JP2018188708A - めっき装置およびめっき方法 - Google Patents

Abstract

【課題】歩留まりが高いめっき装置およびめっき方法を提供すること。
【解決手段】めっき装置１は、ウェハ１００にめっき処理を施す少なくとも１つのめっき処理部５と、めっき処理が施される前のウェハ１００の処理前重量Ｗ_１と、めっき処理が施された後のウェハ１００の処理後重量Ｗ_２とを計量する計量部７と、処理前重量Ｗ_１と処理後重量Ｗ_２との差を、めっき処理によりウェハ１００に付着しためっき層１０２のめっき層重量（めっき部重量）ΔＷとみなし、めっき層重量ΔＷが所定の閾値の範囲内（閾値α_１以上閾値α_２以下）であるか否かを判断する制御部９（判断部）とを備える。
【選択図】図２

Description

本発明は、めっき装置およびめっき方法に関する。

ウェハに対してめっきを施すめっき装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。特許文献１に記載のめっき装置は、ロードステージと、向き合わせステージと、めっきステージと、回収ステージと、洗浄ステージとを備えている。ウェハは、ロードステージから洗浄ステージに順に搬送され、その搬送途中のめっきステージでめっきが施される。そして、最終ステージである洗浄ステージを経たウェハは、めっき装置から取り出される。

また、めっき装置から取り出されたウェハは、めっきが正常に施されたか否かの検査が行なわれる。この検査は、例えばウェハの重量を測定することにより行なわれ、この重量が適正な範囲内にあれば、正常なめっきが施された、すなわち、ウェハは良品と判断され、重量が前記範囲から外れれば、正常なめっきは施されていない、すなわち、ウェハは不良品と判断される。

ウェハは、例えば２５枚で１つのロットに含まれており、検査は、１ロット分、すなわち、２５枚のウェハに対するめっきが完了してから、行なわれる。この場合、１枚でも、正常なめっきは施されていない（不良品である）と判断されると、このロットに含まれるウェハは全て不良品として扱われてしまい、残りの良品のウェハが無駄になってしまう。また、１ロット中に不良品が多数含まれる可能性も高い。

特許第３５８３８８３号公報

本発明の目的は、歩留まりが高いめっき装置およびめっき方法を提供することにある。

このような目的は、下記（１）〜（１７）の本発明により達成される。
（１） 被めっき物にめっき処理を施す少なくとも１つのめっき処理部と、
前記めっき処理が施される前の前記被めっき物の処理前重量と、前記めっき処理が施された後の前記被めっき物の処理後重量とを計量する計量部と、
前記処理前重量と前記処理後重量との差を、前記めっき処理により前記被めっき物に付着しためっき部のめっき部重量とみなし、該めっき部重量が所定の閾値の範囲内であるか否かを判断する判断部とを備えることを特徴とするめっき装置。

（２） 前記めっき部重量が前記閾値の範囲内である場合には、前記めっき処理の条件は、正常であると判断する上記（１）に記載のめっき装置。

（３） 前記めっき部重量が前記閾値の範囲から外れた場合には、前記めっき処理の条件を変更する上記（１）または（２）に記載のめっき装置。

（４） 前記めっき処理は、電解めっきであり、
前記めっき処理の条件を変更するに際し、通電時間および電流値のうちの少なくとも一方を調整する調整部を備える上記（３）に記載のめっき装置。

（５） 前記調整部は、前記めっき部重量と前記通電時間との関係を示す検量線に基づいて、前記通電時間を調整する上記（４）に記載のめっき装置。

（６） 前記めっき部重量が前記閾値の範囲内であるか否かの判断に用いられた前記被めっき物の後に前記めっき処理が施される前記被めっき物は、変更された前記めっき処理の条件下で前記めっき処理が施される上記（３）ないし（５）のいずれかに記載のめっき装置。

（７） 前記判断部による判断結果を報知する報知部を備える上記（１）ないし（６）のいずれかに記載のめっき装置。

（８） 前記めっき処理部と前記計量部との間を、前記被めっき物を搬送する搬送部を備える上記（１）ないし（７）のいずれかに記載のめっき装置。
（９） 前記めっき処理部は、複数配置されている上記（８）に記載のめっき装置。

（１０） 前記複数のめっき処理部は、前記搬送部を囲むように配置されている上記（９）に記載のめっき装置。

（１１） 前記めっき処理部ごとに前記めっき部重量が前記閾値の範囲から外れた場合には、前記めっき処理部ごとに前記めっき処理の条件を変更する上記（９）または（１０）に記載のめっき装置。

（１２） 前記計量部は、質量比較器で構成されている上記（１）ないし（１１）のいずれかに記載のめっき装置。

（１３） 前記めっき処理が施される前の前記被めっき物に対して前処理を施す前処理部を備え、
前記計量部は、前記前処理が施される前の前記被めっき物の重量を前記処理前重量として計量する上記（１）ないし（１２）のいずれかに記載のめっき装置。

（１４） 前記前処理は、前記被めっき物に対して液体を付与する処理である上記（１３）に記載のめっき装置。

（１５） 前記めっき処理が施された後の前記被めっき物に対して後処理を施す後処理部を備え、
前記計量部は、前記後処理が施された後の前記被めっき物の重量を前記処理後重量として計量する上記（１）ないし（１４）のいずれかに記載のめっき装置。

（１６） 前記後処理は、前記被めっき物を洗浄して、乾燥する処理である上記（１５）に記載のめっき装置。

（１７） 被めっき物にめっき処理を施すめっき処理工程と、
前記めっき処理が施される前の前記被めっき物の処理前重量と、前記めっき処理が施された後の前記被めっき物の処理後重量とを計量する計量工程と、
前記処理前重量と前記処理後重量との差を、前記めっき処理により前記被めっき物に付着しためっき部のめっき部重量とみなし、該めっき部重量が所定の閾値の範囲内であるか否かを判断する判断工程とを有することを特徴とするめっき方法。

本発明によれば、複数の被めっき物に対してめっきを行なう際、めっき処理前後に、その都度被めっき物を１つずつ計量して、めっき状態が好ましいか否かを判断することができる。これにより、複数の被めっき物に対してめっきを行なっている最中でも、各被めっき物が良品か不良品かを判断することができ、よって、歩留まりが向上する。

図１は、本発明のめっき装置の第１実施形態を示す正面図である。 図２は、図１に示すめっき装置の内部構成を示す平面図である。 図３は、図２中の第１載置部および第２載置部にそれぞれ載置されるキャリアの斜視図である。 図４は、図２中の計量部を示す斜視図である。 図５は、図２中の前処理部を示す部分垂直断面図である。 図６は、図２中のめっき処理部を示す部分垂直断面図である。 図７は、図２中の後処理部の洗浄状態を示す斜視図である。 図８は、図７に示す後処理部の部分垂直断面図である。 図９は、図２中の後処理部の乾燥状態を示す斜視図である。 図１０は、図１に示すめっき装置の主要部のブロック図である。 図１１は、本発明のめっき方法が有する各工程の流れを示す図である。 図１２は、図１に示すめっき装置に内蔵された制御部の制御プログラムを示すフローチャートである。 図１３は、めっき条件の変更に用いられる検量線の一例である。

以下、本発明のめっき装置およびめっき方法を添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。

図１は、本発明のめっき装置の第１実施形態を示す正面図である。図２は、図１に示すめっき装置の内部構成を示す平面図である。図３は、図２中の第１載置部および第２載置部にそれぞれ載置されるキャリアの斜視図である。図４は、図２中の計量部を示す斜視図である。図５は、図２中の前処理部を示す部分垂直断面図である。図６は、図２中のめっき処理部を示す部分垂直断面図である。図７は、図２中の後処理部の洗浄状態を示す斜視図である。図８は、図７に示す後処理部の部分垂直断面図である。図９は、図２中の後処理部の乾燥状態を示す斜視図である。図１０は、図１に示すめっき装置の主要部のブロック図である。図１１は、本発明のめっき方法が有する各工程の流れを示す図である。図１２は、図１に示すめっき装置に内蔵された制御部の制御プログラムを示すフローチャートである。図１３は、めっき条件の変更に用いられる検量線の一例である。なお、以下では、説明の都合上、図１および図３〜図９中の上側を「上（または上方）」、下側を「下（または下方）」と言う。

図１、図２、図１０に示すめっき装置１は、被めっき物であるウェハ１００にめっきを行なう装置である。このめっき装置１は、搬送部２と、第１載置部３Ａと、第２載置部３Ｂと、前処理部４と、６つのめっき処理部５と、後処理部６と、計量部７と、操作部（操作パネル）８と、制御部９とを備えている。

また、めっき装置１は、本発明のめっき方法を実行可能に構成されている。このめっき方法は、前処理工程と、めっき処理工程と、後処理工程と、計量工程と、判断工程とを有している。そして、図１１に示すように、めっき装置１では、これらの工程は、計量工程、前処理工程、めっき処理工程、後処理工程、計量工程、判断工程の順に行なわれる。

なお、ウェハ１００は、半導体素子製造の材料である。ウェハ１００は、円板状をなし、その一方の面にレジスト層（レジスト膜）１０１が予め形成されている。そして、レジスト層１０１が形成されている面に、めっき装置１でめっきを行ない、めっき層（めっき部）１０２が形成される（図８参照）。なお、ウェハ１００の直径は、特に限定されず、例えば、５０ｍｍ以上３００ｍｍ以下であるのが好ましい。ウェハ１００の厚さは、特に限定されず、例えば、０．４ｍｍ以上１．６ｍｍ以下であるのが好ましい。また、ウェハ１００の直径と厚さとの関係は、例えば、ＳＥＭＩ規格やＪＥＩＴＡ規格に準じているのが好ましい。

以下、めっき装置１の各部の構成について説明する。
めっき装置１は、図１に示す外観を有するものであり、最外装がカバー１０で覆われている。図２に示すように、カバー１０の内側には、搬送部２と、第１載置部３Ａと、第２載置部３Ｂと、前処理部４と、６つのめっき処理部５と、後処理部６と、計量部７とが収納、配置されている。また、カバー１０には、例えば、トップカバー１１と、フロントカバー１２と、リアカバー１３と、サイドカバー１４と、サイドカバー１５とが含まれている。

図２に示すように、搬送部２は、カバー１０の内側のほぼ中央部に配置されている。そして、搬送部２を囲むように前処理部４と、６つのめっき処理部５と、後処理部６と、計量部７とが配置されている。これにより、各部から各部へのウェハ１００の搬送時間をできる限り短くすることができ、製造効率が向上する。

搬送部２は、ウェハ１００を搬送する産業用ロボットである。産業用ロボットとしては、特に限定されないが、本実施形態では、スカラーロボット（水平多関節ロボット）が用いられている。産業用ロボットとしては、スカラーロボットの他に、例えば、垂直多関節ロボットを用いることもできる。

また、搬送部２（スカラーロボット）は、その先端部にエンドエフェクタとしての保持部２１を有している。搬送部２は、搬送元で保持部２１によってウェハ１００を保持して、そのまま搬送先まで搬送することができる。そして、搬送先では、ウェハ１００は、保持部２１から解放される。

また、搬送部２がスカラーロボットであることにより、保持部２１の方向転換や位置変更が迅速、自在に行なわれる。これにより、図２に示す一例として、第１載置部３Ａから計量部７への搬送（矢印Ｉ参照）と、計量部７から前処理部４への搬送（矢印II）と、前処理部４から６つのめっき処理部５のうちのいずれかのめっき処理部５への搬送（矢印III）と、めっき処理部５から後処理部６への搬送（矢印IV）と、後処理部６から計量部７への搬送（矢印Ｖ）と、計量部７から第１載置部３Ａへの搬送（矢印VI）とが可能となる。

搬送部２に対して、めっき装置１の正面側には、第１載置部３Ａと第２載置部３Ｂとが配置されている。第１載置部３Ａは、めっき装置１に向かって左側に配置され、第２載置部３Ｂは、めっき装置１に向かって右側に配置されている。

第１載置部３Ａ、第２載置部３Ｂには、１つのキャリア３１を載置する（搭載する）ことができる。図３に示すように、キャリア３１は、箱状をなし、その内側が仕切板３２によって上下に多段に仕切られている。そして、各段には、ウェハ１００を１枚ずつ収納することができる。なお、キャリア３１に収納されるウェハ１００の最大枚数は、特に限定されず、例えば、２５枚以下であるのが好ましい。

キャリア３１は、めっき処理が未だ施されていないウェハ１００を収納することができる。このキャリア３１を例えば第１載置部３Ａに載置した場合、未めっき処理のウェハ１００は、搬送部２により、キャリア３１から計量部７に向かって搬送される。その後、めっき処理部５でめっき処理が施されてめっき処理済みとなったウェハ１００は、搬送部２により、後処理部６、計量部７を順に経て、再度キャリア３１に搬送されて収納されることとなる。このときのウェハ１００の収納先は、当該ウェハ１００が未めっき処理状態でキャリア３１に収納されていた段と同じ段である。

また、めっき装置１では、第１載置部３Ａおよび第２載置部３Ｂの双方にキャリア３１を載置することができる。この場合、一方の載置部に載置されたキャリア３１内のウェハ１００を先に処理して、全ウェハ１００の処理完了後、他方の載置部に載置されたキャリア３１内のウェハ１００の処理に迅速に移行することができる。

また、図１に示すように、めっき装置１の正面側には、フロントカバー１２とともに、フロントドア１６と、フロントドア１７とが設置されている。フロントドア１６とフロントドア１７とは、それぞれ、開閉自在に支持されている。そして、フロントドア１６を開状態とすることにより、第１載置部３Ａに対してキャリア３１を出し入れすることができる。また、フロントドア１７を開状態とすることにより、第２載置部３Ｂに対してキャリア３１を出し入れすることができる。

図２に示すように、第１載置部３Ａに対して、搬送部２を中心とした時計回りの方向には、前処理部４が配置されている。前処理部４は、めっき処理が施される前のウェハ１００に対して前処理を施す前処理工程（図１１参照）を行なうものである。

図５に示すように、前処理部４は、前処理槽４１と、ノズル４２とを有している。
前処理槽４１は、カップ状、すなわち、有底筒状をなし、上方に向かって開口した開口部４１１を有している。そして、ウェハ１００は、前処理槽４１の上側から開口部４１１を覆うように、開口部４１１の縁部４１２に支持される。このときのウェハ１００は、レジスト層１０１側が前処理槽４１の内側に臨んでいる。また、開口部４１１は、ウェハ１００によって、液密的に封止される。

前処理槽４１内には、ノズル４２が配置されている。ノズル４２は、前処理槽４１の底部４１３に支持されている。このノズル４２からは、液体４３が上方に向かって噴出される。これにより、前処理として、ウェハ１００に対して液体４３を付与する処理が行なわれる。このような前処理により、ウェハ１００のめっきが施される面に付着した埃等の不純物を除去することができる。これにより、めっき処理部５でのめっき処理が円滑に行われる。また、不純物の除去は、計量部７での正確な重量（ウェハ１００の処理前重量Ｗ_１）測定に寄与する。また、前処理により、ウェハ１００の親水性が向上し、めっき層１０２を好適に形成することができると言う利点もある。
なお、液体４３としては、特に限定されず、例えば、純水等を用いるのが好ましい。

図２に示すように、めっき装置１は、本実施形態では６つのめっき処理部５を備え、これら６つのめっき処理部５は、搬送部２を囲むように配置されている。以下では、図２中の左側のめっき処理部５から時計回りに順に「めっき処理部５Ａ」、「めっき処理部５Ｂ」、「めっき処理部５Ｃ」、「めっき処理部５Ｄ」、「めっき処理部５Ｅ」、「めっき処理部５Ｆ」と言うことがある。めっき処理部５Ａ〜めっき処理部５Ｆでは、それぞれ、ウェハ１００にめっき処理を施すめっき処理工程（図１１参照）が行なわれる。そして、前処理工程を経たウェハ１００は、めっき処理部５Ａ〜めっき処理部５Ｆのうちのいずれかのめっき処理部５（図２中ではめっき処理部５Ａ）に搬送され、このめっき処理部５でめっき処理が施される。例えば、めっき処理部５Ａでめっきが行なわれている場合、前処理工程を経た他のウェハ１００を、残りのめっき処理部５Ｂ〜めっき処理部５Ｆのうちのいずれかのめっき処理部５に搬送して、めっきを行なうことができる。このようにめっき装置１では、めっき処理時間によっては、複数の箇所でめっきを同時進行することができ、製造効率（めっき処理効率）が向上する。そして、めっき処理後、ウェハ１００は、後処理部６に搬送される。

なお、めっき処理は、本実施形態では電解めっき（電気めっき）である。これにより、ウェハ１００には、後述するように、金めっきによるめっき層１０２を形成することができる。

図６に示すように、めっき処理部５は、めっき処理槽５１と、めっき液供給系統５２と、電気系統５３とを有している。

めっき処理槽５１は、カップ状、すなわち、有底筒状をなし、上方に向かって開口した開口部５１１を有している。このめっき処理槽５１には、めっき液（電解液）５４が充填される。

めっき処理槽５１には、めっき液供給系統５２が液密的に接続されている。めっき液供給系統５２は、めっき液５４を貯留するタンク５２１と、タンク５２１の上流側とめっき処理槽５１の底部５１２とを接続するパイプ５２２と、タンク５２１の下流側とめっき処理槽５１の側壁部５１３とを接続するパイプ５２３と、パイプ５２２の途中に設けられたポンプ５２４とを有している。そして、ポンプ５２４が作動することにより、めっき液５４は、タンク５２１からめっき処理槽５１に流れていき、めっき処理槽５１内で一旦貯留されて、再度タンク５２１に戻ってくる。このようにめっき液５４を循環させることができる。

電気系統５３は、めっき処理槽５１内に配置された電極５３１と、めっき処理槽５１の開口部５１１の縁部５１４に配置された電極５３２と、電極５３１と電極５３２との間に電圧を印加する電源５３３とを有している。ウェハ１００は、めっき処理槽５１の上側から開口部５１１を覆うように、めっき処理槽５１に支持される。このときのウェハ１００は、レジスト層１０１側がめっき処理槽５１の内側に臨んでおり、電極５３２と電気的に接続される。また、開口部５１１は、ウェハ１００によって、液密的に封止される。そして、めっき処理槽５１内をめっき液５４で充填して、このめっき液５４とウェハ１００とを接触させる。また、この状態で、電極５３１をアノードとし、電極５３２と電気的に接続されたウェハ１００をカソードとして、電源５３３を作動させた通電状態とすることができる。これにより、めっき液５４中の金イオンがウェハ１００のレジスト層１０１以外の部分に析出して、金めっきによるめっき層１０２が形成される。

図２に示すように、第２載置部３Ｂに対して、搬送部２を中心とした反時計回りの方向には、後処理部６が配置されている。後処理部６は、めっき処理が施されて、めっき層１０２が形成された後のウェハ１００に対して後処理を施す後処理工程（図１１参照）を行なうものである。

図７〜図９に示すように、後処理部６は、ターンテーブル６１と、上側ノズル６２と、下側ノズル６３とを有している。

ターンテーブル６１は、ドーナツ状をなし、その中心を回転中心として回転可能に支持されている。そして、このターンテーブル６１上にウェハ１００を固定することができる。これにより、ウェハ１００は、ターンテーブル６１とともに回転することができる。また、図８に示すように、ターンテーブル６１上でのウェハ１００は、めっき層１０２がターンテーブル６１の中心開口部６１１から露出している。

上側ノズル６２と下側ノズル６３とは、ターンテーブル６１の中心開口部６１１を介して対向配置されている。図７、図８に示すように、上側ノズル６２は、ウェハ１００に対して、その上側から液体６４を噴出することができる。下側ノズル６３は、ウェハ１００に対して、その下側から液体６５を噴出することができる。そして、液体６４、液体６５の噴出と、ターンテーブル６１によるウェハ１００の回転とが相まって、ウェハ１００の両面（表裏）を洗浄することができる。なお、この洗浄時のターンテーブル６１の回転数は、特に限定されず、例えば、１０ｒｐｍ以上１００ｒｐｍ以下であるのが好ましい。また、洗浄時のターンテーブル６１の回転数は、一定でもよいし、増減を繰り返すように変化してもよい。また、洗浄時のターンテーブル６１の回転は、一方向のみの回転でもよいし、正転と反転とを繰り返す回転でもよい。

ウェハ１００を洗浄後は、図９に示すように、液体６４、液体６５の噴出を停止する。そして、ターンテーブル６１の回転数を増加させる。これにより、ウェハ１００に付着していた液体６４、液体６５が遠心力により吹き飛ばされ、よって、ウェハ１００が乾燥する。なお、この乾燥時のターンテーブル６１の回転数は、特に限定されず、例えば、１０００ｒｐｍ以上２０００ｒｐｍ以下であるのが好ましい。また、乾燥時のターンテーブル６１の回転数は、一定でもよいし、増減を繰り返すように変化してもよい。また、乾燥時のターンテーブル６１の回転は、一方向のみの回転でもよいし、正転と反転とを繰り返す回転でもよい。

このように、後処理部６で行なわれる後処理は、ウェハ１００を洗浄して、乾燥する処理となっている。これにより、液体６４、液体６５や、その他埃等が除去され、よって、計量部７での正確な重量（ウェハ１００の処理後重量Ｗ_２）測定が可能となる。

なお、液体６４や液体６５としては、特に限定されず、例えば、純水を用いるのが好ましい。また、液体６４と液体６５とは、同種の液体でもよいし、異種の液体でもよい。また、液体６４の噴出量と液体６５の噴出量とは、同じでもよいし、異なっていてもよい。また、液体６４の噴出速度と液体６５の噴出速度とは、同じでもよいし、異なっていてもよい。

計量部７は、めっき処理が施される前のウェハ１００の処理前重量Ｗ_１と、めっき処理が施された後のウェハ１００の処理後重量（処理後の総重量）Ｗ_２とを計量する計量工程を行なうものである。以下、処理前重量Ｗ_１を計量する工程を「第１計量工程」と言い、処理後重量Ｗ_２を計量する工程を「第２計量工程」と言う（図１１参照）。

図４に示すように、計量部７は、天びん本体７１と、計量皿７２と、風防（フード）７３とを有する質量比較器で構成されている。これにより、計量皿７２上にウェハ１００を１枚ずつ載置して、このウェハ１００を安定して正確に計量して、処理前重量Ｗ_１、処理後重量Ｗ_２が得られる。そして、処理前重量Ｗ_１と処理後重量Ｗ_２との差を、めっき処理によりウェハ１００に付着しためっき層１０２のめっき層重量（めっき部重量）ΔＷとみなすことができる。

なお、計量部７が計量することができる最小単位としては、特に限定されず、例えば、０．０００１ｇ以上０．００１ｇ以下であるのが好ましい。

また、計量部７は、前処理が施される前のウェハ１００の重量を処理前重量Ｗ_１として計量し、後処理が施された後のウェハ１００の重量を処理後重量Ｗ_２として計量する。これにより、処理前重量Ｗ_１と処理後重量Ｗ_２との差であるめっき層重量ΔＷを、めっき層１０２自体の正確な重量をとして扱うことができる。

図１０に示すように、制御部９は、搬送部２と、前処理部４と、６つのめっき処理部５と、後処理部６と、計量部７と、操作部８と電気的に接続されている。この制御部９は、ＣＰＵが内蔵されており、予め記憶されている各種プログラムに基づいて、各部の作動を制御することができる。

操作部８は、トップカバー１１と同じ方向に臨んで配置されている。操作部８は、例えば、制御部９に対して前記各部の作動に必要な条件を入力することができる。このような操作部８は、例えば、液晶パネル（タッチパネル）やスピーカ等が内蔵されている。

また、制御部９は、めっき層重量ΔＷが所定の閾値の範囲内（閾値α_１以上閾値α_２以下）であるか否かを判断する判断工程（図１１参照）を行なう判断部としての機能も有している。次に、この判断と、判断結果に応じた動作とについて説明する。

図１２に示すように、まず、処理前重量Ｗ_１と処理後重量Ｗ_２との差、すなわち、めっき層重量ΔＷを演算する（ステップＳ１０１）。次いで、めっき層重量ΔＷが閾値α_１以上閾値α_２以下（α_１≦ΔＷ≦α_２）であるか否かを判断する（ステップＳ１０２）。ステップＳ１０２においてめっき層重量ΔＷが閾値α_１以上閾値α_２以下であると判断されたら、めっき処理部５でのめっき処理の条件は正常であり、めっき層１０２の状態（めっき状態）も正常である、すなわち、めっき層１０２は保証の範囲内で形成されていると判断する。これにより、そのままめっき処理部５でのめっき処理を、めっき状態が正常と判断されたウェハ１００に続く他のウェハ１００に対しても継続することができる。なお、めっき層重量ΔＷが前記閾値の範囲内にあるウェハ１００は、良品として扱われる。

また、操作部８に内蔵されている液晶パネルやスピーカは、この判断結果を報知することもできる（ステップＳ１０３）。これにより、めっき装置１の操作者は、めっき状態が「良（正常）」であると把握することができる。

ステップＳ１０２においてめっき層重量ΔＷが前記閾値の範囲から外れた、すなわち、α_１≦ΔＷ≦α_２ではないと判断されたら、めっき処理部５でのめっき処理の条件を変更する（ステップＳ１０４）。なお、めっき層重量ΔＷが前記閾値の範囲から外れたウェハ１００は、不良品として扱われる。

また、操作部８は、前記と同様に、この判断結果を報知する。これにより、めっき装置１の操作者は、めっき状態が「不良」であると把握することができる。このように、操作部８に内蔵されている液晶パネルやスピーカは、制御部９での判断結果を報知する報知部としての機能も有している。そして、めっき装置１の操作者は、めっき状態の良否を把握することができる。

めっき処理の条件を変更するに際し、制御部９では、めっき処理時の通電状態での通電時間の調整が行なわれる。この調整は、めっき層重量ΔＷと通電時間との関係を示す検量線（図１３参照）に基づいて行なわれる。なお、めっき層重量ΔＷは、電流値が一定の場合、通電時間に比例する傾向にある。

例えば、めっき層重量ΔＷをめっき層重量ΔＷ_０とすべきところ、実際にはめっき層重量ΔＷ_１だった場合、通電時間ｔ_１を通電時間ｔ_０に調整する。但し、めっき層重量ΔＷ_０は、閾値α_１以上閾値α_２以下の範囲にあり、めっき層重量ΔＷ_１は、閾値α_１以上閾値α_２以下の範囲から外れている。このように制御部９は、めっき処理の条件を変更するに際し、めっき処理時の通電状態での通電時間を調整する調整部としても機能する。

そして、めっき層重量ΔＷが前記閾値の範囲内であるか否かの判断に用いられたウェハ１００（先発の通電時間ｔ_０）の後にめっき処理が施されるウェハ１００（次発のウェハ１００）は、変更されためっき処理の条件下で、すなわち、通電時間ｔ_０でめっき処理が施される。これにより、めっき層重量ΔＷ_０のウェハ１００が得らえる。このウェハ１００に対しても、ステップＳ１０１以降のステップが順次実行される。なお、このウェハ１００は、良品として扱われる可能性が十分に高い。

以上のようにめっき装置１では、１つのキャリア３１（１ロット）に収納されたウェハ１００に対してめっきを行なう際、めっき処理前後に、その都度ウェハ１００を１枚ずつ計量して、めっき状態が好ましいか否かを判断することができる。これにより、１つのキャリア３１のウェハ１００に対してめっきを行なっている最中でも、ウェハ１００が良品か不良品かを判断することができ、よって、歩留まりが向上する。また、正常な（正確な）めっき処理を継続して行なうことができる。

また、めっき装置１では、めっき処理部５ごとにめっき層重量ΔＷが前記閾値の範囲から外れた場合には、めっき処理部５ごとにめっき処理の条件を変更することができる。

すなわち、めっき装置１では、めっき処理部５Ａでのめっき処理によるめっき層重量ΔＷが前記閾値の範囲から外れた場合には、めっき処理部５Ａでのめっき処理の条件を変更することができる。同様に、めっき処理部５Ｂでのめっき処理によるめっき層重量ΔＷが前記閾値の範囲から外れた場合には、めっき処理部５Ｂでのめっき処理の条件を変更することができる。また、めっき処理部５Ｃでのめっき処理によるめっき層重量ΔＷが前記閾値の範囲から外れた場合には、めっき処理部５Ｃでのめっき処理の条件を変更することができる。また、めっき処理部５Ｄでのめっき処理によるめっき層重量ΔＷが前記閾値の範囲から外れた場合には、めっき処理部５Ｄでのめっき処理の条件を変更することができる。また、めっき処理部５Ｅでのめっき処理によるめっき層重量ΔＷが前記閾値の範囲から外れた場合には、めっき処理部５Ｅでのめっき処理の条件を変更することができる。また、めっき処理部５Ｆでのめっき処理によるめっき層重量ΔＷが前記閾値の範囲から外れた場合には、めっき処理部５Ｆでのめっき処理の条件を変更することができる。

このようにめっき処理部５ごとにめっき処理の条件が変更可能であることにより、例えば全めっき処理部５のめっき処理の条件を一括して変更するのに比べて、歩留まりがさらに向上する。

以上、本発明のめっき装置およびめっき方法を図示の実施形態について説明したが、本発明は、これに限定されるものではない。また、めっき装置を構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。また、任意の構成物が付加されていてもよい。

また、めっき処理部の配置数は、前記実施形態では６つであったが、これに限定されず、例えば、１つ〜５つまたは７つ以上であってもよい。

また、６つのめっき処理部は、前記実施形態では同じ金属めっきを行なっているが、これに限定されず、例えば、各めっき処理部が異なる金属めっきを行なってもよい。

また、めっき処理部で行なわれるめっき処理は、本実施形態ではめっき液（電解液）を用いた湿式のめっきであったが、これに限定されず、乾式のめっきでもよい。

また、めっき処理部で行なわれるめっき処理は、本実施形態では電解めっきであったが、これに限定されず、無電解めっきでもよい。

めっき処理の条件を変更するに際し、前記実施形態では通電時間を調整していたが、これに限定されず、例えば、電流値を調整してもよいし、通電時間および電流値の双方を調整してもよい。また、通電時間や電流値を調整することの他に、例えば、めっき液の濃度を調整してもよいし、めっき液の温度を調整してもよい。

また、前処理部の配置数は、前記実施形態では１つであったが、これに限定されず、例えば、２つ以上であってもよい。

また、後処理部の配置数は、前記実施形態では１つであったが、これに限定されず、例えば、２つ以上であってもよい。

１ めっき装置
２ 搬送部
２１ 保持部
３Ａ 第１載置部
３Ｂ 第２載置部
３１ キャリア
３２ 仕切板
４ 前処理部
４１ 前処理槽
４１１ 開口部
４１２ 縁部
４１３ 底部
４２ ノズル
４３ 液体
５、５Ａ、５Ｂ、５Ｃ、５Ｄ、５Ｅ、５Ｆ めっき処理部
５１ めっき処理槽
５１１ 開口部
５１２ 底部
５１３ 側壁部
５１４ 縁部
５２ めっき液供給系統
５２１ タンク
５２２、５２３ パイプ
５２４ ポンプ
５３ 電気系統
５３１、５３２ 電極
５３３ 電源
５４ めっき液（電解液）
６ 後処理部
６１ ターンテーブル
６１１ 中心開口部
６２ 上側ノズル
６３ 下側ノズル
６４、６５ 液体
７ 計量部
７１ 天びん本体
７２ 計量皿
７３ 風防（フード）
８ 操作部（操作パネル）
９ 制御部
１０ カバー
１１ トップカバー
１２ フロントカバー
１３ リアカバー
１４ サイドカバー
１５ サイドカバー
１６、１７ フロントドア
１００ ウェハ
１０１ レジスト層（レジスト膜）
１０２ めっき層（めっき部）
Ｉ 矢印
II 矢印
III 矢印
IV 矢印
Ｖ 矢印
VI 矢印
Ｓ１０１〜Ｓ１０４ ステップ
ｔ_０、ｔ_１ 通電時間
Ｗ_１ 処理前重量
Ｗ_２ 処理後重量（処理後の総重量）
ΔＷ、ΔＷ_０、ΔＷ_１ めっき層重量（めっき部重量）
α_１、α_２ 閾値

Claims (17)

1. 被めっき物にめっき処理を施す少なくとも１つのめっき処理部と、
   前記めっき処理が施される前の前記被めっき物の処理前重量と、前記めっき処理が施された後の前記被めっき物の処理後重量とを計量する計量部と、
   前記処理前重量と前記処理後重量との差を、前記めっき処理により前記被めっき物に付着しためっき部のめっき部重量とみなし、該めっき部重量が所定の閾値の範囲内であるか否かを判断する判断部とを備えることを特徴とするめっき装置。
2. 前記めっき部重量が前記閾値の範囲内である場合には、前記めっき処理の条件は、正常であると判断する請求項１に記載のめっき装置。
3. 前記めっき部重量が前記閾値の範囲から外れた場合には、前記めっき処理の条件を変更する請求項１または２に記載のめっき装置。
4. 前記めっき処理は、電解めっきであり、
   前記めっき処理の条件を変更するに際し、通電時間および電流値のうちの少なくとも一方を調整する調整部を備える請求項３に記載のめっき装置。
5. 前記調整部は、前記めっき部重量と前記通電時間との関係を示す検量線に基づいて、前記通電時間を調整する請求項４に記載のめっき装置。
6. 前記めっき部重量が前記閾値の範囲内であるか否かの判断に用いられた前記被めっき物の後に前記めっき処理が施される前記被めっき物は、変更された前記めっき処理の条件下で前記めっき処理が施される請求項３ないし５のいずれか１項に記載のめっき装置。
7. 前記判断部による判断結果を報知する報知部を備える請求項１ないし６のいずれか１項に記載のめっき装置。
8. 前記めっき処理部と前記計量部との間を、前記被めっき物を搬送する搬送部を備える請求項１ないし７のいずれか１項に記載のめっき装置。
9. 前記めっき処理部は、複数配置されている請求項８に記載のめっき装置。
10. 前記複数のめっき処理部は、前記搬送部を囲むように配置されている請求項９に記載のめっき装置。
11. 前記めっき処理部ごとに前記めっき部重量が前記閾値の範囲から外れた場合には、前記めっき処理部ごとに前記めっき処理の条件を変更する請求項９または１０に記載のめっき装置。
12. 前記計量部は、質量比較器で構成されている請求項１ないし１１のいずれか１項に記載のめっき装置。
13. 前記めっき処理が施される前の前記被めっき物に対して前処理を施す前処理部を備え、
    前記計量部は、前記前処理が施される前の前記被めっき物の重量を前記処理前重量として計量する請求項１ないし１２のいずれか１項に記載のめっき装置。
14. 前記前処理は、前記被めっき物に対して液体を付与する処理である請求項１３に記載のめっき装置。
15. 前記めっき処理が施された後の前記被めっき物に対して後処理を施す後処理部を備え、
    前記計量部は、前記後処理が施された後の前記被めっき物の重量を前記処理後重量として計量する請求項１ないし１４のいずれか１項に記載のめっき装置。
16. 前記後処理は、前記被めっき物を洗浄して、乾燥する処理である請求項１５に記載のめっき装置。
17. 被めっき物にめっき処理を施すめっき処理工程と、
    前記めっき処理が施される前の前記被めっき物の処理前重量と、前記めっき処理が施された後の前記被めっき物の処理後重量とを計量する計量工程と、
    前記処理前重量と前記処理後重量との差を、前記めっき処理により前記被めっき物に付着しためっき部のめっき部重量とみなし、該めっき部重量が所定の閾値の範囲内であるか否かを判断する判断工程とを有することを特徴とするめっき方法。

Images