JP2018194743A - ペリクル枠及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】パーティクルの発生を抑制できるペリクル枠及びその製造方法を提供すること。【解決手段】ペリクル枠の有底孔17aの内側面18を構成する内側部材25は、ペリクル枠の枠体2を構成する材料よりも硬度が低い材料(例えばエポキシ樹脂等の樹脂)からなるので、有底孔17aに例えばステンレス製の治具ピンが何度も抜き差しされて、治具ピンが何度も内側部材25に接触した場合でも、治具ピンが摩耗しにくい。そのため、治具ピンの摩耗によるパーティクルの発生を抑制できるので、例えば半導体部品の製造時おける配線パターンの欠陥の発生を抑制できる。また、治具ピンの交換頻度を低減できる。【選択図】図5
Description
本発明は、ペリクル枠及びその製造方法に関する。
半導体製造において、半導体ウェハに配線パターンを形成する露光工程ではフォトマスクが用いられるが、このフォトマスクに異物(パーティクル等)が付着すると配線パターンの欠陥が生じる。
この対策として、即ち防塵するために、フォトマスクの表面を覆うような透明な薄い膜(ペリクル膜)が張設されたペリクルが用いられる。
また、ペリクル膜をフォトマスクから所定距離離して配置するために、ペリクル枠という長方形の枠体が用いられる。このペリクル枠は、フォトマスクの変形を抑えるために、高い平面度と剛性が要求されるので、その材料としては、例えばアルミナ等の高い剛性や高い硬度を有するセラミックス材料が好適であるとされている。
また、ペリクル膜をフォトマスクから所定距離離して配置するために、ペリクル枠という長方形の枠体が用いられる。このペリクル枠は、フォトマスクの変形を抑えるために、高い平面度と剛性が要求されるので、その材料としては、例えばアルミナ等の高い剛性や高い硬度を有するセラミックス材料が好適であるとされている。
また、ペリクル枠には、自身の把持、搬送、位置決め等のために、図9に示すように、ペリクル枠100の外周に複数の有底孔110を設けている。つまり、ペリクル枠100の把持、搬送、位置決め等を行う場合には、仮枠等から延びる治具ピン120を有底孔110に嵌め、この治具ピン120によってペリクル枠100を保持して、ペリクル枠100の移動等の作業を行っている(特許文献1参照)。
ところで、例えばセラミックス製のペリクル枠等の場合には、ペリクル枠を傷つけにくいように、ペリクル枠よりも硬度の低い例えばステンレス製の治具ピンを用いることがあるが、その場合には、治具ピンの摩耗によって、パーティクルの発生や、治具ピンの交換頻度が高くなるという問題がある。
つまり、治具ピンは、ペリクル枠の有底孔に何度も抜き差しされるので、例えばセラミックス製のペリクル枠のように硬度が高いペリクル枠の場合には、硬度の低い治具ピンの先端等が摩耗して、パーティクルが発生しやすい(即ち発塵しやすい)という問題がある。
また、治具ピンが摩耗してしまい、交換のために工程を停止させる頻度が高くなるという問題もある。
例えば、ペリクル枠からパーティクルが発生すると、上述したように配線パターンの欠陥の原因となるので、パーティクルの発生を抑制することが望まれるが、その対策は必ずしも十分ではない。
例えば、ペリクル枠からパーティクルが発生すると、上述したように配線パターンの欠陥の原因となるので、パーティクルの発生を抑制することが望まれるが、その対策は必ずしも十分ではない。
本発明は、前記課題を解決するためになされたものであり、パーティクルの発生を抑制し、生産工程を煩雑化させないペリクル枠及びその製造方法を提供することを目的とする。
(1)本発明の第1局面は、ヤング率150GPa以上で、且つ、ビッカース硬度800Hv以上の枠体を備えると共に、枠体の外周面側の表面に開口する有底孔を備えた、ペリクル膜を張設用のペリクル枠に関するものである。なお、枠体の外周面側とは、枠体自身で囲まれた内周面側と反対の側である。
このペリクル枠の有底孔は、枠体自体に設けられた凹部である非貫通孔の内部に、少なくとも内側部材が配置されたものであり、内側部材は、有底孔の内側面の少なくとも一部を構成すると共に、枠体を構成する材料よりも硬度が低い材料からなる。
本第1局面では、ペリクル枠の有底孔の内側面の少なくとも一部を被覆する内側部材は、枠体を構成する材料よりも硬度が低い材料からなるので、有底孔に治具ピンが何度も抜き差しされ、それによって、治具ピンが何度も内側部材に接触した場合でも、治具ピンが摩耗しにくい。そのため、治具ピンの摩耗によるパーティクル(塵)の発生を抑制できるので、例えば半導体部品の製造時おける配線パターンの欠陥の発生を抑制できるという顕著な効果を奏する。さらに、治具ピンの摩耗を抑制できるので、治具ピンの交換頻度を少なくすることが可能となる。
また、本第1局面では、内側部材は、枠体自体に設けられた凹部である非貫通孔の内部に配置されているので、内側部材は、ペリクル枠の内周面側の表面に露出していない。例えば、内側部材が硬度が低い樹脂等で構成されている場合でも、その樹脂等はペリクル枠の内周面側の表面に露出していない。
そのため、例えば配線パターンを形成する露光工程等で、ペリクル枠の内周面側にて強い紫外線が照射された場合でも、その紫外線は直接に内側部材に照射されることはない。よって、紫外線によって樹脂等が劣化してパーティクルが発生することを抑制することができる。
さらに、本第1局面では、例えば型彫り放電加工を利用して非貫通孔を開けてから有底孔を形成する場合には、凹部である非貫通孔を開けた後に、非貫通孔に有底孔を構成する内側部材を配置すればよいので、型彫り放電加工によって、精度よく有底孔の形状に加工する必要がない。
そのため、型彫り放電加工に使用する電極棒の先端の形状が、放電加工に伴って変化しても(例えば消耗して丸くなっても)、その電極棒を使用して凹部を形成することができる。よって、電極棒の交換頻度が少なく、生産コストが低減するという利点がある。
そして、非貫通孔を開けた後には、非貫通孔の内部に、例えば樹脂を充填するようにして内側部材を設ければよいので、全体として、有底孔の形成が容易であるという顕著な効果を奏する。
(2)本発明の第2局面では、有底孔の内側部材を構成する材料は、ビッカース硬度(HV)200より低い材料、又は、ロックウェル硬度(HRM)130より低い材料であってもよい。
本第2局面では、有底孔の内側部材を構成する材料として、例えばステンレス等からなる治具ピンに摩耗が発生しにくいような、十分に硬度が低い材料を例示している。
なお、ロックウェル硬度は、Mスケールのものを示している。
なお、ロックウェル硬度は、Mスケールのものを示している。
(3)本発明の第3局面では、枠体を構成する材料は、セラミックスを主成分とする材料であってもよい。
本第3局面では、枠体を構成する材料として好適な材料を例示している。セラミックスを主成分とする枠体は、高いヤング率及び高いビッカース硬度を有しており、高い平面度と剛性が要求されるペリクル枠の材料として好適である。
本第3局面では、枠体を構成する材料として好適な材料を例示している。セラミックスを主成分とする枠体は、高いヤング率及び高いビッカース硬度を有しており、高い平面度と剛性が要求されるペリクル枠の材料として好適である。
(4)本発明の第4局面では、有底孔の内側部材を構成する材料は、樹脂であってもよい。
本第4局面では、内側部材を構成する材料として好適な材料を例示している。つまり、貫通孔を形成した後に、貫通孔に樹脂を充填して成形することにより、容易に内側部材を設けることができる。
本第4局面では、内側部材を構成する材料として好適な材料を例示している。つまり、貫通孔を形成した後に、貫通孔に樹脂を充填して成形することにより、容易に内側部材を設けることができる。
(5)本発明の第5局面は、第1〜第4局面のいずれかのペリクル枠の製造方法に関するものである。
このペリクル枠の製造方法では、ペリクル枠の枠体に対して、有底孔の形成箇所に、非貫通孔を形成する工程と、非貫通孔に、内側部材を構成する材料を充填して有底孔を形成する工程と、を有している。
このペリクル枠の製造方法では、ペリクル枠の枠体に対して、有底孔の形成箇所に、非貫通孔を形成する工程と、非貫通孔に、内側部材を構成する材料を充填して有底孔を形成する工程と、を有している。
本発明の第5局面では、ペリクル枠の枠体に非貫通孔を形成した後に、その非貫通孔に内側部材を構成する材料を充填することにより、例えば充填した部分を加工する等によって、容易に有底孔を形成することができる。
(6)本発明の第6局面では、非貫通孔を、放電加工又はドリル加工によって形成してもよい。
本第6局面では、非貫通孔を形成する好適な方法を例示している。例えばペリクル枠の枠体が導電性を有する場合には、例えば型彫り放電加工によって、容易に非貫通孔を形成できる。また、例えばペリクル枠の枠体が導電性を有しない場合等には、ドリル加工によって、非貫通孔を形成できる。
本第6局面では、非貫通孔を形成する好適な方法を例示している。例えばペリクル枠の枠体が導電性を有する場合には、例えば型彫り放電加工によって、容易に非貫通孔を形成できる。また、例えばペリクル枠の枠体が導電性を有しない場合等には、ドリル加工によって、非貫通孔を形成できる。
(7)本発明の第7局面では、有底孔を形成する場合には、非貫通孔に内側部材を構成する材料を充填し、その充填した材料に対して、有底孔の孔形状となる加工を行ってもよい。
本第7局面では、有底孔を目的とする形状とする好適な方法を例示している。
例えば非貫通孔に樹脂材料を充填して固化させた後に、ドリル等によって凹部を形成して、有底孔としてもよい。また、樹脂として熱硬化性樹脂を用いる場合には、充填した樹脂中に有底孔の形状の治具(パンチ等)を挿入しておき、加熱して硬化させて有底孔の形状としてもよい。或いは、樹脂として熱可塑性樹脂を用いる場合には、充填した柔軟な樹脂中に有底孔の形状の治具を挿入しておき、その後硬化させて有底孔の形状としてもよい。
例えば非貫通孔に樹脂材料を充填して固化させた後に、ドリル等によって凹部を形成して、有底孔としてもよい。また、樹脂として熱硬化性樹脂を用いる場合には、充填した樹脂中に有底孔の形状の治具(パンチ等)を挿入しておき、加熱して硬化させて有底孔の形状としてもよい。或いは、樹脂として熱可塑性樹脂を用いる場合には、充填した柔軟な樹脂中に有底孔の形状の治具を挿入しておき、その後硬化させて有底孔の形状としてもよい。
<以下、本発明の構成について説明する>
・ペリクル枠の枠体の材料としては、導電性又は非導電性の材料を採用できる。例えば、導電性の材料としては、アルミナ・炭化チタン、アルミナ・炭化チタン・窒化チタン、ジルコニア・炭化チタン、超硬、サーメット等を採用できる。非導電性の材料としては、例えば、アルミナ、窒化ケイ素、ジルコニア等のセラミックスなどを採用できる。
・ペリクル枠の枠体の材料としては、導電性又は非導電性の材料を採用できる。例えば、導電性の材料としては、アルミナ・炭化チタン、アルミナ・炭化チタン・窒化チタン、ジルコニア・炭化チタン、超硬、サーメット等を採用できる。非導電性の材料としては、例えば、アルミナ、窒化ケイ素、ジルコニア等のセラミックスなどを採用できる。
ただし、放電加工により枠体へ非貫通孔を形成するためには、導電性の材料により枠体を形成することが好ましい。ここで、枠体の材料に導電性の材料を用いた場合、工程流動中や輸送中にペリクル枠が帯電したとしても除電が容易であり、ペリクル枠へのパーティクル等の吸着を抑制することができる。
なお、上記導電性の材料としては、ペリクル枠として形成された状態で、20℃における体積抵抗率が、1.0×10−3Ω・cm以下となる材料であることが好ましい。
なお、セラミックス材料としては、例えば、ビッカース硬度(Hv)が1000〜2000のものを採用できる。
なお、セラミックス材料としては、例えば、ビッカース硬度(Hv)が1000〜2000のものを採用できる。
・内側部材は、同一の材料からなる一体のものでも、異なる材料からなる部分を組み合わせたものであってもよい。なお、内側部材は、その全体が、枠体を構成する材料よりも硬度が低い材料からなることが好ましい。
・内側部材の材料としては、例えば、エポキシ樹脂(ビスフェノール系)、フェノール樹脂(ノボラック系)、ポリイミド樹脂、PET樹脂、PEEK樹脂等の樹脂などを採用できる。
・内側部材は、非貫通孔の内側の表面(内側表面)の全体に配置されていることが好ましが、有底孔の内側面の少なくとも一部を構成するように配置されていればよい。
なお、上述の樹脂のロックウェル硬度(Mスケール)としては60〜120HRMのものを採用できる。
なお、上述の樹脂のロックウェル硬度(Mスケール)としては60〜120HRMのものを採用できる。
・治具ピンの材料としては、汎用性の高い材料が採用されやすく、例えば枠体を構成する材料よりも硬度の低い材料が採用されうる。また、内側部材を構成する材料よりも硬度の高い材料が採用されうる。例えば、ステンレス(SUS304、SUS430)等の金属が挙げられる。なお、ステンレスのビッカース硬度としては180〜190Hvものが挙げられる。
・上述のビッカース硬度については、JIS 2244:2009に準拠して測定する。また、上述のロックウェル硬度については、JIS 7202−2:2001に準拠して、「Mスケール(HRM)」にて測定する。
以下、本発明が適用された実施形態について、図面を用いて説明する。
[1.第1実施形態]
[1−1.全体構成]
まず、第1実施形態のペリクル枠の全体構成について説明する。
[1.第1実施形態]
[1−1.全体構成]
まず、第1実施形態のペリクル枠の全体構成について説明する。
図1〜図3に示すように、ペリクル枠1は、自身の片面(図3の上方)にペリクル膜3(図3参照)が張設される部材である。このペリクル枠1は、主として、セラミックス製の枠体(例えばアルミナを主成分とし、炭化チタンを含有する導電性セラミックスからなる枠体)2によって構成されている。なお、図1及び図2では、ペリクル枠1自体を示し、図3では、ペリクル枠1の片面にペリクル膜3が張設されたペリクル5を示している。
また、以下では、ペリクル枠1の全ての面のうち、ペリクル枠1自身で囲まれた内側の面を内周面7、内側と反対側の外側の面を外周面9とよぶ。また、内周面7と外周面9とに連接された面のうち、ペリクル膜3が張設された側を上面11、反対の面を下面13とよぶ。なお、これらの面を区別する必要がない場合には、単に表面と呼ぶことがある。
図1に示すように、直交するX軸、Y軸、Z軸の座標系において、ペリクル枠1は、Z方向から見た平面視で、長方形状の枠体(即ち環状の部材)であり、中央には平面視で長方形の中央貫通孔15を有している。
つまり、ペリクル枠1(従って枠体2)は、同一平面上にて、平面視で、上下左右の四方に配置された長尺の枠部からなる。詳しくは、ペリクル枠1は、X軸に平行に配置された第1枠部1a及び第2枠部1bと、Y軸に平行に配置された第3枠部1c及び第4枠部1dとによって構成されている。
なお、ペリクル枠1の外形の寸法は、例えば、縦(Y方向)約149mm×横(X方向 )約120mm×厚み(Z方向)約3mmである。また、ペリクル枠1の各枠部1a〜1dは四角柱であり、その幅の寸法(Z方向から見た幅の寸法)は、同一(即ち約2mm)である。
また、このペリクル枠1の枠体2は、ヤング率が150GPa以上、且つ、ビッカース硬度が800Hv以上の特性を有している。なお、ペリクル枠1(従って枠体2)の平面度は10μm以下である。
前記ペリクル枠1(詳しくは枠体2)には、平面視で、図2に示すように、X方向における両枠部(即ち第3枠部1c、第4枠部1d)に、それぞれ2箇所(合計4個所)に、外周面9側に開口する窪みである有底孔17a、17b、17c、17d(17と総称する)が設けられている。
この有底孔17は、図3に示すように、例えばφ1.5mm、深さ1.2mmの有底の丸穴であり、底部は円錐形状に整えられている。
有底孔17は、ペリクル5の製造およびその後のフォトマスク(図示せず)に取り付ける際の位置決め等に用いられる。例えば、位置決めに際しては、図示しないペリクル製造装置あるいはペリクル取り付け装置に設けられた図4に示す各治具ピン19が、同図の矢印方向に移動して、各有底孔(即ち4個所の)17に嵌め込まれる。
有底孔17は、ペリクル5の製造およびその後のフォトマスク(図示せず)に取り付ける際の位置決め等に用いられる。例えば、位置決めに際しては、図示しないペリクル製造装置あるいはペリクル取り付け装置に設けられた図4に示す各治具ピン19が、同図の矢印方向に移動して、各有底孔(即ち4個所の)17に嵌め込まれる。
なお、前記図1及び図2に示すように、ペリクル枠1(詳しくは枠体2)の第3枠部1cには、例えばφ0.5mmの貫通孔20が設けられている。この貫通孔20は、フォトマスクにペリクル5が取り付けられた後、ペリクル5とフォトマスクに囲まれた空間と外部環境との気圧調整に用いられる。なお、外部環境から粉塵が侵入しないよう、貫通孔20には、図示しないフィルタが設けられる。
[1−2.有底孔の構成]
次に、本第1実施形態の要部である有底孔17の構成について、詳しく説明する。
なお、各有底孔17の構成は同じであるので、ここで、例えば第3枠部1cの有底孔17aを例に挙げて説明する。
次に、本第1実施形態の要部である有底孔17の構成について、詳しく説明する。
なお、各有底孔17の構成は同じであるので、ここで、例えば第3枠部1cの有底孔17aを例に挙げて説明する。
図5に示すように、枠体2(詳しくは第3枠部1c)には、外周面9から第3枠部1cの内部に向かって、即ち、幅方向に沿って図5(b)の下方の内周面7に向かって、例えばφ2mmの凹部である非貫通孔21が設けられている。なお、非貫通孔21の底部21aの深さは1.5mmであり、非貫通孔21の底部21aから第3枠部1cの内周面7までの距離は、0.5mmである。
そして、非貫通孔21内には、非貫通孔21の内側の表面(内側表面)23の全面を覆うように、内側部材25が配置されている。
内側部材25は、軸中心部分が凹んだ凹部27を有するカップ形状であり、この非貫通孔21内に配置された内側部材25(詳しくは窪みである凹部27)によって、有底孔17aが形成されている。
内側部材25は、軸中心部分が凹んだ凹部27を有するカップ形状であり、この非貫通孔21内に配置された内側部材25(詳しくは窪みである凹部27)によって、有底孔17aが形成されている。
詳しくは、図5(b)に示すように、内側部材25は、非貫通孔21の底部21aを覆うように配置された円盤形状の閉塞部29と、閉塞部29から外周面9側に延びて非貫通孔21の内周面(即ち底部21aに連接された側面)23の全面を覆う(即ち凹部27の壁面を構成する)円筒形状の内側部33とから構成されている。
つまり、有底孔17の内側の表面(内側面18)は、内側部材25の閉塞部29の内側の表面(底面18a)と、内側部材25の内側部33の内側の表面(内周面18b)とから構成されている。
特に本第1実施形態では、内側部材25を構成する材料は、ペリクル枠1の枠体2を構成する材料よりも硬度が低い材料からなる。例えばエポキシ樹脂等の樹脂からなる。つまり、内側部材25を構成する材料は、枠体2を構成する材料よりも柔らかい材料、言い換えれば、枠体2に比べて治具ピン19を傷つけにくい材料からなる。
例えば、ペリクル枠1の枠体2は、ビッカース硬度が800Hv以上であるので、内側部材25を構成する材料としては、ビッカース硬度が200Hvより低い材料や、ロックウェル硬度が130HRMより低い材料を用いることができる。
なお、治具ピン19の材料としては、ペリクル枠1の枠体2よりも硬度が低く、内側部材25よりも硬度が高い、例えばステンレス等の金属などが用いられる。
[1ー3.ペリクル枠の製造方法の概略]
次に、ペリクル枠1の製造方法の概略について説明する。
[1ー3.ペリクル枠の製造方法の概略]
次に、ペリクル枠1の製造方法の概略について説明する。
(第1工程P1)
図6に示すように、ペリクル枠1の枠体2の原料である粉体(即ち素地粉末)を作製した。
図6に示すように、ペリクル枠1の枠体2の原料である粉体(即ち素地粉末)を作製した。
ここで粉体とは、枠体2を構成する焼結体の元になる物質であり、後述する様に、アルミナや導電性材料などの原料粉末に、焼結助剤などを適宜加え湿式混合した後、噴霧乾燥法によって50μm〜100μmの顆粒に作製したものである。
なお、原料粉末の粒径の測定は、レーザー回折・散乱法により行なったが、動的光散乱法や沈降法により行なってもよい。
(第2工程P2)
次に、この粉体を成形し、ペリクル枠1の枠体2の原形を形成した。
(第2工程P2)
次に、この粉体を成形し、ペリクル枠1の枠体2の原形を形成した。
(第3工程P3)
次に、前記粉体の成形後、これを所定温度で焼成した。
この焼成温度は、粉体の組成によるが、一般に1500℃以上である。焼成することにより、高いヤング率と硬度とを持つ焼結体が得られる。
次に、前記粉体の成形後、これを所定温度で焼成した。
この焼成温度は、粉体の組成によるが、一般に1500℃以上である。焼成することにより、高いヤング率と硬度とを持つ焼結体が得られる。
(第4工程P4)
次に、焼結体に対して、その厚さを調節する厚さ加工(具体的には研削加工)を行った。
次に、焼結体に対して、その厚さを調節する厚さ加工(具体的には研削加工)を行った。
なお、ここでは、後述する精密平面加工(第10工程P10)の研磨代(例えば0.05〜0.10mm)を残して厚さを揃えた。
(第5工程P5)
次に、厚さ加工後の焼結体に対して、内形・外形加工を行った。
(第5工程P5)
次に、厚さ加工後の焼結体に対して、内形・外形加工を行った。
詳しくは、保持治具(図示せず)で焼結体の外周面を把持し、焼結体の内周面と外周面とに対してワイヤー放電加工を行い、内形や外形を目的とする寸法に加工した。
(第6工程P6)
次に、内形・外形加工後の焼結体に対して、放電加工面の表面処理を行った。
(第6工程P6)
次に、内形・外形加工後の焼結体に対して、放電加工面の表面処理を行った。
詳しくは、サンドブラスト処理により、放電加工によって生じた熱変質層を除去した。
(第7工程P7)
次に、放電加工面の表面処理後の焼結体に対して、穴開け加工を行った。
(第7工程P7)
次に、放電加工面の表面処理後の焼結体に対して、穴開け加工を行った。
詳しくは、細穴放電加工機(図示せず)によって、ペリクル枠1の枠体2の側面に、気圧調整用の貫通孔20を1箇所形成し、また、型彫り放電加工機(図示せず)によって、有底孔用の非貫通孔21を4箇所形成した。
(第8工程P8)
次に、貫通孔20及び非貫通孔21に対して、放電加工面の表面処理を行った。
詳しくは、サンドブラスト処理により、放電加工によって、貫通孔20及び非貫通孔21の内側の表面に生じた熱変質層を除去した。
次に、貫通孔20及び非貫通孔21に対して、放電加工面の表面処理を行った。
詳しくは、サンドブラスト処理により、放電加工によって、貫通孔20及び非貫通孔21の内側の表面に生じた熱変質層を除去した。
(第9工程P9)
次に、非貫通孔21に、ペリクル枠1の枠体2よりも硬度の低い樹脂等の異種材料(即ち内側部材25の材料)を充填し、所望の形状に成形して、有底孔17を形成した。
次に、非貫通孔21に、ペリクル枠1の枠体2よりも硬度の低い樹脂等の異種材料(即ち内側部材25の材料)を充填し、所望の形状に成形して、有底孔17を形成した。
(第10工程P10)
次に、異種材料の充填後の焼結体に対して、精密平面加工を行った。
(第11工程P11)
その後、ペリクル枠1の枠体2に対して、面取り加工を行ってもよい。
次に、異種材料の充填後の焼結体に対して、精密平面加工を行った。
(第11工程P11)
その後、ペリクル枠1の枠体2に対して、面取り加工を行ってもよい。
なお、前記第7〜第9工程P7〜P9では、平面度の変動はないので、第7工程P7の前に第10工程P10を実施してもよい。
[1ー4.実施例]
次に、ペリクル枠1の製造方法の具体的な実施例について、詳細に説明する。
[1ー4.実施例]
次に、ペリクル枠1の製造方法の具体的な実施例について、詳細に説明する。
(第1工程P1)
この素地の作製工程では、平均粒径0.5μmのα−アルミナ粉末63体積%、平均粒径1.0μmの炭化チタン10体積%、平均粒径1.0μmの窒化チタン25体積%、残部をMgO:Y2O3=1:1の焼結助剤からなる複合材料を調製した。
この素地の作製工程では、平均粒径0.5μmのα−アルミナ粉末63体積%、平均粒径1.0μmの炭化チタン10体積%、平均粒径1.0μmの窒化チタン25体積%、残部をMgO:Y2O3=1:1の焼結助剤からなる複合材料を調製した。
そして、この複合材料を湿式混合し、成形用有機バインダを加えた後、通常の噴霧乾燥法により、アルミナ・炭化チタン・窒化チタンの複合セラミックス素地粉末を作製した。
(第2工程P2)
この成形工程では、複合セラミックス素地粉末を、金型プレス法により、外形寸法を縦182mm×横147mm×厚さ6mm、枠幅5mm程度に枠形状に成形し、ペリクル枠1の原型(粉末成形体)を作製した。
(第2工程P2)
この成形工程では、複合セラミックス素地粉末を、金型プレス法により、外形寸法を縦182mm×横147mm×厚さ6mm、枠幅5mm程度に枠形状に成形し、ペリクル枠1の原型(粉末成形体)を作製した。
ここでは、後述する焼成工程により、ペリクル枠1の枠体2の外形は、20〜30%程度縮むため、予め、焼成後のペリクル枠1の枠体2より大きく成形する。なお、ペリクル枠1の枠体2は、半導体露光装置における露光用マスクの大きさに合わせて種々の大きさが可能である。
(第3工程P3)
この焼成工程では、粉末成形体を脱バインダし、不活性ガス中にて1700℃で2時間保持して焼成し、導電性を有する緻密なセラミックス焼結体を得た。
この焼成工程では、粉末成形体を脱バインダし、不活性ガス中にて1700℃で2時間保持して焼成し、導電性を有する緻密なセラミックス焼結体を得た。
この焼結体の寸法は、縦151mm×横122mm×厚さ5mm、枠幅4mm程度であった。なお、0.3mm程度の歪みがあった。
(第4工程P4)
この厚さ加工工程では、焼結体の上下面(厚さ方向の両面)を、平面研削盤にてほぼ同量研削し、厚さ3.1mmに加工した。なお、平面研削後の平面度は、20〜40μmであった。
(第4工程P4)
この厚さ加工工程では、焼結体の上下面(厚さ方向の両面)を、平面研削盤にてほぼ同量研削し、厚さ3.1mmに加工した。なお、平面研削後の平面度は、20〜40μmであった。
(第5工程P5)
この内形・外形加工工程では、ワイヤー放電加工により、焼結体の内形及び外形を、縦149mm×横120mm、枠幅2mmに加工した。なお、この際に、稜部(コーナー部)のR加工を行ってもよい。
この内形・外形加工工程では、ワイヤー放電加工により、焼結体の内形及び外形を、縦149mm×横120mm、枠幅2mmに加工した。なお、この際に、稜部(コーナー部)のR加工を行ってもよい。
(第6工程P6)
この放電加工面の表面処理工程では、サンドブラスト処理によって、放電加工面の熱変質層を除去した。サンドブラスト処理では、粒度#600(平均粒径約30μm)の炭化ケイ素砥粒を使用した。除去した層の厚みは、5μm程度であった。
この放電加工面の表面処理工程では、サンドブラスト処理によって、放電加工面の熱変質層を除去した。サンドブラスト処理では、粒度#600(平均粒径約30μm)の炭化ケイ素砥粒を使用した。除去した層の厚みは、5μm程度であった。
(第7工程P7)
この穴開け加工処理では、図7(a)に示すように、有底下穴(即ち有底孔用の非貫通孔21)を形成した。
この穴開け加工処理では、図7(a)に示すように、有底下穴(即ち有底孔用の非貫通孔21)を形成した。
詳しくは、型彫り放電加工によって、有底孔17の下穴として、ペリクル枠1の枠体2の対向する長辺の枠部(第3枠部1c及び第4枠部1d)に、それぞれφ2.0mm、深さ1.5mmの非貫通孔21を形成した。
非貫通孔21の形成の際には、電極棒(図示せず)の先端は消耗した分形状が変化するが、樹脂充填で有底孔形状を作り込むため、寸法精度は低くてもよい。電極棒の交換は、10穴毎であり、加工速度も上げることができ、加工時間は、約15分/孔であった。また、非貫通孔21と電極棒との放電ギャップは、直径で0.05mmであった。
また、細穴放電加工によって、ペリクル枠1の枠体2に対して、第3枠部1cの中央の位置に、φ0.5mmの気圧調整用の貫通孔20を形成した。
貫通孔20の形成の際には、電極棒の先端が消耗した分、電極棒の送り込み加工長さを大きくすることができるので、電極棒の交換は不要であった。なお、加工時間は、約2分/孔であった。なお、貫通孔20と電極棒との放電ギャップは、直径で0.05mmであった。
貫通孔20の形成の際には、電極棒の先端が消耗した分、電極棒の送り込み加工長さを大きくすることができるので、電極棒の交換は不要であった。なお、加工時間は、約2分/孔であった。なお、貫通孔20と電極棒との放電ギャップは、直径で0.05mmであった。
(第8工程P8)
この放電加工面の表面処理工程では、サンドブラスト処理により、放電加工された貫通孔20及び非貫通孔21の内側の表面の熱変質層を除去した。
この放電加工面の表面処理工程では、サンドブラスト処理により、放電加工された貫通孔20及び非貫通孔21の内側の表面の熱変質層を除去した。
サンドブラスト処理では、粒度#600(平均粒径約30μm)の炭化ケイ素砥粒を使用した。除去した層の厚みは、5μm程度であった。
なお、放電ギャップを設定及び熱変質層の除去により、加工後の貫通孔20と非貫通孔21の孔径が広がるので、貫通孔20の加工に用いる電極棒はφ0.4mmとし、非貫通孔21の加工に用いる電極棒は、非貫通孔21の内径より小径のφ1.9mmとした。
なお、放電ギャップを設定及び熱変質層の除去により、加工後の貫通孔20と非貫通孔21の孔径が広がるので、貫通孔20の加工に用いる電極棒はφ0.4mmとし、非貫通孔21の加工に用いる電極棒は、非貫通孔21の内径より小径のφ1.9mmとした。
(第9工程P9)
この有底孔17の形成工程では、まず、図7(b)に示すように、非貫通孔21内に未硬化のエポキシ樹脂を充填して、充填部43を形成した。
この有底孔17の形成工程では、まず、図7(b)に示すように、非貫通孔21内に未硬化のエポキシ樹脂を充填して、充填部43を形成した。
次に、図7(c)に示すように、充填部43に、φ1.5mmのパンチ45を深さ1.2mmまで押し込み、120℃で60分間熱処理を行って、エポキシ樹脂を硬化させて、有底孔17の形状となるパンチ形状を転写した。
硬化後、図7(d)に示すように、パンチ45を抜き取り、有底孔17の内部形状を完成させた。この際、パンチ45に抜きテーパを付けておくこととしてもよい。
また、紫外線硬化性樹脂を用いてパンチ形状を転写してもよい。紫外線硬化性樹脂を使用する場合、樹脂の仮硬化が短時間で行えることで有底孔17の形成が短時間で行える。なお、上記の仮硬化後にパンチ45を抜き取り、熱処理にて樹脂を完全に硬化させることとしてもよい。
また、紫外線硬化性樹脂を用いてパンチ形状を転写してもよい。紫外線硬化性樹脂を使用する場合、樹脂の仮硬化が短時間で行えることで有底孔17の形成が短時間で行える。なお、上記の仮硬化後にパンチ45を抜き取り、熱処理にて樹脂を完全に硬化させることとしてもよい。
パンチ45を抜き取り後、図7(e)に示すように、エポキシ樹脂のはみ出し部分43a(即ち上部又は底部のはみ出し部分)を、機械加工にて除去し、目的とする有底孔17を得た。つまり、非貫通孔21内に、有底孔17の形状の凹部27を有する内側部材25が配置された構成が得られた。
(第10工程P10)
この精密平面加工では、焼結体の片面25〜50μmずつ研磨加工を行い、厚さ3.0mm、平面度を10μm未満に加工した。これによって、ペリクル枠1が完成した。
この精密平面加工では、焼結体の片面25〜50μmずつ研磨加工を行い、厚さ3.0mm、平面度を10μm未満に加工した。これによって、ペリクル枠1が完成した。
(第11工程P11)
その後、ペリクル枠1の枠体2に対して、面取り加工を行ってもよい。例えば、枠体2の稜部をブラシ研磨加工によって、0.03〜0.05mmのR半径となるように、R加工を行ってもよい。
その後、ペリクル枠1の枠体2に対して、面取り加工を行ってもよい。例えば、枠体2の稜部をブラシ研磨加工によって、0.03〜0.05mmのR半径となるように、R加工を行ってもよい。
以上の処理により、主として、アルミナを主成分とする枠体2からなるペリクル枠1を得た。このペリクル枠1の枠体2のヤング率とビッカース硬度とを計測したところ、ヤング率420GPa、ビッカース硬度2100Hvであった。
[1−5.効果]
(1)本第1実施形態では、ペリクル枠1の有底孔17の内周面18bを含む内側面18を構成する内側部材25は、ペリクル枠1の枠体2を構成する材料よりも硬度が低い材料(例えばエポキシ樹脂等の樹脂)からなるので、有底孔17に例えばステンレス製の治具ピン19が何度も抜き差しされて、治具ピン19が何度も内側部材25に接触した場合でも、治具ピン19が摩耗しにくい。そのため、治具ピン19の摩耗によるパーティクルの発生を抑制できるので、例えば半導体部品の製造時おける配線パターンの欠陥の発生を抑制できるという顕著な効果を奏する。また、治具ピン19が摩耗してしまい、治具ピン19の交換のために工程を停止させる頻度が高くなることも抑制し、生産工程を煩雑化させることも抑制できる。
(1)本第1実施形態では、ペリクル枠1の有底孔17の内周面18bを含む内側面18を構成する内側部材25は、ペリクル枠1の枠体2を構成する材料よりも硬度が低い材料(例えばエポキシ樹脂等の樹脂)からなるので、有底孔17に例えばステンレス製の治具ピン19が何度も抜き差しされて、治具ピン19が何度も内側部材25に接触した場合でも、治具ピン19が摩耗しにくい。そのため、治具ピン19の摩耗によるパーティクルの発生を抑制できるので、例えば半導体部品の製造時おける配線パターンの欠陥の発生を抑制できるという顕著な効果を奏する。また、治具ピン19が摩耗してしまい、治具ピン19の交換のために工程を停止させる頻度が高くなることも抑制し、生産工程を煩雑化させることも抑制できる。
(2)また、本第1実施形態では、ペリクル枠1の有底孔17は、第3枠部1c及び第4枠部1d体自体に設けられた凹部である非貫通孔21の内部に、内側部材25が配置されたものである。よって、内側部材25は、ペリクル枠1の内周面7に露出していない。つまり、内側部材25を構成するエポキシ樹脂等が、ペリクル枠1の内周面7に露出していない。
そのため、例えば配線パターンを形成する露光工程等で、ペリクル枠1の内周面7側にて強い紫外線が照射された場合でも、その紫外線は直接に内側部材25に照射されることはない。よって、紫外線によってエポキシ樹脂等が劣化してパーティクルが発生することを抑制することができる。
(3)さらに、本第1実施形態では、型彫り放電加工によって凹部である非貫通孔21を開けた後に、非貫通孔21に内側部材25を配置すればよいので、型彫り放電加工によって、精度よく有底孔の形状に加工する必要がない。そのため、型彫り放電加工に使用する電極棒の先端の形状が、放電加工に伴って変化しても(例えば消耗して丸くなっても)、その電極棒を使用してそのまま凹部を形成することができる。よって、電極棒の交換頻度が少なく、生産コストが低減するという利点がある。
また、ドリル加工によって枠体2に非貫通孔21を形成することとしてもよい。ドリル加工で非貫通孔21を形成する場合は、頻繁な電極棒の交換が不要である。しかし、非貫通孔21付近における枠体2の欠け等を考慮する場合は、ドリル加工よりも放電加工によって非貫通孔21を形成することが、枠体2の欠け等を抑制できる点で好ましい。
(4)さらに、本第1実施形態では、ペリクル枠1の枠体2に非貫通孔21を形成した後に、その非貫通孔21に内側部材25を構成する材料(例えばエポキシ樹脂等の樹脂)を充填し、その充填部43にパンチ45等によって有底孔17となる穴を形成する。従って、有底孔17の形成が容易であるという利点がある。
[1−6.応用例]
(1)ペリクル枠1の枠体2を構成する材料としては、例えば下記表1に記載の導電性セラミックスなどを採用できる。また、例えば下記表2に記載の非導電性セラミックスを採用できる。
(1)ペリクル枠1の枠体2を構成する材料としては、例えば下記表1に記載の導電性セラミックスなどを採用できる。また、例えば下記表2に記載の非導電性セラミックスを採用できる。
また、導電性セラミックスの組成(配合組成)としては、下記表3の組成を採用できる。また、(セラミックス以外の)導電性材料の組成としては、下記表4の組成を採用できる。さらに、非導電性セラミックスの組成としては、下記表5の組成を採用できる。
なお、表1のNo.1〜3と表3のNo.10〜12は同じ材料である。表1のNo.4〜6と表4のNo.13〜15は同じ材料である。表2のNo.7〜9と表5のNo.16〜18は同じ材料である。
(2)非貫通孔21の内側表面23を覆う樹脂としては、エポキシ樹脂以外に、フェノール樹脂やポリイミド樹脂等の熱硬化性樹脂を用いることができる。また、PET樹脂やPEEK樹脂等の熱可塑性樹脂を用いることができる。
(3)有底孔17を形成する場合には、非貫通孔21に充填した樹脂を硬化させ、その硬化した樹脂に対して、ドリル等により、有底孔17を開けてもよい。
(4)樹脂の材料としては、紫外線に対する耐久性が高いものやパーティクルが発生し難いものが好ましい。また、樹脂の色は、適宜選択することができる。
(4)樹脂の材料としては、紫外線に対する耐久性が高いものやパーティクルが発生し難いものが好ましい。また、樹脂の色は、適宜選択することができる。
(5)本第1実施形態では、有底孔17の内側面18の全面は、上述した硬度を有する内側部材25によって構成されているが、即ち内側部材25によって非貫通孔21の内側表面23の全体が覆われているが、有底孔17の内周面18bのみを、内側部材25によって構成してもよい。この場合は、前記閉塞部29は、内側部材25とは異なる材料、例えば内側部材25より硬度の高い材料で形成されていてもよい。
なお、有底孔17の内周面18bの全面が上述した硬度を有する内側部材25で構成されていることが好ましいが、内周面18bの一部分(例えば治具ピン19が接触する場所や接触し易い場所)が、上述した硬度の内側部材25によって構成されていても効果はある。
[1−7.文言の対応関係]
第1実施形態の、ペリクル枠1、枠体2、ペリクル膜3、有底孔17、内側面18、非貫通孔21、内側部材25は、それぞれ、本発明の、ペリクル枠、枠体、ペリクル膜、有底孔、内側面、非貫通孔、内側部材の一例に相当する。
第1実施形態の、ペリクル枠1、枠体2、ペリクル膜3、有底孔17、内側面18、非貫通孔21、内側部材25は、それぞれ、本発明の、ペリクル枠、枠体、ペリクル膜、有底孔、内側面、非貫通孔、内側部材の一例に相当する。
[2.第2実施形態]
次に、第2実施形態について説明するが、第1実施形態と同様な内容については、その説明は省略又は簡略化する。
次に、第2実施形態について説明するが、第1実施形態と同様な内容については、その説明は省略又は簡略化する。
[2−1.構成]
図8に示すように、本第2実施形態におけるペリクル枠51は、第1実施形態と同様に、主として、セラミックス製の長方形の枠体52から構成されており、第1実施形態と同様な各枠部53を備えている。
図8に示すように、本第2実施形態におけるペリクル枠51は、第1実施形態と同様に、主として、セラミックス製の長方形の枠体52から構成されており、第1実施形態と同様な各枠部53を備えている。
そして、各枠部53のうち、長辺に対応する第1実施形態と同様な第3、第4枠部には、有底孔55が形成されている。なお、図8では、第3枠部53cを例示している。
特に本第2実施形態では、有底孔55が形成される部分及びその周囲の部分の外周面57(図8の上方)側は、他の部分より外側に張り出すように(即ち幅が大きくなるように)構成されている。
特に本第2実施形態では、有底孔55が形成される部分及びその周囲の部分の外周面57(図8の上方)側は、他の部分より外側に張り出すように(即ち幅が大きくなるように)構成されている。
詳しくは、枠部53の外周面57側は、幅が大きくなるように、一定の厚みで突出する凸部59が形成されており、この凸部59が形成されている部分において、枠部53の外周面57から内周面61に向かって、非貫通孔63が形成されている。
また、非貫通孔61の内部には、例えばエポキシ樹脂等の樹脂が充填され、この樹脂により第1実施形態と同様なカップ形状の内側部材65が形成されている。
なお、内側部材65の凹部67によって、第1実施形態と同様に有底孔55が構成されている。
なお、内側部材65の凹部67によって、第1実施形態と同様に有底孔55が構成されている。
[2−2.製造方法]
本第2実施形態におけるペリクル枠51の製造方法は、基本的には第1実施形態と同様であるので、異なる点を中心にして説明する。
本第2実施形態におけるペリクル枠51の製造方法は、基本的には第1実施形態と同様であるので、異なる点を中心にして説明する。
まず、凸部59を有するペリクル枠51の枠体52は、第1実施形態と同様に、ワイヤー放電加工によって作製することができる。
そして、図8に示すように、枠体52の凸部59のある部分において、枠体52に非貫通孔63を形成する。その後、非貫通孔61内に、エポキシ樹脂を充填し、第1実施形態と同様に、パンチ等を用いて有底孔55を形成する。
そして、図8に示すように、枠体52の凸部59のある部分において、枠体52に非貫通孔63を形成する。その後、非貫通孔61内に、エポキシ樹脂を充填し、第1実施形態と同様に、パンチ等を用いて有底孔55を形成する。
[2−3.効果]
本第2実施形態では、第1実施形態と同様な効果を奏する。
また、本第2実施形態では、非貫通孔61を開ける部分の厚み(即ち枠体52の厚み)が大きくなっているので、強度が高いという利点がある。
本第2実施形態では、第1実施形態と同様な効果を奏する。
また、本第2実施形態では、非貫通孔61を開ける部分の厚み(即ち枠体52の厚み)が大きくなっているので、強度が高いという利点がある。
[3.その他の実施形態]
尚、本発明は、前記実施形態等に何ら限定されるものではなく、本発明の技術的範囲に属する限り種々の形態を採り得ることはいうまでもない。
尚、本発明は、前記実施形態等に何ら限定されるものではなく、本発明の技術的範囲に属する限り種々の形態を採り得ることはいうまでもない。
(1)例えば、ペリクル枠の枠体を形成するセラミックス材料としては、例えば特開2016−122091号公報に開示されているように、窒化ケイ素、ジルコニア、アルミナと炭化チタンの複合セラミックス等、各種の材料を採用できる。
なお、同公報に開示されているように(実施形態2、3参照)、例えばジルコニアを用いたペリクル枠(即ち枠体)は、ヤング率210GPa、ビッカース硬度1200Hvであり、アルミナと炭化チタンの複合セラミックスを用いた枠体は、ヤング率420GPa、ビッカース硬度2100Hvである。
(2)なお、上記各実施形態における1つの構成要素が有する機能を複数の構成要素に分担させたり、複数の構成要素が有する機能を1つの構成要素に発揮させたりしてもよい。また、上記各実施形態の構成の一部を、省略してもよい。また、上記各実施形態の構成の少なくとも一部を、他の実施形態の構成に対して付加、置換等してもよい。なお、特許請求の範囲に記載の文言から特定される技術思想に含まれるあらゆる態様が本発明の実施形態である。
1、51…ペリクル枠
1a、1b、1c、1d、53c…枠部
2、52…枠体
3…ペリクル膜
5…ペリクル
17、55…有底孔
18…内側面
21、61…非貫通孔
25、65…内側部材
1a、1b、1c、1d、53c…枠部
2、52…枠体
3…ペリクル膜
5…ペリクル
17、55…有底孔
18…内側面
21、61…非貫通孔
25、65…内側部材
Claims (7)
- ヤング率150GPa以上で、且つ、ビッカース硬度800Hv以上の枠体を備えると共に、前記枠体の外周面側の表面に開口する有底孔を備えた、ペリクル膜を張設用のペリクル枠であって、
前記有底孔は、前記枠体自体に設けられた凹部である非貫通孔の内部に、少なくとも内側部材が配置されたものであり、
前記内側部材は、前記有底孔の内側面の少なくとも一部を構成すると共に、前記枠体を構成する材料よりも硬度が低い材料からなる、
ペリクル枠。 - 前記有底孔の前記内側部材を構成する材料は、ビッカース硬度200Hvより低い、又は、ロックウェル硬度130HRMより低い、
請求項1に記載のペリクル枠。 - 前記枠体を構成する材料は、セラミックを主成分とする材料からなる、
請求項1又は2に記載のペリクル枠。 - 前記有底孔の前記内側部材を構成する材料は、樹脂からなる、
請求項1〜3のいずれか1項に記載のペリクル枠。 - 前記請求項1〜4のいずれか1項に記載のペリクル枠の製造方法であって、
前記ペリクル枠の前記枠体に対して、前記有底孔の形成箇所に、前記非貫通孔を形成する工程と、
前記非貫通孔に、前記内側部材を構成する材料を充填して前記有底孔を形成する工程と、
を有する、ペリクル枠の製造方法。 - 前記非貫通孔を、放電加工又はドリル加工によって形成する、
請求項5に記載のペリクル枠の製造方法。 - 前記有底孔を形成する場合には、前記非貫通孔に前記内側部材を構成する材料を充填し、該充填した材料に対して、前記有底孔の孔形状となる加工を行う、
請求項5又は6に記載のペリクル枠の製造方法。
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