JP2019045712A - 光走査装置及び画像形成装置 - Google Patents

Abstract

【課題】ジッターを低減すると共に、搭載される画像形成装置の小型化も達成することができる光走査装置を提供する。【解決手段】本発明に係る光走査装置は、複数の発光点を含む第１の光源からの複数の光束を偏向して第１の被走査面を主走査方向に走査する偏向器と、偏向器によって偏向された複数の光束を第１の被走査面に導光する第１の結像光学系と、第１の光源からの複数の光束を偏向器に入射させる第１の入射光学系とを有し、第１の光源において互いに最も離れた二つの発光点を通る直線と主走査断面とのなす角度をθ１、第１の入射光学系の光軸と主走査断面とのなす角度をθ２、第１の結像光学系の後側主平面から第１の結像光学系による非平行光束及び平行光束の集光点までの距離のそれぞれをＳｋ１及びｆ１とし、ｍ１＝１−Ｓｋ１／ｆ１とするとき、（θ１×θ２）×ｍ１＞０なる条件を満たすことを特徴とする。【選択図】図４

Description

本発明は、光走査装置に関し、特にレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）やデジタル複写機、マルチファンクションプリンタ（ＭＦＰ）等の画像形成装置に好適なものである。

近年、複数の発光点を有するマルチビーム光源を用いて高速化を図った光走査装置が知られている。

しかしながら、マルチビーム光源から出射した複数の光束が副走査断面内において偏向器に斜入射することによってジッター（偏向器斜入射ジッター）が発生することが知られている。また、マルチビーム光源から出射した複数の光束の集束度が変化することによってジッター（集束度ジッター）が発生することが知られている。また、マルチビーム光走査装置を画像形成装置に配置した際に、マルチビーム光走査装置から出射した複数の光束が感光ドラム面の法線に対して斜入射することでジッター（ドラム斜入射ジッター）が発生することも知られている。

特許文献１は、マルチビーム光源から出射した複数の光束を平行光束に変換した後、副走査断面内において偏向器に斜入射させているマルチビーム光走査装置及び画像形成装置を開示しており、そのような光走査装置に対して感光ドラムの位置を調整することで、偏向器斜入射ジッターをドラム斜入射ジッターによって低減している（実質的に相殺している）。
また、特許文献２は、マルチビーム光源から出射した複数の光束を集束光束もしくは発散光束に変換した後、副走査断面内において偏向器に垂直入射させているマルチビーム光走査装置及び画像形成装置を開示しており、そのような光走査装置に対して感光ドラムの位置を調整することで、集束度ジッターをドラム斜入射ジッターによって低減している（実質的に相殺している）。

特開２００９−１２２３２７号公報 特開２００１−５９９４５号公報

しかしながら、特許文献１及び特許文献２のいずれにおいても、光走査装置で発生するジッターをドラム斜入射ジッターによって低減するために、感光ドラムの感光面に光束を斜入射させているので、画像形成装置の大型化に繋がってしまう。
そこで、本発明は、ジッターを低減すると共に、搭載される画像形成装置の小型化も達成することができる光走査装置を提供することを目的とする。

本発明に係る光走査装置は、複数の発光点を含む第１の光源からの複数の光束を偏向して第１の被走査面を主走査方向に走査する偏向器と、偏向器によって偏向された複数の光束を第１の被走査面に導光する第１の結像光学系と、第１の光源からの複数の光束を偏向器に入射させる第１の入射光学系とを有し、第１の光源において互いに最も離れた二つの発光点を通る直線と主走査断面とのなす角度をθ１、第１の入射光学系の光軸と主走査断面とのなす角度をθ２、第１の結像光学系の後側主平面から第１の結像光学系による非平行光束及び平行光束の集光点までの距離のそれぞれをＳｋ１及びｆ１とし、ｍ１＝１−Ｓｋ１／ｆ１とするとき、
（θ１×θ２）×ｍ１＞０
なる条件を満たすことを特徴とする。

本発明によれば、ジッターを低減すると共に、搭載される画像形成装置の小型化も達成することができる光走査装置を提供することができる。

第一実施形態に係る光走査装置の主走査断面図及び一部副走査断面図。 第一実施形態に係る光走査装置における集束度を説明するための図。 第一実施形態に係る光走査装置の結像光学系に含まれるレンズ面を模式的に示した図。 第一実施形態に係る光走査装置の光源の複数の発光点の配置図、各光束の模式的軌跡図、及び断面図。 第一実施形態に係る光走査装置において集束度ジッターが発生している様子を示した図。 第一実施形態に係る光走査装置及び比較例の光走査装置それぞれによるジッターの像高依存性を示した図。 第二実施形態に係る光走査装置の主走査断面図及び一部副走査断面図。 第二実施形態に係る光走査装置における集束度を説明するための図。 第二実施形態に係る光走査装置の光源の複数の発光点の配置図、各光束の模式的軌跡図、及び断面図。 第二実施形態に係る光走査装置において集束度ジッターが発生している様子を示した図。 第二実施形態に係る光走査装置及び比較例の光走査装置それぞれによるジッターの像高依存性を示した図。 第三実施形態に係る光走査装置の一部主走査断面図及び一部副走査断面図。 第三実施形態に係る光走査装置によるジッターの像高依存性を示した図。 実施形態に係るカラー画像形成装置の要部副走査断面図。 実施形態に係るカラー画像形成装置の一部拡大断面図。

以下に、本実施形態に係る光走査装置を、添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために、実際とは異なる縮尺で描かれている場合がある。

なお、以下の説明において、主走査方向とは、偏向器の回転軸及び光学系の光軸に垂直な方向である。副走査方向とは、偏向器の回転軸に平行な方向である。主走査断面とは、副走査方向に垂直な断面である。副走査断面とは、主走査方向に垂直な断面である。
従って、以下の説明において、主走査方向及び副走査断面は、入射光学系と結像光学系とで異なることに注意されたい。

［第一実施形態］
図１（ａ）は、第一実施形態に係る光走査装置１０の主走査断面図を示している。図１（ｂ）は、第一実施形態に係る光走査装置１０が備える入射光学系１１１の副走査断面図を示している。図１（ｃ）は、第一実施形態に係る光走査装置１０が備える結像光学系１１２の副走査断面図を示している。

本実施形態に係る光走査装置１０は、光源１０１、副走査絞り１０２、アナモコリメータレンズ１０３、シリンドリカルレンズ１０４、及び主走査絞り１０５を備えている。また、光走査装置１０は、偏向器１０６、第１のｆθレンズ（第１の結像光学素子）１０７、第２のｆθレンズ１０８、及び反射部材１１５を備えている。

光源１０１としては、複数の発光点を有する半導体レーザー等が用いられる。
副走査絞り１０２は、光源１０１から出射した複数の光束の副走査方向の光束径を制限する。
アナモコリメータレンズ１０３は、副走査絞り１０２を通過した複数の光束を主走査断面内では集束光束に、且つ副走査断面内では平行光束に変換する。なおここで、平行光束とは、厳密な平行光束だけでなく、弱発散光束や弱収束光束等の略平行光束を含むものとする。
シリンドリカルレンズ１０４は、副走査断面内に有限のパワー（屈折力）を有しており、アナモコリメータレンズ１０３を通過した複数の光束を副走査方向に集光する。
主走査絞り１０５は、シリンドリカルレンズ１０４を通過した複数の光束の主走査方向の光束径を制限する。

このようにして、光源１０１から出射した複数の光束は、偏向器１０６の偏向面１０６ａの近傍において副走査方向にのみ集光され、主走査方向に長い線像として結像される。

なお、副走査絞り１０２、アナモコリメータレンズ１０３、シリンドリカルレンズ１０４及び主走査絞り１０５によって、本実施形態に係る光走査装置１０の入射光学系１１１が構成される。

本実施形態に係る光走査装置１０の入射光学系１１１の光軸は、副走査断面内において主走査断面に対して３．０度の角度をなしている。

偏向器１０６は、不図示のモーター等の駆動手段により図中矢印Ａ方向に回転することにより、偏向器１０６に入射した複数の光束を偏向する。なお、偏向器１０６は、例えばポリゴンミラー等で構成される。
第１のｆθレンズ１０７及び第２のｆθレンズ１０８は、主走査断面内と副走査断面内とで異なるパワーを有するアナモフィック結像レンズであり、偏向器１０６によって偏向された複数の光束を被走査面１１０上に集光（導光）する。
反射部材１１５は、光束を反射する手段であり、蒸着ミラー等が用いられる。

なお、第１のｆθレンズ１０７及び第２のｆθレンズ１０８によって、本実施形態に係る光走査装置１０の結像光学系１１２が構成される。

光源１０１の複数の発光点から出射した複数の光束は、副走査絞り１０２を通過し、アナモコリメータレンズ１０３によって主走査断面内では集束光束に、且つ副走査断面内では平行光束に変換される。
そして、変換された複数の光束は、シリンドリカルレンズ１０４によって副走査方向に集光され、主走査絞り１０５を通過し、副走査方向下側から偏向器１０６の偏向面１０６ａに入射する。
光源１０１から出射し、偏向器１０６の偏向面１０６ａに入射した複数の光束は、偏向器１０６により偏向走査された後、結像光学系１１２によって被走査面１１０上に集光され、被走査面１１０を等速度で走査する。
なお、偏向器１０６は図中Ａ方向に回転しているため、偏向走査された複数の光束は、被走査面１１０を図中Ｂ方向に走査する。

なお、本実施形態では、被走査面として、感光ドラム１１０を用いている。
また、感光ドラム１１０上における副走査方向の露光分布の作成は、主走査露光毎に、感光ドラム１１０を副走査方向に回転させることによって達成している。

次に、本実施形態に係る光走査装置１０の入射光学系１１１及び結像光学系１１２の諸特性を以下の表１及び表２に示す。

なお、表１及び表２において、各レンズ面と光軸との交点を原点としたときの、光軸方向、主走査断面内において光軸と直交する軸、及び副走査断面内において光軸と直交する軸をそれぞれ、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸としている。また、表２において、「Ｅ−ｘ」は、「×１０^−ｘ」を意味している。

本実施形態に係る光走査装置１０のアナモコリメータレンズ１０３は、アナモフィックな形状を有しており、その形状は、以下の式（１）で表される。

ここで、Ｒｙは主走査断面内における曲率半径、Ｒｚは副走査断面内における曲率半径、ｋは離心率である。

また、第１のｆθレンズ１０７及び第２のｆθレンズ１０８の各レンズ面の主走査断面内における非球面形状（母線形状）は、以下の式（２）で表される。

ここで、Ｒは曲率半径、ｋは離心率、Ｂ_ｉ（ｉ＝４、６、８、…、１６）は非球面係数である。なお、ｙに関してプラス側とマイナス側とで係数Ｂ_ｉが異なる場合は、表２にあるように、プラス側の係数には添字ｕを付し（すなわち、Ｂ_ｉｕ）、マイナス側の係数には添字ｌを付している（すなわち、Ｂ_ｉｌ）。

また、第１のｆθレンズ１０７及び第２のｆθレンズ１０８の各レンズ面の副走査断面内における非球面形状（子線形状）は、以下の式（３）で表される。

ここで、Ｍ_ｊｋ（ｊ＝０、２、４、６、８、及びｋ＝１）は非球面係数である。なお、ｙに関してプラス側とマイナス側で係数Ｍ_ｊｋが異なる場合は、表２にあるように、プラス側の係数には添字ｕを付し（すなわち、Ｍ_ｊｋｕ）、マイナス側の係数には添字ｌを付している（すなわち、Ｍ_ｊｋｌ）。

また、副走査断面内における曲率半径ｒ’は、レンズ面のｙ座標に従って、以下の式（４）のように連続的に変化する。

ここで、ｒは光軸上における曲率半径、Ｅ_ｊ（ｊ＝２、４、６、８、１０）は変化係数である。なお、ｙに関してプラス側とマイナス側で係数Ｅ_ｊが異なる場合は、表２にあるように、プラス側の係数には添字ｕを付し（すなわち、Ｅ_ｊｕ）、マイナス側の係数には添字ｌを付している（すなわち、Ｅ_ｊｌ）。

次に、本実施形態に係る光走査装置１０における効果について説明する。
まず、本実施形態に係る光走査装置１０における集束度について説明する。

図２は、本実施形態に係る光走査装置１０における集束度を説明するための図である。
図２において、２０１は、結像光学系１１２の後側主平面を示しており、２０２は、結像光学系１１２に非平行光束が入射した場合の集光点を示している。
また、２０３は、結像光学系１１２に平行光束が入射した場合の集光点を示している。

このとき、後側主平面２０１から結像光学系１１２による非平行光束及び平行光束の集光点２０２及び２０３までの距離のそれぞれをＳｋ１及びｆ１とすると、集束度ｍ１は、以下の式（５）で定義することができる。
ｍ１＝１−Ｓｋ１／ｆ１ ・・・（５）

本実施形態に係る光走査装置１０では、光源１０１から出射した光束は集束光束に変換されているため、Ｓｋ１＜ｆ１であり、ｍ１＞０となる。

次に、本実施形態に係る光走査装置１０における偏向器斜入射ジッターの発生要因について説明する。

図３は、結像光学系１１２に含まれるレンズ面３０１を模式的に示したものである。
図３において、Ｒｙ０及びＲｚ０はそれぞれ、光軸（ｘ軸）上での主走査断面内及び副走査断面内における局所的な曲率半径を示している。
また、Ｒｙ１及びＲｚ１はそれぞれ、主走査方向及び副走査方向をそれぞれｙ軸及びｚ軸としたとき、（ｙ，ｚ）＝（＋ｙ_０，０）での主走査断面内及び副走査断面内における局所的な曲率半径を示している。
また、Ｒｙ２及びＲｚ２はそれぞれ、（ｙ，ｚ）＝（−ｙ_０，０）での主走査断面内及び副走査断面内における局所的な曲率半径を示している。
また、Ｒｙ３及びＲｚ３はそれぞれ、（ｙ，ｚ）＝（０，＋ｚ_０）での主走査断面内及び副走査断面内における局所的な曲率半径を示している。

本実施形態に係る光走査装置１０では、第１のｆθレンズ１０７及び第２のｆθレンズ１０８の出射面は、副走査断面内における曲率半径Ｒｚが主走査方向（ｙ方向）に応じて変化している面である。
具体的には、図３に示されているように、ｙ＝０から主走査方向外側にいくにつれて、副走査断面内の曲率半径Ｒｚは大きくなる。
そのため、（０，＋ｚ_０）での主走査断面内における曲率半径Ｒｙ３は、（０，０）での主走査断面内における曲率半径Ｒｙ０に比べて大きくなる。
つまり、（０，＋ｚ_０）でのパワーのほうが（０，０）でのパワーより小さくなるため、倍率が大きくなる。

そして、上記のようなレンズ面３０１にマルチビーム光源１０１から出射した複数の光束が入射すると、各光束の入射位置が副走査方向に異なるため、各光束に対する主走査断面内の倍率が互いに異なることとなる。
その結果、被走査面１１０上での各光束の集光点間の間隔が異なるため、偏向器斜入射ジッターが発生する。

次に、本実施形態に係る光走査装置１０において偏向器斜入射ジッターが発生している様子を説明する。

図４（ａ）は、偏向器１０６側から見た光源１０１の複数の発光点の配置を示している。図４（ｂ）は、本実施形態に係る光走査装置１０の入射光学系１１１の副走査断面図を示している。図４（ｃ）は、光源１０１の複数の発光点から出射した各光束の軌跡を模式的に示している。図４（ｄ）は、本実施形態に係る光走査装置１０の主走査断面図を示している。

図４（ａ）、（ｃ）及び（ｄ）において、Ｌａ及びＬｂは、光源１０１における複数の発光点のうち互いに最も離れた二つの発光点である。
そして、θ１は、光源１０１の複数の発光点を含む第１の平面（ｙｚ断面）内において、発光点ＬａとＬｂとを結んだ直線が主走査断面に対してなす鋭角側の角度である。なお、角度θ１については、偏向器１０６側から光源１０１を見たときに反時計回りを正と定義している。
また、θ２は、入射光学系１１１に関する副走査断面内において入射光学系１１１の光軸が主走査断面に対してなす鋭角側の角度である。なお、角度θ２については、被走査面１１０側から入射光学系１１１に関する副走査断面を見たときに反時計回りを正と定義している。

また、図４（ｃ）及び（ｄ）において、Ｉａ及びＩｂはそれぞれ、発光点Ｌａ及びＬｂから出射した光束の被走査面１１０上における集光点である。
そして、４１１及び４１２はそれぞれ、集光点Ｉｂ及びＩａに関する軸上像高から最軸外像高までの距離である。

本実施形態に係る光走査装置１０では、図４（ａ）に示されているように、発光点Ｌａ及びＬｂを結んだ直線が主走査断面に対してなす角度θ１は＋５．０度である。
また、図４（ｂ）に示されているように、入射光学系１１１に関する副走査断面内において入射光学系１１１の光軸が主走査断面に対してなす角度θ２は、＋３．０度である。
従って、本実施形態に係る光走査装置１０では、以下の関係が満たされている。
θ１×θ２＞０

また、図４（ｃ）に示されているように、発光点Ｌａ及びＬｂから出射した光束はそれぞれ、結像光学系１１２に含まれる第１のｆθレンズ４０７及び第２のｆθレンズ４０８上の互いに異なる高さを通過している。
上述したように、副走査断面内における曲率半径が主走査方向に応じて変化しているレンズ面に各光束が互いに異なる高さで入射すると、各光束に対する主走査断面内の倍率が互いに異なることとなる。
その結果、被走査面１１０上での各光束の集光点間の間隔が異なることとなる。

具体的には、本実施形態に係る光走査装置１０では、被走査面１１０上における集光点Ｉｂに関する軸上像高から最軸外像高までの距離４１１が、被走査面１１０上における集光点Ｉａに関する軸上像高から最軸外像高までの距離４１２より長くなっている。
すなわち、集光点Ｉｂに対して集光点Ｉａの方が、相対的に画像中心に近づく方向に位置ずれが生じている。

次に、本実施形態に係る光走査装置１０において集束度ジッターが発生する様子について説明する。

図５（ａ）は、光源１０１の発光点Ｌａ及びＬｂそれぞれから出射した光束が被走査面１１０の走査開始側に偏向される様子を示している。図５（ｂ）は、光源１０１の発光点Ｌａ及びＬｂそれぞれから出射した光束が被走査面１１０の走査終了側に偏向される様子を示している。図５（ｃ）は、本実施形態に係る光走査装置１０において集束度ジッターが発生している様子を示している。

図５（ａ）及び（ｂ）において、５０１及び５０２はそれぞれ、発光点Ｌａ及びＬｂから出射した光束である。
また、５０３及び５０４はそれぞれ、光束５０１及び５０２が偏向器１０６の偏向面１０６ａによって被走査面１１０の走査開始側に偏向された光束である。なお、光束５０３及び５０４が互いに平行になるように、光束５０１及び５０２それぞれが入射するときの偏向面１０６ａの角度が互いに異なっていることに注意されたい。
また、５０７及び５０８はそれぞれ、光束５０１及び５０２が偏向器１０６の偏向面１０６ａによって被走査面１１０の走査終了側に偏向された光束である。なお、光束５０７及び５０８が互いに平行になるように、光束５０１及び５０２それぞれが入射するときの偏向面１０６ａの角度が互いに異なっていることに注意されたい。
また、図５（ｃ）において、５０５及び５０６はそれぞれ、光束５０１及び５０２が偏向器１０６の偏向面１０６ａによって被走査面１１０の軸上像高に偏向された光束である。なお、光束５０５及び５０６が互いに平行になるように、光束５０１及び５０２それぞれが入射するときの偏向面１０６ａの角度が互いに異なっていることに注意されたい。

また、図５（ｃ）において、５１０は、偏向された光束５０３及び５０４の被走査面１１０上における集光点Ｉａ及びＩｂの間の距離である。
５１１は、偏向された光束５０５及び５０６の被走査面１１０上における集光点Ｉａ及びＩｂの間の距離である。
５１２は、偏向された光束５０７及び５０８の被走査面１１０上における集光点Ｉａ及びＩｂの間の距離である。

また、図５（ｃ）において、５１３は、被走査面１１０の軸上像高における集光点Ｉｂから走査終了側の最軸外像高における集光点Ｉｂまでの距離である。
５１４は、被走査面１１０の軸上像高における集光点Ｉａから走査終了側の最軸外像高における集光点Ｉａまでの距離である。

本実施形態に係る光走査装置１０では、入射光学系１１１によって光源１０１から出射した複数の光束は集束光束に変換されているため、平行光束が集光する位置２０３よりも偏向器側の集光点２０２に集光される。

また、本実施形態に係る光走査装置１０では、図５（ａ）及び（ｂ）に示されているように、同一方向に偏向されて結像光学系１１２に入射する複数の光束の間の間隔が、偏向器１０６の角度、すなわち偏向方向に応じて異なる。
そして、同一方向に偏向されて結像光学系１１２に入射する複数の光束の間の間隔が、偏向方向に応じて異なると、集光点２０２における各光束の集光点の間の間隔が異なるため、ジッターが発生する。
具体的には、本実施形態に係る光走査装置１０では、走査開始側における集光点Ｉａ及びＩｂの間の間隔５１０が最も狭く、走査終了側における集光点Ｉａ及びＩｂの間の間隔５１２が最も広くなる。
その結果、軸上像高における集光点Ｉｂから走査終了側の最軸外像高における集光点Ｉｂまでの間隔５１３よりも軸上像高における集光点Ｉａから走査終了側の最軸外像高における集光点Ｉａまでの間隔５１４のほうが長くなる。
すなわち、この場合、集光点Ｉｂに対して集光点Ｉａの方が、相対的に画像中心から遠ざかる方向に位置ずれが生じている。

図６は、本実施形態に係る光走査装置１０及び比較例の光走査装置それぞれによるジッターの像高依存性を示している。
ここで、比較例の光走査装置では、入射光学系によって光源から出射した複数の光束は平行光束に変換されており、それ以外の構成については、本実施形態に係る光走査装置１０と同様である。

図６に示されているように、比較例の光走査装置に比べて、本実施形態に係る光走査装置１０のほうがジッターが小さいことがわかる。
これは、本実施形態に係る光走査装置１０では、偏向面に光束を斜入射させることによって生じる偏向器斜入射ジッターを、集束光束に変換することによって生じる集束度ジッターで低減（実質的に相殺）できているためである。
具体的には、本実施形態に係る光走査装置１０では、以下の条件式を満たしていることにより、ジッターを低減することができる。
（θ１×θ２）×ｍ１＞０

なお、本実施形態に係る光走査装置１０では、アナモコリメータレンズ１０３を用いて集束光束に変換しているが、回転対称な球面レンズ或いは非球面レンズを用いて集束光束に変換しても本実施形態と同様の効果を得ることができる。

［第二実施形態］
図７（ａ）は、第二実施形態に係る光走査装置２０の主走査断面図を示している。図７（ｂ）は、第二実施形態に係る光走査装置２０が備える入射光学系７１１の副走査断面図を示している。図７（ｃ）は、第二実施形態に係る光走査装置２０が備える結像光学系７１２の副走査断面図を示している。
本実施形態に係る光走査装置２０では、光源１０１、アナモコリメータレンズ１０３、第１のｆθレンズ１０７及び第２のｆθレンズ１０８の代わりに光源７０１、アナモコリメータレンズ７０３、第１のｆθレンズ７０７及び第２のｆθレンズ７０８を用いている以外は、第一実施形態に係る光走査装置１０と同一の構成であるため、同一の符番を付して、説明を省略する。

光源７０１としては、複数の発光点を有する半導体レーザー等が用いられる。
アナモコリメータレンズ７０３は、副走査絞り１０２を通過した複数の光束を主走査断面内では発散光束に、且つ副走査断面内では平行光束に変換する。なおここで、平行光束とは、厳密な平行光束だけでなく、弱発散光束や弱収束光束等の略平行光束を含むものとする。

なお、副走査絞り１０２、アナモコリメータレンズ７０３、シリンドリカルレンズ１０４及び主走査絞り１０５によって、本実施形態に係る光走査装置２０の入射光学系７１１が構成される。

本実施形態に係る光走査装置２０の入射光学系７１１の光軸は、副走査断面内において主走査断面に対して３．０度の角度をなしている。

第１のｆθレンズ７０７及び第２のｆθレンズ７０８は、主走査断面内と副走査断面内とで異なるパワーを有するアナモフィック結像レンズであり、偏向器１０６によって偏向された複数の光束を被走査面７１０上に集光（導光）する。

なお、第１のｆθレンズ７０７及び第２のｆθレンズ７０８によって、本実施形態に係る光走査装置２０の結像光学系７１２が構成される。

光源７０１の複数の発光点から出射した複数の光束は、副走査絞り１０２を通過し、アナモコリメータレンズ７０３によって主走査断面内では発散光束に、且つ副走査断面内では平行光束に変換される。
そして、変換された複数の光束は、シリンドリカルレンズ１０４によって副走査方向に集光され、主走査絞り１０５を通過し、副走査方向下側から偏向器１０６の偏向面１０６ａに入射する。
光源７０１から出射し、偏向器１０６の偏向面１０６ａに入射した複数の光束は、偏向器１０６により偏向走査された後、結像光学系７１２によって被走査面７１０上に集光され、被走査面７１０を等速度で走査する。
なお、偏向器１０６は図中Ａ方向に回転しているため、偏向走査された複数の光束は、被走査面７１０を図中Ｂ方向に走査する。

なお、本実施形態では、被走査面として、感光ドラム７１０を用いている。
また、感光ドラム７１０上における副走査方向の露光分布の作成は、主走査露光毎に、感光ドラム７１０を副走査方向に回転させることによって達成している。

次に、本実施形態に係る光走査装置２０の入射光学系７１１及び結像光学系７１２の諸特性を以下の表３及び表４に示す。

なお、表３及び表４において、各レンズ面と光軸との交点を原点としたときの、光軸方向、主走査断面内において光軸と直交する軸、及び副走査断面内において光軸と直交する軸をそれぞれ、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸としている。また、表４において、「Ｅ−ｘ」は、「×１０^−ｘ」を意味している。

本実施形態に係る光走査装置２０のアナモコリメータレンズ７０３は、アナモフィックな形状を有しており、その形状は、上記の式（１）で表される。
また、第１のｆθレンズ７０７及び第２のｆθレンズ７０８の各レンズ面の主走査断面内における非球面形状（母線形状）は、上記の式（２）で表される。
また、第１のｆθレンズ７０７及び第２のｆθレンズ７０８の各レンズ面の副走査断面内における非球面形状（子線形状）は、上記の式（３）で表される。
また、第１のｆθレンズ７０７及び第２のｆθレンズ７０８の各レンズ面の副走査断面内における曲率半径ｒ’は、レンズ面のｙ座標に従って、上記の式（４）のように連続的に変化する。

次に、本実施形態に係る光走査装置２０における効果について説明する。
まず、本実施形態に係る光走査装置２０における集束度について説明する。

図８は、本実施形態に係る光走査装置２０における集束度を説明するための図である。
図８において、８０１は、結像光学系７１２の後側主平面を示しており、８０２は、結像光学系７１２に非平行光束が入射した場合の集光点を示している。
また、８０３は、結像光学系７１２に平行光束が入射した場合の集光点を示している。

このとき、後側主平面８０１から結像光学系７１２による非平行光束及び平行光束の集光点８０２及び８０３までの距離のそれぞれをＳｋ２及びｆ２とすると、集束度ｍ２は、上記の式（５）と同様に、以下の式（６）で与えられる。
ｍ２＝１−Ｓｋ２／ｆ２ ・・・（６）

本実施形態に係る光走査装置２０では、光源７０１から出射した光束は発散光束に変換されているため、Ｓｋ２＞ｆ２であり、ｍ２＜０となる。

次に、本実施形態に係る光走査装置２０において偏向器斜入射ジッターが発生している様子を説明する。

図９（ａ）は、偏向器１０６側から見た光源７０１の複数の発光点の配置を示している。図９（ｂ）は、本実施形態に係る光走査装置２０の入射光学系７１１の副走査断面図を示している。図９（ｃ）は、光源７０１の複数の発光点から出射した各光束の軌跡を模式的に示している。図９（ｄ）は、本実施形態に係る光走査装置２０の主走査断面図を示している。

図９（ａ）、（ｃ）及び（ｄ）において、Ｌａ及びＬｂは、光源７０１における複数の発光点のうち互いに最も離れた二つの発光点である。
そして、θ３は、光源７０１の複数の発光点を含む第２の平面（ｙｚ断面）内において、発光点ＬａとＬｂとを結んだ直線が主走査断面に対してなす鋭角側の角度である。なお、角度θ３については、偏向器１０６側から光源７０１を見たときに反時計回りを正と定義している。
また、θ４は、入射光学系７１１に関する副走査断面内において入射光学系７１１の光軸が主走査断面に対してなす鋭角側の角度である。なお、角度θ４については、被走査面１１０側から入射光学系７１１に関する副走査断面を見たときに反時計回りを正と定義している。

また、図７（ｃ）及び（ｄ）において、Ｉａ及びＩｂはそれぞれ、発光点Ｌａ及びＬｂから出射した光束の被走査面７１０上における集光点である。
そして、９１１及び９１２はそれぞれ、集光点Ｉａ及びＩｂに関する軸上像高から最軸外像高までの距離である。

本実施形態に係る光走査装置２０では、図９（ａ）に示されているように、発光点Ｌａ及びＬｂを結んだ直線が主走査断面に対してなす角度θ３は−５．０度である。
また、図９（ｂ）に示されているように、入射光学系７１１に関する副走査断面内において入射光学系７１１の光軸が主走査断面に対してなす角度θ４は、＋３．０度である。
従って、本実施形態に係る光走査装置２０では、以下の関係が満たされている。
θ３×θ４＜０

また、図９（ｃ）に示されているように、発光点Ｌａ及びＬｂから出射した光束はそれぞれ、結像光学系７１２に含まれる第１のｆθレンズ７０７及び第２のｆθレンズ７０８上の互いに異なる高さを通過している。
上述したように、副走査断面内における曲率半径が主走査方向に応じて変化しているレンズ面に各光束が互いに異なる高さで入射すると、各光束に対する主走査断面内の倍率が互いに異なることとなる。
その結果、被走査面７１０上での各光束の集光点間の間隔が異なることとなる。

具体的には、本実施形態に係る光走査装置２０では、被走査面７１０上における集光点Ｉｂに関する軸上像高から最軸外像高までの距離９１２が、被走査面７１０上における集光点Ｉａに関する軸上像高から最軸外像高までの距離９１１より短くなっている。
すなわち、集光点Ｉｂに対して集光点Ｉａの方が、相対的に画像中心から遠ざかる方向に位置ずれが生じている。

次に、本実施形態に係る光走査装置２０において集束度ジッターが発生する様子について説明する。

図１０（ａ）は、光源７０１の発光点Ｌａ及びＬｂそれぞれから出射した光束が被走査面７１０の走査開始側に偏向される様子を示している。図１０（ｂ）は、光源７０１の発光点Ｌａ及びＬｂそれぞれから出射した光束が被走査面７１０の走査終了側に偏向される様子を示している。図１０（ｃ）は、本実施形態に係る光走査装置２０において集束度ジッターが発生している様子を示している。

図１０（ａ）及び（ｂ）において、１００１及び１００２はそれぞれ、発光点Ｌａ及びＬｂから出射した光束である。
また、１００３及び１００４はそれぞれ、光束１００１及び１００２が偏向器１０６の偏向面１０６ａによって被走査面７１０の走査開始側に偏向された光束である。なお、光束１００３及び１００４が互いに平行になるように、光束１００１及び１００２それぞれが入射するときの偏向面１０６ａの角度が互いに異なっていることに注意されたい。
また、１００７及び１００８はそれぞれ、光束１００１及び１００２が偏向器１０６の偏向面１０６ａによって被走査面７１０の走査終了側に偏向された光束である。なお、光束１００７及び１００８が互いに平行になるように、光束１００１及び１００２それぞれが入射するときの偏向面１０６ａの角度が互いに異なっていることに注意されたい。
また、図１０（ｃ）において、１００５及び１００６はそれぞれ、光束１００１及び１００２が偏向器１０６の偏向面１０６ａによって被走査面７１０の軸上像高に偏向された光束である。なお、光束１００５及び１００６が互いに平行になるように、光束１００１及び１００２それぞれが入射するときの偏向面１０６ａの角度が互いに異なっていることに注意されたい。

また、図１０（ｃ）において、１０１０は、偏向された光束１００３及び１００４それぞれの被走査面７１０上における集光点Ｉａ及びＩｂの間の距離である。
１０１１は、偏向された光束１００５及び１００６それぞれの被走査面７１０上における集光点Ｉａ及びＩｂの間の距離である。
１０１２は、偏向された光束１００７及び１００８それぞれの被走査面７１０上における集光点Ｉａ及びＩｂの間の距離である。

また、図１０（ｃ）において、１０１３は、被走査面７１０の軸上像高における集光点Ｉａから走査終了側の最軸外像高における集光点Ｉａまでの距離である。
１０１４は、被走査面７１０の軸上像高における集光点Ｉｂから走査終了側の最軸外像高における集光点Ｉｂまでの距離である。

本実施形態に係る光走査装置２０では、入射光学系７１１によって光源７０１から出射した複数の光束は発散光束に変換されているため、平行光束が集光する位置８０３よりも被走査面側の集光点８０２に集光される。

また、本実施形態に係る光走査装置２０では、図１０（ａ）及び（ｂ）に示されているように、同一方向に偏向されて結像光学系７１２に入射する複数の光束の間の間隔が、偏向器１０６の角度、すなわち偏向方向に応じて異なる。
そして、同一方向に偏向されて結像光学系７１２に入射する複数の光束の間の間隔が、偏向方向に応じて異なると、集光点８０２における各光束の集光点の間の間隔が異なるため、ジッターが発生する。
具体的には、本実施形態に係る光走査装置２０では、走査開始側における集光点Ｉａ及びＩｂの間の間隔１０１０が最も狭く、走査終了側における集光点Ｉａ及びＩｂの間の間隔１０１２が最も広くなる。
その結果、軸上像高における集光点Ｉｂから走査終了側の最軸外像高における集光点Ｉｂまでの間隔１０１４よりも軸上像高における集光点Ｉａから走査終了側の最軸外像高における集光点Ｉａまでの間隔１０１３のほうが短くなる。
すなわち、この場合、集光点Ｉｂに対して集光点Ｉａの方が、相対的に画像中心に近づく方向に位置ずれが生じている。

図１１は、本実施形態に係る光走査装置２０及び比較例の光走査装置それぞれによるジッターの像高依存性を示している。
ここで、比較例の光走査装置では、入射光学系によって光源から出射した複数の光束は平行光束に変換されており、それ以外の構成については、本実施形態に係る光走査装置２０と同様である。

図１１に示されているように、比較例の光走査装置に比べて、本実施形態に係る光走査装置２０のほうがジッターが小さいことがわかる。
これは、本実施形態に係る光走査装置２０では、偏向面に光束を斜入射させることによって生じる偏向器斜入射ジッターを、発散光束に変換することによって生じる集束度ジッターで低減（実質的に相殺）できているためである。
具体的には、本実施形態に係る光走査装置２０では、以下の条件式を満たしていることにより、ジッターを低減することができる。
（θ３×θ４）×ｍ２＞０

なお、本実施形態に係る光走査装置２０では、アナモコリメータレンズ７０３を用いて発散光束に変換しているが、回転対称な球面レンズ或いは非球面レンズを用いて発散光束に変換しても本実施形態と同様の効果を得ることができる。

［第三実施形態］
図１２（ａ）及び（ｂ）はそれぞれ、第三実施形態に係る光走査装置３０の一部主走査断面図を示している。図１２（ｃ）は、第三実施形態に係る光走査装置３０が備える第１及び第２の入射光学系１３１１ａ及び１３１１ｂの副走査断面図を示している。図１２（ｄ）は、第三実施形態に係る光走査装置３０が備える第１及び第２の結像光学系１３１２ａ及び１３１２ｂの副走査断面図を示している。

本実施形態に係る光走査装置３０は、第１及び第２の光源１３０１ａ及び１３０１ｂ、第１及び第２の副走査絞り１３０２ａ及び１３０２ｂ、及び第１及び第２のアナモコリメータレンズ１３０３ａ及び１３０３ｂを備えている。また、本実施形態に係る光走査装置３０は、第１及び第２のシリンドリカルレンズ１３０４ａ及び１３０４ｂ、及び主走査絞り１３０５を備えている。また、光走査装置３０は、偏向器１３０６、第１のｆθレンズ１３０７、第２のｆθレンズ１３０８ａ及び１３０８ｂ、及び反射部材１３１５、１３１６、１３１７及び１３１８を備えている。

なお、第１の光源１３０１ａ、第１の副走査絞り１３０２ａ、第１のアナモコリメータレンズ１３０３ａ、第１のシリンドリカルレンズ１３０４ａ、及び主走査絞り１３０５はそれぞれ、第一実施形態に係る光走査装置１０に設けられている光源１０１、副走査絞り１０２、アナモコリメータレンズ１０３、シリンドリカルレンズ１０４、及び主走査絞り１０５と同一のものである。
また、偏向器１３０６、第１のｆθレンズ１３０７、第２のｆθレンズ１３０８ａ、及び反射部材１３１５はそれぞれ、第１実施形態に係る光走査装置１０に設けられている偏向器１０６、第１のｆθレンズ１０７、第２のｆθレンズ１０８、及び反射部材１１５と同一のものである。

また、第２の光源１３０１ｂ、第２の副走査絞り１３０２ｂ、第２のアナモコリメータレンズ１３０３ｂ、及び第２のシリンドリカルレンズ１３０４ｂはそれぞれ、第一実施形態に係る光走査装置１０に設けられている光源１０１、第二実施形態に係る光走査装置２０に設けられている副走査絞り１０２、アナモコリメータレンズ７０３、及びシリンドリカルレンズ１０４と同一のものである。
さらに、第２のｆθレンズ１３０８ｂ、及び反射部材１３１６、１３１７及び１３１８はそれぞれ、第二実施形態に係る光走査装置２０に設けられている第２のｆθレンズ７０８、及び反射部材１１５と同一のものである。

なお、第１の副走査絞り１３０２ａ、第１のアナモコリメータレンズ１３０３ａ、第１のシリンドリカルレンズ１３０４ａ及び主走査絞り１３０５によって、本実施形態に係る光走査装置３０の第１の入射光学系１３１１ａが構成される。
また、第２の副走査絞り１３０２ｂ、第２のアナモコリメータレンズ１３０３ｂ、第２のシリンドリカルレンズ１３０４ｂ及び主走査絞り１３０５によって、本実施形態に係る光走査装置３０の第２の入射光学系１３１１ｂが構成される。
また、第１のｆθレンズ１３０７及び第２のｆθレンズ１３０８ａによって、本実施形態に係る光走査装置３０の第１の結像光学系１３１２ａが構成される。
さらに、第１のｆθレンズ１３０７及び第２のｆθレンズ１３０８ｂによって、本実施形態に係る光走査装置３０の第２の結像光学系１３１２ｂが構成される。
すなわち、第１のｆθレンズ１３０７は、第１の結像光学系１３１２ａと第２の結像光学系１３１２ｂとで共用されている。換言すると、第１のｆθレンズ１３０７は、第１及び第２の光源１３０１ａ及び１３０１ｂからの光束が通過する共通の結像光学素子である。

本実施形態に係る光走査装置３０の第１の入射光学系１３１１ａの光軸は、副走査断面内において主走査断面に対して＋３．０度の角度をなしている。
また、本実施形態に係る光走査装置３０の第２の入射光学系１３１１ｂの光軸は、副走査断面内において主走査断面に対して−３．０度の角度をなしている。

第１の光源１３０１ａの複数の発光点から出射した複数の光束は、第１の副走査絞り１３０２ａを通過し、第１のアナモコリメータレンズ１３０３ａによって主走査断面内では集束光束に、且つ副走査断面内では平行光束に変換される。なおここで、平行光束とは、厳密な平行光束だけでなく、弱発散光束や弱収束光束等の略平行光束を含むものとする。
そして、変換された複数の光束は、第１のシリンドリカルレンズ１３０４ａによって副走査方向に集光され、主走査絞り１３０５を通過し、副走査方向下側から偏向器１３０６の偏向面１３０６ａに入射する。
第１の光源１３０１ａから出射し、偏向器１３０６の偏向面１３０６ａに入射した複数の光束は、偏向器１３０６により偏向走査された後、第１の結像光学系１３１２ａによって第１の被走査面１３１０ａ上に集光され、第１の被走査面１３１０ａを等速度で走査する。
なお、偏向器１３０６は図中Ａ方向に回転しているため、偏向走査された複数の光束は、第１の被走査面１３１０ａを図中Ｂ方向に走査する。

また、第２の光源１３０１ｂの複数の発光点から出射した複数の光束は、第２の副走査絞り１３０２ｂを通過し、第２のアナモコリメータレンズ１３０３ｂによって主走査断面内では発散光束に、且つ副走査断面内では平行光束に変換される。なおここで、平行光束とは、厳密な平行光束だけでなく、弱発散光束や弱収束光束等の略平行光束を含むものとする。
そして、変換された複数の光束は、第２のシリンドリカルレンズ１３０４ｂによって副走査方向に集光され、主走査絞り１３０５を通過し、副走査方向上側から偏向器１３０６の偏向面１３０６ａに入射する。
第２の光源１３０１ｂから出射し、偏向器１３０６の偏向面１３０６ａに入射した複数の光束は、偏向器１３０６により偏向走査された後、第２の結像光学系１３１２ｂによって第２の被走査面１３１０ｂ上に集光され、第２の被走査面１３１０ｂを等速度で走査する。
なお、偏向器１３０６は図中Ａ方向に回転しているため、偏向走査された複数の光束は、第２の被走査面１３１０ｂを図中Ｂ方向に走査する。

なお、本実施形態では、第１及び第２の被走査面１３１０ａ及び１３１０ｂとして、第１及び第２の感光ドラム１３１０ａ及び１３１０ｂを用いている。
また、第１及び第２の感光ドラム１３１０ａ及び１３１０ｂ上における副走査方向の露光分布の作成は、主走査露光毎に、第１及び第２の感光ドラム１３１０ａ及び１３１０ｂを副走査方向に回転させることによって達成している。

次に、本実施形態に係る光走査装置３０の第２の入射光学系１３１１ｂ及び第２の結像光学系１３１２ｂの諸特性を以下の表５及び表６に示す。
なお、第１の入射光学系１３１１ａ及び第１の結像光学系１３１２ａはそれぞれ、第一実施形態に係る光走査装置１０の入射光学系１１１及び結像光学系１１２と同一であるため、上記の表１及び表２を参照されたい。

なお、表５及び表６において、各レンズ面と光軸との交点を原点としたときの、光軸方向、主走査断面内において光軸と直交する軸、及び副走査断面内において光軸と直交する軸をそれぞれ、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸としている。また、表６において、「Ｅ−ｘ」は、「×１０^−ｘ」を意味している。

本実施形態に係る光走査装置３０の第２のアナモコリメータレンズ１３０３ｂは、アナモフィックな形状を有しており、その形状は、上記の式（１）で表される。
また、第１のｆθレンズ１３０７及び第２のｆθレンズ１３０８ｂの各レンズ面の主走査断面内における非球面形状（母線形状）は、上記の式（２）で表される。
また、第１のｆθレンズ１３０７及び第２のｆθレンズ１３０８ｂの各レンズ面の副走査断面内における非球面形状（子線形状）は、上記の式（３）で表される。
また、第１のｆθレンズ１３０７及び第２のｆθレンズ１３０８ｂの各レンズ面の副走査断面内における曲率半径ｒ’は、レンズ面のｙ座標に従って、上記の式（４）のように連続的に変化する。

本実施形態に係る光走査装置３０の第１の光源１３０１ａは、第一実施形態に係る光走査装置１０の光源１０１と同一であるため、θ１＞０である。また、第１の入射光学系１３１１ａの光軸は、第１の入射光学系１３１１ａに関する副走査断面内において主走査断面に対して＋３．０度の角度をなしているため、θ２＞０である。さらに、第１の入射光学系１３１１ａは、第１の光源１３０１ａから出射した複数の光束を集束光束に変換しているため、ｍ１＞０である。
一方、本実施形態に係る光走査装置３０の第２の光源１３０１ｂは、第一実施形態に係る光走査装置１０の光源１０１と同一であるため、θ３＞０である。また、第２の入射光学系１３１１ｂの光軸は、第２の入射光学系１３１１ｂに関する副走査断面内において主走査断面に対して−３．０度の角度をなしているため、θ４＜０である。さらに、第２の入射光学系１３１１ｂは、第２の光源１３０１ｂから出射した複数の光束を発散光束に変換しているため、ｍ２＜０である。
従って、第１の入射光学系１３１１ａ及び第２の入射光学系１３１１ｂにおいて、（θ１×θ２）×ｍ１＞０且つ（θ３×θ４）×ｍ２＞０が満たされており、第一及び第二実施形態と同様に、ジッターを低減することができる。

図１３は、本実施形態に係る光走査装置３０による第１及び第２の被走査面１３１０ａ及び１３１０ｂ上におけるジッターの像高依存性を示している。

図１３に示されているように、第一及び第二実施形態に係る光走査装置１０及び２０と同様に、本実施形態に係る光走査装置３０においてもジッターを十分に低減（実質的に相殺）できていることがわかる。

なお、本実施形態に係る光走査装置３０では、第１の結像光学系１３１２ａの光路長、すなわち偏向器１３０６の偏向面１３０６ａから第１の被走査面１３１０ａまでの光路長は、第２の結像光学系１３１２ｂの光路長、すなわち偏向器１３０６の偏向面１３０６ａから第２の被走査面１３１０ｂまでの光路長より短い。
そのため、図２及び図８の議論から、本実施形態に係る光走査装置３０のように、第１及び第２の光源１３０１ａ及び１３０１ｂから出射した複数の光束をそれぞれ、第１及び第２の入射光学系１３１１ａ及び１３１１ｂによって集束光束及び発散光束に変換することが好ましい。
なお、（θ１×θ２）×ｍ１＞０且つ（θ３×θ４）×ｍ２＞０を満たしていれば、これが逆であっても構わない。
また、（θ１×θ２）×ｍ１＞０且つ（θ３×θ４）×ｍ２＞０を満たすように、θ１乃至θ４を調整すれば、第１及び第２の入射光学系１３１１ａ及び１３１１ｂが共に集束光学系又は発散光学系でも構わない。

また、光路長が長い偏向器１３０６から第２の被走査面１３１０ｂまでの光路上に配置される反射部材の数は、図１２（ｄ）に示されているように、光路長が短い偏向器１３０６から第１の被走査面１３１０ａまでの光路上に配置される反射部材の数よりも多くすることが、光走査装置３０の高さを低くするためには好ましい。
さらに、第２のｆθレンズ１３０８ａ及び１３０８ｂの面形状は互いに異なるが、それぞれ偏向器１０６から略同一の位置に配置されているため、一体で形成することにより、第２のｆθレンズの低サイズ化及び低コスト化が可能である。

［画像形成装置］
図１４は、第三実施形態に係る光走査装置が搭載されたカラー画像形成装置９０の要部副走査断面図である。

画像形成装置９０は、２つの第三実施形態に係る光走査装置１１及び１２を各々並行して並べて、像担持体である各感光ドラム面上に画像情報を記録するタンデムタイプのカラー画像形成装置である。
画像形成装置９０は、第三実施形態に係る光走査装置１１、１２、像担持体としての感光ドラム（感光体）２３、２４、２５、２６及び現像器１５、１６、１７、１８を備えている。また、画像形成装置９０は、搬送ベルト９１、プリンタコントローラ９３及び定着器９４を備えている。

画像形成装置９０には、パーソナルコンピュータ等の外部機器９２から出力されたＲ（レッド）、Ｇ（グリーン）、Ｂ（ブルー）の各色信号（コードデータ）が入力される。入力された色信号は、画像形成装置９０内のプリンタコントローラ９３によって、Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）、Ｋ（ブラック）の各画像データ（ドットデータ）に変換される。変換された各画像データはそれぞれ、光走査装置１１及び１２に入力される。そして、光走査装置１１及び１２からはそれぞれ、各画像データに応じて変調された光ビーム５９、６０、６１、６２が射出され、これらの光ビームによって感光ドラム２３、２４、２５、２６の感光面が露光される。

感光ドラム２３、２４、２５、２６の表面を一様に帯電せしめる帯電ローラ（不図示）が表面に当接するように設けられている。そして、帯電ローラによって帯電された感光ドラム２３、２４、２５、２６の表面に、光走査装置１１及び１２によって光ビーム５９、６０、６１、６２が照射されるようになっている。

上で述べたように、光ビーム５９、６０、６１、６２は各色の画像データに基づいて変調されており、光ビーム５９、６０、６１、６２を照射することによって感光ドラム２３、２４、２５、２６の表面に静電潜像が形成される。形成された静電潜像は、感光ドラム２３、２４、２５、２６に当接するように配設された現像器１５、１６、１７、１８によってトナー像として現像される。

現像器１５乃至１８によって現像されたトナー像は、感光ドラム２３乃至２６に対向するように配設された不図示の転写ローラ（転写器）によって、搬送ベルト９１上を搬送される不図示の用紙（被転写材）上に多重転写され、１枚のフルカラー画像が形成される。

以上のようにして、未定着トナー像が転写された用紙は、さらに感光ドラム２３、２４、２５、２６後方（図１４において左側）の定着器９４へと搬送される。定着器９４は、内部に定着ヒータ（不図示）を有する定着ローラとこの定着ローラに圧接するように配設された加圧ローラとで構成されている。転写部から搬送されてきた用紙は、定着ローラと加圧ローラの圧接部にて加圧しながら加熱されることにより、用紙上の未定着トナー像が定着される。さらに定着ローラの後方には不図示の排紙ローラが配設されており、排紙ローラは定着された用紙を画像形成装置９０の外に排出せしめる。

カラー画像形成装置９０は、２つの光走査装置１１及び１２を並べ、Ｃ、Ｍ、Ｙ、Ｋの各色に対応し、並行して感光ドラム２３、２４、２５、２６の感光面上に画像信号（画像情報）を記録し、カラー画像を高速に印字するものである。
外部機器９２としては、例えばＣＣＤセンサを備えたカラー画像読取装置が用いられても良い。この場合には、このカラー画像読取装置と、カラー画像形成装置９０とで、カラーデジタル複写機が構成される。

また、図１５に示されているように、カラー画像形成装置９０において、感光ドラムの感光面に光ビームを斜入射させてドラム斜入射ジッターを発生させることによって、偏向器斜入射ジッターを低減（実質的に相殺）させることもできる。

図１５に示されているように、例えば、光走査装置１１の第１の光源１３０１ａから出射し、第１の入射光学系１３１１ａを通過し、偏向器１３０６の偏向面１３０６ａに入射した複数の光束が、偏向器１３０６により偏向走査された後、第１の結像光学系１３１２ａによって感光ドラム２３の感光面上に集光されるとする。
ここで、第１の結像光学系１３１２ａの光軸を含み主走査断面に平行な第３の平面と、感光ドラム２３の感光面と第３の平面との交線上における感光面の法線とが、互いに非平行であるように、第１の光源１３０１ａから出射した複数の光束は、感光ドラム２３の感光面上に斜入射している。

ここで、第１の光源１３０１ａにおける複数の発光点のうち互いに最も離れた２つの発光点Ｌａ及びＬｂから出射した光束の感光ドラム２３の感光面上における集光点をＩａ及びＩｂとする。
そして、φは、感光ドラム２３の感光面と第３の平面との交線上における法線が主走査断面に対してなす鋭角側の角度である。なお、角度φについては、図１５のように、光束の進行方向を左から右に描いたときの時計回りを正とする。

このとき、図１５に示されているようにφ＞０であり、図４（ｄ）に示されているように、集光点Ｉａは、集光点Ｉｂに対して副走査方向上側になる。
その結果、感光ドラム２３の感光面上における各光束の集光点間の間隔が異なることとなる。

具体的には、感光ドラム２３の感光面上における集光点Ｉｂに関する軸上像高から最軸外像高までの距離１２０１が、感光ドラム２３の感光面上における集光点Ｉａに関する軸上像高から最軸外像高までの距離１２０１より短くなっている。
すなわち、集光点Ｉｂに対して集光点Ｉａの方が、相対的に画像中心から遠ざかる方向に位置ずれが生じている。
この位置ズレ量は、角度φが大きくなるほど、大きくなる。

このドラム斜入射ジッターを用いて、偏向器斜入射ジッターを低減（実質的に相殺）させることもできる。

なお、カラー画像形成装置９０では、２つの第三実施形態に係る光走査装置を用いているが、この代わりに、４つの第一及び第二実施形態のいずれかに係る光走査装置を用いても構わない。
また、本実施形態に係る画像形成装置９０の記録密度は、特に限定されない。しかしながら、記録密度が高くなればなるほど、高画質が求められることを考えると、１２００ｄｐｉ以上の画像形成装置において、第一乃至第三実施形態の効果はより発揮される。

１０ 光走査装置
１０１ 光源（第１の光源）
１０６ 偏向器
１１０ 被走査面（第一の被走査面）
１１１ 入射光学系（第１の入射光学系）
１１２ 結像光学系（第１の結像光学系）
Ｌａ、Ｌｂ 発光点（複数の発光点）

Claims (8)

1. 複数の発光点を含む第１の光源からの複数の光束を偏向して第１の被走査面を主走査方向に走査する偏向器と、
   該偏向器によって偏向された複数の光束を前記第１の被走査面に導光する第１の結像光学系と、
   前記第１の光源からの複数の光束を前記偏向器に入射させる第１の入射光学系とを有し、
   前記第１の光源において互いに最も離れた二つの発光点を通る直線と主走査断面とのなす角度をθ１、前記第１の入射光学系の光軸と主走査断面とのなす角度をθ２、前記第１の結像光学系の後側主平面から前記第１の結像光学系による非平行光束及び平行光束の集光点までの距離のそれぞれをＳｋ１及びｆ１とし、ｍ１＝１−Ｓｋ１／ｆ１とするとき、
   （θ１×θ２）×ｍ１＞０
   なる条件を満たすことを特徴とする光走査装置。
2. 前記偏向器によって偏向された複数の光束を第２の被走査面に導光する第２の結像光学系と、
   複数の発光点を含む第２の光源からの複数の光束を前記偏向器に入射させる第２の入射光学系とを有し、
   前記偏向器は、前記第２の光源からの複数の光束を偏向して前記第２の被走査面を主走査方向に走査し、
   前記第２の光源において互いに最も離れた二つの発光点を通る直線と主走査断面とのなす角度をθ３、前記第２の入射光学系の光軸と主走査断面とのなす角度をθ４、前記第２の結像光学系の後側主平面から前記第２の結像光学系による非平行光束及び平行光束の集光点までの距離のそれぞれをＳｋ２及びｆ２とし、ｍ２＝１−Ｓｋ２／ｆ２とするとき、
   （θ３×θ４）×ｍ２＞０
   ｍ１×ｍ２＜０
   なる条件を満たすことを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
3. 前記偏向器から前記第１の被走査面までの光路長は、前記偏向器から前記第２の被走査面までの光路長より短く、且つ、ｍ１＞ｍ２なる条件を満たすことを特徴とする請求項２に記載の光走査装置。
4. 前記偏向器からの複数の光束を反射させる反射部材を有し、前記偏向器から前記第１の被走査面までの光路上に配置される反射部材の数は、前記偏向器から前記第２の被走査面までの光路上に配置される反射部材の数よりも少ないことを特徴とする請求項２または３に記載の光走査装置。
5. 前記第１及び第２の結像光学系は、前記第１及び第２の光源からの光束が通過する共通の結像光学素子を有することを特徴とする請求項２乃至４のいずれか一項に記載の光走査装置。
6. 請求項１乃至５のいずれか一項に記載の光走査装置と、該光走査装置により被走査面に形成される静電潜像をトナー像として現像する現像器と、現像された前記トナー像を被転写材に転写する転写器と、転写された前記トナー像を前記被転写材に定着させる定着器と、を備えることを特徴とする画像形成装置。
7. 請求項１乃至５のいずれか一項に記載の光走査装置と、外部機器から出力されたコードデータを画像信号に変換して前記光走査装置に入力するプリンタコントローラと、を備えることを特徴とする画像形成装置。
8. 前記第１の結像光学系の光軸を含み前記主走査断面に平行な平面と、前記第１の被走査面に配置された感光体の感光面と該平面との交線上における前記感光面の法線とは、互いに非平行であることを特徴とする請求項６または７に記載の画像形成装置。

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