JP2019114654A - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1はこの発明に係る基板処理装置1の構成を示した概略図である。この基板処理装置1は、半導体基板等の基板91(以下、単に「基板91」と記載する)に付着しているパーティクル等の汚染物質(以下「パーティクル等」と記載する)を除去するための洗浄処理、および洗浄処理の後のリンス処理、乾燥処理に用いられる枚葉式の基板処理装置である。
次に、基板処理装置1の構成について図1を用いて説明する。基板処理装置1は、チャンバ11、制御ユニット13、乾燥補助液供給ユニット21、水素ラジカル供給ユニット31、気体供給ユニット41、モータ51、回転駆動部53、加熱部54、基板保持部55、チャックピン57を備える。また、基板処理装置1は図示しない基板搬入出手段と、図示しないチャックピン開閉機構と、図示しない湿式洗浄手段と、図示しないリンス手段を備える。基板処理装置1の各部について、以下に説明する。
次に、上記のように構成された基板処理装置1における基板処理動作について説明する。ここで、基板91上には、凹凸のパターンが前工程により形成されている。パターンは、凸部および凹部を備えている。凸部は、100〜200nmの範囲の高さであり、10〜20nmの範囲の幅である。また、隣接する凸部間の距離(凹部の幅)は、10〜20nmの範囲である。
13 制御ユニット
21 乾燥補助液供給ユニット
31 水素ラジカル供給ユニット
41 気体供給ユニット
37 プラズマ発生部
39 水素ガスタンク
51 モータ
53 回転駆動部
55 基板保持部
57 チャックピン
91 基板
Claims (6)
- 昇華性を有する乾燥補助物質を溶媒に溶解させた乾燥補助液を、処理液が付着した基板に供給する乾燥補助液供給手段と、
前記基板表面に前記乾燥補助液に含まれる前記乾燥補助物質を析出させる析出手段と、
前記乾燥補助物質を水素ラジカルとの反応により昇華させ、前記基板表面から除去する昇華除去手段と、
を備える基板処理装置。 - 前記昇華除去手段は、貯留された水素ガスを供給する供給管の開閉を行う水素ガスバルブと、前記供給管を介して管路接続するプラズマ発生部と、を備え、
前記水素ガスバルブを開成した後、前記プラズマ発生部で放電を開始することを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記昇華除去手段は、前記基板表面と前記乾燥補助物質を昇温させる加熱手段を備えることを特徴とする請求項1または2に記載の基板処理装置。
- 前記加熱手段は、少なくとも前記乾燥補助物質の温度を水の沸点よりも高く、前記乾燥補助物質の融点よりも低い温度にすることを特徴とする請求項3に記載の基板処理装置。
- 前記昇華除去手段の後、前記加熱手段を停止し、常温または常温より低い温度のガスを前記基板表面に供給することで前記基板表面の温度を常温にする常温化手段と、を備えることを特徴とする請求項3または4に記載の基板処理装置。
- 昇華性を有する乾燥補助物質を溶媒に溶解させた乾燥補助液を、処理液が付着した基板に供給する乾燥補助液供給工程と、
前記基板表面に前記乾燥補助液に含まれる前記乾燥補助物質を析出させる析出手段と、
前記乾燥補助物質を水素ラジカルとの反応により昇華させて、前記基板表面から除去する昇華除去工程と、
を備える基板処理方法。
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