JP2018515200A - 輪郭形状のサポート靴中敷 - Google Patents

Abstract

【課題】【解決手段】 表面シートとベース層とを有する中敷が開示される。該中敷は３つの部分からなり、ベース層と、前足パッドと、中足／踵サポートクッションとがそれに含まれる。中足／踵面は、隆起内側アーチと、長径曲線窪みと、中足骨中足涙形隆起領域を有する平坦な中足領域と、ヒールカップによって外側後部をカップ状に囲む、外周を取り囲む踵パッドとを有する。踵ポッド開口部は中敷本体のベース層の全厚さを貫通しており、踵パッドはベース層の底面に固着されている。更に、踵ポッドおよび中足骨中足領域の直ぐ上にそれぞれ位置するスーパーソフトな踵ドームおよび中足骨隆起ドームが、中敷の上面（足接触面）に置かれている。【選択図】 図１Ｂ

Description

関連出願の相互参照

本出願は、２０１５年５月２８日出願の米国仮特許出願第６２／１６７，７７１号、２０１５年６月１９日出願の米国仮特許出願第６２／１８２，０６０号および２０１５年９月２９日出願の米国仮特許出願第６２／２３４，２１２号の恩恵を主張する。

連邦政府支援の研究または開発に関する声明
適用外
本発明は一般的に、改善された靴に関し、特に改善されたクッション性およびサポートを着用者の足に提供する靴中敷に関する。

靴中敷（ｉｎｓｏｌｅ）は使用者の靴の中に挿入されて、着用者の快適さまたは足のサポートに関して１若しくはそれ以上の効果を発揮する。靴中敷は通常対で販売され、各対の１つは右足の靴に用いるようになっており、もう一方のものは使用者の左足の靴に用いられるようになっている。適切な構造を靴中敷に提供することによって、使用者の目的に適うようにすることは有益である。

人間の足はとても複雑な生物学的メカニズムを有する。人が歩くとき踵への衝撃によって足にかかる負荷は通常その人の体重の約１．５倍である。走ったりバックパック等の追加の重量を運んだりしている場合、足にかかる負荷は体重の３倍を超える。足の多くの骨、筋肉、靭帯および腱は、衝撃力を吸収／消滅させたり、体重および他の重量を運んだり、推進力を提供したりする。適切に設計された靴靴中敷は、斯かる機能を実行する際に足を補助し、怪我から足を保護できる。

靴中敷は、個人の特定のニーズに応えるため、特別誂えであってもよい。靴中敷はエンドユーザーの足の型に基づいて作製してもよいし、エンドユーザーの足の輪郭を型どって熱可塑性材料で作製してもよい。特別誂えの靴中敷は、量が少なく作製する時間や適応させる時間が長くかかるので、他の特別誂えの品物同様、高価になる傾向にある。従って、一般大衆用に斯かる特別誂えの靴中敷を作るのは実用的ではない。

一般大衆への提供が実用化されるためには、靴中敷は、各個人への調整や試着を要求することなくユーザーに利益を提供できるものでなければならない。店頭で一般的に入手可能な最初のタイプの靴中敷は、衝撃吸収を最大化するため、クッションを強調するものである。通常の個人用としては、クッション性靴中敷は、軽度ないし中度の活動、例えば歩いたり走ったりしているとき適切に機能する。すなわち、クッション性靴中敷は、斯かる活動に対して十分なクッションおよびサポートを提供する。しかし、もっと激しい活動あるいは技術的に困難な活動、例えば重いバックパックを運んだり険しい地形を移動したりする活動を行う場合は、通常のクッション用靴中敷は適切ではない。斯かる条件下では、クッション用靴中敷は十分なサポートやコントロールを提供することはなく、ひどく圧縮されることにより、使用中に底が抜ける傾向にある。

店頭で入手可能な別のタイプの靴中敷はコントロールを強調する。通常、斯かる靴中敷は、足の動きを制限することによって足の屈曲や捩じれをコントロールするため、比較的硬く曲がりにくいように作製される。剛直な構造は動きをコントロールするのには優れているが、融通性に乏しい。従って、足の動きが剛直構造により課せられた限界に達すると、足にかかる負荷が急激に変化し、足の組織にかかる負荷が増大する。腱や靭帯などの生物学的組織は負荷のかかる速度に敏感なので、負荷の急激な変化は足、踵あるいは脚に怪我または損傷を引き起こす。

上述の課題を考慮すると、クッションとコントローの両方を提供する、店頭で入手可能な靴中敷を提供するのが望ましい。クッションとコントローの両方を提供し、更に一般大衆がクロストレーニングやトライアスロン関連の活動中に実用的に使用できる靴中敷を提供することも望ましい。

本出願者は、サポートクッションやその上に複数のポッドを有する靴中敷に関して特許を取得している。斯かる特許には米国特許番号第７，４８４，３１９号、第７，６６５，１６９号、第７，９０８，７６８号、及び第８，２５０，７８４号が含まれる。しかし、斯かる従来技術の特許は、向上したクッション性および安定性、靴使用中の靴中敷の動きの可能性、あるいは走行や歩行使用に適する向上したクッション特性の確立などの課題には応えていない。

製造が容易で、以下のような素材で作製される中敷が必要とされている。（１）踵および足の安定性を向上させること、（２）プッシュオフや着地中に、踵および前足にクッションを提供すること、（３）あらゆるタイプの靴の内側形状に合うように、特別誂えで輪郭の成形ができること、（４）極めて軽量であること、（５）向上したクッション能力を提供すること、および（６）靴内に置いた際に、動きまたは滑動が実質的にゼロであること。

改善されたクッション、サポートおよびコントロールを提供し、更に一般大衆の使用の面で実用的である中敷を提供するのが、本発明の目的である。上述の目的および特長並びに他の目的および特長は、改善された動作制御、サポートおよびクッションを提供する中敷によって提供される。中敷は、足のクッション、サポートおよび動作制御の望ましい組み合わせを協調的に達成する相互関連コンポーネントシステムを含む。

本発明の原理によれば、靴中敷１００は、以下を含む３つの部分で形成された底面を有する。（１）踵から趾まで延びるベース層、（２）中敷の前足ベース領域の前足／趾窪みに位置する前足パッド、および（３）中足／踵窪みに位置する軟質のポリウレタン製の中足／踵サポートクッション。前足パッドおよび中足／踵サポートクッションは、ベース層の底面に互いに隣接して固定される。１つの好ましい実施形態では、ベース底面は、クッション性パッドを収納する寸法の窪みを有している。代替実施形態では、ベース底面はクッションを有しており、パッドはベース底面に鋳型成形される。前足パッドとベース底面が異なる材料製である場合、前足パッドとベース材料との接着を増大させるため、前足パッドとベース底面の材料との間の前足パッド窪みに、薄いナイロンファブリックの層を置いてもよい。

前足／趾層と中足／踵サポートクッションとの間のベース層に配置され、中敷の中足骨領域と前足領域の間を中敷の幅に沿って横方向に位置する隆起分離壁が存在する。中敷は、ベース層の上面に踵から趾まで延びた表面シート層を有する。中敷の上面には踵ドームがある。中敷の上面には隆起した中足骨ドームもあり、それぞれ、中敷の高衝撃点またはその近くでクッション特性を改善する。前足パッドは、前足クッション特性を改善し、ユーザーの靴の内側および内部底面に沿って牽引摩擦および粘着力を改善するため、その底面にダイヤモンドキューブ形の溝パターンを有する。代替実施形態では、前足パッドは蜂の巣形状のパターンを有している。更に別の実施形態では、前足は特定のテクスチャを有するパターン化されていない表面を有してもよい。

中足／踵クッションは、内側アーチ領域に隆起したアーチ、および中敷の長径軸（中敷の踵から趾方向へ延びた軸）に対する主要角に沿って位置する長径曲線窪みを有している。中足／踵クッションは、中足領域に平らな中足領域を有し、サポートクッションの底面の中足骨涙形開口部には、中足涙形隆起領域も有している。中足／踵クッションの中足領域にある平坦領域は、内側長径隆起によって内側に境を接し、外側長径隆起によって外側に境を接し、踵リッジによって踵ポッド開口部の外側の周りに境を接している。中足／踵クッションは、ユーザーの踵の外側後部をサポートし、隆起したアーチ領域まで延びてその部分を取り囲んでいるヒールカップも有している。

踵ポッド開口部は、踵パッドをベース層の底面に位置付けるため、中足／踵サポートクッションの全厚さに亘って延びている。踵ポッド開口部は、該踵ポッド開口部を取り囲む開口部境界溝によって囲まれている。踵パッドは、中敷の底面に位置し、ＥＶＡ製または他の適切な材料製であり、踵ポッド開口部の全深さに亘って延び、ベース層の底面に付着されている。踵パッドはダイヤモンドキューブ形の溝パターンを有しており、（靴に接触する）底面の踵ポッドの上部に位置した（足に接触する）中敷上面には、スーパーソフトな踵ドームが存在する。

靴中敷は以下のような特徴を有している。（１）低密度ポリウレタンメモリフォーム、エチレングリコールポリウレタン、エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、プリブローしたＥＶＡ、ポリウレタン（ＰＵ）、熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）等の軽量な材料または他の適切な材料で鋳型成形されているベースであって（鋳型成形されたベース材料の硬さは１０Ａｓｋｅｒ＋／−３未満から３０Ａｓｋｅｒ＋／−３超の範囲であってよい）、中敷の長さおよび幅に沿って延び、内側アーチ領域で上向きに屈曲してアーチサポート領域を形成し、踵領域の周囲に屈曲して足接触面にヒールカップを形成し、ベース素材と底面の前足パッド窪み領域との間の分離壁と、底面の踵骨（踵）領域の下の踵パッド窪みと、内側アーチ領域に長手方向に位置し一体的に形成された長径曲線窪みを有する隆起アーチ（底面の内側アーチ領域に一体的に形成された隆起グリッピングリッジ）と、中足の中足骨領域に位置する涙形の窪み（ベース底面（靴接触面）の底から上向きに（凹状に）屈曲し、ベース層の上側（足接触側）で凸状の衝撃吸収用中足骨サポートを形成する）とを有するベース、（２）中敷の趾端から外側中足／アーチ領域まで、および前足領域の内側から外側にかけて延び、プリブローしたエチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、ポリウレタン（ＰＵ）、熱可塑性ゴムまたは他の適切な材料で鋳型成形された前足パッドであって、約１ｍｍ間隔のパターン（溝の深さは約１ｍｍ）を有する鋳型成形されたタイヤモンドキューブパターンを有し、厚さは約１．５ｍｍ＋／−０．５ｍｍであり、ベース底面の分離壁の遠位にあるＰＵ中敷ベースに鋳型成形されており、前足パッドとＰＵベース材料との間に編地層が固定されている前足パッド、（２）中敷の底面にある、プリブローしたエチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）製、あるいはＥＶＡ、ポリウレタン（ＰＵ）、熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）または他の適切な材料で鋳型成形された踵パッドであって、約３５Ａｓｋｅｒ Ｃ＋／−３の硬度、約３．０ｍｍ＋／−０．５ｍｍの厚さを有し、あるいは中敷のベース底面に一体的に成形されており、踵パッドの近位端で広く踵パッドの遠位端で狭い改変された楕円形を有し、約１ｍｍ間隔で溝の深さ約１ｍｍのパターンを有するＥＶＡで鋳型成形されベース底面の踵パッド窪みに固定されているダイヤモンドキューブパターンを有し、厚さが約１．５ｍｍ＋／−０．５ｍｍである踵パッド、（３）底（靴接触）面の踵パッドの直ぐ上にある中敷の上面（足接触面）にあり、ユーザーの踵骨の直ぐ下に踵のクッションを提供し、中敷底の衝撃吸収を提供するスーパーソフトな踵ドーム、（４）中敷の中足上面（足接触面）にあり、通常、足の中足骨の下に位置している涙形の中足骨ドーム、および（５）中敷の足接触面全体を覆う、抗菌剤で処理されたポリエステル製の表面シート。

代替実施形態では、踵パッドは蜂の巣状のパターンを有している。更に別の実施形態では、踵パッドは特定のテクスチャを有するパターン化されていない表面を有しており、踵パッドとベース底面が異なる材料製である場合、踵パッドとベース材料との接着を増大させるため、踵パッドとベース底面の材料との間の踵パッド窪みに、薄いナイロンファブリックの層を置いてもよい。

好ましい実施形態では、踵パッドは平坦な中足／踵面によって取り囲まれ、ヒールカップによって後部に沿ってカップ状になっており、前足／踵パッドとベースには（パッドをＰＵに接着するために）ナイロンファブリックが存在している。スーパーソフトな低密度ＰＵ製の隆起楕円踵パッドは足接触側の上部ドームに存在し、内側アーチは、通気孔を有するアーチに沿って長径方向に延びる隆起および窪みのある曲線を有しており、底の溝の深さは０．５０ｍｍ〜１．５ｍｍであり、トップクロスは６５％ナイロン／３５％ポリエステル製であり、上側の涙形中足骨ドームは底面から上向きに屈曲した窪みとして一体的に形成されており、ダイヤモンド形の溝パターンが前足パッドおよび踵パッドに存在し、ベースと前足パッドとの間には約１ｍｍの分離壁が追加されている。

全体的に見て、上述の特徴は本靴中敷の新規な特徴であり、特許取得可能性の面で他の靴中敷とは異なっていると思われる。本靴中敷の製造方法もユニークであり、本発明の新規な特徴である。本発明の原理によれば、クッション性のコアまたはベースは、当業界で従来から周知のものよりも優れたクッション性、安定性およびコントロールを提供する靴中敷を形成するため、比較的硬いサポートクッションといくつかの他のパッドとが組み合わされる。パッドは、ベースまたはサポートクッションとは異なる硬度を有してもよい。パッドおよびサポートクッションは回外運動の防止を助け、補足踵パッドは回内運動の防止を助ける。本発明は、上述の要素の組み合わせを取り入れることにより、長径のアーチサポート、回内運動の防止および回外運動の防止を改善するという、バランスの取れたアプローチを提供する靴中敷に関する。

コンポーネント、そのサイズおよび形状並びに位置の特徴は、改善されたクッション性およびコントロールの望ましいブレンドを提供するように選択される。特に、望ましい生体力学的機能を達成するように選択される。パッドのサイズおよび圧縮特性は、パッドのサイズ、形状および素材特性の変更を含めて、回内運動の過剰／不足、回外運動の過剰／不足、並びに足の運動に関連する他の問題に対処するように調整してもよい。パッドおよびサポートクッションの硬度は、パッドの大きさ、形状および素材特性を変えることにより、回内運動の過剰／不足、回外運動の過剰／不足および足の動きに関連する他の問題に対処するように調整してもよい。本発明は以下の目標を達成する。（１）足首および足の安定性を改善すること、（２）プッシュオフおよび着地中に踵および前足にクッションを提供すること、（３）過剰な回内運動／回外運動条件の防止を助けること、および（４）踵領域、中足領域、アーチ領域および前足領域に改善されたクッション特性を提供すること。本発明の好ましい実施形態において、靴中敷のコンポーネントは、特定のタイプ又はカテゴリーの活動用に設計された靴中敷を作製するため、永久的に相互に固定されている。広範囲な活動に適合させるため、数多くの異なる靴中敷設計が可能である。

本発明の上述の目的および特長並びに他の目的および特長は、以下の発明を実施するための形態を添付の図面と共に考慮することにより理解されるであろう。その場合、全図面にわたり、同一の参照番号は同一部分を言及するものとする。
図１Ａは、本発明の原理に従う中敷の実施形態の底面斜視図である。 図１Ｂは、本発明の原理に従う中敷の実施形態の分解斜視図である。 図２は、中敷のベース底面を示す底平面図である。 図３は、中敷の平面（背面）図である。 図４は、中敷の内側（内部アーチ領域）の図である。 図５は、中敷の外側図である。 図６は、中敷の前部（近位）図である。 図７は、中敷の後部（近位）図である。

本発明の原理によれば、本発明の靴中敷は、アーチ領域、中足骨領域、前足領域および踵領域にクッション要素およびサポート要素を有するベース底面（靴接触面）と、踵領域および中足骨領域にクッション要素およびサポート要素を有する上面（足接触面）とを有する。靴中敷はユーザーの靴底にしっかりと適合し、ユーザーの足にサポートとクッションを提供する。

図１Ａ、１Ｂおよび２を参照すると、斯かる図面は本発明の中敷１００の底面（靴側）の斜視図および平面図を示す。中敷１００は踵端（近位）から趾端（遠位）に延び、中敷のアーチ側に沿って上記趾端を上記踵端に接続する足のアーチ側の内側境界または内側と、中敷の他側で上記趾端を上記踵端に接続する他側（内側の反対側）の外側境界または外側とを有する。

中敷１００の表面は一般的に足形をしており、中敷の趾端から踵まで長径方向に延び、更に内側から外側まで延びている。１つの好ましい実施形態では、ベース層１０２はクッション性パッドを収納する寸法の窪みを有している。代替実施形態では、ベース底面は、該ベース底面に鋳型成形されたクッション性パッドを有している。

本発明は、ベース層１０２と、サポートクッション１０５と、パッド１０７とを有しており、それらは、低密度ポリウレタンメモリフォーム、エチレングリコールポリウレタン、エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、プリブローしたＥＶＡ、ポリウレタン（ＰＵ）、熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）等の軽量な材料または他の適切な材料で鋳型成形されていてもよい。鋳型成形されたベース材料の硬さは１０Ａｓｋｅｒ＋／−３未満から３０Ａｓｋｅｒ＋／−３超の範囲であってよい。中敷１００は、以下の機能性領域、すなわち前足クッション領域、内側アーチサポート領域、中足骨サポート領域および踵クッション領域にサポート特性およびクッション特性を有する。好ましい実施形態では、ベース層１０２は、前足パッド１０７を収納する寸法の窪みを前足領域１０８に有し、および／または踵パッド１１８を収納する寸法の窪みを踵領域１０４に有する。代替実施形態では、前足パッド１０７および踵パッド１１８はベース材料に鋳型成形されている。

ベース層１０２は、中敷の長さおよび幅に沿って延び、内側アーチ領域で上向きに屈曲してアーチサポート１１９を形成し、踵領域の周囲に屈曲して足接触面にヒールカップ１０４を形成し、ベース素材と底面の前足パッド窪み領域との間の分離壁１５１と、底面の踵骨（踵）領域の下の踵パッド窪み１０２Ｂと、内側アーチ領域に長手方向に位置し一体的に形成された長径曲線窪み１３２を有する隆起アーチ１１９（長径曲線窪み１３２は、底面の内側アーチ領域に隆起グリッピングリッジと一体的に形成されている）と、中敷１００の底面の涙形中足骨窪み１３４（ベース底面（靴接触面）の底から上向きに（凹状に）屈曲し、ベース層１０２の上側（足接触側）で凸状の衝撃吸収用中足骨サポートを形成する）とを有する。中敷は更に以下も有する。（１）中敷１００の趾端から中足領域まで、および前足領域の内側から外側にかけて延びている前足パッド１０７であって、約１ｍｍ間隔のパターン（深さは約１．５ｍｍ）を有する鋳型成形されたタイヤモンドキューブパターン１１７を有し、ベース底面の分離壁１５１の遠位にあるＰＵ中敷ベースに鋳型成形されており、前足パッド１０７とベース層１０２材料との間に編地層が固定されている前足パッド、（２）中敷の底面にある、プリブローしたＥＶＡ製、あるいはポリウレタン（ＰＵ）、熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）または他の適切な材料製である踵パッドで１１８であって、約１０〜３５Ａｓｋｅｒ Ｃ＋／−３の硬度、並びに踵パッドの近位端で広く踵パッドの遠位端で狭い改変された楕円形を有し、約１ｍｍ間隔で深さ約１．５ｍｍのパターンを有するＥＶＡ内で鋳型成形されベース底面の踵パッド窪みに固定されているダイヤモンドキューブパターンを有する踵パッド、（３）底（靴接触）面の踵パッド１１８の直ぐ上にある中敷１００の上面（足接触面）にあり、ユーザーの踵骨の直ぐ下に踵のクッションを提供し、中敷底の衝撃吸収を提供する（図３および図６に示されている）軟質の踵ドーム１１８Ａ、（４）上面（足接触面）にあり、足の中足骨領域の直接上にクッションを提供する（図３、図５および図６に示されている）軟質の中足骨ドーム１３４、および（５）中敷１００の足接触面全体を覆う、抗菌剤で処理されたポリエステル製の表面シート１２８。

本明細書で特定されている、ベース層１０２と、サポートクッション１０５と、踵パッド１１８との組み合わせは、ある「角度」の内側長径アーチサポートを提供し、それが改善された回内運動「制御」角をいくらか提供する。研究結果に基づけば、内側長径アーチサポートの角度は約１〜２度である。回内運動「制御」とは、後足の関節の周りに作用する回外運動モーメントの増大と、回内運動モーメントの大きさの減少を意味する。本発明は、長径のアーチサポート、回内運動の防止および回外運動の防止を改善するという、バランスの取れたアプローチを提供する中敷１００に関する。
中敷１００は、中足骨領域および中敷１００の前足パッド１０７上に位置する趾骨の近くに相互関連した前足領域１０８、内側に沿った隆起アーチサポート１１９、ヒールカップ１０４のすぐ前に位置する踵領域、および踵領域１０４と前足領域１０８との間の中足領域１０６も有している。ユーザーの右の靴と左の靴は、右の靴と左の靴に挿入されるようにそれぞれ適合された中敷同様、互いに鏡像関係にある。図面には左の中敷だけが示してある。右中敷は左中敷の鏡像物であることは当業者には理解されるであろう。

１つの好ましい実施形態では、ベース層１０２はクッション性パッドを収納する寸法を有する窪み１０２Ａ、１０２Ｂを有する。代替実施形態では、ベース層１０２は、低密度ポリウレタンメモリフォーム、エチレングリコールポリウレタン、エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、プリブローしたＥＶＡ、ポリウレタン（ＰＵ）、熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）等の軽量な材料または他の適切な材料で鋳型成形されていてもよい。鋳型成形されたベース層１０２材料の硬さは１０Ａｓｋｅｒ＋／−３未満から３０Ａｓｋｅｒ＋／−３超の範囲であってよい。

本発明は、ユーザーの靴の内側に適合し靴の内部底面上に置かれる靴中敷に関するものであり、ユーザーの足は靴中敷の上に置かれる。図１Ａ、１Ｂおよび２に示される靴中敷１００は、底（靴側）および上部（足側）を有する。靴中敷１００はユーザーの足を受け入れサポートする輪郭形状を有したベース層１０２を含んでいる。靴中敷１００は、靴の内側に使用されるものであり、その底側は挿入されたのち靴の内部に接触する。多くの場合、該靴中敷は、以前靴に使用されていた靴中敷に替わって使用されるようになるであろう。

ベース層１０２は、踵端、趾端、外側および内側を有しており、上記外側および内側は略上記踵端から上記趾端まで延びている。外側は使用中のユーザーの足の外側に隣接して位置し、内側は使用中のユーザーの足の内側すなわちアーチ（母指球を含む）に隣接して位置する。輪郭形状は、一般的に靴中敷の内側に上向きに延び一体的に形成された隆起アーチサポート１１９を含む。この上向きに延びたアーチサポート１１９により、該隆起アーチサポートは、使用中、ユーザーの足のアーチに隣接することができる。

例として、男性のサイズ９の靴中敷に関して大体の寸法が与えられる。靴中敷の長さと幅はそれぞれ２８．１ｃｍ（１１．０６３インチ）および９．７ｃｍ（３．８１３インチ）である。靴中敷の全厚さは、趾領域近くの６．８ｍｍからアーチ領域の１２ｍｍまでの範囲にある。アーチの高さは１５ｍｍである。前足クッションと踵クッションの厚さは約４．０ｍｍである。踵領域の中心近くにある靴中敷の上側から、隆起した踵領域の上部すなわち隆起踵縁まで垂直に測定したヒールカップの好ましい深さは、約１５〜１６ｍｍである。

ベース層１０２はベース上面とベース底面とを有する。ベース層１０２は、上記踵端に隣接するヒールカップ１０４と、上記内側に隣接する輪郭アーチサポート１１９と、上記アーチサポートと外側中足領域との間の中足領域１０６と、中足骨から靴中敷１００の趾端までの間にある中足領域とを画成する。靴中敷の上面には踵ドーム１１８Ａがある。靴中敷１００の上面には中足骨ドーム１３４も隆起しており、それぞれ、靴中敷の高衝撃点またはその近くでクッション特性を改善する。

ベース層１０２は、ファブリック層も含めて、発泡材料または適切なクッション性を有する他の材料で作製されるのが好ましい。ベース層１０２は、エチレンと酢酸ビニルの共重合体であるエチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）フォーム、熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）／ＥＶＡ混合体またはブローンＥＶＡ材を有しているのが好ましい。好適なブローンＥＶＡ、ＥＶＡまたはＴＰＲ／ＥＶＡ混合体は、約Ａｓｋｅｒ Ｃ４５〜５０のデュロメータ（硬度）を有する。靴中敷の構造特性を促進する材料を選択することにより靴中敷の全重量を最小化するのが望ましい。靴中敷の好ましい実施形態の全重量（男性サイズ１０／１１）は約４．０オンスである。靴中敷の代替実施形態の全重量は、男性サイズ１０／１１に関しては約５．０〜６．０、男性サイズ１２／１３に関しては約６．５〜７．５であるのが望ましい。ベース層はジェル材料から形成してもよいし、硬度３０Ａｓｋｅｒ＋／−３を有するポリウレタンポリエステルグリコール製であってもよいし、耐久性のナイロンファブリックであってもよい。

ベース層１０２は踵から趾端までベース層１０２の上面全体に延びる表面シート１２８で覆われており、靴中敷１００の上面を形成する。表面シート１２８は、靴中敷の全足接触面を覆うポリエステルまたはジェダイト製であり、抗菌剤で処理される。表面シート１２８は、通常、水疱の可能性を最小化するため、低摩擦係数を有する不織布ファブリック製である。あるいは、表面シート１２８は、天然源から得た特別な低温ヒスイを含む冷却ファブリック製であるのが好ましい。

表面シート１２８は接着剤によってベース層１０２の上面に固定され、表面シートの上部面は、使用中ユーザーの足に接触する。表面シート１２８は靴中敷の上面にあるユーザーの足に接触するように配置され、上部冷却および換気機能を実行する。表面シート１２８は、ジェダイトトップクロス材料等の適切な材料製であってもよい。表面シート１２８は、ユーザーの足の水疱を防止する低摩擦ファブリック製であるのが好ましい。更に、表面シート１２８は、細菌の繁殖を防止し、悪臭を減少させるため、抗菌処理を含んでいてもよい。適切な処理は、Ｓｉｌｐｕｒｅ（登録商標）抗菌処理（Ｔｈｏｍｓｏｎ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ａｓｓｏｃｉａｔｅｓ， Ｉｎｃ．， Ｏｎｔａｒｉｏ， ＣＡ）である。

本発明の原理によれば、図１Ａ、１Ｂおよび２に示されるように、靴靴中敷１００は、以下を含む３つの部分で形成された底面を有する。（１）踵から趾まで延びるベース層１０２、（２）靴中敷１００の前足領域１０８の前足パッド窪み領域１０２Ａに位置する前足パッド１０７、および（３）中足から踵窪み１０２Ｂに位置する軟質ポリウレタン製の中足／踵サポートクッション１０５。３つの部分からなる底面の構成により、製造が周知の方法よりも容易となり、前足パッド１０７、ベース層１０２、中足／踵サポートクッション１０５および踵パッド１１８に使用される材料を調整することにより、材料およびクッション特性およびサポートの異なる組み合わせが可能となる。

好ましい実施形態では、中敷１００は、低密度ポリウレタンメモリフォーム、エチレングリコールポリウレタン、エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、プリブローしたＥＶＡ、ポリウレタン（ＰＵ）、熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）または他の適切な材料製の中足／踵サポートクッション１０５と結合した、ポリウレタンまたはファブリックシート製であってもよいベース層１０２（上記サポートクッションは小さいダイヤモンドパターンを有する中足面１４８を有しており、鋳型成形されたベース材料の硬度は１０Ａｓｋｅｒ＋／−３未満から３０Ａｓｋｅｒ＋／−３超の範囲であってよい）と、低密度ポリウレタンメモリフォーム、エチレングリコールポリウレタン、エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、プリブローしたＥＶＡ、ポリウレタン（ＰＵ）、熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）等の軽量な材料または他の適切な材料（硬度１０〜３５Ａｓｋｅｒ＋／−３）で鋳型成形されている前足パッド１０７（ダイヤモンドキューブパターン１１７の間隔は１．０ｍｍ〜１．５０ｍｍ）と、プリブローしたＥＶＡ、ＰＵまたは他の適切な材料（硬度１０〜３５Ａｓｋｅｒ＋／−３）の踵パッド１１８（ダイヤモンドキューブパターンの間隔は１．０ｍｍ〜１．５０ｍｍ）であって、ベース層１０２上で平らな面１５２によって取り囲まれ、後部に沿ってヒールカップ１０４によってカップ状に囲まれている踵パッドと、前足／踵パッドとベースとの間に（パッドをＰＵに接着するために）置かれているナイロンファブリックと、足接触側の中敷上面にある、スーパーソフトな低密度ＰＵ製の（図３および図６に示してある）隆起楕円踵ドーム１１８Ａと、一般的に通気孔を有するアーチに沿って長径方向に延びる隆起および窪みのある曲線を有している隆起内側アーチ１１９（底の溝の深さは０．５０ｍｍ〜１．５ｍｍ）と、６５％ナイロン／３５％ポリエステル製のトップクロスと、中敷１００の上側にあり、底層１０２の上に隆起した上向屈曲窪みとして一体的に形成された（図３、図５および図６に示されている）涙形中足骨ドーム１３４と、それぞれ前足パッド１０７および踵パッド１１８の底面にあるダイヤモンドキューブパターン１１７および１２０と、中足／踵クッション１０５と前足パッド１０７との間に追加された約１ｍｍの分離壁１５１とを有している。

中足骨サポート１３４は、中敷の底面にあるサポートクッション１０５の底面と一体的に形成された中足骨サポート開口部１３４Ａに形成されており、底面（靴接触面）に配向した凹面および上面（足接触面）に配向した凸面を有している。中足骨サポート１３４は、第二中足骨および第三中足骨の辺りの領域にクッションとサポートを提供するため、中敷１００の中足領域１０６に置かれる。中足骨サポート１３４の凸型上面は圧縮可能であり、ベース底面の凹型部分への足による下向きの圧力によって圧縮され、その結果、ユーザーの足の圧力に応じたサポートの提供が可能となる。

好ましい実施形態では、中足骨サポート１３４は涙形であり、広い部分が中敷の遠位方向すなわち第二中足骨および第三中足骨の方向に向いており、狭い部分が近位方向すなわち足根骨の方向に向いている。代替実施形態では、中足骨サポート１３４は別の形状、例えばダイヤモンド形、長方形、あるいは中敷の中足領域に中足骨サポートを提供するのに適した他の形状を有してもよい。

中足骨サポート１３４は、中敷１００のベース底面を形成する材料と一体的に形成される。該材料は低密度ポリウレタンメモリフォームで鋳型成形するのが好ましいが、エチレングリコールポリウレタン、エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、プリブローしたＥＶＡ、ポリウレタン（ＰＵ）、熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）または他の適切な材料であってもよい。鋳型成形されたベース材料の硬度は、１０Ａｓｋｅｒ＋／−３未満から３０Ａｓｋｅｒ＋／−３超の範囲であってよい。

前足パッド１０７は、前足パッド窪み領域１０２Ａと本質的に同様に成形され、同位置に固定される。前足パッド１０７は、内側縁、外側縁、近位（後部）縁および遠位（前部）縁を有する。前足パッド１０７の内側縁は、上記中敷の内側境界から外側に間隔を空けて位置する線に沿って延びている。近位縁は、上記内側縁から上記後部頂点へ外側および近位方向に延び、第三中足骨頭方向に外側および遠位方向に延び、次に第三中足骨頭から第五中足骨頭の辺りに沿って外側縁まで近位方向に延びる。

前足パッド１０７は、中敷の中足骨頭領域の近位部分から遠位趾端まで、並びに中敷の内側から外側まで延びている。１つの実施形態では、前足パッド１０７は前足パッド窪み１０２Ａ内に固定される。前足パッド１０７は、約１．５ｍｍ＋／−０．５ｍｍの厚みを有している。別の実施形態では、前足パッド１０７は、中敷１００のベース層１０２の材料と一体的に形成される。前足パッド１０７は、プリブローしたエチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）で鋳型生成するのが好ましい。前足パッド１０７は、ＥＶＡ、ポリウレタン（ＰＵ）、熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）または他の適切な材料で鋳型成形してもよい。
前足パッド１０７は、前足領域に牽引摩擦、圧縮クッションおよび外側運動サポートを提供するため、前足パッド１０７表面にダイヤモンドキューブパターン１１７を有しているのが好ましい。ダイヤモンドキューブパターン１１７は、約１．０ｍｍ＋／−０．５ｍｍの深さを有し、表面パターンの間隔は約１．０ｍｍ〜約１．５ｍｍである。代替実施形態では、前足パッド１０７は蜂の巣形状のパターン１１７を有している。更に別の実施形態では、前足パッド１０７は、特定のテクスチャを有するパターン化されていない表面１１７を有している。前足パッド１０７とベース層１０２が異なる材料製である場合、前足パッド１０７とベース層１０２との接着を増大させるため、前足パッド１０７とベース層１０２の材料との間の前足パッド窪み１０２Ａに、薄いナイロンファブリックの層を置いてもよい。

前足パッド１０７は、前足領域の内側から外側にかけて、中敷の趾端から外側中足／アーチ領域まで延びており、ダイヤモンドキューブパターン１１７を有し、パターンの間隔は約１ｍｍ、深さは約１．５ｍｍである。前足パッド１０７は、低密度ポリウレタンメモリフォーム、エチレングリコールポリウレタン、エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、プリブローしたＥＶＡ、ポリウレタン（ＰＵ）、熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）等あるいは他の適切な材料（硬度１０〜３５Ａｓｋｅｒ ＋／−３）の軽量の材料で鋳型成形される（パターン間隔１．０ｍｍ〜１．５０ｍｍ）。前足パッド１０７の硬度は、パッドの大きさ、形状および素材特性を変えることにより、回内運動の過剰／不足、回外運動の過剰／不足および足の動きに関連する他の問題に対処するように調整してもよい。前足パッド１０７の構成、素材および位置は、他の要素との関連でクッション性および動作部分を提供し、足首を安定させる。前足パッドおよび踵パッドは、ゴム製、あるいはポリマーであるネオプレン合成ゴム層製を含む合成ゴム製である。

前足パッド１０７の外側縁は、上記近位縁を上記前足パッド１０７の上部縁に接続する。使用時、前足パッド窪み領域１０２Ａおよび前足パッド１０７は、ユーザーの足の第一中足骨頭あるいは内側母指球を除いて、ユーザーの足の親指の一部および母指球の下に位置する。前足パッド１０７は、垂直ジャンプから着地した際にクッションとエネルギー回復を提供する。それはユーザーの足の中足骨頭、特に第一中足骨頭と第二中足骨頭用の推進パッドおよびサポートとして機能する。前足パッド１０７は、前足クッション特性を改善し、ユーザーの靴の内側および内部底面に沿って牽引摩擦および粘着力を改善し、既知の材料と比べて耐久性およびクッション性を改善すさせるため、その底面にダイヤモンド立方体パターン１１７を有する。

サポートクッション１０５は、ポリウレタンポリエステルグリコール（硬度１０−３０Ａｓｋｅｒ＋／−３、低密度）製である。サポートクッション窪み領域１０２Ｂは、靴中敷の底面の中足領域および踵領域に位置している。中足／踵サポートクッション窪み領域１０２Ｂは、内側境界近くの内側縁からベース層１０２の外側境界近くの外側縁まで、並びに前足パッド窪み領域１０２Ａよりも僅かに近位の遠位縁からベースの踵端１０４近くの近位縁まで延びる。遠位縁の内側部分は、足趾離地中に第一中足骨の下方の動きを調節する形状になっている。遠位縁の内側部分は、中足／踵サポートクッション窪み領域１０２Ｂと本質的に同じ形状であり、ベース側表面と靴側表面とを有する。ベース側表面は、上記中足／踵サポートクッション窪み領域１０２Ｂに固定される。

中足／踵サポートクッション１０５は、内側アーチ領域にある隆起アーチ１１９と、長径軸から少なくとも２つ以上の主要角度に沿って位置付けられた曲線窪み１３２とを有しており、長径軸は中敷１００の踵から趾に延びている。長径曲線窪み１３２は中敷１００の長径軸と比べて第一角度方向に延びている。第一角度方向は、長径曲線窪み１３２の長径軸長と比較して測定される。第一角度方向は、中敷１００の踵から趾に延びている長手軸である長径軸と比べて、約５度から６５度である。隆起アーチ領域１１９における長径曲線窪み１３２は、隆起アーチサポートに追加の剛性を提供し、それにより、サポートクッション１０５において隆起アーチ１１９によるサポートが改善される。更に、斯かる形態の窪み１３２は、空気封入によって引き起こされる空隙を最小限にしながら、中足領域におけるポリウレタン材料のフローを促進する。隆起アーチ１１９の底面における曲線窪み１３２によって、該隆起アーチ１１９は靴に適合するようにつぶされるので、より適応性のある設計が提供される。

更に、中足／踵クッション１０５は、中足領域１０６における中敷１００の底面の平坦中足領域１４８と、中足／踵サポートクッション１０５の中足骨涙形開口部１３４Ａ（例えば、中足骨開口部１３４Ａ）に位置する中足骨中足涙形隆起領域１３４とを有している。中足／踵クッション１０５の中足領域１０６における中敷１００の底面の平坦中足領域１４８は、中足から踵にかけて延びる内側長径リッジ１４２によって内側と境を接し、中足から踵に掛けて延びる外側長径リッジ１４３によって外側と境界を接し、踵リッジ１５２によって踵ポッド開口部１１２の外部周囲に境を接している。これらのリッジ１４３、１４２および１５２はサポートクッション１５２のサポートおよび耐久性を改善し、使用中、ユーザーの足の回内運動および回外運動の防止を助けるので、中敷の性能が向上し改善される。中足／踵サポートクッション１０５は、ユーザーの踵の外部後側をサポートする周囲を取り囲むヒールカップ１０４も有しており、ヒールカップ１０４は隆起アーチ領域１１９まで延びており、これにより使用中にユーザーの足に提供されるサポートが改善される。

サポートクッション１０５は、踵の外側領域をカップ状に包むことによって足にサポートを提供し、その結果、中足領域から踵領域にかけて安定剛性を提供し、更にユーザーの足の内側アーチ領域に上向きのサポートを提供するため、ベース層１０２の側面および後を包み込む末端側壁を有している。中足／踵サポートクッション１０５は、約０．５ｍｍから３ｍｍの範囲の厚さを有しており壁は約３ｍｍから約０．５ｍｍへ徐々に薄くなっているのが好ましい。第一または第二セットの長径窪みは、約０．５０ｍｍ〜１．５ｍｍの溝深さを有している。

前足パッド１０７と中足／踵サポートクッション１０５との間のベース層１０２上に隆起分離壁１５１が存在する。該分離壁は、靴中敷１００の中足骨領域と前足領域との間に、靴中敷１００の幅全体に亘って横方向に位置している。分離壁は、前足パッド１０７を中足／踵サポートクッション１０５から切り離し、その結果、材料のクッション特性並びに靴中敷１００のサポートが改善される。分離壁１５１はベース層１０２の底面に位置しており、高さは約１ｍｍである。推進の開始時点あるいはステップの足趾離地の段階で、踵が地上から離れ始め、体重が母指球の方へ移動する。前足パッド１０７は、斯かる足部分の下に位置している。前足パッド１０７は、該前足パッド１０７に圧縮投入されるエネルギーが足趾離地の時点で回復し、足の推進を助けられるように、比較的弾力性のある材料で形成されるのが好ましい。

足趾離地中、第一中足骨は自然に下方に屈曲する。第一中足骨の斯かる自然な下方屈曲を妨げると、足のアーチ部分が平らになり、足が過剰に回内運動を行い、その結果、足首および膝にかかるストレスが増大する。下方屈曲を調整するため、前足パッド１０７が、後方、すなわち分離壁１５１の遠位縁の対応する凹型縁部分まで延びている。前足パッド１０７の形状により、第一中足骨はより自然に屈曲でき、その結果、足趾離地中、親指の荷重が促進される。

踵ポッド開口部１１２が、踵パッド１１８をベース層１０２の底面に位置付けるため、中足／踵サポートクッション１０５の全厚さに亘って延びている。踵パッド開口部は、周囲を取り囲む溝を有する平坦中足／踵面によって囲まれている。踵ポッド開口部１１２は、該踵ポッド開口部１１２の周囲を取り囲む踵ポッド開口部境界溝１３８によって周囲を囲まれている。斯かる溝は中足／踵サポートクッション１０５から踵パッド１１８を切り離し、それにより、すなわち踵パッド１１８を切り離しクッション効果の外側への移動を防止することにより（クッション効果による方向性衝撃力の吸収がサポート溝により改善される）、踵パッド１１８の性能が改善される。踵パッド１１８は踵ポッド開口部１１２に位置しており、中敷１００の底面に固着されている。踵パッド１１８は、踵（踵骨）領域の近位端から内側アーチサポート領域の近位部分に隣接した領域まで延びている。好ましい実施形態では、踵クッション領域は、サポートクッション１０５に形成された踵パッド開口部１１２内に固定されている踵パッド１１８を有しており、踵パッド１１８は中敷１００のベース層１０２に固定されている。

踵パッド１１８は３．０ｍｍ＋／−０．５ｍｍの厚さを有している。代替実施形態では、踵パッド１１８は中敷のベース底面の材料と一体的に形成される。踵パッド１１８は、踵骨の下に圧縮クッションおよびサポートを提供する。踵パッド１１８は、踵領域に圧縮クッションおよびサポートを提供するため、踵パッド１１８表面にダイヤモンドキューブパターン１２０を有しているのが好ましい。ダイヤモンドキューブパターン１２０は約１．５ｍｍ＋／−０．５ｍｍの深さおよび約１．０ｍｍ〜約１．５ｍｍの表面パターン間隔を有している。代替実施形態では、踵パッド１１８は蜂の巣形状のパターンを有している。更に別の実施形態では、踵パッド１１８は、特定のテクスチャを有するパターン化されていない表面を有している。

踵パッド１１８は、プリブローしたエチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）で鋳型成形されるのが好ましい。踵パッド１１８は、ＥＶＡ、ポリウレタン（ＰＵ）、熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）または他の適切な材料で鋳型成形されてもよい。踵パッド１１８とベース層１０２が異なる材料製である場合、踵パッド１１８とベース層１０２との接着を増大させるため、踵パッド１１８、特に、踵パッド１１８とベース層１０２の材料との間に、薄いナイロンファブリックの層を置いてもよい。

踵パッド１１８は、踵クッション特性を改善するため、並びにユーザーの靴内部および内部底面に沿って中敷の牽引摩擦および接着力を改善するため、タイヤモンドキューブパターン１２０を有している。踵パッド１１８はＴＰＲジェル製であってもよいし、プリブローしたＥＶＡ（エチレン酢酸ビニル）材料であってもよい。踵パッドは１０〜３５Ａｓｋｅｒ＋／−３の硬度を有している。踵パッドは約１．０ｍｍ〜１．５ｍｍの幅間隔を有するタイヤモンドキューブパターン１２０を有している。底面（靴接触面）の踵パッド１１８の上に位置する中敷の上面（足接触面）に、（図３および図５に示されるように）軟質の踵ドーム１１８Ａが位置しており、ユーザーの踵骨の直ぐ下に踵クッションを提供し、更に中敷の底に衝撃吸収も提供する。

中敷１００の製造は開放注入鋳型成形プロセスにより達成できる。このプロセスは混合ポリウレタンまたはＴＰＲを開放鋳型に注入することから成る。ポリウレタン混合物は、鋳型に注入すると拡張し空洞を埋める。硬化したら、ベース中敷は鋳型から外される。前足クッションおよび踵クッションは、それらが使用される場合、接着剤によって窪みに固定してもよいし、ポリエチレン注入操作中に適所に固定してもよい。前足クッションまたは踵クッションへの結合対象であるファブリックに結合が生じる。

あるいは、前足パッド１０７は、前足パッド窪み１０２Ａから該前足パッド窪み１０２Ａ内にあるベース底面の分離壁１５１まで、中敷のベース層１０２の底面に鋳型成形してもよい。ファブリック層を前足パッド１０７と前足パッド窪み１０２Ａのベース層１０２との間に挿入してもよい。次に、中足／踵クッション１０５を、窪み１０２Ｂからベース層１０２のベース底面上の分離壁１５１まで、中敷のベース層１０２の底面に鋳型成形してもよい。ファブリック層を中足／踵クッション１０５と窪み１０２Ｂのベース層１０２との間に挿入してもよい。更に、踵パッド１１８を、踵ポッド開口部１１２にある中敷ベース層１０２の底面に鋳型成形してもよい。ファブリック層を踵パッド１１８とサポートクッション窪み領域１０２Ｂのベース層１０２との間に挿入してもよい。前足パッド１０７、踵パッド１１８および中足／踵クッション１０５は、半永久的（または永久的）結合を達成するのに適した接着剤または最初は液体であるが後に固化する接着剤を用いて、ベース層１０２の底面に相互に隣接して固定してもよい。曲線状の窪み１３２は、製造中にサポートクッション１０５内に鋳型成形されるのが好ましい。
図３は本発明の中敷の上部（足側）を示しており、表面シート１２８は中敷１００の上側を覆い、ベース層１０２の上に置かれている。踵ドーム１１８Ａが中敷１００の上面に位置しており、中敷１００の上面には中足骨ドーム１３４が隆起しており、それぞれ、中敷の高衝撃点またはその近くでクッション特性を改善する。ベース層１０２の内側、ヒールカップ１０４およびベース層１０２の外側が図３に示してある。上側にある涙形の中足骨パッド１３４が、中敷の底面から上向きに屈曲した窪みとして一体的に形成されている。

中敷１００の足接触面において、ベース層１０２は隆起踵ドーム１１８Ａおよび中足骨ドーム１３４を有している。踵ドーム１１８Ａは踵骨の下に位置し、歩行中または立った状態においてユーザーの踵に追加のクッションを提供する。中足骨ドーム１３４は踵骨の下に位置し、歩行中または立った状態においてユーザーの踵に追加のクッションを提供する。踵ドーム１１８Ａは中敷１００の上面（足接触面）から上向きに屈曲し、ユーザーの踵の下にドーム状の接触面を形成しており、中足骨ドーム１３４は中敷１００の上面（足接触面）から上向きに屈曲し、足の中足骨領域の下にドーム状の接触面を形成している。踵ドーム１１８Ａおよび中足骨ドーム１３４はベース層１０２とは別のクッションとして鋳型成形され、踵領域１０４に位置するベース層１０２の上側に固定されているのが好ましい。踵ドーム１１８Ａは表面シート１２８で覆われており、中敷の上面（足接触面）においてユーザーの足に連続接触面を提供する。代替実施形態では、踵ドーム１１８Ａおよび中足骨ドーム１３４は、ベース層１０２の上側を構成する材料と一体的に形成されている。

踵ドーム１１８Ａおよび中足骨ドーム１３４はスーパーソフトな低密度ポリウレタンで形成されるのが好ましいが、ポリウレタンメモリフォーム、エチレングリコールポリウレタン、エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、プリブローしたＥＶＡ、ポリウレタン（ＰＵ）、熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）あるいは他の適切な材料で形成されてもよい。踵ドーム１１８Ａと中足骨ドーム１３４の材料の硬度は、１０Ａｓｋｅｒ＋／−３未満から３０Ａｓｋｅｒ＋／−３超の範囲であってよい。

中敷１００の上（足接触）面にある踵ドーム１１８Ａは、（図１Ａ、図１Ｂおよび図２に示される）ベース層１０２の底（足接触）面にある踵パッド１１８の直ぐ上に位置する。踵ドーム１１８Ａはユーザーの踵骨の直ぐ下に踵クッションを提供し、中敷１００の上面からの衝撃を中敷の底で吸収する。軟質の中足骨ドーム１３４が上（足接触）面にあり、足の中足骨領域の直ぐ上にクッションを提供する。

表面シート１２８が図３に示してある。表面シート１２８は、抗菌剤で処理された中敷１００の全足接触面を覆っている。中敷１００の上面は、踵から趾端まで上面全体に延びた表面シート１２８で覆われている。表面シート１２８は、水疱の可能性を最小化するため、低摩擦係数を有する不織布ファブリック製である。あるいは、表面シート１２８は、天然源から得た特別な低温ヒスイを含む冷却ファブリック製であるのが好ましい。表面シートは６５％ナイロン／３５％ポリエステル製であってもよい。

図４を参照すると、中敷１００の内側の図が示してあり、曲線状の窪み１３２が隆起アーチ領域１１９に示されている。前足領域１０８に位置する前足パッド１０７、ベース層１０２、サポートクッション１０５、ヒールカップ１０４および表面シート１２８も示してある。中敷１００は、表面シート１２８と、該表面シートに固定された上面および反対側の底面とを有するベース層１０２を有しているのが好ましい。ベース層１０２は、足の隆起アーチ１１９に追加のクッションおよびサポートを提供するため、中敷の内側に沿って上向に延びる隆起アーチサポート１１９も画成する。

図５を参照すると、隆起アーチ１１９と、中足骨ドーム１３４と、前足領域１０８に位置する前足パッド１０７と、ベース層１０２と、ヒールカップ１０４と、サポートクッション１０５の外側１０６と、表面シート１２８とを有する中敷１００の外側図が示してある。図５は、中敷１００が、表面シート１２８と、該表面シート１２８に固定された上面および反対側の底面とを有するベース１０２とを有しているのが好ましいことを示している。ベース層１０２は、足の隆起領域に追加のクッションおよびサポートを提供するため、中敷の内側に沿って上向に延びる隆起アーチサポート１１９も画成する。

図４および図５に示されるように、靴中敷１００は、以下を含む３つの部分で形成された底面を有する。（１）踵から趾まで延びるベース層１０２、（２）中敷１００の前足ベース領域１０８の前足パッド窪み領域１０２Ａに位置する前足パッド（図１Ｂに示される）、および（３）中足／踵窪み領域１０２Ｂに位置する中足／踵安定クッション１０５（図１Ｂに示される）。３つの部分からなる底面の構成により、製造が周知の方法よりも容易となり、前足パッド１０７、ベース層１０２、中足／踵サポートクッション１０５および踵パッド１１８に使用される材料を調整することにより、材料およびクッション特性およびサポートの異なる組み合わせが可能となる（図１Ａ、図１Ｂおよび図２に示される）。

前足パッド１０７は、前足領域の内側から外側にかけて、中敷の趾端から外側中足領域まで延びており、約１ｍｍのパターン間隔と約１．５ｍｍの深さを有するジェル中で鋳型成形されたダイヤモンドキューブパターンを有する。前足パッド１０７の硬度は、パッドの大きさ、形状および素材特性を変えることにより、回内運動の過剰／不足、回外運動の過剰／不足および足の動きに関連する他の問題に対処するように調整してもよい。前足パッド１０７の構成、素材および位置は、他の要素との関連でクッション性および動作部分を提供し、足首を安定させる。前足パッド１０７は、前足クッション特性を改善し、ユーザーの靴の内側および内部底面に沿って牽引摩擦および粘着力を改善し、既知の材料と比べて耐久性およびクッション性を改善させるため、その底面にダイヤモンドキューブパターン１１７を有する（図１Ａ、図１Ｂおよび図２に示される）。

中足／踵サポートクッション１０５は内側アーチ領域に隆起アーチ１１９を有しており、長径軸から少なくとも２つ以上の主要角度に沿って位置付けられた長径曲線窪み１３２を更に有している（長径軸は中敷１００の踵から趾に延びている）。図４に示されるように、長径曲線窪み１３２は中敷１００の長径軸と比べて第一角度方向に延びている。隆起アーチ領域１１９における長径曲線窪み１３２は、隆起アーチサポート１１９に追加の剛性を提供し、サポートクッション１０５において隆起アーチ１１９が提供するサポートが改善される。更に、斯かる形態の窪み１３２は、空気封入によって引き起こされる空隙を最小限にしながら、サポートクッション１０５形成におけるポリウレタン材料のフローを促進する。アーチ領域１１９における曲線窪み１３２によって、該アーチ領域は靴に適合するようにつぶされるので、より適応性のある設計が提供される。

前足パッド１０７と中足／踵サポートクッション１０５との間のベース層１０２上に、図４および図５に示される隆起分離壁１５１が存在する。該分離壁は、靴中敷１００の中足骨領域と前足領域との間に、靴中敷１００の幅全体に亘って横方向に位置している。分離壁１５１は、前足パッド１０７を中足／踵サポートクッション１０５から切り離し、その結果、材料のクッション特性並びに靴中敷１００のサポートが改善される。推進の開始時点あるいはステップの足趾離地の段階で、踵が地上から離れ始め、体重が母指球の方へ移動する。前足パッド１０７は、斯かる足部分の下に位置している。

表面シート１２８はベース層１０２の上面に固定され、表面シートの上部面は、使用中ユーザーの足に接触する。表面シート１２８は靴中敷の上面にあるユーザーの足に接触するように配置され、上部冷却および換気機能を実行する。表面シート１２８は、ジェダイトトップクロス材料等の適切な材料製であってもよい。表面シート１２８は、ユーザーの足の水疱を防止する低摩擦ファブリック製であるのが好ましい。更に、表面シート１２８は、細菌の繁殖を防止し、悪臭を減少させるため、抗菌処理を含んでいてもよい。

ここで図６を参照すると、前部趾端から踵端１０４の方向を見る中敷１００の前端が示してあり、図６に示されるように、踵端１０４の隆起踵領域並びに隆起アーチサポート１１９が示してある。図６は、前足領域１０８の前足パッド１０７、ベース層１０２、隆起アーチ領域１１９、および表面シート１２８を示している。図７は踵領域から趾領域の方向を見る中敷１００の踵端図を示しており、表面シート１２８がこの図に示してある。この図面から、ヒールカップ１０４、ベース層１０２の外側および内側、曲線窪み１３２の配置を有する隆起アーチ１１９、および表面シート１２８を含む中敷１００の特徴を見ることができる。

図６および図７に示されるように、靴中敷１００は、以下の内容を含む３つの部分で形成された底面を有する。（１）踵から趾まで延びるベース層１０２、（２）中敷１００の前足ベース領域１０８の前足パッド窪み領域１０２Ａ（図１Ｂに示される）に位置する前足パッド層１０７、および（３）中足／踵窪み１０２Ｂ（図１Ｂに示される）に位置する中足／踵安定クッション１０５。３つの部分からなる底面の構成により、製造が周知の方法よりも容易となり、前足パッド１０７、ベース層１０２、中足／踵サポートクッション１０５および踵パッド１１８（図１Ａ、図１Ｂおよび図２に示される）に使用される材料を調整することにより、材料およびクッション特性およびサポートの異なる組み合わせが可能となる。
好ましい実施形態では、中敷１００は、ベース層１０２と、前足パッド１０７と、平坦な中足／踵面で取り囲まれ、後部に沿ってヒールカップ１０４でカップ状に囲まれている踵パッドとを有している。中足／踵クッション１０５は、内側アーチ領域にある隆起アーチ１１９と、長径軸から少なくとも２つの主要角度に沿って配置されている長径曲線窪み１３２とを有しており、その場合、長径軸は中敷１００の踵から趾方向に延びている。図６に示され中敷１００の上側に位置する涙形中足骨ドーム１３４は、底面にある上向に屈曲した中足骨隆起領域１３４と一体的に形成されており、（図１Ａ、図１Ｂおよび図２に示される）ダイヤモンドキューブパターン１１７、１２０は前足パッド１０７の底面に位置している。（図１Ａ、図１Ｂおよび図２に示される）分離壁１５１は、クッション１０５と前足パッド１０７との間に位置しており、高さは約１ｍｍである。

前足パッド１０７は、前足領域の内側から外側にかけて、中敷の趾端から中足領域まで延びており、約１ｍｍのパターン間隔と約１．５ｍｍの深さを有するジェル中で鋳型成形されたダイヤモンドキューブパターンを有する。前足パッド１０７は、パッドの大きさ、形状および素材特性を変えることにより、回内運動の過剰／不足、回外運動の過剰／不足および足の動きに関連する他の問題に対処するように調整可能な硬度を有する。前足パッド１０７の構成、素材および位置は、他の要素との関連でクッション性および動作部分を提供し、足首を安定させる。前足パッド１０７は、前足クッション特性を改善し、ユーザーの靴の内側および内部底面に沿って牽引摩擦および粘着力を改善し、既知の材料と比べて耐久性およびクッション性を改善させるため、その底面にダイヤモンド形の溝パターン１１７（図１Ａ、図１Ｂおよび図２に示される）を有する。
中足／踵クッション１０５は、中敷１００の内側アーチ領域にある隆起アーチ１１９と、長径軸から少なくとも１つの主要傾斜角度に沿って位置付けられた長径曲線窪み１３２とを有しており、長径軸は中敷１００の踵から趾に延びている。図７に示されるように、長径曲線窪み１３２は中敷１００の長径軸と比べて第一角度方向に延びている。

表面シート１２８はベース層１０２の上面に固定され、表面シートの上部面は、使用中ユーザーの足に接触する。表面シート１２８は靴中敷の上面にあるユーザーの足に接触するように配置され、上部冷却および換気機能を実行する。表面シート１２８は、ジェダイトトップクロス材料等の適切な材料製であってもよい。表面シート１２８は、ユーザーの足の水疱を防止する低摩擦ファブリック製であるのが好ましい。更に、表面シート１２８は、細菌の繁殖を防止し、悪臭を減少させるため、抗菌処理を含んでいてもよい。

足と地面との接触は一般的に三つの相、すなわち踵接地、中足サポートおよび足趾離地に分けられる。踵接地中、該踵は大きい力で地面にインパクトを与える。踵と地面との最初のインパクトの後、足は捩じれ、すなわち回内運動をし、踵の内側を地面に接触させる。足は、回内運動の量および回内運動の発生速度に敏感である。回内運動は自然であり、歩行または走行中に足にかかるストレスや力を吸収するので、ある程度の回内運動は望ましい。しかし、回内運動の過剰な量や速度は怪我を引き起こす可能性がある。

上記コンポーネントの全てが互いに協調的に機能することにより、以下のような本発明の目標を達成する。（１）足首および足の安定性の改善、（２）プッシュオフおよび着地中に踵および前足にクッションを提供、（３）過剰な回内運動／回外運動条件の防止を助ける、および（４）踵領域、中足領域、アーチ領域および前足領域に改善されたクッション特性を提供。サポートクッション１０５は、足の回内運動の量のコントロールを助けるため、内側アーチ領域を含む足の内側部分に沿って、並びに踵領域の周りに、強固なサポートを提供する。

本発明の第一の好ましい実施形態において、ベース層１０２、特に、底面にベース層１０２が画成する窪み領域に固定される靴中敷の種々のパッドコンポーネントは、接着剤等の適切な手段を用いてベース層１０２に永久的に固着される。コンポーネントは、靴中敷鋳型成形分野で周知の技術を用いて鋳型成形プロセス中に固定してもよい。窪み領域にはベース面とパッド面を有する布、すなわち、上記ベース面に沿って上記ベース層１０２に固定し上記パッド面に沿って上記パッドに固定した布を敷いてもよい。あるいは、布はパッドに固定し、次に該複合構造体を窪み領域に固定してもよい。

改良型の靴中敷１００が開示されている。開示されている靴中敷の実施形態は、ハイキングやバックパッキング等の活動中に足へのクッションの提供や回内運動の制御に有用であることが、容易に明白となるであろう。該靴中敷システムのコンポーネントは、他の活動に適応させるため、あるいは他のタイプの足の動きを制御するために改変し得ることは理解されるであろう。従って、本明細書の記載は、靴中敷コンポーネントの特定の厚さ、素材および特性の説明を含め、例示目的のみ並びに非制限的に提供されているものであり、本発明は添付の特許請求の範囲によってのみ限定されるものである。

Claims (55)

1. 靴内部に使用され、ユーザーの足に接触する上側と、挿入後、靴の内部に接触する底側と、使用中ユーザーの足の外部側に隣接する外側と、ユーザーの足の内部側すなわちアーチに隣接する内側とを有する輪郭形状の中敷であって、
   前記ユーザーの足を受け入れサポートする輪郭形状と、踵端と、趾端と、上面と、底面と、外側と、内側とを有するベース層であって、前記外側および内側は、略前記踵端から前記趾端まで延び、
   （ａ）前記ベース層の上面に隆起し、前記中敷の踵領域上に位置する踵ドームと、
   （ｂ）前記ベース層の上面に隆起し、前記中敷の中足骨中足領域上に位置する中足骨ドームと、
   （ｃ）前記中敷の底面上にあり、前記ベース層の中足から趾領域まで延び、前足パッドの挿入をサポートする前足パッド窪み領域と、
   （ｄ）前記中敷の底面上にあり、前記中敷の中足から踵領域まで延び、安定クッションの挿入をサポートする中足／踵安定クッション窪み領域と、
   （ｅ）前記ベース層の底面上にあり、前記前足パッド窪み領域と前記中足／踵安定クッション窪み領域との間に位置する分離壁と、
   を有するベース層と、
   前記安定クッション窪み領域にある、前記ベース層の底面に位置する安定クッションであって、
   （ａ）前記内側アーチ領域にある、前記中敷の底面の隆起アーチサポートと、
   （ｂ）前記中敷の底面上にあり、前記中敷の踵端を垂直の壁で取り囲んでいるヒールカップと、
   （ｃ）前記安定クッションの中足領域の底面にあり、平坦な表面を取り囲んでいる１つ以上のリッジと、
   （ｄ）前記サポートクッションの底面上にあり、周囲のサポート溝で取り囲まれている踵パッド開口部と、
   （ｅ）前記中敷の底面から隆起している中足骨アーチドームと、
   を有し、
   前記隆起アーチサポートは、内側アーチ領域にある前記中敷の底面の第一セット曲線窪みを有し、一般的に前記中敷の長径軸から第一傾斜角で長手方向すなわち趾から踵への長径方向に延びている安定クッションと、
   前記前足窪み領域にある前記中敷の底面に位置している前足パッドと、
   前記安定クッションの踵パッド開口部に位置し、前記ベース層の底面に固定されるために前記安定クッションを通して延びている踵パッドと、
   前記中敷の踵端から趾端へ前記ベース層の上面全体に延びている表面シートと
   を有するものである
   中敷。
2. 請求項１記載の中敷において、前記第一傾斜角は前記中敷の前記長径軸と比べて５〜６５度である中敷。
3. 請求項１記載の中敷において、前記ベース層は、硬度１０〜３０Ａｓｋｅｒ＋／−３を有するポリウレタンポリエステルグリコール製である中敷。
4. 請求項１記載の中敷において、前記前足パッドは透明なＴＰＲジェル（熱可塑性ゴム）製である中敷。
5. 請求項４記載の中敷において、前記ＴＰＲジェルは１０〜３５Ａｓｋｅｒ＋／−３の硬度を有するものである中敷。
6. 請求項１記載の中敷において、前記前足パッドは約１．０ｍｍ〜１．５０ｍｍの幅間隔の溝パターンを有するものである中敷。
7. 請求項１記載の中敷において、前記踵パッドはプリブローしたＥＶＡ（エチレン酢酸ビニル）材料製である中敷。
8. 請求項７記載の中敷において、前記踵パッドは１０〜３５Ａｓｋｅｒ＋／−３の硬度を有するものである中敷。
9. 請求項１記載の中敷において、前記踵パッドは約１．０ｍｍ〜１．５０ｍｍの幅間隔の溝パターンを有するものである中敷。
10. 請求項１記載の中敷において、前記踵パッド開口部は、平らな中足／踵面および踵リッジで囲まれている中敷。
11. 請求項１記載の中敷において、前記ベース層は耐久性のナイロンファブリックで製である中敷。
12. 請求項１記載の中敷において、前記第一曲線窪みは、約０．５０ｍｍ〜１．５ｍｍの溝の深さを有するものである中敷。
13. 請求項１記載の中敷において、前記表面シートは６５％ナイロン／３５％ポリエステル製である中敷。
14. 請求項１記載の中敷において、前記中敷の上側にある前記中足骨ドームは、前記中敷の底面にある上向きに屈曲した前記中足骨アーチドームに一致するものである中敷。
15. 請求項１記載の中敷において、前記分離壁は前記ベース層の底面に位置しており、高さは約１ｍｍである中敷。
16. 請求項１記載の中敷において、前記前足パッドおよび踵パッドはゴム製または合成ゴム製である中敷。
17. 請求項１記載の中敷において、前記前足パッドおよび踵パッドはネオプレン合成ゴム製である中敷。
18. 靴内部に使用され、ユーザーの足に接触する上側と、挿入後、靴の内部に接触する底側と、使用中ユーザーの足の外部側に隣接する外側と、ユーザーの足の内部側すなわちアーチに隣接する内側とを有する輪郭形状の中敷であって、
    前記ユーザーの足を受け入れサポートする輪郭形状と、踵端と、趾端と、上面と、底面と、外側と、内側とを有するベース層であって、前記外側および内側は、略前記踵端から前記趾端まで延び、
    （ａ）前記ベース層の上面に隆起し、前記中敷の踵領域上に位置する踵ドームと、
    （ｂ）前記ベース層の上面に隆起し、前記中敷の中足骨中足領域上に位置する中足骨ドームと、
    を有するベース層と、
    前記安定クッション領域にある、前記ベース層の底面に位置する安定クッションであって、
    （ａ）前記内側アーチ領域にある前記中敷の底面の隆起アーチサポートと、
    （ｂ）前記中敷の底面上にあり、前記中敷の踵端を垂直の壁で取り囲んでいるヒールカップと、
    （ｃ）前記安定クッションの中足領域の底面にあり、平坦な表面を取り囲んでいる１つ以上のリッジと、
    （ｄ）前記中敷の底面から隆起している中足骨アーチドームと、
    （ｅ）前記踵領域における前記ベース層の底面にあり、周囲をサポート溝で取り囲まれている踵パッド開口部と、
    を有し、
    前記隆起アーチサポートは、内側アーチ領域にある前記中敷の底面の第一セットの曲線窪みを有し、一般的に前記中敷の長径軸から第一傾斜角で長手方向すなわち趾から踵への長径方向に延びている安定クッションと、
    前記前足窪み領域にある、前記中敷の底面に位置している前足パッドと、
    前記安定クッションの踵パッド開口部に位置し、前記ベース層の底面に固定されるために前記安定クッションを通して延びている踵パッドと、
    前記中敷の踵端から趾端へ前記ベース層の上面全体に延びている表面シートと
    を有するものである
    中敷。
19. 請求項１８記載の中敷において、前記ベース層は、前記ベース層の底面にあり前記前足パッド窪み領域と前記中足／踵安定クッション窪み領域との間に位置している分離壁を有するものである中敷。
20. 請求項１９記載の中敷において、前記ベース層の底面に位置している前記分離壁は高さが約１ｍｍである中敷。
21. 請求項１８記載の中敷において、前記ベース層は、前記ベース層の上面にあり前記中敷の踵領域で隆起している踵ドームを有するものである中敷。
22. 請求項１８記載の中敷において、前記ベース層は、前記ベース層の上面にあり前記中敷の中足骨中足領域上で隆起している中足骨ドームを有するものである中敷。
23. 請求項１８記載の中敷において、前記ベース層は耐久性のナイロンファブリックで製である中敷。
24. 請求項１８記載の中敷において、前記第一傾斜角は前記中敷の前記長径軸と比べて５〜６５度である中敷。
25. 請求項１８記載の中敷において、前記ベース層は、硬度１０〜３０Ａｓｋｅｒ＋／−３を有するポリウレタンポリエステルグリコール製である中敷。
26. 請求項１８記載の中敷において、前記前足パッドは透明なＴＰＲジェル（熱可塑性ゴム）製である中敷。
27. 請求項２６記載の中敷において、前記ＴＰＲジェルは１０〜３５Ａｓｋｅｒ＋／−３の硬度を有するものである中敷。
28. 請求項１８記載の中敷において、前記前足パッドは約１．０ｍｍ〜１．５０ｍｍの幅間隔の溝パターンを有するものである中敷。
29. 請求項１８記載の中敷において、前記踵パッドはプリブローしたＥＶＡ（エチレン酢酸ビニル）材料製である中敷。
30. 請求項２９記載の中敷において、前記踵パッドは１０〜３５Ａｓｋｅｒ＋／−３の硬度を有するものである中敷。
31. 請求項１８記載の中敷において、前記踵パッドは約１．０ｍｍ〜１．５０ｍｍの幅間隔の溝パターンを有するものである中敷。
32. 請求項１８記載の中敷において、前記踵パッド開口部は、平らな中足／踵面および踵リッジで囲まれている中敷。
33. 請求項１８記載の中敷において、前記第一曲線窪みは、約０．５０ｍｍ〜１．５ｍｍの溝の深さを有するものである中敷。
34. 請求項１８記載の中敷において、前記表面シートは６５％ナイロン／３５％ポリエステル製である中敷。
35. 請求項１８記載の中敷において、前記中敷の上側にある前記中足骨ドームは、前記中敷の底面にある上向きに屈曲した前記中足骨アーチドームに一致するものである中敷。
36. 請求項１８記載の中敷において、前記前足パッドおよび踵パッドはゴム製または合成ゴム製である中敷。
37. 請求項１８記載の中敷において、前記前足パッドおよび踵パッドはポリマーであるネオプレン合成ゴム製である中敷。
38. 靴内部に使用され、ユーザーの足に接触する上側と、挿入後、靴の内部に接触する底側と、使用中ユーザーの足の外部側に隣接する外側と、ユーザーの足の内部側すなわちアーチに隣接する内側とを有する輪郭形状の中敷を作製する方法であって、
    前記ユーザーの足を受け入れサポートする輪郭形状を有するベース層を提供する工程であって、前記ベース層は、踵端と、趾端と、上面と、底面と、外側と、内側とを有し、前記外側および内側は、略前記踵端から前記趾端まで延び、前記ベース層は、
    （ａ）前記ベース層の上面に隆起し、前記中敷の踵領域上に位置する踵ドームと、
    （ｂ）前記ベース層の上面に隆起し、前記中敷の中足骨中足領域上に位置する中足骨ドームと、
    （ｃ）前記中敷の底面上にあり、前記ベース層の中足から趾領域まで延び、前足パッドの挿入をサポートする前足パッド窪み領域と、
    （ｄ）前記中敷の底面上にあり、前記中敷の中足から踵領域まで延び、安定クッションの挿入をサポートする中足／踵安定クッション窪み領域と、
    （ｅ）前記ベース層の底面上にあり、前記前足パッド窪み領域と前記中足／踵安定クッション窪み領域との間に位置する分離壁と、
    を有する、ベース層を提供する工程と、
    前記安定クッション窪み領域にある前記ベース層の底面に安定クッションを位置付ける工程であって、前記安定クッションは、
    （ａ）前記内側アーチ領域にある前記中敷の底面の隆起アーチサポートと、
    （ｂ）前記中敷の底面上にあり、前記中敷の踵端を垂直の壁で取り囲んでいるヒールカップと、
    （ｃ）前記安定クッションの中足領域の底面にあり、平坦な表面を取り囲んでいる１つ以上のリッジと、
    （ｄ）前記中敷の底面から隆起している中足骨アーチドームと、
    （ｅ）前記踵領域における前記ベース層の底面にあり、周囲をサポート溝で取り囲まれている踵パッド開口部と、
    を有する、安定クッションを位置付ける工程と、
    前記隆起アーチサポートは、内側アーチ領域にある前記中敷の底面の第一セットの曲線窪みを有し、一般的に前記中敷の長径軸から第一傾斜角で長手方向すなわち趾から踵への長径方向に延びているものであり、
    前記前足窪み領域にある前記中敷の底面に前足パッドを位置付ける工程と、
    前記安定クッションの踵パッド開口部に踵パッドを位置付け、前記ベース層の底面に固定するために前記踵パッドを前記安定クッションを通して延伸させる工程と、
    前記中敷の踵端から趾端へ前記ベース層の上面全体に延びている表面シートを配置する工程と
    を有するものである
    方法。
39. 請求項３８記載の前記中敷を作製する方法において、前記第一傾斜角は前記中敷の前記長径軸と比べて５〜６５度である方法。
40. 請求項３８記載の前記中敷を作製する方法において、前記ベース層は、硬度１０〜３０Ａｓｋｅｒ＋／−３を有するポリウレタンポリエステルグリコール製である方法。
41. 請求項３８記載の前記中敷を作製する方法において、前記前足パッドは透明なＴＰＲジェル（熱可塑性ゴム）製である方法。
42. 請求項４１記載の前記中敷を作製する方法において、前記ＴＰＲジェルは１０〜３５Ａｓｋｅｒ＋／−３の硬度を有するものである方法。
43. 請求項３８記載の前記中敷を作製する方法において、前記前足パッドは約１．０ｍｍ〜１．５０ｍｍの幅間隔の溝パターンを有するものである方法。
44. 請求項３８記載の前記中敷を作製する方法において、前記踵パッドはプリブローしたＥＶＡ（エチレン酢酸ビニル）材料製である方法。
45. 請求項４４記載の前記中敷を作製する方法において、前記踵パッドは１０〜３５Ａｓｋｅｒ＋／−３の硬度を有するものである方法。
46. 請求項３８記載の前記中敷を作製する方法において、前記踵パッドは約１．０ｍｍ〜１．５０ｍｍの幅間隔の溝パターンを有するものである方法。
47. 請求項３８記載の前記中敷を作製する方法において、前記踵パッド開口部は、平らな中足／踵面および踵リッジで囲まれている方法。
48. 請求項３８記載の前記中敷を作製する方法において、前記ベース層は耐久性のナイロンファブリックで製である方法。
49. 請求項３８記載の前記中敷を作製する方法において、前記第一曲線窪みは、約０．５０ｍｍ〜１．５ｍｍの溝の深さを有するものである方法。
50. 請求項３８記載の前記中敷を作製する方法において、前記表面シートは６５％ナイロン／３５％ポリエステル製である方法。
51. 請求項３８記載の前記中敷を作製する方法において、前記中敷の上側にある前記中足骨ドームは、前記中敷の底面にある上向きに屈曲した前記中足骨アーチドームに一致するものである方法。
52. 請求項３８記載の前記中敷を作製する方法において、前記ベース層の底面に位置している前記分離壁は高さが約１ｍｍである方法。
53. 請求項３８記載の前記中敷を作製する方法において、前記前足パッドおよび踵パッドはゴム製または合成ゴム製である方法。
54. 請求項３８記載の前記中敷を作製する方法において、前記前足パッドおよび踵パッドはネオプレン合成ゴム製である方法。
55. 請求項３８記載の前記中敷を作製する方法において、前記位置付け工程は、適所に鋳型成形することにより材料を成形することも含むものである方法。
    

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