JP2019111594A - チャックテーブル - Google Patents

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Abstract

【課題】加工中の被加工物の外縁部のばたつきを抑制することができるチャックテーブルを提供すること。【解決手段】チャックテーブル10は、載置された被加工物100を吸引保持する円盤状のポーラス吸着部13と、ポーラス吸着部13の外周を囲繞する枠体14とを具備している。ポーラス吸着部13は、被加工物100の直径より小さい強力吸着部16と、強力吸着部16を囲繞する細メッシュのポーラスで形成されたバリア部17とから構成されている。チャックテーブル10の枠体14の外径142は、載置する被加工物100と略同径である。【選択図】図2

Description

本発明は、研削装置のチャックテーブルに関する。
被加工物を研削して薄化する研削装置の被加工物を保持するチャックテーブルは、通常、被加工物のサイズバラツキや搬送時の位置ずれの影響を加味して、被加工物の外径より大きめに作られている(例えば、特許文献1参照)。
特開2011−029300号公報
しかしながら、特許文献1に示されたチャックテーブルは、研削等の加工時に、被加工物の外縁よりも外周側の領域上をつたって研削水がチャックテーブルと被加工物の間に入り込むことがあった。特許文献1に示されたチャックテーブルは、チャックテーブルと被加工物との間に研削水が入り込むと、被加工物の外縁部(エッジ)の保持力が低下して、外縁部がばたついてしまい、被加工物の外縁部に割れや欠けが生じるという問題がある。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、その目的は、加工中の被加工物の外縁部のばたつきを抑制することができるチャックテーブルを提供することにある。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明のチャックテーブルは、被加工物を研削する研削装置のチャックテーブルであって、載置された被加工物を吸引保持する円盤状のポーラス吸着部と、該ポーラス吸着部の外周を囲繞する枠体とを具備し、該ポーラス吸着部は、被加工物の直径より小さい強力吸引部と、該強力吸引部を囲繞する細メッシュのポーラスで形成されたバリア部とから構成され、該チャックテーブルの該枠体の外径は、載置する被加工物と略同径であることを特徴とする。
本願発明のチャックテーブルは、加工中の被加工物の外縁部のばたつきを抑制することができるという効果を奏する。
図1は、実施形態1に係る加工装置のチャックテーブルを備える研削装置の構成例を示す斜視図である。 図2は、実施形態1に係るチャックテーブルの断面図である。 図3は、実施形態1に係るチャックテーブルの製造方法を示すフローチャートである。 図4は、図3に示されたチャックテーブルの製造方法の部材接合ステップ後を示す断面図である。 図5は、図3に示されたチャックテーブルの製造方法の形成ステップ後を示す断面図である。
以下、本発明に係る実施形態につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。
〔実施形態1〕
本発明の実施形態1に係るチャックテーブルを図面に基づいて説明する。図1は、実施形態1に係る加工装置のチャックテーブルを備える研削装置の構成例を示す斜視図である。図2は、実施形態1に係るチャックテーブルの断面図である。
実施形態1に係るチャックテーブル10は、図1に示す加工装置である研削装置1を構成する。研削装置1は、被加工物100を研削して薄化する装置である。実施形態1において、研削装置1の加工対象である被加工物100は、シリコン、サファイア、ガリウムなどを基板101とする円板状の半導体ウエーハや光デバイスウエーハ等のウエーハである。被加工物100は、基板101の表面102の交差(実施形態1では、直交)する複数の分割予定ラインによって区画された複数の領域にそれぞれデバイスが形成されている。実施形態1において、被加工物100は、基板101の表面102に保護テープ110が貼着され、かつ研削装置1により基板101の表面102の裏側の裏面103が研削されて薄化される。実施形態において、被加工物100は、半導体ウエーハや光デバイスウエーハなどのウエーハであるが、本発明では、デバイスを複数実装した樹脂基板とデバイスを封止したモールド樹脂とを備えた樹脂パッケージ基板でも良く、中央部が薄化され、外周部に厚肉部が形成された所謂TAIKO(登録商標)ウエーハでもよく、セラミックス板、ガラス板等でも良い。
研削装置1は、図1に示すように、装置基台2と、被加工物100の裏面103側を保護テープ110を介して保持面11に保持するチャックテーブル10と、研削ユニット30と、図示しない加工送りユニットと、研削送りユニット40と、制御ユニット90を備える。なお、実施形態1に係る研削装置1は、研削ユニット30を一つのみ備えて、被加工物100の裏面103を研削する所謂1軸の研削装置である。
加工送りユニットは、装置基台2上に設置され、チャックテーブル10を保持面11と平行な加工送り方向であるY軸方向に相対移動させるものである。加工送りユニットは、チャックテーブル10を支持した支持基台12をY軸方向に移動させることで、チャックテーブル10を研削ユニット30から離間した搬出入位置201と研削ユニット30の下方の加工位置202とに亘って移動させる。
研削送りユニット40は、装置基台2に立設するコラム3に固定され、研削ユニット30を保持面11と直交する切り込み送り方向であるZ軸方向に研削送りするものである。コラム3は、装置基台2の加工位置202寄りの端部から立設した柱状に形成されている。研削送りユニット40は、研削ユニット30を下降させて研削ユニット30の研削ホイール31を加工位置202のチャックテーブル10に保持された被加工物100に近付け、研削ユニット30を上昇させて研削ホイール31を加工位置202のチャックテーブル10に保持された被加工物100から遠ざける。
加工送りユニット及び研削送りユニット40は、軸心回りに回転自在に設けられた周知のボールねじ41と、ボールねじ41を軸心回りに回転させる周知のパルスモータ42及びチャックテーブル10又は研削ユニット30をY軸方向又はZ軸方向に移動自在に支持する周知のガイドレール43を備える。
研削ユニット30は、研削送りユニット40によりチャックテーブル10に保持された被加工物100に研削ホイール31が押しつけられて、純水などの研削水を供給しながら研削ホイール31の研削砥石32でチャックテーブル10に保持された被加工物100を研削するものである。研削ユニット30は、図1に示すように、研削送りユニット40によりZ軸方向に移動自在に設けられたスピンドルハウジング33と、スピンドルハウジング33内に軸心回りに回転自在に設けられたスピンドル34と、スピンドル34の下端に装着される研削ホイール31と、を備える。スピンドル34は、Z軸方向と平行に配置され、スピンドルモータ35により軸心回りに回転される。スピンドル34は、下端に研削ホイール31を装着する円盤状のホイールマウント36が取り付けられている。
研削ホイール31は、ホイールマウント36に取り付けられるホイール基台37と、ホイール基台37に略円環状に配設された複数の研削砥石32とを備える。ホイール基台37は、ステンレス鋼又はアルミニウム合金により構成され、円環状に形成されている。
複数の研削砥石32は、ホイールマウント36に取り付けられたホイール基台37の加工位置202に配置されたチャックテーブル10に対向する下面に配置されている。複数の研削砥石32は、ホイール基台37の下面に周方向に並べられ、等間隔に配置されている。実施形態1において、各研削砥石32は、ビトリファイドボンドなどのボンド材によって、ダイヤモンド、又はCBN(Cubic Boron Nitride)等の砥粒が結合されて、構成されている。
制御ユニット90は、研削装置1の上述した構成要素をそれぞれ制御して、被加工物100に対する加工動作を研削装置1に実施させるものである。なお、制御ユニット90は、コンピュータである。制御ユニット90は、CPU(central processing unit)のようなマイクロプロセッサを有する演算処理装置と、ROM(read only memory)又はRAM(random access memory)のようなメモリを有する記憶装置と、入出力インターフェース装置とを有する。制御ユニット90の演算処理装置は、記憶装置に記憶されているコンピュータプログラムに従って演算処理を実施して、研削装置1を制御するための制御信号を、入出力インターフェース装置を介して研削装置1の上述した構成要素に出力する。また、制御ユニット90は、加工動作の状態や画像などを表示する液晶表示装置などにより構成される図示しない表示ユニットや、オペレータが加工内容情報などを登録する際に用いる入力装置と接続されている。入力装置は、表示ユニットに設けられたタッチパネルと、キーボード等とのうち少なくとも一つにより構成される。
チャックテーブル10は、図1に示す研削装置1のチャックテーブルであって、図2に示すように、円盤状のポーラス吸着部13と、ポーラス吸着部13の外周を囲繞する枠体14と、円盤状のテーブル本体15とを具備する。
ポーラス吸着部13は、厚さが一定の円盤状に形成され、ポーラスセラミックス等の多孔質材で構成されているとともに、表面が被加工物100を保持する保持面11をなしている。ポーラス吸着部13は、多孔質材で構成されているので、通気可能な細かな孔が多数形成されている。
ポーラス吸着部13は、被加工物100の直径104よりも直径131が小さい強力吸着部16と、強力吸着部16よりも細メッシュのポーラスで構成されたバリア部17とから構成されている。強力吸着部16は、平面形状が円形に形成され、ポーラス吸着部13の中央に設けられている。バリア部17は、平面形状がリング状に形成され、ポーラス吸着部13の外縁部の全周に亘って設けられている。バリア部17の外径142は、被加工物100の直径104よりも大きい。
なお、本発明では、強力吸着部16よりも細メッシュのポーラスで構成されたとは、バリア部17に設けられた細かな孔が、強力吸着部16に設けられた細かな孔よりも小さいこと、と少ないこととのうち少なくとも一方であることを示している。実施形態1において、バリア部17は、ポーラス吸着部13を構成する多孔質材に樹脂又は水ガラス等が浸漬されて構成され、強力吸着部16は、ポーラス吸着部13を構成する多孔質材に樹脂又は水ガラス等に浸漬されることなく構成されているが、本発明では、バリア部17及び強力吸着部16の製造方法は、これらに限定されない。
枠体14は、内径が被加工物100の直径よりも大きなリング状に形成され、内周側にポーラス吸着部13を収容している。枠体14の厚さは、ポーラス吸着部13の厚さと等しく形成されている。枠体14は、通気性を有しない非通気性でかつ研削可能なセラミックス等から構成されている。枠体14の軸心を含む断面における幅141は、全周に亘って一定に形成され、0.5mm以上でかつ0.6mm以下に形成されている。チャックテーブル10の枠体14の外径142は、幅141が0.5mm以上でかつ0.6mm以下に形成されていることにより、保持面11に載置する被加工物100の直径104と略同径である。なお、枠体14の外径142が被加工物100の直径104と略同径とは、被加工物100のチャックテーブル10の保持面11に対する搬送時の位置ずれ(通常、0.5mm程度)が生じても、被加工物100を枠体14の上面にはみ出すことなくポーラス吸着部13の保持面11上に載置することが可能でありながら枠体14の幅141を極力小さくした時の直径104及び外径142であることを示している。なお、幅141が0.5mm未満であると、0.5mm程度の被加工物100の搬送時の位置ずれにより、被加工物100の一部が枠体14の上面にはみ出してしまう虞があるので、幅141は、0.5mm以上であるのが望ましい。また、幅141が0.6mmを超えると、研削中にポーラス吸着部13と被加工物100との間に浸入する研削水の量が増加して、加工中の被加工物100の外縁部がばたついてしまい、被加工物100の外縁部に生じる割れ及び欠けを抑制できずに加工品質が低下してしまうので、幅141は、0.6mm以下であるのが望ましい。
テーブル本体15は、厚さが一定でかつ枠体14よりも大径な円盤状に形成されているとともに、ステンレス鋼等の金属により構成されている。
チャックテーブル10は、テーブル本体15の上面に強力吸着部16及びバリア部17が形成されたポーラス吸着部13を収容した枠体14が固定されている。実施形態1において、チャックテーブル10は、テーブル本体15、強力吸着部16及びバリア部17が同軸となる位置に配置されている。チャックテーブル10は、支持基台12上に装着される。
また、チャックテーブル10のテーブル本体15には、ポーラス吸着部13に吸引源21が発生する負圧を作用させるための真空吸引経路22が形成されている。ポーラス吸着部13は、チャックテーブル10が支持基台12上に装着されると、真空吸引経路22及び支持基台12に設けられた吸引路23を介して吸引源21と接続され、被加工物100を吸引源21が発生する負圧により保持面11に吸引保持する。また、チャックテーブル10は、支持基台12に装着されると、Z軸方向と平行な軸心回りに回転される。なお、Z軸方向は、鉛直方向と平行であり、保持面11と直交する方向である。
また、支持基台12には、テーブル本体15を吸引して固定するために、吸引源21に接続された吸引路24が設けられている。
前述した構成の研削装置1は、支持基台12にチャックテーブル10を装着して、保護テープ110を介して被加工物100の表面102側をチャックテーブル10の保持面11に吸引保持する。保持面11に被加工物100を吸引保持する際、チャックテーブル10の強力吸着部16の吸引力は、バリア部17の吸引力よりも強い。研削装置1は、研削水を供給しながら研削ホイール31及びチャックテーブル10を軸心回りに回転させて、研削ホイール31の研削砥石32を被加工物100の裏面103に押し付けて、被加工物100の裏面103を研削する。
次に、実施形態1に係るチャックテーブル10の製造方法を説明する。図3は、実施形態1に係るチャックテーブルの製造方法を示すフローチャートである。図4は、図3に示されたチャックテーブルの製造方法の部材接合ステップ後を示す断面図である。図5は、図3に示されたチャックテーブルの製造方法の形成ステップ後を示す断面図である。
チャックテーブル10の製造方法は、実施形態1に係るチャックテーブル10を製造する方法であって、図3に示すように、部材接合ステップST1と、形成ステップST2とを含む。
部材接合ステップST1は、ポーラス吸着部13と枠体14を構成する枠状部材25とテーブル本体15とを互いに接合するステップである。枠状部材25は、枠体14よりも外径251が大きいこと以外、枠体14と同じ構成である。実施形態1において、部材接合ステップST1は、周知の接着剤等を用いて、枠状部材25の内周面にポーラス吸着部13を固定し、図4に示すように、接着剤によりテーブル本体15の上面に枠状部材25及びポーラス吸着部13を固定する。チャックテーブル10の製造方法は、図4に示すように、ポーラス吸着部13と枠状部材25とテーブル本体15とを互いに接合すると、形成ステップST2に進む。
形成ステップST2は、枠状部材25の外周面を切削して、枠状部材25を枠体14に形成するステップである。実施形態1において、形成ステップST2では、幅141が0.5mm以上でかつ0.6mm以下になるまで枠状部材25の外周面を切削する。チャックテーブル10の製造方法は、形成ステップST2において、枠状部材25を枠体14に形成すると終了する。
実施形態1に係るチャックテーブル10は、強力吸着部16の直径が被加工物100の直径104よりも小さく、かつ枠体14の内径であるポーラス吸着部13の直径131が被加工物100の直径104よりも大きく形成されている。また、チャックテーブル10は、枠体14の幅141が0.5mm以上でかつ0.6mm以下に形成されている。このために、チャックテーブル10は、被加工物100と略同径にチャックテーブル10の枠体14の外径142が形成されているため、保持面11に被加工物100を保持した際に、被加工物100の外縁よりも外周に位置付けられるポーラス吸着部13及び枠体14の幅を抑制することができる。その結果、チャックテーブル10は、研削装置1の研削中にポーラス吸着部13及び枠体14上の研削水の量を抑制することができ、ポーラス吸着部13から吸引する研削水の量を抑制することができて、ポーラス吸着部13と被加工物100との間に浸入する研削水の量を抑制することができる。したがって、チャックテーブル10は、加工中の被加工物100の外縁部のばたつきを抑制することができ、被加工物100の外縁部に生じる割れ及び欠けを抑制することができる。
また、実施形態1に係るチャックテーブル10の製造方法は、前述した構成のチャックテーブル10を製造するので、加工中の被加工物100の外縁部のばたつきを抑制することができ、被加工物100の外縁部に生じる割れ及び欠けを抑制できるチャックテーブル10を得ることができる。
次に、本発明の発明者は、実施形態1に係るチャックテーブルの効果を確認した。結果を表1に示す。確認においては、比較例1、比較例2、本発明品1及び本発明品2のチャックテーブル10を用いて被加工物100を研削した。
Figure 2019111594
比較例1は、枠体14の幅141を0.2mmとし、他の構成が実施形態1と等しいチャックテーブルである。比較例2は、枠体14の幅141を1.0mmとし、他の構成が実施形態1と等しいチャックテーブルである。本発明品1は、枠体14の幅141を0.5mmとした実施形態1に係るチャックテーブル10である。本発明品2は、枠体14の幅141を0.6mmとした実施形態1に係るチャックテーブル10である。
比較例1は、枠体14の幅141が狭すぎて、枠体14の機械的な強度が低下し、研削中に枠体14が破損してしまうとともに、搬送時の位置ずれにより、被加工物100の一部が枠体14の上面にはみ出してしまい加工に適しないことが明らかとなった。比較例2は、研削中にポーラス吸着部13と被加工物100との間に浸入する研削水の量が増加して、加工中の被加工物100の外縁部がばたついてしまい、被加工物100の外縁部に生じる割れ及び欠けを抑制できないことが明らかとなった。これらの比較例1及び比較例2に対して、本発明品1及び本発明品2は、研削中にポーラス吸着部13と被加工物100との間に浸入する研削水の量を抑制でき、加工中の被加工物100の外縁部のばたつきを抑制できて、被加工物100の外縁部に生じる割れ及び欠けを抑制することができることが明らかとなった。よって、表1によれば、枠体14の幅141を0.5mm以上でかつ0.6mm以下とすることにより、加工中の被加工物100の外縁部のばたつきを抑制できて、被加工物100の外縁部に生じる割れ及び欠けを抑制することができることが明らかとなった。
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。
1 研削装置
10 チャックテーブル
13 ポーラス吸着部
14 枠体
16 強力吸着部
17 バリア部
100 被加工物
104 直径
142 外径

Claims (1)

  1. 被加工物を研削する研削装置のチャックテーブルであって、
    載置された被加工物を吸引保持する円盤状のポーラス吸着部と、
    該ポーラス吸着部の外周を囲繞する枠体とを具備し、
    該ポーラス吸着部は、
    被加工物の直径より小さい強力吸引部と、該強力吸引部を囲繞する細メッシュのポーラスで形成されたバリア部とから構成され、
    該チャックテーブルの該枠体の外径は、載置する被加工物と略同径であることを特徴とするチャックテーブル。
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0788761A (ja) * 1993-09-21 1995-04-04 Sumitomo Sitix Corp 半導体基板の研磨用保持板
JPH10193260A (ja) * 1996-12-27 1998-07-28 Shin Etsu Handotai Co Ltd ウエーハ保持治具
US20080057834A1 (en) * 2005-03-10 2008-03-06 Werner Kroeninger Method and Device for Treating Wafers on Assembly Carriers
JP2011044472A (ja) * 2009-08-19 2011-03-03 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの研削装置
JP2012020374A (ja) * 2010-07-15 2012-02-02 Disco Corp 研削装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0788761A (ja) * 1993-09-21 1995-04-04 Sumitomo Sitix Corp 半導体基板の研磨用保持板
JPH10193260A (ja) * 1996-12-27 1998-07-28 Shin Etsu Handotai Co Ltd ウエーハ保持治具
US20080057834A1 (en) * 2005-03-10 2008-03-06 Werner Kroeninger Method and Device for Treating Wafers on Assembly Carriers
JP2011044472A (ja) * 2009-08-19 2011-03-03 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの研削装置
JP2012020374A (ja) * 2010-07-15 2012-02-02 Disco Corp 研削装置

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