JP2018523309A - 太陽電池の光吸収体の製造方法 - Google Patents

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Abstract

本発明は、太陽電池の光吸収体として使用できるペロブスカイト化合物の製造方法に関し、ペロブスカイト化合物の結晶性を高めて太陽電池の安定性および効率を高められる太陽電池の光吸収体の製造方法を提供する。

Description

関連出願との相互参照
本出願は、2015年10月27日付の韓国特許出願第10−2015−0149471号に基づく優先権の利益を主張し、当該韓国特許出願の文献に開示されたすべての内容は本明細書の一部として含まれる。
本発明は、太陽電池の光吸収体として使用できるペロブスカイト化合物の製造方法に関する。
化石エネルギーの枯渇とその使用による地球環境的な問題を解決するために、太陽エネルギー、風力、水力のような、再生可能で、クリーンな代替エネルギー源に対する研究が活発に進められている。
このうち、太陽光から直接電気的エネルギーを変化させる太陽電池に対する関心が大きく増加している。ここで、太陽電池とは、太陽光から光エネルギーを吸収して電子と正孔を発生させる光起電効果を利用して電流−電圧を生成する電池を意味する。
太陽光から光エネルギーを吸収してエキシトンを形成できる多様な物質が報告されており、最近はペロブスカイト型化合物が注目されている。ペロブスカイト型化合物は、一般に、陽イオン(AおよびM)と陰イオン(X)がAMXの化学式で構成され、CHNHPbIが太陽電池の吸収体として使用できることが報告されて以来(Scientific Reports2,591)、多様な化合物が報告されている。
このようなペロブスカイト化合物は、陽イオンと陰イオンの置換など構造の変更が可能であるが、これによるバンドギャップの変化により太陽電池に適した吸収体を製造することができる。また、最近は、多様な電子伝達層および正孔伝達層がペロブスカイト化合物と共に使用され、太陽電池の効率を高められることが報告されている。
しかし、ペロブスカイト化合物は、太陽電池の吸収体としての使用にいくつかの限界がある。まず、ペロブスカイト化合物は水分に敏感で、水分への露出時に分解などの問題があり、太陽電池への適用時、長期安定性に劣るという欠点がある。これを解決するために、ペロブスカイト化合物の構成元素を置換する研究が進められているが、水分に対する安定性が高いながらも太陽電池の吸収体として有用な化合物は非常に制限的である。
また、ペロブスカイト化合物は、特定の結晶を有しているが、製造条件によってdefectが発生する傾向があり、このようなdefectによって太陽電池の効率が低下する問題がある。
Defectの形成を抑制するために多様な反応物が研究されており、最近は、DMSO付加体(PbI−DMSO)をペロブスカイト前駆体として使用する例が報告された(Science2015,Vol.348,no.6240,pp.1234−1237)。しかし、前記DMSO付加体(PbI−DMSO)は、PbI−DMSOとPbI−DMSOが存在して物質自体の安定性に劣り、また、合成が難しい問題がある。
そこで、本発明者らは、ペロブスカイト化合物の結晶性を高めて太陽電池の安定性および効率を高められる太陽電池の光吸収体の製造方法を鋭意研究した結果、後述するような製造方法で前記の問題を解決できることを確認して、本発明を完成した。
本発明は、太陽電池の光吸収体として使用できるペロブスカイト化合物の製造方法に関し、ペロブスカイト化合物の結晶性を高めて太陽電池の安定性および効率を高められる太陽電池の光吸収体の製造方法を提供する。
上記の課題を解決するために、本発明は、下記の段階を含む太陽電池の光吸収体の製造方法を提供する:
(a)i)下記化学式1で表される化合物、およびii)NHまたはNCH構造を含む極性非プロトン性溶媒の付加体、および(b)下記化学式2で表される化合物を1種または2種含む溶液を、電極上に塗布する段階(段階1);および
前記段階1の電極を熱処理する段階(段階2):
[化学式1]
MXX'
前記化学式1において、
Mは、2価の金属陽イオンであり、
XおよびX'は、それぞれ独立に、互いに同一または異なるハロゲンであり、
[化学式2]
AX"
前記化学式2において、
Aは、Rまたは(RN=CH−NRの有機陽イオンであり、
ここで、R、R、RおよびRは、それぞれ独立に、水素、またはC1−10アルキルであり、ただし、R、R、RおよびRのうちの少なくとも1つは、C1−10アルキルであり、
、R、RおよびRは、それぞれ独立に、水素、またはC1−10アルキルであり、
X"は、ハロゲンである。
本発明で製造しようとする太陽電池の光吸収体は、ペロブスカイト化合物である。本発明で使用される用語「ペロブスカイト(perovskite)」とは、ロシアの鉱物学者Lev Perovskiの名前から名付けられたもので、陽イオン(AおよびM)と陰イオン(X)がAMXの化学式で構成され、最初のペロブスカイト型物質のUral酸から発見されたCaTiOのような構造を有する物質を意味する。
一般的なペロブスカイト化合物(AMX)の製造方法は、AM化合物とMX化合物とを反応させてペロブスカイト結晶を生成させる段階を含む。しかし、前記反応条件による結晶の形成時にdefectが発生することがあり、これは、太陽電池の効率を低下させる一原因とされている。
Defectが少ない、つまり、結晶性の高いペロブスカイト化合物を製造するためには、AM化合物とMX化合物との反応時、結晶構造の形成のために反応物質間の配置がよく行われなければならない。そこで、本発明では、MXに相当する反応物質としてそのN−メチルピロリドンまたはジメチルアセトアミドの付加体を使用し、これを用いて結晶性の高いペロブスカイト化合物を製造することを特徴とする。
以下、各段階別に本発明を詳細に説明する。
i)下記化学式1で表される化合物、およびii)NHまたはNCH構造を含む極性非プロトン性溶媒の付加体、および(b)下記化学式2で表される化合物を1種または2種含む溶液を、電極上に塗布する段階(段階1)
太陽電池の光吸収体を製造するために使用される化学式1で表される化合物について、本発明ではこれを付加体として使用する。
本発明で使用される用語「付加体(adduct)」とは、2個以上の別個の分子を直接添加した単一反応物を意味する。本発明では、MXX'の化合物にNHまたはNCH構造を含む極性非プロトン性溶媒が添加された形態の化合物を意味する。
このような付加体を使用する場合、理論的に制限されるわけではないが、化学式2のAX"化合物との反応時、前記極性非プロトン性溶媒が反応物質を介してペロブスカイト結晶構造を誘導し、この後、前記極性非プロトン性溶媒が除去されながらペロブスカイト結晶構造を形成するため、defectの生成を抑制してペロブスカイト化合物の結晶性を高められる。
したがって、本発明で付加体を形成する物質は、化学式1で表される化合物と反応して効果的に付加体が形成され、また、化学式2で表される化合物との反応時には除去されやすい特性を有しなければならない。そこで、本発明で使用する極性非プロトン性溶媒は、NHまたはNCH構造を含むことによって適切な分極力(polarizability)を有しているため、化学式2で表される化合物との反応前は付加体を効果的に形成し、化学式2で表される化合物との反応時には化学式1で表される化合物の金属元素(M)との結合力が弱くて効果的に除去される。また、前記極性非プロトン性溶媒は、分子体積が大きいため、付加体の形成時、化学式1で表される化合物間の間隔が広くて、化学式2で表される化合物の置換がより容易である。
前記付加体は、当業界における通常の方法で製造することができる。また、一般に、付加体は製造過程で様々な付加体が製造できるが、本発明で使用する付加体は、単一物質として存在したり、相互間で変化せず、物質自体の安定性が高いという特徴がある。
好ましくは、前記極性非プロトン性溶媒は、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、N−メチル−2−ピリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、ピペリジン、またはアニリンである。
好ましくは、前記化学式1において、Mは、Pb2+、Sn2+、Pd2+、Cu2+、Ge2+、Sr2+、Cd2+、Ca2+、Ni2+、Mn2+、Fe2+、Co2+、Sn2+、Yb2+、またはEu2+である。
また、好ましくは、XおよびX'は、それぞれ独立に、Cl、Br、またはIである。XおよびX'は、互いに異なっていてもよいので、前記化学式1で表される化合物は、2種のハロゲンを含むことができる。
好ましくは、前記付加体は、PbCl(N,N−ジメチルアセトアミド)、PbBr(N,N−ジメチルアセトアミド)、PbI(N,N−ジメチルアセトアミド)、PbBr(N−メチルピロリドン)、PbI(N−メチルピロリドン)、PbCl(N−メチル−2−ピリドン)、PbI(N−メチル−2−ピリドン)、PbI(ピペリジン)、PbCl(アニリン)、またはPbI(アニリン)である。
好ましくは、前記化学式2において、Aは、CHNH 、または(HN=CH−NHである。
また、好ましくは、X"は、Cl、Br、またはIである。
前記化学式2で表される化合物の代表例は、CHNHI、CHNHBr、(HN=CH−NH)I、および(HN=CH−NH)Brである。
また、前記化学式2で表される化合物は、1種または2種を使用することができ、2種を使用する場合には、2種の有機陽イオンを含むペロブスカイト化合物を製造することができる。
好ましくは、前記化学式2で表される化合物を2種使用し、この時、2種の化合物のAはそれぞれ、CHNH 、または(HN=CH−NHであることが好ましい。
前記溶液の塗布方法は特に制限されず、一例として、スピン−コーティング、ディップコーティング、スクリーンコーティング、スプレーコーティング、電気紡糸などを使用することができる。この場合、前記溶液の塗布は、10秒〜10分間行うことができる。さらに、前記溶液の塗布は、25〜70℃で行うことが好ましい。
また、前記溶液の溶媒としては、前記付加体および化学式2で表される化合物を溶解させることができる溶媒であれば特に限定されるものではないが、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、ガンマ−ブチロラクトン、ジメチルスルホキシドなどが好ましい。
好ましくは、前記付加体および前記化学式2で表される化合物のモル比は、1:0.8〜1:1.5である。前記範囲でペロブスカイト結晶が効果的に生成できる。
一方、前記電極は、太陽電池に使用できる電極であれば特に制限されない。一例として、フッ素含有酸化スズ(FTO;Fouorine doped Tin Oxide)、インジウム含有酸化スズ(ITO;Indium doped Tin Oxide)、ZnO、PEDOT:PSSなどを使用することができる。
また、前記電極上には多孔性金属酸化物が形成されていてもよい。前記多孔性金属酸化物は、光吸収体が光を吸収できる面積を広くするだけでなく、光吸収体から発生する電子を伝達する電子伝達層の役割を果たすことができる。前記金属酸化物としては、TiO、SnO、ZnO、Nb、Ta、WO、W、In、Ga、Nd、PbO、またはCdOを使用することができる。
前記多孔性金属酸化物は、金属酸化物粒子を含むスラリーを塗布および乾燥した後、これを熱処理して形成することができる。前記多孔性金属酸化物は、平均粒子サイズが5〜500nmであってもよいし、多孔性金属酸化物層の厚さは、50nm〜10μmであってもよい。
一方、前記段階1は、前記付加体を含む第1溶液、および前記化学式2で表される化合物を含む第2溶液を、電極上に順次に塗布して行うことができる。この時、前記第1溶液と第2溶液の溶媒は、先に前記段階1で説明したのと同じであり、互いに同一または異なる溶媒を使用することができる。
また、前記のように第1溶液および第2溶液を順次に塗布する場合、第1溶液の塗布後に、非溶媒を塗布する段階を追加的に含むことができる。
前記使用可能な非溶媒としては、イソプロパノール、メチルエチルケトン、エチルアセテート、酢酸、ジメチルエーテル、クロロベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキセン、シクロヘキセン、またはクロロホルムが挙げられる。前記非溶媒の塗布方法は特に制限されず、一例として、スピン−コーティング、ディップコーティング、スクリーンコーティング、スプレーコーティング、電気紡糸などを使用することができる。この場合、前記溶液の塗布は、10秒〜10分間行うことができる。さらに、前記非溶媒の塗布は、常温で行うことが好ましい。
前記段階1の電極を熱処理する段階(段階2)
前記段階2は、前記段階1で塗布されたペロブスカイト前駆体化合物を反応および固定させて、ペロブスカイト光吸収体を製造する段階である。
前記熱処理は、30〜200℃で行うことが好ましく、より好ましくは、150℃で行う。また、前記熱処理は、1分〜60分間行うことが好ましく、より好ましくは、30分間行う。
一方、前記段階2の後に、当業界で一般に使用される太陽電池の構成を形成するために、正孔伝達層および電極を形成する段階を含むことができる。
前記電子伝達層は、多孔性金属酸化物を使用することができ、好ましくは、金属酸化物粒子によって多孔構造を有することが好ましい。前記金属酸化物としては、TiO、SnO、ZnO、Nb、Ta、WO、W、In、Ga、Nd、PbO、またはCdOを使用することができる。
前記正孔伝達層は、固体型正孔伝達物質または液状電解質を使用することができる。前記固体型正孔伝達物質としては、スピロ−OMeTAD(2,2',7,7'−テトラキス−(N,N−ジ−p−メトキシフェニルアミン)9,9'−スピロビフルオレン))、P3HT(ポリ(3−ヘキシルチオフェン))、PCPDTBT(ポリ[2,1,3−ベンゾチアジアゾール−4,7−ジイル[4,4−ビス(2−エチルヘキシル)−4H−シクロペンタ[2,1−b:3,4−b']ジチオフェン−2,6−ジイル]])、PVK(ポリ(N−ビニルカルバゾール))、HTM−TFSI(1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド)、Li−TFSI(リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド)、tBP(tert−ブチルピリジン)、PDOT:PSS(Poly(3,4−ethylenedioxythiophene)poly(styrenesulfonate))などを使用することができる。前記液状電解質としては、ヨードと添加剤を溶媒に溶解させたものを使用することができる。例えば、ウレア(urea)、チオウレア(thiourea)、ブチルピリジン(tert−butylpyridine)、およびグアニジンチオシアネート(guanidium thiocyanate)などからなる群より選択された1つ以上の添加剤に、エチルアセテート、アセトニトリル、トルエン、およびメトキシプロピオニトリルなどからなる群より選択された1つ以上の溶媒を使用することができる。
前記第2電極としては、ITO、FTO、ZnO−Ga、ZnO−Al、およびスズ系酸化物からなる群より選択される1種以上の物質を含むガラス基板またはプラスチック基板に、Pt、Au、Ni、Cu、Ag、In、Ru、Pd、Rh、Ir、Os、C、および導電性高分子からなる群より選択された1つ以上の物質を含む導電層が形成される。
太陽電池の光吸収体
前記本発明により製造される太陽電池の光吸収体は、付加体を用いて製造することにより、defectが実質的にない高い結晶性のペロブスカイト結晶を製造することができる。
本発明の一実施例によれば、本発明の付加体を用いて製造した太陽電池の光吸収体は、結晶性が高く、太陽電池の効率が高くて、太陽電池の光吸収体として有用に使用できることを確認した。
一方、本発明により製造される太陽電池の光吸収体が適用できる太陽電池は、前記光吸収体を用いることを除けば、当業界で使用する太陽電池の構成を含むことができる。
本発明による太陽電池の光吸収体の製造方法は、太陽電池の光吸収体として使用できるペロブスカイト化合物の結晶性を高めて太陽電池の安定性および効率を高められるという特徴がある。
本発明の実施例および比較例で使用された付加体のXRDグラフを示すものである。 本発明の実施例で付加体を基板にコーティングした後、その表面をSEMイメージで示すものである。 本発明の実施例で製造された光吸収体の表面をSEMイメージで示すものである。 本発明の実施例で製造された光吸収体の表面をSEMイメージで示すものである。
以下、本発明の理解のために好ましい実施例を提示する。しかし、下記の実施例は本発明をより容易に理解するために提供されるものに過ぎず、これによって本発明の内容が限定されるものではない。
製造例1:PbI−NMP付加体の製造
PbIに、PbI対比15倍のモル当量のN−メチルピロリドン(NMP)を入れて、60℃で撹拌した。PbIがすべて溶解したことを確認した後、NMP体積対比1.5倍のトルエンを撹拌しながらゆっくり滴下させた。生成された白色固体をフィルタして、真空オーブンにて30分間乾燥させて、PbI−NMP付加体を得た。これをXRDおよびNMRで分析し、その結果をそれぞれ図1および下記に示した。
H NMR(DMSO−d,標準物質TMS):δ3.32(2H,t),2.69(3H,s),2.19(2H,t),1.99(2H,m)
製造例2:PbI−DMAc付加体の製造
PbIに、PbI対比30倍のモル当量のジメチルアセトアミド(DMAc)を入れて、60℃で撹拌した。PbIがすべて溶解したことを確認した後、DMAc体積対比1.5倍のトルエンを撹拌しながらゆっくり滴下させた。生成された白色固体をフィルタして、真空オーブンにて30分間乾燥させて、PbI−DMAc付加体を得た。これをXRDおよびNMRで分析し、その結果をそれぞれ図1および下記に示した。
H NMR(DMSO−d,標準物質TMS):δ2.97(3H,t),2.83(3H,s),1.95(3H,s)
製造例3:PbBr−NMP付加体の製造
PbBrに、PbBr対比20倍のモル当量のN−メチルピロリドン(NMP)を入れて、60℃で撹拌した。PbBrがすべて溶解したことを確認した後、NMP体積対比1.5倍のトルエンを撹拌しながらゆっくり滴下させた。生成された白色固体をフィルタして、真空オーブンにて30分間乾燥させて、PbBr−NMP付加体を得た。これをXRDおよびNMRで分析し、その結果をそれぞれ図1および下記に示した。
H NMR(DMSO−d,標準物質TMS):δ3.30(2H,t),2.71(3H,s),2.20(2H,t),1.97(2H,m)
製造例4:PbI−DMSO付加体の製造
PbIに、PbI対比15倍のモル当量のジメチルスルホキシド(DMSO)を入れて、60℃で撹拌した。PbIがすべて溶解したことを確認した後、DMSO体積対比2倍のトルエンを撹拌しながらゆっくり滴下させた。生成された白色固体をフィルタして、真空オーブンにて45時間乾燥させて、PbI−DMSO付加体を得た。これをXRDで分析し、その結果を図1に示した。
実施例1:光吸収体の製造
(段階1)
25×25mmの大きさのFTO基板の端部分をエッチングして、部分的にFTOを除去した。0.1Mの[(CHCHO]Ti(C(titanium diisopropoxide bis(acetylacetonate))1−ブタノール溶液を、計4回にわたってFTO基板にair−sprayでコーティングし、500℃で25分間焼結して、厚さ約70nmのTiO緻密膜を製造した。次に、平均40nmの大きさ(直径)のTiOペースト1.5gおよびエタノール10mLを含む分散溶液を、前記緻密膜上に5000rpmで60秒間スピンコーティングした。ホットプレートにて125℃で熱処理した後、muffle furnaceを用いて、500℃で1時間焼結した。
(段階2)
製造例1で製造した化合物をジメチルホルムアミド(DMF)に65℃で溶かして、1.8Mの溶液を製造した。前記溶液を前記段階1で製造した基板上に、3000rpmで30秒間スピンコーティングした。
(段階3)
前記段階2のスピンコーティングが終わるやいなや、800mM FAI(1−x)MABr(x)(x=0.3)溶液(in isopropanol)をその上に散布した後、5000rpmで30秒間コーティングし、150℃で20分間熱処理した。次に、イソプロパノールで20秒間洗浄した後、5000rpmで30秒間溶媒を除去し、80℃で3分間熱処理した。
実施例2:光吸収体の製造
実施例1の段階2で、製造例2で製造した化合物をジメチルホルムアミド(DMF)に65℃で溶かした1.6Mの溶液を用いたことを除けば、実施例1と同様の方法で光吸収体を製造した。
実施例3:光吸収体の製造
(段階1)
25×25mmの大きさのFTO基板の端部分をエッチングして、部分的にFTOを除去した。0.1Mの[(CHCHO]Ti(C(titanium diisopropoxide bis(acetylacetonate))1−ブタノール溶液を、計4回にわたってFTO基板にair−sprayでコーティングし、500℃で25分間焼結して、厚さ約70nmのTiO緻密膜を製造した。次に、平均40nmの大きさ(直径)のTiOペースト1.5gおよびエタノール10mLを含む分散溶液を、前記緻密膜上に5000rpmで60秒間スピンコーティングした。ホットプレートにて125℃で熱処理した後、muffle furnaceを用いて、500℃で1時間焼結した。
(段階2)
製造例1で製造した化合物および製造例3で製造した化合物を85:15のモル比、FAIおよびMABrを85:15のモル比でDMFに溶解させて、全体60重量%の溶液を製造した。前記溶液を前記段階1で製造した基板上に、500rpmで5秒、1000rpmで40秒、5000rpmで50秒間スピンコーティングし、終わる5秒前にトルエン1mLを滴下させた。次に、150℃で20分間熱処理した。
実施例4
実施例3の段階2で、製造例1で製造した化合物および1モル当量のMAIをGBL:DMSO=7:3の溶液(全体60重量%)を用いることを除けば、実施例3と同様の方法で光吸収体を製造した。
比較例1
実施例1の段階2で、PbIをジメチルホルムアミド(DMF)に65℃で溶かした1.6Mの溶液を用いたことを除けば、実施例1と同様の方法で光吸収体を製造した。
比較例2:光吸収体の製造
実施例1の段階2で、製造例4で製造した化合物をジメチルホルムアミド(DMF)に65℃で溶かした1.6Mの溶液を用いたことを除けば、実施例1と同様の方法で光吸収体を製造した。
実験例1:光吸収体の表面観察
実施例1の段階2および段階3で製造した基板の表面を観察し、その結果をそれぞれ図2および図3に示した。また、実施例2で製造した基板の表面を観察し、その結果を図4に示した。
実験例2:太陽電池の性能評価
58mMのSpiro−OMeTAD溶液(in chlorobenzene)1mLに、LiTFSi(17.5μL)およびtBP(28.8μL)を添加した。前記溶液を、前記実施例および比較例で製造したそれぞれの光吸収体上に、6000rpmで30秒間スピンコーティングして、正孔伝達層を製造した。前記正孔伝達層上に熱蒸着器でAuを真空蒸着して、太陽電池を製造した。
前記製造した太陽電池に対して、Solar system(Newport社)で太陽電池の性能を測定し、その結果を下記表1に示した。
Figure 2018523309

Claims (10)

  1. (a)i)下記化学式1で表される化合物、およびii)NHまたはNCH構造を含む極性非プロトン性溶媒の付加体、および(b)下記化学式2で表される化合物を1種または2種含む溶液を、電極上に塗布する段階(段階1);および
    前記段階1の電極を熱処理する段階(段階2)を含む、太陽電池の光吸収体の製造方法:
    [化学式1]
    MXX'
    前記化学式1において、
    Mは、2価の金属陽イオンであり、
    XおよびX'は、それぞれ独立に、互いに同一または異なるハロゲンであり、
    [化学式2]
    AX"
    前記化学式2において、
    Aは、Rまたは(RN=CH−NRの有機陽イオンであり、
    ここで、R、R、RおよびRは、それぞれ独立に、水素、またはC1−10アルキルであり、ただし、R、R、RおよびRのうちの少なくとも1つは、C1−10アルキルであり、
    、R、RおよびRは、それぞれ独立に、水素、またはC1−10アルキルであり、
    X"は、ハロゲンである。
  2. 前記極性非プロトン性溶媒は、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、N−メチル−2−ピリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、ピペリジン、またはアニリンであることを特徴とする、請求項1に記載の製造方法。
  3. 前記付加体は、PbCl(N,N−ジメチルアセトアミド)、PbBr(N,N−ジメチルアセトアミド)、PbI(N,N−ジメチルアセトアミド)、PbBr(N−メチルピロリドン)、PbI(N−メチルピロリドン)、PbCl(N−メチル−2−ピリドン)、PbI(N−メチル−2−ピリドン)、PbI(ピペリジン)、PbCl(アニリン)、またはPbI(アニリン)であることを特徴とする、請求項1に記載の製造方法。
  4. 前記段階1の溶媒は、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、ガンマ−ブチロラクトン、またはジメチルスルホキシドであることを特徴とする、請求項1に記載の製造方法。
  5. Mは、Pb2+、Sn2+、Pd2+、Cu2+、Ge2+、Sr2+、Cd2+、Ca2+、Ni2+、Mn2+、Fe2+、Co2+、Sn2+、Yb2+、またはEu2+であることを特徴とする、請求項1に記載の製造方法。
  6. X、X'およびX"は、それぞれ独立に、Cl、Br、またはIであることを特徴とする、請求項1に記載の製造方法。
  7. Aは、CHNH 、または(HN=CH−NHであることを特徴とする、請求項1に記載の製造方法。
  8. 前記段階1は、前記付加体を含む第1溶液、および前記化学式2で表される化合物を含む第2溶液を、電極上に順次に塗布して行うことを特徴とする、請求項1に記載の製造方法。
  9. 前記段階2の熱処理は、30〜200℃で1分〜60分間行うことを特徴とする、請求項1に記載の製造方法。
  10. 請求項1〜9のいずれか1項に記載の製造方法で製造された太陽電池の光吸収体を含む、太陽電池。
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