JP2019106479A5 - - Google Patents
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Description
[9] 第9形態によれば、基板を処理するための基板処理装置の制御方法であって、
基板が所定の位置に搬送されたときに、前記基板の第1の面側から照明装置で前記基板を照射しつつ、前記基板の第2の面側にある画像センサによって、前記基板の少なくとも1つの対角線上の2つの隅部の位置を検出すること、 前記基板の位置として前記基板の中心位置及び回転角を算出し、算出した前記基板の中心位置及び回転角が、所定の中心位置及び所定の回転角からずれている場合に、前記基板の回転角を所定の回転角に補正したのち、前記基板の中心位置を所定の中心位置に補正すること、を含む、基板処理装置の制御方法が提供される。第5形態と同様の作用効果を奏する。
基板が所定の位置に搬送されたときに、前記基板の第1の面側から照明装置で前記基板を照射しつつ、前記基板の第2の面側にある画像センサによって、前記基板の少なくとも1つの対角線上の2つの隅部の位置を検出すること、 前記基板の位置として前記基板の中心位置及び回転角を算出し、算出した前記基板の中心位置及び回転角が、所定の中心位置及び所定の回転角からずれている場合に、前記基板の回転角を所定の回転角に補正したのち、前記基板の中心位置を所定の中心位置に補正すること、を含む、基板処理装置の制御方法が提供される。第5形態と同様の作用効果を奏する。
[10] 第10形態によれば、基板処理装置の制御方法をコンピュータに実行させるためのプログラムを格納した記憶媒体であって、 基板が所定の位置に搬送されたときに、前記基板の第1の面側から前記照明装置で前記基板を照射しつつ、前記基板の第2の面側にある画像センサによって、前記基板の少なくとも1つの対角線上の2つの隅部の位置を検出すること、 前記基板の位置として前記基板の中心位置及び回転角を算出し、算出した前記基板の中心位置及び回転角が、所定の中心位置及び所定の回転角からずれている場合に、前記基板の回転角を所定の回転角に補正したのち、前記基板の中心位置を所定の中心位置に補正することをコンピュータに実行させるためのプログラムを格納した記憶媒体が提供される。第5形態と同様の作用効果を奏する。
Claims (10)
- 基板を処理するための基板処理装置であって、
基板が所定の位置に搬送されたときに、前記基板の少なくとも1つの対角線上の2つの隅部の位置を検出する画像センサと、
前記所定の位置にある前記基板に対して前記画像センサとは反対側において、前記基板の前記2つの隅部を照射するように配置可能である照明装置と、
前記画像センサで検出された前記2つの隅部の位置に基づいて前記基板の位置を判定する制御装置と、
を備え、
前記制御装置は、前記基板の特性に応じて、前記照明装置の出力光の光量及び波長の少なくとも1つを変更する、
基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記基板の特性は、前記基板の材料、厚さ、及び基板の種類の少なくとも1つを含む、
基板処理装置。 - 請求項1又は2に記載の基板処理装置において、
前記基板の特性と、前記照明装置の出力光の光量及び波長の少なくとも1つとを対応付けたデータベースを備えている、
基板処理装置。 - 請求項1乃至3の何れかに記載の基板処理装置であって、
前記画像センサは、基板着脱部に配置され、基板着脱装置に配置された、基板保持部材としての基板ホルダの上方、下方、又は側方に隣接する位置に前記基板があるときに、前記基板の位置を計測し、
前記制御装置は、前記画像センサによる計測結果に基づいて、前記基板の前記基板ホルダに対する位置決めを行った後、前記基板を前記基板ホルダに設置する、
基板処理装置。 - 基板を処理するための基板処理装置であって、
基板が所定の位置に搬送されたときに、前記基板の少なくとも1つの対角線上の2つの隅部の位置を検出する画像センサと、
前記所定の位置にある前記基板に対して前記画像センサとは反対側において、前記基板の前記2つの隅部を照射するように配置可能である照明装置と、
前記画像センサで検出された前記2つの隅部の位置に基づいて前記基板の位置を判定する制御装置と、
を備え、
前記制御装置は、前記基板の位置として前記基板の中心位置及び回転角を算出し、算出した前記基板の中心位置及び回転角が、所定の中心位置及び所定の回転角からずれている場合に、前記基板の回転角を所定の回転角に補正したのち、前記基板の中心位置を所定の中心位置に補正する、基板処理装置。 - 請求項5に記載の基板処理装置であって、
前記画像センサは、基板着脱部に配置され、基板着脱装置に配置された、基板保持部材としての基板ホルダの上方、下方、又は側方に隣接する位置に前記基板があるときに、前記基板の位置を計測し、
前記制御装置は、前記基板の中心位置及び回転角の算出結果に基づいて、前記基板の前記基板ホルダに対する位置決めを行った後、前記基板を前記基板ホルダに設置する、
基板処理装置。 - 基板を処理するための基板処理装置の制御方法であって、
前記基板の特性に応じて、照明装置の出力光の光量及び波長の少なくとも1つを変更すること、
基板が所定の位置に搬送されたときに、前記基板の第1の面側から前記照明装置で前記基板を照射しつつ、前記基板の第2の面側にある画像センサによって、前記基板の少なくとも1つの対角線上の2つの隅部の位置を検出すること、
前記画像センサで検出された前記2つの隅部の位置に基づいて前記基板の位置を判定すること、
を含む、基板処理装置の制御方法。 - 基板処理装置の制御方法をコンピュータに実行させるためのプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記基板の特性に応じて、照明装置の出力光の光量及び波長の少なくとも1つを変更すること、
基板が所定の位置に搬送されたときに、前記基板の第1の面側から前記照明装置で前記基板を照射しつつ、前記基板の第2の面側にある画像センサによって、前記基板の少なくとも1つの対角線上の2つの隅部の位置を検出すること、
前記画像センサで検出された前記2つの隅部の位置に基づいて前記基板の位置を判定すること、
をコンピュータに実行させるためのプログラムを格納した記憶媒体。 - 基板を処理するための基板処理装置の制御方法であって、
基板が所定の位置に搬送されたときに、前記基板の第1の面側から照明装置で前記基板を照射しつつ、前記基板の第2の面側にある画像センサによって、前記基板の少なくとも1つの対角線上の2つの隅部の位置を検出すること、
前記基板の位置として前記基板の中心位置及び回転角を算出し、算出した前記基板の中心位置及び回転角が、所定の中心位置及び所定の回転角からずれている場合に、前記基板
の回転角を所定の回転角に補正したのち、前記基板の中心位置を所定の中心位置に補正すること、
を含む、基板処理装置の制御方法。 - 基板処理装置の制御方法をコンピュータに実行させるためのプログラムを格納した記憶媒体であって、
基板が所定の位置に搬送されたときに、前記基板の第1の面側から前記照明装置で前記基板を照射しつつ、前記基板の第2の面側にある画像センサによって、前記基板の少なくとも1つの対角線上の2つの隅部の位置を検出すること、
前記基板の位置として前記基板の中心位置及び回転角を算出し、算出した前記基板の中心位置及び回転角が、所定の中心位置及び所定の回転角からずれている場合に、前記基板の回転角を所定の回転角に補正したのち、前記基板の中心位置を所定の中心位置に補正すること
をコンピュータに実行させるためのプログラムを格納した記憶媒体。
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Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE102009016288B4 (de) * | 2009-01-02 | 2013-11-21 | Singulus Technologies Ag | Verfahren und Vorrichtung für die Ausrichtung von Substraten |
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US9886029B2 (en) * | 2013-12-02 | 2018-02-06 | Daihen Corporation | Workpiece processing apparatus and workpiece transfer system |
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