JP2019101153A - グレーティングカプラ - Google Patents
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Abstract
【課題】グレーティングカプラにおける出射角度の波長依存性が抑制できるようにする。【解決手段】光導波路101a,101bは、グレーティング102が形成されている箇所を中心に対称に形成され、グレーティング102を中心に、光導波路101a,101bの導波路長は同一とされ、光導波路101a,101bの両端の光入出射端103a,103bには、同じ光強度の光が入射される。グレーティング102が形成されている箇所に対し、2つの方向から同じ光強度の光が入射される。【選択図】 図1A
Description
本発明は、光導波路に形成されたグレーティングにより光導波路を導波する導波光と外部光とを結合するグレーティングカプラに関する。
シリコン光回路と光ファイバの結合には、これまで、導波路端面と光ファイバの結合の効率を向上させるために、スポットサイズコンバータや先球ファイバなどが使用されてきた。近年、微細加工の技術の進展により、シリコン導波路上に数百nmの溝を形成してグレーティングを作製し、光導波路から基板面に対して上方、下方に光を放射させるグレーティングカプラとして機能させ、放射させた光を光ファイバと結合させる例が多くみられるようになった。
例えば、非特許文献1に、シリコンフォトニクスにおけるグレーティングカプラの使用例が記載されている。非特許文献1に記載されているように、グレーティングカプラからの上面への光の出射角度は、引用文献1の記載された式(1)を満たす角度となり、基板に対して垂直な方向から20deg.以内の傾き角と記載されている。
A. Mekis et al., "A Grating-Coupler-Enabled CMOS Photonics Platform", IEEE Journal of Selected Topics in Quantum Electronics, vol. 17, no. 3, pp. 597-608, 2011.
C. Li et al., "CMOS-compatible high efficiency double-etched apodized waveguide grating coupler", Optics Express, vol. 21, no. 7, pp. 7868-7874, 2013.
グレーティングカプラからの上面出射の光は、原理的に角度を持って出射される。この出射角度は、波長依存性を持ち、波長が変わると出射角度が変化し、光ファイバとの結合効率が変化してしまう。また、グレーティングカプラの利点は、所定の領域の面で光を入出力できるところにあり、面で光結合するため、この面内に多数の入出力を設けることができる点が挙げられる。しかしながら、波長によって出射角度が変化するため、一括で複数の入出力を行うのに適したマルチコアファイバなどとの結合をさせる場合、結合させる場所によって、グレーティングカプラとマルチコアファイバのコアの距離が変化し、均一な結合が困難である。
本発明は、以上のような問題点を解消するためになされたものであり、グレーティングカプラにおける出射角度の波長依存性が抑制できるようにすることを目的とする。
本発明に係るグレーティングカプラは、光導波路と光導波路に形成されたグレーティングとから構成されて光導波路を導波する導波光と外部光とを結合するグレーティングカプラであって、グレーティングが形成されている箇所を中心に対称に形成された光導波路を備える。
上記グレーティングカプラにおいて、光導波路の両端の光入出射端には、同じ光強度の光が入射される。
以上説明したように、本発明によれば、グレーティングカプラにおける出射角度の波長依存性が抑制できるという優れた効果が得られる。
以下、本発明の実施の形態おけるグレーティングカプラ100について図1A,図1Bを参照して説明する。このグレーティングカプラ100は、光導波路101a,101bと、光導波路101a,101bに形成されたグレーティング102とから構成されている。グレーティング102の箇所において、光導波路101a,101bを導波する導波光と外部光とを結合する。
本発明におけるグレーティングカプラ100は、光導波路101a、101bが、グレーティング102が形成されている箇所を中心に対称に形成されているところに特徴がある。また、光導波路101a,101bの両端は、光入出射端103a,103bとされている。光導波路101a,101bの導波路長は、グレーティング102を中心に同一とされ、光導波路101a,101bの両端の光入出射端103a,103bには、同じ光強度の光が入射される。グレーティング102が形成されている箇所に対し、2つの方向から同じ光強度、同じ位相の光が、同じタイミングで入射されることが重要である。
光導波路101a,101bは、下部クラッド層111と、コア112と、上部クラッド層113とから構成されている。下部クラッド層111,上部クラッド層113は、例えば、酸化シリコンから構成されている。また、コア112は、シリコンから構成されている。例えば、よく知られたSOI(Silicon on Insulator)基板を用い、埋め込み絶縁層を下部クラッド層111とし、表面シリコン層をパターニングすることでコア112を形成すればよい。
また、表面シリコン層をパターニングしてコア112を形成した後、コア112の上面にグレーティング102を形成する。例えば、凹部の深さが70nm、周期P=630nm、フィルファクタ50%のグレーティング102を形成する。コア112にグレーティング102を形成した後、スパッタ法やCVD(Chemical Vapor Deposition)法などのよく知られた堆積法により酸化シリコンを堆積することで、下部クラッド層111の上に、コア112を覆って上部クラッド層113を形成すればよい。下部クラッド層111は、例えば層厚3μm程度とし、コア112は、厚さ0.22μm程度とし、上部クラッド層113は、層厚1.5μm程度とすればよい。
なお、実施の形態1において、光導波路101a,101bの両端の光入出射端103a,103bには、同じ光強度の光を入射する機構として、光導波路104a,104b、MMI(Multi-Mode Interference)カプラ105、入出力導波路106を備える。MMIカプラ105は、入出力導波路106より入力した光を、光導波路104aと光導波路104bとに、光強度50:50の割合で分岐する。なおMMIカプラの代わりに、方向性結合器を用いてもよい。なお、光導波路104a,104bは、スポットサイズ変換領域107a,107bを介して光導波路101a,101bに接続している。
上述した構成のグレーティングカプラ100は、波長1550nmの光が、一方の側の光導波路101aの光入出射端103aより入力されると、約−10deg.の角度を持って、グレーティング102の上方に出射される。
ここで、グレーティング102の領域に、両側から同時に光が入射されると、例えば、光導波路101a,101bの導波方向に対して垂直な面を基準として対称の2つの光は、2光束干渉により、周期的な光強度分布が発生する。この光強度分布は、グレーティング102からの出射角度や出射位置によって変化する。
グレーティング102の周期Pが630nm、フィルファクタ50%、グレーティング102の溝本数を3本とし、両側の光入出射端103a,103bに光を入射し、グレーティング102の両側に光(光強度が等しい光)が入射された場合の出射光の電界分布を計算した結果を図2に示す。両方から入射された光の出射光の干渉により、左右対称の電界分布が得られ、導波方向に対して垂直方向に光が放射されており、上方へ伝搬するにつれ、光が広がる結果が得られている。なお、グレーティング102の溝本数は、3本に限るものではない。ただし、光の干渉によって形成される光強度分布(電界分布)が所望の形状になるように、グレーティング102の溝本数を適宜に設計することが重要である。
グレーティング102の両側に光が入射されてグレーティング102から上方に出射された光の、上部クラッド層113から約2μm上方に離れた位置における光強度分布を図3に示し、遠視野像を図4に示す。図3に示すように、約2μm上方では、左右対称のガウシアン分布に近い形状の電界分布となっており、半値全幅は、約3μmである。また、図4に示すように、遠視野像においても出射角度も左右対称で中心角度が0deg.となる。
実施の形態のグレーティングカプラ100では、2つの光入出射端103a,103bから入射した光のそれぞれの出射角度が波長によって変化した場合でも、グレーティング102の中心を対称に光の干渉によって作られる出射光の中心角度は変化しない。実施の形態におけるグレーティングカプラ100の2つの光入出射端103a,103bの各々に、波長1550nmおよび1610nmの波長を入射した場合の遠視野像を図5に示す。どちらの遠視野像においても0deg.を中心に対称であり、0deg.がピークの類似した遠視野像となっている。
ここで、一般的なグレーティングカプラの一端に光が入射された場合の出射光の電界分布を計算した結果を図6に示す。図6紙面の左側から光が入射されている。なお、グレーティングの周期は630nm、フィルファクタ50%、グレーティングの溝本数を30本、凹部の深さが70nmである。図6に示すように、一方から光が入射されると、導波方向に対して垂直から傾いた方向に光が放射されている。また、上述した一般的なグレーティングカプラの一端に光が入射されてグレーティングから上方に出射された光の遠視野像を図7に示す。図7に示すように、遠視野像において、出射角度が左右対称ではなく、中心角度が0deg.からずれている。
ところで、上述では、グレーティング102を中心に対称な2箇所より光を入力するようにしたが、これに限るものではなく、図8に示すように、グレーティング102aを中心に対称な4箇所から光が入力される構成のグレーティングカプラ100aとしてもよい。なお、この例では、MMIカプラ105で2分岐された各々の光は、光導波路104a,光導波路104bを導波し、MMIカプラ151a,MMIカプラ151bの各々で2分岐される。MMIカプラ151aで2分岐された光は、光導波路141a,光導波路142aを導波し、MMIカプラ151bで2分岐された光は、光導波路141b,光導波路142bを導波し、グレーティング102aを中心に対称な4箇所に入力する。
また、図9に示すように、グレーティング102aを中心に対称な4箇所から光が入力される構成のグレーティングカプラ100aとしてもよい。なお、この例では、MMIカプラ105aで4等分に4分岐された各々の光が、光導波路143a,光導波路144a,光導波路143b,光導波路144bを導波し、グレーティング102aを中心に対称な4箇所に入力する。
また、図10に示すように、グレーティング102bを中心に対称な8箇所から光が入力される構成のグレーティングカプラ100bとしてもよい。この例では、MMIカプラ105bで8等分に8分岐された各々の光が、グレーティング102bを中心に対称な8箇所に入力する。いずれにおいても、分岐部から各光入出射端までの導波路長は等しくすることが重要である。
ここで、MMIカプラを用いた例を示したが、1×2の分岐であれば、50:50の2分岐にできれば、方向性結合器でも良い。また4分岐では1×2の2段構成と1×4の1段構成を示しているように、8分岐に関しても、最終的に同じ強度、タイミング、位相の8入力にすれば良く、1×2の3段構成、1×2と1×4の組み合わせ、1×8の1段構成など、任意の組み合わせを使用することができる。
以上に説明したように、本発明によれば、光導波路を、グレーティングが形成されている箇所を中心に対称に形成し、グレーティングが形成されている箇所に対して2つの方向から同じ光強度の光が入射されるようにしたので、グレーティングカプラにおける出射角度の波長依存性が抑制できるようになる。
本発明により、グレーティングカプラを用いて導波方向に対して垂直方向に光の取り出しが可能となる。垂直方向への取り出しによって、ファイバ結合の際の調心が容易になる。グレーティングカプラを光の取り出しの利点は、光取り出し側の面で素子やファイバを集積できる点が挙げられる。複数のファイバを調心する際の調心にかかる作業を容易にすることができる。面型の結合をする場合に有用となるマルチコアファイバなどでは、各コア間での結合特性の均一化が図ることができる。また、本発明では、本来発現するグレーティングカプラの出射角度の波長依存性のトレランスを拡大することができ、数10nmの波長範囲においては同じ出射角度での光の取り出しが可能になる。
また、本発明によれば、グレーティングから出射する光の角度が、光導波路の導波方向に対して垂直であり、また、出射する光は左右対称の電界分布となる。光が垂直に出射するため、例えば、光ファイバに対しては、垂直に光を入射させることができる。垂直入射することで、例えば、マルチコアファイバなどでは、コアの位置によらず空間を伝搬する距離を一定にすることができ、結合効率を均一化することが可能となる。また、対称な電界分布は、結合する対象(例えば,光ファイバ)の電界分布とのマッチングを向上させることができる。
なお、本発明は以上に説明した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想内で、当分野において通常の知識を有する者により、多くの変形および組み合わせが実施可能であることは明白である。
100,100a,100b,100c…グレーティングカプラ、101a,101b…光導波路、102…グレーティング、103a,103b…光入出射端、104a,104b…光導波路、105…MMIカプラ、106…入出力導波路、107a,107b…スポットサイズ変換領域。
Claims (2)
- 光導波路と前記光導波路に形成されたグレーティングとから構成されて前記光導波路を導波する導波光と外部光とを結合するグレーティングカプラであって、
前記グレーティングが形成されている箇所を中心に対称に形成された前記光導波路を備えることを特徴とするグレーティングカプラ。 - 請求項1記載のグレーティングカプラにおいて、
前記光導波路の両端の光入出射端には、同じ光強度の光が入射されることを特徴とするグレーティングカプラ。
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