JP2015026431A - 球面収差補正装置、球面収差補正方法、および荷電粒子線装置 - Google Patents

球面収差補正装置、球面収差補正方法、および荷電粒子線装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2015026431A
JP2015026431A JP2013153367A JP2013153367A JP2015026431A JP 2015026431 A JP2015026431 A JP 2015026431A JP 2013153367 A JP2013153367 A JP 2013153367A JP 2013153367 A JP2013153367 A JP 2013153367A JP 2015026431 A JP2015026431 A JP 2015026431A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
field
spherical aberration
hexapole
diffraction pattern
charged particle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013153367A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6077960B2 (ja
Inventor
英敬 沢田
Hideaki Sawada
英敬 沢田
雄 神保
Yu Jimbo
雄 神保
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jeol Ltd filed Critical Jeol Ltd
Priority to JP2013153367A priority Critical patent/JP6077960B2/ja
Priority to DE102014010685.3A priority patent/DE102014010685A1/de
Priority to US14/338,542 priority patent/US9256068B2/en
Publication of JP2015026431A publication Critical patent/JP2015026431A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6077960B2 publication Critical patent/JP6077960B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/0025Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
    • G02B27/0037Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration with diffracting elements
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/20Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/08Deviation, concentration or focusing of the beam by electric or magnetic means
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J3/00Details of electron-optical or ion-optical arrangements or of ion traps common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
    • H01J3/12Arrangements for controlling cross-section of ray or beam; Arrangements for correcting aberration of beam, e.g. due to lenses
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J3/00Details of electron-optical or ion-optical arrangements or of ion traps common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
    • H01J3/26Arrangements for deflecting ray or beam
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/05Electron or ion-optical arrangements for separating electrons or ions according to their energy or mass
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/147Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/147Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
    • H01J37/1472Deflecting along given lines
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/153Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H01J37/28Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/42Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/42Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
    • G02B27/4205Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having a diffractive optical element [DOE] contributing to image formation, e.g. whereby modulation transfer function MTF or optical aberrations are relevant
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/153Correcting image defects, e.g. stigmators
    • H01J2237/1532Astigmatism
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/153Correcting image defects, e.g. stigmators
    • H01J2237/1534Aberrations
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J3/00Details of electron-optical or ion-optical arrangements or of ion traps common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
    • H01J3/04Ion guns

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Abstract

【課題】像および回折図形の少なくとも一方の真円度のずれの補正と軸上収差の補正とを個別に行うことができる球面収差補正装置を提供する。
【解決手段】 球面収差補正装置100は、像および回折図形を取得する荷電粒子線装置用の球面収差補正装置であって、多段の六極子場を発生させる六極子場発生部110と、前記多段の六極子場の少なくとも1つに、前記像および前記回折図形の少なくとも一方の真円度のずれを補正する八極子場を重畳する八極子場重畳部120と、荷電粒子線を偏向させる偏向部130と、を含む。
【選択図】図1

Description

本発明は、球面収差補正装置、球面収差補正方法、および荷電粒子線装置に関する。
透過電子顕微鏡(TEM)や走査透過電子顕微鏡(STEM)等の電子顕微鏡の球面収差補正装置として、厚い三回対称場、すなわち、光軸に沿った厚みを有する三回対称場を用いた二段三回場型球面収差補正装置が用いられている。
ここで、二回非点収差が光学的に異なる面で導入されると、像の真円度のずれ(アスペクト比のずれ)や、回折図形(Diffraction patterns)の真円度のずれが生じることが知られている(例えば非特許文献1参照)。
二段三回場型球面収差補正装置では、厚い三回対称場を用いた光学系のため、多極子場内で軸ずれが起きると、多極子の中心である逆空間と異なる面で(三回非点収差の軸ずれによる)二回対称場が発生し、像の真円度のずれや回折図形の真円度のずれが発生することがある。
二段三回場型球面収差補正装置には、一般的に、アライメントのために、電子線を二次元的に偏向させる偏向系が装備されている。この偏向系を用いて、像の真円度のずれや回折図形の真円度のずれを補正することができる。
一方、球面収差補正装置においては、軸上収差(二回非点収差、軸上コマ収差、スター収差、四回非点収差)を補正する必要がある。
例えば、特許文献1には、六極子場を発生させる2つの多極子コイルと、その間に2枚の軸対称レンズ(転送レンズ)を配置した球面収差補正器が開示されている。そして、特許文献1の球面収差補正器では、対物レンズの球面収差Csは補正されるが、多極子レンズを構成する個々の極子の位置ずれや、極子材料の磁気的特性のばらつきなどにより、寄生収差(2回対称1次非点収差、1回対称2次コマ収差、3回対称2次非点収差、2回対称3次スター収差、4回対称3次非点収差)が発生してしまうと記載されている。
球面収差補正装置では、一般的に、軸上収差の補正が上記の偏向系によって行われる。
特開2013−30278号公報
O.Scherzer,Optik2(1947),114
このように球面収差補正装置では、像や回折図形の真円度のずれの補正と、軸上収差の補正を、上記の偏向系で行うことができる。しかしながら、上述した球面収差補正装置では、像や回折図形の真円度のずれの補正と軸上収差の補正を同じ偏向系で行わなければならない。
したがって、例えば、像や回折図形の真円度のずれと軸上収差とがともに補正されるように偏向系を調整しなければならず、調整が複雑化してしまう場合がある。また、例えば、像や回折図形の真円度のずれと軸上収差とがともに補正されるような調整ができない場合があり、像や回折図形の真円度のずれの影響、および軸上収差の影響を低減できない場合がある。
そのため、像や回折図形の真円度のずれの補正と軸上収差の補正を個別に行うことができる球面収差補正装置が望まれている。
本発明のいくつかの態様に係る目的の1つは、像および回折図形の少なくとも一方の真円度のずれの補正と軸上収差の補正を個別に行うことができる球面収差補正装置、および球面収差補正方法を提供することにある。
また、本発明のいくつかの態様に係る目的の1つは、上記球面収差補正装置を含む荷電粒子線装置を提供することにある。
(1)本発明に係る球面収差補正装置は、
像および回折図形を取得する荷電粒子線装置用の球面収差補正装置であって、
多段の六極子場を発生させる六極子場発生部と、
前記多段の六極子場の少なくとも1つに、前記像および前記回折図形の少なくとも一方の真円度のずれを補正する八極子場を重畳する八極子場重畳部と、
荷電粒子線を偏向させる偏向部と、
を含む。
このような球面収差補正装置によれば、軸上収差の補正と像および回折図形の少なくとも一方の真円度のずれの補正を個別に行うことができる。
(2)本発明に係る球面収差補正装置において、
前記偏向部は、前記六極子場における前記荷電粒子線の傾きを、前記八極子場によって導入される四回非点収差が補正される大きさにしてもよい。
このような球面収差補正装置によれば、八極子場重畳部が発生させる八極子場によって導入される四回非点収差が、偏向部が荷電粒子線を傾けることによって補正される結果として、像および回折図形の少なくとも一方の真円度のずれを補正することができる。したがって、軸上収差の補正と像および回折図形の少なくとも一方の真円度のずれの補正を個別に行うことができる。
(3)本発明に係る球面収差補正装置は、
像および回折図形を取得する荷電粒子線装置用の球面収差補正装置であって、
多段の六極子場を発生させる六極子場発生部と、
前記多段の六極子場の少なくとも1つに、前記像および前記回折図形の少なくとも一方の真円度のずれを補正する四極子場を重畳する四極子場重畳部と、
荷電粒子線を偏向させる偏向部と、
を含む。
このような球面収差補正装置によれば、軸上収差の補正と像および回折図形の少なくとも一方の真円度のずれの補正を個別に行うことができる。
(4)本発明に係る球面収差補正装置において、
前記偏向部は、前記六極子場における前記荷電粒子線の傾きを、前記四極子場によって導入されるスター収差が補正される大きさにしてもよい。
このような球面収差補正装置によれば、四極子場重畳部が発生させる四極子場によって導入されるスター収差が、偏向部が荷電粒子線を傾けることによって補正される結果として、像および回折図形の少なくとも一方の真円度のずれを補正することができる。したがって、軸上収差の補正と像および回折図形の少なくとも一方の真円度のずれの補正を個別に行うことができる。
(5)本発明に係る球面収差補正装置は、
像および回折図形を取得する荷電粒子線装置用の球面収差補正装置であって、
多段の六極子場を発生させる六極子場発生部と、
前記多段の六極子場の少なくとも1つに、前記像および前記回折図形の少なくとも一方の真円度のずれを補正する偏向場を重畳する偏向場重畳部と、
荷電粒子線を偏向させる偏向部と、
を含む。
このような球面収差補正装置によれば、軸上収差の補正と像および回折図形の少なくとも一方の真円度のずれの補正を個別に行うことができる。
(6)本発明に係る球面収差補正装置において、
前記偏向部は、前記六極子場における前記荷電粒子線の傾きを、前記偏向場によって導入されるスター収差が補正される大きさにしてもよい。
このような球面収差補正装置によれば、偏向場重畳部が発生させた偏向場によって導入されるスター収差が、偏向部が荷電粒子線を傾けることによって補正される結果として、像および回折図形の少なくとも一方の真円度のずれを補正することができる。したがって、軸上収差の補正と像および回折図形の少なくとも一方の真円度のずれの補正を個別に行うことができる。
(7)本発明に係る球面収差補正装置において、
前記六極子場発生部は、二段に配置された多極子を有してもよい。
(8)本発明に係る球面収差補正装置において、
二段に配置された前記多極子の間に配置されている転送レンズを含んでいてもよい。
(9)本発明に係る球面収差補正方法は、
像および回折図形を取得する荷電粒子線装置の球面収差補正方法であって、
多段の六極子場を構成する前記六極子場の少なくとも1つに、前記像および前記回折図形の少なくとも一方の真円度のずれを補正する八極子場を重畳する工程と、
荷電粒子線を偏向させて、前記六極子場における前記荷電粒子線の傾きを、前記八極子場によって導入される四回非点収差が補正される大きさにする工程と、
を含む。
このような球面収差補正方法によれば、重畳した八極子場によって導入される四回非点収差が、荷電粒子線を傾けることによって補正される結果として、像および回折図形の少なくとも一方の真円度のずれを補正することができる。したがって、軸上収差の補正と像および回折図形の少なくとも一方の真円度のずれの補正を個別に行うことができる。
(10)本発明に係る球面収差補正方法は、
像および回折図形を取得する荷電粒子線装置の球面収差補正方法であって、
多段の六極子場を構成する前記六極子場の少なくとも1つに、前記像および前記回折図形の少なくとも一方の真円度のずれを補正する四極子場を重畳する工程と、
荷電粒子線を偏向させて、前記六極子場における前記荷電粒子線の傾きを、前記四極子場によって導入されるスター収差が補正される大きさにする工程と、
を含む。
このような球面収差補正方法によれば、重畳した四極子場によって導入されるスター収差が、荷電粒子線を傾けることによって補正される結果として、像および回折図形の少なくとも一方の真円度のずれを補正することができる。したがって、軸上収差の補正と像および回折図形の少なくとも一方の真円度のずれの補正を個別に行うことができる。
(11)本発明に係る球面収差補正方法は、
像および回折図形を取得する荷電粒子線装置の球面収差補正方法であって、
多段の六極子場を構成する前記六極子場の少なくとも1つに、前記像および前記回折図形の少なくとも一方の真円度のずれを補正する偏向場を重畳する工程と、
荷電粒子線を偏向させて、前記六極子場における前記荷電粒子線の傾きを、前記偏向場によって導入されるスター収差が補正される大きさにする工程と、
を含む。
このような球面収差補正方法によれば、重畳した偏向場によって導入されるスター収差が、荷電粒子線を傾けることによって補正される結果として、像および回折図形の少なくとも一方の真円度のずれを補正することができる。したがって、軸上収差の補正と像および回折図形の少なくとも一方の真円度のずれの補正を個別に行うことができる。
(12)本発明に係る球面収差補正方法において、
前記多段の六極子場は、二段の六極子場であってもよい。
(13)本発明に係る荷電粒子線装置は、
本発明に係る球面収差補正装置を含む。
このような荷電粒子線装置によれば、本発明に係る球面収差補正装置を含むため、球面収差、軸上収差、ならびに像および回折図形の少なくとも一方の真円度のずれの影響が低減された良好な像および回折図形を得ることができる。
第1実施形態に係る球面収差補正装置を含む荷電粒子線装置の構成を示す図。 第1実施形態に係る球面収差補正装置の光学系の一例を示す図。 六極子場を発生させる場合の第1多極子の磁極の配置の一例を示す図。 六極子場を発生させる場合の第2多極子の磁極の配置の一例を示す図。 八極子場を発生させる場合の第2多極子の磁極の配置の一例を示す図。 多極子がつくる六極子場において、軸ずれが生じた状態を模式的に示す図。 図7(a)は多極子の上部の面における電子線の状態を模式的に示す図であり、図7(b)は多極子の中心面における電子線の状態を模式的に示す図であり、図7(c)は多極子の下部の面における電子線の状態を模式的に示す図である。 第1実施形態に係る球面収差補正装置における球面収差補正方法の一例を示すフローチャート。 回折図形の真円度のずれを補正する前の金の多結晶から取得した回折図形。 回折図形の真円度のずれを補正した後の金の多結晶から取得した回折図形。 第1実施形態の変形例に係る球面収差補正装置の光学系を示す図。 第2実施形態に係る球面収差補正装置の光学系を示す図。 四極子場を発生させる場合の第2多極子の磁極の配置の一例を示す図。 第2実施形態に係る球面収差補正装置における球面収差補正方法の一例を示すフローチャート。 第2実施形態の変形例に係る球面収差補正装置の光学系を示す図。 第3実施形態に係る球面収差補正装置の光学系を示す図。 偏向場を発生させる場合の第2多極子の磁極の配置の一例を示す図。 第2多極子において、六極子場に偏向場を重畳した状態を模式的に示す図。 図19(a)は第2多極子の上部の面における電子線の状態を模式的に示す図であり、図19(b)は第2多極子の下部の面における電子線の状態を模式的に示す図である。 第3実施形態に係る球面収差補正装置における球面収差補正方法の一例を示すフローチャート。 第3実施形態の変形例に係る球面収差補正装置の光学系を示す図。 第4実施形態に係る荷電粒子線装置の構成を示す図。 第4実施形態に係る荷電粒子線装置における球面収差補正装置の光学系の一例を示す図。
以下、本発明の好適な実施形態について図面を用いて詳細に説明する。なお、以下に説明する実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではない。また、以下で説明される構成の全てが本発明の必須構成要件であるとは限らない。
1. 第1実施形態
1.1. 球面収差補正装置
まず、第1実施形態に係る球面収差補正装置について、図面を参照しながら説明する。図1は、第1実施形態に係る球面収差補正装置100を含む荷電粒子線装置1の構成を示す図である。
球面収差補正装置100は、荷電粒子線装置用の球面収差補正装置である。荷電粒子線装置とは、観察対象に電子やイオン等の電荷を帯びた粒子を当てて拡大し、像(観察対象の像)および回折図形を取得する顕微鏡である。荷電粒子線装置は、例えば透過電子顕微鏡(TEM)、走査型透過電子顕微鏡(STEM)、走査電子顕微鏡(SEM)等である。ここでは、荷電粒子線装置1が、透過電子顕微鏡(TEM)である場合について説明する。
荷電粒子線装置1は、図1に示すように、球面収差補正装置100を含む。図1の例では、球面収差補正装置100は、荷電粒子線装置1の結像系の球面収差補正装置として機能する。さらに、球面収差補正装置100は、軸上収差(二回非点収差、軸上コマ収差、スター収差、四回非点収差)の補正と、像および回折図形の少なくとも一方の真円度のずれの少なくとも一方の補正と、を行うことができる。以下では、球面収差補正装置100が、軸上収差の補正と回折図形の真円度のずれの補正を行う例について説明する。
荷電粒子線装置1は、さらに、電子銃2と、集束レンズ3と、対物レンズ4と、試料ステージ5と、中間・投影レンズ6と、観察室7と、を含んで構成されている。
電子銃2は、電子線を発生させる。電子銃2は、陰極から放出された電子を陽極で加速
し電子線を放出する。電子銃2には、高圧制御部2aから高圧電源が供給される。電子銃2としては、例えば熱電子放出型電子銃、熱電界放出型電子銃、冷陰極電界放出型電子銃等を用いることができる。
集束レンズ3は、電子銃2の後段(電子線の下流側)に配置されている。集束レンズ3は、電子銃2で発生した電子線を集束する。集束レンズ3は、試料ステージ5上の試料に電子線を照射するための照射系(照射レンズ系)を構成している。集束レンズ3で集束された電子線は、対物レンズ4および試料ステージ5に至る。
対物レンズ4は、集束レンズ3の後段に配置されている。対物レンズ4は、試料を透過した電子線で結像するための初段のレンズである。対物レンズ4と球面収差補正装置100との間には、対物ミニレンズ4a,4b(図2参照)が配置されていてもよい。
試料ステージ5は、試料を保持することができる。試料を透過した電子線は、対物レンズ4を介して、球面収差補正装置100に入射する。
中間・投影レンズ6は、球面収差補正装置100の後段に配置されている。中間・投影レンズ6は、対物レンズ4とともに、試料を透過した電子線で結像するための結像系(結像レンズ系)を構成している。中間・投影レンズ6は、観察室7内のカメラ(図示せず)上に像または回折図形を結像する。
なお、荷電粒子線装置1は、球面収差補正装置100の後段に配置されたポストコレクターレンズ8(図2参照)を含んで構成されていてもよい。ポストコレクターレンズ8は、制限視野絞り面SA(図2参照)に試料の像を結ぶためのレンズである。
球面収差補正装置100は、対物レンズ4と中間・投影レンズ6との間に配置されている。球面収差補正装置100は、結像系(対物レンズ4)の球面収差を補正することができる。また、球面収差補正装置100は、さらに、球面収差の補正に伴って発生する、軸上収差および回折図形の真円度のずれを補正することができる。
ここで、真円度のずれとは、例えば、真円(完全な円形)として観察されるべきものが真円として観察されないときの、真円からのずれをいう。回折図形の真円度がずれている場合、例えば、真円として観察されるべきデバイリングが、真円が歪んだ形状として観察される。
図2は、球面収差補正装置100の光学系の一例を示す図である。図2では、荷電粒子線装置1の試料面(試料が配置されている面)Sと中間・投影レンズ(中間レンズ)6との間の光学系を図示している。
球面収差補正装置100は、図2に示すように、六極子場発生部110と、八極子場重畳部120と、偏向部130と、転送レンズ140,142を含んで構成されている。
六極子場発生部110は、多段の六極子場(すなわち三回対称場)を発生させる。図示の例では、六極子場発生部110は、二段の六極子場を発生させる。なお、六極子場発生部110は、3段以上の六極子場を発生させてもよい。
六極子場発生部110は、多段に配置された多極子を含んで構成されている。図示の例では、六極子場発生部110は、二段の多極子(第1多極子112および第2多極子114)を含んで構成されている。六極子場発生部110では、第1多極子112および第2多極子114を用いて二段の六極子場を発生させる。
第1多極子112および第2多極子114は、例えば十二極子である。なお、第1多極子112および第2多極子114の極の数は特に限定されない。第1多極子112および第2多極子114が発生させる多極子場は、静磁場、静電場、またはこれらの重畳場のいずれかである。以下では、第1多極子112および第2多極子114が発生させる多極子場が静磁場である場合について説明する。
図3は、六極子場を発生させる場合の第1多極子112の磁極の配置の一例を示す図である。図4は、六極子場を発生させる場合の第2多極子114の磁極の配置の一例を示す図である。
第1多極子112は、図3に示すように、光軸A(図2参照)を中心として放射状に配置された12個の極12a,12b,12c,12d,12e,12f,12g,12h,12i,12j,12k,12lを有する。すなわち、極12a〜12lは、光軸Aまわりに30度ごとに配置されている。
第2多極子114は、図4に示すように、光軸A(図2参照)を中心として放射状に配置された12個の極14a,14b,14c,14d,14e,14f,14g,14h,14i,14j,14k,14lを有する。すなわち、極14a〜14lは、光軸Aまわりに30度ごとに配置されている。
六極子場発生部110は、第1多極子112の各極12a〜12lに設けられた励磁コイル(図示せず)に所定の励磁電流を供給して六極子場を発生させる。六極子場発生部110は、同様に、第2多極子114の各極14a〜14lに設けられた励磁コイル(図示せず)に所定の励磁電流を供給して六極子場を発生させる。
第1多極子112および第2多極子114は、図3および図4に示すように、光軸Aに対して対称に置かれた6個の磁極を作ることにより、六極子場を発生させる。第1多極子112と第2多極子114とは、極性が反対である。言い換えると、第2多極子114は、第1多極子112が発生させる六極子場に対して、光軸A周りに60度回転した六極子場を発生させる。
第1多極子112および第2多極子114は、光軸Aに沿った厚みを有している。そのため、第1多極子112および第2多極子114が発生させる多極子場は、光軸Aに沿った厚みを有する。ここで、光軸Aに沿った厚みを有する多極子とは、発生させる多極子場のプライマリー項以外の高次の項による場を生成する多極子である。なお、第1多極子112の光軸Aに沿った厚さと、第2多極子114の光軸Aに沿った厚さとは、同じ大きさであってもよいし、異なる大きさであってもよい。
八極子場重畳部120は、六極子場発生部110が発生させる六極子場に、回折図形の真円度のずれを補正する八極子場(すなわち四回対称場)を重畳する。図2の例では、八極子場重畳部120は、第2多極子114が発生させる六極子場に八極子場を重畳する。八極子場重畳部120は、回折図形の真円度のずれの大きさに応じた八極子場を発生させる。八極子場重畳部120が八極子場を発生させることにより、四回非点収差が導入される。
八極子場重畳部120は、図示の例では、第2多極子114を含んで構成されている。八極子場重畳部120は、第2多極子114を用いて八極子場を発生させる。
図5は、八極子場を発生させる場合の第2多極子114の磁極の配置の一例を示す図で
ある。
八極子場重畳部120は、図5に示すように、第2多極子114の各極14a〜14lに設けられた励磁コイル(図示せず)に所定の励磁電流を供給して八極子場を発生させる。第2多極子114は、図5に示すように、光軸Aに対して対称に置かれた8個の磁極を作ることにより、八極子場(四回対称場)を発生させる。
ここで、第2多極子114は、上述のように、六極子場および八極子場を発生させる。そのため、第2多極子114の各極14a〜14lには、六極子場を発生させるための励磁コイルと、八極子場を発生させるための励磁コイルと、が設けられている。これらの励磁コイルにそれぞれ所定の励磁電流を供給することにより、第2多極子114は、六極子場と八極子場を発生させ、六極子場と八極子場とが重畳された重畳場を作ることができる。第2多極子114は十二極子であるため、六極子場(三回対称場)と八極子場(四回対称場)とを1つの多極子で発生させることができる。
偏向部130は、電子線を偏向させる。偏向部130は、電子線を偏向させて、多極子112,114がつくる六極子場内において、光軸Aに対して電子線を傾けることができる。これにより、例えば、軸上収差を補正することができる。また、多極子112,114がつくる多極子場における光軸Aに対する電子線の傾きの大きさを変えることで、像および回折図形の真円度を変えることができる。その理由については後述する。
偏向部130は、図2に示すように、対物レンズ4と第1多極子112との間に配置されている一組の偏向コイル131,132と、第1多極子112と第2多極子114との間に配置されている一組の偏向コイル133,134と、第2多極子114と中間・投影レンズ(中間レンズ)6との間に配置されている一組の偏向コイル135,136と、を含んで構成されている。
偏向コイル131,132は、第1多極子112がつくる多極子場(六極子場)に入射する電子線を二次元的に偏向させる。偏向コイル131,132によって、第1多極子112がつくる多極子場内で電子線を光軸Aに対して傾斜させることができる。
偏向コイル133,134は、第2多極子114がつくる多極子場(六極子場と八極子場の重畳場)に入射する電子線を二次元的に偏向させる。偏向コイル133,134によって、第2多極子114がつくる多極子場内で電子線を光軸Aに対して傾斜させることができる。
偏向コイル135,136は、第2多極子114から射出された電子線を二次元的に偏向させる。偏向コイル135,136によって、第2多極子114から射出された電子線を光軸Aにあわせることができる。
転送レンズ140,142は、第1多極子112と第2多極子114との間に配置されている。転送レンズ140,142は、例えば転送倍率1:1のレンズである。転送レンズ140,142は、例えば、第1多極子112で形成された逆空間像を、第2多極子114に転送する。
次に、球面収差補正装置100の動作について説明する。
球面収差補正装置100では、六極子場発生部110がつくる二段の六極子場を用いて、球面収差を補正する。
具体的には、六極子場発生部110は、第1多極子112および第2多極子114を用いて二段の六極子場を発生させる。第1多極子112は、一段目の六極子場を発生させて負の球面収差および三回非点収差を作り出す。第2多極子114は、第1多極子112で作られた三回非点収差を相殺するように二段目の六極子場を発生させる。これにより、負の球面収差を取り出すことができる。この負の球面収差で結像系(対物レンズ4)の正の球面収差を打ち消して、結像系(対物レンズ4)の球面収差を補正することができる。
このように、二段の六極子場により球面収差は補正されるが、第1多極子112を構成する各極12a〜12lの位置ずれや、第2多極子114を構成する各極14a〜14lの位置ずれ、極子材料の磁気的特性のばらつき等により、軸上収差(二回非点収差、軸上コマ収差、スター収差、四回非点収差)が発生する場合がある。
また、球面収差を補正するために用いられる六極子場は、光軸Aに沿った厚みを有している。そのため、電子線が光軸Aからずれた場合、すなわち軸ずれが生じた場合、像および回折図形の真円度が変化する。これが、像および回折図形の真円度のずれの原因となる。以下、像および回折図形の真円度が変化する理由について、多極子112,114と同様の構成を有するモデル(多極子M)を用いて説明する。
図6は、多極子Mがつくる六極子場において、軸ずれが生じた状態を模式的に示す図である。図7(a)は、多極子Mの上部の面Maにおける電子線EBの状態を模式的に示す図である。図7(b)は、多極子Mの中心面(逆空間に相当する面、回折面)Mbにおける電子線EBの状態を模式的に示す図である。図7(c)は、多極子Mの下部の面Mcにおける電子線EBの状態を模式的に示す図である。
図6に示すように、多極子Mがつくる六極子場F(図7参照)内で電子線EBが光軸Aに対して傾いて軸ずれが生じると、多極子Mの中心面Mbとは異なる面Ma,Mcで互いに異なる大きさの四極子場(二回対称場)が発生する。そのため、図7に示すように、上部の面Maと下部の面Mcに異なる二回非点収差が導入される。これにより、像および回折図形の真円度が変化する。これは、多極子Mが光学的に十分な厚みがあるため、多極子Mの中心面Mbと多極子Mの端(上部の面Maおよび下部の面Mc)では光学的に違う面を見ていることに相当するためである。このように、多極子の中心面とは異なる2つの面に異なる二回非点収差が導入されると、像および回折図形の真円度が変化する。
図6では、多極子Mがつくる六極子場において、電子線EBは、光軸Aに対して傾斜角αで傾いている。この傾斜角αの大きさに応じて、像および回折図形の真円度も変化する。
このように、二段の六極子場を用いて球面収差補正を行うと、軸上収差や、像および回折図形の真円度のずれが発生するが、球面収差補正装置100では、八極子場重畳部120および偏向部130によって、軸上収差の補正と回折図形の真円度のずれの補正とを行う。
具体的には、八極子場重畳部120は、第2多極子114が発生させる六極子場に回折図形の真円度のずれを補正するための八極子場(四回対称場)を重畳する。これにより、四回非点収差が導入される。
偏向部130は、電子線を偏向させて、多極子112,114が発生させる六極子場における電子線の傾き(傾斜角α、図6参照)を、導入される四回非点収差が補正される大きさとする。すなわち、偏向部130は、電子線を偏向させて六極子場内で電子線を傾けることにより、八極子場重畳部120が導入する四回非点収差を補正する。
この結果、多極子112,114の中心面(逆空間に相当する面、回折面)とは異なる2つの面に所定の異なる二回非点収差が導入されて、回折図形の真円度が変化し、回折図形の真円度のずれが補正される。
このように、球面収差補正装置100では、八極子場重畳部120が八極子場を発生させることで導入した四回非点収差を、偏向部130が電子線を偏向させることで補正する結果として、回折図形の真円度のずれを変化させている。これにより、回折図形の真円度のずれを、軸上収差と独立して補正することができる。
球面収差補正装置100および荷電粒子線装置1は、例えば、以下の特徴を有する。
球面収差補正装置100は、二段の六極子場を発生させる六極子場発生部110と、第2多極子114が発生させる六極子場に、回折図形の真円度のずれを補正する八極子場を重畳する八極子場重畳部120と、電子線を偏向させる偏向部130と、を含む。これにより、上述したように、回折図形の真円度のずれを、軸上収差と独立して補正することができ、軸上収差の補正と回折図形の真円度のずれの補正を個別に行うことができる。
球面収差補正装置100では、偏向部130は、多極子112,114が発生させる六極子場における電子線の傾きを、八極子場重畳部120が発生させる八極子場によって導入される四回非点収差が補正される大きさにする。これにより、八極子場重畳部120が発生させる八極子場によって導入される四回非点収差が、偏向部130が電子線を偏向させることによって補正される結果として、回折図形の真円度のずれを補正することができる。したがって、軸上収差の補正と回折図形の真円度のずれの補正を個別に行うことができる。
荷電粒子線装置1では、軸上収差の補正と回折図形の真円度のずれの補正を個別に行うことができる球面収差補正装置100を含んで構成されているため、球面収差、軸上収差、および回折図形の真円度のずれの影響が低減された良好な像および回折図形を得ることができる。
1.2. 球面収差補正方法
次に、第1実施形態に係る球面収差補正装置100における球面収差補正方法について説明する。図8は、第1実施形態に係る球面収差補正装置100における球面収差補正方法の一例を示すフローチャートである。
まず、六極子場発生部110は、多段の六極子場を発生させる(ステップS10)。具体的には、六極子場発生部110は、二段の多極子112,114によって、二段の六極子場を発生させる。これにより、負の球面収差が作りだされ、結像系(対物レンズ4)の球面収差が補正される。
次に、偏向部130は、電子線を偏向させて、多極子112,114が発生させた六極子場における電子線の光軸Aに対する傾きを、軸上収差が補正される大きさとする(ステップS12)。これにより、軸上収差が補正される。すなわち、偏向部130は、電子線を偏向させて、軸上収差を補正する。
次に、八極子場重畳部120は、第2多極子114が発生させた六極子場に、回折図形の真円度のずれを補正する八極子場を重畳する(ステップS14)。八極子場重畳部120は、回折図形の真円度のずれの大きさに応じた八極子場を発生させる。八極子場重畳部120が八極子場を発生させることにより、四回非点収差が導入される。
ステップS14において、八極子場重畳部120は、回折図形の真円度のずれに応じた八極子場を重畳する。具体的には、例えば、得られた回折図形から回折図形の真円度のずれの情報(ずれの方向および大きさ)を取得し、取得した真円度のずれの情報に基づいて、八極子場重畳部120が発生させる八極子場の大きさおよび方向を決定してもよい。このとき、あらかじめ用意された回折図形の真円度のずれと八極子場の大きさおよび方向との相関のデータに基づいて、八極子場の大きさおよび方向を決定してもよい。
次に、偏向部130は、電子線を偏向させて、六極子場発生部110が発生させた六極子場における電子線の光軸Aに対する傾きを、八極子場重畳部120が発生させた八極子場によって導入された四回非点収差が補正される大きさにする(S16)。これにより、八極子場重畳部120が発生させた八極子場によって導入された四回非点収差が補正され(打ち消され)、回折図形の真円度のずれが補正される。
なお、ステップS12、ステップS14、ステップS16の順序は特に限定されない。
以上の工程により、球面収差を補正することができる。
第1実施形態に係る球面収差補正装置100における球面収差補正方法では、二段の六極子場を構成する六極子場の一方に、回折図形の真円度のずれを補正する八極子場を重畳する工程S14と、電子線を偏向させて、六極子場における電子線の傾きを、八極子場によって導入される四回非点収差が補正される大きさにする工程S16と、を含む。これにより、軸上収差と回折図形の真円度のずれを個別に補正することができる。
1.3. 実験例
本実験例では、第1実施形態に係る球面収差補正装置100を備えた荷電粒子線装置1を用いて、回折図形の真円度のずれを補正した。試料として、金の多結晶を用いた。
図9は、回折図形の真円度のずれを補正する前の金の多結晶から取得した回折図形(デバイリング)である。図10は、回折図形の真円度のずれを補正した後の金の多結晶から取得した回折図形(デバイリング)である。
回折図形の真円度のずれを補正する前には、図9に示すように、各結晶面に対応するデバイリングは、楕円である。回折図形の真円度のずれを補正した後には、図10に示すように、各結晶面に対応するデバイリングは、回折図形の真円度のずれの補正を行う前(図9参照)に比べて、真円に近い。図10に示す回折図形では、アスペクト比A/Cおよびアスペクト比B/Eが99%以上に補正された。
1.4. 変形例
次に、第1実施形態の変形例について説明する。図11は、第1実施形態の変形例に係る球面収差補正装置200の光学系を示す図である。
以下、第1実施形態の変形例に係る球面収差補正装置200において、上述した第1実施形態に係る球面収差補正装置100と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その説明を省略する。
上述した球面収差補正装置100では、図2に示すように、八極子場重畳部120は第2多極子114を含んで構成されており、第2多極子114は六極子場と八極子場とが重畳された重畳場をつくっていた。
これに対して、球面収差補正装置200では、図11に示すように、八極子場重畳部120は第1多極子112を含んで構成されており、第1多極子112は六極子場と八極子場とが重畳された重畳場をつくっている。
球面収差補正装置200によれば、球面収差補正装置100と同様の作用効果を奏することができる。
2. 第2実施形態
2.1. 球面収差補正装置
次に、第2実施形態に係る球面収差補正装置について、図面を参照しながら説明する。図12は、第2実施形態に係る球面収差補正装置300の光学系を示す図である。
以下、第2実施形態に係る球面収差補正装置300において、上述した第1実施形態に係る球面収差補正装置100と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その説明を省略する。
上述した球面収差補正装置100は、図2に示すように、八極子場重畳部120を有し、八極子場重畳部120が六極子場に八極子場を重畳し、偏向部130が電子線を偏向させて、導入された四回非点収差を補正し、回折図形の真円度のずれの補正を行っていた。
これに対して、球面収差補正装置300では、図12に示すように、四極子場重畳部310を有し、四極子場重畳部310が六極子場に四極子場(すなわち二回対称場)を重畳し、偏向部130が電子線を偏向させて、導入されたスター収差を補正し、回折図形の真円度のずれの補正を行う。
四極子場重畳部310は、六極子場発生部110が発生させる六極子場に、回折図形の真円度のずれを補正する四極子場を重畳する。図示の例では、四極子場重畳部310は、第2多極子114が発生させる六極子場に四極子場を重畳する。四極子場重畳部310は、回折図形の真円度のずれの大きさに応じた四極子場を発生させる。四極子場重畳部310が四極子場を発生させることにより、スター収差が導入される。
四極子場重畳部310は、例えば十二極子を用いて四極子場を発生させる。図示の例では、四極子場重畳部310は、第2多極子114を含んで構成されている。四極子場重畳部310は、第2多極子114を用いて四極子場を発生させる。
図13は、四極子場を発生させる場合の第2多極子114の磁極の配置の一例を示す図である。
四極子場重畳部310は、図13に示すように、第2多極子114の各極14a〜14lに設けられた励磁コイル(図示せず)に所定の励磁電流を供給して四極子場を発生させる。第2多極子114は、光軸Aに対して対称に置かれた4個の磁極を作ることにより、四極子場(二回対称場)を発生させる。
ここで、第2多極子114は、上述のように、六極子場および四極子場を発生させる。そのため、第2多極子114の各極14a〜14lには、六極子場を発生させるための励磁コイルと、四極子場を発生させるための励磁コイルと、が設けられている。これらの励磁コイルにそれぞれ所定の励磁電流を供給することにより、第2多極子114は、六極子場と四極子場を発生させ、六極子場と四極子場とが重畳された重畳場を作ることができる。第2多極子114は十二極子であるため、六極子場(三回対称場)と四極子場(二回対称場)とを1つの多極子で発生させることができる。
偏向部130は、電子線を偏向させて、多極子112,114が発生させる六極子場における電子線の光軸Aに対する傾きを、四極子場重畳部310が発生させた四極子場によって導入されるスター収差が補正される大きさとする。
次に、球面収差補正装置300の動作について説明する。
球面収差補正装置300では、上述した球面収差補正装置100と同様に、六極子場発生部110がつくる二段の六極子場を用いて、球面収差を補正する。
また、球面収差補正装置300では、四極子場重畳部310および偏向部130によって、軸上収差の補正と回折図形の真円度のずれの補正を行う。
具体的には、四極子場重畳部310は、第2多極子114が発生させる六極子場に、回折図形の真円度のずれを補正するための四極子場(二回対称場)を重畳する。これにより、スター収差が導入される。
偏向部130は、電子線を偏向させて、多極子112,114が発生させる六極子場における電子線の傾きを、導入されるスター収差が補正される大きさとする。すなわち、偏向部130は、電子線を偏向させて六極子場内で電子線を傾けることにより、四極子場重畳部310が導入したスター収差を補正する。
この結果、多極子112,114の中心面(逆空間に相当する面、回折面)とは異なる2つの面に所定の異なる二回非点収差が導入されて、回折図形の真円度が変化し、回折図形の真円度のずれが補正される。
このように、球面収差補正装置300では、四極子場重畳部310が四極子場を発生させることで導入したスター収差を、偏向部130が電子線を偏向させることで補正する結果として、回折図形の真円度のずれを変化させている。これにより、回折図形の真円度のずれを、軸上収差と独立して補正することができる。
球面収差補正装置300は、例えば、以下の特徴を有する。
球面収差補正装置300は、二段の六極子場を発生させる六極子場発生部110と、第2多極子114が発生させる六極子場に、回折図形の真円度のずれを補正する四極子場を重畳する四極子場重畳部310と、電子線を偏向させる偏向部130と、を含む。これにより、上述したように、回折図形の真円度のずれを、軸上収差と独立して補正することができ、軸上収差の補正と回折図形の真円度のずれの補正を個別に行うことができる。
球面収差補正装置300では、偏向部130は、多極子112,114が発生させる六極子場における電子線の傾きを、四極子場重畳部310が発生させる四極子場によって導入されるスター収差が補正される大きさにする。これにより、四極子場重畳部310が発生させる四極子場によって導入されるスター収差が、偏向部130が電子線を傾けることによって補正される結果として、回折図形の真円度のずれを補正することができる。したがって、軸上収差と回折図形の真円度のずれの補正を個別に行うことができる。
2.2. 球面収差補正方法
次に、第2実施形態に係る球面収差補正装置300における球面収差補正方法について説明する。図14は、第2実施形態に係る球面収差補正装置300における球面収差補正方法の一例を示すフローチャートである。
まず、六極子場発生部110は、多段の六極子場を発生させる(ステップS20)。これにより、負の球面収差が作りだされ、対物レンズ4の球面収差が補正される。
次に、偏向部130は、電子線を偏向させて、多極子112,114が発生させた六極子場における電子線の光軸Aに対する傾きを、軸上収差が補正される大きさとする(ステップS22)。これにより、軸上収差が補正される。
次に、四極子場重畳部310は、第2多極子114が発生させた六極子場に、回折図形の真円度のずれを補正する四極子場を重畳する(ステップS24)。四極子場重畳部310は、回折図形の真円度のずれの大きさに応じた四極子場を発生させる。四極子場重畳部310が四極子場を発生させることにより、スター収差が導入される。
次に、偏向部130は、電子線を偏向させて、六極子場発生部110が発生させた六極子場における電子線の光軸Aに対する傾きを、四極子場重畳部310が発生させた四極子場によって導入されたスター収差が補正される角度とする(S26)。これにより、四極子場重畳部310が発生させた四極子場によって導入されたスター収差は補正されて(打ち消されて)、回折図形の真円度のずれが補正される。
なお、ステップS22、ステップS24、ステップS26の順序は特に限定されない。
以上の工程により、球面収差を補正することができる。
第2実施形態に係る球面収差補正装置300における球面収差補正方法では、二段の六極子場を構成する六極子場の一方に、回折図形の真円度のずれを補正する四極子場を重畳する工程S24と、電子線を偏向させて、六極子場における電子線の傾きを、四極子場によって導入されるスター収差が補正される大きさにする工程S26と、を含む。これにより、軸上収差と回折図形の真円度のずれを個別に補正することができる。
2.3. 変形例
次に、第2実施形態の変形例について説明する。図15は、第2実施形態の変形例に係る球面収差補正装置400の光学系を示す図である。
以下、第2実施形態の変形例に係る球面収差補正装置400において、上述した第2実施形態に係る球面収差補正装置300と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その説明を省略する。
上述した球面収差補正装置300では、図12に示すように、四極子場重畳部310は第2多極子114を含んで構成されており、第2多極子114は六極子場と四極子場とが重畳された重畳場をつくっていた。
これに対して、球面収差補正装置400では、図15に示すように、四極子場重畳部310は第1多極子112を含んで構成されており、第1多極子112は六極子場と四極子場とが重畳された重畳場をつくっている。
球面収差補正装置400によれば、球面収差補正装置300と同様の作用効果を奏することができる。
3. 第3実施形態
3.1. 球面収差補正装置
次に、第3実施形態に係る球面収差補正装置について、図面を参照しながら説明する。図16は、第3実施形態に係る球面収差補正装置500の光学系を示す図である。
以下、第3実施形態に係る球面収差補正装置500において、上述した第1実施形態に係る球面収差補正装置100と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その説明を省略する。
上述した球面収差補正装置100は、図2に示すように、八極子場重畳部120を有し、八極子場重畳部120が六極子場に八極子場を重畳し、偏向部130が電子線を偏向させて、導入された四回非点収差を補正し、回折図形の真円度のずれの補正を行っていた。
これに対して、球面収差補正装置500では、図16に示すように、偏向場重畳部510を有し、偏向場重畳部510が六極子場に偏向場を重畳し、偏向部130が電子線を偏向させて、導入されたスター収差を補正し、回折図形の真円度のずれの補正を行う。
偏向場重畳部510は、六極子場発生部110が発生させた六極子場に、回折図形の真円度のずれを補正する偏向場を重畳する。図示の例では、偏向場重畳部510は、第2多極子114が発生させる六極子場に偏向場を重畳する。偏向場重畳部510は、回折図形の真円度のずれに応じた偏向場を発生させる。偏向場重畳部510が偏向場を発生させることにより、スター収差が導入される。
偏向場重畳部510は、例えば十二極子を用いて偏向場を発生させる。図示の例では、偏向場重畳部510は、第2多極子114を含んで構成されている。偏向場重畳部510は、第2多極子114を用いて偏向場を発生させる。
図17は、偏向場を発生させる場合の第2多極子114の磁極の配置の一例を示す図である。
偏向場重畳部510は、図17に示すように、第2多極子114の各極14a〜14lに設けられた励磁コイル(図示せず)に所定の励磁電流を供給して偏向場を発生させる。第2多極子114は、光軸Aに対して対称に置かれた2個の磁極を作ることにより、偏向場を発生させる。
ここで、第2多極子114は、上述のように、六極子場および偏向場を発生させる。そのため、第2多極子114の各極14a〜14lには、六極子場を発生させるための励磁コイルと、偏向場を発生させるための励磁コイルと、が設けられている。これらの励磁コイルにそれぞれ所定の励磁電流を供給することにより、第2多極子114は、六極子場と偏向場を発生させ、六極子場と偏向場とが重畳された重畳場を作ることができる。第2多極子114は十二極子であるため、六極子場(三回対称場)と偏向場とを1つの多極子で発生させることができる。
図18は、第2多極子114において、六極子場に偏向場を重畳した状態を模式的に示す図である。図19(a)は、第2多極子114の上部の面114aにおける電子線EBの状態を模式的に示す図である。図19(b)は、第2多極子114の下部の面114cにおける電子線EBの状態を模式的に示す図である。
偏向場重畳部510が六極子場に偏向場を重畳すると、図18に示すように、六極子場内で電子線EBが偏向される。これにより、第2多極子114の中心面(逆空間に相当する面)114bとは異なる面(図示の例では下部の面114c)で、二回対称場が発生する。そのため、図19(b)に示すように、下部の面114cでは二回非点収差が導入さ
れる。また、第2多極子114の上部の面114aでは、軸ずれが起こらず、二回非点収差も導入されない。このように、六極子場に偏向場を重畳することにより、多極子の中心面とは異なる2つの面に異なる二回非点収差が導入されて、像および回折図形の真円度を変えることができる。
なお、図18では、六極子場内において、偏向場重畳部510が電子線EBを偏向させることで、電子線EBは光軸Aに対して傾斜角βで傾斜する。この傾斜角βの大きさに応じて、像および回折図形の真円度が変化する。
偏向部130は、電子線を偏向させて、六極子場における電子線の光軸Aに対する傾き(傾斜角β)を、偏向場重畳部510が発生させた偏向場によって導入されるスター収差が補正される大きさとする。
次に、球面収差補正装置500の動作について説明する。
球面収差補正装置500では、上述した球面収差補正装置100と同様に、六極子場発生部110がつくる二段の六極子場を用いて、球面収差を補正する。
また、球面収差補正装置500では、偏向場重畳部510および偏向部130によって、軸上収差の補正と回折図形の真円度のずれの補正を行う。
具体的には、偏向場重畳部510は、第2多極子114に回折図形の真円度のずれを補正するための偏向場を重畳する。これにより、スター収差が導入される。
偏向部130は、電子線を偏向させて、多極子112,114で発生させる六極子場における電子線の傾き(傾斜角β)を、導入されるスター収差が補正される大きさとする。すなわち、偏向部130は、電子線を偏向させて六極子場内で電子線を傾けることにより、偏向場重畳部510が導入したスター収差を補正する。
この結果、多極子112,114の中心面(逆空間に相当する面、回折面)とは異なる2つの面に所定の異なる二回非点収差が導入されて、回折図形の真円度が変化し、回折図形の真円度のずれが補正される。
このように、球面収差補正装置500では、偏向場重畳部510が偏向場を発生させることで導入したスター収差を、偏向部130が電子線を偏向させることで補正する結果として、回折図形の真円度のずれを変化させている。これにより、回折図形の真円度のずれを、軸上収差と独立して補正することができる。
球面収差補正装置500は、例えば、以下の特徴を有する。
球面収差補正装置500は、二段の六極子場を発生させる六極子場発生部110と、第2多極子114が発生させる六極子場に、回折図形の真円度のずれを補正する偏向場を重畳する偏向場重畳部510と、電子線を偏向させる偏向部130と、を含む。これにより、上述したように、回折図形の真円度のずれを軸上収差と独立して補正することができ、軸上収差の補正と回折図形の真円度のずれの補正を個別に行うことができる。
球面収差補正装置500では、偏向部130は、多極子112,114が発生させる六極子場における電子線の傾きを、偏向場重畳部510が発生させる偏向場によって導入されるスター収差が補正される大きさにする。これにより、偏向場重畳部510が発生させる偏向場によって導入されるスター収差が、偏向部130が電子線を傾けることによって
補正される結果として、回折図形の真円度のずれを補正することができる。したがって、軸上収差と回折図形の真円度のずれの補正を個別に行うことができる。
3.2. 球面収差補正方法
次に、第3実施形態に係る球面収差補正装置500における球面収差補正方法について説明する。図20は、第3実施形態に係る球面収差補正装置500における球面収差補正方法の一例を示すフローチャートである。
まず、六極子場発生部110は、多段の六極子場を発生させる(ステップS30)。これにより、負の球面収差が作りだされ、対物レンズ4の球面収差が補正される。
次に、偏向部130は、電子線を偏向させて、六極子場における電子線の光軸Aに対する傾きを、軸上収差が補正される大きさとする(ステップS32)。これにより、軸上収差が補正される。
次に、偏向場重畳部510は、第2多極子114が発生させた六極子場に、回折図形の真円度のずれを補正する偏向場を重畳する(ステップS34)。偏向場重畳部510は、回折図形の真円度のずれの大きさに応じた偏向場を発生させる。偏向場重畳部510が偏向場を発生させることにより、スター収差が導入される。
次に、偏向部130は、電子線を偏向させて、六極子場発生部110が発生させた六極子場における電子線の光軸Aに対する傾きを、偏向場重畳部510が発生させた偏向場によって導入されたスター収差が補正される角度とする(S36)。これにより、偏向場重畳部510が発生させた偏向場によって導入されたスター収差は補正されて(打ち消されて)、回折図形の真円度のずれが補正される。
なお、ステップS32、ステップS34、ステップS36の順序は特に限定されない。
以上の工程により、球面収差を補正することができる。
第3実施形態に係る球面収差補正装置500における球面収差補正方法では、二段の六極子場を構成する六極子場の一方に、回折図形の真円度のずれを補正する偏向場を重畳する工程S34と、電子線を偏向させて、六極子場における電子線の傾きを、偏向場によって導入されるスター収差が補正される大きさにする工程S36と、を含む。これにより、軸上収差と回折図形の真円度のずれを個別に補正することができる。
3.3. 変形例
次に、第3実施形態の変形例について説明する。図21は、第3実施形態の変形例に係る球面収差補正装置600の光学系を示す図である。
以下、第3実施形態の変形例に係る球面収差補正装置600において、上述した第3実施形態に係る球面収差補正装置500と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その説明を省略する。
上述した球面収差補正装置500では、図16に示すように、偏向場重畳部510は第2多極子114を含んで構成されており、第2多極子114は六極子場と偏向場とが重畳された重畳場をつくっていた。
これに対して、球面収差補正装置600では、図21に示すように、偏向場重畳部510は第1多極子112を含んで構成されており、第1多極子112は六極子場と偏向場と
が重畳された重畳場をつくっている。
球面収差補正装置600によれば、球面収差補正装置500と同様の作用効果を奏することができる。
4. 第4実施形態
次に、第4実施形態に係る球面収差補正装置について、図面を参照しながら説明する。
図22は、第4実施形態に係る荷電粒子線装置1Aの構成を示す図である。図23は、第4実施形態に係る荷電粒子線装置1Aにおける球面収差補正装置100の光学系の一例を示す図である。
以下、第4実施形態に係る荷電粒子線装置1Aにおいて、上述した第1実施形態に係る荷電粒子線装置1と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その説明を省略する。
上述した第1〜第3実施形態では、本発明に係る球面収差補正装置を結像系の球面収差補正装置として用いた例について説明した。
これに対して、第4実施形態に係る荷電粒子線装置1Aでは、本発明に係る球面収差補正装置を照射系の球面収差補正装置として用いている。ここでは、本発明に係る球面収差補正装置として、球面収差補正装置100を用いた例について説明する。
荷電粒子線装置1Aは、図22および図23に示すように、電子銃2と、第1集束レンズ3aと、コンデンサー絞り9と、球面収差補正装置100と、第2集束レンズ3bと、対物レンズ4と、試料ステージ5と、中間・投影レンズ6と、観察室7と、を含んで構成されている。ここでは、荷電粒子線装置1Aが、走査透過電子顕微鏡(STEM)である場合について説明する。
コンデンサー絞り9は、第1集束レンズ3a内に配置されている。コンデンサー絞り9は、電子銃2から放出された電子線のうち不要な成分をカットし、電子線の開き角、照射量を決める機能を有している。コンデンサー絞り9の孔の形状は、例えば、円である。
荷電粒子線装置1Aでは、電子銃2から放出された電子線を、二段の第1集束レンズ3aで集束させて、球面収差補正装置100に入射させる。球面収差補正装置100では、上述した球面収差補正が行われる。球面収差補正装置100を通過した電子線は、第2集束レンズ3bおよび対物レンズ4によって集束されて、電子プローブとして試料上に照射される。荷電粒子線装置1Aは、走査コイル(図示せず)を備えており、走査コイルによって、電子プローブを試料上で走査する。試料を透過した電子線は、中間・投影レンズ6を介して、観察室7内の検出器(図示せず)で検出される。これにより、走査像および回折図形が得られる。
ここで、荷電粒子線装置1Aにおいて、球面収差補正装置100は、像の真円度のずれと軸上収差を個別に補正する。照射系の球面収差補正において、像の真円度のずれは、コンデンサー絞り9の影の真円度のずれに対応する。コンデンサー絞り9の影は、走査像で確認することができる。
コンデンサー絞り9の孔の形状が真円である場合、像の真円度のずれがない場合には、コンデンサー絞り9の影は、真円として観察される。これに対して、像の真円度のずれがある場合には、コンデンサー絞り9の影は、真円が歪んだ形状に観察される。
本実施形態に係る球面収差補正装置100の動作および球面収差補正方法は、八極子場重畳部120が、第2多極子114が発生させる六極子場に像(コンデンサー絞り9の影)の真円度のずれを補正する八極子場(四回対称場)を重畳する点を除いて、上述した第1実施形態と同様であり、その詳細な説明を省略する。
荷電粒子線装置1Aでは、軸上収差の補正と像の真円度のずれの補正を個別に行うことができる球面収差補正装置100を含んで構成されているため、球面収差、軸上収差、および像の真円度のずれの影響が低減された良好な像および回折図形を得ることができる。
なお、ここでは、球面収差補正装置100を照射系に適用した例について説明したが、上述した球面収差補正装置200,300,400,500,600を照射系に適用した場合でも同様の作用効果を奏することができる。
5. その他の実施形態
なお、本発明は上述した実施形態や変形例に限定されず、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
例えば、上述した第1〜第3実施形態およびその変形例に係る球面収差補正装置100〜600では、軸上収差の補正と、回折図形の真円度のずれの補正と、を行う例について説明したが、球面収差補正装置100〜600では、軸上収差の補正と、像(試料像)の真円度のずれの補正と、を行ってもよい。ここで、像(試料像)の真円度がずれている場合には、例えば、真円として観察されるべき試料が、真円が歪んだ形状として観察される。
具体的には、球面収差補正装置100,200では、八極子場重畳部120が、第2多極子114が発生させる六極子場に像(試料像)の真円度のずれを補正する八極子場(四回対称場)を重畳する。また、球面収差補正装置300,400では、四極子場重畳部310が、第2多極子114が発生させる六極子場に像(試料像)の真円度のずれを補正する四極子場(四回対称場)を重畳する。また、球面収差補正装置500,600では、偏向場重畳部510が、第2多極子114が発生させる六極子場に像(試料像)の真円度のずれを補正する偏向場を重畳する。
このような球面収差補正装置を含む荷電粒子線装置1では、球面収差、軸上収差、および像の真円度のずれの影響が低減された良好な像および回折図形を得ることができる。
本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法および結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
1…荷電粒子線装置、1A…荷電粒子線装置、2…電子銃、2a…高圧制御部、3…集束レンズ、3a…第1集束レンズ、3b…第2集束レンズ、4…対物レンズ、4a,4b…対物ミニレンズ、5…試料ステージ、6…中間・投影レンズ、7…観察室、8…ポストコレクターレンズ、9…コンデンサー絞り、12a〜12l…極、14a〜14l…極、100…球面収差補正装置、110…六極子場発生部、112…第1多極子、114…第2多極子、114a…上部の面、114b…中心面、114c…下部の面、120…八極子
場重畳部、130…偏向部、131,132,133,134,135,136…偏向コイル、140,142…転送レンズ、200,300…球面収差補正装置、310…四極子場重畳部、400,500…球面収差補正装置、510…偏向場重畳部、600…球面収差補正装置

Claims (13)

  1. 像および回折図形を取得する荷電粒子線装置用の球面収差補正装置であって、
    多段の六極子場を発生させる六極子場発生部と、
    前記多段の六極子場の少なくとも1つに、前記像および前記回折図形の少なくとも一方の真円度のずれを補正する八極子場を重畳する八極子場重畳部と、
    荷電粒子線を偏向させる偏向部と、
    を含む、球面収差補正装置。
  2. 請求項1において、
    前記偏向部は、前記六極子場における前記荷電粒子線の傾きを、前記八極子場によって導入される四回非点収差が補正される大きさにする、球面収差補正装置。
  3. 像および回折図形を取得する荷電粒子線装置用の球面収差補正装置であって、
    多段の六極子場を発生させる六極子場発生部と、
    前記多段の六極子場の少なくとも1つに、前記像および前記回折図形の少なくとも一方の真円度のずれを補正する四極子場を重畳する四極子場重畳部と、
    荷電粒子線を偏向させる偏向部と、
    を含む、球面収差補正装置。
  4. 請求項3において、
    前記偏向部は、前記六極子場における前記荷電粒子線の傾きを、前記四極子場によって導入されるスター収差が補正される大きさにする、球面収差補正装置。
  5. 像および回折図形を取得する荷電粒子線装置用の球面収差補正装置であって、
    多段の六極子場を発生させる六極子場発生部と、
    前記多段の六極子場の少なくとも1つに、前記像および前記回折図形の少なくとも一方の真円度のずれを補正する偏向場を重畳する偏向場重畳部と、
    荷電粒子線を偏向させる偏向部と、
    を含む、球面収差補正装置。
  6. 請求項5において、
    前記偏向部は、前記六極子場における前記荷電粒子線の傾きを、前記偏向場によって導入されるスター収差が補正される大きさにする、球面収差補正装置。
  7. 請求項1ないし6のいずれか1項において、
    前記六極子場発生部は、二段に配置された多極子を有する、球面収差補正装置。
  8. 請求項7において、
    二段に配置された前記多極子の間に配置されている転送レンズを含む、球面収差補正装置。
  9. 像および回折図形を取得する荷電粒子線装置の球面収差補正方法であって、
    多段の六極子場を構成する前記六極子場の少なくとも1つに、前記像および前記回折図形の少なくとも一方の真円度のずれを補正する八極子場を重畳する工程と、
    荷電粒子線を偏向させて、前記六極子場における前記荷電粒子線の傾きを、前記八極子場によって導入される四回非点収差が補正される大きさにする工程と、
    を含む、球面収差補正方法。
  10. 像および回折図形を取得する荷電粒子線装置の球面収差補正方法であって、
    多段の六極子場を構成する前記六極子場の少なくとも1つに、前記像および前記回折図形の少なくとも一方の真円度のずれを補正する四極子場を重畳する工程と、
    荷電粒子線を偏向させて、前記六極子場における前記荷電粒子線の傾きを、前記四極子場によって導入されるスター収差が補正される大きさにする工程と、
    を含む、球面収差補正方法。
  11. 像および回折図形を取得する荷電粒子線装置の球面収差補正方法であって、
    多段の六極子場を構成する前記六極子場の少なくとも1つに、前記像および前記回折図形の少なくとも一方の真円度のずれを補正する偏向場を重畳する工程と、
    荷電粒子線を偏向させて、前記六極子場における前記荷電粒子線の傾きを、前記偏向場によって導入されるスター収差が補正される大きさにする工程と、
    を含む、球面収差補正方法。
  12. 請求項9ないし11のいずれか1項において、
    前記多段の六極子場は、二段の六極子場である、球面収差補正方法。
  13. 請求項1ないし8のいずれか1項に記載の球面収差補正装置を含む、荷電粒子線装置。
JP2013153367A 2013-07-24 2013-07-24 球面収差補正装置、球面収差補正方法、および荷電粒子線装置 Active JP6077960B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013153367A JP6077960B2 (ja) 2013-07-24 2013-07-24 球面収差補正装置、球面収差補正方法、および荷電粒子線装置
DE102014010685.3A DE102014010685A1 (de) 2013-07-24 2014-07-22 Vorrichtung zur korrektur sphärischer aberration, verfahren zur korrektur sphärischer aberration und ladungsteilchenstrahl-instrument
US14/338,542 US9256068B2 (en) 2013-07-24 2014-07-23 Spherical aberration corrector, method of spherical aberration correction, and charged particle beam instrument

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013153367A JP6077960B2 (ja) 2013-07-24 2013-07-24 球面収差補正装置、球面収差補正方法、および荷電粒子線装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015026431A true JP2015026431A (ja) 2015-02-05
JP6077960B2 JP6077960B2 (ja) 2017-02-08

Family

ID=52274127

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013153367A Active JP6077960B2 (ja) 2013-07-24 2013-07-24 球面収差補正装置、球面収差補正方法、および荷電粒子線装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US9256068B2 (ja)
JP (1) JP6077960B2 (ja)
DE (1) DE102014010685A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3419043A1 (en) 2017-06-20 2018-12-26 Jeol Ltd. Distortion correction method and electron microscope
WO2024003987A1 (ja) * 2022-06-27 2024-01-04 株式会社日立ハイテク 収差補正装置および収差補正方法
JP7465295B2 (ja) 2022-02-22 2024-04-10 日本電子株式会社 収差補正装置および電子顕微鏡

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100650155B1 (ko) * 2003-12-19 2006-11-27 조자연 사출 중공성형법에 의한 손잡이부가 형성된 pet 병의제조방법 및 이에 의해 제조된 pet 병
US11134848B2 (en) 2016-04-25 2021-10-05 Samsung Electronics Co., Ltd. Mobile hyperspectral camera system and human skin monitoring using a mobile hyperspectral camera system
WO2019133433A1 (en) * 2017-12-28 2019-07-04 Fei Company Method, device and system for reducing off-axial aberration in electron microscopy

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5613649A (en) * 1979-07-12 1981-02-10 Akashi Seisakusho Co Ltd Correcting method and device for astigmatism in scanning type electron microscope and the like
JPH04262351A (ja) * 1991-02-15 1992-09-17 Fujitsu Ltd 電子ビーム装置
JP2004146192A (ja) * 2002-10-24 2004-05-20 Hitachi High-Technologies Corp 透過電子顕微鏡による試料観察方法
JP2007207634A (ja) * 2006-02-03 2007-08-16 Hitachi High-Technologies Corp 収差補正装置を搭載した荷電粒子線装置
JP2008059881A (ja) * 2006-08-31 2008-03-13 Jeol Ltd 収差補正方法および電子線装置
JP2012234755A (ja) * 2011-05-09 2012-11-29 Hitachi High-Technologies Corp 3次寄生収差の補正方法および荷電粒子線装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0840939B1 (en) * 1996-05-21 2005-08-03 Fei Company Correction device for the correction of lens aberrations in particle-optical apparatus
US5793048A (en) * 1996-12-18 1998-08-11 International Business Machines Corporation Curvilinear variable axis lens correction with shifted dipoles
JP2001511303A (ja) * 1997-12-11 2001-08-07 フィリップス エレクトロン オプティクス ビー ヴィ 粒子−光学装置における球面収差補正用の補正デバイス
JP3914750B2 (ja) * 2001-11-20 2007-05-16 日本電子株式会社 収差補正装置を備えた荷電粒子線装置
US7015481B2 (en) * 2003-02-14 2006-03-21 Jeol Ltd. Charged-particle optical system
JP4276929B2 (ja) * 2003-11-18 2009-06-10 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線色収差補正装置および該収差補正装置を搭載した荷電粒子線装置
US8067732B2 (en) * 2005-07-26 2011-11-29 Ebara Corporation Electron beam apparatus
JP4533441B2 (ja) * 2008-03-13 2010-09-01 株式会社日立製作所 荷電粒子装置の球面収差を補正する収差補正装置
DE102011009954A1 (de) * 2011-02-01 2012-08-02 Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh Korrektor
JP5758728B2 (ja) 2011-07-26 2015-08-05 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置
JP6037693B2 (ja) * 2012-07-23 2016-12-07 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5613649A (en) * 1979-07-12 1981-02-10 Akashi Seisakusho Co Ltd Correcting method and device for astigmatism in scanning type electron microscope and the like
JPH04262351A (ja) * 1991-02-15 1992-09-17 Fujitsu Ltd 電子ビーム装置
JP2004146192A (ja) * 2002-10-24 2004-05-20 Hitachi High-Technologies Corp 透過電子顕微鏡による試料観察方法
JP2007207634A (ja) * 2006-02-03 2007-08-16 Hitachi High-Technologies Corp 収差補正装置を搭載した荷電粒子線装置
JP2008059881A (ja) * 2006-08-31 2008-03-13 Jeol Ltd 収差補正方法および電子線装置
JP2012234755A (ja) * 2011-05-09 2012-11-29 Hitachi High-Technologies Corp 3次寄生収差の補正方法および荷電粒子線装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3419043A1 (en) 2017-06-20 2018-12-26 Jeol Ltd. Distortion correction method and electron microscope
JP2019008880A (ja) * 2017-06-20 2019-01-17 日本電子株式会社 歪み補正方法および電子顕微鏡
US10446362B2 (en) 2017-06-20 2019-10-15 Jeol Ltd. Distortion correction method and electron microscope
JP7465295B2 (ja) 2022-02-22 2024-04-10 日本電子株式会社 収差補正装置および電子顕微鏡
WO2024003987A1 (ja) * 2022-06-27 2024-01-04 株式会社日立ハイテク 収差補正装置および収差補正方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP6077960B2 (ja) 2017-02-08
DE102014010685A1 (de) 2015-01-29
US9256068B2 (en) 2016-02-09
US20150029593A1 (en) 2015-01-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6077960B2 (ja) 球面収差補正装置、球面収差補正方法、および荷電粒子線装置
JP3985057B2 (ja) 粒子光学機器のレンズ収差補正用補正装置
US10446361B2 (en) Aberration correction method, aberration correction system, and charged particle beam apparatus
JP6647854B2 (ja) 収差補正方法および荷電粒子線装置
JP2016139456A (ja) 荷電粒子線装置
JP6276101B2 (ja) 多極子レンズ、収差補正装置、および電子顕微鏡
JP2007128656A (ja) 収差補正装置を備えた荷電粒子ビーム装置
JP4851268B2 (ja) 収差補正方法および電子線装置
US20190304739A1 (en) Aberration Corrector and Charged Particle Beam Device
JP2014022297A (ja) 荷電粒子線装置
US7781742B2 (en) Corrector
US9576768B2 (en) Multipole lens and charged particle beam system
JP2019129073A (ja) 収差補正装置および電子顕微鏡
US10446362B2 (en) Distortion correction method and electron microscope
JP2006216299A (ja) 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置における収差補正器の軸合わせ方法
JP4705812B2 (ja) 収差補正装置を備えた荷電粒子ビーム装置
JP4328192B2 (ja) 荷電粒子光学系における多極場発生装置および収差補正装置
JP4628076B2 (ja) 収差補正方法及び収差補正装置
JP2003502802A (ja) 粒子レンズの色収差を除去する静電修正器
WO2021100172A1 (ja) 荷電粒子線装置及び収差補正方法
US20230268155A1 (en) Aberration Correcting Device and Electron Microscope
JP7267319B2 (ja) 収差測定方法および電子顕微鏡
WO2024003987A1 (ja) 収差補正装置および収差補正方法
JP2008171610A (ja) 荷電粒子ビーム装置
JP2004199912A (ja) 荷電粒子ビーム装置における収差補正装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160215

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20161212

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20161228

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170113

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6077960

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150