JP2019038854A5

JP2019038854A5 -

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Publication number: JP2019038854A5
Application number: JP2018228757A
Authority: JP
Filing date: 2018-12-06
Publication date: 2019-11-14

Claims

第一級アミンを製造する方法において、少なくとも１種のニトリルを装置（Ｖ１）にてコバルト完全接触触媒の存在下で水素化して、少なくとも１種の第一級アミンを獲得し、ここで少なくとも１種の化合物（Ｉ）が、繰り返し又は連続的に装置（Ｖ１）に添加され、化合物（Ｉ）が、アルカリ金属から選択される少なくとも１種の成分を含有し、水素化が、アンモニアの不在下で実施されることを特徴とする前記方法。
請求項１に記載の方法において、化合物（Ｉ）を酸化物、水酸化物、若しくは塩の形態で使用すること、又は化合物（Ｉ）を水溶液として使用することを特徴とする前記方法。
請求項２に記載の方法において、リチウム、カリウム、又はセシウムの酸化物、水酸化物、又は塩の水溶液を使用することを特徴とする前記方法。
請求項２に記載の方法において、水酸化リチウムの水溶液を使用することを特徴とする前記方法。
請求項１から４までのいずれか一項に記載の方法において、
ｉ）水素化に使用されるニトリルが水を０．０１〜１０質量％含有すること、又は
ｉｉ）副生成物として形成される第二級アミンの割合が０．５ＧＣ面積％より大きくなり次第、化合物（Ｉ）を装置（Ｖ１）に添加すること、又は
ｉｉｉ）触媒負荷が、触媒１Ｌ及び１時間あたり０．０１〜１０ｋｇの出発物質である場合に、装置（Ｖ１）中で副生成物として形成される第二級アミンの割合が０．５ＧＣ面積％より大きくなり次第、装置（Ｖ１）に化合物（Ｉ）を添加することを介して、水素化混合物に、装置（Ｖ１）中のニトリルグラム原子を基準として０．０１〜５００ｐｐｍのアルカリ金属が添加されること
を特徴とする前記方法。
請求項１から５までのいずれか一項に記載の方法において、装置（Ｖ１）が反応器であり、その空塔速度が、反応器の断面積１ｍ^２及び１秒あたり５〜５０ｋｇの流量であることを特徴とする前記方法。
請求項１から６までのいずれか一項に記載の方法において、水素化が１〜３００ｂａｒの圧力で実施されることを特徴とする前記方法。
請求項１から７までのいずれか一項に記載の方法において、コバルト完全接触触媒が、装置（Ｖ１）で固定床触媒として使用されることを特徴とする前記方法。
請求項１から８までのいずれか一項に記載の方法において、ニトリルが、脂肪族モノニトリル、脂肪族ジニトリル、若しくは脂肪族トリニトリル、脂環式モノニトリル若しくは脂環式ジニトリル、α−アミノニトリル、β−アミノニトリル、若しくはω−アミノニトリル、又はアルコキシニトリルであることを特徴とする前記方法。
請求項１から９までのいずれか一項に記載の方法において、
ｉ）Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアミン（ＤＭＡＰＡ）を製造するためにＮ，Ｎ−ジメチルアミノプロピオニトリル（ＤＭＡＰＮ）を使用すること、又は
ｉｉ）イソホロンジアミンを製造するためにイソホロンニトリルイミンを使用すること、又は
ｉｉｉ）ヘキサメチレンジアミン（ＨＭＤ）を製造するために、又は６−アミノカプロニトリル（６−ＡＣＮ）及びＨＭＤを製造するためにアジポジニトリル（ＡＤＮ）を使用すること
を特徴とする前記方法。
請求項１から１０までのいずれか一項に記載の方法において、コバルト完全接触触媒が、少なくとも７０質量％、触媒活性物質から成ることを特徴とする前記方法。
請求項１から１１までのいずれか一項に記載の方法において、コバルト完全接触触媒が、少なくとも８０質量％、触媒活性物質から成ることを特徴とする前記方法。
請求項１から１２までのいずれか一項に記載の方法において、コバルト完全接触触媒が、触媒活性物質として成分ｉ）、及び任意で成分ｉｉ）、又は成分ｉｉｉ）を含み、ここでこれらの成分が
ｉ）コバルト（Ｃｏ）、
ｉｉ）任意で、鉄（Ｆｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒｈ）、パラジウム（Ｐｄ）、オスミウム（Ｏｓ）、イリジウム（Ｉｒ）、及び白金（Ｐｔ）から選択される少なくとも１種のさらなる元素、又は
ｉｉｉ）任意で、クロム（Ｃｒ）、マンガン（Ｍｎ）、モリブデン（Ｍｏ）、チタン（Ｔｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、スズ（Ｓｎ）、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属、及びリン（Ｐ）から選択される少なくとも１種の助触媒
であることを特徴とする前記方法。
請求項１から１３までのいずれか一項に記載の方法において、コバルト完全接触触媒の触媒活性物質が、コバルト５５〜９８質量％、リン０．２〜１５質量％、マンガン０．２〜１５質量％、及びアルカリ金属０．２〜１５質量％から成る（水素で還元する前のＣｏＯ、Ｈ_３ＰＯ_４、ＭｎＯ_２、又はアルカリ金属酸化物として計算）ことを特徴とする前記方法。
請求項１４に記載の方法において、触媒物質を第一工程にて５５０〜７５０℃の最終温度で、第二工程にて８００〜１０００℃の最終温度で焼成することによりコバルト完全接触触媒を製造することを特徴とする前記方法。
請求項１から１５までのいずれか一項に記載の方法において、コバルト完全接触触媒が、最大５０ｍ^２／ｇの表面積を有することを特徴とする前記方法。
請求項１６に記載の方法において、コバルト完全接触触媒が、最大４０ｍ^２／ｇの表面積を有することを特徴とする前記方法。
請求項１から１７までのいずれか一項に記載の方法において、流（Ｓ１）が装置（Ｖ１）から排出され、ここで流（Ｓ１）が第一級アミンを含有し、かつ流（Ｓ１）が少なくとも部分的に装置（Ｖ１）に返送されることを特徴とする前記方法。
請求項１８に記載の方法において、まず化合物（Ｉ）が流（Ｓ１）の返送部分流に添加され、流（Ｓ１）の構成要素として装置（Ｖ１）に送り込まれることを特徴とする前記方法。
請求項１８に記載の方法において、化合物（Ｉ）が水溶液として流（Ｓ１）の返送部分流に添加されることを特徴とする前記方法。