JP2019011497A - マスキング治具、電気メッキ装置 - Google Patents

Abstract

【課題】マスクすべき部位がメッキされてしまうことを抑制することができる技術を提供する。
【解決手段】マスキング治具１００は、棒状のピストンロッド１０を通す貫通孔１３３が形成されていると共に、貫通孔１３３の周囲に、ピストンロッド１０の雄ねじ１０ｅが貫通孔１３３に挿入されることにより弾性変形してピストンロッド１０の外周端面と接触する変形部１３４を有する接触部材１３０と、接触部材１３０をピストンロッド１０の軸心方向に交差する方向に移動可能に支持する支持ユニット１７０と、を備える。
【選択図】図４

Description

本発明は、マスキング治具、電気メッキ装置に関する。

従来、棒状のワーク（被メッキ部材）の下部をマスクするマスキング治具を備える電気メッキ装置が提案されている。
例えば、特許文献１に記載された電気メッキ装置は、陽極を備えメッキ液を満たしたメッキ槽に、ワーク支持機構で吊下げた棒状のワークを浸漬する形式の電気メッキ装置において、メッキ槽に、ワークの下部をマスクするマスキング治具を備え、ワークの下部が液中でマスキング治具に挿入され、マスクする。そして、マスキング治具は、ワークの下部を収納するための、ワークの外径より大きな凹部か、ワークの外径より大径の貫通孔を備えている。

特開平９−１３１９１号公報

棒状の被メッキ部材の所定部位に対してメッキしたい物質（金属）の薄膜を形成するべくメッキ処理を施す前に、例えば、被メッキ部材の軸心とマスキング治具の凹部や貫通孔の中心とがずれていると、マスクすべき部位にもメッキされてしまうおそれがある（薄膜が形成されてしまうおそれがある）。
本発明は、マスクすべき部位がメッキされてしまうことを抑制することができるマスキング治具、電気メッキ装置を提供することを目的とする。

かかる目的のもと、本発明は、棒状の被メッキ部材を通す貫通孔が形成されていると共に、前記貫通孔の周囲に、前記被メッキ部材の特定部位が前記貫通孔に挿入されることにより弾性変形して前記被メッキ部材の外周端面と接触する変形部を有する接触部材と、前記接触部材を前記被メッキ部材の軸心方向に交差する方向に移動可能に支持する支持部と、を備えることを特徴とするマスキング治具である。
他の観点から捉えると、本発明は、メッキしたい物質を含むメッキ液を収容するメッキ槽と、棒状の被メッキ部材を把持する把持部と、前記メッキ槽内に配置されて、前記被メッキ部材の特定部位をマスクするマスキング治具と、を備え、前記マスキング治具は、前記被メッキ部材を通す貫通孔が形成されていると共に、前記貫通孔の周囲に、前記特定部位が前記貫通孔に挿入されることにより弾性変形して前記被メッキ部材の外周端面と接触する変形部を有する接触部材と、前記接触部材を前記被メッキ部材の軸心方向に交差する方向に移動可能に支持する支持部と、を備えることを特徴とする電気メッキ装置である。

本発明によれば、被メッキ部材の軸心とマスキング治具の中心とを合わせることができ、マスクすべき部位がメッキされてしまうことを抑制することができる。

本実施の形態に係る電気メッキ装置の概略構成図である。 電気メッキ装置にてメッキ処理を施しているときの状態を示す図である。 被メッキ部材の一例としてのピストンロッドの概略図である。 （ａ）及び（ｂ）は、第１の実施形態に係るマスキング治具の概略構成を示す図である。 第１の実施形態に係るマスキング治具にピストンロッドが挿入された状態を示す図である。 （ａ）は第１の実施形態に係るマスキング治具にピストンロッドが挿入される前の状態を示す図である。（ｂ）は第１の実施形態に係るマスキング治具にピストンロッドが挿入された状態を示す図である。 （ａ）は比較例に係るマスキング治具にピストンロッドが挿入される前の状態を示す図である。（ｂ）は比較例に係るマスキング治具にピストンロッドが挿入された状態を示す図である。 第２の実施形態に係るマスキング治具の概略構成を示す図である。 （ａ）は、第３の実施形態に係るマスキング治具の概略構成を示す図である。（ｂ）は、第３の実施形態に係るマスキング治具３００にピストンロッド１０が挿入された状態を示す図である。 （ａ）及び（ｂ）は、第４の実施形態に係るマスキング治具の概略構成を示す図である。 第５の実施形態に係るマスキング治具の概略構成を示す図である。

以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
図１は、本実施の形態に係る電気メッキ装置１の概略構成図である。
図２は、電気メッキ装置１にてメッキ処理を施しているときの状態を示す図である。
電気メッキ装置１は、棒状の被メッキ部材の一例としてのピストンロッド１０を把持する把持部の一例としての把持機構２０と、メッキしたい物質を含むメッキ液を収容するメッキ槽３０とを備えている。そして、電気メッキ装置１は、把持機構２０にて複数本のピストンロッド１０を把持し、複数本のピストンロッド１０を下方に配置したメッキ槽３０に浸漬することでメッキ処理する。

電気メッキ装置１は、上下方向に延びた複数の柱１１と、複数の柱１１の上部に架け渡された板状の水平板１２と、前後方向（紙面に垂直な方向）に延びる２本のレール１３と、２本のレール１３上を走行する自走台１４とを備えている。
また、電気メッキ装置１は、自走台１４に設けられたモータ１５と、モータ１５の出力軸に装着されたピニオン１６と、前後方向に延びて、ピニオン１６と共にピニオン・ラック機構を形成するラック１７とを備えている。自走台１４は、モータ１５が駆動することによって前後方向に移動する。

把持機構２０は、ピストンロッド１０を昇降する昇降シリンダ２１と、昇降を補助する２つのガイド２２と、昇降シリンダ２１及び２つのガイド２２の下端部に取付けられた板状の昇降板２３とを備えている。また、把持機構２０は、昇降板２３に装着されると共に、ピストンロッド１０を把持する複数の把持ソケット２４を有している。複数の把持ソケット２４は、昇降シリンダ２１が伸縮することで昇降板２３と共に昇降する。

また、電気メッキ装置１は、メッキ液を貯蔵するタンク３２と、ポンプ３３と、タンク３２に貯蔵されたメッキ液をメッキ槽３０に供給する供給管３４と、メッキ槽３０内のメッキ液をタンク３２に戻す戻り管３５とを備えている。
また、電気メッキ装置１は、電気メッキのための陽極３６と、陽極側のバスバー３７と、陰極受け台３８と、陰極側のバスバー３９とを備えている。

また、電気メッキ装置１は、メッキ槽３０内に配置されて、ピストンロッド１０の特定部位をマスクするマスキング治具１００と、マスキング治具１００を保持すると共に昇降する昇降機構５０とを備えている。
マスキング治具１００については後で詳述する。

昇降機構５０は、マスキング治具１００を保持する略Ｕ字状のフレーム５１と、このフレーム５１の両端を支持する複数のナット部材５２と、各ナット部材５２を昇降するスクリュー５３と、スクリュー５３を回動するための伝動ロッド５４及びべベルギヤ５５とを備えている。また、昇降機構５０は、一方のスクリュー５４に連結されたモータ５６と、他方のスクリュー５４に連結された回転検出器５７とを有している。

以上のように構成された電気メッキ装置１においては、メッキ処理すべき被メッキ部材（本実施の形態においてはピストンロッド１０）の長さやマスクする部位に応じてマスキング治具１００の高さを調整することが可能に構成されている。一方、走行モータ１５を駆動して、被メッキ部材（ピストンロッド１０）をメッキ槽３０上に移動させ、その位置で昇降シリンダ２１を駆動して、被メッキ部材を下降させる。そして、昇降板２３を陰極受け台３８に載せる。その後、陽極側のバスバー３７及び陰極側のバスバー３９を介して、陽極３６と被メッキ部材（ピストンロッド１０）との間に所定の電圧を印加する。すると、メッキ液中のメッキしたい物質の一例としての金属イオン（Ｃｒイオンなど）が陰極側の被メッキ部材（ピストンロッド１０）に向い、金属が還元析出し始める。

（ピストンロッド、マスキング治具）
図３は、被メッキ部材の一例としてのピストンロッド１０の概略図である。図１と同じ向きに示している。
図４（ａ）及び図４（ｂ）は、第１の実施形態に係るマスキング治具１００の概略構成を示す図である。マスキング治具１００は、ピストンロッド１０に対してメッキ処理を行う場合に好適な治具である。

｛ピストンロッド｝
ピストンロッド１０は、車両のサスペンションに用いられる部品であり、シリンダ内に配置されるピストンを一方の端部に保持し、他方の端部がシリンダ外に露出する。例えば、ピストンロッド１０におけるシリンダ外に露出する部位がシリンダ内を密封するオイルシールに摺接して摩耗するのを抑制するために、オイルシールに摺接する部位に硬質クロムメッキを施すメッキ処理を行う。

ピストンロッド１０は、外径が異なる複数の円柱状の部位から構成されており、外径が最も大きな中央軸部１０ａと、中央軸部１０ａよりも上方に設けられた上軸部１０ｂと、中央軸部１０ａよりも下方に設けられた下軸部１０ｃとを有している。上軸部１０ｂの上端部の外周面には雄ねじ１０ｄが形成され、下軸部１０ｃの下端部の外周面には雄ねじ１０ｅが形成されている。そして、中央軸部１０ａが、オイルシールに接触する部分であるために、電気メッキ装置１にてメッキされる（金属の薄膜が形成される）部位である。雄ねじ１０ｄ，雄ねじ１０ｅは、ナットが締め付けられる部位であるため、メッキされない（金属の薄膜が形成されない）。上軸部１０ｂが把持機構２０の把持ソケット２４にて把持され、雄ねじ１０ｅがマスキング治具１００にてマスクされる。

｛マスキング治具｝
＜第１の実施形態＞
第１の実施形態に係るマスキング治具１００は、棒状のピストンロッド１０の特定部位の一例としての雄ねじ１０ｅへ、メッキしたい物質の一例としての金属のイオンが向かうのを抑制する抑制ユニット１１０と、抑制ユニット１１０をピストンロッド１０の軸心に交差する方向に移動可能に支持する支持部の一例としての支持ユニット１７０とを備える。

〔抑制ユニット〕
抑制ユニット１１０は、ピストンロッド１０の下軸部１０ｃの外周面に接触して、雄ねじ１０ｅへ金属イオンが向かうのを抑制する接触部材１３０を備えている。また、抑制ユニット１１０は、ピストンロッド１０の雄ねじ１０ｅよりも上方に位置する中央軸部１０ａの下端部の周囲を囲み、雄ねじ１０ｅの方へ金属イオンが向かうのを抑制する抑制部材１４０を備えている。また、抑制ユニット１１０は、接触部材１２０及び抑制部材１４０を保持する保持部材１５０を備えている。

接触部材１３０は、ピストンロッド１０の下軸部１０ｃ（雄ねじ１０ｅ）の周囲を囲む円筒状の円筒状部１３１と、円筒状部１３１の上端部に設けられたフランジ１３２とを有している。接触部材１３０は、ゴムなどの弾性体である。例えば、接触部材１３０は、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）などの熱可塑性フッ素重合体にて成形されていることを例示することができる。

円筒状部１３１の内径は、ピストンロッド１０の下軸部１０ｃの外径と同じであり、円筒状部１３１の中心線方向の長さは、ピストンロッド１０の下軸部１０ｃの長さよりも長い。それゆえ、ピストンロッド１０の下軸部１０ｃは、接触部材１３０の内側に配置される。接触部材１３０の円筒状部１３１の内部は、ピストンロッド１０の下軸部１０ｃを通す貫通孔１３３として機能する。

接触部材１３０は、ピストンロッド１０の下軸部１０ｃを通す貫通孔１３３の周囲に、雄ねじ１０ｅが貫通孔１３３に挿入されることにより弾性変形してピストンロッド１０の外周端面と接触する変形部１３４を有する。変形部１３４は、円筒状部１３１における上部及び中部、フランジ１３２における中心側の部位にて構成される。変形部１３４には、放射状にスリット１３５が形成され、複数に分離している。つまり、接触部材１３０は、複数に分離した接触片１３６を有しており、ピストンロッド１０の下軸部１０ｃが挿入されていない状態で、接触片１３６同士が互いに接触しないようにスリット１３５が形成されている。

なお、マスキング治具１００においては、円筒状部１３１などの円筒状の部位や部材の中心線方向がピストンロッド１０の軸心方向と同じになるように配置されている。

抑制部材１４０は、中央部に貫通孔１４１ａが形成された円形の板状の部位である基部１４１と、基部１４１の内周側端部から軸心方向に交差する斜め上方向に傾斜した傾斜部１４２と、基部１４１の外周側端部から軸心方向に下方に延びた円筒状の円筒状部１４３とを有している。

基部１４１の貫通孔１４１ａの孔径は、ピストンロッド１０の中央軸部１０ａの外径よりも大きい。基部１４１の外径は、接触部材１３０の外径よりも大きい。
傾斜部１４２は、内面１４２ａとピストンロッド１０の中央軸部１０ａの外周面との間の隙間が上側から下側に行くに従って徐々に小さくなるように形成されている。言い換えれば、傾斜部１４２は、接触部材１３０の方に行くに従って所定部位の一例としての中央軸部１０ａとの間の隙間が徐々に小さくなるように軸心に対して傾斜している。傾斜部１４２の軸心に対する角度θは４５度未満であることを例示することができる。傾斜部１４２の上部の上部外面１４２ｂは、軸心方向に平行となるように所定長さに亘って外径が同じに成形されている。傾斜部１４２の上部外面１４２ｂよりも下方の外面は、肉厚が略同じになるように、外径が上側から下側に行くに従って徐々に小さくなるように成形されている。

円筒状部１４３の内径は、接触部材１３０のフランジ１３２の外径よりも大きく、円筒状部１４３の軸心方向の大きさは、接触部材１３０のフランジ１３２の大きさよりも大きい。円筒状部１４３の外周面には、保持部材１５０に形成された雌ねじ１５２ａに締め付けられる雄ねじ１４３ａが形成されている。
なお、抑制部材１４０は、金属や樹脂であることを例示することができる。

保持部材１５０は、中央部に貫通孔１５１ａが形成された円形の板状の部位である円板状部１５１と、円板状部１５１の外周側端部から軸心方向に上方に延びた円筒状の円筒状部１５２とを有している。
円板状部１５１の貫通孔１５１ａの孔径は、接触部材１３０の円筒状部１３１の外径よりも大きく、接触部材１３０のフランジ１３２の外径よりも小さい。円板状部１５１の外径は、接触部材１３０のフランジ１３２の外径よりも大きい。
円筒状部１５２の内周面には、抑制部材１４０の円筒状部１４３の外周面に形成された雄ねじ１４３ａが締め付けられる雌ねじ１５２ａが形成されている。
なお、保持部材１５０は、金属や樹脂であることを例示することができる。

以上のように構成された抑制ユニット１１０は、接触部材１３０を、保持部材１５０の円板状部１５１と抑制部材１４０の基部１４１との間に配置した状態で、抑制部材１４０に形成された雄ねじ１４３ａと保持部材１５０に形成された雌ねじ１５２ａとが締め付けられることで、一体化される。

〔支持ユニット〕
支持ユニット１７０は、抑制ユニット１１０が載る土台１８０と、土台１８０との間に抑制ユニット１１０を挟むことで抑制ユニット１１０の軸心方向の移動を規制する規制部材１９０と、規制部材１９０の移動を規制するロックナット１９５とを備えている。

土台１８０は、円筒状の部材であり、軸心方向に直交する上端面１８１を有する。土台１８０の内径は、抑制ユニット１１０の囲み部材１３０の円筒状部１３１の外径よりも大きく、土台１８０の軸心方向の長さは、囲み部材１３０の円筒状部１３１の長さよりも長い。土台１８０の外径は、抑制ユニット１１０の保持部材１５０の外径以上である。土台１８０の上部の外周面には、規制部材１９０に形成された雌ねじ１９１ａが締め付けられる雄ねじ１８０ａが形成されている。
なお、土台１８０は、金属や樹脂であることを例示することができる。

規制部材１９０は、外径が同じで内径が異なる２つの円筒状の第１円筒状部１９１と第２円筒状部１９２と、第２円筒状部１９２の上端部から内側（中心側）に突出した突出部１９３とを有している。
なお、規制部材１９０は、金属や樹脂であることを例示することができる。

第１円筒状部１９１の内周面には土台１８０の外周面に形成された雄ねじ１８０ａに締め付けられる雌ねじ１９１ａが形成されている。
第２円筒状部１９２の内径は、第１円筒状部１９１の内径よりも大きい。第２円筒状部１９２の軸心方向の大きさは、抑制ユニット１１０の保持部材１５０における軸心方向の大きさよりも大きい。
突出部１９３は、中央部に貫通孔１９３ａが形成された円形の板状の部位である。貫通孔１９３ａの孔径は、抑制ユニット１１０の抑制部材１４０の円筒状部１４３の内径よりも小さい。貫通孔１９３ａの孔径は、抑制部材１４０の傾斜部１４２における最も大きな外径である上部外面１４２ｂの外径よりも大きい。

以上のように構成された支持ユニット１７０は、土台１８０の上端面１８１に抑制ユニット１１０の保持部材１５０の下端面（円板状部１５１の下面）を載せた状態で、規制部材１９０を土台１８０に対して装着する。その際、規制部材１９０の突出部１９３の貫通孔１９３ａの中に抑制ユニット１１０の抑制部材１４０の傾斜部１４２を通す。その後、土台１８０に形成された雄ねじ１８０ａに規制部材１９０に形成された雌ねじ１９１ａが締め付けられることで、抑制ユニット１１０を移動可能に支持する。規制部材１９０の下方への移動は、土台１８０に形成された雄ねじ１８０ａに締め付けられたロックナット１９５にて規制される。ロックナット１９５の位置は、土台１８０の上端面１８１と規制部材１９０の突出部１９３との間の隙間が、土台１８０の上端面１８１と規制部材１９０の突出部１９３とで挟まれる抑制ユニット１１０の大きさよりも大きくなるように定められる。

規制部材１９０の第２円筒状部１９２の内径は、第１円筒状部１９１の内径よりも大きく、抑制ユニット１１０の保持部材１５０の外径よりも大きいため、第２円筒状部１９２の内周面と抑制ユニット１１０の保持部材１５０の外周面との間に隙間が生じる。それゆえ、抑制ユニット１１０は、保持部材１５０の外周面が、規制部材１９０の第２円筒状部１９２の内周面に接触するまで軸心方向に直交する方向に移動可能である。

図５は、第１の実施形態に係るマスキング治具１００にピストンロッド１０が挿入された状態を示す図である。つまり、図５は、図２のＶ部の拡大断面図でもある。
電気メッキ装置１において、陽極側のバスバー３７及び陰極側のバスバー３９を介して、陽極３６とピストンロッド１０との間に所定の電圧を印加すると、メッキ液中の金属イオンＭｉが陰極側のピストンロッド１０に向い、金属が還元析出し始める。

一方、抑制部材１４０の傾斜部１４２の内面１４２ａとピストンロッド１０の中央軸部１０ａの外周面との間の隙間は上側から下側に行くに従って徐々に小さくなるように形成されているので、中央軸部１０ａの最下端部に行くほど中央軸部１０ａの外周面に至る金属イオンＭｉの量が少なくなる。また、抑制ユニット１１０の接触部材１３０の円筒状部１３１の内径（貫通孔１３３の孔径）は、ピストンロッド１０の下軸部１０ｃの外径と同じであることから、貫通孔１３３にピストンロッド１０の下軸部１０ｃが挿入された状態では、接触部材１３０の円筒状部１３１の内周面とピストンロッド１０の下軸部１０ｃの外周面とが接触している。それゆえ、金属イオンＭｉが、接触部材１３０の上方から、接触部材１３０の円筒状部１３１の内周面と下軸部１０ｃの外周面との間を通って、雄ねじ１０ｅの方へ向かうのを、接触部材１３０が遮断する。また、接触部材１３０の円筒状部１３１が雄ねじ１０ｅの周囲を囲むので、円筒状部１３１の外側である、円筒状部１３１の外周面と土台１８０の内周面との間から、円筒状部１３１の内側に配置された雄ねじ１０ｅの方へ金属イオンＭｉが向かうのが抑制される。これらにより、ピストンロッド１０の雄ねじ１０ｅに金属の薄膜が形成される（金属が還元析出される）ことが抑制される。

マスキング治具１００に対してピストンロッド１０が挿入される際、接触部材１３０の貫通孔１３３の中心Ｃｈと、ピストンロッド１０（下軸部１０ｃ）の軸心Ｃｓとが同じである場合には、円筒状部１３１の内周面が均等にピストンロッド１０の下軸部１０ｃの外周面に接触する。

図６（ａ）は第１の実施形態に係るマスキング治具１００にピストンロッド１０が挿入される前の状態を示す図である。図６（ｂ）は第１の実施形態に係るマスキング治具１００にピストンロッド１０が挿入された状態を示す図である。
図６に示すように、マスキング治具１００に対してピストンロッド１０が挿入される際、接触部材１３０の貫通孔１３３の中心Ｃｈと、ピストンロッド１０（下軸部１０ｃ）の軸心Ｃｓとがずれていた場合には、複数の接触片１３６の内の一部の接触片１３６の上部にのみ下軸部１０ｃの外周面が接触し、接触した接触片１３６が軸心と直交する方向に力を受ける。これにより、抑制ユニット１１０が、接触片１３６が下軸部１０ｃにより受けた力に応じた方向に移動して、貫通孔１３３の中心Ｃｈとピストンロッド１０の軸心Ｃｓとが同じになり易くなる。そして、マスキング治具１００にピストンロッド１０が挿入された後には、下軸部１０ｃの外周面に、複数の接触片１３６が均等に接触することとなる。
複数の接触片１３６が下軸部１０ｃの外周端面と均等に接触することにより、接触部材１３０の上方から、円筒状部１３１の内周面と下軸部１０ｃの外周面との間を通って、金属イオンＭｉが雄ねじ１０ｅの方へ向かうのがより確度高く遮断される。

図７（ａ）は比較例に係るマスキング治具にピストンロッドが挿入される前の状態を示す図である。図７（ｂ）は比較例に係るマスキング治具にピストンロッドが挿入された状態を示す図である。
比較例に係るマスキング治具は、第１の実施形態に係るマスキング治具１００に対して、接触部材１３０が軸心と直交する方向に移動できない点が異なる。
比較例に係るマスキング治具に対してピストンロッド１０が挿入される際に、接触部材１３０に形成された貫通孔１３３の中心Ｃｈと、ピストンロッド１０（下軸部１０ｃ）の軸心Ｃｓとがずれていた場合には、複数の接触片１３６の内の一部の接触片１３６の上端部にのみ下軸部１０ｃの外周面が接触する。そして、ピストンロッド１０は、一部の接触片１３６を弾性変形させながら下方へ移動する。その結果、比較例に係るマスキング治具にピストンロッド１０が挿入された後には、複数の接触片１３６の内の下軸部１０ｃの外周面と接触しなかった接触片１３６と下軸部１０ｃの外周面との間に隙間が生じる。すると、この隙間を介して、金属イオンＭｉが、接触部材１３０の上方から雄ねじ１０ｅの方へ向かい易くなり、ピストンロッド１０の雄ねじ１０ｅがメッキされ易くなる（金属の薄膜が形成され易くなる）。また、貫通孔１３３の中心Ｃｈとピストンロッド１０（下軸部１０ｃ）の軸心Ｃｓとがずれることで一部の接触片１３６のみが繰り返し変形されると、この一部の接触片１３６が塑性変形してしまうなどの損傷が生じ易くなり、マスキング治具の耐久性が低下する。

これに対して、第１の実施形態に係るマスキング治具１００によれば、接触部材１３０の貫通孔１３３の中心Ｃｈと、ピストンロッド１０（下軸部１０ｃ）の軸心Ｃｓとがずれていたとしても、貫通孔１３３の中心Ｃｈとピストンロッド１０の軸心Ｃｓとが同じになり易くなる。つまり、支持ユニット１７０に対して抑制ユニット１１０が移動可能に支持されているので、ピストンロッド１０が挿入される際に、たとえ貫通孔１３３の中心Ｃｈとピストンロッド１０の軸心Ｃｓとがずれていたとしても、挿入後には貫通孔１３３の中心Ｃｈとピストンロッド１０の軸心Ｃｓとが同じになり易くなる。その結果、マスキング治具１００にピストンロッド１０が挿入された後には、下軸部１０ｃの外周面に、複数の接触片１３６が均等に接触し、金属イオンＭｉが、接触部材１３０の上方から雄ねじ１０ｅの方へ向かうのをより確度高く遮断される。それゆえ、第１の実施形態に係るマスキング治具１００は、マスクすべき部位がメッキされてしまう（金属の薄膜が形成されてしまう）ことをより確度高く抑制することができる。

また、第１の実施形態に係るマスキング治具１００においては、抑制ユニット１１０の抑制部材１４０の傾斜部１４２は、接触部材１３０の方に行くに従って中央軸部１０ａとの間の隙間が徐々に小さくなるように軸心方向に対して傾斜し、軸心方向に対する角度θは４５度未満である。それゆえ、第１の実施形態に係るマスキング治具１００によれば、傾斜部１４２の軸心方向に対する角度θが４５度以上である場合と比べると、金属イオンＭｉが、接触部材１３０の上方から雄ねじ１０ｅの方へ向かい難くなる。その結果、第１の実施形態に係るマスキング治具１００は、マスクすべき部位がメッキされてしまうことをより確度高く抑制することができる。

なお、角度θが小さいほど中央軸部１０ａの下端部に金属イオンＭｉが到達し難くなり、中央軸部１０ａの下端部に金属の薄膜が形成されないおそれがある。また、傾斜部１４２の軸心方向の長さが大きいほど中央軸部１０ａの下端部に金属イオンＭｉが到達し難くなる。また、傾斜部１４２の内周面の径と中央軸部１０ａの外周面の径との差が小さいほど中央軸部１０ａの下端部に金属イオンＭｉが到達し難くなる。それゆえ、角度θが小さいほど傾斜部１４２の軸心方向の長さを小さくするなど、角度θ、傾斜部１４２の軸心方向の長さ及び傾斜部１４２の内周面の径と中央軸部１０ａの外周面の径との差を相互に関連付けて設定すると良い。

また、第１の実施形態に係るマスキング治具１００においては、接触部材１３０にスリット１３５が形成されて、ピストンロッド１０の下軸部１０ｃが挿入されていない状態で、複数に分離した接触片１３６同士が互いに接触しない。これに対して、ピストンロッド１０の下軸部１０ｃが挿入される前に複数の接触片１３６同士が互いに接触している構成においては、下軸部１０ｃが挿入された後に接触片１３６同士がぶつかり合い、接触片１３６が中央軸部１０ａに接触してしまうおそれがある。接触片１３６が中央軸部１０ａに接触していると、中央軸部１０ａの下端部に金属の薄膜が形成されない。以上より、第１の実施形態に係るマスキング治具１００によれば、メッキすべき部位がメッキされないことを確度高く抑制することができる。

また、第１の実施形態に係るマスキング治具１００においては、抑制ユニット１１０の抑制部材１４０の傾斜部１４２の上部外面１４２ｂは、軸心方向に平行となるように成形されている。また、抑制部材１４０の傾斜部１４２における軸心方向に直交する方向の大きさは、支持ユニット１７０の土台１８０における軸心方向に直交する方向の大きさよりも小さい。このように、抑制部材１４０の傾斜部１４２の上部外面１４２ｂにおける軸心方向に直交する方向の大きさは抑制されている。その結果、電気メッキ装置１にマスキング治具１００を設置した状態で、抑制部材１４０の傾斜部１４２の上部外面１４２ｂが陽極３６（図１参照）と干渉し難い。つまり、第１の実施形態に係るマスキング治具１００によれば、抑制部材１４０の傾斜部１４２の形状を上述した形状とすることで、電気メッキ装置１のスペース効率を向上させることができる。

なお、上述した実施形態においては、抑制ユニット１１０の接触部材１３０の円筒状部１３１の内径（貫通孔１３３の孔径）と、ピストンロッド１０の下軸部１０ｃの外径とが同じであるが、特にかかる態様に限定されない。接触部材１３０の円筒状部１３１の内径とピストンロッド１０の下軸部１０ｃの外径とは異なっていても良い。例えば、接触部材１３０の円筒状部１３１の内径がピストンロッド１０の下軸部１０ｃの外径よりも小さくても良い。かかる場合には、ピストンロッド１０の下軸部１０ｃが貫通孔１３３に挿入される際に、接触部材１３０の接触片１３６が弾性変形することにより、貫通孔１３３に下軸部１０ｃが挿入された状態で、円筒状部１３１の内周面と下軸部１０ｃの外周面とが接触する。

一方、接触部材１３０の円筒状部１３１の内径がピストンロッド１０の下軸部１０ｃの外径よりも大きくても良い。かかる場合、つまり、接触部材１３０の円筒状部１３１の内周面とピストンロッド１０の下軸部１０ｃの外周面との間に隙間がある場合には、これら円筒状部１３１の内径と下軸部１０ｃの外径とを以下のように設定すると良い。接触部材１３０の貫通孔１３３にピストンロッド１０の下軸部１０ｃが挿入された状態で、接触部材１３０の上端面から下軸部１０ｃに形成された雄ねじ１０ｅまでの軸心方向の長さが大きい場合には、接触部材１３０の円筒状部１３１の内周面とピストンロッド１０の下軸部１０ｃの外周面との間に隙間があっても、金属イオンＭｉが雄ねじ１０ｅまで到達し難くなる。それゆえ、接触部材１３０の上端面から下軸部１０ｃに形成された雄ねじ１０ｅまでの軸心方向の長さが大きいほど、円筒状部１３１の内周面とピストンロッド１０の下軸部１０ｃの外周面との間の隙間が大きくなるのを許容するなど、金属イオンＭｉが雄ねじ１０ｅまで到達しないように、雄ねじ１０ｅの位置と隙間の大きさとを相互に関連付けて設定すると良い。

また、接触部材１３０の円筒状部１３１の内径がピストンロッド１０の下軸部１０ｃの外径よりも大きくなるように設定すると共に、軸心方向の位置関係を、ピストンロッド１０の中央軸部１０ａの下端面が接触部材１３０の上端面に突き当たり押圧するように設定しても良い。ピストンロッド１０の中央軸部１０ａの下端面が接触部材１３０の上端面を押圧することで、接触片１３６が弾性変形して内側（下軸部１０ｃの外周面側）に突出し、円筒状部１３１の内周面と下軸部１０ｃの外周面との間の隙間が小さくなる。これにより、たとえ、接触部材１３０の円筒状部１３１の内周面とピストンロッド１０の下軸部１０ｃの外周面との間に隙間があったとしても、金属イオンＭｉが雄ねじ１０ｅまで到達し難くすることが可能となる。

＜第２の実施形態＞
図８は、第２の実施形態に係るマスキング治具２００の概略構成を示す図である。
第２の実施形態に係るマスキング治具２００は、第１の実施形態に係るマスキング治具１００に対して、支持ユニット２７０の土台２８０が、下部に、支持ユニット２７０の外側から、支持ユニット２７０の内側に金属イオンＭｉが向かうのを遮断する遮断部２８３を有する点が異なる。以下、第１の実施形態に係るマスキング治具１００と異なる点について主に説明する。第１の実施形態に係るマスキング治具１００と第２の実施形態に係るマスキング治具２００とで、同じ形状、機能を有する物については同じ符号を付し、その詳細な説明は省略する。

第２の実施形態に係るマスキング治具２００は、ピストンロッド１０の下軸部１０ｃに形成された雄ねじ１０ｅへ金属イオンＭｉが向かうのを抑制する抑制ユニット１１０と、抑制ユニット１１０を支持する支持ユニット２７０とを備える。
支持ユニット２７０は、抑制ユニット１１０が載る土台２８０を有している。土台２８０は、円筒状の円筒状部２８２と、円筒状部２８２の下部に設けられてピストンロッド１０の雄ねじ１０ｅに金属イオンＭｉが向かうのを遮断する遮断部２８３とを有している。

遮断部２８３は、円筒状部２８２における下端部の開口を塞ぐ円板状の部位である。
遮断部２８３は、円筒状部２８２の下端部に、接着、粘着又は溶着されることを例示することができる。遮断部２８３は、円筒状部２８２の内側にしまりばめで嵌合されても良い。また、円筒状部２８２と遮断部２８３とを、一体的に成形しても良い。つまり、土台２８０は、カップ状であっても良い。

第２の実施形態に係るマスキング治具２００によれば、支持ユニット２７０の土台２８０の円筒状部２８２及び遮断部２８３にて雄ねじ１０ｅの周囲が囲まれるので、遮断部２８３が設けられていない構成と比べて、雄ねじ１０ｅの方へ金属イオンＭｉが向かうのがより確度高く抑制される。つまり、第２の実施形態に係るマスキング治具２００は、マスクすべき部位がメッキされてしまうことをより確度高く抑制することができる。

＜第３の実施形態＞
図９（ａ）は、第３の実施形態に係るマスキング治具３００の概略構成を示す図である。図９（ｂ）は、第３の実施形態に係るマスキング治具３００にピストンロッド１０が挿入された状態を示す図である。
第３の実施形態に係るマスキング治具３００は、第１の実施形態に係るマスキング治具１００に対して、抑制ユニット１１０が異なる。以下、第１の実施形態に係るマスキング治具１００と異なる点について主に説明する。第１の実施形態に係るマスキング治具１００と第３の実施形態に係るマスキング治具３００とで、同じ形状、機能を有する物については同じ符号を付し、その詳細な説明は省略する。

第３の実施形態に係るマスキング治具３００は、ピストンロッド１０の下軸部１０ｃに形成された雄ねじ１０ｅへ金属イオンＭｉが向かうのを抑制する抑制ユニット３１０と、抑制ユニット３１０を支持する支持ユニット１７０とを備える。
抑制ユニット３１０は、第１の実施形態に係る抑制ユニット１１０が有する、接触部材１３０、抑制部材１４０及び保持部材１５０に加えて、接触部材１３０を軸心方向に移動可能にする弾性部材３６０を有している。弾性部材３６０は、接触部材１３０のフランジ１３２と、保持部材１５０の円板状部１５１との間に配置されている。
弾性部材３６０は、ゴムにて成形された、中央部に貫通孔３６１が形成された円形の板状の部材であることを例示することができる。また、弾性部材３６０は、コイルスプリングであることを例示することができる。

第３の実施形態に係るマスキング治具３００によれば、第１の実施形態に係るマスキング治具１００よりも、ピストンロッド１０の軸心方向の位置ずれを抑制ユニット３１０にて吸収することができる。すなわち、第３の実施形態に係るマスキング治具３００によれば、例えば把持機構２０にて把持されたピストンロッド１０の軸心方向の位置が、標準位置（例えば図５に示す位置）よりも下方であったとしても、弾性部材３６０が軸心方向に弾性変形することにより接触部材１３０が下方に移動する。これにより、中央軸部１０ａの下端面が接触部材１３０に接触することに起因して接触部材１３０の変形部１３４が損傷してしまうことを抑制することができ、耐久性を向上させることができる。

＜第４の実施形態＞
図１０（ａ）及び図１０（ｂ）は、第４の実施形態に係るマスキング治具４００の概略構成を示す図である。
第４の実施形態に係るマスキング治具４００は、第１の実施形態に係るマスキング治具１００に対して、抑制ユニット１１０の接触部材１３０の形状が異なる。以下、第１の実施形態に係るマスキング治具１００と異なる点について主に説明する。第１の実施形態に係るマスキング治具１００と第４の実施形態に係るマスキング治具４００とで、同じ形状、機能を有する物については同じ符号を付し、その詳細な説明は省略する。

第４の実施形態に係るマスキング治具４００は、ピストンロッド１０の下軸部１０ｃに形成された雄ねじ１０ｅへ金属イオンＭｉが向かうのを抑制する抑制ユニット４１０と、抑制ユニット４１０を支持する支持ユニット１７０とを備える。
そして、抑制ユニット４１０は、ピストンロッド１０の下軸部１０ｃの外周面に接触して、金属イオンが雄ねじ１０ｅへ向かうのを抑制する接触部材４３０を備えている。接触部材４３０は、中央部に貫通孔４３３が形成された円形の板状の部材である。つまり、第４の実施形態に係る接触部材４３０は、第１の実施形態に係る接触部材１３０とは異なり、ピストンロッド１０の雄ねじ１０ｅの周囲を囲んでいない。接触部材４３０は、貫通孔４３３の周囲に、雄ねじ１０ｅが貫通孔４３３に挿入されることにより弾性変形してピストンロッド１０の外周面と接触する変形部４３４を有する。変形部４３４には、放射状にスリット４３５が形成され、複数に分離している。つまり、接触部材４３０は、複数に分離した接触片４３６を有しており、ピストンロッド１０の下軸部１０ｃが挿入されていない状態で、接触片４３６同士が互いに接触しないようにスリット４３５が形成されている。
接触部材４３０は、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）などの樹脂や金属であることを例示することができる。

第４の実施形態に係るマスキング治具４００によれば、第１の実施形態に係るマスキング治具１００に対して、金属イオンＭｉがピストンロッド１０の雄ねじ１０ｅの下方から雄ねじ１０ｅに向かい易くなるが、土台１８０における雄ねじ１０ｅよりも下方の部位の軸心方向の長さが十分長ければ金属イオンＭｉは雄ねじ１０ｅに至らない。それゆえ、第４の実施形態に係るマスキング治具４００のように、抑制ユニット４１０に、ピストンロッド１０の雄ねじ１０ｅの周囲を囲む部位を設けないことで、マスキング治具４００の形状を簡易にすることができる。

なお、接触部材４３０を、薄い円形の板状の部材を軸方向に複数重ねることで構成しても良い。言い換えれば、接触部材４３０は、軸方向に重ねられた複数の層から構成されていても良い。
また、円板状部材４３０と保持部材１５０の円板状部１５１との間に、第３の実施形態に係る弾性部材３６０を配置しても良い。

＜第５の実施形態＞
図１１は、第５の実施形態に係るマスキング治具５００の概略構成を示す図である。
第５の実施形態に係るマスキング治具５００は、第１の実施形態に係るマスキング治具１００に対して、抑制ユニット１１０が異なる。以下、第１の実施形態に係るマスキング治具１００と異なる点について主に説明する。第１の実施形態に係るマスキング治具１００と第５の実施形態に係るマスキング治具５００とで、同じ形状、機能を有する物については同じ符号を付し、その詳細な説明は省略する。

第５の実施形態に係るマスキング治具５００は、ピストンロッド１０の下軸部１０ｃに形成された雄ねじ１０ｅへ金属イオンＭｉが向かうのを抑制する抑制ユニット５１０と、抑制ユニット５１０を支持する支持ユニット１７０とを備える。
抑制ユニット５１０は、第１の実施形態に係る抑制ユニット１１０が有する、接触部材１３０、抑制部材１４０及び保持部材１５０に加えて、接触部材１３０の上方に遮断部材５２０を有している。

遮断部材５２０は、中央部に貫通孔５２１が形成された円形の板状の部材である。貫通孔５２１の孔径は、ピストンロッド１０の下軸部１０ｃの外径よりも小さい。遮断部材５２０は、ゴムなどの弾性体である。例えば、遮断部材５２０は、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）などの熱可塑性フッ素重合体にて成形されていることを例示することができる。

第５の実施形態に係るマスキング治具５００によれば、遮断部材５２０の貫通孔５２１の孔径は、ピストンロッド１０の下軸部１０ｃの外径よりも小さいことから、貫通孔５２１にピストンロッド１０の下軸部１０ｃが挿入された状態では、遮断部材５２０とピストンロッド１０の下軸部１０ｃの外周面とが接触している。それゆえ、金属イオンＭｉが、遮断部材５２０の上方から、雄ねじ１０ｅの方へ向かうのを、遮断部材５２０が遮断する。それゆえ、ピストンロッド１０の雄ねじ１０ｅに金属の薄膜が形成される（金属が還元析出される）ことがより確度高く抑制される。

１…電気メッキ装置、１０…ピストンロッド、１０ｃ…下軸部、１０ｅ…雄ねじ、１００，２００，３００，４００，５００…マスキング治具、１１０，３１０，４１０，５１０…抑制ユニット、１３０…接触部材、１４０…抑制部材、１５０…保持部材、１７０，２７０…支持ユニット、１８０，２８０…土台、１９０…規制部材、１９５…ロックナット

かかる目的のもと、本発明は、棒状の被メッキ部材を通す貫通孔が形成されていると共に、前記貫通孔の周囲に、前記被メッキ部材の特定部位が前記貫通孔に挿入されることにより弾性変形して前記被メッキ部材の外周端面と接触する変形部を有する接触部材と、前記接触部材を前記被メッキ部材の軸心方向に交差する方向に移動可能に支持する支持部と、を備え、前記支持部は、前記接触部材を載せる土台を有し、前記接触部材は、前記土台に対して前記軸心方向に交差する方向に移動可能であることを特徴とするマスキング治具である。
他の観点から捉えると、本発明は、メッキしたい物質を含むメッキ液を収容するメッキ槽と、棒状の被メッキ部材を把持する把持部と、前記メッキ槽内に配置されて、前記被メッキ部材の特定部位をマスクするマスキング治具と、を備え、前記マスキング治具は、前記被メッキ部材を通す貫通孔が形成されていると共に、前記貫通孔の周囲に、前記特定部位が前記貫通孔に挿入されることにより弾性変形して前記被メッキ部材の外周端面と接触する変形部を有する接触部材と、前記接触部材を前記被メッキ部材の軸心方向に交差する方向に移動可能に支持する支持部と、を備え、前記支持部は、前記接触部材を載せる土台を有し、前記接触部材は、前記土台に対して前記軸心方向に交差する方向に移動可能であることを特徴とする電気メッキ装置である。

かかる目的のもと、本発明は、棒状の被メッキ部材を通す貫通孔が形成されていると共に、前記貫通孔の周囲に、前記被メッキ部材の特定部位が前記貫通孔に挿入されることにより弾性変形して前記被メッキ部材の外周端面と接触する変形部を有する接触部材を備え、メッキしたい物質が前記特定部位へ向かうのを抑制する抑制ユニットと、前記抑制ユニットを前記被メッキ部材の軸心方向に交差する方向に移動可能に支持する支持部と、を備え、前記支持部は、前記接触部材を載せる土台と、前記土台との間に前記抑制ユニットを挟むことで前記抑制ユニットの前記軸心方向の移動を規制する規制部材とを有し、前記規制部材の内周面と前記抑制ユニットの外周面との間に隙間を形成することによって、前記抑制ユニットの外周面が前記規制部材の内周面に接触するまで、前記抑制ユニットを、前記土台に対して前記軸心方向に交差する方向に移動可能に支持することを特徴とするマスキング治具である。
他の観点から捉えると、本発明は、メッキしたい物質を含むメッキ液を収容するメッキ槽と、棒状の被メッキ部材を把持する把持部と、前記メッキ槽内に配置されて、前記被メッキ部材の特定部位をマスクするマスキング治具と、を備え、前記マスキング治具は、前記被メッキ部材を通す貫通孔が形成されていると共に、前記貫通孔の周囲に、前記特定部位が前記貫通孔に挿入されることにより弾性変形して前記被メッキ部材の外周端面と接触する変形部を有する接触部材を備え、メッキしたい物質が前記特定部位へ向かうのを抑制する抑制ユニットと、前記抑制ユニットを前記被メッキ部材の軸心方向に交差する方向に移動可能に支持する支持部と、を備え、前記支持部は、前記接触部材を載せる土台と、前記土台との間に前記抑制ユニットを挟むことで前記抑制ユニットの前記軸心方向の移動を規制する規制部材とを有し、前記規制部材の内周面と前記抑制ユニットの外周面との間に隙間を形成することによって、前記抑制ユニットの外周面が前記規制部材の内周面に接触するまで、前記抑制ユニットを、前記土台に対して前記軸心方向に交差する方向に移動可能に支持することを特徴とする電気メッキ装置である。

Claims (8)

1. 棒状の被メッキ部材を通す貫通孔が形成されていると共に、前記貫通孔の周囲に、前記被メッキ部材の特定部位が前記貫通孔に挿入されることにより弾性変形して前記被メッキ部材の外周端面と接触する変形部を有する接触部材と、
   前記接触部材を前記被メッキ部材の軸心方向に交差する方向に移動可能に支持する支持部と、
   を備えることを特徴とするマスキング治具。
2. 前記変形部は、放射状にスリットが形成されて複数に分離している
   請求項１に記載のマスキング治具。
3. 前記接触部材は、弾性体であると共に、前記被メッキ部材の軸方向に重ねられた複数の層から構成される
   請求項１又は２に記載のマスキング治具。
4. 前記特定部位へメッキしたい物質が向かうのを抑制する抑制部材を有する
   請求項１〜３のいずれか１項に記載のマスキング治具。
5. 前記抑制部材は、前記接触部材の方に行くに従って前記被メッキ部材の所定部位との間の隙間が徐々に小さくなるように前記被メッキ部材の軸心方向に対して傾斜した傾斜部を有し、前記傾斜部の前記軸心方向に対する角度は４５度未満である
   請求項４に記載のマスキング治具。
6. 前記支持部は、前記接触部材を載せる土台を有し、
   前記抑制部材の前記傾斜部における前記軸心方向に交差する方向の大きさは、前記土台の大きさよりも小さい
   請求項５に記載のマスキング治具。
7. 前記支持部は、前記接触部材を載せる土台を有し、
   前記土台は、前記特定部位へ前記物質が向かうのを遮断する遮断部を有する
   請求項５又は６に記載のマスキング治具。
8. メッキしたい物質を含むメッキ液を収容するメッキ槽と、
   棒状の被メッキ部材を把持する把持部と、
   前記メッキ槽内に配置されて、前記被メッキ部材の特定部位をマスクするマスキング治具と、
   を備え、
   前記マスキング治具は、
   前記被メッキ部材を通す貫通孔が形成されていると共に、前記貫通孔の周囲に、前記特定部位が前記貫通孔に挿入されることにより弾性変形して前記被メッキ部材の外周端面と接触する変形部を有する接触部材と、
   前記接触部材を前記被メッキ部材の軸心方向に交差する方向に移動可能に支持する支持部と、
   を備えることを特徴とする電気メッキ装置。

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