JP2019062055A - 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【課題】基板の洗浄時間を短縮すること。【解決手段】基板処理装置100は、ウェハWを支持すると共に該ウェハWを回転させるウェハ支持部23と、ウェハWの表面Wfを物理洗浄する表面洗浄部24と、ウェハの回転軸ARと交差する方向に伸びウェハWの裏面Wrを物理洗浄するバーブラシ50を有する裏面洗浄部25と、を備える。【選択図】図2
Description
本開示は、基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体に関する。
特許文献1には、基板を保持すると共に回転することができる基板保持回転部と、基板保持回転部に保持される基板に対して液体を供給すると共に基板の上面(表面)に接して基板の表面を洗浄するブラシと、を備える基板処理装置の液処理装置が開示されている。
上述したような基板処理装置では、例えば基板の裏面を洗浄した後に基板を反転させて、上記のブラシ等により基板の表面を洗浄している。
本開示は、基板の洗浄時間を短縮することができる基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体を提供することを目的とする。
本開示の一態様に係る基板処理装置は、基板を支持すると共に該基板を回転させる基板支持部と、基板の表面を物理洗浄する表面洗浄部と、基板の回転軸と交差する方向に伸び基板の裏面を物理洗浄する裏面洗浄体を有する裏面洗浄部と、を備える。
本開示によれば、基板の洗浄時間を短縮することができる。
以下、実施形態について、図面を参照しつつ詳細に説明する。説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
図1に示すように、基板処理装置100は、キャリアステーションCS1と、搬入出ステーションLS2と、液処理ステーションPS3と、制御部17と、を備える。
キャリアステーションCS1は、複数(例えば4つ)のウェハキャリアCが載置される領域である。ウェハキャリアCは、複数の半導体ウェハ等のウェハW(基板)を収容する。ウェハWは例えば円盤状に形成されている。搬入出ステーションLS2は、キャリアステーションCS1と液処理ステーションPS3との間でウェハWを受け渡す領域である。搬入出ステーションLS2には、ウェハキャリアCからウェハWを搬出してステージ13に載置し、また、ステージ13のウェハWを取り上げてウェハキャリアCへ搬入する搬送機構11が設置されている。搬送機構11は、ウェハWを保持する保持アーム部11aを有している。搬送機構11は、ウェハキャリアCの配列方向(図1中のX方向)に延びるガイド12に沿って移動することができる。また、搬送機構11は、X方向に垂直な方向(図1中のY方向)及び上下方向に保持アーム部11aを移動させることができ、水平面内で保持アーム部11aを回転させることができる。
液処理ステーションPS3は、液処理装置1が配置される領域である。液処理ステーションPS3は、Y方向に延びる搬送室16と、搬送室16の両側(X方向両側)に配置される複数の液処理装置1とを有している。また、搬送室16には、搬送機構14が設けられ、搬送機構14は、ウェハWを保持する保持アーム部14aを有している。搬送機構14は、搬送室16に設けられY方向に延びるガイド15に沿って移動することができる。また、搬送機構14は、保持アーム部14aを水平面内で回転させることができる。搬送機構14は、搬入出ステーションLS2の受け渡しステージ13と、各液処理装置1との間でウェハWを搬送する。ウェハWは、キャリアステーションCS1のウェハキャリアC内においては回路形成面が下向きになるように収容されており、回路形成面が下向きのままで搬送機構11、ステージ13、搬送機構14を介して液処理装置1へ搬送される。
制御部17は、基板処理装置100の各部の動作を制御する。この制御部17は、例えばコンピュータからなり、コンピュータで読み取り可能な記憶媒体170を備える。記憶媒体170には、例えば液処理装置1において実行される各種の処理を制御するプログラムが格納される。制御部17は、記憶媒体170に記憶されたプログラムを読み出して実行することによって例えば液処理装置1の動作を制御する。なお、プログラムは、コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体170に記憶されていたものであって、他の記憶媒体から制御部17の記憶媒体170にインストールされたものであってもよい。コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体170としては、例えばハードディスク(HD)、フレキシブルディスク(FD)、コンパクトディスク(CD)、マグネットオプティカルディスク(MO)、メモリカードなどがある。制御部17の機能の詳細については後述する。
以上の構成を有する基板処理装置100においては、キャリアステーションCS1に載置されるウェハキャリアCから搬送機構11によってウェハWが取り出され、搬送機構11によりステージ13に載置される。ステージ13上のウェハWは、液処理ステーションPS3内の搬送機構14により、液処理装置1に搬入される。液処理装置1においては、ウェハWの表面及び裏面が洗浄される(詳細は後述)。ウェハWは洗浄および乾燥が完了した後に、搬入時と逆の経路(手順)によりウェハキャリアCへ戻される。なお、一のウェハWが洗浄される間に、他のウェハWが他の液処理装置1へ順次搬送され、洗浄される。
次に、図2〜図4を参照して、本実施形態の液処理装置1について説明する。図2は、基板処理装置100に含まれる液処理装置1を示す概略側面図である。図2に示すように、液処理装置1は、筐体21と、カップ部22と、ウェハ支持部23(基板支持部)と、表面洗浄部24と、裏面洗浄部25と、を備える。
筐体21は、液処理装置1の各構成を収容する略直方体形状の箱である。筐体21には、搬送機構14の保持アーム部14a(図1参照)によってウェハWを筐体21内に搬入(或いは筐体21内から搬出)するための搬送口21aが形成されている。搬送口21aには、シャッタ(不図示)が設けられており、ウェハWの搬入出時においては該シャッタが開くことにより搬送口21aが開いた状態となり、ウェハWの処理時においては該シャッタが閉じることにより搬送口21aが閉じた状態となる。
カップ部22は、筐体21内のほぼ中央部に設けられた略円筒形状の部材である。カップ部22は、上面が開口している。カップ部22は、ウェハWの処理時において、ウェハWに対して供給される液体を受け、ドレイン(不図示)から該液体を排出する機能を有する。なお、カップ部22は、昇降機構(不図示)によって上下方向に移動させられるものであってもよい。この場合、カップ部22は、例えばウェハWの搬入出時には該搬入出の妨げにならないように下方位置に位置し、例えばウェハWの処理時においてはウェハWが支持された高さの近傍である上方位置に位置してもよい。これにより、カップ部22は、ウェハWの搬入出の妨げになることを回避しながら、ウェハWの処理時においては上記液体を受ける機能をより効果的に発揮することができる。
ウェハ支持部23は、ウェハWを支持すると共にウェハWを回転させる。ウェハ支持部23は、筐体21の下部に配置される回転機構31に接続されて回転する回転シャフト23sと、回転シャフト23sの上端に下面が取り付けられる略円盤状の回転プレート23pと、該回転プレート23pの外縁から上方に延び、その上端にウェハWを載置するウェハ載置部23lと、を有する。回転機構31は、アクチュエータを含んで構成されており、制御部17からの制御に応じて回転シャフト23sを回転させる。回転シャフト23sには、その中央部を上下方向に貫通する貫通孔が形成されており、該貫通孔内に、上下方向に延びるブラシ支持部25s(詳細は後述)が設けられている。回転プレート23pには、その中央部を上下方向に貫通する貫通孔が形成されており、上述したブラシ支持部25sは、該貫通孔を貫通するように回転プレート23pの上方にまで伸びている。ウェハ載置部23lは、その上端の内側部分に、凹形状の位置決め部23oが形成されている。ウェハ載置部23lは、凹形状の位置決め部23oにウェハWが載置されることによりウェハWの位置決めを行っている。
表面洗浄部24は、ウェハWの表面Wfを物理洗浄する。物理洗浄とは、例えばブラシ洗浄又はジェット洗浄等の物理作用によって行われる洗浄である。表面洗浄部24は、ブラシ洗浄部41と、リンス液供給部42とを有する。
ブラシ洗浄部41は、ウェハWの表面Wfに接することにより表面Wfを洗浄するブラシ41bと、ブラシ41bを接続すると共に水平面内で回動可能且つ上下動可能なアーム41aとを有する。ブラシ41bは、例えばポリプロピレン等の比較的硬い素材を含んで構成されていてもよいし、ポリビニルアルコール等のスポンジ素材の比較的柔らかい素材を含んで構成されていてもよいし、これらの素材両方を含んで構成されていてもよい。ポリプロピレン等の比較的硬い素材を用いた場合には、ブラシ41bの除去性(洗浄性)を高めることができる。また、ポリビニルアルコール等のスポンジ素材の比較的柔らかい素材を用いた場合には、ブラシ41bの除去ムラを低減することができる。アーム41aは、アクチュエータを含んで構成されており、制御部17からの制御に応じて回動及び上下動を行う。アーム41aが下降することにより、アーム41aの先端に接続されたブラシ41bがウェハWの表面Wfに接し、ブラシ41bによる表面Wfの洗浄が行われる。なお、表面洗浄部24のブラシ41bは、アーム41aの動きに従って、裏面洗浄部25のバーブラシ50(詳細は後述)が伸びる方向に沿ってスキャン動作を行い表面Wfの洗浄を行ってもよい。この場合、アーム41aは、上述した回動及び上下動に加えて、例えばアーム41a自体の長さを変化させること等によって、上記スキャン動作を実現してもよい。
リンス液供給部42は、ウェハWの表面Wfに向けてリンス液を供給する。リンス液は、例えば脱イオン水等である。リンス液供給部42は、ウェハWの表面Wfに向けてリンス液を吐出する吐出ノズル42r(表面側リンス液吐出部)と、リンス液を供給するリンス液供給源42sと、リンス液供給源42sから吐出ノズル42rへ向かう流路に設けられており当該流路の開閉及び開度調節を行う流量調節器42aと、を有する。吐出ノズル42rから表面Wfにリンス液が吐出されることにより、ブラシ41bによって表面Wfから除去されたパーティクル又は残留物等を洗い流すことができる。
裏面洗浄部25は、ウェハWの裏面Wrを物理洗浄する。裏面洗浄部25は、バーブラシ50(裏面洗浄体)と、ブラシ支持部25sと、リンス液供給部58と、昇降機構59とを有する。
バーブラシ50は、ウェハWの回転軸ARと交差する方向(ウェハWの裏面Wrに平行な方向)に延びウェハWの裏面Wrを物理洗浄する。バーブラシ50は、下面にブラシ支持部25sが接続されている。バーブラシ50の詳細については後述する。ブラシ支持部25sは、その上端がバーブラシ50の下面に接続されると共に、回転プレート23p及び回転シャフト23sを貫通して下方に延び、その下端が筐体21の下部に配置される昇降機構59に接続されている。ブラシ支持部25s内には、リンス液供給部58から供給されるリンス液が流れる導管25pが形成されている。
リンス液供給部58は、ウェハWの裏面Wrに向けてリンス液を供給する。リンス液は、例えば脱イオン水等である。リンス液供給部58は、リンス液を供給するリンス液供給源58sと、リンス液供給源58sから導管25pへ向かう流路に設けられており当該流路の開閉及び開度調節を行う流量調節器58aと、を有する。昇降機構59は、アクチュエータを含んで構成されており、制御部17からの制御に応じてブラシ支持部25sを昇降させる。ブラシ支持部25sが昇降することに応じて、バーブラシ50が昇降する。
図3は表面洗浄部24及び裏面洗浄部25の一部を模式的に示した斜視図である。図4はバーブラシ50を模式的に示した図であり、図4(a)はバーブラシ50の斜視図、図4(b)はバーブラシ50の平面図、図4(c)はバーブラシ50の樹脂部54を模式的に示した正面図である。図3及び図4に示すように、バーブラシ50は、基部51と、ブラシ部52と、リンス液吐出部56(裏面側リンス液吐出部)とを有する。
基部51は、バー状(棒状)の部材である。基部51は、土台部53と、樹脂部54とを有する。土台部53は、例えばステンレス鋼を含んで構成されている。また、土台部53には、圧力センサ55(図4(a)参照)が内蔵されている(すなわち、バーブラシ50は、圧力センサ55を更に有する)。圧力センサ55は、ブラシ部52がウェハWの裏面Wrに接触した際の圧力を検知できるものであればどのようなセンサであってもよい。圧力センサ55は、検知した圧力を制御部17に出力する。樹脂部54は、土台部53上に設けられており、土台部53にブラシ部52を接着する部分である。図4(c)に示すように、基部51の樹脂部54は、中央部54cの厚みよりも外縁部54oの厚みが薄くなるように、中央部54cから外縁部54oに向かって傾斜している。すなわち、基部51では、ブラシ部52が接着される部分(樹脂部54)にRがつけられている。
ブラシ部52は、基部51から上方に延びている。ブラシ部52は、先端がウェハWの裏面Wrに接した状態において、例えば裏面Wrにおける直径領域の略全域に接するように形成されている(図3参照)。ブラシ部52は、例えばポリプロピレン等の比較的硬い素材を含んで構成されていてもよいし、ポリビニルアルコール等のスポンジ素材の比較的柔らかい素材を含んで構成されていてもよいし、これらの素材両方を含んで構成されていてもよい。ポリプロピレン等の比較的硬い素材を用いた場合には、ブラシ部52の除去性(洗浄性)を高めることができる。また、ポリビニルアルコール等のスポンジ素材の比較的柔らかい素材を用いた場合には、ブラシ部52の除去ムラを低減することができる。ブラシ部52は、基部51の樹脂部54における外縁部54oに設けられており、より詳細には、外縁部54oのうち基部51の長手方向に沿った領域に設けられている(図4(b)参照)。すなわち、ブラシ部52は、図4(b)に示すように、基部51の短手方向で対向する2つのラインである第1ブラシライン52aと第2ブラシライン52bとに分かれて設けられている。
リンス液吐出部56は、基部51に設けられ、ブラシ部52が伸びる方向(上方向)にリンス液を吐出する。リンス液吐出部56は、導管25p(図2参照)を介してリンス液供給部58(図2参照)から供給されたリンス液を吐出する。リンス液吐出部56は、基部51の樹脂部54の中央部54c(第1ブラシライン52a及び第2ブラシライン52bに挟まれた領域)に設けられている(図4(b)参照)。リンス液吐出部56は、ウェハWの裏面に向けてリンス液を吐出する第1吐出部56aと、該第1吐出部56a及びブラシ部52に挟まれる位置に設けられ、ブラシ部52に向けてリンス液を吐出する第2吐出部56bとを有する。第2吐出部56bは、図4(c)に示すように、吐出方向が外側(基部51の短手方向外側)に向けられており、これによってブラシ部52に向かってリンス液を吐出することができる。
次に、図5を参照して、制御部17の機能の詳細について説明する。制御部17は、表面洗浄部24によるウェハWの表面Wfの洗浄に連動して裏面Wrの洗浄が行われるように裏面洗浄部25を制御することを実行するように構成されている。
また、制御部17は、裏面洗浄部25によって裏面Wrの洗浄が行われている際に吐出ノズル42rによる表面Wfへのリンス液の吐出が行われるように表面洗浄部24を制御することを更に実行するように構成されている。
図5は、制御部17の機能的な構成を例示するブロック図である。図5に示すように、制御部17は、機能上の構成として、回転制御部71と、表面洗浄制御部72と、裏面洗浄制御部73とを有する。
回転制御部71は、ウェハ支持部23にウェハWが支持された状態において、ウェハ支持部23の下端に接続された回転シャフト23sが回転するように、回転機構31(より詳細には回転機構31のアクチュエータ)を制御する。回転制御部71の当該制御によって、ウェハ支持部23に指示されたウェハWが回転する。回転制御部71は、例えば処理の順番及び処理の実施時間等が設定されたレシピを参照することにより、所定の回転時間だけウェハWを回転させる。
表面洗浄制御部72は、ウェハWの表面Wfが物理洗浄されるように表面洗浄部24を制御する。具体的には、表面洗浄制御部72は、リンス液供給部42の吐出ノズル42rからウェハWの表面Wfにリンス液が吐出されるように、リンス液供給部42の流量調節器42aを制御(調節)する。表面洗浄制御部72は、裏面洗浄部25によって裏面Wrの洗浄が行われている際に吐出ノズル42rから表面Wfにリンス液が吐出されるように、流量調節器42aを制御する。また、表面洗浄制御部72は、ブラシ洗浄部41のブラシ41bがウェハWの表面Wfに接して表面Wfを洗浄するように、ブラシ洗浄部41のアーム41aを制御する。表面洗浄制御部72は、バーブラシ50が伸びる方向に沿ってブラシ41bがスキャン動作を行い表面Wfの洗浄を行うように、ブラシ洗浄部41のアーム41aを制御する。表面洗浄制御部72は、例えば処理の順番及び処理の実施時間等が設定されたレシピを参照することにより、所定の表面洗浄時間だけ、表面Wfの物理洗浄を行わせる。
裏面洗浄制御部73は、表面洗浄部24による表面Wfの洗浄に連動して裏面Wrが物理洗浄されるように裏面洗浄部25を制御する。裏面洗浄制御部73は、例えば、表面洗浄部24によって表面Wfが洗浄される期間と同じ期間に、裏面Wrが物理洗浄されるように裏面洗浄部25を制御する。裏面洗浄制御部73は、リンス液吐出部56からウェハWの裏面Wrにリンス液が吐出されるように、リンス液供給部58の流量調節器58aを制御(調節)する。また、裏面洗浄制御部73は、バーブラシ50のブラシ部52がウェハWの裏面Wrに接して裏面Wrを洗浄するように、昇降機構59を制御する。裏面洗浄制御部73は、圧力センサ55から、ブラシ部52がウェハWの裏面Wrに接触した際の圧力値を取得する。裏面洗浄制御部73は、当該圧力値に基づき昇降機構59の位置を調節することにより、ブラシ部52から裏面Wrに加わる圧力(ブラシ圧)を適切な状態(高除去率で洗浄できる状態)に保っている。
次に、基板処理方法の一例として、制御部17が実行する制御手順を説明する。なお、以下で説明する制御の開始時は、ウェハ支持部23にウェハWが支持されており、且つ、ウェハWの表面Wf及び裏面Wrに対する洗浄処理が行われる前の状態である。図6に示すように、制御部17は、まずステップS1を実行する。ステップS1では、回転制御部71が、ウェハ支持部23の下端に接続された回転シャフト23sが回転するように、回転機構31(より詳細には回転機構31のアクチュエータ)を制御し、ウェハWの回転を開始させる。
続いて、制御部17はステップS2を実行する。ステップS2では、表面洗浄制御部72がリンス液供給部42の吐出ノズル42rからウェハWの表面Wfにリンス液が吐出されるようにリンス液供給部42の流量調節器42aを制御(調節)すると共に、裏面洗浄制御部73がリンス液吐出部56からウェハWの裏面Wrにリンス液が吐出されるようにリンス液供給部58の流量調節器58aを制御(調節)することにより、表面リンス液(表面Wf側へのリンス液吐出)及び裏面リンス液(裏面Wr側へのリンス液吐出)が開始される。
続いて、制御部17はステップS3を実行する。ステップS3では、裏面洗浄制御部73が昇降機構59を制御することにより、バーブラシ50が上昇し(裏面バーブラシUP)、バーブラシ50のブラシ部52がウェハWの裏面Wrに接する(図2及び図3に示した状態となる)。これにより、ウェハWの裏面Wrにおける直径領域の略全域にブラシ部52が接した状態でウェハWが回転することとなり、ウェハWの裏面Wrがブラシ部52によって洗浄される。
続いて、制御部17はステップS4を実行する。ステップS4では、表面洗浄制御部72がアーム41aを制御することにより、ブラシ41bが下降しブラシ41bがウェハWの表面Wfに接し、更に、バーブラシ50が帯びる方向に沿ってブラシ41bが表面Wfにおいてスキャン動作を行い、表面Wfが洗浄される。表面Wfが洗浄されている期間においては、常に、上述したバーブラシ50による裏面Wrの洗浄が継続される。
続いて、制御部17はステップS5を実行する。ステップS5では、裏面洗浄制御部73が、表面洗浄制御部72によって制御される表面Wfの物理洗浄(表面ブラシ)が終了しているか否かを判定する。ステップS5において終了していないと判定された場合には、バーブラシ50による裏面Wrの洗浄が継続される。一方で、ステップS5において終了していると判定された場合には、制御部17はステップS6を実行する。ステップS6では、裏面洗浄制御部73が昇降機構59を制御することにより、バーブラシ50が下降し(裏面バーブラシDOWN)、ブラシ部52による裏面Wrの洗浄が終了する。
次に、本実施形態の基板処理装置100の作用効果について説明する。
基板処理装置100は、ウェハWを支持すると共に該ウェハWを回転させるウェハ支持部23と、ウェハWの表面Wfを物理洗浄する表面洗浄部24と、ウェハの回転軸ARと交差する方向に伸びウェハWの裏面Wrを物理洗浄するバーブラシ50を有する裏面洗浄部25と、を備える。
本実施形態の基板処理装置100では、ウェハWの表面Wfを物理洗浄する表面洗浄部24とは別に、ウェハWの裏面Wrを物理洗浄するバーブラシ50を有する裏面洗浄部25が設けられている。これにより、従来ウェハWを反転させてウェハWの裏面Wr及び表面Wfを順次洗浄する必要があったのに対し、本実施形態の基板処理装置100では、ウェハWの反転作業等を行うことなく、例えば同時に、ウェハWの裏面Wr及び表面Wfを洗浄することが可能となる。更に、本実施形態の基板処理装置100では、バーブラシ50が、ウェハWの回転軸ARと交差する方向(すなわち、ウェハWの裏面Wrに平行な方向)に伸びている。このようなバーブラシ50が裏面Wrに接して裏面Wrを洗浄することにより、回転するウェハWの広域をまとめて効率的に洗浄することが可能となっている。以上より、本実施形態の基板処理装置100によれば、ウェハWの洗浄時間を短縮し、洗浄処理のスループットを向上させるすることができる。
バーブラシ50は、バー状の基部51と、基部51から上方に伸びるブラシ部52と、を有する。例えば裏面洗浄体が、ウェハWの全面を同時に洗浄するような形態(例えばウェハWの形状に応じた円盤状とされている形態等)である場合には、ウェハWに接する裏面洗浄体からウェハWに加わる圧力が過剰になり、ウェハWの回転に影響を及ぼすおそれがある。この点、裏面洗浄体が、バー状の基部51を有するバーブラシ50であることにより、上述したウェハWの裏面Wrを効率的に洗浄するとの効果を奏しつつ、ウェハWの裏面Wrに加わる圧力を抑制することができる。また、ブラシ部52によって裏面Wrが洗浄されることにより、裏面Wrをムラなく洗浄することができる。
バーブラシ50は、基部51に設けられブラシ部52が伸びる方向にリンス液を吐出するリンス液吐出部56を有する。これにより、ウェハWの裏面Wrに対してリンス液が供給されることとなるので、ブラシ部52によって裏面Wrから除去されたパーティクル又は残留物等を洗い流すことができる。すなわち、ウェハWの裏面Wrをより適切に洗浄することができる。
ブラシ部52は、基部51の樹脂部54における外縁部54oに設けられており、リンス液吐出部56は、基部51の樹脂部54における中央部54cに設けられており、ウェハWの裏面Wrに向けてリンス液を吐出する第1吐出部56aと、該第1吐出部56a及びブラシ部52に挟まれる位置からブラシ部52に向けてリンス液を吐出する第2吐出部56bと、を有する。基部51の樹脂部54の外縁部54oにブラシ部52が設けられ、中央部54cにリンス液吐出部56が設けられることにより、ブラシ部52の形成領域とリンス液吐出部56の形成領域とが分けられ、ブラシ部52に妨げられることなく、ウェハWの裏面Wr方向へのリンス液吐出を行うことができる。また、リンス液吐出部56が、ウェハWの裏面Wrに向けてリンス液を吐出する第1吐出部56aに加えて、ブラシ部52に向けてリンス液を吐出する第2吐出部56bを有していることにより、ブラシ部52についてもリンス液によって洗浄することができる。このことで、洗浄された綺麗なブラシ部52によって裏面Wrが洗浄されることとなり、裏面Wrをより適切に洗浄することができる。
基部51は、中央部54cの厚みよりも外縁部54oの厚みが薄くなるように、中央部54cから外縁部54oに向かって傾斜している。例えば基部51の上面(樹脂部54が形成された面)が平坦に形成されている場合には、ウェハWの裏面Wrに吹き付けられた後に基部51側に流れてきたリンス液が基部51上に溜まってしまう(液溜りが発生する)おそれがある。この点、基部51において外縁部54o側に傾斜した形状とされていることにより、基部51側に流れてきたリンス液は外縁部54oに向かって流れることとなるので、上述した浴溜まりを防止することができる。
バーブラシ50は、圧力センサ55を有する。これにより、ウェハWの裏面Wrを物理洗浄するバーブラシ50のブラシ部52がウェハWに接触する際の圧力を検出することが可能となる。当該圧力値に基づき、制御部17が昇降機構59の位置を調節することにより、ブラシ部52から裏面Wrに加わる圧力(ブラシ圧)を適切な状態(高除去率で洗浄できる状態)に保つことができる。
表面洗浄部24のブラシ41bは、バーブラシ50が伸びる方向に沿ってスキャン動作を行い、表面Wfの洗浄を行う。これにより、裏面Wr側においてバーブラシ50が配置された領域に対応する表面Wf側の領域を表面洗浄部24のブラシ41bがスキャン動作することとなるので、裏面Wr側及び表面Wf側のそれぞれにおいて圧力がかかる領域を互いに一致(或いは近接)させることができる。このことで、ウェハWの姿勢を安定させた状態で、裏面Wr及び表面Wfを洗浄することができる。
更に、基板処理装置100は、表面洗浄部24による表面Wfの洗浄に連動して裏面Wrの洗浄が行われるように裏面洗浄部25を制御することを実行するように構成された制御部17を更に備えている。これにより、表面Wfの洗浄と裏面Wrの洗浄とを確実に同時に行うことが可能となり、ウェハWの洗浄時間をより確実に短縮することができる。
表面洗浄部24は、ウェハWの表面Wfに向けてリンス液を吐出する吐出ノズル42rを有し、制御部17は、裏面洗浄部25によって裏面Wrの洗浄が行われている際に吐出ノズル42rによる表面Wfへのリンス液の吐出が行われるように表面洗浄部24を制御することを更に実行するように構成されている。裏面Wr側において洗浄が行われた場合には、洗浄に伴うリンス液等が表面Wf側に回り込み表面Wfが汚染することが問題となる。この点、裏面洗浄中において表面Wf側でもリンス液吐出が行われることにより、表面Wfの汚染を防止することができる。
以上、実施形態について説明したが、本開示は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、バーブラシ50のブラシ部52がウェハWの裏面Wrにおける直径領域の略全域に接するように形成されているとして説明したが、これに限定されず、例えば図7に示すバーブラシ350のように、ブラシ部352が、ウェハWの裏面Wrにおける半径領域に接するように形成されていてもよい。また、バーブラシ50のブラシ部52が基部51に着脱可能に設けられていてもよい。これにより、ブラシ部52を取り外して洗浄することが可能となるため、ブラシ部52をより清潔な状態に保ちやすくなり、ウェハWの裏面Wrをより適切に洗浄することができる。
また、ウェハWの表面Wfを洗浄する構成として、ブラシ41bによってウェハWの表面Wfを洗浄するブラシ洗浄部41を説明したが、これに限定されず、例えば図8に示すように、二流体ノズル141によってウェハWの表面Wfを洗浄する構成を採用してもよい。
また、図9に示すバーブラシ150を用いてもよい。バーブラシ150は、ポリプロピレン等の比較的硬い素材を含むブラシ部152xと、ポリビニルアルコール等のスポンジ素材の比較的柔らかい素材を含むブラシ部152yとを有する。バーブラシ150においては、互いに対向する第1ブラシライン152a及び第2ブラシライン152bのそれぞれにおいて、ブラシ部152xとブラシ部152yとが交互に配置されている。また、第1ブラシライン152a及び第2ブラシライン152bにおける、互いに対向する領域同士は、異なる素材のブラシ部が設けられている。すなわち、第1ブラシライン152aにおいてブラシ部152xが設けられている領域に対向する第2ブラシライン152bの領域にはブラシ部152yが設けられており、第1ブラシライン152aにおいてブラシ部152yが設けられている領域に対向する第2ブラシライン152bの領域にはブラシ部152xが設けられている。このようにブラシ部152x,152yが配置されることにより、回転するウェハWの裏面Wrにおいては、各領域がブラシ部152x及びブラシ部152yに交互で洗浄されることとなる。これにより、裏面Wrの各領域に対して、除去性が高いブラシ部152xによる洗浄と、除去ムラを低減することができるブラシ部152yによる洗浄とを交互に行うことができる。なお、バーブラシにおいては、一方のライン全てがポリプロピレン等の比較的硬い素材を含むブラシ部とされ、他方のライン全てがポリビニルアルコール等のスポンジ素材の比較的柔らかい素材を含むブラシ部とされてもよい。
また、図10に示すバーブラシ250を用いてもよい。図10(a)は、変形例に係る裏面洗浄部の下面図(裏面洗浄部を裏面側から見た図)である。図10(b)は、変形例に係る裏面洗浄部のバーブラシ250の平面図である。図10(b)に示すように、バーブラシ250は、バー状の部材であり、一端部にバー回転中心BCが形成されると共に、他端部に向かって所定間隔(例えば一定間隔)で孔H1〜H8が形成されている。例えばウェハWの直径が300mmである場合、孔H1〜H8の間隔は18mm程度とされる。なお、孔の数は8個に限定されず、7個以下であってもよいし9個以上であってもよい。孔H1〜H8には、例えばそれぞれブラシ(不図示)が設けられる。或いは、孔H1〜H8の少なくとも1つには、リンス液を吐出する吐出ノズル(不図示)が設けられていてもよい。例えば、孔H1〜H8において、ブラシ(不図示)と吐出ノズル(不図示)とが交互に設けられていてもよい。吐出ノズルから吐出されるリンス液として、脱イオン水だけでなく洗浄に好適な薬液が用いられてもよい。
図10(a)に示すように、バーブラシ250は、その回転中心BCが、ウェハWの回転中心RCからずれた位置に配置される。回転中心BC,RC間の距離は特段限定されるものではないが、例えばウェハWの直径が300mmである場合には、18mm程度とされる。バーブラシ250は、例えばブラシ(不図示)がウェハWの裏面に接した状態で、ウェハWの回転中心RCからずれた位置を回転中心BCとして、ウェハWの回転方向と同一方向又は反対方向に回転する。具体的には、バーブラシ250は、ウェハWの回転方向と同一方向に180°回転した後に、ウェハWの回転方向と反対方向に180°回転するスイング動作を繰り返し行う。バーブラシ250は、制御部によって制御された回転機構(不図示)により回転させられる。
例えば、回転するウェハWに対してバーブラシの位置を固定した場合には、ウェハWの裏面Wrの各領域において、対向する(接する)ブラシの領域が常に同じとなる。また、バーブラシを固定せずに回転させる場合であっても、ウェハWの回転中心とバーブラシの回転中心とが一致している場合には、バーブラシの位置を固定する場合と同様に、ウェハWの裏面Wrの各領域において対向する(接する)ブラシの領域が常に同じとなる。これらの場合、例えばブラシの密度が低い領域と対向するウェハWの裏面Wrの領域については十分に洗浄することができず、ウェハWの裏面Wrにおいて洗浄ムラが生じるおそれがある。この点、図10(a)に示すように、バーブラシ250を回転させると共に、バーブラシ250の回転中心BCをウェハWの回転中心RCからずらした位置とすることにより、ウェハWの裏面Wrの各領域において対向する(接する)ブラシの領域が変化することとなる。このことで、ウェハWの裏面Wrの全面を好適に洗浄することができ、上述した洗浄ムラが生じることを抑制できる。なお、本態様では、回転中心BCがずれたバーブラシ250を回転させるというシンプルな構成により、小スペースで、洗浄ムラの抑制を実現することができる。また、対向するブラシの領域を変化させることにより、ブラシを密に設けることが必要とならないため、コストダウンが図られると共に、品質管理の容易性を向上させることができる。
17…制御部、23…ウェハ支持部(基板支持部)、24…表面洗浄部、25…裏面洗浄部、42r…吐出ノズル(表面側リンス液吐出部)、50,150,250,350…バーブラシ(裏面洗浄体)、51…基部、52,152,352…ブラシ部、54c…中央部、54o…外縁部、55…圧力センサ、56…リンス液吐出部(裏面側リンス液吐出部)、56a…第1吐出部、56b…第2吐出部、100…基板処理装置、170…記憶媒体、BC,RC…回転中心、W…ウェハ(基板)、Wf…表面、Wr…裏面。
Claims (13)
- 基板を支持すると共に該基板を回転させる基板支持部と、
前記基板の表面を物理洗浄する表面洗浄部と、
前記基板の回転軸と交差する方向に伸び前記基板の裏面を物理洗浄する裏面洗浄体を有する裏面洗浄部と、を備える基板処理装置。 - 前記裏面洗浄体は、バー状の基部と、前記基部から上方に伸びるブラシ部と、を有する、請求項1記載の基板処理装置。
- 前記裏面洗浄体は、前記基部に設けられ前記ブラシ部が伸びる方向にリンス液を吐出する裏面側リンス液吐出部を更に有する、請求項2記載の基板処理装置。
- 前記ブラシ部は、前記基部における外縁部に設けられており、
前記裏面側リンス液吐出部は、前記基部における中央部に設けられており、前記基板の裏面に向けてリンス液を吐出する第1吐出部と、該第1吐出部及び前記ブラシ部に挟まれる位置から前記ブラシ部に向けてリンス液を吐出する第2吐出部と、を有する、請求項3記載の基板処理装置。 - 前記基部は、前記中央部の厚みよりも前記外縁部の厚みが薄くなるように、前記中央部から前記外縁部に向かって傾斜している、請求項4記載の基板処理装置。
- 前記ブラシ部は、前記基部に着脱可能に設けられている、請求項2〜5のいずれか一項記載の基板処理装置。
- 前記裏面洗浄体は、圧力センサを更に有する、請求項1〜6のいずれか一項記載の基板処理装置。
- 前記表面洗浄部は、前記裏面洗浄体が伸びる方向に沿ってスキャン動作を行い、前記表面の洗浄を行う、請求項1〜7のいずれか一項記載の基板処理装置。
- 前記裏面洗浄体は、前記基板の回転中心からずれた位置を回転中心として、前記基板の回転方向と同一方向又は反対方向に回転する、請求項1〜8のいずれか一項記載の基板処理装置。
- 前記表面洗浄部による前記表面の洗浄に連動して前記裏面の洗浄が行われるように前記裏面洗浄部を制御することを実行するように構成された制御部を更に備える、請求項1〜9のいずれか一項記載の基板処理装置。
- 前記表面洗浄部は、前記基板の表面に向けてリンス液を吐出する表面側リンス液吐出部を有し、
前記制御部は、前記裏面洗浄部によって前記裏面の洗浄が行われている際に前記表面側リンス液吐出部による前記表面へのリンス液の吐出が行われるように前記表面洗浄部を制御することを更に実行するように構成されている、請求項10記載の基板処理装置。 - 基板を回転させることと、回転する前記基板の表面を物理洗浄する表面洗浄部による洗浄に連動させて、前記基板の回転軸と交差する方向に伸びる裏面洗浄体を有する裏面洗浄部によって前記基板の裏面の物理洗浄を行うことと、を含む基板処理方法。
- 請求項12に記載の基板処理方法を装置に実行させるためのプログラムを記憶した、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
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