JP2019016716A - 積層基板及び金属ボールの実装方法 - Google Patents

積層基板及び金属ボールの実装方法 Download PDF

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Masashi Yoshida
賢史 吉田
健二郎 西川
Kenjiro Nishikawa
健二郎 西川
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Abstract

【課題】信号伝送線路の伝送特性や反射特性を向上するとともに実装歩留まりを改善することができる積層基板及び金属ボールの実装方法を提供する。【解決手段】積層基板1は、少なくとも3層の金属層3と金属層3の間の誘電体層4とを有する多層基板2が複数積層されて構成される。複数の多層基板2は積層される。積層基板1は、隣接する多層基板2を構成する金属層3同士を電気的に接続する銅ボール5を備える。複数の多層基板2各々について、銅ボール5を実装する実装部7に彫り込み構造6が形成されている。その彫り込み構造6内で銅ボール5がはんだ付けされ、信号伝送線路の一部を形成する銅ボール5を正確に位置決めすることができる。【選択図】図2

Description

本発明は、積層基板及び金属ボールの実装方法に関する。
第5世代移動通信システムでは、数十GHz程度の周波数帯域で通信を行うことが検討されている。数十GHz、例えば60GHz帯のアンテナとして、多層基板を複数枚積層して構成されるアレイアンテナが提案されている。このようなアレイアンテナでは、多層基板間を電気的に接続する必要があり、多層基板間を接続する様々な接続手段が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
特開2009−10004号公報
多層基板間を電気的に接続する接続手段の1つとして、銅ボールがある。銅ボールは、多層基板間に挿入され、上下の多層基板の金属層によって構成される伝送線路を電気的に接続する。
しかしながら、銅ボールは球形であり、その実装位置が設計上の位置からずれやすい。銅ボールが設計上の位置からずれると、信号伝送線路全体の伝送特性や反射特性の低下が懸念される。特に、伝送される信号が高周波信号である場合には、銅ボールの実装位置の精度が、信号の伝送に多大な影響を与える。位置ずれの程度が大きくなると伝送特性や反射特性の低下ではなく、物理的・電気的に上下基板が接続されない(オープン)、もしくは信号線路とグランドが物理的・電気的に接続される(ショート)などの実装不良が原因で実装歩留まりが悪化するおそれがある。
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、信号伝送線路の伝送特性や反射特性を向上することに加え、実装歩留まりを改善することができる積層基板及び金属ボールの実装方法を提供することを目的とする。
本発明の第1の観点に係る積層基板は、
少なくとも3層の金属層と前記金属層の間の誘電体層とを有する複数の多層基板を備え、
前記複数の多層基板が積層され、
隣接する前記多層基板を構成する前記金属層同士を電気的に接続する金属ボールを備え、
前記複数の多層基板各々について、前記金属ボールを実装する実装部に彫り込み構造が形成され、前記彫り込み構造内で前記金属ボールが前記多層基板を構成する金属層と接続されている。
この場合、前記彫り込み構造は、
開口から底面に向かって先細りとなるテーパ状の部分を含む、
こととしてもよい。
前記彫り込み構造の直径は、前記金属ボールの直径よりも大きい、
こととしてもよい。
前記彫り込み構造の直径は、前記金属ボールの直径よりも小さい、
こととしてもよい。
信号を伝送する信号伝送線路を構成する金属層に接続された第1の金属ボールと、
前記第1の金属ボールの周囲を囲むように配列された接地用の複数の第2の金属ボールと、
を備え、
前記第1の金属ボール及び前記第2の金属ボールのそれぞれに対応して前記彫り込み構造が設けられている、
こととしてもよい。
前記第2の金属ボールは、多重に前記第1の金属ボールを囲むように形成されている、
こととしてもよい。
前記多層基板では、
前記第1の金属ボールと接続された信号伝送用の第1のスルーホールと、
前記第2の金属ボールと接続された接地用の第2のスルーホールと、
が形成され、
複数の前記第2のスルーホールが、前記第1のスルーホールを囲むように形成されている、
こととしてもよい。
前記多層基板の間に前記金属ボールとともに、
ICチップモジュールが実装されている、
こととしてもよい。
本発明の第2の観点に係る金属ボールの実装方法は、
少なくとも3層の金属層と前記金属層の間の誘電体層とが積層されて構成される複数の多層基板を複数枚積層して構成される積層基板において、上下の前記多層基板を構成する金属層同士を電気的に接続する金属ボールを実装する実装方法であって、
前記多層基板における前記金属ボールの実装部に彫り込み構造を形成し、
前記彫り込み構造が形成された部分に金属ボールをはんだ付けする。
本発明によれば、金属ボールが実装される実装部に彫り込み構造が形成されているので、信号伝送線路の一部を形成する金属ボールをその彫り込み構造内に正確に位置決めすることができる。この結果、積層基板における信号伝送線路の伝送特性や反射特性を向上することができるうえ、実装歩留まりを改善することができる。
本発明の実施の形態1に係る積層基板の断面斜視図である。 図1の積層基板の拡大断面図である。 図1の積層基板を構成する銅ボールの配列を示す模式図である。 図4(A)は、スルーホールの配置例(その1)である。図4(B)は、スルーホールの配置例(その2)である。 銅ボールの実装方法のフローチャートである。 本発明の実施の形態2に係る積層基板の断面図である。 本発明の実施の形態3に係る積層基板の断面図である。 ICチップが実装される積層基板の一例を示す断面図である。 銅ボールの配列の他の例を示す模式図である。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。図中、同一又は対応する部分には同一の符号を付す。
実施の形態1.
まず、本発明の実施の形態1について、図1〜図5を参照して詳細に説明する。
図1に示すように、積層基板1は、3枚の多層基板2が積層されて構成されている。本実施の形態では、多層基板2の実装面に沿ってxy座標系を規定し、多層基板2の厚み方向をz軸としている。図1における断面は、yz面に平行な断面である。
多層基板2は、金属層3と誘電体層4とが交互に積層されて構成されている。金属層3は、例えば銅等の導電性の高い金属で構成される。また、誘電体層4は、例えば樹脂等で構成されている。
本実施の形態では、金属層3は、全部で6層形成されている。多層基板2では、+z側から順に、金属層3→誘電体層4→金属層3→誘電体層4→金属層3→誘電体層4→金属層3→誘電体層4→金属層3→誘電体層4→金属層3と並んでいる。
多層基板2の金属層3には、信号の伝送線路を構成する金属層3Aと、グランド(接地用)の伝送線路を構成する金属層3Bとがある。また、多層基板2には、スルーホール3C,3Dが形成されている。多層基板2において、金属層3Aはスルーホール3Cで相互に電気的に接続されており、金属層3Bは、スルーホール3Dで相互に電気的に接続されている。金属層3A及びスルーホール3Cと、金属層3B及びスルーホール3Dとは誘電体層4を挟んで分離されている。
本実施の形態では、上述のような多層基板2が3枚積層されている。上下の多層基板2の間には、銅ボール5が実装される。銅ボール5が実装される位置を実装部7とする。
銅ボール5は、銅から成る球状の物体である。銅ボール5は、上下の多層基板2の金属層3同士を電気的に接続する。銅ボール5の直径は、少なくとも多層基板2の金属層3と誘電体層4の厚さの和の2倍以上である必要がある。後述のように、彫り込み構造6が形成されるため、多層基板2との間に空隙を持たせる必要があるためである。
上下の多層基板2では、銅ボール5を実装する実装部7に彫り込み構造6が形成されている。実装部7は、彫り込み構造6の底部に位置する金属層3Aである。本実施の形態では、彫り込み構造6は、円柱状の穴である。彫り込み構造6の深さは、表面の金属層3の1つ下の金属層3Aが露出する深さとなっている。また、本実施の形態では、彫り込み構造6の直径は、銅ボール5の直径よりも大きくなっている。彫り込み構造6の直径は例えば0.09mmであり、直径は0.4mmである。銅ボール5の直径は例えば0.3mmである。
銅ボール5は、第1の金属ボールとしての銅ボール5Aと第2の金属ボールとしての銅ボール5Bとに分かれている。銅ボール5Aは、信号を伝送する信号伝送線路を構成する実装部7(金属層3A)に接続されている。また、銅ボール5Bは、接地線であるグランド線路を構成する金属層3Bに接続されている。
図1に示すように、本実施の形態に係る積層基板1では、一番下(−z側)の多層基板2の金属層3Aは、不図示の入力ポートから+y方向に延びており、銅ボール5Aに近づいた端部で、スルーホール3Cに接続されている。このスルーホール3Cは、y軸方向に延びる1つ下の金属層3Aと接続されている。この金属層3Aが、彫り込み構造6の底部まで延びており、この部分に実装部7が形成されている。
この銅ボール5Aは、真ん中の多層基板2に形成された下側を向く彫り込み構造6に露出した金属層3Aに接続する。この金属層3Aは、真ん中の多層基板2の下側の彫り込み構造6で露出した最下層から1つ上の金属層3によって形成された実装部7である。この金属層3Aは、スルーホール3Cに接続されており、スルーホール3Cは、上側の彫り込み構造6の底面に露出する金属層3Aである実装部7に接続されている。
真ん中の多層基板2の上側の彫り込み構造6内の実装部7(金属層3A)にも銅ボール5が実装されている。この銅ボール5は、上側の多層基板2の下側を向いた彫り込み構造6内の実装部7(金属層3A)に接続する。この実装部7は、スルーホール3Cに接続されており、そのスルーホール3Cは、最上層の金属層3Aに接続されている。金属層3Aはy軸方向に延びて、不図示の出力ポートに接続されている。
以上のように、この積層基板1では、入力ポートから出力ポートまでの信号の伝送線路が形成されている。この伝送線路は、2つの銅ボール5とスルーホール3C等で構成されるz軸方向に延びる伝送線路を含んでいる。z軸方向に延びる伝送線路は、金属層3A→銅ボール5→実装部7→スルーホール3C→実装部7→銅ボール5→スルーホール3C→金属層3A→スルーホール3C→金属層3Aで形成されている。
図3に示すように、本実施の形態では、1つの銅ボール5Aについて、周囲に6つの銅ボール5Bが配置されている。銅ボール5Bは、銅ボール5Aを中心に放射状に(銅ボール5Aを囲むように)配列されている。
銅ボール5Aを伝送される信号によって銅ボール5Aから空気中に分布する電磁波は、その大部分が銅ボール5B及び銅ボール5Aの間に分布する。すなわち、銅ボール5Bは、銅ボール5Aの電磁シールドとしての役割を果たす。銅ボール5Aと銅ボール5Bとの関係は、同軸ケーブルの内部導体と外部導体との関係に相当する。この銅ボール5Bを銅ボール5Aの周囲に設けることにより、銅ボール5Bを含む信号の伝送線路の伝送特性(SパラメータS21)及び反射特性(SパラメータS11)を向上することができる。
また、銅ボール5Aに接続する第1のスルーホールとしてのスルーホール3Cの周囲に、接地用の伝送線路(金属層3B)と電気的に接続された第2のスルーホールとしてのスルーホール3Dが形成されているようにしてもよい。例えば、図4(A)に示すように、スルーホール3Dは、銅ボール5Bを実装する彫り込み構造6の外側に設けられるようにしてもよいし、図4(B)に示すように、銅ボール5Aが実装される中央の彫り込み構造6と銅ボール5Bが実装される外周の彫り込み構造6との間にスルーホール3Dを設けるようにしてもよい。
このように、銅ボール5Aとスルーホール3Cで形成されるz軸方向に延びる信号の伝送線路の周囲に接地用の銅ボール5B及びスルーホール3Dを万遍なく配置することができるので、信号の伝送特性(SパラメータS21)及び反射特性(SパラメータS11)等の伝送品質を向上することができる。
次に、銅ボール5の実装方法について説明する。
図5に示すように、まず、多層基板2を製造する(ステップS1)。ここでは、金属板と樹脂板とが重ね合わされた2つの基板が接着剤により貼り付けられ、ホットプレス加工されるなどして、多層基板2が生成される。この間、パターン露光及びエッチングにより金属層3Aと、金属層3Bとが分離形成されるとともにスルーホール3C,3Dが形成される。
続いて、多層基板2に彫り込み構造6を形成する(ステップS2)。彫り込み構造6は、例えばCOレーザの照射によって形成される。しかしながら、彫り込み構造6は、他の方法を用いて形成されてもよい。例えば、深掘りエッチングにより形成するようにしてもよい。
続いて、多層基板2の彫り込み構造6に露出する実装部7に銅ボール5(5A,5B)を実装し、リフロ−法によりはんだ付けする(ステップS3)。この工程により、図2に示すように、実装部7と銅ボール5との間にはんだ8が形成され、両者が固定される。このようにして、銅ボール5が多層基板2に実装され、積層基板1が生成される。
実施の形態2.
次に、本発明の実施の形態2について説明する。
上記実施の形態では、彫り込み構造6’の直径を銅ボール5Aより大きくした。本実施の形態に係る積層基板1では、図6に示すように、彫り込み構造6’の直径を銅ボール5Aより小さくしている。これにより、銅ボール5A自体が彫り込み構造6’の開口縁部に当接して嵌まり込むようになるので、銅ボール5Aの位置決め精度をさらに高めることができる。
なお、接地用の銅ボール5Bの彫り込み構造6’の直径を銅ボール5Bより大きくするようにしてもよい。
実施の形態3.
次に、本発明の実施の形態3について説明する。
本実施の形態では、図7に示すように、銅ボール5(5A)を実装する彫り込み構造6”は、開口から底面に向かって先細りとなるテーパ状となっている。接地用の銅ボール5Bの彫り込み構造6”も同様である。彫り込み構造6”の開口縁部は、信号の伝送特性及び反射特性の向上の妨げとなる。したがって、本実施の形態では、開口縁部が取り除かれてテーパ状となった彫り込み構造6”が採用されている。このようにすれば、信号の伝送品質をより向上することができる。
以上詳細に説明したように、上記各実施の形態によれば、銅ボール5が実装される実装部7に彫り込み構造6,6’,6”が形成されているので、その彫り込み構造6,6’,6”内に信号伝送線路の一部を形成する銅ボール5(5A,5B)を正確に位置決めすることができる。この結果、積層基板1における信号伝送線路の伝送特性(SパラメータS21)や反射特性(SパラメータS11)を向上することができるうえ、実装歩留まりを改善することができる。
また、伝送線路の一部を形成する銅ボール5(5A,5B)を正確に位置決めすることができるので、その信号伝送線路の伝送特性(SパラメータS21)や反射特性(SパラメータS11)を向上することができるうえ、実装歩留まりを改善することができる。
また、上記各実施の形態によれば、彫り込み構造6,6’,6”によりはんだをはんだ付け場所から流れ出さないようにすることができる。これにより、はんだの量を増やして銅ボール5をしっかりと多層基板2にはんだ付けすることができるので、積層基板1全体にそりがあった場合でも実装歩留まりの改善を期待できる。
また、上記各実施の形態によれば、彫り込み構造6,6’,6”を設けているので、多層基板2間の間隔を短くすることができる。これにより、積層基板1全体の厚みを薄くすることができる。
また、上記実施の形態3では、彫り込み構造6”をテーパ状とした。この場合には、彫り込み構造6”を円柱状とするよりも、銅ボール5を含む信号の伝送線路における反射特性(SパラメータS11)及び伝送特性(SパラメータS21)が良好なものとなった。なお、彫り込み構造の全体を円柱状とし、開口縁部がテーパ状に切り欠かれているだけでもよい。このようにするだけでも、信号の伝送品質の向上が期待できるためである。
また、上記実施の形態1では、彫り込み構造6の直径を、銅ボール5の直径よりも大きくした。これにより、銅ボール5周辺の誘電体層4の信号の伝送特性(SパラメータS21)や反射特性(SパラメータS11)への影響を低減することができる。しかしながら、上記実施の形態2のように、信号の伝送特性や反射特性が求められるレベルよりも低下しなければ、上記実施の形態2のように、彫り込み構造6’の直径を、銅ボール5の直径よりも小さくするようにしてもよい。
また、上記各実施の形態では、信号伝送線路を形成する銅ボール5Aの周囲に、接地された複数の銅ボール5Bが配置されている。これにより、信号伝送線路の伝送特性(SパラメータS21)や反射特性(SパラメータS11)を向上することができる。
なお、多層基板2において、銅ボール5Aと銅ボール5Bが実装される彫り込み構造6の周囲にスルーホール3Dを形成するようにしてもよい。このようにすれば、銅ボール5Aおよびスルーホール3Cを含む信号伝送線路から発生する電磁波をスルーホール3D及びスルーホール3Cとの間に分布させることができ、誘電体層4に伝搬されるのを抑制することができる。これにより、信号の伝送特性(SパラメータS21)や反射特性(SパラメータS11)を向上することができる。
なお、上記各実施の形態では、銅ボール5Aの周囲に複数の銅ボール5Bを6つ配置したが、本発明はこれには限られない。銅ボール5Aを囲む銅ボール5Bの数は、銅ボール5Aを囲むことができるのであれば、2つ〜5つであってもよいし、7つ以上であってもよい。
なお、上記各実施の形態では、多層基板2の積層数を3つとしたが、本発明はこれには限られない。多層基板2は2枚であってもよいし、4枚以上であってもよい。
なお、上記各実施の形態では、多層基板2の金属層3の数を6としたが、本発明はこれには限られない。金属層3は少なくとも3層あればよい。金属層3が3層あれば、多層基板2に掘り込み構造6等を形成して、銅ボール5を実装し、中間の金属層3に接続することができるためである。
また、上記各実施の形態では、多層基板2同士を接続するものとして銅ボール5を用いた。しかしながら、本発明は、これには限られない。例えば、他の金属、例えばアルミ等を用いた金属ボールを用いてもよい。
なお、図8に示すように、銅ボール5A等によって形成される多層基板2の間に他のICチップモジュール9を挿入することができる。このようにすれば、積層基板1内にICチップモジュール9を収容して装置全体の実装効率を向上することができる。
上記各実施の形態に係る積層基板1は様々な用途に用いることができる。例えば、通信機器のアレイアンテナ等に用いることができる。最も利用が期待されているのが、第5世代の通信システムのアンテナアレイである。
なお、信号の伝送線路の伝送特性(SパラメータS21)及び反射特性(SパラメータS11)は、信号の伝送線路における共振周波数付近で一般的に悪化する。したがって、例えば、アンテナアレイで送受信される信号の周波数が60GHzである場合には、信号の伝送線路の共振周波数を60GHzからずらす必要がある。
上記各実施の形態に係る積層基板1では、信号の伝送線路の共振周波数は、銅ボール5Aと銅ボール5Bとの間隔などに左右される。銅ボール5Aと銅ボール5Bとの間隔が大きければ、信号の伝送線路の共振周波数は低くなり、銅ボール5Aと銅ボール5Bとの間隔が小さければ、信号の伝送線路の共振周波数は高くなる。したがって、伝送線路の共振周波数が伝送される信号の周波数からずれるように、銅ボール5Aと銅ボール5Bとの間隔を決定すればよい。
銅ボール5Aと銅ボール5Bとの間隔を短くする必要がある場合には、配置可能な銅ボール5Bが少なくなる場合もある。このような場合には、図9に示すように、銅ボール5Bを二重に配列するのが望ましく、また、銅ボール5Bの周辺にスルーホール3Dを形成するのが望ましい。銅ボール5B及びスルーホール3Dが、多重に銅ボール5Aを囲むようにしてもよい。
この発明は、この発明の広義の精神と範囲を逸脱することなく、様々な実施の形態及び変形が可能とされるものである。また、上述した実施の形態は、この発明を説明するためのものであり、この発明の範囲を限定するものではない。すなわち、この発明の範囲は、実施の形態ではなく、特許請求の範囲によって示される。そして、特許請求の範囲内及びそれと同等の発明の意義の範囲内で施される様々な変形が、この発明の範囲内とみなされる。
本発明は、金属層と誘電体層とが交互に積層された多層基板を複数枚積層し、多層基板間を金属ボールで接続して構成する場合に適用可能である。
1 積層基板、2 多層基板、3 金属層、3A,3B 金属層、3C,3D スルーホール、4 誘電体層、5 銅ボール,5A,5B 銅ボール、6,6’,6” 彫り込み構造、7 実装部、8 はんだ、9 ICチップモジュール

Claims (9)

  1. 少なくとも3層の金属層と前記金属層の間の誘電体層とを有する複数の多層基板を備え、
    前記複数の多層基板が積層され、
    隣接する前記多層基板を構成する前記金属層同士を電気的に接続する金属ボールを備え、
    前記複数の多層基板各々について、前記金属ボールを実装する実装部に彫り込み構造が形成され、前記彫り込み構造内で前記金属ボールが前記多層基板を構成する金属層と接続されている、
    積層基板。
  2. 前記彫り込み構造は、
    開口から底面に向かって先細りとなるテーパ状の部分を含む、
    請求項1に記載の積層基板。
  3. 前記彫り込み構造の直径は、前記金属ボールの直径よりも大きい、
    請求項1又は2に記載の積層基板。
  4. 前記彫り込み構造の直径は、前記金属ボールの直径よりも小さい、
    請求項1又は2に記載の積層基板。
  5. 信号を伝送する信号伝送線路を構成する金属層に接続された第1の金属ボールと、
    前記第1の金属ボールの周囲を囲むように配列された接地用の複数の第2の金属ボールと、
    を備え、
    前記第1の金属ボール及び前記第2の金属ボールのそれぞれに対応して前記彫り込み構造が設けられている、
    請求項1から4のいずれか一項に記載の積層基板。
  6. 前記第2の金属ボールは、多重に前記第1の金属ボールを囲むように形成されている、
    請求項5に記載の積層基板。
  7. 前記多層基板では、
    前記第1の金属ボールと接続された信号伝送用の第1のスルーホールと、
    前記第2の金属ボールと接続された接地用の第2のスルーホールと、
    が形成され、
    複数の前記第2のスルーホールが、前記第1のスルーホールを囲むように形成されている、
    請求項5又は6に記載の積層基板。
  8. 前記多層基板の間に前記金属ボールとともに、
    ICチップモジュールが実装されている、
    請求項1から7のいずれか一項に記載の積層基板。
  9. 少なくとも3層の金属層と前記金属層の間の誘電体層とが積層されて構成される複数の多層基板を複数枚積層して構成される積層基板において、上下の前記多層基板を構成する金属層同士を電気的に接続する金属ボールを実装する実装方法であって、
    前記多層基板における前記金属ボールの実装部に彫り込み構造を形成し、
    前記彫り込み構造が形成された部分に金属ボールをはんだ付けする、
    金属ボールの実装方法。
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