JP2018516117A - 輪郭形状のサポート靴中敷 - Google Patents

Abstract

【課題】【解決手段】 表面シートと、ベース層と、前足パッドと、踵クッションと、サポートクッションと、中敷の耐久性を強化および向上させるため、斯かるコンポーネント間に挿入される強化層とを有する中敷が開示されている。前足パッドはブローンＥＶＡまたは他の素材製であってもよく、踵クッションはクリアＴＰＲ、軟質ポリウレタン、またはブローンＥＶＡ製であってもよい。サポートクッションは、隆起外側アーチおよび隆起内側アーチを有し、後者は、長径方向の線形状窪みを有する隆起アーチと、中足骨中足涙形隆起領域を有する平坦な中足領域と、該平坦中足領域にある長径方向の隆起とを有する。ヒールカップは踵の外側後部を取り囲んでおり、踵ポッド開口部は、踵パッドをベース層の底面に配置し固定するため、中敷の該ベース層の厚さ全体に達している。中敷の上面（足接触面）で、中足骨中足領域の直ぐ上には、スーパーソフトな中足骨隆起ドームがある。【選択図】 図２Ａ

Description

関連出願の相互参照

本出願は、２０１５年５月２８日出願の米国仮特許出願第６２／１６７，７９７号、２０１５年６月１９日出願の米国仮特許出願第６２／１８２，１６２号、２０１５年９月４日出願の米国仮特許出願第６２／２１４，５９５号、および２０１５年９月１０日出願の米国仮特許出願第６２／２１６，４９６号の恩恵を主張する。

連邦政府支援の研究または開発に関する声明
適用外
本発明は一般的に、改善された靴に関し、特に改善されたクッション性およびサポートを着用者の足に提供する靴中敷に関する。

靴中敷（ｉｎｓｏｌｅ）は使用者の靴の中に挿入されて、着用者の快適さまたは足のサポートに関して１若しくはそれ以上の効果を発揮する。靴中敷は通常対で販売され、各対の１つは右足の靴に用いるようになっており、もう一方のものは使用者の左足の靴に用いられるようになっている。適切な構造を靴中敷に提供することによって、使用者の目的に適うようにすることは有益である。

人間の足はとても複雑な生物学的メカニズムを有する。人が歩くとき踵への衝撃によって足にかかる負荷は通常その人の体重の約１．５倍である。走ったりバックパック等の追加の重量を運んだりしている場合、足にかかる負荷は体重の３倍を超える。足の多くの骨、筋肉、靭帯および腱は、衝撃力を吸収／消滅させたり、体重および他の重量を運んだり、推進力を提供したりする。適切に設計された靴中敷は、斯かる機能を実行する際に足を補助し、怪我から足を保護できる。

靴中敷は、個人の特定のニーズに応えるため、特別誂えであってもよい。靴中敷はエンドユーザーの足の型に基づいて作製してもよいし、エンドユーザーの足の輪郭を型どって熱可塑性材料で作製してもよい。特別誂えの靴中敷は、量が少なく作製する時間や適応させる時間が長くかかるので、他の特別誂えの品物同様、高価になる傾向にある。従って、一般大衆用に斯かる特別誂えの靴中敷を作るのは実用的ではない。

一般大衆への提供が実用化されるためには、靴中敷は、各個人への調整や試着を要求することなくユーザーに利益を提供できるものでなければならない。店頭で一般的に入手可能な最初のタイプの靴中敷は、衝撃吸収を最大化するため、クッションを強調するものである。通常の個人用としては、クッション性靴中敷は、軽度ないし中度の活動、例えば歩いたり走ったりしているとき適切に機能する。すなわち、クッション性靴中敷は、斯かる活動に対して十分なクッションおよびサポートを提供する。しかし、もっと激しい活動あるいは技術的に困難な活動、例えば重いバックパックを運んだり険しい地形を移動したりする活動を行う場合は、通常のクッション用靴中敷は適切ではない。斯かる条件下では、クッション用靴中敷は十分なサポートやコントロールを提供することはなく、ひどく圧縮されることにより、使用中に底が抜ける傾向にある。

店頭で入手可能な別のタイプの靴中敷はコントロールを強調する。通常、斯かる靴中敷は、足の動きを制限することによって足の屈曲や捩じれをコントロールするため、比較的硬く曲がりにくいように作製される。剛直な構造は動きをコントロールするのには優れているが、融通性に乏しい。従って、足の動きが剛直構造により課せられた限界に達すると、足にかかる負荷が急激に変化し、足の組織にかかる負荷が増大する。腱や靭帯などの生物学的組織は負荷のかかる速度に敏感なので、負荷の急激な変化は足、踵あるいは脚に怪我または損傷を引き起こす。

上述の課題を考慮すると、クッションとコントローの両方を提供する、店頭で入手可能な靴中敷を提供するのが望ましい。クッションとコントローの両方を提供し、更に一般大衆がクロストレーニングやトライアスロン関連の活動中に実用的に使用できる靴中敷を提供することも望ましい。

本出願者は、サポートクッションやその上に複数のポッドを有する靴中敷に関して特許を取得している。斯かる特許には米国特許番号第７，４８４，３１９号、第７，６６５，１６９号、第７，９０８，７６８号、及び第８，２５０，７８４号が含まれる。しかし、斯かる従来技術の特許は、向上したクッション性および安定性、靴使用中の靴中敷の動きの可能性、あるいは走行や歩行使用に適する向上したクッション特性の確立などの課題には応えていない。

製造が容易で、以下のような素材で作製される中敷が必要とされている。（１）踵および足の安定性を向上させること、（２）プッシュオフや着地中に、踵および前足にクッションを提供すること、（３）あらゆるタイプの靴の内側形状に合うように、特別誂えで輪郭の成形ができること、（４）極めて軽量であること、（５）向上したクッション能力を提供すること、および（６）動きまたは滑動が実質的にゼロであること。

改善されたクッション、サポートおよびコントロールを提供し、更に一般大衆の使用の面で実用的である中敷を提供するのが、本発明の目的である。上述の目的および特長並びに他の目的および特長は、改善された動作制御、サポートおよびクッションを提供する中敷によって提供される。中敷は、足のクッション、サポートおよび動作制御の望ましい組み合わせを協調的に達成する相互関連コンポーネントシステムを含む。

本発明の原理によれば、靴中敷１００は、以下を含む３つの部分で形成された底面を有する。（１）踵から趾まで延びるベース層、（２）ＴＰＲクリアジェル製で、中敷の前足ベース領域の前足／趾窪みに位置する前足／趾層、および（３）中足から踵窪みに位置する軟質のポリウレタン製の中足／踵安定クッション。前足／趾インサートおよび中足／踵安定クッションは、ベース層の底面に互いに隣接して固定される。織物、複合材料、または強化ファブリック製の強化層も、中敷の耐久性を強化および向上させるため、斯かるコンポーネントの間に挿入される。

中敷は以下を有する。すなわち中敷は、約２４Ａｓｋｅｒ＋／−３（１０〜３０Ａｓｋｅｒ＋／−３の範囲）の硬度を有するクリアＴＰＲジェル製のベース層であって、中敷の長さおよび幅方向に延びており、内側アーチ領域および踵を取り囲む領域でサポートクッションを収納するように一体的に形成された窪みを有するベース層と、内側から外側へ並びに中敷の趾端から内側アーチ／中足領域に延びている一体的に形成された前足パッドであって、約１ｍｍのパターン間隔および約２．０ｍｍの深さのダイアモンドキューブパターンを有する前足パッドと、ダイアモンド形状のハニカムパターンを有する外側中足領域に一体的に形成されたサポートクッションであって、約１ｍｍのパターン間隔および約０．５ｍｍの深さを有するサポートクッションと、サポートクッションの中足骨領域にある涙形の窪みであって、ベース底面（靴接触面）から上向き（凹型）に湾曲し、ベース層の上側（足接触面）に凸型のコラプシブルな中足骨サポートを形成する涙形の窪みと、を有する。

サポートクッションは、約７０Ａｓｋｅｒ＋／−３（５０〜８０Ａｓｋｅｒ＋／−３の範囲）の硬度を有するクリアＴＰＲ製であり、ベース層の内側アーチ領域から踵領域に一体的に形成されたサポートクッション窪みに適合する寸法であり、内側アーチ領域に縦方向に延びる一体的に形成された長径方法の曲線状窪みと、踵骨の下に踵パッドを収納するために踵領域に一体的に形成された踵パッド開口部とを有する。

踵パッドは２０Ａｓｋｅｒ＋／−３（１０〜３０Ａｓｋｅｒ＋／−３の範囲）の硬度を有するＴＰＲジェル製であり、１．５ｍｍのパターン間隔および約２ｍｍの深さを有する一体的に形成されたダイアモンドキューブパターンを有し、サポートクッションの踵パッド窪みに適合する寸法になっている。中敷は、最小引張接着強さ２０ポンドを有し表面シートの下側に積層されＴＰＲベースの上側に固定された強化サポート層も有しており、その場合、該強化サポート層はベース層の上に配置してもよいし下に配置してもよい。前足／趾層と中足／踵サポートとの間のベース層上には隆起した分離壁があり、該分離壁は、中敷の中足骨領域と前足領域との間に、該中敷の幅全体に横方向に位置している。

中敷は、該中敷（抗菌剤で処理される）の足接触面全体を覆うポリエステル製（生地または織布）の表面シートも有している。中敷は、該中敷の上面全体を踵から趾まで延びる表面シート層を有している。前足パッドは、前足のクッション特性を改善し、ユーザーの靴の内部底面内またはそれに沿って中敷の牽引力および接着力を改善するため、その底面上にダイアモンドキューブまたはダイアモンド形状の溝パターンを有する。

本発明は、表面シートと、ベース層と、前足パッドと、踵クッションと、サポートクッションと、中敷の耐久性を強化および向上させるため、斯かるコンポーネント間に挿入される強化層とを有する中敷である。前足パッドはブローンＥＶＡまたは他の素材製であってもよく、踵クッションはクリアＴＰＲ、軟質ポリウレタン、またはブローンＥＶＡ製であってもよい。サポートクッションは、長径方向の線形状窪みを有する隆起アーチと、中足骨中足涙形隆起領域を有する平坦な中足領域と、該平坦中足領域にある長径方向の隆起とを有する。ヒールカップは踵の外側後部を取り囲んでおり、踵ポッド開口部は、踵パッドをベース層の底面に配置し固定するため、中敷の該ベース層の厚さ全体に達している。中敷の上面（足接触面）で、中足骨中足領域の直ぐ上には、スーパーソフトな中足骨隆起ドームがある。

前足パッドおよび中足／踵サポートクッションは、ベース層の底面に相互に隣接して固定される。１つの好ましい実施形態では、ベース底面はクッションおよびパッドを収納する寸法の窪みを有している。代替実施形態では、ベース底面は、該ベース底面に鋳型成形されたクッションおよびパッドを有している。前足パッドとベース底面とが異なる素材製の場合、前足パッドとベース素材との接着力を向上させるため、前足パッドとベース底面素材との間の前足パッド窪みには、ナイロンファブリックの薄い層を配置してもよい。

中足／踵サポートクッションは、内側アーチ領域に隆起したアーチを有しており、更に中敷の長径軸と比較した場合の優角に沿って（この場合、長径軸は中敷の踵から趾方向に延びている）位置する、長径方向の曲線状窪みも有している。中足／踵サポートクッションは、外側中足領域に追加のサポートを提供する外側中足アーチも有している。更に、中足／踵サポートクッションは、中足領域に正方形のグリッドパターンを有する平坦中央中足領域と、該中足／踵サポートクッションの中足骨涙形開口部に位置する中足骨中足涙形隆起領域とを有する。中足／踵クッションの中足領域における平坦領域は、内側長径隆起によって内側と境を接し、外側長径隆起によって外側と境を接し、踵隆起によって踵ポッド開口部の外側周囲と境を接している。中足／踵サポートクッションは、ユーザーの踵の外側後部にサポートを提供しつつ隆起アーチ領域まで延びているヒールカップも有している。

踵ポッド開口部は、ベース層の底面に踵パッドを配置するため、中足／踵サポートクッションの厚さ全体に延びている。踵ポッド開口部は開口部境界溝によって取り囲まれている。すなわち、該溝が踵ポッド開口部の周囲を取り囲んでいる。踵パッドは、中敷の底面に位置し、ＴＰＲジェル、ブローンＥＶＡまたは他の適切な素材製であり、踵ポッド開口部の全深さにわたって延び、ベース層の底面に取り付けられている。踵パッドはダイアモンド形状の溝パターンを有しているが、パターンを有しない平坦な表面であってもよい。

靴中敷は、低密度ポリウレタンメモリフォーム、エチレングリコールポリウレタン、エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、プリブローしたＥＶＡ、ポリウレタン（ＰＵ）、または熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）などの軽量素材製のベース層を有している、あるいは１０Ａｓｋｅｒ＋／−３未満から３０Ａｓｋｅｒ＋／−３超の範囲の鋳型成形したベース素材の硬度を有する他の適切な素材製のベース層を有しており、該中敷の長さおよび幅方向に延びて内側アーチ領域に湾曲することによりアーチサポート領域を形成し、踵領域の周りに湾曲することにより足接触面にヒールカップを形成する。サポートクッションの隆起内側アーチは、内側アーチ領域に位置しており、縦方向に位置して一体的に形成された長径方向の曲線状窪み（底面の内側アーチ領域に一体的に形成された隆起グリッピングリッジ）を有しており、涙形窪みが中足の中足骨領域に位置し、ベース底面（靴接触面）から上向き（凹型）に湾曲してベース層の上側（足接触側）に凸型のコラプシブル中足骨サポートを形成している。

前足パッドはクリアＴＰＲジェル（熱可塑性ゴム）製であってもよく、その場合、ＴＰＲジェルの硬度は１０〜２０Ａｓｋｅｒ＋／−３である。あるいは、前足パッドは、鋳型成形されプリブローしたエチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、ポリウレタン（ＰＵ）、熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）、または他の適切な素材製であってもよいので、約１０〜３０Ａｓｋｅｒ Ｃ＋／−３の硬度を有し、中敷の趾端から中足領域まで並びに前足領域の内側から外側まで延びている。前足パッドがパターン化表面を有する場合、パターン間隔は約１ｍｍ、溝深さは約１ｍｍ、前足パッドの厚さは約１．５ｍｍ＋／−０．５ｍｍである。前足パッドは分離壁の遠位にあるＰＵ中敷ベースのベース底面に鋳型成形されており、前足パッドとＰＵベース素材との間に固定された生地層を有する。

中敷の底面の踵パッドは、クリアＴＰＲ（熱可塑性ゴム）またはプリブローしたエチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）製である、あるいはＥＶＡ、ポリウレタン（ＰＵ）、または約１０〜３５Ａｓｋｅｒ＋／−３の硬度および約３．０ｍｍ＋／−０．５ｍｍの厚さを有する他の適切な素材で鋳型成形される、あるいは中敷のベース底面の素材と一体的に形成される。踵パッドは、該踵パッドの近位端で広く該踵バッドの遠位端で狭い変形楕円形を有しており、約１ｍｍの間隔パターンおよび約１ｍｍの溝深さのダイアモンドキューブパターンがＥＶＡに鋳型成形されており、該踵パッドの厚さは約１．５ｍｍ＋／−０．５ｍｍである。この踵パッドはベース層の底面に固定されている。代替実施形態では、踵パッドはハニカム形状のパターンを有している。更に別の実施形態では、踵パッドはテクスチャライズされたパターンのない表面を有しており、踵パッドとベース底面とが異なる素材製の場合、踵パッドとベース素材との接着力を向上させるため、踵パッドとベース底面素材との間の踵パッド窪みには、ナイロンファブリックの薄い層を配置してもよい。

涙形をしたスーパーソフトな中足骨ドームが中敷の中足上面（足接触面）にあり、それは通常、中足骨の下に位置する。ポリエステルの表面シートが、抗菌剤で処理される中敷の足接触面全体を覆っている。

好ましい実施形態では、踵パッドは平坦な中足／踵表面で囲まれており、ヒールカップによって後部に沿ってカップ状になっており、前足／踵パッドとベースとの間にはナイロンファブリックが（パッドをＰＵに接着させるために）存在し、通気孔を有し隆起／窪み曲線のある内側アーチがアーチに沿って長径方向に延びており、底の溝深さは０．５０ｍｍ〜１．５ｍｍであり、トップクロスは６５％ナイロン／３５％ポリエステル製であり、上側の涙形中足骨ドームが底面から上向きに湾曲した窪みとして一体的に形成されており、前足パッドおよび踵パッドにはダイアモンド形状の溝パターンがあり、分離壁がベースと前足パッドとの間に約１ｍｍ追加されている。

全体的に見て、上述の特徴は本靴中敷の新規な特徴であり、特許取得可能性の面で他の靴中敷とは異なっていると思われる。本靴中敷の製造方法もユニークであり、本発明の新規な特徴である。本発明の原理によれば、クッション性のコアまたはベースは、当業界で従来から周知のものよりも優れたクッション性、安定性およびコントロールを提供する靴中敷を形成するため、比較的硬いサポートクッションといくつかの他のパッドとが組み合わされる。パッドは、ベースまたはサポートクッションとは異なる硬度を有してもよい。パッドおよびサポートクッションは回外運動の防止を助け、補足踵パッドは回内運動の防止を助ける。本発明は、上述の要素の組み合わせを取り入れることにより、長径のアーチサポート、回内運動の防止および回外運動の防止を改善するという、バランスの取れたアプローチを提供する靴中敷に関する。

コンポーネント、そのサイズおよび形状並びに位置の特徴は、改善されたクッション性およびコントロールの望ましいブレンドを提供するように選択される。特に、望ましい生体力学的機能を達成するように選択される。パッドのサイズおよび圧縮特性は、パッドのサイズ、形状および素材特性の変更を含めて、回内運動の過剰／不足、回外運動の過剰／不足、並びに足の運動に関連する他の問題に対処するように調整してもよい。パッドおよびサポートクッションの硬度は、パッドの大きさ、形状および素材特性を変えることにより、回内運動の過剰／不足、回外運動の過剰／不足および足の動きに関連する他の問題に対処するように調整してもよい。本発明は以下の目標を達成する。（１）足首および足の安定性を改善すること、（２）プッシュオフおよび着地中に踵および前足にクッションを提供すること、（３）過剰な回内運動／回外運動条件の防止を助けること、および（４）踵領域、中足領域、アーチ領域および前足領域に改善されたクッション特性を提供すること。本発明の好ましい実施形態において、靴中敷のコンポーネントは、特定のタイプ又はカテゴリーの活動用に設計された靴中敷を作製するため、永久的に相互に固定されている。広範囲な活動に適合させるため、数多くの異なる靴中敷設計が可能である。

本発明の上述の目的および特長並びに他の目的および特長は、以下の発明を実施するための形態を添付の図面と共に考慮することにより理解されるであろう。その場合、全図面にわたり、同一の参照番号は同一部分を言及するものとする。
図１Ａは、本発明の原理による中敷の例示的実施形態による底斜視図である。 図１Ｂは、本発明の原理による中敷の例示的実施形態による分解斜視図である。 図１Ｃは、本発明の原理による中敷の例示的実施形態による底斜視図である。 図２Ａは、中敷のベースを示す底平面図である。 図２Ｂは、中敷のベースを示す底平面図である。 図２Ｃは、中敷のベースを示す底平面図である。 図３Ａは、中敷の上面（背面）図である。 図３Ｂは、中敷の上面（背面）図である。 図４Ａは、中敷の内側（内部アーチ領域）図である。 図４Ｂは、中敷の内側（内部アーチ領域）図である。 図５Ａは、中敷の外側図である。 図５Ｂは、中敷の外側図である。 図６Ａは、中敷の正面（近位）図である。 図６Ｂは、中敷の正面（近位）図である。 図７Ａは、中敷の後面（近位）図である。 図７Ｂは、中敷の後面（近位）図である。

図１Ａ、１Ｂ、１Ｃ、２Ａ、２Ｂ、および２Ｃを参照すると、斯かる図面は本発明による中敷１００の底面（靴側）の斜視図および底面図である。中敷１００は踵端（近位）から趾端（遠位）まで延び、上記趾端と上記踵端とを中敷のアーチ側に沿って接続する足のアーチ側の内側または内側境界と、上記趾端と上記踵端を中敷のもう一方側で接続する、もう一方側（内側の反対側）にある外側または外側境界とを有する。図１Ａ、１Ｂ、２Ａ、および２Ｂは、ダイアモンドキューブ踵１２０を有する踵パッド１１８を示しており、図１Ａ、１Ｂ、２Ａ、および２Ｃは、クリアＴＰＲジェルサポートクッション１０５および前足パッド１０７を示しており、図１Ｃおよび図２Ｂは、サポートクッション１０５および前足パッド１０７に使用される非ジェル素材を示しており、図２Ｃは、ダイアモンド形状の踵１２０パターンを有するサポートクッション１０５および前足パッド１０７を示している。

中敷１００表面は、一般的に、趾端から踵端まで軸に沿って長径方向に延び、更に中敷の内側から外側に延びた足形状をしている。１つの好ましい実施形態では、ベース層１０２は、クッション性のパッドを収納する寸法の窪みを有している。代替実施形態では、ベース底面は、該ベース底面に鋳型成形されたクッション性のパッドを有している。

本発明は、低密度ポリウレタンメモリフォーム、エチレングリコールポリウレタン、エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、プリブローしたＥＶＡ、ポリウレタン（ＰＵ）、または熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）などの鋳型成形素材または軽量素材製、あるいは他の適切な素材製であるベース層１０２、サポートクッション１０５、および前足パッド１０７を有している。鋳型成形されたベース素材の硬度は１０Ａｓｋｅｒ＋／−３未満から３０Ａｓｋｅｒ＋／−３超の範囲であってよい。中敷１００は、以下の機能領域すなわち前足クッション領域、内側アーチサポート領域、中足骨サポート領域、および踵クッション領域にサポート性およびクッション性を有している。好ましい実施形態では、ベース層１０２は、前足パッド１０７を収納する寸法の前足パッド窪み１０２Ｂを前足領域に有し、および／またはサポートクッション１０５を収納する寸法のサポートクッション窪み領域１０２Ａを中足／踵領域に有している。代替実施形態では、前足パッド１０７およびサポートクッション１０５並びに踵パッド１１８は、直接、ベース層１０２に鋳型成形される。

中敷１００は以下を有するのが好ましい。すなわち中敷は、約２４Ａｓｋｅｒ＋／−３（１０〜３０Ａｓｋｅｒ＋／−３の範囲）の硬度を有するクリアＴＰＲジェル製のベース層１０２であって、中敷１００の長さおよび幅方向に延びており、内側アーチ領域および踵を取り囲む領域でサポートクッション１０２を収納するように一体的に形成された窪み１０２Ｂを有するベース層と、前足パッド窪み１０２Ａに位置し、内側から外側へ並びに中敷の趾端から内側アーチ／中足領域に延びている一体的に形成された前足パッド１０７であって、約１ｍｍのパターン間隔および約２．０ｍｍの深さのダイアモンドキューブパターンを有する前足パッドと、ダイアモンド形状のハニカムパターンを有する中央中足領域に一体的に形成されたサポートクッション１０５であって、約１ｍｍのパターン間隔および約０．５ｍｍの深さを有するサポートクッションと、サポートクッション１０５の中足骨領域にある涙形の窪み１３４であって、ベース底面（靴接触面）から上向き（凹型）に湾曲し、ベース層１０２の上側（足接触面）に凸型のコラプシブルな中足骨サポートを形成する涙形の窪みと、を有する。

サポートクッション１０５は、約７０Ａｓｋｅｒ＋／−３（５０〜８０Ａｓｋｅｒ＋／−３の範囲）の硬度を有するクリアＴＰＲ製であり、ベース層１０２の内側アーチ領域から踵領域に一体的に形成されたサポートクッション窪み１０２Ｂに適合する寸法であり、内側アーチ領域に縦方向に延びる一体的に形成された長径方法の曲線状窪み１３２と、踵骨の下に踵パッド１１８を収納するために踵領域に一体的に形成された踵パッド開口部１１２とを有する。

踵パッド１１８は２０Ａｓｋｅｒ＋／−３（１０〜３０Ａｓｋｅｒ＋／−３の範囲）の硬度を有するＴＰＲジェル製であり、１．５ｍｍのパターン間隔および約２ｍｍの深さを有する一体的に形成されたダイアモンドキューブパターンを有し、サポートクッション１０５の踵パッド窪みに適合する寸法になっている。中敷１００は、最小引張接着強さ２０ポンドを有し表面シートの下側に積層されＴＰＲベース層１０２の上側に固定された強化サポート層１０３も有しており、その場合、該強化サポート層１０３はベース層の上に配置してもよいし下に配置してもよい。

中敷１００は、該中敷１００（抗菌剤で処理される）の足接触面全体を覆うポリエステル製（生地または織布）の表面シート１２８も有している。中敷は、該中敷１００の上面全体を踵から趾まで延びる表面シート層１２８を有している。前足パッド１０７は、前足のクッション特性を改善し、ユーザーの靴の内部底面内またはそれに沿って中敷の牽引力および接着力を改善するため、その底面上にダイアモンドキューブまたはダイアモンド形状の溝パターンを有する。

中敷１００は、表面シート１２８と、ベース層１０２と、前足パッド１０７と、踵パッド１１８と、サポートクッション１０５と、中敷の耐久性を強化および向上させるために上記コンポーネント間に挿入された強化層１０３とを有する。前足パッド１０７はブローンＥＶＡまたは他の素材製であってもよく、踵クッション１１８はクリアＴＰＲ、軟質ポリウレタン、またはブローンＥＶＡであってもよい。サポートクッション１０５は、長径方向の曲線状窪みを有する隆起アーチと、中足骨開口部１３４Ａを通して延びている中足骨中足涙形隆起領域１３４を有する平坦な中足領域１４８と、平坦中足領域の長径方向隆起１４２、１４３と、踵パッド開口部１１２の周囲に延びている踵隆起１５２とを有する。ヒールカップ１０４は踵の外側後部を取り囲んでおり、踵ポッド開口部１１２は、踵パッド１１８を配置し該踵パッド１１８をベース層１０２の底面に固定するため、中敷１００の該ベース層１０２の厚さ全体に達している。中敷１００の上面（足接触面）で、中足骨中足領域の直ぐ上には、スーパーソフトな中足骨隆起ドーム１３４がある。

前足パッド１０７および中足／踵サポートクッション１０５は、ベース層１０２の底面に相互に隣接して固定される。１つの好ましい実施形態では、ベース底面はクッションおよびパッドを収納する寸法の窪みを有している。代替実施形態では、ベース底面は、ベース層１０２に鋳型成形されたクッションおよびパッドを有している。前足パッドとベース底面とが異なる素材製の場合、前足パッド１０７とベース層１０２との接着力を向上させるため、前足パッド１０７とベース層１０２素材との間の前足パッド窪み１０２Ａには、ナイロンファブリックの薄い層を配置してもよい。

中足／踵サポートクッション１０５は、内側アーチ領域に隆起したアーチ１１９Ａを有しており、更に中敷の長径軸と比較した場合の優角に沿って（この場合、長径軸は中敷の踵から趾方向に延びている）位置する、長径方向の曲線状窪み１３２も有している。中足／踵サポートクッション１０５は、外側中足領域に追加のサポートを提供する外側中足アーチ１１９Ｂも有している。更に、中足／踵サポートクッション１０５は、中足領域に正方形のグリッドパターンを有する平坦中央中足領域１４８と、該中足／踵サポートクッションの中足骨涙形開口部１３４Ａに位置する中足骨中足涙形隆起領域１３４とを有する。中足／踵クッション１０５の中足領域における平坦領域１４８は、内側長径隆起１４３によって内側と境を接し、外側長径隆起１４２によって外側と境を接し、踵隆起１５２によって踵ポッド開口部の外側周囲と境を接している。中足／踵サポートクッション１０５は、ユーザーの踵の外側後部にサポートを提供しつつ隆起アーチ領域１１９Ａまで延びているヒールカップ１０４も有している。

踵ポッド開口部１１２は踵ポッド開口部境界溝１３８によって取り囲まれている。すなわち、該溝が踵ポッド開口部の周囲を取り囲んでいる。踵パッド１１８は、中敷１００の底面に位置し、ＴＰＲジェル、ブローンＥＶＡまたは他の適切な素材製であり、踵ポッド開口部の全深さにわたって延び、ベース層の底面に取り付けられている。踵パッド１１２はダイアモンド形状の溝パターンを有しているが、パターンを有しない平坦な表面であってもよい。

靴中敷１００は、低密度ポリウレタンメモリフォーム、エチレングリコールポリウレタン、エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、プリブローしたＥＶＡ、ポリウレタン（ＰＵ）、または熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）などの軽量素材製のベース層１０２を有している、あるいは１０Ａｓｋｅｒ＋／−３未満から３０Ａｓｋｅｒ＋／−３超の範囲の鋳型成形したベース素材の硬度を有する他の適切な素材製のベース層を有しており、該中敷の長さおよび幅方向に延びて内側アーチ領域に湾曲することによりアーチサポート領域を形成し、踵領域の周りに湾曲することにより足接触面にヒールカップを形成する。サポートクッションの隆起内側アーチ１１９Ａは、内側アーチ領域に位置しており、縦方向に位置して一体的に形成された長径方向の曲線状窪み１３２（底面の内側アーチ領域に一体的に形成された隆起グリッピングリッジ）を有し、涙形窪み１３４が中足の中足骨領域に位置し、ベース層１０２面（靴接触面）から上向き（凹型）に湾曲してベース層１０２の上側（足接触側）に凸型のコラプシブル中足骨サポートを形成している。

前足パッド１０７はクリアＴＰＲジェル（熱可塑性ゴム）製であってもよく、その場合、ＴＰＲジェルの硬度は１０〜２０Ａｓｋｅｒ＋／−３である。あるいは、前足パッド１０７は、鋳型成形されプリブローしたエチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、ポリウレタン（ＰＵ）、熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）、または他の適切な素材製であってもよいので、約１０〜３０Ａｓｋｅｒ Ｃ＋／−３の硬度を有し、中敷の趾端から中足領域まで並びに前足領域の内側から外側まで延びている。前足パッド１０７がパターン化表面を有する場合、パターン間隔は約１ｍｍ、溝深さは約１ｍｍ、前足パッドの厚さは約１．５ｍｍ＋／−０．５ｍｍである。前足パッド１０７は分離壁の遠位にあるベース底面のＰＵ中敷ベースに鋳型成形されており、前足パッドとＰＵベース素材との間に固定された生地層を有する。

中敷の底面の踵パッド１１８は、クリアＴＰＲ（熱可塑性ゴム）またはプリブローしたエチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）製である、あるいはＥＶＡ、ポリウレタン（ＰＵ）、または約１０〜３５Ａｓｋｅｒ＋／−３の硬度および約３．０ｍｍ＋／−０．５ｍｍの厚さを有する他の適切な素材で鋳型成形される、あるいは中敷のベース底面の素材と一体的に形成される。踵パッド１１８は、該踵パッド１１８の近位端で広く該踵バッドの遠位端で狭い変形楕円形を有しており、約１ｍｍの間隔パターンおよび約１ｍｍの溝深さのダイアモンドキューブパターン１２０がＥＶＡに鋳型成形されており、図１Ａ〜１Ｃおよび図２Ａ〜２Ｂ、あるいは図２Ｃに異なって示されている該踵パッドの厚さは、約１．５ｍｍ＋／−０．５ｍｍである。この踵パッド１１８はベース層１０２の底面に固定されている。代替実施形態では、踵パッド１１８はハニカム形状のパターンを有している。更に別の実施形態では、踵パッド１１８はテクスチャライズされたパターンのない表面を有しており、踵パッド１１８とベース層１０２との接着力を向上させるため、踵パッド１１８とベース層１０２の底面との間の踵パッド窪み１１２には、ナイロンファブリックの薄い層を配置してもよい。

涙形をしたスーパーソフトな中足骨ドーム１３４が中敷の中足上面（足接触面）にあり、それは通常、中足骨の下に位置する。ポリエステルの表面シート１２８が、抗菌剤で処理される中敷の足接触面全体を覆っている。

好ましい実施形態では、踵パッド１１８は平坦な中足／踵表面１４８で囲まれており、ヒールカップ１０４によって後部に沿ってカップ状になっており、前足／踵パッド１０５、１０７とベース層１０２との間にはナイロンファブリックが（パッドをＰＵに接着させるために）存在し、内側アーチ１１９Ａは隆起／窪み曲線を有し、アーチに沿って長径方向に延び、通気孔を有しており、底の溝深さは０．５０ｍｍ〜１．５ｍｍであり、トップクロス１２８は６５％ナイロン／３５％ポリエステル製であり、上側の涙形中足骨ドーム１３４が底面から上向きに湾曲した窪みとして一体的に形成されており、前足パッド１０７および踵パッド１２８にはダイアモンド形状の溝パターン１１７、１２０があり、分離壁１５１がベース層１０２と前足パッド１０７との間に約１ｍｍ追加されている。
強化層１０３はベース層１０２の上に位置している、あるいはベース層１０２と前足パッド１０７および／またはサポートクッション１０５との間に位置しており、織物、複合素材、または強化ファブリック製であり、中敷の耐久性を強化および向上させるため、斯かるコンポーネント間に挿入される。あるいは、この強化層１０３は、ＥＶＡベース素材の上面に固定された高強度の生地または織物であってもよい。しかし、この強化層１０３は、使用時に形状を維持する素材、すなわち通常の使用による加熱または圧縮によって甚大な収縮または変形が生じることのない素材製であるべきである。この強化層１０３は中敷１００の全表面を踵から趾まで延びていてもよいし、あるいは踵領域、踵から中足領域まで、または前足／趾領域だけに延びていてもよい。

前足パッド１０７および中足／踵サポートクッション１０５は、ベース層１０２の底面に相互に隣接して固定される。１つの好ましい実施形態では、ベース底面はクッション性のパッド１０５、１０７を収納する寸法の窪み１０２Ａ、１０２Ｂを有している。代替実施形態では、ベース層１０２の底面は、ベース底面に鋳型成形されたクッション１０５およびパッド１０７を有している。前足パッド１０７とベース層１０２底面とが異なる素材製の場合、前足パッド１０７とベース層１０２素材との接着力を向上させるため、前足パッドとベース底面素材との間の前足パッド窪み１０２Ｂには、ナイロンファブリックの薄い層を配置してもよい。あるいは、薄いファブリック層は、同様にして、サポートクッション窪み１０２Ａにおいて、サポートクッション１０５とベース層１０２との間に配置してもよい。

前足パッド１０７と中足／踵サポートクッション１０５との間のベース層１０２には隆起した分離壁１５１があり、それは中敷の中足骨領域と前足領域との間の中敷の幅全体に横方向に位置している。中敷１００は、ベース層１０２の上面の上側あるいは強化層１０３（ベース層１０２の上に配置されてもよいし、その下に配置されてもよい）の上に踵から趾まで延びた表面シート１２８を有している。中敷の上面には隆起した中足骨ドーム１３４があり、それは中敷の高インパクト点またはその近傍で中敷のクッション特性を改善する。前足パッド１０７は、前足のクッション特性を改善し、ユーザーの靴の内部底面内またはそれに沿って中敷の牽引力および接着力を改善するため、その底面上にダイアモンドキューブ溝パターン１１７を有する。代替実施形態では、前足パッド１０７はハニカム形状のパターン１１７を有する。更に別の実施形態では、前足パッド１０７はテクスチャライズされたパターンのない表面１１７を有する。

中足／踵クッション１０５は、内側アーチ領域にある隆起アーチ１１９Ａと、中敷１００の底面の外側中足側にある隆起外側アーチ１１９Ｂとを有する。斯かる隆起アーチ１１９Ａ、１１９Ｂは、ユーザーの足の中足アーチおよび外側領域をサポートし、回内運動および回外運動状態を防止および最小化するのに役立つ。

長径曲線状窪み１３２が、中敷の長径軸と比較した場合の優角に沿って（この場合、長径軸は中敷の踵から趾方向に延びている）位置している。中足／踵クッション１０５は、正方形グリッドパターンの平坦中央中足領域１４８を中足領域に有しており、中足骨中足涙形隆起領域１３４が、中足／踵サポートクッション１０５の中足骨涙形開口部に配置されている。中足／踵クッション１０５の中央中足領域における平坦領域１４８は、内側長径隆起１４３によって内側と境を接し、外側長径隆起１４２によって外側と境を接し、踵隆起１５２によって踵ポッド開口部の外側周囲と境を接している。中足／踵サポートクッション１０５は、ユーザーの踵の外側後部にサポートを提供しつつ隆起アーチ領域１１９まで延びて周囲を取り囲んでいるヒールカップ１０４も有している。

踵ポッド開口部１１２は、ベース層１０２の底面に踵パッド１１８を位置付けるため、中足／踵サポートクッション１０５の全厚さにわたって延びている。踵ポッド開口部１１２は開口部境界溝１３８によって取り囲まれている。すなわち、該溝が踵ポッド開口部１１２の周囲を取り囲んでいる。踵パッド１１８は、中敷１００の底面に位置し、ＴＰＲジェル、ブローンＥＶＡまたは他の適切な素材製であり、踵ポッド開口部１１２の全深さにわたって延び、ベース層１０２の底面に取り付けられている。踵パッド１１８はダイアモンド形状の溝パターン１２０を有しているが、パターンを有しない平坦な表面１２０であってもよい。図１Ａ〜１Ｃおよび図２Ａ〜２Ｂはダイアモンドキューブパターン１２０を有する踵パッド１１８を示しており、図２Ｃは踵パッド１１８に小さいダイアモンドパターン表面１２０を有する同じ中敷設計を示している。

靴中敷１００は、低密度ポリウレタンメモリフォーム、エチレングリコールポリウレタン、エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、プリブローしたＥＶＡ、ポリウレタン（ＰＵ）、または熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）などの軽量素材製のベース層１０２を有している、あるいは１０Ａｓｋｅｒ＋／−３未満から３０Ａｓｋｅｒ＋／−３超の範囲の鋳型成形したベース層１０２素材の硬度を有する他の適切な素材製のベース層を有しており、該中敷の長さおよび幅方向に延びて内側アーチ領域に湾曲することによりアーチサポート領域を形成し、踵領域の周りに湾曲することにより足接触面にヒールカップを形成する。サポートクッション１０５の隆起アーチ１１９は、内側アーチ１１９に位置しており、縦方向に位置して一体的に形成された長径方向の曲線状窪み１３２（サポートクッション１０５の内側アーチ１１９に一体的に形成された隆起グリッピングリッジ）を有し、涙形窪み１３４が中足の中足骨領域に位置し、中敷１００（靴接触面）の底から上向き（凹型）に湾曲して中敷１００の上側（足接触側）に凸型のコラプシブル中足骨サポートを形成している。

前足パッド１０７はクリアＴＰＲジェル（熱可塑性ゴム）製であってもよく、その場合、ＴＰＲジェルの硬度は１０〜２０Ａｓｋｅｒ＋／−３である。あるいは、前足パッド１０７は、鋳型成形されプリブローしたエチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、ポリウレタン（ＰＵ）、熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）、または他の適切な素材製であってもよいので、約１０〜３０Ａｓｋｅｒ Ｃ＋／−３の硬度を有し、中敷の趾端から中足領域まで並びに前足領域の内側から外側まで延びている。前足パッド１０７がパターン化表面１１７を有する場合、パターン間隔は約１ｍｍ、溝深さは約１ｍｍ、前足パッドの厚さは約１．５ｍｍ＋／−０．５ｍｍである。前足パッド１０７は分離壁１５１の遠位にあるベース層１０２のＰＵ中敷ベースに鋳型成形されてもよく、前足パッド１０７とベース層１０２との間に固定された生地層を有していてもよい。

中敷１００の底面の踵パッド１１８は、クリアＴＰＲ（熱可塑性ゴム）またはプリブローしたエチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）製である、あるいはＥＶＡ、ポリウレタン（ＰＵ）、または約１０〜３５Ａｓｋｅｒ＋／−３の硬度および約３．０ｍｍ＋／−０．５ｍｍの厚さを有する他の適切な素材で鋳型成形される、あるいは中敷１００のベース底面の素材と一体的に形成される。踵パッド１１８は、該踵パッドの近位端で広く該踵バッドの遠位端で狭い変形楕円形を有しており、約１ｍｍの間隔パターンおよび約１ｍｍの溝深さのダイアモンドキューブパターン１２０がＥＶＡに鋳型成形されており、該踵パッドの厚さは、約１．５ｍｍ＋／−０．５ｍｍである。この踵パッド１１８はベース層１０２の底面に固定されている。代替実施形態では、踵パッド１１８はハニカム形状のパターン１２０を有している。更に別の実施形態では、踵パッド１１８は、図２Ｃに示されるように、小さいダイアモンド形状のテクスチャを有している。踵パッド１１８にダイアモンドキューブパターンを示す実施形態は、図１Ａ、１Ｂ、１Ｃ、および２Ａ〜２Ｂに見ることができる。

踵パッド１１８とベース層１０２とが異なる素材製の場合、踵パッドとベース素材との接着力を向上させるため、踵パッド１１８とベース層１０２素材との間の踵パッド窪み１０２Ｂには、ナイロンファブリックの薄い層を配置してもよい。涙形をしたスーパーソフトな中足骨ドーム１３４が中敷１００の中足上面（足接触面）にあり、それは通常、中足骨の下に位置する。ポリエステルの表面シート１２８が、抗菌剤で処理される中敷の足接触面全体を覆っている。

好ましい実施形態では、踵パッド１１８は平坦な中足／踵表面１４８で囲まれており、ヒールカップ１０４によって後部に沿ってカップ状になっている。サポートクッション１０５または前足パッド１０７とベース層１０２との間にはナイロンファブリックを（パッドをＰＵに接着させるために）配置してもよい。内側アーチ１１９は隆起／窪み曲線１３２を有し、アーチに沿って長径方向に延び、通気孔を有しており、サポートクッション１０５の平坦領域１４８の溝は、底から約０．５０ｍｍ〜１．５ｍｍの深さを有している。表面シート１２８は６５％ナイロン／３５％ポリエステル製であってもよく、中敷１００の上側の涙形中足骨ドーム１３４が、上向きに湾曲した窪みとして一体的に形成されている。ベースと前足パッドとの間に追加されている分離壁１５１の高さは約１ｍｍである。

前足パッド１０７はクリアＴＰＲ（熱可塑性ゴム）ジェル製であり、中敷の趾端から外側中足／アーチ領域並びに前足領域の内側から外側に延びており、約１ｍｍのパターン間隔および約１．５ｍｍの深さを有する、ジェルに鋳型成形されたダイアモンド形状の溝パターン１１７を有している。前足パッド１０７はクリアＴＰＲジェル（熱可塑性ゴム、硬度２０Ａｓｋｅｒ＋／−３）（パターン間隔１．０ｍｍ〜１．５０ｍｍ）製であるのが好ましい。前足パッド１０７の硬度は、パッドの大きさ、形状、および素材特性を変えることにより、回内運動の過剰／不足の問題、回外運動の過剰／不足の問題、および足の動きに関連する他の問題に対応するように調整可能である。

本発明の原理によれば、本発明は、アーチ領域、中足骨領域、前足領域、および踵領域にクッション要素およびサポート要素を有するベース底面（靴接触面）と、踵領域および中足領域にクッション要素およびサポート要素を有する上面（足接触面）とを有する靴中敷である。

ベース層１０２は、中敷の長さおよび幅方向に延びており、アーチサポート１１９を形成するために内側アーチ領域に湾曲しており、足接触面にヒールカップ１０４を形成するために踵領域の周囲に湾曲しており、底面の前足パッド窪み１０２Ｂと底の層１０２Ｂの踵骨領域の下に位置する中足／踵サポートクッション窪み１０２Ａとの間に分離壁１５１を有しており、更に、縦方向に位置して一体的に形成された長径方向の曲線状窪み１３２（サポートクッション１０５の底面の内側アーチ１１９に隆起グリッピングリッジを一体的に形成する曲線状窪み１３２）を有する内側アーチ領域に位置する隆起アーチ１１９と、中足の中足骨領域に位置し、ベース層１０２の底面（靴接触面）から上向き（凹型）に湾曲してベース層１０２の上側（足接触側）に凸型のコラプシブル中足骨サポートを形成する涙形窪み１３４とを有する。

前足パッド１０７は、中敷１００の趾端から中足領域まで並びに前足領域の内側から外側まで延びており、約１ｍｍのパターン間隔および約１．５ｍｍの深さのダイアモンド形状溝パターン１１７を有している。前足パッド１０７は、分離壁の遠位側にあるベース底面のＰＵ中敷ベースに鋳型成形され、生地層が前足パッドとベース層１０２素材との間に固定されてもよい。この中敷１００は以下も有する。すなわち（１）中敷の底面にある踵パッド１１８であって、プリブローしたＥＶＡ、ポリウレタン（ＰＵ）、または熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）、あるいは約１０〜３５Ａｓｋｅｒ＋／−３の硬度を有する他の適切な素材製であり、踵パッドの近位端で広く該踵バッドの遠位端で狭い変形楕円形を有しており、約１ｍｍの間隔パターンおよび約１．５ｍｍの溝深さを有するＥＶＡに鋳型成形されたダイアモンドキューブまたはダイアモンド形状溝パターンを有し、ベース底面の踵パッド窪みに固定される踵パッドと、（２）中足骨領域の直ぐ上にクッションを提供する、上面（足接触面）の軟質中足骨ドーム１３４（図３Ａ、３Ｂ、５Ａ、５Ｂ、６Ａ、および６Ｂに示される）と、（３）抗菌剤で処理される中敷１００の全足接触面を覆うポリエステル製の表面シート１２８（図１Ｂ、３Ａ、４Ａ、５Ａ、６Ａ、および７Ａに示される）と、を有する。

本発明の原理によれば、靴中敷１００は、以下の３つの部分から成る底面を有する。すなわち（１）踵から趾に延びるベース層１０２、（２）中敷１００の前足ベース領域の前足／趾窪みに配置される前足パッド１０７、および（３）中足／踵窪み１０２Ｂに配置される軟質ポリウレタン製の中足／踵サポートクッション１０５である。強化層１０３がベース層１０２の上に配置される、あるいはベース層１０２と前足パッド１０７および／またはサポートクッション１０５との間に配置される。強化層は、織物、複合材料、または強化ファブリック製であり、中敷の耐久性を強化および向上させるため、斯かるコンポーネントの間に挿入される。あるいは、この強化層１０３は、ＥＶＡベース素材の上面に固定された高強度の生地または織物であってもよい。しかし、この強化層１０３は、使用時に形状を維持する素材、すなわち通常の使用による加熱または圧縮によって甚大な収縮または変形が生じることのない素材製であるべきである。この強化層１０３は中敷１００の全表面を踵から趾まで延びていてもよいし、あるいは踵領域、踵から中足領域まで、または前足／趾領域だけに延びていてもよい。

本明細書記載のベース層１０２、サポートクッション１０５、強化層１０３、および踵パッドの組み合わせは、ある「角度」の内側長径アーチサポートを提供し、それが改善された回内運動「コントロール」をわずかな角度だけ提供する。研究結果に基づけば、内側長径アーチサポートの「角度」は約１〜２度である。回内運動「コントロール」とは、後足の関節の周りに作用する回外モーメントの増加並びに回内モーメントの大きさの減少を意味する。本発明は、長径方向のアーチサポート、回内運動の防止、および回外運動の防止を改善するための、均衡のとれたアプローチを提供する中敷１００である。
中敷１００は、中足骨領域と相互関連し中敷１００の前足パッド１０７上の趾骨の近くに位置する前足領域、内側アーチに沿った隆起アーチサポート１１９Ａ、外側中足側の隆起アーチサポート１１９Ｂ、ヒールカップ１０４のすぐ前方に位置する踵領域、および踵領域と前足領域との間の中足領域１０６も有している。ユーザーの右の靴と左の靴は、右の靴と左の靴に挿入されるようにそれぞれ適合された中敷同様、互いに鏡像関係にある。図面には左の中敷だけが示してある。右中敷は左中敷の鏡像物であることは当業者には理解されるであろう。

１つの好ましい実施形態では、ベース層１０２は、サポートクッション１０５および前足パッド１０７をそれぞれ収納する寸法の窪み１０２Ａ、１０２Ｂを有している。代替実施形態では、ベース層１０２は、該ベース層１０２に直接鋳型成形したサポートクッション１０５および／または前足パッド１０７を有してもよい。ベース層１０２は、低密度ポリウレタンメモリフォーム、エチレングリコールポリウレタン、エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、プリブローしたＥＶＡ、ポリウレタン（ＰＵ）、または熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）などの軽量素材、あるいは他の適切な素材で鋳型成形してもよい。鋳型成形したベース層２素材の硬度は、１０Ａｓｋｅｒ＋／−３未満から３０Ａｓｋｅｒ＋／−３超の範囲であってよい。

本発明は、ユーザーの靴の内部に適合すると同時に靴の内部底面に置かれ、その上部にユーザーの足が置かれる中敷に関する。図１Ａ〜１Ｃおよび図２Ａ〜２Ｃに示される中敷１００は底（靴側）と上部（足側）を有している。該中敷１００は、ユーザーの足を収納しサポートする輪郭形状のベース層１０２を有する。中敷１００は靴内部で使用されるものであり、その底側は、挿入後、靴の内部に接触する。中敷１００は、多くの場合、以前靴に使用されていた中敷の代わりに使用されるものである。

ベース層１０２は踵端、趾端、外側、および内側を有しており、該外側および内側は略上記踵端から上記趾端へ延びている。外側は使用中のユーザーの足の外側に隣接して置かれ、内側は使用中のユーザーの足の内側すなわちアーチに隣接して置かれる。輪郭形状は、中敷１００の内側に一般的に上向きに延び一体的に形成された隆起アーチサポート１１９を含む。隆起アーチサポート１１９は上向きに延びているので、使用中、靴内のユーザーの足のアーチに隣接して位置付けられる。

例えば、男性のサイズ９の中敷に関して大体の寸法が与えられる。中敷の長さと幅は２８．１ｃｍ（１１．０６３インチ）および９．７ｃｍ（３．８１３ｃｍ）である。長さと幅は中敷が使用される靴のサイズによって異なる。中敷の全厚さは趾領域近くの６．８ｍｍからアーチ領域の１２ｍｍの範囲である。アーチの高さは１５ｍｍである。前足および踵クッションは約４．０ｍｍの厚さを有する。中敷の上側で踵領域の中心近くから隆起踵領域または踵隆起端の上部まで縦に測定されたヒールカップの好ましい深さは約１５〜１６ｍｍである。

ベース層１０２はベース上面とベース底面を有する。ベース層１０２は、上記踵端近くのヒールカップ１０４と、内側のアーチ近くの輪郭アーチサポート１１９と、上記アーチサポート１１９と外側中足領域との間の中足領域１０６と、中敷１００の中足骨領域と趾端との間に位置する前足領域とを画定する。中敷１００の上面に隆起した中足骨ドーム１３４（図３Ａ、３Ｂ、５Ａ、５Ｂ、６Ａ、および６Ｂに示される）は、中敷１００の高インパクト点においてまたはその近傍で該中敷のクッション特性を改善する。

ベース層１０２は、発泡素材製、あるいはファブリック層を含む適切なクッション特性を有する他の素材製であるのが好ましい。ベース層１０２は、エチレンと酢酸ビニルの共重合体であるエチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）フォーム、熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）／ＥＶＡミックス、またはブローンＥＶＡ素材であるのが好ましい。好ましいブローンＥＶＡ、ＥＶＡ、またはＴＰＲ／ＥＶＡミックスは、約Ａｓｋｅｒ Ｃ４５〜５０のデュロメーター硬度を有する。中敷１００の構造特性を促進するような素材を選択することにより、該中敷の全重量を最小化するのが望ましい。好ましい実施形態の中敷１００全重量（男性サイズ１０／１１）は約４．０オンスである。代替実施形態による中敷の全重量は、男性サイズ１０／１１において５．０オンスから６．０オンス、男性サイズ１２／１３において６．５オンスから７．５オンスである。他のサイズもそれに比例する。ベース層１０２はジェル素材（例えばＴＰＲジェル）で形成してもよいし、硬度３０Ａｓｋｅｒ＋／−３のポリウレタンポリエステルグリコール製であってもよいし、あるいは任意の耐久性ナイロンファブリック製であってもよい。

ベース層１０２は踵から趾端まで該ベース層１０２の上面全体に延びる表面シート１２８で覆われており、中敷１００の上面を形成する。表面シート１２８は、中敷の全足接触面を覆うポリエステルまたはジェダイト製であり、抗菌剤で処理される。表面シート１２８は、通常、水疱の可能性を最小化するため、低摩擦係数を有する不織布ファブリック製である。あるいは、表面シート１２８は、天然源から得た特別な低温ヒスイを含む冷却ファブリック製であるのが好ましい。

表面シート１２８はベース層１０２の上面に固定され、表面シート１２８の上部面は、使用中ユーザーの足に接触する。表面シート１２８は中敷の上面にあるユーザーの足に接触するように配置され、上部冷却および換気機能を実行する。表面シート１２８は、ジェダイトトップクロス材料等の適切な材料製であってもよい。表面シート１２８は、ユーザーの足の水疱を防止する低摩擦ファブリック製であるのが好ましい。更に、表面シート１２８は、細菌の繁殖を防止し、悪臭を減少させるため、抗菌処理を含んでいてもよい。適切な処理は、Ｓｉｌｐｕｒｅ（登録商標）抗菌処理（Ｔｈｏｍｓｏｎ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ａｓｓｏｃｉａｔｅｓ， Ｉｎｃ．， Ｏｎｔａｒｉｏ， ＣＡ）である。

本発明の原理によれば、図１Ａ、１Ｂ、１Ｃ、２Ａ、２Ｂ、および２Ｃに示されるように、靴中敷１００は、以下の３つの部分からなる底面を有している。すなわち、（１）踵から趾に延びるベース層１０２と、（２）中敷１００の前足領域の前足パッド窪み領域１０２Ａに位置する前足パッド層１０７と、（３）中足／踵窪み１０２Ｂに位置する軟質ポリウレタン製の中足／踵サポートクッション１０５と、を含む。３部分底面構造は既知の方法よりも製造を容易にし、前足パッド１０７、ベース層１０２、中足／踵サポートクッション１０５、および踵パッド１１８に使用される素材を調整することにより、素材、クッション特性、およびサポートの様々な組み合わせが可能となる。

好ましい実施形態では、中敷１００は以下を有する。すなわち、ポリウレタンまたはファブリックシートであってよいベース層１０２であって、低密度のポリウレタンメモリフォーム、エチレングリコールポリウレタン、エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、プリブローしたＥＶＡ、ポリウレタン（ＰＵ）、または熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）製、あるいは他の適切な素材製の、１０Ａｓｋｅｒ＋／−３未満から３０Ａｓｋｅｒ＋／−３超の範囲の鋳型成形ベース素材の硬度を有する中足／踵サポートクッション１０５に連結されたベース層と、低密度のポリウレタンメモリフォーム、エチレングリコールポリウレタン、エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、プリブローしたＥＶＡ、ポリウレタン（ＰＵ）、または熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）製、あるいは他の適切な素材製（硬度１０〜３５Ａｓｋｅｒ＋／−３）（１．０ｍｍ〜１．５０ｍｍ間隔の溝パターン１１７）の前足パッド１０７と、プリブローしたＥＶＡ、ＰＵ、または他の適切な素材（硬度１０〜３５Ａｓｋｅｒ＋／−３）（１．０ｍｍ〜１．５０ｍｍのパターン間隔）製の踵パッド１１８であって、平坦な中足／踵面１４８によって囲まれ、後部に沿ってヒールカップ１０４によりカップ状に囲まれている踵パッドと、前足／踵パッドとベースとの間の（パッドとＰＵの接着のための）ナイロンファブリックと、隆起および窪み曲線１３２を有する隆起内側アーチ１１９Ａであって、一般的にアーチに沿って長径方向に延び、通気孔を有し、底の溝深さが０．５ｍｍ〜１．５ｍｍの隆起内側アーチと、６５％ナイロン／３５％ポリエステル製の表面シートと、外側中足領域にある隆起外側アーチ１１９Ａと、底面から上向きに湾曲した窪みとして一体的に形成されている上側の涙形中足骨ドーム１３４と、前足パッド１０７および踵パッド１１８の底面にそれぞれ位置するダイアモンド形状の溝パターン１１７、１２０と、中足／踵クッション１０５と前足パッド１０７との間に追加された約１ｍｍの分離壁１５１と、を有する。

本発明の原理によれば、靴中敷１００は、以下の３つの部分からなる底面を有している。すなわち、（１）踵から趾に延びるベース層１０２と、（２）中敷１００の前足ベース領域の前足パッド窪みに位置する前足パッド層１０７と、（３）中足／踵窪み１０２Ｂに位置する軟質ポリウレタン製の中足／踵サポートクッション１０５と、を含む。強化層１０３は、ベース層１０２の上に配置される、あるいはベース層１０２と前足パッド１０７および／またはサポートクッション１０５との間に配置される。強化層は、織物、複合材料、または強化ファブリック製であり、中敷の耐久性を強化および向上させるため、斯かるコンポーネントの間に挿入される。あるいは、この強化層１０３は、ＥＶＡベース素材の上面に固定された高強度の生地または織物であってもよい。しかし、この強化層１０３は、使用時に形状を維持する素材、すなわち通常の使用による加熱または圧縮によって甚大な収縮または変形が生じることのない素材製であるべきである。この強化層１０３は中敷１００の全表面を踵から趾まで延びていてもよいし、あるいは踵領域、踵から中足領域まで、または前足／趾領域だけに延びていてもよい。

中足骨サポート１３４は、中敷の底面にあるサポートクッション１０５の底面と一体的に形成された中足骨サポート開口部１３４Ａに形成されており、底面（靴接触面）に配向した凹面および上面（足接触面）に配向した凸面を有している。中足骨サポート１３４は、第二中足骨および第三中足骨の辺りの領域にクッションとサポートを提供するため、中敷１００の中足領域に置かれる。中足骨サポート１３４の凸型上面は圧縮可能であり、ベース底面の凹型部分への足による下向きの圧力によって圧縮され、その結果、ユーザーの足の圧力に応じたサポートの提供が可能となる。

好ましい実施形態では、中足骨サポート１３４は涙形であり、広い部分が中敷の遠位方向すなわち第二中足骨および第三中足骨の方向に向いており、狭い部分が近位方向すなわち足根骨の方向に向いている。代替実施形態では、中足骨サポート１３４は別の形状、例えばダイヤモンド形、長方形、あるいは中敷の中足領域に中足骨サポートを提供するのに適した他の形状を有してもよい。

中足骨サポート１３４は、中敷１００のベース底面を形成する材料と一体的に形成される。該材料は低密度ポリウレタンメモリフォームで鋳型成形するのが好ましいが、エチレングリコールポリウレタン、エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、プリブローしたＥＶＡ、ポリウレタン（ＰＵ）、熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）または他の適切な材料であってもよい。鋳型成形されたベース材料の硬度は、１０Ａｓｋｅｒ＋／−３未満から３０Ａｓｋｅｒ＋／−３超の範囲であってよい。

前足パッド１０７は、前足パッド窪み領域１０２Ａと本質的に同様に成形され、同位置に固定される。前足パッド１０７は、内側縁、外側縁、近位（後部）縁および遠位（前部）縁を有する。前足パッド１０７の内側縁は、上記中敷の内側境界から外側に間隔を空けて位置する線に沿って延びている。近位縁は、上記内側縁から上記後部頂点へ外側および近位方向に延び、第三中足骨頭方向に外側および遠位方向に延び、次に第三中足骨頭から第五中足骨頭の辺りに沿って外側縁まで近位方向に延びる。

前足パッド１０７は、中敷の中足骨頭領域の近位部分から遠位趾端まで、並びに中敷の内側から外側まで延びている。１つの実施形態では、前足パッド１０７は前足パッド窪み１０２Ａ内に固定される。前足パッド１０７は、約１．５ｍｍ＋／−０．５ｍｍの厚みを有している。別の実施形態では、前足パッド１０７は、中敷１００のベース層１０２の材料と一体的に形成される。前足パッド１０７は、プリブローしたエチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）で鋳型生成するのが好ましい。前足パッド１０７は、ＥＶＡ、ポリウレタン（ＰＵ）、熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）または他の適切な材料で鋳型成形してもよい。

前足パッド１０７は、前足領域に牽引摩擦、圧縮クッションおよび外側運動サポートを提供するため、前足パッド１０７表面にダイヤモンドキューブパターン１１７を有しているのが好ましい。ダイヤモンドキューブパターン１１７は、約１．０ｍｍ＋／−０．５ｍｍの深さを有し、表面パターンの間隔は約１．０ｍｍ〜約１．５ｍｍである。代替実施形態では、前足パッド１０７は蜂の巣形状のパターン１１７を有している。更に別の実施形態では、前足パッド１０７は、特定のテクスチャを有するパターン化されていない表面１１７を有している。前足パッド１０７とベース層１０２が異なる材料製である場合、前足パッド１０７とベース層１０２との接着を増大させるため、前足パッド１０７とベース層１０２の材料との間の前足パッド窪み１０２Ａに、薄いナイロンファブリックの層を置いてもよい。

前足パッド１０７は、前足領域の内側から外側にかけて、中敷の趾端から外側中足／アーチ領域まで延びており、ダイヤモンドキューブパターン１１７を有し、パターンの間隔は約１ｍｍ、深さは約１．５ｍｍである。前足パッド１０７は、低密度ポリウレタンメモリフォーム、エチレングリコールポリウレタン、エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、プリブローしたＥＶＡ、ポリウレタン（ＰＵ）、熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）等あるいは他の適切な材料（硬度１０〜３５Ａｓｋｅｒ ＋／−３）の軽量の材料で鋳型成形される（パターン間隔１．０ｍｍ〜１．５０ｍｍ）。前足パッド１０７の硬度は、パッドの大きさ、形状および素材特性を変えることにより、回内運動の過剰／不足、回外運動の過剰／不足および足の動きに関連する他の問題に対処するように調整してもよい。前足パッド１０７の構成、素材および位置は、他の要素との関連でクッション性および動作部分を提供し、足首を安定させる。前足パッドおよび踵パッドは、ゴム製、あるいはポリマーであるネオプレン合成ゴム層製を含む合成ゴム製である。

前足パッド１０７の外側縁は、上記近位縁を上記前足パッド１０７の上部縁に接続する。使用時、前足パッド窪み領域１０２Ａおよび前足パッド１０７は、ユーザーの足の第一中足骨頭あるいは内側母指球を除いて、ユーザーの足の親指の一部および母指球の下に位置する。前足パッド１０７は、垂直ジャンプから着地した際にクッションとエネルギー回復を提供する。それはユーザーの足の中足骨頭、特に第一中足骨頭と第二中足骨頭用の推進パッドおよびサポートとして機能する。前足パッド１０７は、前足クッション特性を改善し、ユーザーの靴の内側および内部底面に沿って牽引摩擦および粘着力を改善し、既知の材料と比べて耐久性およびクッション性を改善させるため、その底面にダイアモンド形状の溝パターン１１７を有する。

サポートクッション１０５は、ポリウレタンポリエステルグリコール（硬度３０Ａｓｋｅｒ＋／−３、低密度）製である。サポートクッション窪み領域１０２Ｂは、中敷の底面の中足領域および踵領域に位置している。中足／踵サポートクッション窪み領域１０２Ｂは、内側境界近くの内側縁からベース層１０２の外側境界近くの外側縁まで、並びに前足パッド窪み領域１０２Ａよりも僅かに近位の遠位縁からベースの踵端１０４近くの近位縁まで延びる。遠位縁の内側部分は、足趾離地中に第一中足骨の下方の動きを調節する形状になっている。サポートクッション１０５は、中足／踵サポートクッション窪み領域１０２Ｂと本質的に同じ形状であり、ベース側表面と靴側表面とを有する。ベース側表面は、上記中足／踵サポートクッション窪み領域１０２Ｂに固定される。

中足／踵サポートクッション１０５は、内側アーチ領域にある隆起アーチ１１９Ａと、長径軸から少なくとも２つ以上の主要角度に沿って位置付けられた曲線状窪み１３２とを有しており、長径軸は中敷１００の踵から趾に延びている。長径曲線状窪み１３２は中敷１００の長径軸と比べて第一角度方向に延びている。第一角度方向は、長径曲線状窪み１３２の長軸の長さと比較して測定される。第一角度方向は、中敷１００の踵から趾に延びている縦軸である長径軸と比べて、約５度から６５度である。隆起アーチ領域１１９Ａにおける長径曲線状窪み１３２は、隆起アーチサポートに追加の剛性を提供し、それにより、サポートクッション１０５において隆起アーチ１１９Ａによるサポートが改善される。更に、斯かる形態の窪み１３２は、空気封入によって引き起こされる空隙を最小限にしながら、中足領域におけるポリウレタン材料のフローを促進する。アーチ領域における曲線状窪み１３２によって、該アーチ領域は靴に適合するようにつぶされるので、より適応性のある設計が提供される。

更に、中足／踵クッション１０５は、中足領域１０６における中敷１００の底面の平坦中足領域１４８を有しており、中足／踵サポートクッション１０５の中足骨涙形開口部１３４Ａ（例えば、中足骨開口部１３４Ａ）には、中足骨中足涙形隆起領域１３４が位置している。中足／踵クッション１０５の中足領域１０６における中敷１００の底面の平坦中足領域１４８は、正方形の溝パターンを有しており、中足から踵にかけて延びる内側長径リッジ１４２によって内側と境を接し、中足から踵に掛けて延びる外側長径リッジ１４３によって外側と境界を接し、踵リッジ１５２によって踵ポッド開口部１１２の外部周囲に境を接している。これらのリッジ１４３、１４２および踵リッジ１５２はサポートクッション１０５のサポートおよび耐久性を改善し、使用中、ユーザーの足の回内運動および回外運動の防止を助けるので、中敷の性能が向上し改善される。中足／踵サポートクッション１０５は、ユーザーの踵の外部後側をサポートする周囲を取り囲むヒールカップ１０４も有しており、該ヒールカップ１０４は隆起アーチ領域１１９Ａおよび外側アーチ１１９Ｂまで延びており、これにより使用中にユーザーの足に提供されるサポートが改善される。

サポートクッション１０５は、踵の外側領域をカップ状に包むことによって足にサポートを提供し、その結果、中足領域から踵領域にかけて安定剛性を提供し、更にユーザーの足の内側アーチ領域に上向きのサポートを提供するため、ベース層１０２の側面および後を包み込む末端側壁を有している。中足／踵サポートクッション１０５は、約０．５ｍｍから３ｍｍの範囲の厚さを有しており壁は約３ｍｍから約０．５ｍｍへ徐々に薄くなっているのが好ましい。第一または第二セットの長径窪みは、約０．５０ｍｍ〜１．５ｍｍの溝深さを有している。

前足パッド１０７と中足／踵サポートクッション１０５との間のベース層１０２上に隆起分離壁１５１が存在する。該分離壁は、靴中敷１００の中足骨領域と前足領域との間に、靴中敷１００の幅全体に亘って横方向に位置している。分離壁は、前足パッド１０７を中足／踵サポートクッション１０５から切り離し、その結果、材料のクッション特性並びに靴中敷１００のサポートが改善される。分離壁１５１はベース層１０２の底面に位置しており、高さは約１ｍｍである。推進の開始時点あるいはステップの足趾離地の段階で、踵が地上から離れ始め、体重が母指球の方へ移動する。前足パッド１０７は、斯かる足部分の下に位置している。前足パッド１０７は、該前足パッド１０７に圧縮投入されるエネルギーが足趾離地の時点で回復し、足の推進を助けられるように、比較的弾力性のある材料で形成されるのが好ましい。

足趾離地中、第一中足骨は自然に下方に屈曲する。第一中足骨の斯かる自然な下方屈曲を妨げると、足のアーチ部分が平らになり、足が過剰に回内運動を行い、その結果、足首および膝にかかるストレスが増大する。下方屈曲を調整するため、前足パッド１０７が、後方、すなわち分離壁１５１の遠位縁の対応する凹型縁部分まで延びている。前足パッド１０７の形状により、第一中足骨はより自然に屈曲でき、その結果、足趾離地中、親指の荷重が促進される。

踵ポッド開口部１１２が、踵パッド１１８をベース層１０２の底面に位置付けるため、中足／踵サポートクッション１０５の全厚さに亘って延びている。踵パッド開口部は、周囲を取り囲む溝を有する平坦中足／踵面によって囲まれている。踵ポッド開口部１１２は、該踵ポッド開口部１１２の周囲を取り囲む踵ポッド開口部境界溝１３８によって周囲を囲まれている。斯かる溝は中足／踵サポートクッション１０５から踵パッド１１８を切り離し、それにより、すなわち踵パッド１１８を切り離しクッション効果の外側への移動を防止することにより（クッション効果による方向性衝撃力の吸収がサポート溝により改善される）、踵パッド１１８の性能が改善される。踵パッド１１８は踵ポッド開口部１１２に位置しており、中敷１００の底面に固着されている。踵パッド１１８は、踵（踵骨）領域の近位端から内側アーチサポート領域の近位部分に隣接した領域まで延びている。好ましい実施形態では、踵クッション領域は、中敷のサポートクッション１０５に形成された踵パッド開口部１１２内に固定されている踵パッド１１８を有しており、上記踵パッド１１８はベース層１０２に固定されている。踵パッド開口部１１２は、その周囲を取り囲む溝パターン１３８を有しており、該溝パターンは中敷１００の耐久性を助け、踵パッド１１８のクッション機能を向上させる。

踵パッド１１８は３．０ｍｍ＋／−０．５ｍｍの厚さを有している。代替実施形態では、踵パッド１１８は中敷のベース底面の材料と一体的に形成される。踵パッド１１８は、踵骨の下に圧縮クッションおよびサポートを提供する。踵パッド１１８は、踵領域に圧縮クッションおよびサポートを提供するため、踵パッド１１８表面にダイアモンドキューブパターン１２０を有しているのが好ましい。ダイアモンドキューブパターン１２０は約１．５ｍｍ＋／−０．５ｍｍの深さおよび約１．０ｍｍ〜約１．５ｍｍの表面パターン間隔を有している。代替実施形態では、踵パッド１１８はハニカム形状のパターンを有している。更に別の実施形態では、踵パッド１１８は、テクスチャライズされたパターンのない表面を有している。

踵パッド１１８は、プリブローしたエチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）で鋳型成形されるのが好ましい。踵パッド１１８は、ＥＶＡ、ポリウレタン（ＰＵ）、熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）または他の適切な材料で鋳型成形されてもよい。踵パッド１１８とベース層１０２が異なる材料製である場合、踵パッド１１８とベース層１０２との接着を向上させるため、踵パッド１１８、特に、踵パッド１１８とベース層１０２の材料との間に、薄いナイロンファブリックの層を置いてもよい。

踵パッド１１８は、踵クッション特性を改善するため、並びにユーザーの靴内部および内部底面に沿って中敷の牽引摩擦および接着力を改善するため、タイヤモンド形状溝パターン１２０を有している。踵パッド１１８はＴＰＲジェル製であってもよいし、プリブローしたＥＶＡ（エチレン酢酸ビニル）材料であってもよい。踵パッドは１０〜３５Ａｓｋｅｒ＋／−３の硬度を有している。踵パッドは約１．０ｍｍ〜１．５ｍｍの幅間隔を有する溝パターンを有している。

中敷１００の製造は開放注入鋳型成形プロセスにより達成できる。このプロセスは混合ポリウレタンまたはＴＰＲを開放鋳型に注入することから成る。ポリウレタン混合物は、鋳型に注入すると拡張し空洞を埋める。硬化したら、ベース中敷は鋳型から外される。前足クッションおよび踵クッションは、それらが使用される場合、接着剤によって窪みに固定してもよいし、ポリエチレン注入操作中に適所に固定してもよい。前足クッションまたは踵クッションへの結合対象であるファブリックに結合が生じる。

あるいは、前足パッド１０７は、前足パッド窪み１０２Ｂからベース層１０２Ａのベース底面の分離壁１５１まで、中敷のベース層１０２の底面に鋳型成形してもよい。ファブリック層を前足パッド１０７と前足パッド窪み１０２Ｂのベース層１０２との間に挿入してもよい。次に、中足／踵クッション１０５を、サポートクッション窪み１０２Ａからベース層１０２のベース底面上の分離壁１５１まで、中敷のベース層１０２の底面に鋳型成形してもよい。ファブリック層を中足／踵クッション１０５と窪み１０２Ａのベース層１０２との間に挿入してもよい。更に、踵パッド１１８を、踵ポッド開口部１１２にある中敷ベース層１０２の底面に鋳型成形してもよい。ファブリック層を踵パッド１１８とサポートクッション窪み領域１０２Ｂのベース層１０２との間に挿入してもよい。前足パッド１０７、踵パッド１１８および中足／踵クッション１０５は、半永久的（または永久的）結合を達成するのに適した接着剤または最初は液体であるが後に固化する接着剤を用いて、ベース層１０２の底面に相互に隣接して固定してもよい。曲線状の窪み１３２は、製造中にサポートクッション１０５内に鋳型成形されるのが好ましい。

図３Ａは本発明の中敷１００の上部（足側）を示しており、表面シート１２８は中敷１００の上側を覆い、ベース層１０２の上に置かれている。図３Ｂは表面シート１２８が置かれていない中敷１００を示しており、中足／踵領域１０８が図３Ａおよび図３Ｂに示してある。中敷１００の上面には中足骨ドーム１３４が隆起しており、それぞれ、中敷の高衝撃点またはその近くでクッション特性を改善する。ベース層１０２の内側、ヒールカップ１０４およびベース層１０２の外側が図３Ａおよび図３Ｂに示してある。上側にある涙形の中足骨パッド１３４が、中敷の底面から上向きに湾曲した窪みとして一体的に形成されている。

中敷１００の足接触面において、ベース層１０２は中足骨ドーム１３４を有している。中足骨ドーム１３４は踵骨の下に位置し、歩行中または起立状態においてユーザーの踵に追加のクッションを提供する。中足骨ドーム１３４は中敷１００の上面（足接触面）から上向きに湾曲し、足の中足骨領域の下にドーム状の接触面を形成している。中足骨ドーム１３４はベース層１０２とは別のクッションとして鋳型成形され、ベース層１０２の上側に固定されているのが好ましい。中足骨ドーム１３４は表面シート１２８で覆われており、中敷の上面（足接触面）においてユーザーの足に連続接触面を提供する。代替実施形態では、中足骨ドーム１３４は、ベース層１０２の上側を構成する材料と一体的に形成されている。

中足骨ドーム１３４はスーパーソフトな低密度ポリウレタンで形成するのが好ましいが、ポリウレタンメモリフォーム、エチレングリコールポリウレタン、エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、プリブローしたＥＶＡ、ポリウレタン（ＰＵ）、熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）、または他の適切な素材で形成してもよい。中足骨ドーム１３４素材の硬度は１０Ａｓｋｅｒ＋／−３未満から３０Ａｓｋｅｒ＋／−３超の範囲であってよい。

中足骨ドーム１３４は上面（足接触面）に位置しており、足の中足骨領域の直ぐ上にクッションを提供する。表面シート１２８は図３Ａに示してあり、中敷１００の露出した上面図が、表面シート１２８のない図３Ｂに示してある。表面シート１２８は、抗菌剤で処理される中敷１００の全足接触面を覆う。中敷１００の上面は、踵から趾端まで上面全体に延びる表面シート１２８で覆われている。表面シート１２８は、水疱の可能性を最小限に抑えるため、通常、摩擦係数の小さい不織布ファブリック層でできている、あるいは、表面シート１２８は、天然源から得られる特別な低温ヒスイを含む冷却ファブリック製であるのが好ましい。表面シートは６５％ナイロン／３５％ポリエステル製であってもよい。

図４Ａを参照すると、中敷１００の内側の図が示してあり、曲線状の窪み１３２が隆起アーチ領域１１９に示されている。図４Ｂは、表面シート１２８のない中敷１００を示している。前足領域１０８に位置する前足パッド１０７、ベース層１０２、サポートクッション１０５、ヒールカップ１０４および表面シート１２８も示してある。中敷１００は、表面シート１２８と、該表面シートに固定された上面および反対側の底面とを有するベース層１０２を有しているのが好ましい。ベース層１０２は、足の隆起アーチ１１９に追加のクッションおよびサポートを提供するため、中敷の内側に沿って上向に延びる隆起アーチサポート１１９Ａも画成する。

強化層１０３は、複合材料または強化ファブリック製であり、中敷の耐久性を強化および向上させるため、ベース層１０２と前足パッド１０７および／またはサポートクッション１０５との間に挿入される。強化層１０３の一部分を図１Ｂに見ることができる。あるいは、この強化層１０３は、ＥＶＡベース素材の上面に固定された高強度の生地または織物であってもよい。しかし、この強化層１０３は、使用時に形状を維持する素材、すなわち通常の使用による加熱または圧縮によって甚大な収縮または変形が生じることのない素材製であるべきである。この強化層１０３は中敷１００の全表面を踵から趾まで延びていてもよいし、あるいは踵領域、踵から中足領域まで、または前足／趾領域だけに延びていてもよい。

図５Ａおよび図５Ｂを参照すると、隆起外側アーチ１１９Ｂと、中足骨ドーム１３４と、前足領域１０８に位置する前足パッド１０７と、ベース層１０２と、ヒールカップ１０４と、サポートクッション１０５の外側と、表面シート１２８（図５Ａのみに示してある）と、を有する中敷１００の外側図が示してある。図５Ｂには表面シート１２８は示されていない。中敷１００が、表面シート１２８と、上記表面シート１２８に固定された上面および反対側の底面を有するベース１０２とを有するのが好ましいことを、図５Ａおよび図５Ｂは示している。ベース層１０２は、足のアーチ領域に追加のクッションおよびサポートを提供するため、中敷の内側に沿って上向きに延びた隆起アーチサポート１１９も画成する。

図５Ａおよび図５Ｂに示されるように、靴中敷１００は、以下を含む３つの部分で形成された底面を有する。（１）踵から趾まで延びるベース層１０２、（２）中敷１００の前足ベース領域１０８の前足パッド窪み領域１０２Ａ（図１Ｂに示される）に位置する前足パッド１０７、および（３）中足／踵窪み領域１０２Ｂ（図１Ｂに示される）に位置する中足／踵安定クッション１０５。３つの部分からなる底面の構成により、製造が周知の方法よりも容易となり、前足パッド１０７、ベース層１０２、中足／踵サポートクッション１０５および踵パッド１１８に使用される材料を調整することにより、材料およびクッション特性およびサポートの異なる組み合わせが可能となる。

前足パッド１０７は、中敷の趾端から外側中足領域まで並びに前足領域の内側から外側にかけて延びており、約１ｍｍのパターン間隔と約１．５ｍｍの深さを有するジェル中で鋳型成形されたダイアモンドキューブパターンを有する。前足パッド１０７の硬度は、パッドの大きさ、形状および素材特性を変えることにより、回内運動の過剰／不足、回外運動の過剰／不足および足の動きに関連する他の問題に対処するように調整してもよい。前足パッド１０７の構成、素材および位置は、他の要素との関連でクッション性および動作部分を提供し、足首を安定させる。前足パッド１０７は、前足クッション特性を改善し、ユーザーの靴の内側および内部底面に沿って牽引摩擦および粘着力を改善し、既知の材料と比べて前足パッド１０７の耐久性およびクッション性を改善させるため、その底面にダイアモンドキューブ溝パターン１１７を有する（図１Ａ〜１Ｃおよび図２Ａ〜２Ｃに示される）。

中足／踵サポートクッション１０５は、長径軸から少なくとも２つ以上の主要角度に沿って位置付けられた長径曲線状窪み１３２を内側アーチ領域に有している（長径軸は中敷１００の踵から趾に延びている）隆起アーチ１１９Ａと、外側アーチ１１９Ｂとを有している。前足パッド１０７と中足／踵サポートクッション１０５との間のベース層１０２には、図５Ａおよび図５Ｂに示される隆起した分離壁１５１があり、それは中敷１００の中足骨領域と前足領域との間の中敷１００の幅全体に横方向に位置している。分離壁１５１は、前足パッド１０７を中足／踵サポートクッション１０５から切り離し、その結果、材料のクッション特性並びに中敷１００のサポートが改善される。推進の開始時点あるいはステップの足趾離地の段階で、踵が地上から離れ始め、体重が母指球の方へ移動する。前足パッド１０７は、斯かる足部分の下に位置している。

表面シート１２８はベース層１０２の上面に固定され、表面シートの上部面は、使用中ユーザーの足に接触する。表面シート１２８は中敷の上面にあるユーザーの足に接触するように配置され、上部冷却および換気機能を実行する。表面シート１２８は、ジェダイトトップクロス材料等の適切な材料製であってもよい。表面シート１２８は、ユーザーの足の水疱を防止する低摩擦ファブリック製であるのが好ましい。更に、表面シート１２８は、細菌の繁殖を防止し、悪臭を減少させるため、抗菌処理を含んでいてもよい。

図６Ａおよび図６Ｂを参照すると、これらの図面は趾端から踵端１０４を見た中敷１００の前端図を示しており、踵端１０４に隆起した踵領域が示してあり、隆起アーチサポート１１９が内側に示してある。図６Ａには表面シート１２８が示してあるが、図６Ｂにはそれが示されていない。図６Ａは、前足領域１０８の前足パッド１０７、ベース層１０２、隆起アーチ領域１１９、および表面シート１２８を示す。図７Ａおよび図７Ｂは、踵領域から趾領域を見た中敷１００の踵端図を示しており、図７Ａには表面シート１２８が示してあるが、図７Ｂにはそれが示されていない。斯かる図面により、ヒールカップ１０４、ベース層１０２の外側および内側、曲線状窪み１３２を配置した隆起アーチ１１９、および表面シート１２８を含む中敷１００の特徴が理解できるであろう。

図６Ａ、６Ｂ、７Ａ、および図７Ｂに示されるように、靴中敷１００は、以下を含む３つの部分で形成された底面を有する。（１）踵から趾まで延びるベース層１０２、（２）中敷１００の前足ベース領域１０８の前足パッド窪み領域１０２Ｂ（図１Ｂに示される）に位置する前足パッド１０７、および（３）中足／踵窪み領域１０２Ａ（図１Ｂに示される）に位置する中足／踵安定クッション１０５。３つの部分からなる底面の構成により、製造が周知の方法よりも容易となり、（図１Ａ〜１Ｃおよび図２Ａ〜２Ｃに示される）前足パッド１０７、ベース層１０２、中足／踵サポートクッション１０５および踵パッド１１８に使用される材料を調整することにより、材料およびクッション特性およびサポートの異なる組み合わせが可能となる。

斯かる図面に示されるように、強化層１０３は、複合材料または強化ファブリック製であり、中敷の耐久性を強化および向上させるため、ベース層１０２と前足パッド１０７および／またはサポートクッション１０５との間に挿入される。強化層１０３の一部分を図１Ｂに見ることができる。あるいは、この強化層１０３は、ＥＶＡベース素材の上面に固定された高強度の生地または織物であってもよい。しかし、この強化層１０３は、使用時に形状を維持する素材、すなわち通常の使用による加熱または圧縮によって甚大な収縮または変形が生じることのない素材製であるべきである。この強化層１０３は中敷１００の全表面を踵から趾まで延びていてもよいし、あるいは踵領域、踵から中足領域まで、または前足／趾領域だけに延びていてもよい。

好ましい実施形態では、中敷１００は、ベース層１０２と、前足パッド１０７と、平坦な中足／踵面によって囲まれ、ヒールカップ１０４によって後部に沿ってカップ状になっている踵パッドと、を有している。中足／踵クッション１０５は、内側アーチ領域にある隆起アーチ１１９Ａと、長径軸から少なくとも２つ以上の主要角度に沿って位置付けられた長径曲線状窪み１３２（長径軸は中敷１００の踵から趾に延びている）と、中足領域にある外側アーチ１１９Ａと、を有している。図６Ａおよび図６Ｂに示され、中敷１００の上側に位置している涙形中足骨ドーム１３４は、上向きに湾曲している中足骨隆起領域１３４から底面と一体的に形成されており、ダイアモンド形状の溝パターン１１７、１２０は、前足パッド１０７の底面に位置している。分離壁１５１は、クッション１０５と前足パッド１０７との間に位置しており、約１ｍｍの高さを有している。

前足パッド１０７は、中敷の趾端から中足領域まで並びに前足領域の内側から外側にかけて延びており、約１ｍｍのパターン間隔と約１．５ｍｍの深さを有するジェル中で鋳型成形されたダイアモンドキューブ溝パターン１１７を有する。前足パッド１０７は、パッドの大きさ、形状および素材特性を変えることにより、回内運動の過剰／不足、回外運動の過剰／不足および足の動きに関連する他の問題に対処するように調整し得る硬度を有している。前足パッド１０７の構成、素材および位置は、他の要素との関連でクッション性および動作部分を提供し、足首を安定させる。前足パッド１０７は、前足クッション特性を改善し、ユーザーの靴の内側および内部底面に沿って牽引摩擦および粘着力を改善し、既知の材料と比べて前足パッド１０７の耐久性およびクッション性を改善させるため、その底面にダイアモンドキューブ溝パターン１１７を有する。
中足／踵サポートクッション１０５は、内側アーチ領域にある中敷１００の隆起アーチ１１９Ａと、長径軸から少なくとも１つの主要傾斜角に沿って位置付けられた長径曲線状窪み１３２とを有しており、長径軸は中敷１００の踵から趾に延びている。表面シート１２８はベース層１０２の上面に固定され、表面シートの上部面は、使用中ユーザーの足に接触する。表面シート１２８は中敷の上面にあるユーザーの足に接触するように配置され、上部冷却および換気機能を実行する。表面シート１２８は、ジェダイトトップクロス材料等の適切な材料製であってもよい。表面シート１２８は、ユーザーの足の水疱を防止する低摩擦ファブリック製であるのが好ましい。更に、表面シート１２８は、細菌の繁殖を防止し、悪臭を減少させるため、抗菌処理を含んでいてもよい。
足と地面との接触は一般的に三つの相、すなわち踵接地、中足サポートおよび足趾離地に分けられる。踵接地中、該踵は大きい力で地面にインパクトを与える。踵と地面との最初のインパクトの後、足は捩じれ、すなわち回内運動をし、踵の内側を地面に接触させる。足は、回内運動の量および回内運動の発生速度に敏感である。回内運動は自然であり、歩行または走行中に足にかかるストレスや力を吸収するので、ある程度の回内運動は望ましい。しかし、回内運動の過剰な量や速度は怪我を引き起こす可能性がある。
インパクトにクッションを与えるため、上述のコンポーネントは、相互に協調的に機能して以下のような本発明の目標を達成する。（１）足首および足の安定性の改善、（２）プッシュオフおよび着地中に踵および前足に更なるクッションを提供、（３）過剰な回内運動／回外運動条件の更なる防止、および（４）踵領域、中足領域、アーチ領域および前足領域に改善されたクッションの提供。サポートクッション１０５は、内側アーチ領域および踵領域の周囲を含む足の内側部分に沿って強固なサポートを提供し、足の回内運動量の制御に寄与する。

本発明の第一の好ましい実施形態において、ベース層１０２、特に、底面にベース層１０２が画成する窪み領域に固定される中敷の種々のパッドコンポーネントは、接着剤等の適切な手段を用いてベース層１０２に永久的に固着される。コンポーネントは、中敷鋳型成形分野で周知の技術を用いて鋳型成形プロセス中に固定してもよい。窪み領域にはベース面とパッド面を有する布、すなわち、上記ベース面に沿って上記ベース層１０２に固定し上記パッド面に沿って上記パッドに固定した布を敷いてもよい。あるいは、布はパッドに固定し、次に該複合構造体を窪み領域に固定してもよい。

改良型の中敷１００が開示されている。開示されている中敷の実施形態は、ハイキングやバックパッキング等の活動中に足へのクッションの提供や回内運動の制御に有用であることが、容易に明白となるであろう。該中敷システムのコンポーネントは、他の活動に適応させるため、あるいは他のタイプの足の動きを制御するために改変し得ることは理解されるであろう。従って、本明細書の記載は、中敷コンポーネントの特定の厚さ、素材および特性の説明を含め、例示目的のみ並びに非制限的に提供されているものであり、本発明は添付の特許請求の範囲によってのみ限定されるものである。

Claims (57)

1. 靴内部に使用され、ユーザーの足に接触する上側と、挿入後、靴の内部に接触する底側と、使用中ユーザーの足の外部側に隣接する外側と、ユーザーの足の内部側すなわちアーチに隣接する内側とを有する輪郭形状を有する靴中敷であって、
   前記ユーザーの足を受け入れサポートする輪郭形状を有するベース層であって、踵端と、趾端と、上面と、底面と、外側と、内側とを有し、前記外側および内側は、略前記踵端から前記趾端まで延び、
   （ａ）前記中敷の底面の前足パッド窪み領域であって、前記ベース層の中足から趾領域まで延び、前足パッドの挿入をサポートする前足パッド窪み領域と、
   （ｂ）前記中敷の底面の中足／踵安定クッション窪み領域であって、前記中敷の中足から踵領域まで延び、安定クッションの挿入をサポートする中足／踵安定クッション窪み領域と、
   （ｃ）前記ベース層の上面に位置し、前記中敷の中足骨中足領域で隆起している中足骨ドームと、
   （ｄ）前記ベース層の底面にあり、前記前足パッド窪み領域と前記中足／踵安定クッション窪み領域との間に位置している分離壁と
   を有するベース層と、
   前記安定クッション窪み領域にあり前記ベース層の底面に位置する安定クッションであって、
   （ａ）内側アーチ中足領域にある、前記中敷の底面の隆起内側アーチサポートと、
   （ｂ）外側中足領域にある、前記中敷の底面の隆起外側アーチサポートと、
   （ｃ）前記中敷の底面にあって縦壁によって前記中敷の踵端を取り囲んでいるヒールカップと、
   （ｄ）前記中敷の底面から隆起している中足骨アーチドームと、
   （ｅ）前記サポートクッションの底面にある１つ以上の長径方向の隆起と、
   （ｆ）前記ベース層の底面の前記踵領域にある踵パッド開口部と
   を有し、前記隆起アーチサポートは、内側アーチ領域において前記中敷の底面に第一セットの曲線状窪みを有し、並びに一般的に前記中敷の長径軸から第一傾斜角で趾から踵の長径方向に縦に延びている安定クッションと、
   前記前足窪み領域にある、前記中敷の底面に位置している前足パッドと、
   前記安定クッションの踵パッド開口部に位置した踵パッドであって、前記安定クッションを通過して延び、前記ベース層の底面に固定される踵パッドと、
   前記中敷の踵端から趾端へ前記ベース層の上面全体に延びている表面シートと
   を有するものである
   靴中敷。
2. 請求項１記載の靴中敷において、前記ベース層はジェル素材で形成されているものである靴中敷。
3. 請求項１記載の靴中敷において、前記ベース層に固定され、前記中敷全体に踵から趾まで少なくとも部分的に延びている強化層を更に有するものである靴中敷。
4. 請求項１記載の靴中敷において、前記ベース層は、硬度１０〜３０Ａｓｋｅｒ＋／−３を有するポリウレタンポリエステルグリコール製である靴中敷。
5. 請求項１記載の靴中敷において、前記前足パッドはクリアＴＰＲジェル（熱可塑性ゴム）製である靴中敷。
6. 請求項５記載の靴中敷において、前記ＴＰＲジェルは１０〜２０Ａｓｋｅｒ＋／−３の硬度を有するものである靴中敷。
7. 請求項１記載の靴中敷において、前記前足パッドは約１．０ｍｍ〜１．５０ｍｍの幅間隔の溝パターンを有するものである靴中敷。
8. 請求項１記載の靴中敷において、前記踵パッドはプリブローしたＥＶＡ（エチレン酢酸ビニル）材料製である靴中敷。
9. 請求項８記載の靴中敷において、前記踵パッドは１０〜３５Ａｓｋｅｒ＋／−３の硬度を有するものである靴中敷。
10. 請求項１記載の靴中敷において、前記踵パッドは約１．０ｍｍ〜１．５０ｍｍの幅間隔を持つ溝パターンを有するものである靴中敷。
11. 請求項１記載の靴中敷において、前記踵パッド開口部は踵開口部溝によって囲まれているものである靴中敷。
12. 請求項１記載の靴中敷において、前記ベース層は耐久性のナイロンファブリック製である靴中敷。
13. 請求項１記載の靴中敷において、前記第一曲線状窪みは約０．５０ｍｍ〜１．５ｍｍの溝深さを有するものである靴中敷。
14. 請求項１記載の靴中敷において、前記表面シートは６５％ナイロン／３５％ポリエステル製のものである靴中敷。
15. 請求項１記載の靴中敷において、前記中敷の上側にある前記中足骨ドームは、前記中敷の底面にある上向きに湾曲した前記中足骨アーチドームに一致するものである靴中敷。
16. 請求項１記載の靴中敷において、前記分離壁は前記ベース層の底面に位置しており、高さは約１ｍｍである靴中敷。
17. 請求項１記載の靴中敷において、前記前足パッドおよび踵パッドはゴム製または合成ゴム製である靴中敷。
18. 請求項１記載の靴中敷において、前記前足パッドおよび踵パッドはネオプレン合成ゴム製である靴中敷。
19. 靴内部に使用され、ユーザーの足に接触する上側と、挿入後、靴の内部に接触する底側と、使用中ユーザーの足の外部側に隣接する外側と、ユーザーの足の内部側すなわちアーチに隣接する内側とを有する輪郭形状の靴中敷であって、
    前記ユーザーの足を受け入れサポートする輪郭形状を有するベース層であって、踵端と、趾端と、上面と、底面と、外側と、内側とを有し、前記外側および内側は、略前記踵端から前記趾端まで延び、
    （ａ）前記中敷の底面の前足パッド領域であって、前記ベース層の中足から趾領域まで延び、前足パッドの挿入をサポートする前足パッド領域と、
    （ｂ）前記中敷の底面の中足／踵安定クッション領域であって、前記中敷の中足から踵領域まで延び、安定クッションの挿入をサポートする中足／踵安定クッション領域と、
    を有するベース層と、
    前記安定クッション領域にあり前記ベース層の底面に位置する安定クッションであって、
    （ａ）内側アーチ中足領域にある、前記中敷の底面の隆起内側アーチサポートと、
    （ｂ）外側アーチ中足領域にある、前記中敷の底面の隆起外側アーチサポートと、
    （ｃ）前記中敷の底面にあって縦壁によって前記中敷の踵端を取り囲んでいるヒールカップと、
    （ｄ）前記中敷の底面から隆起している中足骨アーチドームと、
    （ｅ）前記サポートクッションの底面にある１つ以上の長径方向の隆起と、
    （ｆ）前記ベース層の底面の前記踵領域にある踵パッド開口部と
    を有し、前記隆起アーチサポートは、内側アーチ領域において前記中敷の底面に第一セットの曲線状窪みを有し、並びに一般的に前記中敷の長径軸から第一傾斜角で趾から踵の長径方向に縦に延びている安定クッションと、
    前記前足領域にある、前記中敷の底面に位置している前足パッドと、
    前記安定クッションの踵パッド開口部に位置した踵パッドであって、前記安定クッションを通過して延び、前記ベース層の底面に固定される踵パッドと、
    前記中敷の踵端から趾端へ前記ベース層の上面全体に延びている表面シートと
    を有するものである
    靴中敷。
20. 請求項１９記載の靴中敷において、前記ベース層は、前記ベース層の底面にあり前記前足パッド窪み領域と前記中足／踵安定クッション窪み領域との間に位置している分離壁を有するものである靴中敷。
21. 請求項１９記載の靴中敷において、前記ベース層に固定され、前記中敷全体に踵から趾まで少なくとも部分的に延びている強化層を更に有するものである靴中敷。
22. 請求項１９記載の靴中敷において、前記ベース層の底面に位置している前記分離壁は高さが約１ｍｍである靴中敷。
23. 請求項１９記載の靴中敷において、前記ベース層は、前記ベース層の上面にあり前記中敷の中足骨中足領域上で隆起している中足骨ドームを有するものである靴中敷。
24. 請求項１９記載の靴中敷において、前記ベース層は耐久性のナイロンファブリック製である靴中敷。
25. 請求項１９記載の靴中敷において、前記ベース層はジェル素材で形成されているものである靴中敷。
26. 請求項１９記載の靴中敷において、前記ベース層は、硬度３０Ａｓｋｅｒ＋／−３を有するポリウレタンポリエステルグリコール製である靴中敷。
27. 請求項１９記載の靴中敷において、前記前足パッドはクリアＴＰＲジェル（熱可塑性ゴム）製である靴中敷。
28. 請求項２７記載の靴中敷において、前記ＴＰＲジェルは１０〜２０Ａｓｋｅｒ＋／−３の硬度を有するものである靴中敷。
29. 請求項１９記載の靴中敷において、前記前足パッドは約１．０ｍｍ〜１．５０ｍｍの幅間隔の溝パターンを有するものである靴中敷。
30. 請求項１９記載の靴中敷において、前記踵パッドはプリブローしたＥＶＡ（エチレン酢酸ビニル）材料製である靴中敷。
31. 請求項３０記載の靴中敷において、前記踵パッドは１０〜３５Ａｓｋｅｒ＋／−３の硬度を有するものである靴中敷。
32. 請求項１９記載の靴中敷において、前記踵パッドは約１．０ｍｍ〜１．５０ｍｍの幅間隔の溝パターンを有するものである靴中敷。
33. 請求項１９記載の靴中敷において、前記踵パッド開口部は踵パッド開口部溝によって囲まれているものである靴中敷。
34. 請求項１９記載の靴中敷において、前記第一曲線状窪みは約０．５０ｍｍ〜１．５ｍｍの溝深さを有するものである靴中敷。
35. 請求項１９記載の靴中敷において、前記表面シートは、６５％ナイロン／３５％ポリエステル製のものである靴中敷。
36. 請求項１９記載の靴中敷において、前記中敷の上側にある前記中足骨ドームは、前記中敷の底面にある上向きに湾曲した前記中足骨アーチドームに一致するものである靴中敷。
37. 請求項１９記載の靴中敷において、前記前足パッドおよびサポートクッションはゴム製または合成ゴム製である靴中敷。
38. 請求項１９記載の靴中敷において、前記前足パッドおよびサポートクッションはポリマーであるネオプレン合成ゴム製である靴中敷。
39. 靴内部に使用され、ユーザーの足に接触する上側と、挿入後、靴の内部に接触する底側と、使用中ユーザーの足の外部側に隣接する外側と、ユーザーの足の内部側すなわちアーチに隣接する内側とを有する輪郭形状の靴中敷を作製する方法であって、前記中敷は、
    前記ユーザーの足を受け入れサポートする輪郭形状を有するベース層を提供する工程であって、前記ベース層は、踵端と、趾端と、上面と、底面と、外側と、内側とを有し、前記外側および内側は、略前記踵端から前記趾端まで延びており、前記ベース層は、
    （ａ）前記中敷の底面の前足パッド窪み領域であって、前記ベース層の中足から趾領域まで延び、前足パッドの挿入をサポートする前足パッド窪み領域と、
    （ｂ）前記中敷の底面の中足／踵安定クッション窪み領域であって、前記中敷の中足から踵領域まで延び、安定クッションの挿入をサポートする中足／踵安定クッション窪み領域と、
    （ｃ）前記ベース層の上面に位置し、前記中敷の中足骨中足領域で隆起している中足骨ドームと、
    （ｄ）前記ベース層の底面にあり、前記前足パッド窪み領域と前記中足／踵安定クッション窪み領域との間に位置している分離壁と
    を有する、ベース層を提供する工程と、
    前記ベース層の底面において前記安定クッション窪み領域に安定クッションを位置付けする工程であって、前記安定クッションは、
    （ａ）内側アーチ中足領域にある、前記中敷の底面の隆起内側アーチサポートと、
    （ｂ）外側アーチ中足領域にある、前記中敷の底面の隆起外側アーチサポートと、
    （ｃ）前記中敷の底面にあって縦壁によって前記中敷の踵端を取り囲んでいるヒールカップと、
    （ｄ）前記中敷の底面から隆起している中足骨アーチドームと、
    （ｅ）前記サポートクッションの底面にある１つ以上の長径方向の隆起と、
    （ｆ）前記ベース層の底面の前記踵領域にある踵パッド開口部と
    を有し、前記隆起内側アーチサポートは、内側アーチ領域において前記中敷の底面に第一セットの曲線状窪みを有し、並びに一般的に前記中敷の長径軸から第一傾斜角で趾から踵への長径方向に縦に延びている、安定クッションを位置付けする工程と、
    前記前足窪み領域において前記中敷の底面に前足パッドを位置付けする工程と、
    前記安定クッションの踵パッド開口部に踵パッドを位置付け、前記安定クッションを通して前記踵パッドを前進させ、前記ベース層の底面にそれを固定する工程と、
    前記ベース層の上面全体に延びている表面シートを前記中敷の踵端から趾端まで配置する工程とを有するものである
    方法。
40. 請求項３９記載の靴中敷作製方法において、前記ベース層はジェル素材で形成されているものである方法。
41. 請求項３９記載の靴中敷作製方法において、強化層を前記ベース層に位置付け、前記中敷全体に踵から趾まで少なくとも部分的にそれを延伸させる工程を更に有するものである方法。
42. 請求項３９記載の靴中敷作製方法において、前記ベース層は、硬度１０〜３０Ａｓｋｅｒ＋／−３を有するポリウレタンポリエステルグリコール製である方法。
43. 請求項３９記載の靴中敷作製方法において、前記前足パッドはクリアＴＰＲジェル（熱可塑性ゴム）製である方法。
44. 請求項４３記載の靴中敷作製方法において、前記ＴＰＲジェルは１０〜２０Ａｓｋｅｒ＋／−３の硬度を有するものである方法。
45. 請求項３９記載の靴中敷作製方法において、前記前足パッドは約１．０ｍｍ〜１．５０ｍｍの幅間隔の溝パターンを有するものである方法。
46. 請求項３９記載の靴中敷作製方法において、前記踵パッドはプリブローしたＥＶＡ（エチレン酢酸ビニル）材料製である方法。
47. 請求項４６記載の靴中敷作製方法において、前記踵パッドは１０〜３５Ａｓｋｅｒ＋／−３の硬度を有するものである方法。
48. 請求項３９記載の靴中敷作製方法において、前記踵パッドは約１．０ｍｍ〜１．５０ｍｍの幅間隔の溝パターンを有するものである方法。
49. 請求項３９記載の靴中敷作製方法において、前記踵パッド開口部は踵パッド開口部溝で囲まれているものである方法。
50. 請求項３９記載の靴中敷作製方法において、前記ベース層は耐久性のナイロンファブリック製である方法。
51. 請求項３９記載の靴中敷作製方法において、前記第一曲線状窪みは約０．５０ｍｍ〜１．５ｍｍの溝深さを有するものである方法。
52. 請求項３９記載の靴中敷作製方法において、前記表面シートは６５％ナイロン／３５％ポリエステル製のものである方法。
53. 請求項３９記載の靴中敷作製方法において、前記中敷の上側にある前記中足骨ドームは、前記中敷の底面にある上向きに湾曲した前記中足骨アーチドームに一致するものである方法。
54. 請求項３９記載の靴中敷作製方法において、前記分離壁は前記ベース層の底面に位置しており、高さは約１ｍｍである方法。
55. 請求項３９記載の靴中敷作製方法において、前記前足パッドおよびサポートクッションはゴム製または合成ゴム製である方法。
56. 請求項３９記載の靴中敷作製方法において、前記前足パッドおよびサポートクッションはネオプレン合成ゴム製である方法。
57. 請求項３９記載の靴中敷作製方法において、前記位置付ける工程は、前記素材を適所に鋳型成形することにより形成するものである方法。

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