JP2019008880A - 歪み補正方法および電子顕微鏡 - Google Patents
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Abstract
Description
の絞りの影の二回対称歪みは補正できる。しかしながら、特許文献2には、例えば照射系の絞りの影の三回対称歪みの補正方法については開示されていない。
複数段の多極子および前記多極子間に配置された転送レンズ系を有する収差補正装置が照射系に組み込まれた荷電粒子線装置において、前記照射系の絞りの影の歪みを補正する歪み補正方法であって、
前記転送レンズ系の励磁を変化させて、前記絞りの影の歪みを補正する工程を含む。
複数段の多極子および前記多極子間に配置された転送レンズ系を有する収差補正装置、および絞りを含む照射系と、
前記絞りの影の歪みを計測する歪み計測部と、
前記収差補正装置を制御する制御部と、
を含み、
前記制御部は、前記絞りの影の歪みの計測結果に基づいて、前記転送レンズ系の励磁を変化させる制御を行う。
1.1. 電子顕微鏡
まず、第1実施形態に係る電子顕微鏡について、図面を参照しながら説明する。図1は、第1実施形態に係る電子顕微鏡の構成を示す図である。
コンデンサー絞り12と、走査コイル13と、対物レンズ14と、試料ステージ16と、試料ホルダー17と、中間レンズ18と、投影レンズ20と、STEM検出器22a,22bと、撮像装置24と、収差補正装置30と、処理部40と、操作部50と、表示部52と、記憶部54と、を含む。
補正装置30は、負の球面収差を作り出し、照射系の正の球面収差を打ち消すことで照射系の球面収差を補正する球面収差補正装置である。
負の球面収差が生じる。これを利用して光学系の正の球面収差を補正できる。
次に、第1実施形態に係る歪み補正方法について説明する。電子顕微鏡100では、収差補正装置30において第1多極子32aおよび第2多極子32bが三回場を発生させることによって、コンデンサー絞り12の影には三回対称の歪みが生じる。本実施形態では、このコンデンサー絞り12の影の三回対称歪みを補正する。図3は、第1実施形態に係
る歪み補正方法の一例を示すフローチャートである。
まず、転送レンズ系34の励磁を変化させて、コンデンサー絞り12の影の三回対称歪みを補正する。
いておき、この真円にコンデンサー絞り12の影が一致するように、第1転送レンズ34aおよび第2転送レンズ34bの励磁を変化させてもよい。
次に、軸上収差の計測を行う。
次に、軸上収差の計測結果に基づいて、スリーローブ収差の補正を行う。スリーローブ収差の補正は、転送レンズ系34の励磁を変化させることで行われる。
次に、スリーローブ収差が補正されたか否かを判定する。スリーローブ収差が補正されたか否かの判定は、軸上収差を計測する工程(S102)と同様に、SRAM法やプローブタブロー法により軸上収差(スリーローブ収差)を計測することで行われる。
ユーザーは、スリーローブ収差が補正されたと判断した場合(S106のYes)、コンデンサー絞り12の影の三回対称歪みが補正されたか否かを判定する。ユーザーは、例
えば、蛍光板や表示部52に表示されたコンデンサー絞り12の影をみて三回対称歪みが補正されたか否かを判断する。
2.1. 電子顕微鏡
次に、第2実施形態に係る電子顕微鏡について図面を参照しながら説明する。図8は、
第2実施形態に係る電子顕微鏡200を模式的に示す図である。図9は、第2実施形態に係る電子顕微鏡200の収差補正装置230を模式的に示す図である。
次に、第2実施形態に係る歪み補正方法について説明する。
3.1. 電子顕微鏡
次に、第3実施形態に係る電子顕微鏡について、図面を参照しながら説明する。図16は、第3実施形態に係る電子顕微鏡300の構成を示す図である。以下、第3実施形態に係る電子顕微鏡300において、第1実施形態に係る電子顕微鏡100の構成部材と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
次に、第3実施形態に係る電子顕微鏡300の動作について説明する。ここでは、電子顕微鏡300の処理部40における、コンデンサー絞り12の影の三回対称歪みを補正する処理について説明する。
てもよい。この場合、電子顕微鏡の動作は、図17に示すコンデンサー絞り12の影の歪みを補正する処理(S204)、およびスリーローブ収差を補正する処理(S210)が、第2実施形態で説明した手法が用いられる点を除いて、上述した動作と同様である。
なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
ができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
Claims (13)
- 複数段の多極子および前記多極子間に配置された転送レンズ系を有する収差補正装置が照射系に組み込まれた荷電粒子線装置において、前記照射系の絞りの影の歪みを補正する歪み補正方法であって、
前記転送レンズ系の励磁を変化させて、前記絞りの影の歪みを補正する工程を含む、歪み補正方法。 - 請求項1において、
前記転送レンズ系は、第1転送レンズと、第2転送レンズと、を有する、歪み補正方法。 - 請求項2において、
前記絞りの影の歪みを補正する工程では、前記第1転送レンズおよび前記第2転送レンズの両方を励磁が強くなるように変化させる、または、前記第1転送レンズおよび前記第2転送レンズの両方を励磁が弱くなるように変化させる、歪み補正方法。 - 請求項2または3において、
前記転送レンズ系の励磁を変化させて、軸上収差を補正する工程を含む、歪み補正方法。 - 請求項4において、
前記軸上収差を補正する工程では、前記第1転送レンズおよび前記第2転送レンズのうちの一方を励磁が強くなるように変化させ、他方を励磁が弱くなるように変化させる、歪み補正方法。 - 請求項4または5において、
前記多極子は、三回場を発生させ、
前記軸上収差を補正する工程では、スリーローブ収差を補正する、歪み補正方法。 - 請求項1ないし6のいずれか1項において、
前記多極子は、三回場を発生させ、
前記絞りの影の歪みを補正する工程では、前記絞りの影の三回対称歪みを補正する、歪み補正方法。 - 請求項1ないし7のいずれか1項において、
前記荷電粒子線装置は、走査透過電子顕微鏡である、歪み補正方法。 - 複数段の多極子および前記多極子間に配置された転送レンズ系を有する収差補正装置、および絞りを含む照射系と、
前記絞りの影の歪みを計測する歪み計測部と、
前記収差補正装置を制御する制御部と、
を含み、
前記制御部は、前記絞りの影の歪みの計測結果に基づいて、前記転送レンズ系の励磁を変化させる制御を行う、荷電粒子線装置。 - 請求項9において、
前記転送レンズ系は、第1転送レンズと、第2転送レンズと、を有している、荷電粒子線装置。 - 請求項10において、
前記制御部は、前記絞りの影の歪みの計測結果に基づいて、前記第1転送レンズおよび前記第2転送レンズの両方を励磁が強くなるように変化させる、または、前記第1転送レンズおよび前記第2転送レンズの両方を励磁が弱くなるように変化させる、荷電粒子線装置。 - 請求項10または11において、
軸上収差を計測する軸上収差計測部を含み、
前記制御部は、前記軸上収差の計測結果に基づいて、前記転送レンズ系の励磁を変化させる制御を行う、荷電粒子線装置。 - 請求項12において、
前記制御部は、前記軸上収差の計測結果に基づいて、前記第1転送レンズおよび前記第2転送レンズのうちの一方を励磁が強くなるように変化させ、他方を励磁が弱くなるように変化させる、荷電粒子線装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017120642A JP6868480B2 (ja) | 2017-06-20 | 2017-06-20 | 歪み補正方法および電子顕微鏡 |
EP18178133.7A EP3419043B1 (en) | 2017-06-20 | 2018-06-15 | Distortion correction method and electron microscope |
US16/012,057 US10446362B2 (en) | 2017-06-20 | 2018-06-19 | Distortion correction method and electron microscope |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017120642A JP6868480B2 (ja) | 2017-06-20 | 2017-06-20 | 歪み補正方法および電子顕微鏡 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019008880A true JP2019008880A (ja) | 2019-01-17 |
JP6868480B2 JP6868480B2 (ja) | 2021-05-12 |
Family
ID=62712789
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017120642A Active JP6868480B2 (ja) | 2017-06-20 | 2017-06-20 | 歪み補正方法および電子顕微鏡 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10446362B2 (ja) |
EP (1) | EP3419043B1 (ja) |
JP (1) | JP6868480B2 (ja) |
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- 2017-06-20 JP JP2017120642A patent/JP6868480B2/ja active Active
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2018
- 2018-06-15 EP EP18178133.7A patent/EP3419043B1/en active Active
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JP6868480B2 (ja) | 2021-05-12 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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