JP7240525B2 - 荷電粒子線装置及び収差補正方法 - Google Patents
荷電粒子線装置及び収差補正方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7240525B2 JP7240525B2 JP2021558118A JP2021558118A JP7240525B2 JP 7240525 B2 JP7240525 B2 JP 7240525B2 JP 2021558118 A JP2021558118 A JP 2021558118A JP 2021558118 A JP2021558118 A JP 2021558118A JP 7240525 B2 JP7240525 B2 JP 7240525B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- multipole
- correction
- aberration
- charged particle
- poles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/153—Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/244—Detectors; Associated components or circuits therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/153—Correcting image defects, e.g. stigmators
- H01J2237/1532—Astigmatism
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/153—Correcting image defects, e.g. stigmators
- H01J2237/1534—Aberrations
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/245—Detection characterised by the variable being measured
- H01J2237/24507—Intensity, dose or other characteristics of particle beams or electromagnetic radiation
- H01J2237/24514—Beam diagnostics including control of the parameter or property diagnosed
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/28—Scanning microscopes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
Claims (12)
- 荷電粒子源からの荷電粒子線を試料に照射する荷電粒子光学系と、
前記荷電粒子線と前記試料との相互作用により放出される電子を検出する検出器と、
制御部とを有し、
前記荷電粒子光学系は、前記荷電粒子線の収差を補正する、複数段の多極子を有する収差補正器を備え、
前記多極子は複数の極子を備え、前記複数の極子に対して所定の補正電圧または補正電流が印加されることにより、所定の多極子場を発生させ、
前記収差補正器は、前記荷電粒子線の収差を補正するため、前記複数段の多極子のそれぞれに複数の多極子場を重畳して発生可能であり、
前記制御部は、前記複数段のうちの任意段の多極子に発生させる前記複数の多極子場のいずれか一つの第1多極子場について、前記第1多極子場の発生の前後で前記荷電粒子線を前記試料に照射して前記検出器から検出された電子に基づき得られる観察像のシフトをなくすように、前記第1多極子場を発生させる多極子の前記複数の極子に印加する所定の補正電圧または補正電流の値を補正する荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記制御部は、前記複数段のそれぞれの多極子に発生させる複数の多極子場のそれぞれについて、当該多極子場の発生の前後で前記荷電粒子線を前記試料に照射して前記検出器から検出された電子に基づき得られる観察像のシフトがないように、当該多極子場を発生させる多極子の前記複数の極子に印加する所定の補正電圧または補正電流の値を補正する歪み補正を行い、前記複数段のそれぞれの多極子の前記複数の極子に、当該多極子に発生させる複数の多極子場のそれぞれについて前記歪み補正を行った所定の補正電圧または補正電流の値を加算した補正電圧または補正電流を印加することにより、前記複数の多極子場を重畳して発生させる荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記制御部は、前記第1多極子場の発生前の前記観察像と前記第1多極子場の発生後の前記観察像から前記観察像のシフトを求め、前記観察像のシフトをなくす不均一場を前記第1多極子場に重畳して発生させる荷電粒子線装置。 - 請求項3において、
前記多極子の前記複数の極子は、対向する第1の極子対と対向する第2の極子対とを含み、前記第1の極子対間を結ぶ直線と前記第2の極子対間を結ぶ直線とは直交しており、
前記制御部は、前記観察像のシフトをなくす不均一場を、前記第1の極子対が発生させる第1の不均一場と前記第2の極子対が発生させる第2の不均一場とを合成して発生させる荷電粒子線装置。 - 請求項3において、
前記多極子の前記複数の極子は、対向する第1乃至第4の極子対を含み、前記第1の極子対間を結ぶ直線と前記第2の極子対間を結ぶ直線と、及び前記第3の極子対間を結ぶ直線と前記第4の極子対間を結ぶ直線とは直交しており、前記第1の極子対のそれぞれは前記第3の極子対のそれぞれと隣接し、前記第2の極子対のそれぞれは前記第4の極子対のそれぞれと隣接しており、
前記制御部は、前記観察像のシフトをなくす不均一場を、前記第1及び前記第3の極子対が発生させる第1の不均一場と、前記第2及び前記第4の極子対が発生させる第2の不均一場とを合成して発生させる荷電粒子線装置。 - 請求項5において、
隣接する前記第1の極子対の極子及び前記第3の極子対の極子とは極性が同じであり、隣接する前記第2の極子対の極子及び前記第4の極子対の極子とは極性が同じである荷電粒子線装置。 - 請求項5において、
隣接する前記第1の極子対の極子及び前記第3の極子対の極子とは極性が異なり、隣接する前記第2の極子対の極子及び前記第4の極子対の極子とは極性が異なる荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記多極子の前記複数の極子の先端を結んで形成される円の直径をφ、前記多極子間の距離をdとするとき、5φ>d>0.5φの関係を有する荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
操作画面を表示する表示装置を有し、
前記制御部は、前記操作画面より指定された、前記任意段の多極子の前記第1多極子場について、前記第1多極子場を発生させる前記複数の極子に印加する所定の補正電圧または補正電流の値を補正する荷電粒子線装置。 - 荷電粒子線装置の収差補正方法であって、
前記荷電粒子線装置は、荷電粒子線の収差を補正する収差補正器と、前記荷電粒子線と試料との相互作用により放出される電子を検出する検出器と、前記収差補正器の制御を行う制御部とを備え、
前記収差補正器は複数段の多極子を備え、
前記多極子は複数の極子を備え、前記複数の極子に対して所定の補正電圧または補正電流が印加されることにより、複数の多極子場を重畳して発生させ、
前記荷電粒子線の収差を補正するため、前記収差補正器の前記多極子の前記複数の極子に印加する補正電流または補正電圧の理論値を算出するための収差補正テーブルと、前記収差補正器の前記多極子の歪みを補正するため、前記収差補正器の前記多極子の前記複数の極子に印加する補正電流または補正電圧の補正値を算出するための歪み補正テーブルとを記憶し、
前記制御部は、
前記荷電粒子線の収差を測定し、
測定された前記荷電粒子線の収差と前記収差補正テーブルとを用いて、前記荷電粒子線の収差を補正するために前記収差補正器の前記多極子の前記複数の極子に印加する補正電流または補正電圧の理論値を求め、
前記複数段のそれぞれの多極子に発生させる前記複数の多極子場のそれぞれについて、当該多極子場の発生の前後で前記荷電粒子線を前記試料に照射して前記検出器から検出された電子に基づき得られる観察像のシフトを求め、前記歪み補正テーブルを用いて、前記観察像のシフトをなくすような当該多極子場を発生させるために当該多極子の前記複数の極子に印加する補正電流または補正電圧の補正値を求め、
前記複数段の多極子の前記複数の極子に印加する補正電流または補正電圧を、前記理論値を前記補正値により補正することにより求める収差補正方法。 - 請求項10において、
前記歪み補正テーブルは、前記複数段のそれぞれの多極子ごとに、前記観察像のシフトをなくす不均一場を発生させる補正電流または補正電圧を前記補正値として格納する収差補正方法。 - 請求項10において、
前記制御部は、前記複数段の多極子の前記複数の極子に印加する補正電流または補正電圧を前記収差補正器に印加し、
前記荷電粒子線の光軸調整を行う収差補正方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2019/045623 WO2021100172A1 (ja) | 2019-11-21 | 2019-11-21 | 荷電粒子線装置及び収差補正方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2021100172A1 JPWO2021100172A1 (ja) | 2021-05-27 |
JPWO2021100172A5 JPWO2021100172A5 (ja) | 2022-08-17 |
JP7240525B2 true JP7240525B2 (ja) | 2023-03-15 |
Family
ID=75980013
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021558118A Active JP7240525B2 (ja) | 2019-11-21 | 2019-11-21 | 荷電粒子線装置及び収差補正方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20220415605A1 (ja) |
JP (1) | JP7240525B2 (ja) |
DE (1) | DE112019007790T5 (ja) |
WO (1) | WO2021100172A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2024009913A1 (ja) * | 2022-07-06 | 2024-01-11 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ電子ビーム画像取得装置、マルチ電子ビーム画像取得方法、電子ビーム画像取得装置、及び電子ビーム画像取得方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002093357A (ja) | 2000-09-19 | 2002-03-29 | Toshiba Corp | 荷電粒子ビームの制御方法とその装置ならびに電子ビーム描画装置 |
JP2006114305A (ja) | 2004-10-14 | 2006-04-27 | Jeol Ltd | 多極子場補正方法及び装置 |
JP2006140119A (ja) | 2004-10-14 | 2006-06-01 | Jeol Ltd | アライメント自動補正方法及び装置並びに収差補正器の制御方法 |
JP2006216299A (ja) | 2005-02-02 | 2006-08-17 | Jeol Ltd | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置における収差補正器の軸合わせ方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5688246A (en) * | 1979-12-20 | 1981-07-17 | Jeol Ltd | Electron beam device |
JP5806942B2 (ja) | 2012-01-19 | 2015-11-10 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置及び演算装置 |
-
2019
- 2019-11-21 JP JP2021558118A patent/JP7240525B2/ja active Active
- 2019-11-21 US US17/778,526 patent/US20220415605A1/en active Pending
- 2019-11-21 WO PCT/JP2019/045623 patent/WO2021100172A1/ja active Application Filing
- 2019-11-21 DE DE112019007790.2T patent/DE112019007790T5/de active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002093357A (ja) | 2000-09-19 | 2002-03-29 | Toshiba Corp | 荷電粒子ビームの制御方法とその装置ならびに電子ビーム描画装置 |
JP2006114305A (ja) | 2004-10-14 | 2006-04-27 | Jeol Ltd | 多極子場補正方法及び装置 |
JP2006140119A (ja) | 2004-10-14 | 2006-06-01 | Jeol Ltd | アライメント自動補正方法及び装置並びに収差補正器の制御方法 |
JP2006216299A (ja) | 2005-02-02 | 2006-08-17 | Jeol Ltd | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置における収差補正器の軸合わせ方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2021100172A1 (ja) | 2021-05-27 |
JPWO2021100172A1 (ja) | 2021-05-27 |
US20220415605A1 (en) | 2022-12-29 |
DE112019007790T5 (de) | 2022-06-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6554288B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP4620981B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
JP4708854B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
US8581190B2 (en) | Charged particle beam apparatus and geometrical aberration measurement method therefor | |
JP5103532B2 (ja) | 収差補正器を備えた荷電粒子線装置 | |
US20090014649A1 (en) | Electron beam apparatus | |
US8692196B2 (en) | Method of use for a multipole detector for a transmission electron microscope | |
JP6037693B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP6647854B2 (ja) | 収差補正方法および荷電粒子線装置 | |
US20100116984A1 (en) | Charged particle beam apparatus and method of adjusting charged particle optics | |
WO2014115708A1 (ja) | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置における軌道修正方法 | |
EP2405460B1 (en) | Electron beam device with tilting and dispersion compensation, and method of operating same | |
JP4359232B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2017220413A (ja) | 荷電粒子線装置および収差補正方法 | |
JP6868480B2 (ja) | 歪み補正方法および電子顕微鏡 | |
JP7240525B2 (ja) | 荷電粒子線装置及び収差補正方法 | |
WO2012042738A1 (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
JP2003168383A (ja) | 走査電子顕微鏡装置 | |
JP6737539B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP4431624B2 (ja) | 荷電粒子線調整方法、及び荷電粒子線装置 | |
WO2013035386A1 (ja) | 多極子測定装置 | |
US20230245852A1 (en) | Multiple particle beam microscope and associated method with fast autofocus around an adjustable working distance | |
JP4607558B2 (ja) | 荷電粒子光学装置及び収差補正方法 | |
CN117672786A (zh) | 磁多极器件、带电粒子束设备和影响沿光轴传播的带电粒子束的方法 | |
JP2011040256A (ja) | 走査荷電粒子線装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A529 | Written submission of copy of amendment under article 34 pct |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A5211 Effective date: 20220517 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220517 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230221 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230303 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7240525 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |