JP2018503872A - アライメントシステムのフィードバック制御システム - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2014年12月29日に出願された米国出願第62/097,210号の優先権を主張し、その全体が参照により本明細書に援用される。
特定の機能およびその関係の実現を示す機能形成ブロックの助けを用いて本発明を説明してきた。これらの機能形成ブロック間の境界は、説明の便宜上、随意に定義されている。それらの特別な機能および関係が適切に実行される限り、別の境界も定義することができる。
Claims (20)
- 広帯域放射ビームを提供するよう構成された光源と、
中心波長(CWL)値を有する狭帯域放射ビームへと前記広帯域放射ビームをフィルタ処理するよう構成されたチューナブルフィルタと、を備えるチューナブル放射源と、
前記狭帯域放射ビームのCWL値を測定し、
測定CWL値を所望のCWL値と比較し、
測定CWL値と所望のCWL値との間に存在する差異に応答して前記比較に基づいて制御信号を生成し、
前記差異を除去し又は実質的に低減すべく前記制御信号に基づいて前記チューナブルフィルタを調整するよう構成されたフィードバック制御システムと、を備えるアライメントシステム。 - 前記フィードバック制御システムは、
前記狭帯域放射ビームのCWL値を測定し、
前記測定CWL値を前記所望のCWL値と比較し、
前記差異に応答して前記比較に基づいて前記制御信号を生成し、
前記差異を除去し又は実質的に低減すべく前記制御信号に基づいて前記チューナブルフィルタを調整するよう構成された光アナライザを備える請求項1に記載のアライメントシステム。 - 前記狭帯域放射ビームは、複数の狭通過帯域を有し、
前記フィードバック制御システムは、前記狭帯域放射ビームの各狭通過帯域のCWL値を個別にかつ実質的に同時に測定するよう構成されている請求項1に記載のアライメントシステム。 - 前記狭帯域放射ビームは、複数の狭通過帯域を有し、
前記フィードバック制御システムは、前記狭帯域放射ビームの各狭通過帯域のCWL値を対応する所望のCWL値と個別にかつ実質的に同時に比較するよう構成されている請求項1に記載のアライメントシステム。 - 前記チューナブルフィルタは、駆動回路を備え、
前記フィードバック制御システムは、前記制御信号に基づいて前記駆動回路の駆動信号を調節するよう構成されている請求項1に記載のアライメントシステム。 - 前記フィードバック制御システムは、
前記狭帯域放射ビームの一部分を受け、
前記狭帯域放射ビームの前記一部分のCWL値を測定するよう構成された光アナライザを備える請求項1に記載のアライメントシステム。 - 前記チューナブルフィルタは、トランスデューサを備え、
前記狭帯域放射ビームのCWLは、前記トランスデューサの駆動周波数に依存する請求項1に記載のアライメントシステム。 - 前記狭帯域放射ビームは、複数の狭通過帯域を有し、
前記チューナブルフィルタは、個別にかつ同時に前記狭通過帯域の各CWLを選択するよう構成されている請求項1に記載のアライメントシステム。 - 前記フィードバック制御システムは、リソグラフィ動作中にリアルタイムに前記狭帯域放射ビームのCWLをモニタして安定化させるよう構成されている請求項1に記載のアライメントシステム。
- 前記チューナブルフィルタは、音響光学チューナブルフィルタである請求項1に記載のアライメントシステム。
- チューナブルフィルタを使用して、広帯域放射ビームを狭帯域放射ビームへとフィルタ処理することと、
アナライザを使用して、前記狭帯域放射ビームの中心波長(CWL)値を測定することと、
前記アナライザを使用して、測定CWL値を所望のCWL値と比較することと、
前記アナライザを使用して、測定CWL値と前記所望の値との間に存在する差異に応答して前記比較に基づいて制御信号を生成することと、
前記チューナブルフィルタを使用して、前記差異を除去し又は実質的に低減すべく前記制御信号に基づいて駆動信号を調節することと、を備える方法。 - 前記測定することは、前記狭帯域放射ビームの各狭通過帯域のCWL値を個別にかつ実質的に同時に測定することを備える請求項11に記載の方法。
- 前記比較することは、前記狭帯域放射ビームの各狭通過帯域のCWL値を対応する所望のCWL値と個別にかつ実質的に同時に比較することを備える請求項11に記載の方法。
- 前記方法は、リソグラフィ動作中にリアルタイムに実行される請求項11に記載の方法。
- ビームスプリッタを使用して、前記狭帯域放射ビームの一部分を前記アナライザに向けて方向付けることをさらに備える請求項11に記載の方法。
- パターニングデバイスのパターンを照明するよう構成された照明システムと、
基板の目標部分に前記パターンの像を投影するよう構成された投影システムと、
アライメントシステムであって、
広帯域放射ビームを提供するよう構成された光源と、
中心波長(CWL)値を有する狭帯域放射ビームへと前記広帯域放射ビームをフィルタ処理するよう構成されたチューナブルフィルタと、を備えるチューナブル放射源と、
前記狭帯域放射ビームのCWL値を測定し、
測定CWL値を所望のCWL値と比較し、
測定CWL値と所望のCWL値との間に存在する差異に応答して前記比較に基づいて制御信号を生成し、
前記差異を除去し又は実質的に低減すべく前記制御信号に基づいて前記チューナブルフィルタを調整するよう構成されたフィードバック制御システムと、を備えるアライメントシステムと、を備えるリソグラフィ装置。 - 前記狭帯域放射ビームは、複数の狭通過帯域を有し、
前記フィードバック制御システムは、前記狭帯域放射ビームの各狭通過帯域のCWL値を個別にかつ実質的に同時に測定するよう構成されている請求項16に記載のリソグラフィ装置。 - 前記狭帯域放射ビームは、複数の狭通過帯域を有し、
前記フィードバック制御システムは、前記狭帯域放射ビームの各狭通過帯域のCWL値を対応する所望のCWL値と個別にかつ実質的に同時に比較するよう構成されている請求項16に記載のリソグラフィ装置。 - 前記フィードバック制御システムは、リソグラフィ動作中にリアルタイムに前記狭帯域放射ビームのCWLをモニタして安定化させるよう構成されている請求項16に記載のリソグラフィ装置。
- 前記チューナブルフィルタは、駆動回路を備え、
前記フィードバック制御システムは、前記制御信号に基づいて前記駆動回路の駆動信号を調節するよう構成されている請求項16に記載のリソグラフィ装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201462097210P | 2014-12-29 | 2014-12-29 | |
US62/097,210 | 2014-12-29 | ||
PCT/EP2015/077711 WO2016107706A1 (en) | 2014-12-29 | 2015-11-26 | Feedback control system of an alignment system |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018503872A true JP2018503872A (ja) | 2018-02-08 |
JP6417481B2 JP6417481B2 (ja) | 2018-11-07 |
Family
ID=54705602
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017534966A Active JP6417481B2 (ja) | 2014-12-29 | 2015-11-26 | アライメントシステムのフィードバック制御システム |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10082740B2 (ja) |
JP (1) | JP6417481B2 (ja) |
CN (1) | CN107111255B (ja) |
NL (1) | NL2015886A (ja) |
TW (1) | TWI591454B (ja) |
WO (1) | WO2016107706A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10082740B2 (en) | 2014-12-29 | 2018-09-25 | Asml Holding N.V. | Feedback control system of an alignment system |
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US8088633B2 (en) | 2009-12-02 | 2012-01-03 | Ultratech, Inc. | Optical alignment methods for forming LEDs having a rough surface |
US10082740B2 (en) | 2014-12-29 | 2018-09-25 | Asml Holding N.V. | Feedback control system of an alignment system |
-
2015
- 2015-11-26 US US15/540,595 patent/US10082740B2/en active Active
- 2015-11-26 JP JP2017534966A patent/JP6417481B2/ja active Active
- 2015-11-26 CN CN201580071500.7A patent/CN107111255B/zh active Active
- 2015-11-26 WO PCT/EP2015/077711 patent/WO2016107706A1/en active Application Filing
- 2015-12-01 NL NL2015886A patent/NL2015886A/en unknown
- 2015-12-17 TW TW104142564A patent/TWI591454B/zh active
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JP2010245535A (ja) * | 2009-04-09 | 2010-10-28 | Asml Holding Nv | 波長同調可能な照明システム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN107111255B (zh) | 2018-11-13 |
NL2015886A (en) | 2016-09-22 |
JP6417481B2 (ja) | 2018-11-07 |
TW201635053A (zh) | 2016-10-01 |
CN107111255A (zh) | 2017-08-29 |
TWI591454B (zh) | 2017-07-11 |
WO2016107706A1 (en) | 2016-07-07 |
US20170357166A1 (en) | 2017-12-14 |
US10082740B2 (en) | 2018-09-25 |
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