JP2019043943A - 1,3−ブタジエン及びアセトアルデヒドジエチルアセタールの製造方法 - Google Patents

1,3−ブタジエン及びアセトアルデヒドジエチルアセタールの製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】本発明は、1,3−ブタジエン合成反応において高価値のアセトアルデヒドジエチルアセタールを副生物として高い効率で合成することができ、かつ、経済的観点から、燃料として以外の実用的な用途が殆どない副生物である炭素数5以上の炭化水素の生成量を低減できる1,3−ブタジエン及びアセトアルデヒドジエチルアセタールの製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】0.3MPaG〜3MPaGの圧力下でエタノールを、ハフニウム、ジルコニウム、銅、亜鉛、タンタル、タングステン、マグネシウム、及びケイ素からなる群より選ばれる少なくとも1種の金属を含む触媒に接触させることを含む、1,3−ブタジエン及びアセトアルデヒドジエチルアセタールの製造方法。【選択図】なし

Description

本発明は、1,3−ブタジエン及びアセトアルデヒドジエチルアセタールの製造方法に関する。
1,3−ブタジエン等のブタジエンは、スチレン−ブタジエンゴム(SBR)等の原料として用いられている。従来、ブタジエンは石油からエチレンを合成するナフサクラッキングの際に副生するC4留分から精製されたものが使用されていた。しかし、シェールガスの利用量の増加に伴って石油の利用量が減少し、その結果、石油のナフサクラッキングで得られるブタジエンの生産量も減少している。そのため、1,3−ブタジエンを製造するための代替方法が求められている。
1,3−ブタジエンの製造方法としては、例えば、1−ブテンを原料とした酸化的脱水素反応により1,3−ブタジエンを得る方法が知られている。しかし、該方法では、生成物中に1,3−ブタジエンと分離が困難な1−ブテンが残存するため、精製過程が煩雑になり経済性が劣る。
ところで、近年では、石油から得られる化学工業原料に代えてバイオマス由来原料から誘導された化学工業原料が注目されており、1,3−ブタジエンについてもサトウキビやトウモロコシ等のバイオマス由来のバイオエタノールから製造することの重要度が増している。エタノールを原料として1,3−ブタジエンを製造する方法としては、例えば、特許文献1に記載の方法が提案されている。具体的には、特許文献1は、Hfと、Zr、Zn、Cuから選ばれる2種以上のさらなる触媒活性金属とを含む触媒を、エタノールを含むガスに接触させることによりブタジエンを得る方法を開示している。
また、エタノールから得られる他の有用な化合物として、アセトアルデヒドジエチルアセタールが知られている。アセトアルデヒドジエチルアセタールは、比較的新しいタイプの高級香料であり、酒類における重要な香料の一つである。更に、アセトアルデヒドジエチルアセタールは、医薬品、染料、プラスチック及びスパイスの合成や、有機合成におけるアルデヒド基の保護に広く使用されている。エタノールからアセトアルデヒドジエチルアセタールを合成する方法としては、例えば、反応媒体中、酸素分子または酸素分子含有ガスと、少なくとも1種の金属を主体とする固体酸化触媒との存在下、エタノールを酸化させることによってアセトアルデヒドジエチルアセタールを合成する方法(例えば、特許文献2参照。)が知られている。尚、ここで上記反応媒体は、水溶液中で6.3未満のpKaを示す、Pearson分類により酸とされる化合物を含有する気相を含む媒体である。エタノールからアセトアルデヒドジエチルアセタールを合成する方法の更なる例としては、イオン交換樹脂などを触媒として用い、エタノールとアセトアルデヒドから液相にてバッチ式でアセトアルデヒドジエチルアセタールを合成する方法(例えば、非特許文献1参照。)などが知られている。
国際公開第2014−199349号 特表2011−522014号公報
Applied Catalysis A: General, Volume 198, Issues 1−2, 15 May 2000, Pages L1-L4
しかしながら、従来の1,3−ブタジエンの製造方法では、副生物のうち、炭素数5以上の炭化水素が占める割合が高かった。この反応における炭素数5以上の炭化水素の多くは、経済的観点から、燃料以外の実用的な用途が殆どなく、廃棄されることもあり、産業上の利用価値が高いとは言い難いものである。従って、炭素数5以上の炭化水素の量は低減して、より産業上の利用価値の高い副生物の割合を高めることが望ましい。
そこで、本発明は、1,3−ブタジエン合成反応において高価値のアセトアルデヒドジエチルアセタールを副生物として高い効率で合成することができ、かつ、副生物中のアセトアルデヒドジエチルアセタール以外の炭素数5以上の炭化水素の割合を低減できる1,3−ブタジエン及びアセトアルデヒドジエチルアセタールの製造方法を提供することを目的とする。
本発明は、以下に関する。
[1]0.3MPaG〜3MPaGの圧力下でエタノールを、ハフニウム、ジルコニウム、銅、亜鉛、タンタル、タングステン、及びマグネシウムからなる群より選ばれる少なくとも1種の金属を含む触媒に接触させることを含む、1,3−ブタジエン及びアセトアルデヒドジエチルアセタールの製造方法。
[2]前記触媒がハフニウムを含む、[1]に記載の1,3−ブタジエン及びアセトアルデヒドジエチルアセタールの製造方法。
[3]1,3−ブタジエンの選択率が30%以上であり、かつ、アセトアルデヒドジエチルアセタールの選択率が10%以上である、[1]又は[2]に記載の1,3−ブタジエン及びアセトアルデヒドジエチルアセタールの製造方法。
[4]1,3−ブタジエンの選択率が20%以上であり、かつ、アセトアルデヒドジエチルアセタールの選択率が20%以上である、[1]又は[2]に記載の1,3−ブタジエン及びアセトアルデヒドジエチルアセタールの製造方法。
本発明の方法を実施するために用いることができる装置の一例を示した概略構成図である。
以下の用語の定義は、本明細書及び特許請求の範囲にわたって適用される。
「エタノール転化率」とは、原料化合物として用いたエタノールのモル数の内、他の化合物の合成に消費されたエタノールのモル数が占める割合(百分率)である。他の原料化合物の転化率についても同様である。
「1,3−ブタジエンの選択率」とは、触媒を用いた反応で消費された原料化合物のモル数のうち、1,3−ブタジエンへ変換された原料化合物のモル数が占める百分率を意味する。原料化合物のモル数とは、エタノールのみを用いる場合はそのモル数を意味し、エタノール以外の原料化合物(例えば、アセトアルデヒド)も併せて用いる場合はそれらの合計モル数を意味する。他の生成物の選択率についても同様である。
本発明の1,3−ブタジエン(以下、単に「ブタジエン」と称することもある。)及びアセトアルデヒドジエチルアセタール(以下、単に「アセタール」と称することもある。
)の製造方法は、エタノールを、0.3MPaG〜3MPaGの圧力下で後述する触媒に接触させることを含む方法である。
[触媒]
本発明において用いる触媒は、ハフニウム(Hf)、ジルコニウム(Zr)、銅(Cu)、亜鉛(Zn)、タンタル(Ta)、タングステン(W)、マグネシウム(Mg)及びケイ素(Si)からなる群より選ばれる少なくとも1種の金属を含む。前記触媒は、Hfを含むことが好ましい。Hfを含むことで、エタノールから高い選択率で1,3−ブタジエン及びアセタールを合成することができる。
また、本発明において用いる触媒は、上記した金属以外に、B、Ba、Ca及びCeからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を含有していても良い。
本発明で用いる触媒の好ましい態様の一つとして、成分(A):Cuと、成分(B):Znと、成分(C):Hfと、成分(D):Zr、Ta、W、Mg、Si、Ce、B、Ba及びCaからなる群から選ばれる1種以上と、を含む触媒が挙げられる。本発明で用いる触媒が触媒成分(活性成分)(A)〜(D)を含むことで、エタノールから高い選択率で1,3−ブタジエン及びアセタールを合成することができる。
本発明において用いる触媒の組成の具体例としては、下記(1)式で表される組成を挙げることができる。
Cu・Zn・Hf・M ・・・・(1)
ただし、(1)式中、Mは、Zr、Ta、W、Mg、Si、Ce、B、Ba及びCaからなる群から選ばれる1種以上の元素を表し、a、b、c及びdは各元素のモル比を表す。
(1)式中のa、b、c及びdに関しては、cを10とした場合にa、b及びdが以下の範囲内であることが好ましい。
(1)式中のaは、10〜0が好ましく、5〜0がより好ましい。aが前記範囲内であれば、高い選択率で1,3−ブタジエン及びアセタールを合成しやすい。
(1)式中のbは、10〜0.01が好ましく、5〜0.05がより好ましく、1〜0.1がさらに好ましい。bが前記範囲内であれば、高い選択率で1,3−ブタジエン及びアセタールを合成しやすい。
(1)式中のdは、10〜0が好ましく、5〜0がより好ましい。dが前記範囲内であれば、高い選択率で1,3−ブタジエン及びアセタールを合成しやすい。
前記触媒が成分(A)を含有する場合、成分(A)と成分(B)との質量比(A/B)は、100〜0.1が好ましく、10〜0.5がより好ましい。質量比(A/B)が前記範囲内であれば、高い選択率で1,3−ブタジエン及びアセタールを合成しやすい。
前記触媒が成分(A)を含有する場合、成分(A)と成分(C)との質量比(A/C)は、100〜0.1が好ましく、10〜0.5がより好ましい。質量比(A/C)が前記範囲内であれば、高い選択率で1,3−ブタジエン及びアセタールを合成しやすい。
前記触媒が成分(A)及び成分(D)を含有する場合、成分(A)と成分(D)との質量比(A/D)は、100〜0.1が好ましく、10〜0.5がより好ましい。質量比(A/D)が前記範囲内であれば、高い選択率で1,3−ブタジエン及びアセタールを合成しやすい。
前記触媒としては、1,3−ブタジエン及びアセタールの選択率がより高くなる点から、活性成分である成分(A)〜(D)が多孔質担体に担持された担持触媒が好ましい。多孔質担体の材質は、特に限定されず、例えば、シリカ、ジルコニア、チタニア、マグネシア等が挙げられる。
なかでも、比表面積や細孔直径が異なる種々の製品が市場で調達できることから、シリカが好ましい。
多孔質担体の大きさは特に限定されず、例えば、シリカにより形成された多孔質担体であれば、粒子径150〜2360μmのものが好ましい。多孔質担体の粒子径は、篩分けにより調節することができる。多孔質担体は、粒子径分布ができるだけ狭いものが好ましい。
多孔質担体における細孔容積の合計(全細孔容積)は、0.10〜2.50mL/gが好ましく、0.25〜1.50mL/gがより好ましい。全細孔容積が前記下限値以上であれば、充分な量の成分(A)〜(D)を担持しやすく、1,3−ブタジエン及びアセタールの選択率がより高くなる。全細孔容積が前記上限値以下であれば、エタノールと触媒との接触時間が充分となりやすく、1,3−ブタジエン及びアセタールの選択率が高くなりやすい。
なお、多孔質担体の全細孔容積は、水滴定法により測定される値である。水滴定法とは、多孔質担体の表面に水分子を吸着させ、分子の凝縮状態に基づいて細孔分布を測定する方法である。
多孔質担体の平均細孔直径は、0.1〜100nmが好ましく、1.0〜50nmがより好ましい。平均細孔直径が前記下限値以上であれば、充分な量の成分(A)〜(D)を担持しやすく、1,3−ブタジエン及びアセタールの選択率がより高くなる。平均細孔直径が前記上限値以下であれば、エタノールと触媒との接触時間が充分となりやすく、1,3−ブタジエン及びアセタールの選択率が高くなりやすい。
なお、平均細孔直径は、以下の手法で測定される値である。平均細孔直径が0.1nm以上10nm未満の場合、平均細孔直径は、全細孔容積とBET比表面積とから算出される。平均細孔直径が10nm以上の場合、平均細孔直径は、水銀圧入法ポロシメーターにより測定される。BET比表面積は、窒素を吸着ガスとし、その吸着量とその時の圧力から算出される値である。水銀圧入法は、水銀を加圧して多孔質担体の細孔に圧入させ、その圧力と圧入された水銀量から平均細孔直径を算出するものである。
多孔質担体の比表面積は、50〜1000m/gが好ましく、100〜750m/gがより好ましい。比表面積が前記下限値以上であれば、成分(A)〜(D)の担持量が充分となりやすく、1,3−ブタジエン及びアセタールの選択率がより高くなる。比表面積が前記上限値以下であれば、エタノールと触媒との接触時間が充分となりやすく、1,3−ブタジエン及びアセタールの選択率が高くなりやすい。
なお、前記比表面積は、窒素を吸着ガスとし、BET式ガス吸着法により測定されるBET比表面積である。
多孔質担体における全細孔容積と比表面積との積は、5〜7500mL・m/gが好ましく、500〜5000mL・m/gがより好ましい。前記積が前記下限値以上であれば、成分(A)〜(D)の担持量が充分となりやすく、1,3−ブタジエン及びアセタールの選択率がより高くなる。前記積が前記上限値以下であれば、エタノールと触媒との接触時間が充分となりやすく、1,3−ブタジエン及びアセタールの選択率が高くなりやすい。
多孔質担体への成分(A)〜(D)の合計の担持量は、多孔質担体の質量に対して、1.0〜10.0質量%が好ましく、2.5〜5.0質量%がより好ましい。担持量が前記下限値以上であれば、充分な量の成分(A)〜(D)が担持されることで1,3−ブタジエン及びアセタールの選択率が高くなりやすい。担持量が前記上限値以下であれば、成分(A)〜(D)を均一かつ高分散状態にしやすいため、1,3−ブタジエン及びアセタールの選択率を高めやすい。
前記触媒は、従来公知の触媒の製造方法に準じて製造できる。前記触媒を担持触媒とする場合、例えば、含浸法、イオン交換法等が挙げられ、含浸法が好ましい。含浸法を用いて得た担持触媒は、成分(A)〜(D)がより均一に分散され、エタノールとの接触効率がより高められるため、1,3−ブタジエン及びアセタールの選択率をより高めることができる。
含浸法では、例えば、成分(A)〜(D)の原料化合物を溶媒に溶解した溶液(含浸液)に多孔質担体を浸漬する等して、含浸液を多孔質担体に含浸させた後、乾燥し、焼成して触媒とする。
成分(A)〜(D)の原料化合物としては、特に限定されず、金属触媒を調製する際に通常用いられるものを用いることができる。具体的には、例えば、酸化物、塩化物、硫化物、硝酸塩、硫酸塩、炭酸塩等の無機塩、シュウ酸塩、アセチルアセトナート塩、ジメチルグリオキシム塩、エチレンジアミン酢酸塩等の有機塩又はキレート化合物、カルボニル化合物、シクロペンタジエニル化合物、アンミン錯体、アルコキシド化合物、アルキル化合物等が挙げられる。なかでも、塩化物又は硝酸塩が好ましい。
溶媒としては、水、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等が挙げられる。
含浸液を多孔質担体に含浸させる方法としては、全ての原料化合物を溶解した溶液を担体に含浸させる方法(同時法)、各原料化合物を別個に溶解した溶液を調製し、逐次的に担体に各溶液を含浸させる方法(逐次法)等が挙げられる。
乾燥温度及び焼成温度は、溶媒の種類等に応じて適宜決定できる。例えば、溶媒が水の場合、乾燥温度を80〜120℃、焼成温度を300〜1000℃とすることができる。
以上説明した触媒は、成分(A)〜(D)を含むため、高い選択率で1,3−ブタジエン及びアセタールを合成できる。また、この触媒を用いれば、バイオエタノールから1,3−ブタジエン及びアセタールを合成し、環境負荷を低減することもできる。
[反応条件]
本発明の製造方法では、前記触媒にエタノールを接触させる。エタノールと触媒とを接触させる態様は、特に限定されず、例えば、反応管内に触媒を充填して反応床を形成し、該反応管に原料を供給して反応床の触媒と接触させる態様が挙げられる。なお、反応床は、固定床、移動床、流動床等のいずれでもよい。
触媒に接触させるエタノールは、転化率を高くしやすい点から、ガス状であることが好ましい。なお、触媒に接触させるエタノールは、液状であってもよい。触媒にエタノールを接触させる際には、エタノールのみを接触させてもよく、本発明の目的を損なわない範囲であればエタノールとその他の成分の混合物を接触させてもよい。
本発明においては、ガス化したエタノールと、アセトアルデヒド及び/又は不活性ガスと、を含む混合ガスとして触媒に接触させてもよい。
アセトアルデヒドを含有していると、1,3−ブタジエン及びアセタールの選択率を更に向上させることができる。混合ガス中のアセトアルデヒドの含有量は、エタノールに対するモル比(アセトアルデヒド/エタノール)として0.01〜1であることが好ましく、0.05〜0.5であることがより好ましい。
また、不活性ガスを含有していると、1,3−ブタジエン及びアセタールの合成効率のさらなる向上を図れる。混合ガス中の不活性ガスの含有量は、例えば、1〜50体積%が好ましく、10〜40体積%がより好ましく、15〜30体積%がさらに好ましい。
エタノールと触媒とを接触させる際の温度(反応温度)は、280〜500℃が好ましく、350〜450℃がより好ましい。反応温度が前記下限値以上であれば、酸化反応の速度が充分に高まり、1,3−ブタジエン及びアセタールをより効率的に製造できる。反応温度が前記上限値以下であれば、触媒の劣化を抑制しやすい。
原料と触媒とを接触させる際の圧力(反応圧力)は、0.3MPaG〜3.0MPaGであり、0.5MPaG〜2.0MPaGであることが好ましい。反応圧力が上記範囲内であると、アセタールの選択率を十分に高めることができる。(尚、反応圧力が常圧であると、アセタールの選択率は実質的にゼロである。)
また、反応圧力を最適化することで、ブタジエンの製造量(ブタジエンの選択率)とアセタールの製造量(アセタールの選択率)の比率を調整することができる。
アセタールの選択率に対するブタジエンの選択率である(ブタジエンの選択率/アセタールの選択率)を高める観点から、反応圧力は、0.3MPaG〜1.5MPaGであることが好ましく、0.6MPaG〜1.2MPaGであることがより好ましい。
一方、ブタジエンの選択率に対するアセタールの選択率である(アセタールの選択率/ブタジエンの選択率)を高める観点からは、反応圧力は、1.5MPaG〜3.0MPaGであることが好ましく、1.8MPaG〜2.7MPaGであることがより好ましい。
触媒と接触させる原料の空間速度は、標準状態換算で、0.1〜10000L/L−触媒/hrが好ましく、10〜5000L/L−触媒/hrがより好ましく、100〜2500L/L−触媒/hrがさらに好ましい。空間速度は、反応圧力及び反応温度を勘案して、適宜調整される。
例えば、図1に示す製造装置10を用いる場合は、温度制御部5及び圧力制御部6により反応管1内を任意の温度及び任意の圧力とし、ガス化されたエタノールを含むガス20を供給管3から反応管1内に流入させる。反応管1内においてエタノールが触媒に接触して反応し、1,3−ブタジエン及びアセタールが生成する。1,3−ブタジエン及びアセタールを含む生成ガス22は、排出管4から排出される。生成ガス22には、アセトアルデヒド、エチレン、プロピレン、1−ブテン等の化合物が含まれていてもよい。
触媒との接触による反応後に得られた1,3−ブタジエン及びアセタールを含む生成物に関しては、蒸留、抽出、吸収等の公知の方法により、分離や精製を行うことができる。
以上説明した本発明の1,3−ブタジエン及びアセタールの製造方法によれば、特定の加圧条件下において触媒反応を行うことにより、高い選択率で1,3−ブタジエン及びアセタールを製造することができ、かつ、アセトアルデヒドジエチルアセタール以外の炭素数5以上の炭化水素の生成量を低減できる。
また、バイオエタノールから1,3−ブタジエン及びアセタールを製造し、環境負荷を低減することもできる。
尚、本発明においては、1,3−ブタジエンの選択率が30%以上であり、かつ、アセトアルデヒドジエチルアセタールの選択率が10%以上であることが好ましい。より好ましくは、1,3−ブタジエンの選択率が40%以上であり、かつ、アセトアルデヒドジエチルアセタールの選択率が20%以上である。
本発明の別の側面としては1,3−ブタジエンの選択率が15%以上であり、かつアセトアルデヒドジエチルアセタールの選択率が15%以上であることが好ましい。より好ましくは、1,3−ブタジエンの選択率が20%以上であり、かつ、アセトアルデヒドジエチルアセタールの選択率が20%以上である。
また、本発明においては、アセトアルデヒドジエチルアセタール以外のC5以上の炭化水素の合計の選択率が20%以下であることが好ましく、10%以下であることがより好ましく、5%以下であることがさらに好ましく、1%以下であることが特に好ましい。
[1,3−ブタジエン及びアセタールの製造装置]
本発明の方法を実施するために使用する製造装置は特に制限されない。例えば、触媒が充填された反応管と、エタノール又は上記の混合ガス(以下、単に「原料」ということがある。)を前記反応管内に供給する供給手段と、前記反応管から生成物を排出する排出手段と、を備える製造装置を採用することができる。
以下、本発明の方法の実施に用いることができる製造装置の一例について、図1に基づいて説明する。
図1に示す製造装置10は、前記の触媒が充填されて反応床2が形成された反応管1と、反応管1に接続された供給管3と、反応管1に接続された排出管4と、反応管1に接続された温度制御部5と、排出管4に設けられた圧力制御部6と、を備える。
反応床2は、前記触媒のみが充填されたものでもよく、前記触媒と希釈材とが充填されたものでもよい。なお、原料から1,3−ブタジエンを合成する反応は吸熱反応であるため、前記触媒が過度に発熱することを防止する目的で使用される希釈材は通常不要である。
希釈材としては、例えば、触媒の担体と同様のものや、石英砂、アルミナボール、アルミボール、アルミショット等が挙げられる。
反応床2に希釈材を充填する場合、希釈材/触媒で表される質量比は、それぞれの種類や比重等を勘案して決定され、例えば、0.5〜5が好ましい。
反応管1は、原料ガス及び合成された生成物に対して不活性な材料からなるものが好ましく、100〜500℃程度の加熱、又は10MPa程度の加圧に耐え得る形状のものが好ましい。反応管1としては、例えば、ステンレス製の略円筒形の部材が挙げられる。
供給管3は、材料ガスを反応管1内に供給する供給手段であり、例えば、ステンレス製等の配管が挙げられる。
排出管4は、反応床2で合成された生成物を含むガスを排出する排出手段であり、例えば、ステンレス製等の配管が挙げられる。
温度制御部5は、反応管1内の反応床2を任意の温度にできるものであればよく、例えば、電気炉等が挙げられる。
圧力制御部6は、反応管1内の圧力を任意の圧力にできるものであればよく、例えば、公知の圧力弁等が挙げられる。
なお、製造装置10は、マスフロー等、ガスの流量を調整するガス流量制御部等の周知の機器を備えていてもよい。
また、当然のことながら、本発明の方法は、アセタールの製造を主たる目的として実施することも可能である。即ち、本発明の別の態様においては、0.3MPaG〜3MPaGの圧力下でエタノールを、ハフニウム、ジルコニウム、銅、亜鉛、タンタル、タングステン、マグネシウム、及びケイ素からなる群より選ばれる少なくとも1種の金属を含む触媒に接触させることを含む、アセトアルデヒドジエチルアセタールの製造方法が提供される。
この場合の反応条件、使用する原料及び装置等に関しては、上述したものを採用することができる。
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の記載によっては限定されない。
[製造例1]触媒(A)の製造
多孔質担体(シリカ、粒子径:1.18〜2.36mm、平均細孔直径:16.3nm、全細孔容積:0.99mL/g、比表面積:195m/g)を10%硝酸に約6時間浸潰したのち、10%硝酸を除去し、イオン交換水で十分に洗浄した。これを110℃のオーブンで一晩乾燥させた後、400℃で4.5時間焼成した。
塩化ハフニウム(HfC1)1.0767gを水19.8000gに溶解させ、水溶液(一次含浸液)を調製した。一次含浸液2.0877gを多孔質担体2.0000gに滴下し、一次含浸液を多孔質担体に含浸させた(一次含浸工程)。
一次含浸液を含浸させた多孔質担体を110℃にて3時間乾燥し(一次乾燥操作)、さらに400℃にて4.5時間焼成して一次担持体とした(一次焼成操作)(以上、一次担持工程)。
硝酸銅三水和物(Cu(NO・3HO)0.7604gと、硝酸亜鉛六水和物(Zn(NO・6HO)0.4550gを水19.8000gに溶解させ、水溶液(二次含浸液)を調製した。二次含浸液2.1015gを一次担持体に滴下して含浸させ(二次含浸工程)、これを110℃にて3時間乾燥し(二次乾燥操作)、次いで400℃にて4.5時間焼成して触媒(A)を得た(二次焼成操作)(以上、二次担持工程)。
一次含浸液と二次含浸液との合計において、金属のモル比は、銅:亜鉛=1.00:0.50、銅:ハフニウム=1.00:3.00、亜鉛:ハフニウム=0.50:3.00である。
[実施例1](合成反応)
得られた触媒(A)2.407gを直径1/2インチ(12.7mm)のステンレス製の円筒型の反応管に充填して反応床を形成した。
次に、反応温度を400℃として、空間速度1100NL/L−触媒/h、反応圧力0.90MPaGで、混合ガス(エタノール:30体積%、窒素:70体積%)を反応床に流通させ、3時間経過後、得られた生成ガスを回収し、ガスクロマトグラフィーにより分析した。
得られたデータからエタノール転化率(モル%)、1,3−ブタジエンの選択率(モル%)、アセトアルデヒドジエチルアセタールの選択率(モル%)、アセトアルデヒドの選択率(モル%)、エチレンの選択率(モル%)、ブテンの選択率(モル%)、プロピレンの選択率(モル%)、アセトアルデヒドジエチルアセタール以外のC5以上の炭化水素の合計の選択率(モル%)、を算出した。これらの結果を表1に示す。
[実施例2]
反応圧力を2.0MPaGとした以外は実施例1と同様にしてエタノールから生成ガスを得た。得られた結果を表1に示す。
[比較例1]
反応圧力を大気圧に変更したこと以外は実施例1と同様にしてエタノールから生成ガスを得た。得られた結果を表1に示す。
Figure 2019043943
表1から分かる通り、反応圧力0.90MPaGで実施した実施例1においてはアセトアルデヒドジエチルアセタールが12.1%と高い選択率で生成していたのに対して、反応圧力を大気圧とした比較例1においては、アセトアルデヒドジエチルアセタールの選択率は0%であった。また、実施例1において炭素数5以上の炭化水素の選択率が4.7%と低いのに対して、比較例1においては、21.5%と高かった。この反応におけるアセトアルデヒドジエチルアセタール以外のC5以上の炭化水素に属する化合物は、通常、廃棄されるか燃料として使用されるものである。
さらに反応圧力2.0MPaGで実施した実施例においては、ブタジエンの選択率は低下するものの、アセトアルデヒドジエチルアセタールが22.9%と高い選択率で生成し、アセトアルデヒドジエチルアセタール以外のC5以上の炭化水素の選択率が0.8%と実施例1よりもさらに低い良好な結果が得られた。このように本製造方法においては、反応圧力を選択することでブタジエンとアセタールの製造量の比率を調整し、需要や価格に応じて生産調整することができる。
以上で説明した各実施形態における各構成及びそれらの組み合わせ等は一例であり、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、公知の構成の付加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。また、本発明は各実施形態によって限定されることはない。
1 反応管
2 反応床
3 供給管
4 排出管
5 温度制御部
6 圧力制御部
10 1,3−ブタジエン及びアセトアルデヒドジエチルアセタールの製造装置

Claims (3)

  1. 0.3MPaG〜3MPaGの圧力下でエタノールを、ハフニウム、ジルコニウム、銅、亜鉛、タンタル、タングステン、及びマグネシウムからなる群より選ばれる少なくとも1種の金属を含む触媒に接触させることを含む、1,3−ブタジエン及びアセトアルデヒドジエチルアセタールの製造方法。
  2. 前記触媒がハフニウムを含む、請求項1に記載の1,3−ブタジエン及びアセトアルデヒドジエチルアセタールの製造方法。
  3. 1,3−ブタジエンの選択率が30%以上であり、かつ、アセトアルデヒドジエチルアセタールの選択率が10%以上である、請求項1又は2に記載の1,3−ブタジエン及びアセトアルデヒドジエチルアセタールの製造方法。
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