JP2018517128A - 単一パッケージ高磁場磁気抵抗角度センサ - Google Patents
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Abstract
Description
(実施例1)
図5は、その表面が軟磁性磁束減衰器17によってカバーされた磁気抵抗センサユニット16による磁場減衰の模式図であり、ここで、15は基板を表し、基板15上のGMRまたはTMR磁気抵抗センサユニット16および軟磁性磁束減衰器17は、均一の回転が回転外部磁場の影響下で各々の方向に発生させられ得ることを保証するために、円である。軟磁性磁束減衰器17は、GMRまたはTMR磁気抵抗センサユニットの表面上に配置され、GMRまたはTMR磁気抵抗センサユニットと同心である。この配列において、磁気抵抗センサユニット16および軟磁性磁束減衰器17は、アレイ構造へと配列される。隣接する磁気抵抗センサユニットの中心間の距離は、dであり、軟磁性磁束減衰器17の直径は、Dである。
(実施例2)
図8は、反転されたダイの高磁場磁気抵抗角度センサの模式的な構造図である。高磁場磁気抵抗角度センサは、2つのダイ18および19を含み、2つのダイは、同一の構造を有する。一方のダイは、他方のダイに対し180度だけ回転させられる。各々のダイは、2つの軟磁性磁束減衰器と、2つの軟磁性磁束減衰器によってカバーされた磁気抵抗センサユニット20および21、22および23と、周囲のピン25および24とを含む。2つのダイが互いに対し180度だけ回転させられるがゆえに、その磁気抵抗センサユニットの強磁性基準層は反対の磁化方向を有するので、プッシュ−プルブリッジ構造が形成されることができる。2つのダイは、ワイヤを使用することにより接続される。
図16は、単軸の単一チップ66の高磁場磁気抵抗角度センサの模式的な構造図であり、ここで、67は、プッシュ−プル磁気抵抗センサの2つのプッシュアームの磁気抵抗センサユニットに対応し、68は、プッシュ−プル磁気抵抗センサの2つのプッシュアームの軟磁性磁束減衰器に対応し、69は、2つのプルアームの磁気抵抗センサユニットに対応し、70は、軟磁性磁束減衰器に対応する。プッシュアームおよびプルアームは、反対の磁化方向の強磁性基準層を有し、同一のダイ上に配置され、71は、ボンディングパッドを表す。
Claims (20)
- 単一パッケージ高磁場磁気抵抗角度センサであって、
少なくとも1つのプッシュ−プル磁気抵抗ブリッジおよび基板と、
前記プッシュ−プル磁気抵抗ブリッジは、2つまたは4つの磁気抵抗ブリッジアームを備え、各々の磁気抵抗ブリッジアームは、2ポート構造を形成するように内部接続された複数の磁気抵抗センサユニットを備え、前記磁気抵抗センサユニットは、MTJまたはGMR型であり、前記磁気抵抗センサユニットは、前記基板の上に配置され、すべての前記磁気抵抗ブリッジアームは、前記プッシュ−プル磁気抵抗ブリッジを形成するように電気的に接続され、前記磁気抵抗センサユニットは、少なくとも1つのピンド層、強磁性基準層、非磁性スペーサ層、および強磁性自由層を備え、任意のプッシュ−プル磁気抵抗ブリッジの前記磁気抵抗ブリッジアームの少なくとも1つの上に配置された前記磁気抵抗センサユニットの前記強磁性基準層の磁化の強度は、残りの前記磁気抵抗ブリッジアームの前記強磁性基準層の磁化の強度と反対であり、前記磁気抵抗センサユニットの前記強磁性自由層は、低アスペクト比の楕円または円であり、それは、前記強磁性自由層の磁化の強度を任意の方向の外部磁場に沿ってアラインメントさせることができる、
1つ以上の軟磁性磁束減衰器とを備え、
前記軟磁性磁束減衰器は、前記外部磁場を減衰させるためにすべての前記磁気抵抗センサユニットの表面をカバーし、前記単一パッケージ高磁場磁気抵抗角度センサにおいて、電子素子は、ボンディングパッドまたはシリコン貫通電極によって接続される、単一パッケージ高磁場磁気抵抗角度センサ。 - 前記単一パッケージ高磁場磁気抵抗角度センサは、少なくとも1つのプッシュ−プル磁気抵抗ブリッジを備え、同一平面に配置された少なくとも2つの磁気抵抗センサユニットダイを備え、前記磁気抵抗センサユニットダイのうちの少なくとも1つの位相は、前記磁気抵抗センサユニットダイが配置された平面における残りの前記磁気抵抗センサユニットダイに対し180度だけ反転され、同一の磁気抵抗センサユニットダイに配置された前記磁気抵抗センサユニットの全ては、同一の磁化方向の前記強磁性基準層を有し、前記磁気抵抗センサユニットダイは、ワイヤボンディングによって前記プッシュ−プル磁気抵抗ブリッジを形成するように電気的に接続される、請求項1に記載の単一パッケージ高磁場磁気抵抗角度センサ。
- 前記単一パッケージ高磁場磁気抵抗角度センサは、少なくとも2つのプッシュ−プル磁気抵抗ブリッジを備え、前記プッシュ−プル磁気抵抗ブリッジのうちの少なくとも1つの前記強磁性基準層の磁化方向は、残りの前記プッシュ−プル磁気抵抗ブリッジの前記強磁性基準層の磁化方向と直交し、前記単一パッケージ高磁場磁気抵抗角度センサは、同一平面に配置された全部で少なくとも4つの磁気抵抗センサユニットダイを備え、前記磁気抵抗センサユニットダイの少なくとも3つは、前記磁気抵抗センサユニットダイが配置された平面における残りの前記磁気抵抗センサユニットダイに対しそれぞれ90度、180度、および270度だけその位相を個別に回転させることによって得られ、同一の磁気抵抗センサユニットダイに配置された前記磁気抵抗センサユニットの全ては、同一の磁化方向の前記強磁性基準層を有し、同一のまたは反対の磁化方向の前記強磁性基準層を有する前記磁気抵抗センサユニットダイは、ワイヤボンディングによって前記プッシュ−プル磁気抵抗ブリッジの少なくとも1つへと電気的に接続される、請求項1に記載の単一パッケージ高磁場磁気抵抗角度センサ。
- 少なくとも2つのプッシュ−プル磁気抵抗ブリッジを備え、前記プッシュ−プル磁気抵抗ブリッジのうちの少なくとも1つの前記強磁性基準層の磁化方向は、残りの前記プッシュ−プル磁気抵抗ブリッジの前記強磁性基準層の磁化方向と直交し、前記単一パッケージ高磁場磁気抵抗角度センサは、少なくとも2つの磁気抵抗センサユニットダイを備え、前記磁気抵抗センサユニットダイのうちの少なくとも1つの位相は、前記磁気抵抗センサユニットダイが配置された平面における残りの前記磁気抵抗センサユニットダイに対し180度だけ反転され、同一の磁気抵抗センサユニットダイに配置された前記磁気抵抗センサユニットは、互いに直交する磁化方向の前記強磁性基準層を有し、前記磁気抵抗センサユニットダイは、ワイヤボンディングによって前記プッシュ−プル磁気抵抗ブリッジを形成するように電気的に接続される、請求項1に記載の単一パッケージ高磁場磁気抵抗角度センサ。
- 少なくとも1つのプッシュ−プル磁気抵抗ブリッジを備え、同一の磁気抵抗センサユニットダイに配置され、同一の磁気抵抗ブリッジアーム上に配置された前記磁気抵抗センサユニットは、同一の磁化方向の前記強磁性基準層を有し、前記磁気抵抗ブリッジアームのうちの少なくとも1つの前記強磁性基準層は、残りの前記磁気抵抗ブリッジアームの前記強磁性基準層に対し反対の磁化方向を有し、前記磁気抵抗ブリッジアームは、前記プッシュ−プル磁気抵抗ブリッジを形成するように内部接続される、請求項1に記載の単一パッケージ高磁場磁気抵抗角度センサ。
- 少なくとも2つのプッシュ−プル磁気抵抗ブリッジを備え、同一の磁気抵抗センサユニットダイに配置され、同一の磁気抵抗ブリッジアーム上に配置された前記磁気抵抗センサユニットは、同一の磁化方向の前記強磁性基準層を有し、前記プッシュ−プル磁気抵抗ブリッジのうちの少なくとも1つの前記強磁性基準層の磁化方向は、残りの前記プッシュ−プル磁気抵抗ブリッジの前記強磁性基準層の磁化方向と直交し、任意のプッシュ−プル磁気抵抗ブリッジにおいて、前記磁気抵抗ブリッジアームのうちの少なくとも1つの前記強磁性基準層は、残りの前記磁気抵抗ブリッジアームの前記強磁性基準層に対し反対の磁化方向を有し、前記磁気抵抗ブリッジアームは、前記プッシュ−プル磁気抵抗ブリッジを形成するように内部接続される、請求項1に記載の単一パッケージ高磁場磁気抵抗角度センサ。
- 前記プッシュ−プル磁気抵抗ブリッジのプッシュ磁気抵抗センサユニットおよびプル磁気抵抗センサユニットは両方とも、反強磁性層および強磁性基準層を備える単一スタック層構造からなり、前記プッシュ磁気抵抗センサユニットおよび前記プル磁気抵抗センサユニットは、互いに反対の磁化方向の前記強磁性基準層を有し、前記磁気抵抗センサユニットの前記反強磁性層がそのブロッキング温度またはそれ以上の温度に到達するようにレーザーによって加熱され、続いて反対方向の磁場が個別に印加され、前記反強磁性層が室温まで冷却され、それにより、互いに反対の磁化方向の前記強磁性基準層を有する前記プッシュ磁気抵抗センサユニットおよび前記プル磁気抵抗センサユニットを形成する、請求項5に記載の単一パッケージ高磁場磁気抵抗角度センサ。
- 前記プッシュ−プル磁気抵抗ブリッジのプッシュ磁気抵抗センサユニットおよびプル磁気抵抗センサユニットはそれぞれ、2つの異なる多層薄膜堆積構造を採用し、すなわち、前記多層薄膜堆積構造は、下から上に、反強磁性層、強磁性層、金属スペーサ層、強磁性基準層、非金属スペーサ層、および強磁性自由層を備えるか、または、下から上に、反強磁性層、強磁性層、金属スペーサ層、強磁性層、金属スペーサ層、強磁性基準層、非金属スペーサ層、および強磁性自由層を備え、続いて、前記反強磁性層のブロッキング温度に到達する際にアニーリングが行われ、冷却中に同一方向の外部磁場が印加され、それにより、互いに反対の磁化方向の前記強磁性基準層を有する前記プッシュ磁気抵抗センサユニットおよび前記プル磁気抵抗センサユニットを得る、請求項5に記載の単一パッケージ高磁場磁気抵抗角度センサ。
- 前記磁気抵抗センサユニットの全ては、反強磁性層および強磁性基準層を備える単一スタック層構造からなり、前記磁気抵抗センサユニットの前記反強磁性層がそのブロッキング温度またはそれ以上の温度に到達するようにレーザーによって加熱され、続いて直交する方向に沿った2つまたは4つの外部磁場が個別に印加され、前記反強磁性層が室温まで冷却され、それにより、前記直交するプッシュ−プル磁気抵抗ブリッジのプッシュアームおよびプルアームを形成する、請求項4または6に記載の単一パッケージ高磁場磁気抵抗角度センサ。
- 前記直交するプッシュ−プル磁気抵抗ブリッジにおいて、
1つの方向の前記プッシュ−プル磁気抵抗ブリッジに対応する反対の磁化方向の前記強磁性基準層を有する1つのブリッジアームまたは2つのブリッジアームの多層薄膜構造は、下から上に、反強磁性層、強磁性層、金属スペーサ層、強磁性基準層、非金属スペーサ層、および強磁性自由層を備えるか、または、下から上に、反強磁性層、強磁性層、金属スペーサ層、強磁性層、金属スペーサ層、強磁性基準層、非金属スペーサ層、および強磁性自由層を備え、
前記プッシュ−プル磁気抵抗ブリッジと直交する別のプッシュ−プル磁気抵抗ブリッジに対応する反対の磁化方向の前記強磁性基準層を有する1つのブリッジアームまたは2つのブリッジアームの多層薄膜構造は、下から上に、反強磁性層、強磁性層、金属スペーサ層、強磁性基準層、非金属スペーサ層、および強磁性自由層を備えるか、または、下から上に、反強磁性層、強磁性層、金属スペーサ層、強磁性層、金属スペーサ層、強磁性基準層、非金属スペーサ層、および強磁性自由層を備え、
前記反強磁性層および前記反強磁性層2のブロッキング温度に到達する際にアニーリングが行われ、冷却中に直交する方向の2つの外部磁場が個別に印加され、それにより、直交するおよび反対の磁化方向の前記強磁性基準層を有する前記プッシュ−プル磁気抵抗ブリッジのプッシュ磁気抵抗センサユニットおよびプル磁気抵抗センサユニットを得る、請求項4または6に記載の単一パッケージ高磁場磁気抵抗角度センサ。 - 各々の磁気抵抗センサユニットダイは、1つの軟磁性磁束減衰器に対応し、前記軟磁性磁束減衰器は、前記磁気抵抗センサユニットダイの上のすべての前記磁気抵抗センサユニットの表面上に配置される、請求項2から6のいずれかに記載の単一パッケージ高磁場磁気抵抗角度センサ。
- 前記磁気抵抗センサユニットが配置された各々の磁気抵抗ブリッジアームは、1つの軟磁性磁束減衰器に対応し、前記軟磁性磁束減衰器は、前記磁気抵抗ブリッジアームの上のすべての前記磁気抵抗センサユニットの表面上に配置される、請求項2から6のいずれかに記載の単一パッケージ高磁場磁気抵抗角度センサ。
- 各々の磁気抵抗センサユニットは、1つの軟磁性磁束減衰器に対応し、前記軟磁性磁束減衰器は、前記磁気抵抗センサユニットの表面上に配置される、請求項2から6のいずれかに記載の単一パッケージ高磁場磁気抵抗角度センサ。
- 前記プッシュ−プル磁気抵抗ブリッジの入力端および出力端は、リード線によって同一のリードフレームの上のピンに接続される、請求項2から6のいずれかに記載の単一パッケージ高磁場磁気抵抗角度センサ。
- 前記リードフレームおよび前記プッシュ−プル磁気抵抗ブリッジは、標準的な半導体パッケージを形成するようにプラスチックで密封される、請求項14に記載の単一パッケージ高磁場磁気抵抗角度センサ。
- 各々の磁気抵抗センサユニットダイは、前記磁気抵抗センサユニットダイの伝達曲線がより望ましく互いに整合するように、組み立ての前に試験され、等級分けされる、請求項2、3、または4に記載の単一パッケージ高磁場磁気抵抗角度センサ。
- 前記磁気抵抗センサユニットは、4つの磁気抵抗センサユニットダイを備え、前記磁気抵抗センサユニットダイの上に配置され、前記プッシュ−プル磁気抵抗ブリッジが共通の幾何学的中心を有し、前記磁気抵抗センサユニットダイのボンディングパッドが互いに緊密に隣接するように、特定用途向け集積回路(ASIC)の周りに配列される、請求項1に記載の単一パッケージ高磁場磁気抵抗角度センサ。
- 前記磁気抵抗センサユニットダイは、特定用途向け集積回路(ASIC)の真上に配置され、4つの回転位相における前記磁気抵抗センサユニットダイが、互いに90度回転させられて配列され、任意の磁気抵抗センサユニットダイの短辺は、隣接する磁気抵抗センサユニットダイの長辺と並んで配列される、請求項3に記載の単一パッケージ高磁場磁気抵抗角度センサ。
- 前記特定用途向け集積回路(ASIC)は、静電気放電(ESD)保護回路を備える、請求項17または18に記載の単一パッケージ高磁場磁気抵抗角度センサ。
- 前記特定用途向け集積回路(ASIC)は、静電気放電(ESD)保護回路と、直交する軸方向における2つの前記プッシュ−プル磁気抵抗ブリッジの出力の計算を行うように構成された処理回路とを備え、前記処理回路は、角度値がデジタル形式で出力されることを可能にする、請求項17または18に記載の単一パッケージ高磁場磁気抵抗角度センサ。
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