JP2018508048A - 間接的表面清浄化装置および方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本特許出願は、2014年6月3日に出願された米国特許出願第14/294,728号の一部継続出願であり、この米国特許出願は、2013年11月11日に出願された米国特許出願第14/077,028号(現在、米国特許第8,741,067号)の一部継続出願であり、この米国特許出願は、2012年10月22日に出願された米国特許出願第13/657,847号(現在、米国特許第8,613,803号)の一部継続出願であり、この米国特許出願は、2008年11月24日に出願された米国特許出願第12/277,106号(現在、米国特許第8,293,019号)の一部継続出願であり、この米国特許出願は、2008年3月25日に出願された米国特許出願第12/2,055,178号(現在、米国特許第7,993,464号)の一部継続出願であり、この米国特許出願は、2007年8月9日に出願された米国特許仮出願第60/954,989号の優先権主張出願であり、これら米国特許出願を参照により引用し、これら米国特許出願の開示内容全体を本明細書の一部とする。
Claims (20)
- フォトマスクの性能特性を向上させる方法であって、前記フォトマスク上には少なくとも1つの特徴部が設けられ、前記少なくとも1つの特徴部は、関連した設計上の存在場所を有し、前記少なくとも1つの特徴部の存在場所と前記関連の設計上の存在場所との間の距離が前記少なくとも1つの特徴部の位置の誤差を生み出し、前記方法は、
電磁放射線を前記フォトマスクの方へ方向付けるステップを含み、前記電磁放射線は、前記フォトマスクの高吸収係数と実質的に一致した波長を有し、
前記フォトマスク上への前記電磁放射線の入射による前記フォトマスク中の熱エネルギー増加を発生させるステップを含み、
前記フォトマスク中の前記熱エネルギーの増加の前記発生の結果として前記位置誤差を減少させるステップを含む、方法。 - 前記電磁放射線を前記フォトマスク上に位置決めされた物体中へ方向付けるステップを更に含む、請求項1記載の方法。
- 前記フォトマスクは、ペリクル内に少なくとも部分的に収納され、前記物体は、ペリクル膜である、請求項2記載の方法。
- 前記レーザ波長は、8マイクロメートルを超える、請求項1記載の方法。
- 前記フォトマスクは、石英フォトマスクであり、前記電磁放射線波長は、約9マイクロメートルである、請求項1記載の方法。
- 薄膜が前記フォトマスク上に設けられ、前記少なくとも1つの特徴部は、前記薄膜中に含まれている、請求項1記載の方法。
- 前記薄膜は、部分光吸収性である、請求項6記載の方法。
- 前記位置誤差の前記減少は、脱水、酸化、アニーリング、および高密度化のうちの少なくとも1つの結果である、請求項1記載の方法。
- 前記少なくとも1つの特徴部は、第1の存在場所のところに設けられた第1の特徴部および第2の存在場所のところに設けられた第2の特徴部を含み、前記第2の存在場所は、前記第1の存在場所とは異なり、前記方法は、
前記第1の特徴部の位置の誤差を第1の量だけ減少させるステップと、
前記第2の特徴部の位置の誤差を第2の量だけ減少させるステップとを更に含み、前記第1の量は、前記第2の量とは異なる、請求項1記載の方法。 - 前記フォトマスクは、複数の材料を含み、前記電磁放射線は、レーザビームであり、前記レーザビームは、前記複数の材料のうちの少なくとも2つ材料の高吸収係数と実質的に一致した波長を有する、請求項1記載の方法。
- フォトマスクの光学特性を向上させる方法であって、
電磁放射線を前記フォトマスクの方へ方向付けるステップを含み、前記フォトマスク上には部分吸収性薄膜が設けられ、前記電磁放射線は、前記フォトマスクの高吸収係数と実質的に一致した波長を有し、
前記フォトマスク上に入射した前記電磁放射線に応答して前記フォトマスク中に熱エネルギーの増加を発生させるステップを含み、
前記フォトマスク上の第2の特徴部に対する前記フォトマスク上の第1の特徴部の位置を変更するステップを含む、方法。 - 前記変更ステップは、前記第1の特徴部と前記第2の特徴部との間の距離を増大させるステップを含む、請求項11記載の方法。
- 前記変更ステップは、前記第1の特徴部と前記第2の特徴部との間の距離を減少させるステップを含む、請求項11記載の方法。
- 前記フォトマスクは、ペリクル内に少なくとも部分的に収納され、前記方法は、前記電磁放射線を前記フォトマスクの上方に位置決めされたペリクル膜中へ方向付けるステップを更に含む、請求項11記載の方法。
- 前記電磁放射線は、前記薄膜の方へ更に方向付けられ、前記電磁放射線は、前記薄膜の高吸収係数と実質的に一致した波長を有する、請求項14記載の方法。
- フォトマスクの光学特性を向上させる方法であって、
電磁放射線を前記フォトマスク上に設けられた部分吸収性薄膜の方へ方向付けるステップを含み、前記電磁放射線は、前記薄膜の高吸収係数と実質的に一致した波長を有し、
前記薄膜上に入射した前記電磁放射線に応答して前記薄膜中の熱エネルギー増加を発生させるステップを含み、
前記フォトマスク上の第2の特徴部に対する前記フォトマスク上の第1の特徴部の位置を変更するステップを含む、方法。 - 前記変更ステップは、前記第1の特徴部と前記第2の特徴部との間の距離を増大させるステップを含む、請求項16記載の方法。
- 前記変更ステップは、前記第1の特徴部と前記第2の特徴部との間の距離を減少させるステップを含む、請求項16記載の方法。
- 前記フォトマスクは、ペリクル内に少なくとも部分的に収納され、前記方法は、前記電磁放射線を前記フォトマスクの上方に位置決めされたペリクル膜中へ方向付けるステップを更に含む、請求項16記載の方法。
- 前記電磁放射線は、前記フォトマスクの方へ更に方向付けられ、前記電磁放射線は、前記フォトマスクの高吸収係数と実質的に一致した波長を有する、請求項16記載の方法。
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C116 | Written invitation by the chief administrative judge to file amendments |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C116 Effective date: 20201109 |
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C22 | Notice of designation (change) of administrative judge |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22 Effective date: 20201109 |
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C22 | Notice of designation (change) of administrative judge |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22 Effective date: 20210215 |
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C23 | Notice of termination of proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C23 Effective date: 20210308 |
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C03 | Trial/appeal decision taken |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C03 Effective date: 20210401 |
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C30A | Notification sent |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C3012 Effective date: 20210401 |