(例えばワークW)上の照射エリアTLを照射するための光照射装置(例えば光照射装置100,900,1000,1100,1400,1600)が提供される。この光照射装置は、基台105に、光軸の向きを揃えて二次元配置された複数の発光素子と、矩形開口(例えば矩形開口170)を有し、複数の発光素子からの光を矩形状に成形するように構成されたアパーチャ部材(例えばアパーチャ部材160)とを備える。複数の発光素子は、アパーチャ部材の矩形開口の各角部に各々対応するように配置された4つの角部発光素子(例えば光源110〜140)を含む。角部発光素子は、当該角部発光素子から出射される光が、当該角部発光素子に対応する角部を構成する矩形開口の2辺を照射し、他の2辺を照射しないように配置されている。
なお、矩形開口170が正方形でなく長方形である場合、関係式(1)においてL2は長方形を構成する短辺の長さに設定される。
図8を参照して、実施形態1に従う光照射装置100の使用態様について説明する。図8は、ワークWを光照射装置100が走査する状態を表わす図である。光照射装置100は、ワークWにおいて予め定められた経路710上を移動する。一例として、経路710は、ワークWの周辺に沿った矩形に設定される。このとき、移動の方向は、特に限定されない。
Claims (13)
- 照射対象物上の照射エリアを照射するための光照射装置であって、
基台に、光軸の向きを揃えて二次元配置された複数の発光素子と、
矩形開口を有し、前記複数の発光素子からの光を矩形状に成形するように構成されたアパーチャ部材とを備え、
前記複数の発光素子は、前記アパーチャ部材の矩形開口の各角部に各々対応するように配置された4つの角部発光素子を含み、
前記角部発光素子は、当該角部発光素子から出射される光が、当該角部発光素子に対応する前記角部を構成する矩形開口の2辺を照射し、他の2辺を照射しないように配置されている、光照射装置。 - 前記複数の発光素子には、照射する矩形開口の辺を共有する2つの前記角部発光素子を結ぶ直線上または当該直線よりも前記基台の外側に設けられる少なくとも1つの縁辺発光素子が含まれる、請求項1に記載の光照射装置。
- 前記縁辺発光素子は、当該縁辺発光素子が最も近接するアパーチャ部材の矩形開口の1辺を照射し、他の3辺を照射しない、請求項2に記載の光照射装置。
- 前記縁辺発光素子は、照射する矩形開口の辺を共有する前記角部発光素子同士を結ぶ4つの直線の上または当該直線よりも前記基台の外側に1つずつ、少なくとも4つ設けられている、請求項2〜請求項3のいずれかに記載の光照射装置。
- 前記複数の発光素子には、4つの前記角部発光素子のうち照射する矩形開口の辺を共有する2つの前記角部発光素子を結ぶ直線により形成される四角形の内側に設けられる、少なくとも1つの内側発光素子が含まれる、請求項1〜4のいずれかに記載の光照射装置。
- 前記内側発光素子は、前記アパーチャ部材の各辺の何れも照射しない、請求項5に記載の光照射装置。
- 前記アパーチャ部材は、前記照射エリアと前記発光素子との間に配置される平板を含み、
前記矩形開口は、前記平板に形成されている、請求項1〜請求項6のいずれかに記載の光照射装置。 - 前記アパーチャ部材は、筒状部材を含み、
前記矩形開口は、前記筒状部材の照射エリア側に形成されている、請求項1〜請求項6のいずれかに記載の光照射装置。 - 前記アパーチャ部材は、矩形開口を有する平板をさらに含み、
前記平板の矩形開口は、前記筒状部材の矩形開口よりも小さく、
前記平板は、前記筒状部材と前記照射エリアとの間に配置されている、請求項8に記載の光照射装置。 - 前記筒状部材の内面の少なくとも一部は反射面である、請求項8または請求項9に記載の光照射装置。
- 前記反射面は、前記基台に配置された前記複数の発光素子から照射される光を最大1回反射する、請求項10に記載の光照射装置。
- 前記基台に配置された前記複数の発光素子の光軸上にそれぞれ配置され、当該発光素子から出射された光を予め定められた広がり角に成形する光学素子をさらに備える、請求項1〜請求項11のいずれかに記載の光照射装置。
- 前記基台に配置された前記複数の発光素子は、マトリクス状に設けられている、請求項1〜請求項11のいずれかに記載の光照射装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017253774A JP6549690B2 (ja) | 2017-12-28 | 2017-12-28 | 光照射装置 |
TW107145097A TW201937302A (zh) | 2017-12-28 | 2018-12-13 | 光照射裝置 |
KR1020180165991A KR20190080758A (ko) | 2017-12-28 | 2018-12-20 | 광 조사 장치 |
CN201811606724.5A CN109976102A (zh) | 2017-12-28 | 2018-12-27 | 光照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017253774A JP6549690B2 (ja) | 2017-12-28 | 2017-12-28 | 光照射装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019121635A true JP2019121635A (ja) | 2019-07-22 |
JP6549690B2 JP6549690B2 (ja) | 2019-07-24 |
Family
ID=67076394
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017253774A Active JP6549690B2 (ja) | 2017-12-28 | 2017-12-28 | 光照射装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6549690B2 (ja) |
KR (1) | KR20190080758A (ja) |
CN (1) | CN109976102A (ja) |
TW (1) | TW201937302A (ja) |
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JP2013215661A (ja) | 2012-04-06 | 2013-10-24 | Ushikata Shokai:Kk | 紫外光照射装置 |
-
2017
- 2017-12-28 JP JP2017253774A patent/JP6549690B2/ja active Active
-
2018
- 2018-12-13 TW TW107145097A patent/TW201937302A/zh unknown
- 2018-12-20 KR KR1020180165991A patent/KR20190080758A/ko unknown
- 2018-12-27 CN CN201811606724.5A patent/CN109976102A/zh not_active Withdrawn
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201937302A (zh) | 2019-09-16 |
CN109976102A (zh) | 2019-07-05 |
KR20190080758A (ko) | 2019-07-08 |
JP6549690B2 (ja) | 2019-07-24 |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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