JP2019062585A - 半導体装置 - Google Patents

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豊 堀田
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豊 堀田
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Abstract

【課題】半導体スイッチング素子に接続される電源配線のインダクタンスを低減させる。【解決手段】半導体スイッチング素子31のエミッタ電極3E1と半導体スイッチング素子32のコレクタ電極3C2とが出力配線100Uに接合される。半導体スイッチング素子31のコレクタ電極3C1がP配線200Pに接合され、半導体スイッチング素子32のエミッタ電極3E2がN配線200Nに接合される。アース配線200Eが絶縁板210を介してP配線200P及びN配線200Nに対向するよう配置されている。【選択図】図4

Description

本発明は、一対の半導体スイッチング素子を有する半導体装置に関する。
ハイブリッド車両や電動車両においては、駆動力源として交流の回転電機が用いられる。このような車両には、回転電機を駆動するための電力源としてバッテリ等の直流電源と、直流と交流との間で電力を変換するインバータとが搭載される。インバータの各アームは、IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)などの半導体スイッチング素子を一対有して構成されている。半導体スイッチング素子は、正極電極、負極電極及び制御電極の3種の電極を備えている。半導体スイッチング素子の制御電極に駆動信号を与えることにより、半導体スイッチング素子にスイッチング動作を行わせることができる。
特許文献1には、一対の半導体スイッチング素子のうち一方の半導体スイッチング素子の正極電極と、他方の半導体スイッチング素子の負極電極とを、配線基板にはんだで接合するものが提案されている。この特許文献1には、一方の半導体スイッチング素子の正極電極と他方の半導体スイッチング素子の負極電極とを、配線基板の金属導体で電気的に接続することで、配線のインダクタンスが大きくなるのを回避でき、また、パッケージを小さくすることができることが記載されている。
特開2000−49281号公報
ところで、特許文献1に記載されている、一方の半導体スイッチング素子の正極電極と他方の半導体スイッチング素子の負極電極とを電気的に接続する配線は、回転電機等の電力供給対象に電気的に接続される出力配線である。また、一方の半導体スイッチング素子の負極電極と他方の半導体スイッチング素子の正極電極は、各々電源配線でバッテリ等の直流電源に電気的に接続される。半導体スイッチング素子をスイッチング動作させた場合、電源配線のインダクタンスによりサージが発生する。このサージを抑制するためにスイッチングスピードを遅くすると半導体スイッチング素子におけるスイッチング損失が大きくなり、半導体スイッチング素子の効率が低下したり、半導体スイッチング素子における発熱量が大きくなったりする問題があった。
そこで、半導体スイッチング素子に接続される電源配線のインダクタンスを低減させることを目的とする。
本開示に係る半導体装置は、電力供給対象に電気的に接続される出力配線と、一方の表面側の第1の正極電極、及び他方の表面側の第1の負極電極を有し、前記出力配線上に配置され、前記第1の負極電極が前記出力配線と接合された第1の半導体スイッチング素子と、一方の表面側の第2の正極電極、及び他方の表面側の第2の負極電極を有し、前記第1の半導体スイッチング素子に対し表裏反対向きに前記出力配線上に配置され、前記第2の正極電極が前記出力配線と接合された第2の半導体スイッチング素子と、前記第1の半導体スイッチング素子上に配置され、前記第1の正極電極と接合され、直流電源の正極に電気的に接続される正極電源配線と、前記第2の半導体スイッチング素子上に配置され、前記第2の負極電極と接合され、前記直流電源の負極に電気的に接続される負極電源配線と、前記正極電源配線及び前記負極電源配線上に配置された第1の絶縁部と、前記第1の絶縁部上に配置され、前記第1の絶縁部を介して前記正極電源配線及び前記負極電源配線に対向するアース配線と、を備える。
本半導体装置によると、正極電源配線とアース配線とが対向して配置され、負極電源配線とアース配線とが対向して配置されるので、正極電源配線及び負極電源配線のインダクタンスを低減することができる。これにより、第1及び第2の半導体スイッチング素子のスイッチング動作により生じるサージを低減することができ、第1及び第2の半導体スイッチング素子のスイッチング損失を低減することができる。
実施の形態に係る車両に搭載される駆動装置の構成を示すブロック図である。 実施の形態に係る半導体スイッチング素子の説明図であり、(a)は半導体スイッチング素子の一方の表面の平面図、(b)は半導体スイッチング素子の他方の表面の平面図である。 実施の形態に係るインバータの要部の平面図である。 図3のIV−IV線に沿うインバータの断面図である。
以下、半導体装置の実施の形態を図面に基づいて説明する。図1は、実施の形態に係る車両に搭載される駆動装置1の構成を示すブロック図である。駆動装置1は、例えばハイブリッド自動車や電気自動車などの車両に搭載される。駆動装置1は、電力供給対象の一例として、車両の車輪の駆動力源となる回転電機80を駆動制御するものである。駆動装置1は、半導体装置の一例であるインバータ10を有する。
回転電機80は、三相交流により動作する回転電機であり、電動機としても発電機としても機能することができる。回転電機80は、インバータ10を介して高圧のバッテリ11(直流電源)からの電力を動力に変換する(力行)。また、回転電機80は、例えば車輪から伝達される回転駆動力を電力に変換し、インバータ10を介してバッテリ11を充電する(回生)。バッテリ11は、蓄電可能な直流電源であり、例えば、ニッケル水素やリチウムイオンなどの二次電池や、電気二重層キャパシタなどのキャパシタ、或いはこれらを組み合わせたものなどである。
バッテリ11とインバータ10とが、正極側の直流ライン2P及び負極側の直流ライン2Nで電気的に接続されている。また、インバータ10と回転電機80とが、交流ライン2U,2V,2Wで電気的に接続されている。直流ライン2P,2N間には、インバータ10の直流側の電圧を平滑化する平滑コンデンサ4が設けられている。平滑コンデンサ4は、回転電機80の消費電力の変動に応じて変動する直流電圧を安定化させる。直流ライン2Pは、コンデンサ7を介してアース(金属筐体)に接続されている。直流ライン2Nは、コンデンサ8を介してアース(金属筐体)に接続されている。
インバータ10は、一対の半導体スイッチング素子3,3を組とするアーム30を3つ備え、バッテリ11の直流電力と3相の交流電力との間で電力変換する。半導体スイッチング素子3は、IGBTやMOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)などのパワートランジスタが好適であり、本実施の形態ではIGBTである。
各アーム30は、回転電機80の各相(U相、V相、W相)のステータコイル81U,81V,81Wに対応している。各アーム30を構成する第1の半導体スイッチング素子である上段側の半導体スイッチング素子3と、第2の半導体スイッチング素子である下段側の半導体スイッチング素子3とは、直列に接続されており、相補的にスイッチング制御される。各半導体スイッチング素子3,3には、下段側から上段側へ向かう方向を順方向として、フリーホイールダイオード5が並列に接続されている。また、インバータ10は、各アーム30に対応する3つのスナバ回路40と、各アーム30の各半導体スイッチング素子3,3をスイッチング制御するドライブ回路50とを備えている。スナバ回路40は、半導体スイッチング素子3,3を保護する回路であり、各アーム30に接続される。
駆動装置1は、インバータ制御部60を備えている。インバータ制御部60は、マイクロコンピュータやDSP(Digital Signal Processor)などの論理演算プロセッサなどを中核として構成され、その機能は、これらのハードウェアと、プログラムやパラメータなどのソフトウェアとの協働によって実現される。インバータ制御部60は、不図示のバッテリからリニアレギュレータなどの安定化電源回路を介して電力の供給を受けて動作する。
インバータ制御部60は、ECU70から要求トルクを取得する。回転電機80には、ロータの回転速度を検出する回転センサ13が設けられている。回転センサ13は、例えばレゾルバ等である。また、回転電機80の各相のステータコイル81U,81V,81Wを流れる電流は、電流センサ12により測定される。インバータ制御部60は、要求トルク、回転速度、電流等に基づいて回転電機80の電流フィードバック制御を行い、制御信号Sを生成し、ドライブ回路50に出力する。ドライブ回路50は、制御信号Sに基づいて、各半導体スイッチング素子3,3のゲート電極に駆動信号Dを出力する。
図2は、実施の形態に係る半導体スイッチング素子の説明図であり、図2(a)は半導体スイッチング素子の一方の表面の平面図、図2(b)は半導体スイッチング素子の他方の表面の平面図である。なお、半導体スイッチング素子3と半導体スイッチング素子3とは同じ構成の素子であり、半導体スイッチング素子3として説明する。
半導体スイッチング素子3は、素子本体3Aと、正極電極の一例であるコレクタ電極3Cと、負極電極の一例であるエミッタ電極3Eと、制御電極の一例であるゲート電極3Gとを有する。図2(a)に示すように、コレクタ電極3Cにより、半導体スイッチング素子3の一方の表面3SAの一部(又は全部)が形成され、図2(b)に示すように、エミッタ電極3E及びゲート電極3Gにより、半導体スイッチング素子3の他方の表面3SBの一部が形成されている。なお、図2(b)に示すように、エミッタ電極3Eが複数設けられているが、複数のエミッタ電極3Eは、素子本体3A内で電気的に接続されている。
以下、半導体装置の一例であるインバータ10のモジュール構造について具体的に説明する。図3は、実施の形態に係るインバータ10の要部の平面図である。なお、図3において、ドライブ回路50及びスナバ回路40の図示は省略している。また、図3において、後述する絶縁板210,220及び冷却器300の図示は省略している。図4は、図3のIV−IV線に沿うインバータ10の断面図である。
インバータ10は、上述した半導体スイッチング素子3,3、ドライブ回路50及びスナバ回路40のほか、図4に示すように、冷却器300と、第1の配線基板である下部配線基板150と、第2の配線基板である上部配線基板250とを有する。本実施の形態では、冷却器300をベースに、下部配線基板150、半導体スイッチング素子3,3、上部配線基板250、ドライブ回路50(スナバ回路40)の順に冷却器300から遠ざかる方向に向かって積層して配置されている。なお、説明の便宜上、冷却器300に向かう方向を「下」、冷却器300から遠ざかる方向を「上」として説明する。また、上下方向をZ方向、Z方向に直交する水平方向である互いに直交する2方向をX,Y方向とする。
インバータ10における3つのアーム30は、図3に示すように、Y方向に間隔をあけて並設されている。また、各アーム30における半導体スイッチング素子3と半導体スイッチング素子3とは、X方向に間隔をあけて配置されている。
図4に示す下部配線基板150及び上部配線基板250は、いわゆる大電流基板である。半導体スイッチング素子3,3は、下部配線基板150と上部配線基板250との間に配置されている。下部配線基板150には、冷却器300が取り付けられている。これにより、半導体スイッチング素子3,3は、下部配線基板150を介して冷却器300にて効率的に放熱される。
下部配線基板150は、絶縁板110と、絶縁板110の上面に形成された、平板状の導体パターンからなる図3に示す出力配線100U,100V,100Wと、図4に示す制御配線の一例であるゲート配線100Gとを有する。出力配線100U,100V,100Wは、図3に示すように、Y方向において互いに間隔をあけて配置され、X方向に延びて形成されている。
絶縁板110は、絶縁体、例えばセラミックで形成されている。出力配線100U,100V,100W、ゲート配線100G、及び不図示のその他の配線は、導体、例えば銅などの金属で形成されている。絶縁板110の下面は、図4に示すように、冷却器300に直接、又は不図示の熱伝導性部材を介して取り付けられている。出力配線100U,100V,100Wには、それぞれ回転電機80の各相のステータコイル81U,81V,81W(図1)に電気的に接続されるバスバ等で構成された交流ライン2U,2V,2Wがはんだ等の接合材で接合される。
下部配線基板150上、即ち各出力配線100U,100V,100W上には、対応するアーム30の半導体スイッチング素子3,3が配置されている。半導体スイッチング素子3は、第1の正極電極であるコレクタ電極3C、第1の負極電極であるエミッタ電極3E、第1の制御電極であるゲート電極3Gを有する。半導体スイッチング素子3は、第2の正極電極であるコレクタ電極3C、第2の負極電極であるエミッタ電極3E、第2の制御電極であるゲート電極3Gを有する。
半導体スイッチング素子3は、半導体スイッチング素子3に対し表裏反対向きに配置されている。即ち、半導体スイッチング素子3は、エミッタ電極3E及びゲート電極3Gが下方を向いて下部配線基板150に対向するよう配置され、逆に、半導体スイッチング素子3は、コレクタ電極3Cが下方を向いて下部配線基板150に対向するよう配置されている。出力配線100U,100V,100Wのそれぞれに対向する各アーム30の半導体スイッチング素子3のエミッタ電極3Eは、出力配線100U,100V,100Wのそれぞれに、はんだ等の接合材で接合されている。また、出力配線100U,100V,100Wのそれぞれに対向する各アーム30の半導体スイッチング素子3のコレクタ電極3Cは、出力配線100U,100V,100Wのそれぞれに、はんだ等の接合材で接合されている。これにより、各アーム30の半導体スイッチング素子3のエミッタ電極3Eと半導体スイッチング素子3のコレクタ電極3Cとは、対応する出力配線100U,100V,100Wに電気的に接続される。このように出力配線100U,100V,100Wを絶縁板110上に配置された導体パターンで構成し、出力配線100U,100V,100Wのそれぞれに、各アーム30の半導体スイッチング素子3のエミッタ電極3E及び半導体スイッチング素子3のコレクタ電極3Cをはんだ等の接合材で接合したので、出力配線100U,100V,100Wにおいて垂直成分がなくなり、出力配線100U,100V,100Wのインダクタンスを低減することができる。
3つのアーム30の半導体スイッチング素子3,3上には、上部配線基板250が配置されている。上部配線基板250は、第1の絶縁部の一例である絶縁板210と、第2の絶縁部の一例である絶縁板220と、バッテリ11の正極に、直流ライン2Pを介して電気的に接続される正極電源配線(以下、「P配線」という)200Pと、バッテリ11の負極に、直流ライン2Nを介して電気的に接続される負極電源配線(以下、「N配線」という)200Nと、アース(金属筐体)に電気的に接続されるアース配線200Eと、制御配線の一例であるゲート配線200G,200Gとを有する。絶縁板210,220は、絶縁体、例えばセラミックで形成されている。P配線200P、N配線200N、アース配線200E、ゲート配線200G,200G、及び不図示のその他の配線は、導体、例えば銅などの金属で形成されている。
上部配線基板250は、下部配線層251、中間配線層252及び上部配線層253の3つの導体層を有する3層基板である。下部配線層251にP配線200P及びN配線200Nが設けられ、中間配線層252にアース配線200Eが設けられている。即ち、P配線200P及びN配線200N上に絶縁板210が配置され、絶縁板210上にアース配線200Eが配置され、アース配線200E上に絶縁板220が配置されている。ゲート配線200G,200Gは、下部配線層251、中間配線層252及び上部配線層253に跨って配置されている。
P配線200P、N配線200N及びアース配線200Eは、平板状の導体パターンである。P配線200P及びN配線200Nには大電流が流れるため、P配線200P及びN配線200Nは幅広に形成され、P配線200P及びN配線200Nにおける発熱量も抑えられている。P配線200PとN配線200Nとは、図3に示すように、X方向に間隔をあけて配置され、Y方向に延びて形成されている。P配線200Pは、Z方向から視て、複数の出力配線100U,100V,100Wに跨るように、即ち3つのアーム30それぞれの半導体スイッチング素子3に対向するようにY方向に延びて形成されている。N配線200Nは、Z方向から視て、複数の出力配線100U,100V,100Wに跨るように、即ち3つのアーム30それぞれの半導体スイッチング素子3に対向するようにY方向に延びて形成されている。
P配線200Pは、3つのアーム30それぞれの半導体スイッチング素子3のコレクタ電極3Cと対向するよう、絶縁板210に固定して形成されている。N配線200Nは、3つのアーム30それぞれの半導体スイッチング素子3のエミッタ電極3Eと対向するよう、絶縁板210に固定して形成されている。P配線200Pは、3つのアーム30それぞれの半導体スイッチング素子3のコレクタ電極3Cにはんだ等の接合材で接合され、N配線200Nは、3つのアーム30それぞれの半導体スイッチング素子3のエミッタ電極3Eにはんだ等の接合材で接合されている。
アース配線200Eは、絶縁板210と絶縁板220との間に配置されている。アース配線200Eの一対の主面200EA,200EBのうち、主面200EAは絶縁板210に固定され、主面200EBは絶縁板220に固定されている。
アース配線200Eは、絶縁板210を介してP配線200P及びN配線200Nに対向するよう配置されている。P配線200Pとアース配線200Eとの対向配置により、P配線200Pとアース配線200Eとに誘導電流が生じ、N配線200Nとアース配線200Eとの対向配置により、N配線200Nとアース配線200Eとに誘導電流が生じる。よって、P配線200PとN配線200Nとにアース配線200Eを介して誘導電流が生じる。この電磁結合の相互作用、つまり相互インダクタンスにより、P配線200P及びN配線200Nのインダクタンスが低減され、P配線200P及びN配線200Nにおいて半導体スイッチング素子3,3のスイッチング動作により生じるサージが低減される。
また、P配線200Pとアース配線200Eとの対向配置により、P配線200Pとアース配線200Eとの間に静電結合によるコンデンサ効果が生じ、N配線200Nとアース配線200Eとの対向配置により、N配線200Nとアース配線200Eとの間に静電結合によるコンデンサ効果が生じる。P配線200Pとアース配線200Eとのコンデンサ効果及びN配線200Nとアース配線200Eとのコンデンサ効果により、半導体スイッチング素子3,3のスイッチング動作によりP配線200P及びN配線200Nに生じるサージによる電流がアース配線200Eにバイパスされる。
このように、半導体スイッチング素子3,3の近傍の配線基板250において、P配線200P及びN配線200Nと、アース配線200Eとを対向配置させた構成としたことにより、半導体装置(モジュール)のコンパクト化を図ることができ、コンパクトな構成でありながら、サージに起因する半導体スイッチング素子3,3におけるスイッチング損失(電力損失)を小さくすることができる。よって、半導体スイッチング素子3,3が高効率となり、半導体スイッチング素子3,3における発熱量も低減する。
また、アース配線200Eの主面200EA,200EBに垂直な方向(Z方向)から視て、即ち、図3に示す平面視で、アース配線200Eが、P配線200P及びN配線200Nを覆うように配置されている。特に、Z方向から視て、P配線200Pの全部及びN配線200Nの全部がアース配線200Eで覆われているのが好適である。この配置関係により、P配線200PとN配線200Nとの電磁的又は静電的な結合を高めることができ、半導体スイッチング素子3,3におけるスイッチング損失を効果的に小さくすることができる。また、Z方向から視て、各アーム30の半導体スイッチング素子3,3の一部又は全部、本実施の形態では、半導体スイッチング素子3の全部、及び半導体スイッチング素子3の一部が、アース配線200Eで覆われることになるので、半導体スイッチング素子3,3から放射される電界ノイズ又は磁界ノイズをアース配線200Eで遮蔽することができる。
更に、半導体スイッチング素子3,3が接合される配線基板250により、インダクタンスを低減させるために、P配線200Pに接続される直流ライン2Pと、N配線200Nに接続される直流ライン2Nとを対向して配線しなくてもよい。よって、P配線200P及びN配線200Nに対する直流ライン2P,2Nの接合位置の自由度、即ち直流ライン2P,2Nの配線の自由度が高まる。
また、P配線200PとN配線200Nとは、下部配線層251において、非接触で隣り合って配置されている。これにより、P配線200PとN配線200Nとの電磁結合を高めることができ、より効果的にP配線200P及びN配線200Nにおけるインダクタンスを低減することができる。
また、本実施の形態では、ドライブ回路50が絶縁板220上の上部配線層253に配置されている。したがって、ドライブ回路50と半導体スイッチング素子3のゲート電極3Gとは、絶縁板210,220に跨って配置されたゲート配線200Gを介して電気的に接続されている。一方、ドライブ回路50と半導体スイッチング素子3のゲート電極3Gとは、絶縁板210,220に跨って配置されたゲート配線200G、絶縁板110上に配置されたゲート配線100G等を介して、電気的に接続されている。なお、ゲート配線200Gとゲート配線100Gとは、銅などの金属で形成された導体片300Gおよび接合材であるはんだ等を介して電気的に接続されている。以上、ドライブ回路50を配線基板250に実装することで、半導体装置(モジュール)をコンパクト化することができ、ドライブ回路50と半導体スイッチング素子3,3との配線も短くすることができる。更に、ドライブ回路50と半導体スイッチング素子3,3との間には、アース配線200Eが配置されているので、半導体スイッチング素子3,3から放射される電界ノイズ又は磁界ノイズがアース配線200Eで遮蔽され、コンパクトな構造でありながら、ドライブ回路50を安定して動作させることができる。
また、本実施の形態では、スナバ回路40が絶縁板220上の上部配線層253に配置されている。各半導体スイッチング素子3,3とスナバ回路40との接続は、配線基板250の不図示の配線を介して行われる。スナバ回路40を配線基板250に実装することで、半導体装置(モジュール)をコンパクト化することができる。
なお、本実施の形態は、以下の構成を少なくとも備える。本実施の形態の半導体装置(10)は、電力供給対象(80)に電気的に接続される出力配線(100U,100V,100W)と、一方の表面側の第1の正極電極(3C)、及び他方の表面側の第1の負極電極(3E)を有し、前記出力配線(100U,100V,100W)上に配置され、前記第1の負極電極(3E)が前記出力配線(100U,100V,100W)と接合された第1の半導体スイッチング素子(3)と、一方の表面側の第2の正極電極(3C)、及び他方の表面側の第2の負極電極(3E)を有し、前記第1の半導体スイッチング素子(3)に対し表裏反対向きに前記出力配線(100U,100V,100W)上に配置され、前記第2の正極電極(3C)が前記出力配線(100U,100V,100W)と接合された第2の半導体スイッチング素子(3)と、前記第1の半導体スイッチング素子(3)上に配置され、前記第1の正極電極(3C)と接合され、直流電源(11)の正極に電気的に接続される正極電源配線(200P)と、前記第2の半導体スイッチング素子(3)上に配置され、前記第2の負極電極(3E)と接合され、前記直流電源(11)の負極に電気的に接続される負極電源配線(200N)と、前記正極電源配線(200P)及び前記負極電源配線(200N)上に配置された第1の絶縁部(210)と、前記第1の絶縁部(210)上に配置され、前記第1の絶縁部(210)を介して前記正極電源配線(200P)及び前記負極電源配線(200N)に対向するアース配線(200E)と、を備える。この構成によれば、正極電源配線(200P)とアース配線(200E)とが対向して配置され、負極電源配線(200N)とアース配線(200E)とが対向して配置されるので、正極電源配線(200P)及び負極電源配線(200N)のインダクタンスを低減することができる。これにより、第1及び第2の半導体スイッチング素子(3,3)のスイッチング動作により生じるサージを低減することができ、第1及び第2の半導体スイッチング素子(3,3)のスイッチング損失を低減することができる。
また、本実施の形態の半導体装置(10)は、前記正極電源配線(200P)と前記負極電源配線(200N)とが非接触で隣り合って配置されている。この構成によれば、正極電源配線(200P)と負極電源配線(200N)との電磁結合を高めることができ、より効果的に正極電源配線(200P)及び負極電源配線(200N)におけるインダクタンスを低減することができる。
また、本実施の形態の半導体装置(10)は、前記正極電源配線(200P)及び前記負極電源配線(200N)が、前記第1の絶縁部(210)に固定された導体パターンであり、前記アース配線(200E)の主面(200EA,200EB)に垂直な方向(Z方向)から視て、前記アース配線(200E)が、前記正極電源配線(200P)及び前記負極電源配線(200N)を覆うように配置されている。この構成によれば、正極電源配線(200P)と負極電源配線(200N)との電磁的又は静電的な結合を高めることができ、正極電源配線(200P)及び負極電源配線(200N)のインダクタンスを効果的に低減することができる。
また、本実施の形態の半導体装置(10)は、前記アース配線(200E)上に配置された第2の絶縁部(220)と、前記第2の絶縁部(220)上に配置され、前記第1及び第2の半導体スイッチング素子(3,3)をスイッチング制御するドライブ回路(50)と、を更に備える。この構成によれば、半導体装置(10)をコンパクト化することができる。また、アース配線(200E)により、半導体スイッチング素子(3,3)から放出される電界ノイズ又は磁界ノイズを遮蔽することができ、コンパクトな構造でありながら、ドライブ回路(50)を安定して動作させることができる。
また、本実施の形態の半導体装置(10)は、前記アース配線(200E)上に配置された第2の絶縁部(220)と、前記第2の絶縁部(220)上に配置され、前記第1及び第2の半導体スイッチング素子(3,3)を保護するスナバ回路(40)と、を更に備える。この構成によれば、半導体装置(10)をコンパクト化することができる。
また、本実施の形態の半導体装置(10)は、前記電力供給対象が3相交流で動作する回転電機(80)であり、前記第1及び第2の半導体スイッチング素子(3,3)の組が3つ並設されており、前記正極電源配線(200P)には、3つの前記第1の半導体スイッチング素子(3)の前記第1の正極電極(3C)が接合されており、前記負極電源配線(200N)には、3つの前記第2の半導体スイッチング素子(3)の前記第2の負極電極(3E)が接合されている。この構成によれば、コンパクトな構造でありながら、3つの半導体スイッチング素子(3)に接続される正極電源配線(200P)、及び3つの半導体スイッチング素子(3)に接続される負極電源配線(200N)のインダクタンスを効果的に低減することができる。
[他の実施の形態の可能性]
なお、以上説明した実施の形態においては、電力供給対象が回転電機80であり、半導体装置が、バッテリ11と回転電機80との間に設けられ、直流と交流との間で電力を変換する3つのアーム30を有するインバータ10である場合について説明したが、これに限定するものではない。例えば、電力供給対象がリニアソレノイドである場合には、半導体装置が、1つのアーム30を有していればよい。この場合、アーム30を構成する半導体スイッチング素子3と半導体スイッチング素子3との間の出力配線が、電力供給対象であるリニアソレノイドに電気的に接続されることとなる。即ち、半導体装置におけるアーム30の数は、電力供給対象に応じて適宜設定することが可能である。
また、以上説明した実施の形態においては、上部配線基板250に、ドライブ回路50及びスナバ回路40が実装される場合について説明したが、これに限定するものでない。例えば上部配線基板250とは別の配線基板に、ドライブ回路50又はスナバ回路40が実装される場合であってもよい。上部配線基板250とは別の配線基板に、ドライブ回路50及びスナバ回路40が実装される場合、上部配線基板250において絶縁板220は省略可能である。即ち、この場合、上部配線基板250を2層の導体層を有する配線基板で構成してもよい。
また、以上説明した実施の形態においては、1つの上部配線基板250が、P配線200P、N配線200N及びアース配線200Eを有する場合について説明したが、これに限定するものではない。例えばP配線200P及びN配線200Nを有する配線基板と、アース配線200Eを有する配線基板とを積層してもよい。
また、以上説明した実施の形態においては、第1の絶縁部が絶縁板210であり、第2の絶縁部が絶縁板220である場合、即ち配線基板250が2つの絶縁板210,220を有し、2つの絶縁板210,220の間にアース配線200Eが配置される場合について説明したが、これに限定するものではない。例えばアース配線200Eを1つの絶縁板の内部に配置するように構成してもよい。いずれにしても、アース配線200Eの主面200EA側に位置する絶縁材が第1の絶縁部であり、アース配線200Eの主面200EB側に位置する絶縁材が第2の絶縁部である。
また、以上説明した実施の形態においては、上部配線基板250が3層の導体層を有する配線基板について説明したが、これに限定するものではない。上部配線基板250が4層以上の導体層を有する配線基板であってもよく、この場合、中間配線層252が複数存在することになるが、複数の中間配線層252のうち、下部配線層251に最も近い層にアース配線200Eを配置すればよい。
また、以上の実施の形態において説明した半導体装置は、車両に搭載されるのが好適であるが、車両以外に搭載されてもよい。
半導体スイッチング素子(第1の半導体スイッチング素子)
半導体スイッチング素子(第2の半導体スイッチング素子)
3C コレクタ電極(第1の正極電極)
3C コレクタ電極(第2の正極電極)
3E エミッタ電極(第1の負極電極)
3E エミッタ電極(第2の負極電極)
10 インバータ(半導体装置)
11 バッテリ(直流電源)
40 スナバ回路
50 ドライブ回路
80 回転電機(電力供給対象)
100U,100V,100W 出力配線
200E アース配線
200N N配線(負極電源配線)
200P P配線(正極電源配線)
210 絶縁板(第1の絶縁部)
220 絶縁板(第2の絶縁部)

Claims (7)

  1. 電力供給対象に電気的に接続される出力配線と、
    一方の表面側の第1の正極電極、及び他方の表面側の第1の負極電極を有し、前記出力配線上に配置され、前記第1の負極電極が前記出力配線と接合された第1の半導体スイッチング素子と、
    一方の表面側の第2の正極電極、及び他方の表面側の第2の負極電極を有し、前記第1の半導体スイッチング素子に対し表裏反対向きに前記出力配線上に配置され、前記第2の正極電極が前記出力配線と接合された第2の半導体スイッチング素子と、
    前記第1の半導体スイッチング素子上に配置され、前記第1の正極電極と接合され、直流電源の正極に電気的に接続される正極電源配線と、
    前記第2の半導体スイッチング素子上に配置され、前記第2の負極電極と接合され、前記直流電源の負極に電気的に接続される負極電源配線と、
    前記正極電源配線及び前記負極電源配線上に配置された第1の絶縁部と、
    前記第1の絶縁部上に配置され、前記第1の絶縁部を介して前記正極電源配線及び前記負極電源配線に対向するアース配線と、を備える半導体装置。
  2. 前記正極電源配線と前記負極電源配線とが非接触で隣り合って配置されている請求項1に記載の半導体装置。
  3. 前記正極電源配線及び前記負極電源配線が、前記第1の絶縁部に固定された導体パターンであり、
    前記アース配線の主面に垂直な方向から視て、前記アース配線が、前記正極電源配線及び前記負極電源配線を覆うように配置されている請求項1又は2に記載の半導体装置。
  4. 前記アース配線上に配置された第2の絶縁部と、
    前記第2の絶縁部上に配置され、前記第1及び第2の半導体スイッチング素子をスイッチング制御するドライブ回路と、を更に備える請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体装置。
  5. 前記アース配線上に配置された第2の絶縁部と、
    前記第2の絶縁部上に配置され、前記第1及び第2の半導体スイッチング素子を保護するスナバ回路と、を更に備える請求項1乃至4のいずれか1項に記載の半導体装置。
  6. 前記電力供給対象が3相交流で動作する回転電機であり、
    前記第1及び第2の半導体スイッチング素子の組が3つ並設されており、
    前記正極電源配線には、3つの前記第1の半導体スイッチング素子の前記第1の正極電極が接合されており、
    前記負極電源配線には、3つの前記第2の半導体スイッチング素子の前記第2の負極電極が接合されている請求項1乃至5のいずれか1項に記載の半導体装置。
  7. 前記第1及び第2の半導体スイッチング素子がIGBTである請求項1乃至6のいずれか1項に記載の半導体装置。
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