JP2019045225A - 画像生成方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 29
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims abstract description 11
- 235000019557 luminance Nutrition 0.000 description 14
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 5
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 4
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B21/00—Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant
- G01B21/02—Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant for measuring length, width, or thickness
- G01B21/04—Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant for measuring length, width, or thickness by measuring coordinates of points
- G01B21/045—Correction of measurements
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/261—Details
- H01J37/263—Contrast, resolution or power of penetration
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/26—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes
- G01B11/27—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes for testing the alignment of axes
- G01B11/272—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes for testing the alignment of axes using photoelectric detection means
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T5/00—Image enhancement or restoration
- G06T5/50—Image enhancement or restoration using two or more images, e.g. averaging or subtraction
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/22—Treatment of data
- H01J2237/221—Image processing
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/28—Scanning microscopes
- H01J2237/2809—Scanning microscopes characterised by the imaging problems involved
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/28—Scanning microscopes
- H01J2237/2813—Scanning microscopes characterised by the application
- H01J2237/2817—Pattern inspection
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Abstract
【解決手段】画像生成方法は、試料を電子ビームで走査して複数の画像を生成し、複数の画像の特定領域内での画像ドリフト量を計算し、画像ドリフト量から、連続的な画像ドリフト量を補間により計算し、連続的な画像ドリフト量から、複数の画像の各画素での画像ドリフト量を決定し、各画素での画像ドリフト量に基づいて、各画素の輝度を補正することで複数の画像を補正し、補正された複数の画像から合成画像を生成する。
【選択図】図2
Description
前記複数の画像を補正する工程は、各画素の位置に前記画像ドリフト量を加えることでシフト位置を求め、前記シフト位置にある画素の輝度を取得し、前記取得した輝度を、前記画像ドリフト量を加える前の前記位置の画素の輝度に割り当てることで、前記複数の画像を補正する工程であることを特徴とする。
図1は、走査電子顕微鏡を備えた画像生成システムの一実施形態を示す模式図である。図1に示すように、画像生成システムは、走査電子顕微鏡100と、走査電子顕微鏡の動作を制御するコンピュータ150とを備えている。走査電子顕微鏡100は、一次電子(荷電粒子)からなる電子ビームを発する電子銃111と、電子銃111から放出された電子ビームを集束する集束レンズ112、電子ビームをX方向に偏向するX偏向器113、電子ビームをY方向に偏向するY偏向器114、電子ビームを試料であるウェーハ124にフォーカスさせる対物レンズ115を有する。
111 電子銃
112 集束レンズ
113 X偏向器
114 Y偏向器
115 対物レンズ
116 レンズ制御装置
117 偏向制御装置
118 画像取得装置
120 試料チャンバー
121 XYステージ
122 ステージ制御装置
124 ウェーハ
130 二次電子検出器
131 反射電子検出器
140 ウェーハ搬送装置
150 コンピュータ
Claims (3)
- 試料を電子ビームで走査して複数の画像を生成し、
前記複数の画像の特定領域内での画像ドリフト量を計算し、
前記画像ドリフト量から、連続的な画像ドリフト量を補間により計算し、
前記連続的な画像ドリフト量から、前記複数の画像の各画素での画像ドリフト量を決定し、
各画素での画像ドリフト量に基づいて、各画素の輝度を補正することで前記複数の画像を補正し、
前記補正された複数の画像から合成画像を生成することを特徴とする画像生成方法。 - 前記合成画像は、前記補正された複数の画像の平均画像であることを特徴とする請求項1に記載の画像生成方法。
- 前記複数の画像を補正する工程は、各画素の位置に前記画像ドリフト量を加えることでシフト位置を求め、前記シフト位置にある画素の輝度を取得し、前記取得した輝度を、前記画像ドリフト量を加える前の前記位置の画素の輝度に割り当てることで、前記複数の画像を補正する工程であることを特徴とする請求項1または2に記載の画像生成方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017166401A JP7107653B2 (ja) | 2017-08-31 | 2017-08-31 | 画像生成方法 |
US16/116,700 US10614999B2 (en) | 2017-08-31 | 2018-08-29 | Image generation method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017166401A JP7107653B2 (ja) | 2017-08-31 | 2017-08-31 | 画像生成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019045225A true JP2019045225A (ja) | 2019-03-22 |
JP7107653B2 JP7107653B2 (ja) | 2022-07-27 |
Family
ID=65437937
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017166401A Active JP7107653B2 (ja) | 2017-08-31 | 2017-08-31 | 画像生成方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10614999B2 (ja) |
JP (1) | JP7107653B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7017437B2 (ja) * | 2018-03-06 | 2022-02-08 | Tasmit株式会社 | 反射電子のエネルギースペクトルを測定する装置および方法 |
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JP6190768B2 (ja) * | 2014-07-02 | 2017-08-30 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡装置およびそれを用いた撮像方法 |
-
2017
- 2017-08-31 JP JP2017166401A patent/JP7107653B2/ja active Active
-
2018
- 2018-08-29 US US16/116,700 patent/US10614999B2/en active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20190066971A1 (en) | 2019-02-28 |
US10614999B2 (en) | 2020-04-07 |
JP7107653B2 (ja) | 2022-07-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200805 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210521 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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