JP2019057552A - 反射鏡、ファイバ共振器、およびファイバレーザ - Google Patents
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Abstract
Description
図1および図2を参照して、本実施の形態に係る反射鏡について説明する。図1(a)は第1の実施の形態に係る反射鏡の断面図を、図1(b)はHOFGの形成方法を説明する側面図、平面図および断面図を示している。また、図2は第1の実施の形態に係る反射鏡の加工工程を説明する図である。
具体的には、集光ビームBの集光点(ビームウエスト)が光ファイバ10のコア部12内に位置するように、載置部をZ軸方向に移動させる。また、光ファイバ10の光軸方向(X軸方向)の複数の位置で、集光ビームBが光ファイバ10のコア部12をY軸方向に横切るように、載置部を移動させる。
di=Hi・(λ/(2・ni))+λ/(4・ni) ・・・ (式1)
ただし、λは動作波長であり、i=1、2、3、・・・(すなわち、iは自然数)である。
di=Hi・(λ/(2・ni))+λ/(4・ni) ・・・ (式2)
ただし、i=1、2。
すなわち、各屈折率周期構造の厚さは、
d1=H1・(λ/(2・n1))+λ/(4・n1)
d2=H2・(λ/(2・n2))+λ/(4・n2)
で算出される。
この場合、周期Λ2(=d1+d2)は、以下に示す(式3)のようになる。
Λ2=H1・(λ/(2・n1))+λ/(4・n1)+H2・(λ/(2・n2))+λ/(4・n2) ・・・ (式3)
di=2.25λ/ni=1.664μm ・・・ (式3)
となる。また、周期Λ2(=d1+d2)は、
Λ2=3.33μm
となる。つまり、周期Λ2は上記FBGの場合の周期Λ=0.4μmと比較して8倍程度の周期となっている。この程度の周期であれば、フェムト秒オーダーの超短パルスレーザ光をコアに集光して、屈折率変化領域を作ることが可能である。ただし、λは動作波長(レーザの発振波長)で、本例ではYb添加ファイバを用いているので、λ=1.07μm〜1.08μm程度である。また、niは1.46程度である。
例えば、λ=1.08μm、n2=1.4590とした場合、d2=1.6655μm、Λ2=3.33μmなので、d1=1.6645μmであることが必要となり、その場合n1=1.4599を実現すればよい。ただし、本例はベース(光ファイバ10)の屈折率n2がn1に高屈折率化した場合の数値例である。
図4を参照して、本実施の形態に係るファイバレーザ50、およびファイバ共振器58について説明する。図4(a)は、本実施の形態に係るファイバレーザ50、およびファイバ共振器58の構成の一例を示す模式図、図4(b)は、本実施の形態に係るファイバレーザの反射鏡と、従来技術に係るファイバレーザの反射鏡との相違を説明する図である。
(1)レーザ共振器の内部に融着点(スプライス部)がないので、信頼性の高いファイバ共振器を構成することが可能である。
すなわち、従来技術に係るファイバレーザ(ファイバレーザ80)では、アクティブファイバ(利得ファイバ)とファイバ共振器とを別のファイバで実現し、融着していた。融着点ではわずかながらも放射が発生する。高出力用途のファイバレーザでは、この融着点における放射が起点となり破壊が生じやすい。本実施の形態に係る反射鏡、ファイバ共振器、ファイバレーザでは融着点自体がないのでこのような問題が発生しない。
(2)短波長化の趨勢に対しても対応可能な反射鏡、ファイバ共振器、ファイバレーザを提供することができる。
すなわち、従来のファイバ共振器の反射鏡では、GeO2を添加することで紫外線に対して増感作用をもたせて、屈折率変化をしやすくしていた。反射鏡は、近赤外(800nm〜980nm)帯の励起光に対して、1.0〜1.5μm帯で発振するファイバレーザに用いていたので顕在化していないが、将来、400nm帯等の励起光で発振する短波長ファイバレーザでは、励起光やレーザ発振光が反射鏡の屈折率変化を誘起し、自らを破壊する可能性が懸念される。本実施の形態に係る反射鏡のように高屈折率化を誘起する反射鏡ではそのような心配がない。さらに、短波長レーザ用の反射鏡は周期が狭くなるので、干渉で作製することは困難であるが、本実施の形態に係るHOFG法を用いた反射鏡の作製ではこの点からも有利である。
(3)任意の反射波長特性を実現できる。
すなわち、従来技術に係る反射鏡は、紫外光と位相シフトマスクによる干渉パターンで屈折率を付与させていた。これに対し、本実施の形態に係るHOFG法を用いた反射鏡では、屈折率niの各領域の厚さdiを直接制御できるので、任意の反射特性を実現できる。
12 コア部
14 第1クラッド部
16 クラッド部
20、20−1、20−2 反射鏡
22 屈折率周期構造体
24 高屈折率領域
26 低屈折率領域
50 ファイバレーザ
52 アクティブファイバ
54 光源
56 半導体レーザ
58 ファイバ共振器
80 ファイバレーザ
82 アクティブファイバ
84、84−1、84−2 反射鏡
86 半導体レーザ
88、88−1、88−2 スプライス部
B 集光ビーム
b レイリー長
L 照射経路
Po 出力光
Wi 入射波
Wr 反射波
Wt 透過波
w ビームウエスト
Λ 周期
Claims (5)
- 希土類元素が添加されたコア部を有する利得ファイバと、
予め定められた幅を有するとともに前記利得ファイバの光軸方向に沿って予め定められた間隔で形成され、かつ前記コア部の前記光軸と直交する断面全体に形成されるとともに第1の屈折率を有する1または複数の高屈折率領域、および前記1または複数の高屈折率領域に隣接して形成されるとともに幅が前記予め定められた間隔であり、かつ前記第1の屈折率より低い第2の屈折率を有する1または複数の低屈折率領域を備えた屈折率周期構造体を含む反射鏡であって、
前記反射鏡の動作波長をλ、前記屈折率周期構造体のi番目の屈折率周期構造の幅をdi、屈折率をniとした場合に、diが下式で与えられる反射鏡。
di=Hi・(λ/(2・ni))+λ/(4・ni)
ただし、Hiは次数を示し、iは自然数である。 - 前記高屈折率領域は、前記利得ファイバに超短パルスレーザ光が照射され、照射部分の前記利得ファイバが高屈折率化された領域であり、前記低屈折率領域は前記利得ファイバの屈折率が変化していない領域である
請求項1に記載の反射鏡。 - 前記利得ファイバがマルチモード光ファイバ、またはダブルクラッドファイバである
請求項1または請求項2に記載の反射鏡。 - 前記利得ファイバに請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の反射鏡が2個形成されており、2個の前記反射鏡の間で前記動作波長の光が反射され共振する
ファイバ共振器。 - 励起光を発生する励起光源と、
前記動作波長に対し予め定められた利得を有する前記利得ファイバと、
前記利得ファイバに前記屈折率周期構造体を形成して前記利得ファイバの両端に設けられた請求項4に記載のファイバ共振器と、を含み、
前記励起光源からの励起光が一方の前記反射鏡を介して入力され、前記利得ファイバで利得を付与されると共に前記ファイバ共振器で共振して増幅され、他方の前記反射鏡から波長λの光がレーザ発振光として出力される
ファイバレーザ。
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