JP2019001716A

JP2019001716A - アミノグリコシド系抗生物質の製造方法

Info

Publication number: JP2019001716A
Application number: JP2015216137A
Authority: JP
Inventors: 和重佐々木; Kazushige Sasaki; 高橋　良昭; Yoshiaki Takahashi; 良昭高橋; 英二郎梅村; Eijiro Umemura; 佳央秋山; Yoshihisa Akiyama; 正樹津島; Masaki Tsushima; 千佳菊地; Chika Kikuchi; 貴弘今井; Takahiro Imai
Original assignee: Meiji Seika Kaisha Ltd; Meiji Seika Pharma Co Ltd; Institute of Microbial Chemistry
Current assignee: Meiji Seika Kaisha Ltd; Meiji Seika Pharma Co Ltd; Institute of Microbial Chemistry
Priority date: 2015-11-02
Filing date: 2015-11-02
Publication date: 2019-01-10
Also published as: WO2017078096A1

Abstract

【課題】アミノグリコシド系抗生物質として有用な（２Ｓ）−２−ヒドロキシアルベカシンを（２Ｓ）−２−ヒドロキシジベカシンから効率的に製造するための合成中間体の提供。
【解決手段】式IIIで表される化合物又はその塩を合成中間体として用いて、（２Ｓ）−２−ヒドロキシアルベカシンを製造する方法。及び（２Ｓ）−２−ヒドロキシジベカシンの１位と２位以外のアミノ基に保護基Ｒ^１を銅イオンの存在下で導入し、式ＩＩＩの化合物を得る方法。

［Ｒ^１は、置換されていてもよいアルキルオキシカルボニル基または置換されていてもよいアリールアルキルオキシカルボニル基を表す］。
【選択図】なし

Description

本発明は、アミノグリコシド系抗生物質の新規な製造方法に関する。

近年、感染症の治療に用いられる抗菌剤に対して抵抗性を示す薬剤耐性菌が出現し、その耐性菌を起因菌とする感染症の治療が医療現場で大きな問題となっている。特にＭＲＳＡは、院内感染により急速に伝播し、臨床上重篤な感染症を引き起こす主要な薬剤耐性菌のひとつであることが知られており、その治療薬剤の開発が盛んに行われている。

このような技術状況下、アミノグリコシド系抗生物質は、グラム陽性菌からグラム陰性菌までの幅広い抗菌スペクトラムを有しかつ優れた殺菌力を有することから、ＭＲＳＡを含めた各種耐性菌を克服する有望な薬剤になるものと期待され、その誘導体の研究が継続的に行われている。

特許文献１には、幅広い抗菌スペクトラムと優れた抗菌活性とを発揮し、かつ重篤な腎毒性を回避しうるアミノグリコシド系抗生物質として（２Ｓ）−２−ヒドロキシアルベカシンが本発明者らの一部により開示されている。特許文献１では、以下のスキーム１に示される手順によって、（２Ｓ）−２―ヒドロキシジベカシンから（２Ｓ）−２−ヒドロキシアルベカシンが取得されている。

ＷＯ２００７/１４２１５０

しかしながら、特許文献１に記載の方法を用いて（２Ｓ）−２−ヒドロキシジベカシンから２Ｓ−ヒドロキシアルベカシンを製造すると、脱保護反応またはアシル化反応において複数の副生成物が発生することが本発明者らの検討から明らかとなった。（２Ｓ）−２−ヒドロキシアルベカシンの工業的生産の観点からは、副生成物を低減することが望ましい。したがって、副生成物を低減して、（２Ｓ）−２―ヒドロキシジベカシンから（２Ｓ）−２-ヒドロキシアルベカシンを効率的に取得するための新たな方法を創出することが望まれているといえる。

本発明は、（２Ｓ）−２―ヒドロキシジベカシンから（２Ｓ）−２-ヒドロキシアルベカシンを効率的に製造するための新たな方法を提供することをその目的としている。

本発明者らは、今般、鋭意検討した結果、特定の合成中間体を介した製造方法により、下式に示される通り、（２Ｓ）−２−ヒドロキシジベカシン（式I）から（２Ｓ）−２−ヒドロキシアルベカシン（式II）を効率的に取得しうることを見出した。本発明は、かかる知見に基づくものである。

本発明によれば、以下の発明を提供される。
（１）式Iに記載の化合物またはその塩から式IIに記載の化合物またはその塩を製造するための、式IIIに記載の化合物またはその塩からなる、合成中間体：

［式中、Ｒ^１は、置換されていてもよいＣ１〜６アルキルオキシカルボニル基または置換されていてもよいアリールアルキルオキシカルボニル基を表す］。

（２）式Iに記載の化合物またはその塩から式IIに記載の化合物またはその塩を製造するための、式IIIに記載の化合物またはその塩の使用：

（３）式IIIに記載の化合物またはその塩を合成中間体として用いることを特徴とする、式Iに記載の化合物またはその塩から式IIに記載の化合物またはその塩を製造する方法：

［式中、Ｒ^１は、置換されていてもよいアルキルオキシカルボニル基またはまたは置換されていてもよいアリールアルキルオキシカルボニル基を表す］。

（４）式Iに記載の化合物またはその塩における１位および３位以外のアミノ基に保護基Ｒ^１を銅イオンの存在下で導入して、式IIIに記載の化合物またはその塩を得ることを含んでなる、（３）に記載の方法。

（５）式IIIに記載の化合物またはその塩と、式IVに記載の化合物またはその塩とを反応させて、式Vに記載の化合物またはその塩を得、

［式中、Ｒ^２は置換されていてもよいアリールアルキルオキシカルボニル基を表し、Ｆは水素原子またはカルボン酸活性化基を表し、＊の炭素原子の立体配置はRまたはSを表す］

式Vに記載の化合物またはその塩におけるアミノ基を脱保護し、式IIに記載の化合物またはその塩を得ること
を含んでなる、（３）または（４）に記載の方法。

（６）式IIIに記載の化合物またはその塩における１位および３位のアミノ基にそれぞれ、保護基Ｒ³およびＲ^１を導入して、式VIに記載の化合物またはその塩を得、

［式中、保護基Ｒ³は、置換されていてもよいアルキルカルボニル基を表す］

式VIに記載の化合物またはその塩における１位を脱保護し、該１位のアミノ基と式IVに記載の化合物またはその塩とを反応させて、式VIIに記載の化合物またはその塩を得、

式VIIに記載の化合物またはその塩におけるアミノ基を脱保護し、式IIに記載の化合物またはその塩を得ることを含んでなる、（３）または（４）に記載の方法。

（７）式IIIに記載の化合物またはその塩における１位および３位のアミノ基に保護基Ｒ³を導入して、式VIIIに記載の化合物またはその塩を得、

［式中、保護基Ｒ³は、置換されていてもよいアルキル基を表す］
式VIIIに記載の化合物またはその塩における１位のアミノ基を脱保護し、該１位のアミノ基と式IVに記載の化合物またはその塩とを反応させて、式IXに記載の化合物またはその塩を得、

式IXに記載の化合物またはその塩におけるアミノ基を脱保護し、式IIに記載の化合物またはその塩を得ること
を含んでなる、（３）または（４）に記載の方法。

本発明によれば、従来の製造方法に比べて、（２Ｓ）−２−ヒドロキシジベカシン（式I）から顕著に高い収率の（２Ｓ）−２−ヒドロキシアルベカシン（式II）を効率的に取得することができる。

本明細書において、特に断らない限り、基または基の一部としての「アルキル」とは、基が直鎖状、分枝鎖状、または環状のアルキルを意味する。また、特に断らない限り、「アリール」とは、フェニルまたはナフチルを意味する。また、「アリールアルキル」とは、１以上の水素がアリール基で置換されたアルキルを意味する。

本明細書において、化合物の「塩」とは、大気中に放置したりまたは再結晶をすることにより、水分を吸収し、吸着水が付いたり、水和物となったりする場合があり、本発明には、そのような各種の水和物、溶媒和物および結晶多形の化合物も包含する。

式IIIに記載の化合物またはその塩（合成中間体）
本発明において、合成中間体として用いられる式IIIに記載の化合物は、１位および３位以外のアミノ基にいずれも保護基Ｒ^１が導入されており、Ｒ^１は、置換されていてもよいアルキルオキシカルボニル基または置換されていてもよいアリールアルキルオキシカルボニル基を表すことを特徴とする。

Ｒ^１で表されるアルキルオキシカルボニル基は、好ましくはＣ１〜６アルキルオキシカルボニル基であり、より好ましくはＣ１〜４アルキルオキシカルボニル基であり、さらに好ましくはメトキシカルボニル基またはｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基であり、さらに好ましくはｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基である。

Ｒ^１で表されるアルキルオキシカルボニル基の１以上の水素原子は置換されていてもよく、かかる置換基としては塩素、臭素、フッ素等のハロゲン原子、メトキシ基、トリフルオロアルキル基またはニトロ基が挙げられる。

また、Ｒ^１で表されるアリールアルキルオキシカルボニル基は、好ましくはアリールＣ１〜４アルキルオキシカルボニル基あり、より好ましくはアリールＣ１〜２アルキルオキシカルボニル基であり、さらに好ましくはベンジルオキシカルボニル基である。

Ｒ^１で表されるアリールアルキルオキシカルボニル基の１以上の水素原子は置換されていてもよく、かかる置換基としては塩素、臭素、フッ素等のハロゲン原子、メトキシ基、トリフルオロメトキシ基またはニトロ基等が挙げられる。

また、式IIIに記載の化合物は、塩として存在することができる。その塩としては、特に限定されないが、例えば、アミノ基の酸付加塩が挙げられる。かかる塩は、薬学的に許容可能な塩により構成することができる。また、塩の具体例としては、フッ化水素酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩またはヨウ化水素酸塩等のハロゲン化水素酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩、過塩素酸塩または炭酸塩等の無機酸塩、酢酸塩、トリクロロ酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、ヒドロキシ酢酸塩、乳酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、シュウ酸塩、安息香酸塩、マンデル酸塩、酪酸塩、マレイン酸塩、プロピオン酸塩、ギ酸塩またはリンゴ酸塩等のカルボン酸塩、アルギニン酸塩、アスパラギン酸塩またはグルタミン酸塩等のアミノ酸塩、あるいはメタンスルホン酸塩またはｐ―トルエンスルホン酸塩等のスルホン酸塩等が挙げられる。上述の塩は、本発明における他の化合物においても同様である。
また、式IIIに記載の化合物は目的化合物の製造用用剤として提供することができる。

（２Ｓ）−２−ヒドロキシアルベカシン（式IIに記載の化合物）またはその塩
本発明によれば、式IIIに記載の化合物またはその塩を合成中間体として用いた製造方法により、（２Ｓ）−２−ヒドロキシアルベカシン（式IIに記載の化合物）またはその塩を効率的に取得することができる。本発明の１つの態様によれば、式IIに記載の化合物は、以下の式II-aで表される。

（２Ｓ）−２−-ヒドロキシアルベカシン（式IIに記載の化合物）の製造方法
本発明によれば、式IIIに記載の化合物を合成中間体として用いて、（２Ｓ）−２−ヒドロキシジベカシン（式Iに記載の化合物）から（２Ｓ）−２−ヒドロキシアルベカシン（式IIに記載の化合物）を、以下の３つのルートＡ〜Ｃにより有利に取得することができる。なお、ルートＡ〜Ｃに記載の方法において、温度、溶媒および試薬の種類・量等の反応条件の詳細は特段の記載のない限り、当業者によって適宜決定することができる。

ルートＡによれば、式Iに記載の化合物またはその塩における１位および３位以外のアミノ基に保護基Ｒ^１を導入して式IIIに記載の化合物またはその塩を取得し（ステップa）、次に、式IIIに記載の化合物と式IVに記載の化合物とを反応させて式Vに記載の化合物またはその塩を得（ステップb）、アミノ基を脱保護して式IIの化合物を得る（ステップｃ）。

ルートＡのステップaでは、上述の通り、銅イオンの存在下、式Iに記載の化合物またはその塩における１位および３位以外のアミノ基に保護基Ｒ^１を導入する。銅カチオンの存在下、式Iに記載の化合物またはその塩の１位および３位以外のアミノ基にＲ^１基が高選択的に導入されることは意外な事実である。

銅イオンは、本発明の効果を妨げない限り特に限定されないが、２価の銅イオンであることが好ましい。かかる銅イオンを生成する試薬としては、好ましくは第二銅の有機塩または無機塩であり、より好ましくは酢酸銅である。

また、ルートＡのステップbでは、アシル化剤として式IVに記載の化合物が用いられる。
式IVに記載の化合物におけるＲ²で表されるアリールアルキルオキシカルボニル基は、好ましくはアリールＣ１〜４アルキルオキシカルボニル基であり、より好ましくはアリールＣ１〜２アルキルオキシカルボニル基であり、さらに好ましくはベンジルオキシカルボニル基である。

また、Ｒ²で表されるアリールアルキルオキシカルボニル基の１以上の水素原子は置換されていてもよく、かかる置換基としては塩素、臭素、フッ素等のハロゲン原子、メトキシ基、トリフルオロメトキシ基またはニトロ基等が挙げられ、好ましくはメトキシ基である。

また、式IVに記載の化合物において、Ｆは水素原子またはカルボン酸活性化基を表す。カルボン酸活性化基とのエステルは、好ましくはスクシンイミドエステル体である。式IVに記載の化合物の具体例としては、４−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ酪酸スクシンイミドエステルが挙げられる。

また、式IVに記載の化合物の＊の炭素原子の立体配置はRまたはSを表し、好ましくはSを表す。

さらに、式IVに記載の化合物は、好ましくは以下の式IV-aで表される。

ルートＡによれば、後述する例１〜４に示される通り、特許文献１に記載の方法と比較して約２倍の収率（約３４％）が達成される。したがって、ルートＡは、従来の方法と比較して、（２Ｓ）−２−ヒドロキシアルベカシンの工業生産上有利である。

ルートＢによれば、ステップａで得られた式IIIに記載の化合物またはその塩における１位および３位のアミノ基にそれぞれ、保護基Ｒ³およびＲ^１を導入して、式VIに記載の化合物またはその塩を得（ステップdおよびステップe）、式VIに記載の化合物またはその塩における１位のアミノ基を脱保護し（ステップｆ）、該１位のアミノ基と式IVに記載の化合物またはその塩とを反応させて、式VIIに記載の化合物またはその塩を得（ステップｇ）、式VIIに記載の化合物またはその塩におけるアミノ基を脱保護し、式IIに記載の化合物またはその塩を得る（ステップｈ）。

ルートＢのステップｄでは、保護基Ｒ³を用いると、３位のアミノ基を残したまま１位のアミノ基を選択的に保護しうることが本発明者らの検討により明らかとなった。さらにルートＢのステップeおよびステップfに示される通り、化合物の３位のアミノ基をＲ¹基で保護した後に、１位のアミノ基のＲ³基のみを選択的に脱保護できることを見出した。このようなルートＢによれば、アミノ基を選択的に保護または脱保護しうることから、副生成物の発生を防ぎ、効率的に目的物を製造することが可能となる。

また、後述する例５〜７および８〜１０によれば、ルートＡに比べ３工程増えているにもかかわらず、ルートＢの収率（約４６％）はルートＡよりも向上している。したがって、ルートＢは、式IIに記載の化合物の工業生産上一層有利であるといえる。

ルートＣによれば、ステップａで得られた式IIIに記載の化合物またはその塩における１位および３位のアミノ基に保護基Ｒ^３を導入して、式VIIIに記載の化合物またはその塩を得（ステップi）、式VIIIに記載の化合物またはその塩における１位のアミノ基を脱保護し（ステップj）、該１位のアミノ基と式IVに記載の化合物またはその塩とを反応させて、式IXに記載の化合物またはその塩を得（ステップｋ）、式IXに記載の化合物またはその塩におけるアミノ基を脱保護し、式IIに記載の化合物またはその塩を得る（ステップｌおよびステップｍ）。

ルートＣのステップiでは、式IIIに記載の化合物における１位および３位のアミノ基に２個のＲ^３基を導入している。このＲ^３保護体を脱保護反応にかけると、１位のＲ^３基のみが選択的に脱離することが本発明者らの検討により明らかとなった。このようなルートＣによれば、１位のアシル化（ステップｋ）も選択的に実施しうることから、副生成物の発生を防ぎ、効率的に目的物を製造することが可能となる。

後述する例１１〜１９によれば、ルートＡに比べ工程数が増えているにもかかわらず、ルートＣの収率（約５５％）は、ルートＡおよびルートＢと比較しても向上している。したがって、ルートＣは、式IIに記載の化合物の工業生産上一層有利であるといえる。

本発明を下記実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例により限定されるものではない。

ルートＡ（Ｒ ^１＝ベンジルオキシカルボニル基（Ｃｂｚ））
例１：２’、６’、３”−トリ−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−（２Ｓ）−２−ヒドロキシジベカシンの製造

ＷＯ２００７／１４２１５０（特許文献１）に記載の方法に準じて得た（２Ｓ）−２−ヒドロキシジベカシン（遊離塩基）１ｇ（２．１３ミリモル）と酢酸銅１水和物４６９ｍｇ（２．３４ミリモル）の混合物にメタノール２０ｍｌを加えて均一溶液になるまで撹拌した。この溶液にＮ−（ベンジルオキシカルボニルオキシ）スクシンシミド１．７５ｇ（７．０３ミリモル）を室温で加え、同温で１６時間放置した。反応液を濃縮しクロロホルムを加えた後、濃アンモニア水で２回洗浄した。これを濃縮することにより表題化合物１．８４ｇ（９９％）を得た。

ESIMS：m/z 892 [M＋Na]^＋
¹Ｈ−ＮＭＲ(Pyridine-d5)：δ7.15−7.50（m, 15H）,5.75（d, 1H,J = 3 Hz）, 5.67（d, 1H,J = 3 Hz）,5.15−5.45（m, 6H）

例２：（２Ｓ）−２−ヒドロキシアルベカシンの製造

例１の表題化合物１．７４ｇ（２ミリモル）をピリジン３ｍｌに溶解し、この溶液にＫａｗａｇｕｃｈｉらの報告（ＪｏｕｒｎａｌｏｆＡｎｔｉｂｉｏｔｉｃｓ．Ｖｏｌ．２５．ｐｐ６９５−７０８（１９７２））に従って合成した（Ｓ）−４−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ酪酸スクシンイミドエステル９８０ｍｇ（２．８ミリモル）を−１０〜−５℃で５分間かけて加え、１時間後室温に戻し１６時間撹拌した。反応液に濃アンモニア水０．５ｍｌを加え室温で１時間撹拌後、濃縮し得られた残渣をクロロホルムに溶解し２回水洗後、濃縮した。残渣を１，４−ジオキサン−酢酸−水（４：１：１）の混合溶媒２０ｍｌに溶解し、パラジウムブラックを加え常温、常圧で６時間水素雰囲気下、接触還元を行った。反応液からパラジウムブラックを除去後、濃縮を行い、得られた残渣を水２０ｍｌに溶解した。この水溶液をアンバーライトＣＧ−５０アンモニアタイプの陽イオン交換樹脂カラム１００ｍｌに吸着し水洗後、０．１Ｎから１Ｎのアンモニア水溶液で溶離を行った。相当する画分を濃縮後凍結乾燥を行い表題化合物：（２Ｓ）−２−ヒドロキシアルベカシン３７６ｍｇ（３３％）を得た。

ESIMS：m/z 569 [M＋H]^＋
¹Ｈ−ＮＭＲ(26%ND₄OD)：δ5.13（d, 1H,J = 3.5 Hz）,5.03（d, 1H, J = 4 Hz）4.16（dd, 1H, J = 4, 9.5 Hz）,3.98（m, 1H）,3.83−3.90（m, 2H）, 3.65−3.77（m, 2H）,3.37（t, 1H, J = 10, 10 Hz）, 2.82（m, 1H）, 2.70−2.78（m, 2H）,2.65（dd,1H, J = 7, 13 Hz）, 2.62（dd,1H, J = 7, 13 Hz）, 1.86−1.96（m, 1H）, 1.69−1.80（m, 3H）, 1.61（dq,1H, J = 4, 13 Hz）, 1.37（dq,1H, J = 4, 13 Hz）

ルートＡ（Ｒ ^１＝tert-ブトキシカルボニル基（Boc））
例３：２’、６’、３”−トリ−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−（２Ｓ）−２−ヒドロキシジベカシンの製造

ＷＯ２００７／１４２１５０（特許文献１）に記載の方法に準じて得た（２Ｓ）−２−ヒドロキシジベカシン（遊離塩基）１ｇ（２．１３ミリモル）と酢酸銅１水和物４６９ｍｇ（２．３４ミリモル）の混合物にメタノール２０ｍｌを加えて均一溶液になるまで撹拌した。この溶液に二炭酸ジ−ｔ−ブチル１．５３ｇ（７．０３ミリモル）を室温で加え、同温で１６時間放置した。反応液を濃縮しクロロホルムを加えた後、濃アンモニア水で２回洗浄した。これを濃縮することにより表題化合物１．８６ｇ（定量）を得た。

ESIMS：m/z 790 [M＋Na]^＋
¹Ｈ−ＮＭＲ(Pyridine-d5)： 5.79（d, 1H,J = 3 Hz）, 5.68（d, 1H,J = 3 Hz）,1.48（s, 27H）

例４：（２Ｓ）−２−ヒドロキシアルベカシンの製造

例３の表題化合物１．６１ｇ（２．１ミリモル）をピリジン３ｍｌに溶解し、この溶液に（Ｓ）−４−（４−メトキシベンジルオキシ）カルボニルアミノ−２−ヒドロキシ酪酸スクシンイミドエステル１．１２ｇ（２．９４ミリモル）を−１０〜−５℃で５分間かけて加え、１時間後室温に戻し１６時間撹拌した。濃アンモニア水０．５ｍｌを加え室温で１時間撹拌後、濃縮し得られた残渣をクロロホルムに溶解し２回水洗後、濃縮した。残渣にトリフルオロ酢酸５ｍｌを加え室温で１時間撹拌した。濃縮を後得られた残渣を水２０ｍｌに溶解し濃アンモニア水で中和した。この水溶液を例１と同様の処理を行い表題化合物：（２Ｓ）−２−ヒドロキシアルベカシン４０７ｍｇ（３４％）を得た。

ルートＢ
例５：２’、６’、３”−トリ−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−１−Ｎ−トリフルオロアセチル−（２Ｓ）−２−ヒドロキシジベカシンの製造

例１の表題化合物１ｇ（１．１５ミリモル）をメタノール２ｍｌに溶解し、この溶液にトリフルオロ酢酸エチル０．１６ｍｌ（１．３８ミリモル）を−１０〜−５℃で加え、室温に戻し１時間撹拌し、濃縮して、例５の表題化合物１．１０ｇ（９９％）を得た。

ESIMS：m/z 988 [M＋Na]^＋
δ7.15−7.50（m, 15H）,5.75（d, 1H,J = 3 Hz）, 5.67（d, 1H,J = 3 Hz）,5.15−5.45（6H, m）

例６：３、２’、６’、３”−テトラ−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−（２Ｓ）−２−ヒドロキシジベカシンの製造

例５の表題化合物１．０５ｇ（１．０９ミリモル）を１，４−ジオキサン２ｍｌに溶解し、この溶液にトリエチルアミン０．２ｍｌとＮ−（ベンジルオキシカルボニルオキシ）スクシンイミド２９８ｍｇ（１．２ミリモル）を室温で加え、同温で１時間撹拌した。反応液に濃アンモニア水１ｍｌを加え室温で１６時間撹拌した。反応液を濃縮後クロロホルムに溶解し２回水洗後に濃縮し、例６の表題化合物１．０９ｇ（定量）を得た。

ESIMS：m/z 1026 [M＋Na]^＋
¹Ｈ−ＮＭＲ(Pyridine-d5)：δ7.15−7.55（m, 20H）,5.86（d, 1H,J = 3 Hz）, 5.66（d, 1H,J = 3 Hz）,5.25−5.45（m, 8H）

例７：（２Ｓ）−２−ヒドロキシアルベカシンの製造

例６の表題化合物９９０ｍｇ（０．９９ミリモル）を用い例２と同様に処理し表題化合物：（２Ｓ）−２−ヒドロキシアルベカシン２５３ｍｇ（４５％）を得た。

例８：２’、６’、３”−トリ−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−１−Ｎ−トリフルオロアセチル−（２Ｓ）−２−ヒドロキシジベカシンの製造

例３の表題化合物１ｇ（１．３ミリモル）をメタノール２ｍｌに溶解し、この溶液にトリフルオロ酢酸エチル０．１８ｍｌ（１．５６ミリモル）を−１０〜−５℃で加え、室温に戻し１時間撹拌した。濃縮し例８の表題化合物１．１２ｇ（定量）を得た。

ESIMS：m/z 886 [M＋Na]^＋
¹Ｈ−ＮＭＲ(Pyridine-d5)： 5.76（d, 1H,J = 3 Hz）, 5.66（d, 1H,J = 3 Hz）,1.47（s, 27H）

例９：３、２’、６’、３”−テトラ−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−（２Ｓ）−２−ヒドロキシジベカシンの製造

例８の表題化合物１．１ｇ（１．２７ミリモル）を１，４−ジオキサン２ｍｌに溶解し、この溶液にトリエチルアミン０．２ｍｌと二炭酸ジ−ｔ−ブチル３３０ｍｇ（１．５２ミリモル）を室温で加え、同温で１時間撹拌した。反応液に濃アンモニア水１ｍｌを加え室温で１６時間撹拌した。反応液を濃縮後クロロホルムに溶解し２回水洗後、濃縮して、例９の表題化合物１．１１ｇ（定量）を得た。

ESIMS：m/z 890 [M＋Na]^＋
¹Ｈ−ＮＭＲ(Pyridine-d5)： 5.84（d, 1H,J = 3 Hz）, 5.73（d, 1H,J = 3 Hz）,1.48（s, 36H）

例１０：（２Ｓ）−２−ヒドロキシアルベカシンの製造

例９の表題化合物１．０６ｇ（１．２２ミリモル）を用い例４と同様に処理し、表題化合物：（２Ｓ）−２−ヒドロキシアルベカシン３１９ｍｇ（４６％）を得た。

ルートＣ（１）
例１１：２’、６’、３”−トリ−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−１、３−ジ−Ｎ−トリフルオロアセチル−（２Ｓ）−２−ヒドロキシジベカシンの製造

例３の表題化合物２０８ｇ（０．２７モル）をメタノール１６００ｍｌに溶解し、この溶液にトリエチルアミン８８ｍｌとトリフルオロ酢酸エチル１７５ｍｌ（１．４８モル）を加え、室温で終夜撹拌した。反応液を酢酸エチル３２００ｍｌで希釈後、水３２００ｍｌ及び５％重曹水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウム脱水後に濃縮して、例１１の表題化合物２０８ｇ（８０％）を得た。

例１２：２’、６’、３”−トリ−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−３−Ｎ−トリフルオロアセチル−（２Ｓ）−２−ヒドロキシジベカシンの製造

例１１の表題化合物２０８ｇ（０．２２モル）をメタノール４０００ｍｌに溶解し、この溶液に１モル水酸化ナトリウム水溶液４２０ｍｌを加え、室温で終夜撹拌した。反応液をクロロホルム８０００ｍｌで希釈後、水４０００ｍｌで洗浄した。水層をクロロホルム４０００ｍｌで抽出後、有機層を合わせ硫酸マグネシウム脱水後に濃縮して、例１２の表題化合物１７１ｇ（９０％）を得た。

例１３：２’、６’、３”−トリ−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−４”’−Ｎ−ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル−（２Ｓ）−２−ヒドロキシアルベカシンの製造

例１２の表題化合物１７１ｇ（０．１９８モル）をＴＨＦ１２００ｍｌに溶解し、この溶液に（Ｓ）−４−（４−メトキシベンジルオキシ）カルボニルアミノ−２−ヒドロキシ酪酸スクシンイミドエステル２２８ｇ（０．６モル）のＴＨＦ溶液３５００ｍｌとトリエチルアミン１１７ｍｌを加え、室温で終夜撹拌した。反応液に１モル水酸化ナトリウム水溶液２１００ｍｌとベンジルトリエチルアンモニウムクロリド（ＢＴＥＡＣ）４７．８ｇを加え、室温で７時間撹拌した。反応液をクロロホルム４８００ｍｌで希釈後、水４８００ｍｌで洗浄した。水層をクロロホルム２４００ｍｌで抽出後、有機層を合わせ硫酸マグネシウム脱水後に濃縮して、例１３の表題化合物２５０ｇ（１２０％）を得た。

例１４：（２Ｓ）−２−ヒドロキシアルベカシンの製造

例１３の表題化合物２５０ｇをメタノール２０００ｍｌに溶解し、５℃に冷却し６モル塩酸２０００ｍｌを加え室温で６時間撹拌した。反応液を濃アンモニア水で中和後、析出物を除去後９００ｍｌまで濃縮した。この溶液を酢酸エチル２０００ｍｌで希釈後、水５００ｍｌ抽出を行った。水層を濃アンモニア水で中和後、例２と同様にイオン交換樹脂で精製を行い、例１４の表題化合物５３．７ｇ（４０％）を得た。

ルートＣ（２）−ラージスケール
例１５
２’、６’、３”−トリ−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−（２Ｓ）−２−ヒドロキシジベカシンの製造

ＤＩＷ４．８Ｌと２−ＯＨ−ＤＫＢ１．２Ｋｇをポリ容器に投入し、溶解した。この溶液に酢酸銅一水和物４９０ｇを加え、ＭｅＯＨ４．８Ｌで洗いこみ、キレート溶液を調製した。ＭｅＯＨ１８Ｌを反応釜に投入し、続いて調製したキレート溶液を加え、ＭｅＯＨ１８Ｌで洗いこんだ。内温を１５℃以下に冷却し、（Ｂｏｃ）_２Ｏ２．４１Ｋｇを内温が２０℃を超えないように加え、ＭｅＯＨ２．４Ｌで洗いこみ、内温を２０〜２５℃で終夜撹拌した。反応の終点を確認した後、濃アンモニア水を２．５１Ｌ加え、３０分間撹拌した。０．１ＮＥＤＴＡ水溶液を４９．１Ｌ加えた。この混合液にクロロホルム２４Ｌを加え、有機層を分け取った。水層からクロロホルム２４Ｌを用いて抽出し、得られた有機層を併せ定量を行い、２．２９Ｋｇの標記化合物が得られたことを確認した。ＥｔＯＨで１２Ｌまで置換濃縮し、次工程に使用した。
LC Mass：m/s 768.5［M+H］⁺

例１６：２’、６’、３”−トリ−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−１、３−ジ−Ｎ−トリフルオロアセチル−（２Ｓ）−２−ヒドロキシジベカシンの製造

例１５化合物のＥｔＯＨ溶液にＴＥＡ１．０３Ｌを投入しＥｔＯＨ１．２Ｌで洗浄した。この溶液に更にＴＦＡＯＥｔ２．９２Ｌを加えＥｔＯＨ１．２Ｌで洗浄し、４０℃で終夜撹拌した。反応の終点を確認した後、この溶液をそのまま次工程に使用した。
LC Mass：m/s 960.4［M+H］⁺

例１７：２’、６’、３”−トリ−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−３−Ｎ−トリフルオロアセチル−（２Ｓ）−２−ヒドロキシジベカシンの製造

例１６のＥｔＯＨ溶液に０．５ＮＮａＯＨ水溶液２４Ｌを、ｐＨが９．５を超えないように注意しながら加えた。この混合液に０．３ＮＮａＯＨ水溶液を加えｐＨを１０．９０に調整した。０．３ＮＮａＯＨ水溶液は２２Ｌ要した。３０分ごとにｐＨをチェックし、反応時間２時間まではｐＨが１０．７０以下ならば０．３ＮＮａＯＨでｐＨを１０．９０に調整し、た。２時間以降はｐＨが１０．６５以下であったら．３ＮＮａＯＨでｐＨを１０．８０に調整し、反応終点を３．５時間後に確認した。加温を停止し、即座に１ＮＨＣｌを用いてｐＨを９．０に調整した。この混合液にクロロホルム２４Ｌを加え、有機層を分け取った。水層からクロロホルム２４Ｌを用いて抽出し、得られた有機層を併せ定量を行い、２．０７Ｋｇの標記化合物が得られたことを確認した。ＤＭＦで１２Ｌまで置換濃縮し、次工程に使用した。
LC Mass：m/s 864.4［M+H］⁺

例１８

例１７化合物にＴＨＦ３．６Ｌを加え、続いて（Ｓ）−４−（４−メトキシベンジルオキシ）カルボニルアミノ−２−ヒドロキシ酪酸スクシンイミドエステルのＴＨＦ溶液を加え、ＴＨＦ３．６Ｌで洗いこんだ。混合液を１５℃以下に冷却し、内温が２０℃を超えないようにＴＥＡ１．３７Ｌを加え、ＴＨＦ１．２Ｌで洗いこんだ。反応温度を２０℃に昇温し、その温度で終夜撹拌した。反応の終点を確認した後、１ＮＮａＯＨ水溶液２４．６Ｌを内温３０℃以下で加えた。この混合液にＤＭＦ１２Ｌを加え、３０℃で３時間撹拌した。５ＮＮａＯＨ水溶液２．４６Ｌを１時間ごとに混合液に加えた。反応の終点を確認した後、６Ｎ塩酸水でｐＨを１０．０に調整し、クロロホルム２４Ｌを加え有機層を分け取り、得られた水層をクロロホルム２４Ｌで抽出した。有機層を併せた後、ＤＭＦで１２Ｌまで置換濃縮し、この溶液を次工程に使用した。
LC Mass：m/s 1033.5［M+H］⁺

例１９：（２Ｓ）−２−ヒドロキシアルベカシンの製造

例１８の溶液にＭｅＯＨ２４Ｌを加え、この溶液に６Ｎ塩酸水２４Ｌを内温が３０℃を上回らないように加え、内温２５〜３０℃で４．５時間撹拌し、反応の終点を確認した。内温約２５℃を維持しながら濃アンモニア水でｐＨを５．８付近に調整した。この溶液を酢酸エチル２４Ｌを用いて洗浄後、得られた水層を定量し、１．０５２Ｋｇの粗（２Ｓ）−２−ヒドロキシアルベカシンが生成していることを確認した。
ESIMS：m/z 569 [M＋H]^＋
さらに、レジン（ＷＫ−１００，ＦＰＣ−３５００）を用い、アンモニア水で溶出した後に硫酸塩化し、（２Ｓ）−２−ヒドロキシアルベカシン硫酸塩として５６８ｇ得た。

Claims

式Iに記載の化合物またはその塩から式IIに記載の化合物またはその塩を製造するための、式IIIに記載の化合物またはその塩からなる、合成中間体：

［式中、Ｒ^１は、置換されていてもよいアルキルオキシカルボニル基または置換されていてもよいアリールアルキルオキシカルボニル基を表す］。
式Iに記載の化合物またはその塩から式IIに記載の化合物またはその塩を製造するための、式IIIに記載の化合物またはその塩の使用：

［式中、Ｒ^１は、置換されていてもよいアルキルオキシカルボニル基または置換されていてもよいアリールアルキルオキシカルボニル基を表す］。
式IIIに記載の化合物またはその塩を合成中間体として用いることを特徴とする、式Iに記載の化合物またはその塩から式IIに記載の化合物またはその塩を製造する方法：

［式中、Ｒ^１は、置換されていてもよいアルキルオキシカルボニル基または置換されていてもよいアリールアルキルオキシカルボニル基を表す］。
式Iに記載の化合物またはその塩における１位および３位以外のアミノ基に保護基Ｒ^１を銅イオンの存在下で導入して、式IIIに記載の化合物またはその塩を得ることを含んでなる、請求項３に記載の方法。
式IIIに記載の化合物またはその塩と、式IVに記載の化合物またはその塩とを反応させて、式Vに記載の化合物またはその塩を得、

［式中、Ｒ^２は置換されていてもよいアリールアルキルオキシカルボニル基を表し、Ｆは水素原子またはカルボン酸活性化基を表し、＊の炭素原子の立体配置はRまたはSを表す］

式Vに記載の化合物またはその塩におけるアミノ基を脱保護し、式IIに記載の化合物またはその塩を得ること
を含んでなる、請求項３または４に記載の方法。
式IIIに記載の化合物またはその塩における１位および３位のアミノ基にそれぞれ、保護基Ｒ^３およびＲ^１を導入して、式VIに記載の化合物またはその塩を得、

［式中、保護基Ｒ³は、置換されていてもよいアルキルカルボニル基を表す］

式VIに記載の化合物またはその塩における１位のアミノ基を脱保護し、該１位のアミノ基と式IVに記載の化合物またはその塩とを反応させて、式VIIに記載の化合物またはその塩を得、

［式中、Ｒ^２は置換されていてもよいアリールアルキルオキシカルボニル基を表し、Ｆは水素原子またはカルボン酸活性化基を表し、＊の炭素原子の立体配置はRまたはSを表す］

式VIIに記載の化合物またはその塩におけるアミノ基を脱保護し、式IIに記載の化合物またはその塩を得ることを含んでなる、請求項３または４に記載の方法。
式IIIに記載の化合物またはその塩における１位および３位のアミノ基に保護基Ｒ^３を導入して、式VIIIに記載の化合物またはその塩を得、

［式中、保護基Ｒ³は、置換されていてもよいアルキルカルボニル基を表す］
式VIIIに記載の化合物またはその塩における１位を脱保護し、該１位のアミノ基と式IVに記載の化合物またはその塩とを反応させて、式IXに記載の化合物またはその塩を得、

［式中、Ｒ^２は置換されていてもよいアリールアルキルオキシカルボニル基を表し、Ｆは水素原子またはカルボン酸活性化基を表し、＊の炭素原子の立体配置はRまたはSを表す］

式IXに記載の化合物またはその塩におけるアミノ基を脱保護し、式IIに記載の化合物またはその塩を得ること
を含んでなる、請求項３または４に記載の方法。