JP2018500773A - Light emitting device and light emitting device mounting body - Google Patents

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Abstract

【課題】本発明は、発光装置の光抽出率を高める発光装置及び発光装置実装体を提供する。【解決手段】発光装置は、発光構造体と、第1電極と、第1電極層と、第2電極と、絶縁層と、からなる。発光構造体は、順番に積層して設置される第1導電型半導体層と、活性層と、第2導電型半導体層を備える。そのうち、第2導電型半導体層は、発光構造体の出光面である。第1電極は、第1導電型半導体層における活性層から離れた表面に設けられるとともに、第1導電型半導体層と電気的に接続される。第1電極層は、第2導電型半導体層における活性層から離れた表面に設けられるとともに、第2導電型半導体層と電気的に接続される。第2電極は、発光構造体を貫通するとともに、第1電極層と電気的に接続される。絶縁層は、発光構造体と第2電極の間に設けられる。本発明を採用し、発光装置底部から電極を引き出すことによって、導線が光線を遮ったり、吸收したりすることが防止され、出光率が向上する。【選択図】図1The present invention provides a light emitting device and a light emitting device mounting body that increase the light extraction rate of the light emitting device. A light emitting device includes a light emitting structure, a first electrode, a first electrode layer, a second electrode, and an insulating layer. The light emitting structure includes a first conductivity type semiconductor layer, an active layer, and a second conductivity type semiconductor layer that are stacked in order. Among them, the second conductivity type semiconductor layer is a light emitting surface of the light emitting structure. The first electrode is provided on the surface of the first conductivity type semiconductor layer away from the active layer, and is electrically connected to the first conductivity type semiconductor layer. The first electrode layer is provided on the surface of the second conductivity type semiconductor layer away from the active layer, and is electrically connected to the second conductivity type semiconductor layer. The second electrode penetrates the light emitting structure and is electrically connected to the first electrode layer. The insulating layer is provided between the light emitting structure and the second electrode. By adopting the present invention and pulling out the electrode from the bottom of the light emitting device, the lead wire is prevented from blocking or absorbing the light beam, and the light emission rate is improved. [Selection] Figure 1

Description

本発明は、2014年12月30日に提出した申請番号201410848993.8・発明名称「発光装置及び発光装置実装体」の先願優先権を要求し、前記先願の内容は引用で本文中に合併される。   The present invention requires priority of the prior application of the application number 201410848993.8 filed on December 30, 2014, entitled “Light Emitting Device and Light Emitting Device Mounted Body”, and the content of the prior application is incorporated herein by reference. Merged.

本発明は、発光装置の分野に関し、特に、発光装置及び発光装置実装体に関する。   The present invention relates to the field of light emitting devices, and more particularly, to a light emitting device and a light emitting device mounting body.

エネルギーを引き続き利用できるようにすることは社会から常に注目を浴びている重要な問題である。科学者は現在、消費電力が低く、高性能の各種の発光管を開発することによって、直面しているエネルギー問題を改善しようとしている。そのうち、発光ダイオード(Light−Emitting Diode、略称LED)は、効率的に消費電力を抑える面で傑出しており、現在生活の各方面において普及し続けている。   Keeping energy available is an important issue that has always received attention from society. Scientists are currently trying to improve the energy problems they face by developing a variety of low-power, high-performance arc tubes. Among them, light-emitting diodes (abbreviated as LEDs) are outstanding in terms of efficiently reducing power consumption, and are continuing to be widely used in various aspects of daily life.

従来技術において、例えばLED発光チップといった発光装置は、通常発光面から導線を引き出して、正極、負極に接続される。しかしながら、導線自体が、発光装置が発する光線を吸収したり遮ったりし、発光装置の光抽出率に影響を与える。   In the prior art, for example, a light-emitting device such as an LED light-emitting chip is normally connected to a positive electrode and a negative electrode by drawing a lead wire from a light-emitting surface. However, the conducting wire itself absorbs or blocks light emitted from the light emitting device, which affects the light extraction rate of the light emitting device.

本発明の実施例は、導線によって電極に接続することによって、発光チップが発光効率に影響を与えるという技術問題を解決し、導線が光を吸収したり遮ったりするのを防ぎ、発光装置の光抽出率を高めることのできる発光装置及び発光装置実装体を提供することを目的とする。   The embodiment of the present invention solves the technical problem that the light-emitting chip affects the light emission efficiency by connecting to the electrode with the lead wire, prevents the lead wire from absorbing or blocking light, and the light of the light-emitting device. It is an object of the present invention to provide a light emitting device and a light emitting device mounting body that can increase the extraction rate.

1つ目の点として、本発明の実施例は、発光装置を提供する。前記発光装置は、発光構造体と、第1電極と、第1電極層と、第2電極と、絶縁層と、からなる。   First, an embodiment of the present invention provides a light emitting device. The light emitting device includes a light emitting structure, a first electrode, a first electrode layer, a second electrode, and an insulating layer.

前記発光構造体は、順番に、積層して設置される第1導電型半導体層と、活性層と、第2導電型半導体層を備え、そのうち、前記第2導電型半導体層は、前記発光構造体の出光面である。   The light emitting structure includes a first conductive semiconductor layer, an active layer, and a second conductive semiconductor layer, which are sequentially stacked, and the second conductive semiconductor layer includes the light emitting structure. It is the light exit surface of the body.

前記第1電極は、前記第1導電型半導体層における前記活性層から離れた表面に設けられるとともに、前記第1導電型半導体層と電気的に接続される。   The first electrode is provided on a surface of the first conductive semiconductor layer away from the active layer, and is electrically connected to the first conductive semiconductor layer.

前記第1電極層は、前記第2導電型半導体層における前記活性層から離れた表面に設けられるとともに、前記第2導電型半導体層と電気的に接続される。   The first electrode layer is provided on a surface of the second conductive semiconductor layer away from the active layer, and is electrically connected to the second conductive semiconductor layer.

前記第2電極は、前記発光構造体を貫通するとともに、前記第1電極層と電気的に接続される。   The second electrode penetrates the light emitting structure and is electrically connected to the first electrode layer.

前記絶縁層は、前記発光構造体と前記第2電極の間に設けられる。   The insulating layer is provided between the light emitting structure and the second electrode.

1つ目の点と組み合わせて、考えられる1種類目の実現方法において、前記発光装置はさらに反射層を備える。前記反射層は、前記第1導電型半導体層における前記活性層から離れた表面に設けられ、前記第1電極と前記第2電極は、前記反射層を貫通する。   In combination with the first point, in the first possible realization method, the light emitting device further comprises a reflective layer. The reflective layer is provided on a surface of the first conductive semiconductor layer away from the active layer, and the first electrode and the second electrode penetrate the reflective layer.

1つ目の点と組み合わせて、考えられる2種類目の実現方法において、前記発光装置はさらに透過層を備え、前記透過層は、前記第1電極層における前記第2導電型半導体層から離れた表面に設けられ、前記透過層は、前記発光構造体の光抽出率を向上させるのに用いられる。   In combination with the first point, in a second possible realization method, the light emitting device further comprises a transmissive layer, the transmissive layer being separated from the second conductive semiconductor layer in the first electrode layer Provided on the surface, the transmission layer is used to improve the light extraction rate of the light emitting structure.

1つ目の点の考えられる2種類目の実現方法と組み合わせて、考えられる3種類目の実現方法において、前記透過層における前記第1電極層から離れた表面は、凹凸状である。   In the third realization method considered in combination with the second realization method considered as the first point, the surface of the transmission layer away from the first electrode layer is uneven.

1つ目の点と組み合わせて、考えられる4種類目の実現方法において、前記発光装置は、さらに第2電極層を備える。前記第2電極層は、前記第1導電型半導体層における前記絶縁層から離れた表面に設けられ、前記第1電極と前記第1導電型半導体層は、前記第2電極層を通して電気的に接続される。前記第2電極は、前記第2電極層を貫通し、前記絶縁層は、さらに前記第2電極と前記第2電極層の間に設けられる。   In the fourth possible realization method in combination with the first point, the light emitting device further includes a second electrode layer. The second electrode layer is provided on a surface of the first conductive semiconductor layer away from the insulating layer, and the first electrode and the first conductive semiconductor layer are electrically connected through the second electrode layer. Is done. The second electrode penetrates the second electrode layer, and the insulating layer is further provided between the second electrode and the second electrode layer.

1つ目の点における考えられる4種類目の実現方法と組み合わせて、考えられる5種類目の実現方法において、前記発光装置は、さらに反射層を備える。前記反射層は、前記第2電極層における前記第1導電型半導体層から離れた表面に設けられ、前記第1電極と前記第2電極は、前記反射層を貫通する。   In the fifth possible realization method in combination with the fourth possible realization method in the first point, the light emitting device further includes a reflective layer. The reflective layer is provided on a surface of the second electrode layer away from the first conductive semiconductor layer, and the first electrode and the second electrode penetrate the reflective layer.

1つ目の点と組み合わせて、考えられる6種類目の実現方法において、前記発光構造体は、さらに第1パッドと第2パッドを備える。前記第1パッドは、前記第1電極における前記第1導電型半導体層から離れた表面に設けられ、前記第1電極と電気的に接続するのに用いられる。前記第2パッドは、前記第2電極における前記第1電極層から離れた表面に設けられ、前記第2電極と電気的に接続するのに用いられる。   In the sixth possible realization method in combination with the first point, the light emitting structure further includes a first pad and a second pad. The first pad is provided on a surface of the first electrode away from the first conductive type semiconductor layer, and is used to electrically connect to the first electrode. The second pad is provided on a surface of the second electrode away from the first electrode layer, and is used to electrically connect to the second electrode.

1つ目の点における考えられる6種類目の実現方法と組み合わせて、考えられる7種類目の実現方法において、前記発光装置は、さらに第2電極層を備える。前記第2電極層は、前記第1導電型半導体層における前記絶縁層から離れた表面に設けられ、前記第1電極と前記第1導電型半導体は、前記第2電極層によって電気的に接続される。前記第2パッドは前記第2電極層を貫通し、前記絶縁層は、さらに前記第2電極と前記第2電極層の間、及び前記第2パッドと前記第2電極層の間に設けられる。   In a seventh possible realization method in combination with a sixth possible realization method in the first point, the light emitting device further comprises a second electrode layer. The second electrode layer is provided on a surface of the first conductive semiconductor layer away from the insulating layer, and the first electrode and the first conductive semiconductor are electrically connected by the second electrode layer. The The second pad penetrates the second electrode layer, and the insulating layer is further provided between the second electrode and the second electrode layer and between the second pad and the second electrode layer.

1つ目の点における考えられる7種類目の実現方法と組み合わせて、考えられる8種類目の実現方法において、前記発光装置は、さらに反射層を備える。前記反射層は、前記第2電極層における前記第1導電型半導体層から離れた表面に設けられ、前記第1電極または前記第1パッドは、前記反射層を貫通するとともに、前記第2電極または前記第2パッドは前記反射層を貫通する。   In the eighth possible realization method in combination with the seventh possible realization method in the first point, the light emitting device further includes a reflective layer. The reflective layer is provided on a surface of the second electrode layer away from the first conductive type semiconductor layer, and the first electrode or the first pad penetrates the reflective layer and the second electrode or The second pad penetrates the reflective layer.

2つ目の点として、本発明の実施例が提供する発光装置実装体は、発光装置からなる。前記発光装置は、具体的には、発光構造体と、第1電極と、第1電極層と、第2電極と、絶縁層と、からなる。   As a second point, the light emitting device mounting body provided by the embodiment of the present invention includes a light emitting device. Specifically, the light emitting device includes a light emitting structure, a first electrode, a first electrode layer, a second electrode, and an insulating layer.

前記発光構造体は、順番に積層して設置される第1導電型半導体層と、活性層と、第2導電型半導体層を備え、そのうち、前記第2導電型半導体層は、前記発光構造体の出光面である。   The light emitting structure includes a first conductive type semiconductor layer, an active layer, and a second conductive type semiconductor layer that are stacked in order, wherein the second conductive type semiconductor layer is the light emitting structure. This is the light exit surface.

前記第1電極は、前記第1導電型半導体層における前記活性層から離れた表面に設けられるとともに、前記第1導電型半導体層と電気的に接続される。   The first electrode is provided on a surface of the first conductive semiconductor layer away from the active layer, and is electrically connected to the first conductive semiconductor layer.

前記第1電極層は、前記第2導電型半導体層における前記活性層から離れた表面に設けられるとともに、前記第2導電型半導体層と電気的に接続される。   The first electrode layer is provided on a surface of the second conductive semiconductor layer away from the active layer, and is electrically connected to the second conductive semiconductor layer.

前記第2電極は、前記発光構造体を貫通するとともに、前記第1電極層と電気的に接続される。   The second electrode penetrates the light emitting structure and is electrically connected to the first electrode layer.

前記絶縁層は、前記発光構造体と前記第2電極の間に設けられる。   The insulating layer is provided between the light emitting structure and the second electrode.

2つ目の点と組み合わせて、考えられる1種類目の実現方法において、前記発光装置は、さらに反射層を備える。前記反射層は、前記第1導電型半導体層における前記活性層から離れた表面に設けられ、前記第1電極と前記第2電極は、前記反射層を貫通する。   In a first possible realization method in combination with the second point, the light emitting device further comprises a reflective layer. The reflective layer is provided on a surface of the first conductive semiconductor layer away from the active layer, and the first electrode and the second electrode penetrate the reflective layer.

2つ目の点と組み合わせて、考えられる2種類目の実現方法において、前記発光装置は、さらに透過層を備える。前記透過層は、前記第1電極層における前記第2導電型半導体層から離れた表面に設けられ、前記透過層は、前記発光構造体の光抽出率を向上させるのに用いられる。   In the second possible realization method in combination with the second point, the light emitting device further comprises a transmission layer. The transmissive layer is provided on a surface of the first electrode layer away from the second conductive semiconductor layer, and the transmissive layer is used to improve a light extraction rate of the light emitting structure.

2つ目の点における考えられる2種類目の実現方法と組み合わせて、考えられる3種類目の実現方法において、前記透過層における前記第1電極層から離れた表面は、凹凸状である。   In the third possible realization method in combination with the second possible realization method at the second point, the surface of the transmission layer away from the first electrode layer is uneven.

2つ目の点と組み合わせて、考えられる4種類目の実現方法において、前記発光装置は、さらに第2電極層を備える。前記第2電極層は、前記第1導電型半導体層における前記絶縁層から離れた表面に設けられ、前記第1電極と前記第1導電型半導体層は、前記第2電極層によって電気的に接続される。前記第2電極は、前記第2電極層を貫通し、前記絶縁層は、さらに前記第2電極と前記第2電極層の間に設けられる。   In a fourth possible realization method in combination with the second point, the light emitting device further comprises a second electrode layer. The second electrode layer is provided on a surface of the first conductive semiconductor layer away from the insulating layer, and the first electrode and the first conductive semiconductor layer are electrically connected by the second electrode layer. Is done. The second electrode penetrates the second electrode layer, and the insulating layer is further provided between the second electrode and the second electrode layer.

2つ目の点における考えられる4種類目の実現方法と組み合わせて、考えられる5種類目の実現方法において、前記発光装置は、さらに反射層を備える。前記反射層は、前記第2電極層における前記第1導電型半導体層から離れた表面に設けられ、前記第1電極と前記第2電極は、前記反射層を貫通する。   In a fifth possible realization method in combination with a fourth possible realization method at the second point, the light emitting device further comprises a reflective layer. The reflective layer is provided on a surface of the second electrode layer away from the first conductive semiconductor layer, and the first electrode and the second electrode penetrate the reflective layer.

2つ目の点と組み合わせて、考えられる6種類目の実現方法において、前記発光構造体は、さらに第1パッドと第2パッドを備える。前記第1パッドは、前記第1電極における前記第1導電型半導体層から離れた表面に設けられ、前記第1電極と電気的に接続するのに用いられる。前記第2パッドは、前記第2電極における前記第1電極層から離れた表面に設けられ、前記第2電極と電気的に接続するのに用いられる。   In the sixth possible realization method in combination with the second point, the light emitting structure further includes a first pad and a second pad. The first pad is provided on a surface of the first electrode away from the first conductive type semiconductor layer, and is used to electrically connect to the first electrode. The second pad is provided on a surface of the second electrode away from the first electrode layer, and is used to electrically connect to the second electrode.

2つ目の点における考えられる6種類目の実現方法と組み合わせて、考えられる7種類目の実現方法において、前記発光装置は、さらに第2電極層を備える。前記第2電極層は、前記第1導電型半導体層における前記絶縁層から離れた表面に設けられ、前記第1電極と前記第1導電型半導体は、前記第2電極層によって電気的に接続される。前記第2パッドは、前記第2電極層を貫通し、前記絶縁層は、さらに前記第2電極と前記第2電極層の間、及び前記第2パッドと前記第2電極層の間に設けられる。   In a seventh possible realization method in combination with a sixth possible realization method in the second point, the light emitting device further comprises a second electrode layer. The second electrode layer is provided on a surface of the first conductive semiconductor layer away from the insulating layer, and the first electrode and the first conductive semiconductor are electrically connected by the second electrode layer. The The second pad penetrates the second electrode layer, and the insulating layer is further provided between the second electrode and the second electrode layer and between the second pad and the second electrode layer. .

2つ目の点における考えられる7種類目の実現方法と組み合わせて、考えられる8種類目の実現方法において、前記発光装置は、さらに反射層を備える。前記反射層は、前記第2電極層における前記第1導電型半導体層から離れた表面に設けられ、前記第1電極または前記第1パッドは前記反射層を貫通するとともに、前記第2電極または前記第2パッドは前記反射層を貫通する。   In the eighth possible realization method in combination with the seventh possible realization method in the second point, the light emitting device further includes a reflective layer. The reflective layer is provided on a surface of the second electrode layer away from the first conductive type semiconductor layer, and the first electrode or the first pad penetrates the reflective layer, and the second electrode or the The second pad penetrates the reflective layer.

本発明の実施例が提供する発光装置を実現することによって、第1電極と第2電極の2つの電極は発光装置の出光面の裏面から突き出るため、発光装置の発光面からさらに導線を引き出す必要がなく、第1電極と第2電極と関連のある導線が光を吸收し、遮るのを防ぐことができ、出光率が向上する。さらに、本発明の発光装置は、第1電極層の上面に透過層を設け、前記透過層によって発せられた光をさらに均一にすることができる他、透過層の上表面を凹凸状にすることができることによって、透過層の表面積が大きくなり、光抽出率が向上する。透過層と第2導電型半導体層の間に第1電極層が設けられることによって、第2電極から伝わる電流を、第1電極層によって第2導電型半導体層に均一に分散することができ、第1電極と第1導電型半導体層の間に第2電極層が設置されることによって、第1電極から伝わる電流を、第2電極層によって第1導電型半導体層に均一に分散することができ、発光構造体の発光性能が向上する。第2電極層における第1導電型半導体層から離れた表面には、反射層が設置され、発光構造体が第1導電型半導体層から発散した光を発光構造体の出光面にまで反射することで、発光装置の出光率が高くなる。   By realizing the light emitting device provided by the embodiment of the present invention, the two electrodes of the first electrode and the second electrode protrude from the back surface of the light emitting surface of the light emitting device. In other words, the conductive wire related to the first electrode and the second electrode absorbs light and can be prevented from being blocked, thereby improving the light emission rate. Furthermore, in the light emitting device of the present invention, a transmissive layer is provided on the upper surface of the first electrode layer, the light emitted by the transmissive layer can be made more uniform, and the upper surface of the transmissive layer is made uneven. As a result, the surface area of the transmission layer is increased, and the light extraction rate is improved. By providing the first electrode layer between the transmission layer and the second conductivity type semiconductor layer, the current transmitted from the second electrode can be uniformly dispersed in the second conductivity type semiconductor layer by the first electrode layer, By disposing the second electrode layer between the first electrode and the first conductivity type semiconductor layer, the current transmitted from the first electrode can be uniformly dispersed in the first conductivity type semiconductor layer by the second electrode layer. And the light emission performance of the light emitting structure is improved. A reflective layer is provided on the surface of the second electrode layer away from the first conductive type semiconductor layer, and the light emitting structure reflects light emitted from the first conductive type semiconductor layer to the light emitting surface of the light emitting structure. Thus, the light emission rate of the light emitting device is increased.

本発明の実施例または従来の技術案をさらに分かりやすく説明するため、以下に実施例または従来技術を描写するのに必要な図について簡単に紹介する。見て分かる通り、以下に描写する図は本発明の実施例の一部に過ぎず、本領域の一般の技術者にとって、創造力を働かさなくても、これらの図に基づいて他の図を取得できるものとする。
本発明の実施例が提供する発光装置の斜視構造を示した図である。 本発明の実施例が提供する図1のA−A' 断面の構造を示した図である。 本発明の実施例が提供する別の発光装置の斜視構造を示した図である。 本発明の実施例が提供する図3のA−A'断面の構造を示した図である。 本発明の実施例が提供する別の発光装置の斜視構造を示した図である。 本発明の実施例が提供する図5のA−A'断面の構造を示した図である。 本発明の実施例が提供する発光装置の工程系統図である。 本発明の実施例が提供する発光装置の工程系統図である。 本発明の実施例が提供する発光装置の工程系統図である。 本発明の実施例が提供する発光装置の工程系統図である。 本発明の実施例が提供する発光装置の工程系統図である。 本発明の実施例が提供する発光装置の工程系統図である。 本発明の実施例が提供する発光装置の工程系統図である。 本発明の実施例が提供する発光装置の工程系統図である。 本発明の実施例が提供する発光装置の工程系統図である。 本発明の実施例が提供する発光装置の工程系統図である。 本発明の実施例が提供する発光装置の工程系統図である。 本発明の実施例が提供する発光装置の実装の構造を示した図である。
In order to explain the embodiments of the present invention or the conventional technical solutions more easily, the following briefly introduces the drawings necessary to describe the embodiments or the prior art. As can be seen, the drawings depicted below are only a part of the embodiments of the present invention, and other engineers based on these drawings can be used without creativity for general engineers in this area. It can be acquired.
It is the figure which showed the perspective structure of the light-emitting device which the Example of this invention provides. It is the figure which showed the structure of the AA 'cross section of FIG. 1 which the Example of this invention provides. It is the figure which showed the perspective structure of another light-emitting device which the Example of this invention provides. FIG. 4 is a diagram illustrating a structure of an AA ′ cross section of FIG. 3 provided by an embodiment of the present invention. It is the figure which showed the perspective structure of another light-emitting device which the Example of this invention provides. FIG. 6 is a diagram illustrating the structure of the AA ′ cross section of FIG. 5 provided by an embodiment of the present invention. It is a process flow diagram of a light emitting device provided by an example of the present invention. It is a process flow diagram of a light emitting device provided by an example of the present invention. It is a process flow diagram of a light emitting device provided by an example of the present invention. It is a process flow diagram of a light emitting device provided by an example of the present invention. It is a process flow diagram of a light emitting device provided by an example of the present invention. It is a process flow diagram of a light emitting device provided by an example of the present invention. It is a process flow diagram of a light emitting device provided by an example of the present invention. It is a process flow diagram of a light emitting device provided by an example of the present invention. It is a process flow diagram of a light emitting device provided by an example of the present invention. It is a process flow diagram of a light emitting device provided by an example of the present invention. It is a process flow diagram of a light emitting device provided by an example of the present invention. It is the figure which showed the structure of mounting of the light-emitting device which the Example of this invention provides.

以下に本発明の実施例における図と組み合わせて、本発明の実施例における技術案を分かりやすく、すべて説明する。明らかな点として、描写する実施例は、本発明の実施例の一部に過ぎず、すべての実施例ではない。本発明の実施例に基づいて、本領域の一般の技術者が、創造力を働かさないという前提のもとに取得したその他すべての実施例は、すべて本発明の保護範囲内に属するものとする。   In the following, the technical solutions in the embodiments of the present invention will be described in an easy-to-understand manner in combination with the drawings in the embodiments of the present invention. Apparently, the depicted embodiments are only a part of the embodiments of the present invention and not all embodiments. All other embodiments obtained based on the embodiment of the present invention on the assumption that a general engineer in this field does not use creativity shall be within the protection scope of the present invention. .

説明すべき点として、本発明の実施例において使用される用語は、特定の実施例を説明するためだけのものであって、本発明を制限するためのものではない。本発明の実施例と付属の特許明細書において使用される単数形の"1種"、"前記"も、前後の文脈でその他の含意をはっきりと明示しない限り、複数形を含むものとする。さらに、当然のことながら、本文中で使用される用語である"と/または"は、1つのまたは複数の関連する列挙された項目を含むどれかまたはすべての可能な結合を指す。さらに、本実施例の説明に使用される"上部"、"下部"、"上面"、"下面"、"上表面""下表面"等の方向の表現は、すべて発光装置の出光方向を参考にしている。1つの特定の部品については,出光方向に向いた部分を"上部"、"上面"、"上表面"等と呼ぶことができ、出光方向を背にした部分を、"下部"、"下面"、"下表面"等と呼ぶことができる。   It should be noted that the terminology used in the embodiments of the present invention is only for describing specific embodiments and is not intended to limit the present invention. The singular forms “one” and “above” used in the embodiments of the present invention and the accompanying patent specification shall also include the plural unless the context clearly dictates otherwise. Further, it should be understood that the terms “and / or” as used herein refer to any or all possible combinations including one or more associated listed items. In addition, the expressions such as “upper”, “lower”, “upper surface”, “lower surface”, “upper surface” and “lower surface” used in the description of this embodiment are all based on the light emitting direction of the light emitting device. I have to. For one specific part, the part facing the light emission direction can be called “upper”, “upper surface”, “upper surface”, etc., and the part facing the light emission direction is “lower”, “lower surface” , "Lower surface" etc.

図1と図2を参照する。図1は、本発明の実施例が提供する発光装置の斜視構造を示した図である。図2は、本発明の実施例が提供する図1のA−A'断面の構造を示した図である。前記発光装置10は、発光構造体13と、第1電極16と、第1電極層12と、第2電極18と、絶縁層17と、からなる。前記発光構造体13は、通電後に光を発するのに用いられ、前記発光構造体13は、順番に積層して設置される第1導電型半導体層133と、活性層132と、第2導電型半導体層131を備える。前記第1電極16は、前記第1導電型半導体層133における前記活性層132から離れた表面に設けられるとともに、前記第1導電型半導体層133と電気的に接続されることによって、前記発光構造体13に電流を伝達する。前記第1電極層12は、前記第2導電型半導体層131における前記活性層132から離れた表面に設けられるとともに、前記第2導電型半導体層131と電気的に接続されることによって、前記発光構造体13に電流を伝達する。前記第2電極18は、前記発光構造体13を貫通するとともに、前記第1電極層12と電気的に接続されることによって、前記第1電極層12によって前記発光構造体13に電流を伝達する。前記絶縁層17が、前記発光構造体13と前記第2電極18の間に設けられることによって、前記第2電極18が前記発光構造体13と直接電気的に接続されるのを防ぐ。   Please refer to FIG. 1 and FIG. FIG. 1 is a perspective view of a light emitting device provided by an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a diagram illustrating the structure of the AA ′ cross section of FIG. 1 provided by the embodiment of the present invention. The light emitting device 10 includes a light emitting structure 13, a first electrode 16, a first electrode layer 12, a second electrode 18, and an insulating layer 17. The light emitting structure 13 is used to emit light after being energized. The light emitting structure 13 includes a first conductive semiconductor layer 133, an active layer 132, and a second conductive type that are stacked in order. A semiconductor layer 131 is provided. The first electrode 16 is provided on the surface of the first conductive semiconductor layer 133 away from the active layer 132, and is electrically connected to the first conductive semiconductor layer 133, whereby the light emitting structure is formed. Current is transmitted to the body 13. The first electrode layer 12 is provided on the surface of the second conductive semiconductor layer 131 away from the active layer 132, and is electrically connected to the second conductive semiconductor layer 131, whereby the light emission. Current is transmitted to the structure 13. The second electrode 18 penetrates the light emitting structure 13 and is electrically connected to the first electrode layer 12, thereby transmitting a current to the light emitting structure 13 through the first electrode layer 12. . The insulating layer 17 is provided between the light emitting structure 13 and the second electrode 18, thereby preventing the second electrode 18 from being directly electrically connected to the light emitting structure 13.

本実施例をさらに完全なものにするため、前記発光装置10は、さらに透過層11を備え、前記透過層11は、前記第1電極層12における前記第2導電型半導体層131から離れた表面に設けられ、前記透過層11は、前記発光構造体13の光抽出率を向上させるのに用いられる。前記透過層11は、透明の材質であり、サファイヤや、樹脂などであることができるが、ここでは制限しない。前記透過層11は光を通すのに用いられ、透過層11の上表面を凹凸構造のようなパターン状にすることができることによって、透過層の表面積が大きくなり、その光抽出率が向上する。   In order to further complete the present embodiment, the light emitting device 10 further includes a transmissive layer 11, and the transmissive layer 11 is a surface of the first electrode layer 12 away from the second conductive semiconductor layer 131. The transmission layer 11 is used to improve the light extraction rate of the light emitting structure 13. The transmissive layer 11 is made of a transparent material and may be sapphire or resin, but is not limited here. The transmissive layer 11 is used to transmit light. Since the upper surface of the transmissive layer 11 can be formed into a pattern like a concavo-convex structure, the surface area of the transmissive layer is increased and the light extraction rate is improved.

前記発光装置10は、さらに第1パッド19と第2パッド20を備える。前記第1パッド19は、前記第1電極16における前記第1導電型半導体層133から離れた表面の中心に設けられ、前記第1電極16と電気的に接続され、前記第1電極16に電流を送信するのに用いられる。前記第2パッド20は、前記第2電極18における前記第1電極層12から離れた表面の中心部に設けられ、前記第2電極18と電気的に接続され、前記第2電極20に電流を送信するのに用いられる。   The light emitting device 10 further includes a first pad 19 and a second pad 20. The first pad 19 is provided at the center of the surface of the first electrode 16 away from the first conductive semiconductor layer 133, and is electrically connected to the first electrode 16. Used to send The second pad 20 is provided at the center of the surface of the second electrode 18 away from the first electrode layer 12, is electrically connected to the second electrode 18, and supplies current to the second electrode 20. Used to transmit.

具体的に、以下に発光装置10の構造に基づいて、その構造に含まれる部品について順番に詳述する。さらに、説明しやすくするため、ここでは出光方向は上向きとする。明らかな通り、参照対象が変化した場合、本実施例における方位用語は対応して変化するものとする。   Specifically, based on the structure of the light-emitting device 10, the components included in the structure will be described in detail below in order. Furthermore, for ease of explanation, the light output direction is upward here. As is apparent, when the reference object changes, the orientation term in the present embodiment changes correspondingly.

第1電極層12は、透過層11の下表面に設けられ、第1電極層12は、導電材料であり、前記導電材料は、Au、Al、Pd、Rhなどのように透光性能を備える。それらが形成する薄膜は、導電できるだけではなく、さらに光を通すこともできる。本発明は、材料を制限しない。   The first electrode layer 12 is provided on the lower surface of the transmission layer 11, and the first electrode layer 12 is a conductive material, and the conductive material has a light-transmitting performance such as Au, Al, Pd, Rh, and the like. . The thin films they form can not only conduct, but also allow light to pass through. The present invention does not limit the material.

発光構造体13は、第1電極層12における透過層11から離れた表面、つまり第1電極層12の下表面に設けられ、発光構造体13は、第1導電型半導体層133と、活性層132と、第2導電型半導体層131を備える。そのうち、活性層132は、第1導電型半導体層133の上に設けられ、第2導電型半導体層131は、活性層132の上に設けられる。前記第1導電型半導体層133と、前記活性層132及び前記第2導電型半導体層131の3つは、電気的に接続されることによって発光できる部品を形成する。前記部品は、上表面と下表面においてそれぞれ異なる電極に接続された後、通電し発光することができる。   The light emitting structure 13 is provided on the surface of the first electrode layer 12 away from the transmission layer 11, that is, the lower surface of the first electrode layer 12. The light emitting structure 13 includes the first conductive semiconductor layer 133, the active layer, and the active layer. 132 and a second conductivity type semiconductor layer 131. Among them, the active layer 132 is provided on the first conductivity type semiconductor layer 133, and the second conductivity type semiconductor layer 131 is provided on the active layer 132. The first conductive semiconductor layer 133, the active layer 132, and the second conductive semiconductor layer 131 are electrically connected to form a component that can emit light. The components can emit light when energized after being connected to different electrodes on the upper and lower surfaces.

そのうち、第1導電型半導体層133は、第1種イオンをドープした少なくとも1つの半導体層を備え、第1導電型半導体層133がN型半導体層である時、第1導電型半導体層133は、GaN、InN、AlN、InGaN、AlGaN、InAlGaN、AlInN、AlGaAs、GaP、GaAs、GaAsP、またはAlGaInPのうちの少なくとも1種を備えることができる。第1種イオンがN型イオンである時、第1導電型半導体層133は、Si、Ge、Sn、Se、またはTeを備えることができる。   Among these, the first conductive semiconductor layer 133 includes at least one semiconductor layer doped with the first type ions, and when the first conductive semiconductor layer 133 is an N-type semiconductor layer, the first conductive semiconductor layer 133 is GaN, InN, AlN, InGaN, AlGaN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, or AlGaInP. When the first type ions are N-type ions, the first conductive semiconductor layer 133 may include Si, Ge, Sn, Se, or Te.

活性層132は、III−V族化合物半導体を備えることができる。活性層132は、単一量子井戸構造、多重量子井戸構造、量子線構造、または量子点構造のうちの少なくとも1種を備える。活性層132の井戸層/バリヤー層は、InGaN/GaN、GaN/AlGaN、またはInGaN/InGaNのうちの対構造を備えることができるが、実施例はこれに制限されない。活性層132は、発せられる光の波長によって決まるバンドギャップを備える材料によって製造される。例えば、波長が460〜470nmの青色の光である場合、活性層132は、InGaN井戸層/GaNバリヤー層を含む単一量子井戸構造または多重量子井戸構造を備える。活性層132は、可視放射線帯域を提供することができる光、例えば青色の光、赤色の光、緑色の光の材料を選択的に備えることができ、前記材料は、実施例の技術範囲内において変えることができる。   The active layer 132 may include a III-V compound semiconductor. The active layer 132 includes at least one of a single quantum well structure, a multiple quantum well structure, a quantum line structure, or a quantum dot structure. The well layer / barrier layer of the active layer 132 may include a pair structure of InGaN / GaN, GaN / AlGaN, or InGaN / InGaN, but the embodiment is not limited thereto. The active layer 132 is made of a material having a band gap that depends on the wavelength of emitted light. For example, in the case of blue light having a wavelength of 460 to 470 nm, the active layer 132 has a single quantum well structure or a multiple quantum well structure including an InGaN well layer / GaN barrier layer. The active layer 132 may optionally comprise light capable of providing a visible radiation band, for example blue light, red light, green light material, said material being within the scope of the examples. Can be changed.

前記第2導電型半導体層131は、第2種イオンをドープした少なくとも1つの半導体層を備え、第2導電型半導体層131がP型半導体層である時、第2導電型半導体層131は、GaN、InN、AlN、InGaN、AlGaN、InAlGaN、AlInN、AlGaAs、GaP、GaAs、GaAsP、またはAlGaInPのうちの少なくとも1種を備えることができる。第2種イオンがP型イオンである時、第2導電型半導体層131は、Mg、Zn、Ca、Sr、またはBaのうちの少なくとも1種を備えることができる。   The second conductive semiconductor layer 131 includes at least one semiconductor layer doped with a second species ion. When the second conductive semiconductor layer 131 is a P-type semiconductor layer, the second conductive semiconductor layer 131 is: At least one of GaN, InN, AlN, InGaN, AlGaN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, or AlGaInP can be provided. When the second species ions are P-type ions, the second conductive semiconductor layer 131 may include at least one of Mg, Zn, Ca, Sr, or Ba.

具体的には、発光構造体13における第2導電型半導体層131の上表面と第1電極層12の下表面は接触する。よって、第2導電型半導体層131と第1電極層12の間は、安定して均一に電流を拡散することができる。   Specifically, the upper surface of the second conductive semiconductor layer 131 in the light emitting structure 13 and the lower surface of the first electrode layer 12 are in contact with each other. Therefore, the current can be stably and uniformly diffused between the second conductive semiconductor layer 131 and the first electrode layer 12.

第1電極16と前記発光構造体13は、電気的に接続される。具体的には、第1電極16は、発光構造体13の中の第1導電型半導体層133における活性層132から離れた表面と接触することによって、第1電極16と第1導電型半導体層133の間で電流がさらに均一に送信される。第1電極16が、第1導電型半導体層133の下表面と接触する具体的な位置については限定しない。   The first electrode 16 and the light emitting structure 13 are electrically connected. Specifically, the first electrode 16 contacts the surface of the first conductive type semiconductor layer 133 in the light emitting structure 13 away from the active layer 132, so that the first electrode 16 and the first conductive type semiconductor layer are contacted. Between 133, the current is transmitted more evenly. The specific position where the first electrode 16 is in contact with the lower surface of the first conductivity type semiconductor layer 133 is not limited.

第2電極18は、第1電極層12と接触する。具体的には、第2電極18は、発光構造体13を貫通し、第1電極層12における透過層11から離れた表面と接触し、電気的な接続を形成することによって、第1電極層12によって電流を第2導電型半導体層131に分散する。説明すべき点として、第2電極18は発光構造体13を貫通するが、発光構造体13との間に電気的な接触は存在しない。具体的には、第2電極18と発光構造体13の間には絶縁層17が設けられることによって、第2電極18が発光構造体13と直接接続されるのではなく、第2電極層12によって発光構造体13の第2導電型半導体層131と間接的に接続されるようにすることによって、電流の伝達が実現する。   The second electrode 18 is in contact with the first electrode layer 12. Specifically, the second electrode 18 penetrates the light emitting structure 13, contacts the surface of the first electrode layer 12 away from the transmissive layer 11, and forms an electrical connection, thereby forming the first electrode layer. 12 distributes the current to the second conductive type semiconductor layer 131. As a point to be described, the second electrode 18 penetrates the light emitting structure 13, but there is no electrical contact with the light emitting structure 13. Specifically, by providing the insulating layer 17 between the second electrode 18 and the light emitting structure 13, the second electrode 18 is not directly connected to the light emitting structure 13, but the second electrode layer 12. By indirectly connecting to the second conductive semiconductor layer 131 of the light emitting structure 13 by this, current transmission is realized.

絶縁層17に使用される材料は、絶縁塗料、絶縁テープ、絶縁紙、絶縁繊維製品、プラスチック、ゴム、塗装布、塗装管、及び絶縁浸漬処理された繊維製品、電鋳膜、複合製品と粘着テープ、電鋳積層製品等の有機固体絶縁材料を備えるが、それに限定されない。無機固体絶縁材料は、主に雲母、ガラス、セラミックス、及びその他の製品等である。   Materials used for the insulating layer 17 are insulating paint, insulating tape, insulating paper, insulating fiber product, plastic, rubber, paint cloth, paint tube, and insulation dipped fiber product, electroformed film, and composite product. An organic solid insulating material such as a tape or an electroformed laminated product is provided, but not limited thereto. Inorganic solid insulating materials are mainly mica, glass, ceramics, and other products.

さらに、第1電極16と第2電極18の材質は、Ti、Al、In、Ta、Pd、Co、Ni、Si、Ge、Ag、Rh、Au、Ir、Pt、W、またはAuのうちの少なくとも1種または複数の混合物の材料であることができるが、本実施例は、前記材料に制限されない。さらに、第1電極16と第2電極18それぞれの俯瞰構造は、直線パターン、湾曲パターン、直線パターンと湾曲パターンの混合パターン、1つのパターンから分かれた複数のパターン、多辺形パターン、碁盤目状パターン、ドットパターン、ひし型パターン、平行四辺形パターン、グリッドパターン、バーパターン、クロスパターン、星形パターン、円形パターン、またはこれらの混合パターンを備えるが、それらに限定されない。本実施例はこれらに制限されない。パターンを備える第1電極16は、第1導電型半導体層133に均一に電力供給することができ、これによって電流が1つの場所に集中するのを防止する。パターンを備える第2電極18は、第1電極層12に均一に電力供給することができ、これによって電流が1つの場所に集中するのを防止する。   Furthermore, the material of the first electrode 16 and the second electrode 18 is Ti, Al, In, Ta, Pd, Co, Ni, Si, Ge, Ag, Rh, Au, Ir, Pt, W, or Au. The material may be at least one or a mixture of materials, but the embodiment is not limited to the material. Furthermore, the bird's-eye view structure of each of the first electrode 16 and the second electrode 18 includes a linear pattern, a curved pattern, a mixed pattern of a linear pattern and a curved pattern, a plurality of patterns separated from one pattern, a polygonal pattern, and a grid pattern. A pattern, a dot pattern, a rhombus pattern, a parallelogram pattern, a grid pattern, a bar pattern, a cross pattern, a star pattern, a circular pattern, or a mixed pattern thereof, but is not limited thereto. The present embodiment is not limited to these. The first electrode 16 having a pattern can uniformly supply power to the first conductive semiconductor layer 133, thereby preventing current from being concentrated in one place. The second electrode 18 with the pattern can power the first electrode layer 12 uniformly, thereby preventing the current from concentrating in one place.

さらに、第1電極16の下部に、第1パッド19を形成することができることによって、安定して電力が送信される。第2電極18の下部は、第2パッド20に接続することができることによって、安定して電力が送信される。第1パッド19と第2パッド20は、Ti、Al、In、Ta、Pd、Co、Ni、Si、Ge、Ag、Rh、Au、Ir、Pt、W、またはAuを含む材料で製造されることができる。本実施例は、前記材料を制限しない。   Furthermore, since the first pad 19 can be formed below the first electrode 16, power can be transmitted stably. Since the lower part of the second electrode 18 can be connected to the second pad 20, power is stably transmitted. The first pad 19 and the second pad 20 are made of a material containing Ti, Al, In, Ta, Pd, Co, Ni, Si, Ge, Ag, Rh, Au, Ir, Pt, W, or Au. be able to. This embodiment does not limit the material.

上述の構造に基づいて、第1パッド19を電源正極に接続することによって、第1パッド19は電源からの電流を獲得することができるとともに、前記電流を第1パッド19と接続された第1電極16に伝達する。第1電極16は、電流を第1電極16と接続された発光構造体13における第1導電型半導体層133にまで拡散する。さらに、発光構造体13の第2導電型半導体層131は、電流を第2導電型半導体層131と接続された第1電極層12に安定して伝達し、さらに第1電極層12によって電流を第2電極18に伝達する。さらに、第2パッド20に流れ、第2パッド20によって電源負極に電流を戻す。ここで、電流の閉回路が形成される。発光構造体13の第1導電型半導体層133には電流が流入し、第2導電型半導体層131からは電流が流出することによって発光する。説明すべき点として、第1電極16と第2電極18のうち具体的にどちらが正極に接続され、どちらが負極に接続されるかは、発光構造体13の構造に基づいて確定されるため、ここでは第1電極16と第2電極18が接続される電極を限定しない。   Based on the above-described structure, by connecting the first pad 19 to the power supply positive electrode, the first pad 19 can acquire a current from the power supply, and the current is connected to the first pad 19. Transmit to the electrode 16. The first electrode 16 diffuses current to the first conductive semiconductor layer 133 in the light emitting structure 13 connected to the first electrode 16. Furthermore, the second conductive type semiconductor layer 131 of the light emitting structure 13 stably transmits current to the first electrode layer 12 connected to the second conductive type semiconductor layer 131, and further the current is transmitted by the first electrode layer 12. This is transmitted to the second electrode 18. Further, the current flows to the second pad 20, and the current is returned to the power source negative electrode by the second pad 20. Here, a closed circuit of current is formed. A current flows into the first conductive semiconductor layer 133 of the light emitting structure 13, and light is emitted from the second conductive semiconductor layer 131 when the current flows out. As a point to be described, which of the first electrode 16 and the second electrode 18 is specifically connected to the positive electrode and which is connected to the negative electrode is determined on the basis of the structure of the light emitting structure 13. Then, the electrode to which the first electrode 16 and the second electrode 18 are connected is not limited.

従来技術と比較して、図1〜2に示す発光装置10を採用すると、第1電極16と第2電極18の2つの電極は発光装置10の出光面の裏面から突き出るため、発光装置10の発光面からさらに導線を引き出す必要がなく、第1電極16と第2電極18と関連のある導線が光を吸收し、遮るのを防ぐことができ、出光率が向上する。さらに、本発明の発光装置10は、第1電極層12の上面に透過層11を設け、前記透過層11によって発せられた光をさらに均一にすることができる。さらに、透過層11の上表面を凹凸状にすることができることによって、透過層11の表面積が大きくなり、光抽出率が向上する。   When the light emitting device 10 shown in FIGS. 1 and 2 is employed as compared with the prior art, the two electrodes of the first electrode 16 and the second electrode 18 protrude from the back surface of the light emitting surface of the light emitting device 10. There is no need to further draw out a conducting wire from the light emitting surface, and the conducting wire related to the first electrode 16 and the second electrode 18 can absorb and block light, thereby improving the light emission rate. Furthermore, in the light emitting device 10 of the present invention, the transmissive layer 11 is provided on the upper surface of the first electrode layer 12, and the light emitted by the transmissive layer 11 can be made more uniform. Furthermore, since the upper surface of the transmission layer 11 can be made uneven, the surface area of the transmission layer 11 is increased, and the light extraction rate is improved.

図3と図4を参照する。図3は、本発明の実施例が提供する別の発光装置の斜視構造を示した図である。図4は、本発明の実施例が提供する図3のA−A' 断面の構造を示した図である。前記発光装置10は、図2に示す発光構造体10が備える発光構造体13と、第1電極16と、第1電極層12と、第2電極18と、絶縁層17と、透過層11と、第1パッド19と、第2パッド20を備える外、さらに第2電極層14を備える。前記第2電極層14は、第1導電型半導体層133における絶縁層から離れた表面に設けられ、第1電極16は、第2電極層14によって第1導電型半導体層133に接続され、第1導電型半導体層133に均一に電流を送信することで、電流が1つのトランスミッションに集中しない。そのうち、前記第2電極層14は、第1導電型半導体層133の下表面全体を被覆する。さらに、第2電極層14には、隙間が設けられ、第2電極16と電気的に接続される第2パッド20は、前記隙間から突き出ることによって、外部の導線と接続される。さらに、第2電極層14と第2パッド20の間には、絶縁層17が設けられることで、第2電極層14と第2パッド20が電気的に接続されることによって引き起こされる発光装置10全体の短絡が防止される。説明すべき点として、第2電極層14に使用される材料は、Ag、Ni、Al、Rh、Pd、Ir、Ru、Mg、Zn、Pt、Au、Hfを含むが、これらに限定されない。   Please refer to FIG. 3 and FIG. FIG. 3 is a perspective view of another light emitting device provided by an embodiment of the present invention. FIG. 4 is a diagram showing the structure of the AA ′ cross section of FIG. 3 provided by the embodiment of the present invention. The light emitting device 10 includes a light emitting structure 13 included in the light emitting structure 10 illustrated in FIG. 2, a first electrode 16, a first electrode layer 12, a second electrode 18, an insulating layer 17, and a transmission layer 11. In addition to the first pad 19 and the second pad 20, a second electrode layer 14 is further provided. The second electrode layer 14 is provided on a surface of the first conductive semiconductor layer 133 away from the insulating layer. The first electrode 16 is connected to the first conductive semiconductor layer 133 by the second electrode layer 14. By transmitting the current uniformly to the one-conductivity-type semiconductor layer 133, the current does not concentrate on one transmission. Among them, the second electrode layer 14 covers the entire lower surface of the first conductive semiconductor layer 133. Further, a gap is provided in the second electrode layer 14, and the second pad 20 electrically connected to the second electrode 16 is connected to an external conductor by protruding from the gap. Further, the insulating layer 17 is provided between the second electrode layer 14 and the second pad 20, so that the light emitting device 10 caused by the electrical connection between the second electrode layer 14 and the second pad 20. The entire short circuit is prevented. As a point to be described, materials used for the second electrode layer 14 include, but are not limited to, Ag, Ni, Al, Rh, Pd, Ir, Ru, Mg, Zn, Pt, Au, and Hf.

従来技術と比較して、図3〜4に示す発光装置10を採用すると、第1電極16と第2電極18の2つの電極は発光装置10の出光面の裏面から突き出るため、発光装置10の発光面からさらに導線を引き出す必要がなく、第1電極16と第2電極18と関連のある導線が光を吸收し、遮るのを防ぐことができ、出光率が向上する。さらに、本発明の発光装置10は、第1電極層12の上面に透過層11を設け、前記透過層11によって発せられた光をさらに均一にすることができる。さらに、透過層11の上表面を凹凸状にすることができることによって、透過層11の表面積が大きくなり、光抽出率が向上する。透過層11と第2導電型半導体層131の間には第1電極層が設けられることによって、第2電極18から伝わる電流を、第1電極層12によって第2導電型半導体層131に均一に分散することができる。第1電極16と第1導電型半導体層133の間に第2電極層14が設けられることによって、第1電極16から伝わる電流を、第2電極層14によって第1導電型半導体層133に均一に分散することができ、発光構造体13の発光性能が向上する。   Compared with the prior art, when the light emitting device 10 shown in FIGS. 3 to 4 is adopted, the two electrodes of the first electrode 16 and the second electrode 18 protrude from the back surface of the light emitting surface of the light emitting device 10. There is no need to further draw out a conducting wire from the light emitting surface, and the conducting wire related to the first electrode 16 and the second electrode 18 can absorb and block light, thereby improving the light emission rate. Furthermore, in the light emitting device 10 of the present invention, the transmissive layer 11 is provided on the upper surface of the first electrode layer 12, and the light emitted by the transmissive layer 11 can be made more uniform. Furthermore, since the upper surface of the transmission layer 11 can be made uneven, the surface area of the transmission layer 11 is increased, and the light extraction rate is improved. By providing the first electrode layer between the transmissive layer 11 and the second conductive semiconductor layer 131, the current transmitted from the second electrode 18 is uniformly applied to the second conductive semiconductor layer 131 by the first electrode layer 12. Can be dispersed. By providing the second electrode layer 14 between the first electrode 16 and the first conductive type semiconductor layer 133, the current transmitted from the first electrode 16 is uniformly supplied to the first conductive type semiconductor layer 133 by the second electrode layer 14. The light emission performance of the light emitting structure 13 is improved.

図5と図6を参照する。図5は、本発明の実施例が提供する別の発光装置の斜視構造を示した図である。図6は、本発明の実施例が提供する図5のA−A' 断面の構造を示した図である。前記発光装置10は、図4に示す発光構造体10が備える発光構造体13と、第1電極16と、第1電極層12と、第2電極18と、絶縁層17と、透過層11と、第1パッド19と、第2パッド20と、第2電極層14を備える外、さらに反射層15を備える。前記反射層15は、第2電極層14における第1導電型半導体層133から離れた表面全体に設けられ、発光構造体13が第1導電型半導体層133から発散した光を反射するのに用いられることで、発光装置10の光抽出率が向上する。   Please refer to FIG. 5 and FIG. FIG. 5 is a perspective view of another light emitting device provided by the embodiment of the present invention. FIG. 6 is a view showing the structure of the AA ′ cross section of FIG. 5 provided by the embodiment of the present invention. The light emitting device 10 includes a light emitting structure 13 included in the light emitting structure 10 illustrated in FIG. 4, a first electrode 16, a first electrode layer 12, a second electrode 18, an insulating layer 17, and a transmission layer 11. In addition to the first pad 19, the second pad 20, and the second electrode layer 14, a reflective layer 15 is further provided. The reflective layer 15 is provided on the entire surface of the second electrode layer 14 away from the first conductive semiconductor layer 133, and is used for the light emitting structure 13 to reflect light emitted from the first conductive semiconductor layer 133. As a result, the light extraction rate of the light emitting device 10 is improved.

さらに、反射層15は2つのすき間を設け、第1電極16または第1パッド19が、そのうち1つの隙間から突き出ることによって、外部の導線に接続され、第2パッド20は、別の1つの隙間から突き出ることによって外部の導線に接続される。   Further, the reflective layer 15 is provided with two gaps, and the first electrode 16 or the first pad 19 protrudes from one of the gaps to be connected to an external conductor, and the second pad 20 has another gap. It is connected to an external conductor by protruding from.

説明すべき点として、反射層15は、Al、Ag等の金属材料であることができる。金属材料である時、反射層15と第2パッド20の間には、さらに絶縁層17が設けられる。反射層15は、PVC、PU等の高分子材料であることもできる。本発明の実施例は、反射層15を構成する材料を制限しない。しかしながら、本実施例において、反射層15の材料は、絶縁の高分子であることが好ましい。このように常に反射の働きをすることで、さらに外部と絶縁され、安全性が高まる。   As a point to be described, the reflective layer 15 may be a metal material such as Al or Ag. When the metal material is used, an insulating layer 17 is further provided between the reflective layer 15 and the second pad 20. The reflective layer 15 can also be a polymer material such as PVC or PU. The embodiment of the present invention does not limit the material constituting the reflective layer 15. However, in the present embodiment, the material of the reflective layer 15 is preferably an insulating polymer. By always acting as a reflection in this way, it is further insulated from the outside, and safety is increased.

従来技術と比較して、図5〜6に示す発光装置10を採用すると、第1電極16と第2電極18の2つの電極は発光装置10の出光面の裏面から突き出るため、発光装置10の発光面からさらに導線を引き出す必要がなく、第1電極16と第2電極18と関連のある導線が光を吸收し、遮るのを防ぐことができ、出光率が向上する。さらに、本発明の発光装置10は、第1電極層12の上面に透過層11を設け、前記透過層11によって発せられた光をさらに均一にすることができる。さらに、透過層11の上表面を凹凸状にすることができることによって、透過層11の表面積が大きくなり、光抽出率が向上される。透過層11と第2導電型半導体層131の間には第1電極層が設けられることによって、第2電極18から伝わる電流を、第1電極層12によって第2導電型半導体層131に均一に分散することができる。第1電極16と第1導電型半導体層133の間に第2電極層14が設けられることによって、第1電極16から伝わる電流を、第2電極層14によって第1導電型半導体層133に均一に分散することができ、発光構造体13の発光性能が向上する。第2電極層14における第1導電型半導体層133から離れた表面には、反射層15が設けられ、発光構造体13が第1導電型半導体層133から発散した光を発光構造体13の出光面にまで反射することによって、発光装置10の出光率が向上する。   Compared with the prior art, when the light emitting device 10 shown in FIGS. 5 to 6 is adopted, the two electrodes of the first electrode 16 and the second electrode 18 protrude from the back surface of the light emitting surface of the light emitting device 10, There is no need to further draw out a conducting wire from the light emitting surface, and the conducting wire related to the first electrode 16 and the second electrode 18 can absorb and block light, thereby improving the light emission rate. Furthermore, in the light emitting device 10 of the present invention, the transmissive layer 11 is provided on the upper surface of the first electrode layer 12, and the light emitted by the transmissive layer 11 can be made more uniform. Furthermore, since the upper surface of the transmission layer 11 can be made uneven, the surface area of the transmission layer 11 is increased and the light extraction rate is improved. By providing the first electrode layer between the transmissive layer 11 and the second conductive semiconductor layer 131, the current transmitted from the second electrode 18 is uniformly applied to the second conductive semiconductor layer 131 by the first electrode layer 12. Can be dispersed. By providing the second electrode layer 14 between the first electrode 16 and the first conductive type semiconductor layer 133, the current transmitted from the first electrode 16 is uniformly supplied to the first conductive type semiconductor layer 133 by the second electrode layer 14. The light emission performance of the light emitting structure 13 is improved. A reflective layer 15 is provided on the surface of the second electrode layer 14 away from the first conductive type semiconductor layer 133, and the light emitted from the first conductive type semiconductor layer 133 is emitted from the first conductive type semiconductor layer 133. By reflecting to the surface, the light output rate of the light emitting device 10 is improved.

図7〜図17は、本発明の実施例が提供する発光装置の工程系統図である。前記生産プロセスは、図5〜図6に示す発光装置10を製造するためのものである。   7 to 17 are process flow diagrams of the light emitting device provided by the embodiment of the present invention. The production process is for manufacturing the light emitting device 10 shown in FIGS.

図7に示すように、透過層11には第1電極層12が形成される。第1電極層12は、Au、Al等が形成する薄膜によって構成されることで、光を通すことができるとともに、導電性能を備える。   As shown in FIG. 7, the first electrode layer 12 is formed on the transmissive layer 11. The first electrode layer 12 is configured by a thin film formed of Au, Al, or the like, so that light can pass through and the conductive performance is provided.

第1電極層12に発光構造体13が形成され、そのうち、発光構造体13は、順番に、積層された第1導電型半導体層133と、活性層132と、第2導電型半導体層131を備える。   A light emitting structure 13 is formed on the first electrode layer 12, and the light emitting structure 13 includes, in order, a stacked first conductive semiconductor layer 133, an active layer 132, and a second conductive semiconductor layer 131. Prepare.

第1導電型半導体層133に活性層132が形成される。活性層132は、III−V族化合物半導体を備えることができる。活性層132は、単一量子井戸構造、多重量子井戸構造、量子線構造、量子点構造のうちの少なくとも1種を備えることができる。活性層132の井戸層/バリヤー層は、InGaN/GaN、GaN/AlGaN、またはInGaN/InGaNのうちの対構造を備えることができるが、実施例はこれに制限されない。   An active layer 132 is formed on the first conductivity type semiconductor layer 133. The active layer 132 may include a III-V compound semiconductor. The active layer 132 may have at least one of a single quantum well structure, a multiple quantum well structure, a quantum line structure, and a quantum point structure. The well layer / barrier layer of the active layer 132 may include a pair structure of InGaN / GaN, GaN / AlGaN, or InGaN / InGaN, but the embodiment is not limited thereto.

活性層132において第1電導性被覆を提供することができる。活性層132において第2電導性被覆を提供することができる。第1電導性被覆と第2電導性被覆は、GaN基半導体を備えることができるとともに、バンドギャップは、活性層132のバンドギャップより高い。   A first conductive coating can be provided in the active layer 132. A second conductive coating can be provided in the active layer 132. The first conductive coating and the second conductive coating can include a GaN-based semiconductor, and the band gap is higher than the band gap of the active layer 132.

活性層132は、例えば青色の光、赤色の光、または緑色の光といったカラー光を発する材料を備えることができ、前記材料は、実施例の技術範圍内で変えることができる。   The active layer 132 can comprise a material that emits color light, for example blue light, red light, or green light, which can be varied within the technical scope of the examples.

活性層132には、第2導電型半導体層131が形成され、第2導電型半導体層131は、第2種イオンをドープした少なくとも1つの半導体層と、第2電極接触層を備える。第2導電型半導体層131がP型半導体層である時、第2導電型半導体層131は、GaN、InN、AlN、InGaN、AlGaN、InAlGaN、AlInN、AlGaAs、GaP、GaAs、GaAsP、AlGaInPのうちの少なくとも1種を備えることができる。第2種イオンがP型イオンである時、第2導電型半導体層131は、Mg、Zn、Ca、SrとBaのうちの少なくとも1種を備えることができる。   A second conductive semiconductor layer 131 is formed on the active layer 132. The second conductive semiconductor layer 131 includes at least one semiconductor layer doped with a second species ion and a second electrode contact layer. When the second conductive type semiconductor layer 131 is a P type semiconductor layer, the second conductive type semiconductor layer 131 is composed of GaN, InN, AlN, InGaN, AlGaN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, and AlGaInP. At least one of the following. When the second species ions are P-type ions, the second conductive semiconductor layer 131 may include at least one of Mg, Zn, Ca, Sr, and Ba.

図8に示すように、エッチング生産プロセスによって発光構造体13に第1溝134を設け、前記第1溝134は、発光構造体13の1つの貫通キャビティであることによって、発光構造体13と接続される第1電極層12を露出する。   As shown in FIG. 8, a first groove 134 is provided in the light emitting structure 13 by an etching production process, and the first groove 134 is connected to the light emitting structure 13 by being one through cavity of the light emitting structure 13. The first electrode layer 12 is exposed.

図9に示すように、第1溝134は、第2電極18を配置するのに用いられ、第2電極18と第1電極層12を電気的に接続させる。そのうち、発光構造体13と第2電極18の間には、第1ギャップ135が生じる。   As shown in FIG. 9, the first groove 134 is used to arrange the second electrode 18 and electrically connects the second electrode 18 and the first electrode layer 12. Among these, a first gap 135 is generated between the light emitting structure 13 and the second electrode 18.

図10に示すように、第1ギャップ135の中には、絶縁層17が充填されており、第2電極18を発光構造体13の中に固定することによって、それと第1電極層12を、電気的に接続すると同時に、発光構造体13と絶縁する。絶縁層17に使用される材料は、絶縁塗料、絶縁テープ、絶縁紙、絶縁繊維製品、プラスチック、ゴム、塗装布、塗装管、及び絶縁浸漬処理された繊維製品、電鋳膜、複合製品と粘着テープ、電鋳積層製品等の有機固体絶縁材料を備えるが、それに限定されない。無機固体絶縁材料は、主に雲母、ガラス、セラミックス、及びその他の製品等である。本実施例は、絶縁層17に使用される材料を制限しない。   As shown in FIG. 10, the first gap 135 is filled with the insulating layer 17. By fixing the second electrode 18 in the light emitting structure 13, the first gap 135 and the first electrode layer 12 are Simultaneously with the electrical connection, the light emitting structure 13 is insulated. Materials used for the insulating layer 17 are insulating paint, insulating tape, insulating paper, insulating fiber product, plastic, rubber, paint cloth, paint tube, and insulation dipped fiber product, electroformed film, and composite product. An organic solid insulating material such as a tape or an electroformed laminated product is provided, but not limited thereto. Inorganic solid insulating materials are mainly mica, glass, ceramics, and other products. This embodiment does not limit the material used for the insulating layer 17.

図11に示すように、発光構造体13と絶縁層17上に第2電極層14をコーティングする。前記第2電極層14が使用する材料は、Ag、Ni、Al、Rh、Pd、Ir、Ru、Mg、Zn、Pt、Au、Hfを含むが、これらに限定されない。   As shown in FIG. 11, the second electrode layer 14 is coated on the light emitting structure 13 and the insulating layer 17. Materials used for the second electrode layer 14 include, but are not limited to, Ag, Ni, Al, Rh, Pd, Ir, Ru, Mg, Zn, Pt, Au, and Hf.

図12に示すように、エッチング生産プロセスによって第2電極層14上に第2溝141を設ける。第2溝141は、第2電極層14と、第2電極層14と接触する絶縁層17を貫通することによって、第2電極18を露出する。   As shown in FIG. 12, the second groove 141 is provided on the second electrode layer 14 by an etching production process. The second groove 141 passes through the second electrode layer 14 and the insulating layer 17 in contact with the second electrode layer 14 to expose the second electrode 18.

図13に示すように、第2溝141には、第2パッド20が設置され、第2パッド20の一端と露出した第2電極18は、電気的に接続される。第2パッド20の別の一端は、第2電極層14の表面から突き出る。そのうち、第2パッド20と第1電極層14の間には、第2ギャップ142が形成される。   As shown in FIG. 13, a second pad 20 is installed in the second groove 141, and one end of the second pad 20 and the exposed second electrode 18 are electrically connected. Another end of the second pad 20 protrudes from the surface of the second electrode layer 14. Among these, a second gap 142 is formed between the second pad 20 and the first electrode layer 14.

図14に示すように、第2ギャップ142には、つまり第2パッド20と第2電極層14の間には、絶縁層17をコーティングすることによって、第2パッド20と第2電極層14が接触して発光装置10全体が短絡するのを防止する。   As shown in FIG. 14, the second pad 20 and the second electrode layer 14 are formed in the second gap 142, that is, between the second pad 20 and the second electrode layer 14 by coating the insulating layer 17. This prevents the entire light emitting device 10 from being short-circuited.

図15に示すように、電気めっき工程を使用して第1電極層14上に第1電極16をコーティングする。   As shown in FIG. 15, the first electrode 16 is coated on the first electrode layer 14 using an electroplating process.

図15に示すように、電気めっき工程を使用して第1電極16上に第1パッド19をコーティングする。   As shown in FIG. 15, the first pad 19 is coated on the first electrode 16 using an electroplating process.

図17に示すように、第1電極層14の上表面とその他の構造が接触する部分には、反射層15をコーティングする。前記反射層15の厚みは、制限されない。   As shown in FIG. 17, the reflective layer 15 is coated on the portion where the upper surface of the first electrode layer 14 is in contact with other structures. The thickness of the reflective layer 15 is not limited.

説明すべき点として、上述の実施例において、層と層の間の接続部は、凹凸状であることができることによって、接続の密着度が増す。各層の厚みはここでは制限しない。実際の必要に基づいて厚みが設定される。さらに、上述の生産プロセスの流れは、選択できる1つの実施例に過ぎず、明らかな通り、本発明の発光装置10に基づいて、さらにその他の生産プロセスが同じ效果を達成することができるが、ここで1つ1つ例を挙げることはしない。   As a point to be described, in the above-described embodiment, the connection portion between the layers can be uneven, thereby increasing the adhesion of the connection. The thickness of each layer is not limited here. The thickness is set based on actual needs. Furthermore, the flow of the production process described above is only one example that can be selected. As is apparent, other production processes can achieve the same effect based on the light emitting device 10 of the present invention. Here, an example is not given one by one.

図18は、本発明の実施例が提供する発光装置実装体50の側面の断面図である。以下に発光装置を結合する具体的な構造について述べる。   FIG. 18 is a side sectional view of a light emitting device mounting body 50 provided by an embodiment of the present invention. A specific structure for coupling the light emitting device will be described below.

図18を参照する。発光装置実装体50は、本体51と、本体51上に設けられる第1導線電極52と第2導線電極53と、本体51の中に設けられるとともに、第1導線電極52及び第2導線電極53と電気的に接続される図1〜6が対応する実施例における発光装置10と、発光装置10を取り囲む成形部品54と、からなる。   Please refer to FIG. The light emitting device mounting body 50 is provided in the main body 51, the first conductive electrode 52 and the second conductive electrode 53 provided on the main body 51, and the first conductive electrode 52 and the second conductive electrode 53. 1 to 6 that are electrically connected to each other, and a molded part 54 that surrounds the light emitting device 10.

本体51は、シリコン、合成樹脂といったPPAまたは金属材料を備えることができる。発光装置10の周囲には、傾斜表面を形成することができる。本体51は、上部が開いた空洞構造を備えることができる。空洞には発光装置10を提供することができる。   The main body 51 can include PPA such as silicon or synthetic resin, or a metal material. An inclined surface can be formed around the light emitting device 10. The body 51 can have a hollow structure with an open top. The light emitting device 10 can be provided in the cavity.

第1導線電極52と第2導線電極53は、互いに絶縁するとともに、発光装置10に電力を供給する。第1導線電極52と第2導線電極53は、発光装置10からの熱を外部に放出することができる。    The first conductor electrode 52 and the second conductor electrode 53 are insulated from each other and supply power to the light emitting device 10. The first conductive wire electrode 52 and the second conductive wire electrode 53 can release heat from the light emitting device 10 to the outside.

発光装置10は、本体51上に取り付けることができる。または、第1導線電極52と第2導線電極53上に取り付けることができる。   The light emitting device 10 can be mounted on the main body 51. Alternatively, it can be mounted on the first conductor electrode 52 and the second conductor electrode 53.

発光装置10は、第1パッドと第2パッドによって導線(52と53)上に保たれることで、発光装置10と本体51の間の接触面積が小さくなり、導線の放熱に有利である。   Since the light emitting device 10 is held on the conducting wires (52 and 53) by the first pad and the second pad, the contact area between the light emitting device 10 and the main body 51 is reduced, which is advantageous for heat radiation of the conducting wire.

成形部品54は、発光装置10を取り囲むことによって発光装置10を保護する。成形部品54は、蛍光体を備えることによって発光装置10から発射される光の波長を変える。成形部品54上にはレンズが形成される。   The molded part 54 protects the light emitting device 10 by surrounding the light emitting device 10. The molded part 54 changes the wavelength of light emitted from the light emitting device 10 by including a phosphor. A lens is formed on the molded part 54.

上述のすべての実施例における発光装置10は、樹脂またはシリコンを含む半導体基板の上、絶縁基板またはセラミックス基板の上に実装されることで、半導体発光装置10を、光源として用いることができ、指示装置、照明裝置、表示装置等に使用される。各実施例は、どれも別の実施例と選択的に適合する。   The light emitting device 10 in all the above-described embodiments can be used as a light source by being mounted on a semiconductor substrate containing resin or silicon, an insulating substrate, or a ceramic substrate. Used in devices, lighting fixtures, display devices, etc. Each embodiment is selectively compatible with another embodiment.

要約すると、本発明の発光装置10を採用することによって、第1電極16と第2電極18の2つの電極は発光装置10の出光面の裏面から突き出るため、発光装置10の発光面からさらに導線を引き出す必要がなく、第1電極16と第2電極18と関連のある導線が光を吸收し、遮るのを防ぐことができ、出光率が向上する。さらに、本発明の発光装置10は、第1電極層12の上面に透過層11を設け、前記透過層11によって発せられた光をさらに均一にすることができる。さらに、透過層11の上表面を凹凸状にすることができることによって、透過層11の表面積が大きくなり、光抽出率が向上される。透過層11と第2導電型半導体層131の間には第1電極層が設けられることによって、第2電極18から伝わる電流を、第1電極層12によって第2導電型半導体層131に均一に分散することができる。第1電極16と第1導電型半導体層133の間に第2電極層14が設けられることによって、第1電極16から伝わる電流を、第2電極層14によって第1導電型半導体層133に均一に分散することができ、発光構造体13の発光性能が向上する。第2電極層14における第1導電型半導体層133から離れた表面には、反射層15が設けられ、発光構造体13が第1導電型半導体層133から発散した光を発光構造体13の出光面にまで反射することによって、発光装置10の出光率が向上する。   In summary, by adopting the light emitting device 10 of the present invention, the two electrodes of the first electrode 16 and the second electrode 18 protrude from the back surface of the light emitting surface of the light emitting device 10, so Therefore, it is possible to prevent the conductive wires related to the first electrode 16 and the second electrode 18 from absorbing and blocking light, thereby improving the light emission rate. Furthermore, in the light emitting device 10 of the present invention, the transmissive layer 11 is provided on the upper surface of the first electrode layer 12, and the light emitted by the transmissive layer 11 can be made more uniform. Furthermore, since the upper surface of the transmission layer 11 can be made uneven, the surface area of the transmission layer 11 is increased and the light extraction rate is improved. By providing the first electrode layer between the transmissive layer 11 and the second conductive semiconductor layer 131, the current transmitted from the second electrode 18 is uniformly applied to the second conductive semiconductor layer 131 by the first electrode layer 12. Can be dispersed. By providing the second electrode layer 14 between the first electrode 16 and the first conductive type semiconductor layer 133, the current transmitted from the first electrode 16 is uniformly supplied to the first conductive type semiconductor layer 133 by the second electrode layer 14. The light emission performance of the light emitting structure 13 is improved. A reflective layer 15 is provided on the surface of the second electrode layer 14 away from the first conductive type semiconductor layer 133, and the light emitted from the first conductive type semiconductor layer 133 is emitted from the first conductive type semiconductor layer 133. By reflecting to the surface, the light output rate of the light emitting device 10 is improved.

上述に開示した内容は、本発明の比較的好ましい実施例に過ぎず、当然のことながら、これによって本発明の請求範囲を制限することはできず、本領域の一般の技術者は上述の実施例のすべてのまたは一部の工程を理解し実行できるものとする。さらに本発明の請求範囲に基づいて加えられた同等の変化も、本発明の請求範囲内に属するものとする。   What has been disclosed above is only a relatively preferred embodiment of the present invention, and it should be understood that this does not limit the scope of the present invention. It shall be possible to understand and carry out all or part of the steps of the example. Furthermore, equivalent changes made based on the scope of the present invention shall also fall within the scope of the present invention.

10 発光装置
11 透過層
12 第1電極層
13 発光構造体
16 第1電極
17 絶縁層
18 第2電極
19 第1パッド
20 第2パッド
131 第2導電型半導体層
132 活性層
133 第1導電型半導体層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Light emitting device 11 Transmission layer 12 1st electrode layer 13 Light emitting structure 16 1st electrode 17 Insulating layer 18 2nd electrode 19 1st pad 20 2nd pad 131 2nd conductivity type semiconductor layer 132 Active layer 133 1st conductivity type semiconductor layer

Claims (18)

発光構造体と、第1電極と、第1電極層と、第2電極と、絶縁層と、からなる発光装置であって、
前記発光構造体は、順番に積層して設置される第1導電型半導体層と、活性層と、第2導電型半導体層を備え、そのうち、前記第2導電型半導体層は、前記発光構造体の出光面であり、
前記第1電極は、前記第1導電型半導体層における前記活性層から離れた表面に設けられるとともに、前記第1導電型半導体層と電気的に接続され、
前記第1電極層は、前記第2導電型半導体層における前記活性層から離れた表面に設けられるとともに、前記第2導電型半導体層と電気的に接続され、
前記第2電極は、前記発光構造体を貫通するとともに、前記第1電極層と電気的に接続され、
前記絶縁層は、前記発光構造体と前記第2電極の間に設けられる
ことを特徴とする、発光装置。
A light emitting device comprising a light emitting structure, a first electrode, a first electrode layer, a second electrode, and an insulating layer,
The light emitting structure includes a first conductive type semiconductor layer, an active layer, and a second conductive type semiconductor layer that are stacked in order, wherein the second conductive type semiconductor layer is the light emitting structure. The light exit surface of
The first electrode is provided on a surface of the first conductive semiconductor layer away from the active layer, and is electrically connected to the first conductive semiconductor layer.
The first electrode layer is provided on a surface of the second conductive semiconductor layer away from the active layer, and is electrically connected to the second conductive semiconductor layer,
The second electrode penetrates the light emitting structure and is electrically connected to the first electrode layer,
The light emitting device, wherein the insulating layer is provided between the light emitting structure and the second electrode.
前記発光装置はさらに反射層を備え、
前記反射層は、前記第1導電型半導体層における前記活性層から離れた表面に設けられ、
前記第1電極と前記第2電極は、前記反射層を貫通する
ことを特徴とする、請求項1に記載の発光装置。
The light emitting device further includes a reflective layer,
The reflective layer is provided on a surface of the first conductive semiconductor layer away from the active layer,
The light emitting device according to claim 1, wherein the first electrode and the second electrode penetrate the reflective layer.
前記発光装置はさらに透過層を備え、
前記透過層は、前記第1電極層における前記第2導電型半導体層から離れた表面に設けられ、
前記透過層は、前記発光構造体の光抽出率を向上させるのに用いられる
ことを特徴とする、請求項1に記載の発光装置。
The light emitting device further includes a transmission layer,
The transmission layer is provided on a surface of the first electrode layer away from the second conductive semiconductor layer;
The light emitting device according to claim 1, wherein the transmissive layer is used to improve a light extraction rate of the light emitting structure.
前記透過層における前記第1電極層から離れた表面は、凹凸状である
ことを特徴とする、請求項3に記載の発光装置。
4. The light emitting device according to claim 3, wherein a surface of the transmissive layer away from the first electrode layer is uneven. 5.
前記発光装置は、さらに第2電極層を備え、
前記第2電極層は、前記第1導電型半導体層における前記絶縁層から離れた表面に設けられ、
前記第1電極と前記第1導電型半導体層は、前記第2電極層によって電気的に接続され、
前記第2電極は、前記第2電極層を貫通し、
前記絶縁層はさらに前記第2電極と前記第2電極層の間に設けられる
ことを特徴とする、請求項1に記載の発光装置。
The light emitting device further includes a second electrode layer,
The second electrode layer is provided on a surface of the first conductivity type semiconductor layer away from the insulating layer,
The first electrode and the first conductive semiconductor layer are electrically connected by the second electrode layer,
The second electrode penetrates the second electrode layer;
The light emitting device according to claim 1, wherein the insulating layer is further provided between the second electrode and the second electrode layer.
前記発光装置はさらに反射層を備え、
前記反射層は、前記第2電極層における前記第1導電型半導体層から離れた表面に設けられ、
前記第1電極と前記第2電極は、前記反射層を貫通する
ことを特徴とする、請求項5に記載の発光装置。
The light emitting device further includes a reflective layer,
The reflective layer is provided on a surface of the second electrode layer away from the first conductive semiconductor layer;
The light emitting device according to claim 5, wherein the first electrode and the second electrode penetrate the reflective layer.
前記発光構造体は、さらに第1パッドと第2パッドを備え、
前記第1パッドは、前記第1電極における前記第1導電型半導体層から離れた表面に設けられ、前記第1パッドは、前記第1電極と電気的に接続するのに用いられ、
前記第2パッドは、前記第2電極における前記第1電極層から離れた表面に設けられ、前記第2パッドは、前記第2電極と電気的に接続するのに用いられる
ことを特徴とする、請求項1に記載の発光装置。
The light emitting structure further includes a first pad and a second pad,
The first pad is provided on a surface of the first electrode away from the first conductive type semiconductor layer, and the first pad is used to electrically connect to the first electrode.
The second pad is provided on a surface of the second electrode away from the first electrode layer, and the second pad is used for electrical connection with the second electrode. The light emitting device according to claim 1.
前記発光装置は、さらに第2電極層を備え、
前記第2電極層は、前記第1導電型半導体層における前記絶縁層から離れた表面に設けられ、
前記第1電極と前記第1導電型半導体は、前記第2電極層によって電気的に接続され、
前記第2パッドは前記第2電極層を貫通し、
前記絶縁層は、さらに前記第2電極と前記第2電極層の間、及び前記第2パッドと前記第2電極層の間に設けられる
ことを特徴とする、請求項7に記載の発光装置。
The light emitting device further includes a second electrode layer,
The second electrode layer is provided on a surface of the first conductivity type semiconductor layer away from the insulating layer,
The first electrode and the first conductivity type semiconductor are electrically connected by the second electrode layer,
The second pad penetrates the second electrode layer;
The light emitting device according to claim 7, wherein the insulating layer is further provided between the second electrode and the second electrode layer and between the second pad and the second electrode layer.
前記発光装置はさらに反射層を備え、
前記反射層は、前記第2電極層における前記第1導電型半導体層から離れた表面に設けられ、前記第1電極または前記第1パッドは前記反射層を貫通するとともに、前記第2電極または前記第2パッドは前記反射層を貫通する
ことを特徴とする、請求項8に記載の発光装置。
The light emitting device further includes a reflective layer,
The reflective layer is provided on a surface of the second electrode layer away from the first conductive type semiconductor layer, and the first electrode or the first pad penetrates the reflective layer, and the second electrode or the The light emitting device according to claim 8, wherein the second pad penetrates the reflective layer.
発光装置からなる発光装置実装体であって、そのうち、前記発光装置は、発光構造体と、第1電極と、第1電極層と、第2電極と、絶縁層と、からなり、
前記発光構造体は、順番に積層して設置される第1導電型半導体層と、活性層と、第2導電型半導体層を備え、そのうち前記第2導電型半導体層は、前記発光構造体の出光面であり、
前記第1電極は、前記第1導電型半導体層における前記活性層から離れた表面に設けられるとともに、前記第1導電型半導体層と電気的に接続され、
前記第1電極層は、前記第2導電型半導体層における前記活性層から離れた表面に設けられるとともに、前記第2導電型半導体層と電気的に接続され、
前記第2電極は前記発光構造体を貫通するとともに、前記第1電極層と電気的に接続され、
前記絶縁層は、前記発光構造体と前記第2電極の間に設けられる
ことを特徴とする、発光装置実装体。
A light emitting device mounting body comprising a light emitting device, wherein the light emitting device comprises a light emitting structure, a first electrode, a first electrode layer, a second electrode, and an insulating layer,
The light emitting structure includes a first conductive type semiconductor layer, an active layer, and a second conductive type semiconductor layer that are stacked in order, and the second conductive type semiconductor layer includes the second conductive type semiconductor layer of the light emitting structure. The light exit surface,
The first electrode is provided on a surface of the first conductive semiconductor layer away from the active layer, and is electrically connected to the first conductive semiconductor layer.
The first electrode layer is provided on a surface of the second conductive semiconductor layer away from the active layer, and is electrically connected to the second conductive semiconductor layer,
The second electrode penetrates the light emitting structure and is electrically connected to the first electrode layer;
The said insulating layer is provided between the said light emitting structure and the said 2nd electrode. The light-emitting device mounting body characterized by the above-mentioned.
前記発光装置はさらに反射層を備え、
前記反射層は、前記第1導電型半導体層における前記活性層から離れた表面に設けられ、
前記第1電極と前記第2電極は、前記反射層を貫通する
ことを特徴とする、請求項10に記載の発光装置実装体。
The light emitting device further includes a reflective layer,
The reflective layer is provided on a surface of the first conductive semiconductor layer away from the active layer,
The light emitting device mounting body according to claim 10, wherein the first electrode and the second electrode penetrate the reflective layer.
前記発光装置はさらに透過層を備え、
前記透過層は、前記第1電極層における前記第2導電型半導体層から離れた表面に設けられ、
前記透過層は、前記発光構造体の光抽出率を向上させるのに用いられる
ことを特徴とする、請求項10に記載の発光装置実装体。
The light emitting device further includes a transmission layer,
The transmission layer is provided on a surface of the first electrode layer away from the second conductive semiconductor layer;
The light-emitting device package according to claim 10, wherein the transmissive layer is used to improve a light extraction rate of the light-emitting structure.
前記透過層における前記第1電極層から離れた表面は、凹凸状である
ことを特徴とする、請求項12に記載の発光装置実装体。
The light emitting device mounting body according to claim 12, wherein a surface of the transmissive layer apart from the first electrode layer is uneven.
前記発光装置は、さらに第2電極層を備え、
前記第2電極層は、前記第1導電型半導体層における前記絶縁層から離れた表面に設けられ、
前記第1電極と前記第1導電型半導体層は、前記第2電極層によって電気的に接続され、前記第2電極は前記第2電極層を貫通し、
前記絶縁層は、さらに前記第2電極と前記第2電極層の間に設けられる
ことを特徴とする、請求項10に記載の発光装置実装体。
The light emitting device further includes a second electrode layer,
The second electrode layer is provided on a surface of the first conductivity type semiconductor layer away from the insulating layer,
The first electrode and the first conductive type semiconductor layer are electrically connected by the second electrode layer, the second electrode penetrates the second electrode layer,
The light emitting device package according to claim 10, wherein the insulating layer is further provided between the second electrode and the second electrode layer.
前記発光装置はさらに反射層を備え、
前記反射層は、前記第2電極層における前記第1導電型半導体層から離れた表面に設けられ、
前記第1電極と前記第2電極は、前記反射層を貫通する
ことを特徴とする、請求項14に記載の発光装置実装体。
The light emitting device further includes a reflective layer,
The reflective layer is provided on a surface of the second electrode layer away from the first conductive semiconductor layer;
The light emitting device package according to claim 14, wherein the first electrode and the second electrode penetrate the reflective layer.
前記発光構造体は、さらに第1パッドと第2パッドを備え、
前記第1パッドは、前記第1電極における前記第1導電型半導体層から離れた表面に設けられ、前記第1パッドは、前記第1電極と電気的に接続するのに用いられ、
前記第2パッドは、前記第2電極における前記第1電極層から離れた表面に設けられ、前記第2パッドは、前記第2電極と電気的に接続するのに用いられる
ことを特徴とする、請求項10に記載の発光装置実装体。
The light emitting structure further includes a first pad and a second pad,
The first pad is provided on a surface of the first electrode away from the first conductive type semiconductor layer, and the first pad is used to electrically connect to the first electrode.
The second pad is provided on a surface of the second electrode away from the first electrode layer, and the second pad is used for electrical connection with the second electrode. The light emitting device mounting body according to claim 10.
前記発光装置は、さらに第2電極層を備え、
前記第2電極層は、前記第1導電型半導体層における前記絶縁層から離れた表面に設けられ、前記第1電極と前記第1導電型半導体は、前記第2電極層によって電気的に接続され、前記第2パッドは前記第2電極層を貫通し、
前記絶縁層は、さらに前記第2電極と前記第2電極層の間、及び前記第2パッドと前記第2電極層の間に設けられる
ことを特徴とする、請求項16に記載の発光装置実装体。
The light emitting device further includes a second electrode layer,
The second electrode layer is provided on a surface of the first conductive semiconductor layer away from the insulating layer, and the first electrode and the first conductive semiconductor are electrically connected by the second electrode layer. The second pad penetrates the second electrode layer;
The light emitting device mounting according to claim 16, wherein the insulating layer is further provided between the second electrode and the second electrode layer and between the second pad and the second electrode layer. body.
前記発光装置はさらに反射層を備え、
前記反射層は、前記第2電極層における前記第1導電型半導体層から離れた表面に設けられ、前記第1電極または前記第1パッドは前記反射層を貫通するとともに、前記第2電極または前記第2パッドは前記反射層を貫通する
ことを特徴とする、請求項17に記載の発光装置実装体。
The light emitting device further includes a reflective layer,
The reflective layer is provided on a surface of the second electrode layer away from the first conductive type semiconductor layer, and the first electrode or the first pad penetrates the reflective layer, and the second electrode or the The light emitting device mounting body according to claim 17, wherein the second pad penetrates the reflective layer.
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