JP2019095841A - 回路基板 - Google Patents
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Abstract
Description
なお、式(1)において、Cは静電容量、εは誘電体の誘電率、Sは平面視においてX配線22とY配線32とが交差している面積、dはX配線22とY配線32との間の距離である。
上記した実施形態にあっては、図4に示すように、平面視において交差しているX配線22およびY配線32の線幅は一定とされるが、これに限定されるものではない。図7は、第1変形例に係る回路基板12の一例を示す平面図である。なお、以下においては、実施形態と共通の構成については、同一の符号を付して説明を省略する。
次に、第2変形例に係る回路基板12について説明する。図8は、第2変形例に係る回路基板12の一例を示す平面図である。
次に、第3変形例に係る回路基板12について説明する。図9は、第3変形例に係る回路基板12の一例を示す平面図である。
次に、第4変形例に係る回路基板12について説明する。図10は、第4変形例に係る回路基板12の一例を示す平面図である。
12 回路基板
21 X電極
22 X配線
31 Y電極
32 Y配線
50 補正用配線部
51 交差部
R1 電極領域
R2 配線領域
Claims (6)
- 基板上に配設されたX電極に接続されるとともに、前記X電極が配設される電極領域の外周に設けられた配線領域へ引き出されて配線されるX配線と、
前記X電極と対応して前記基板上に配設されたY電極に接続されるとともに、前記配線領域へ引き出されて配線されるY配線と、
前記X配線および前記Y配線の少なくともいずれかに形成され、前記X電極と前記Y電極との間の静電容量を補正する補正用配線部と
を備えることを特徴とする回路基板。 - 前記Y配線は、
前記配線領域の一方の面に配線される部位を含み、
前記X配線は、
前記配線領域の他方の面に配線される部位を含み、
前記補正用配線部は、
前記配線領域に形成され、前記X配線と前記Y配線とが前記基板の平面視において交差する交差部を含むこと
を特徴とする請求項1に記載の回路基板。 - 前記交差部は、
前記X配線および前記Y配線の少なくともいずれかの線幅が変更されることで、前記静電容量を補正すること
を特徴とする請求項2に記載の回路基板。 - 前記X電極は、
前記電極領域においてY軸方向に並列して複数配設され、
前記配線領域は、
前記電極領域に対してY軸方向に隣接して設けられ、
前記補正用配線部は、
複数の前記X電極における前記静電容量の補正量が、前記X電極の配設位置が前記配線領域に近づくにつれて大きくなるように構成されること
を特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の回路基板。 - 前記Y電極は、
前記電極領域においてX軸方向に並列して複数配設され、
前記補正用配線部は、
前記電極領域のX軸方向の端部側に配設された前記Y電極における前記静電容量の補正量が、前記電極領域の端部側の前記Y電極より中央側に配設された前記Y電極における前記静電容量の補正量に比べて大きくなるように構成されること
を特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の回路基板。 - 前記補正用配線部は、
前記X配線と前記Y配線との離間距離が変更されることで、前記静電容量を補正すること
を特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記載の回路基板。
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