JP2019096792A - 半導体レーザ - Google Patents
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Abstract
Description
InGaAsを含むコア層503Cとn−InPを含む下クラッド層502との間に、
量子井戸層を有し、該量子井戸層とn−InPを含む下クラッド層502との間に歪補償層を有していてもよい。さらに、前記コア層の両側に複数の量子井戸層を設け、その複数の量子井戸層の外側に複数の歪補償層を設けてもよい。
実施例1,2では、DBR領域に図5,6のエネルギーバンドを有するレーザ素子について説明したが、図8に示した位相調整領域802を備えるレーザ素子においては、位相調整領域802も、図5,6に示したエネルギーバンドを有する構造としても良い。
102,202,302,402,502,602,702 n−InPを含む下クラッド層
103,203,303, InGaAsPを含む層
403,503,603,703 InGaAsを含む層
104,204,304,404,504,604,704 価電子帯
105,205,305,405,505,605,705 伝導帯
203A,303A, InGaAsPを含む量子井戸層
403A,503A,603A,703A InGaAsを含む量子井戸層
0203B,403B,503B,603B InGaAsPを含む歪補償層
203C,303C, InGaAsPを含むコア層
403C,503C,603C,703C InGaAsを含むコア層
603D InGaAsPを含む光閉じ込め層
106,206,306,406,506,606,706 正孔の流れる方向
107,207,307,407,507,607,707 電子の流れる方向
801 後DBR領域
802 位相調整領域
803 ゲイン領域
804 前DBR領域
805 SOA領域
806a,806b 電極
808 n−InPを含む下クラッド層
809a DBR領域のコア層
809b ゲイン領域のコア層
810 絶縁膜
811 p−InPを含む上クラッド層
812 コンタクト層(p型InGaAsP)
813a,813b 回折格子層
Claims (3)
- p−InPを含む上クラッド層と、n−InPを含む下クラッド層と、無歪InGaAs又はバンドギャップ波長がλg=1.5μmよりも大きい波長を示す無歪InGaAsPを含むコア層とを有するDBR領域を有する半導体レーザにおいて、
前記コア層と、前記p−InPを含む上クラッド層と前記n−InPを含む下クラッド層の少なくとも一方との間に圧縮歪InGaAsの量子井戸層を有し、
前記量子井戸層と、前記p−InPを含む上クラッド層と前記n−InPを含む下クラッド層の少なくとも一方との間に歪補償層を有し、
前記歪補償層のバンドギャップ波長λgが少なくとも前記コア層のバンドギャップ波長λgより短く、前記p−InPを含む上クラッド層と前記n−InPを含む下クラッド層のバンドギャップ波長λgよりも長い構造を有することを特徴とする半導体レーザ。 - 前記DBR領域は、前記歪補償層と、前記p−InPを含む上クラッド層又は前記n−InPを含む下クラッド層との間に光閉じ込め層を有し、前記歪補償層のバンドギャップ波長λgが少なくとも前記無歪InGaAs又は前記バンドギャップ波長λg=1.5μmを超える無歪InGaAsPより短く、前記光閉じ込め層のバンドギャップ波長λgと同じかそれよりも長いことを特徴とする請求項1に記載の半導体レーザ。
- n−InPを含む下クラッド層と、
前記n−InPを含む下クラッド層上の無歪InGaAs又はバンドギャップ波長がλg=1.5μmよりも大きい波長を示す無歪InGaAsPを含むコア層と、
前記コア層上のp−InPを含む上クラッド層と、
を有するDBR領域を有する半導体レーザにおいて、
前記コア層と、前記p−InPを含む上クラッド層と前記n−InPを含む下クラッド層の少なくとも一方との間に圧縮歪InGaAsの量子井戸層を有し、
前記コア層上の回折格子領域は、前記量子井戸層から300nm以上、前記上クラッド層側に離れていることを特徴とする半導体レーザ。
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