JP2018181913A - インプリント装置、インプリント装置の運転方法及びデバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1に示すように、本実施形態によるインプリント装置1は、所定パターンが形成されたモールド72を保持するモールドホルダ71を有するモールド装置7と、所定パターンが転写されるレジスト(樹脂の一例)210が形成された基板21を保持する基板保持テーブル2とを備えている。また、インプリント装置1は、基板保持テーブル2をモールドホルダ71に対して移動可能に支持するステージ装置3と、ステージ装置3の一部とモールドホルダ71とを固定する固定部9a,9b,9cとを備えている。また、インプリント装置1は、所定パターンをレジスト210に転写する際にモールドを押圧するプレス機5と、モールド72と基板21との位置合わせ時に用いられる顕微鏡6とを備えている。さらに、インプリント装置1は、レジスト210を硬化するための光(本実施形態では紫外線)を照射する光源8を備えている。
次に、本実施形態によるインプリント装置1に備えられたステージ装置3の概略構成について図1を参照しつつ図2を用いて説明する。図2では、理解を容易にするため、ステージ装置3が支持する基板保持テーブル2及び基板保持テーブル2に保持される基板21が併せて図示されている。また、図2には、ステージ装置3が移動可能な方向を示すxyz座標が図示されている。
次に、本実施形態によるインプリント装置1に備えられたモールド装置7の概略構成について図1を参照しつつ図3及び図4を用いて説明する。図3中の上方にはモールドホルダ71及びモールド72が図示され、図3中の下方には、モールドホルダ71の位置を制御する位置制御装置73a,73b,73cが図示されている。
次に、本実施形態によるインプリント装置1に備えられたプレス機5の概略構成について図1及び図4を参照しつつ図5を用いて説明する。図5には、柱状部材51が移動可能な方向を示すxyz座標が図示されている。また、図5(b)では、柱状部材51のみ図5(a)中に示すA−A線で切断した切断面が示されている。また、図5(b)には、光源8が併せて図示されている。
次に、本実施形態によるインプリント装置1に備えられた基板保持テーブル2の概略構成について図1及び図4を参照しつつ図8を用いて説明する。
図8に示すように、インプリント装置1は、モールド72に形成された転写パターン(図4(b)参照)が転写されるレジスト210が形成された基板21を保持する基板保持テーブル2を備えている。
次に、本実施形態によるインプリント装置の運転方法及びデバイスの製造方法について、図1から図8を参照しつつ図9を用いて説明する。
まず、図1及び図9(a)に示すように、転写パターン(所定パターンの一例)721が形成されたモールド72を保持するモールドホルダ71(図4参照)を、転写パターン721が転写されるレジスト210が形成された基板21を保持する微動ステージ32に近付けてレジスト210とモールド72とを対向して配置する。このとき、基板21は基板保持テーブル2に保持されているため、モールド72が保持されたモールドホルダ71と、転写パターンが転写されるレジスト210が形成された基板21が保持された基板保持テーブル2とが対向して配置される。
上記実施形態によるインプリント装置の運転方法では、転写パターン721とレジスト210とを接触させる際にモールド72のみを撓ませているが、本発明はこれに限られない。例えば、転写パターン721とレジスト210とを接触させる際に、基板21がモールドホルダ71の側に突出するようにレジスト210とともに基板21を撓ませてもよい。さらに、モールドホルダ71を基板保持テーブル2の側にさらに移動させるとともに、基板21の突き上げを解除して、転写パターン721の全面とレジスト210の全面とを接触させてもよい。
2 基板保持テーブル
3 ステージ装置
5 プレス機
6 顕微鏡
7 モールド装置
8 光源
9 プレス機
9a,9b,9c 固定部
21 基板
22 基板設置面
23a,23b,23c 基板固定部
27 基板保持領域
28 突上部
31 粗動ステージ
32 微動ステージ
32s 設置面
51 柱状部材
52 筐体
53 モータ部
54 支柱部
55a,55b,55c 姿勢制御部
71 モールドホルダ
72 モールド
73a,73b,73c 位置制御装置
81 発光部
82 反射部
91a,91b 電磁石
92a,92b,92c ダイセットガイド
210 レジスト
311 XY方向移動部
312 θ方向移動部
313 フレーム
511,561 押圧部
511s 平坦面
512 支持部
512a,512b,512c 突起部
551a,551b,551c アクチュエータ
552a,552b,552c 圧力検知部
553a,553b,553c 弾性体
711 モールド保持部
711a 開口部
711b 突出部
712a,712b,712c 取付部
713 本体部
714 固定治具
721 転写パターン
731a,731b,731c 被取付部
732a,732b,732c 支持部
733a,733b,733c 駆動部
UV 紫外線
Claims (8)
- 所定パターンが形成されたモールドを保持するモールドホルダと、
前記所定パターンが転写されるレジストが形成された基板を保持する第一ステージと、
前記第一ステージを保持する第二ステージと、
前記モールドホルダと前記第二ステージとを固定する固定部と、
を備えるインプリント装置。 - 前記第二ステージは、前記第一ステージを移動可能に保持し、
前記固定部は、電磁石と、前記電磁石に対向して配置されたダイセットガイドとを有する
請求項1に記載のインプリント装置。 - 所定パターンが形成されたモールドを保持するモールドホルダを、前記所定パターンが転写されるレジストが形成された基板を保持する第一ステージに近付けて前記レジストと前記モールドとを対向して配置し、
前記第一ステージを保持する第二ステージを前記モールドホルダに対して相対的に移動させて前記モールドと前記基板とを位置合わせし、
前記モールドホルダと前記第二ステージとを固定部を用いて固定し、
前記第一ステージを前記モールドホルダに対して相対的に移動させて前記モールドと前記基板とを位置合わせするインプリント装置の運転方法。 - 前記モールドホルダを前記第一ステージへ近付け、前記所定パターンに前記レジストを接触させた後、前記モールドホルダと前記第二ステージとを前記固定部を用いて固定する
請求項3に記載のインプリント装置の運転方法。 - 前記第一ステージを用いる位置合わせ精度は、前記第二ステージを用いる位置合わせ精度よりも高い
請求項3又は4に記載のインプリント装置の運転方法。 - 前記固定部は電磁石とダイセットガイドから構成され、
前記電磁石へ通電して磁力を発生させ、前記電磁石と前記ダイセットガイドとを前記磁力により固定することで前記モールドホルダを前記第二ステージに固定する
請求項3から5までのいずれか一項に記載のインプリント装置の運転方法。 - 前記電磁石は、前記第二ステージに設けられて前記第一ステージを移動可能に保持するフレームに配置されている
請求項6に記載のインプリント装置の運転方法。 - 請求項3から7までのいずれか一項に記載のインプリント装置の運転方法を用いてデバイスを製造する
デバイスの製造方法。
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JP2017074519A JP6936985B2 (ja) | 2017-04-04 | 2017-04-04 | インプリント装置、インプリント装置の運転方法及びデバイスの製造方法 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102523787B1 (ko) * | 2022-02-03 | 2023-04-21 | 주식회사피에스디이 | 기포 문제를 해결하기 위한 임프린팅 장치 및 임프린팅 방법 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5341983A (en) * | 1976-09-29 | 1978-04-15 | Hitachi Ltd | Accurate position matching unit |
JP2010067796A (ja) * | 2008-09-11 | 2010-03-25 | Canon Inc | インプリント装置 |
JP2011124346A (ja) * | 2009-12-09 | 2011-06-23 | Canon Inc | インプリント装置及び物品の製造方法 |
WO2011077584A1 (ja) * | 2009-12-26 | 2011-06-30 | キヤノン株式会社 | インプリント装置及び物品の製造方法 |
-
2017
- 2017-04-04 JP JP2017074519A patent/JP6936985B2/ja active Active
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS5341983A (en) * | 1976-09-29 | 1978-04-15 | Hitachi Ltd | Accurate position matching unit |
JP2010067796A (ja) * | 2008-09-11 | 2010-03-25 | Canon Inc | インプリント装置 |
JP2011124346A (ja) * | 2009-12-09 | 2011-06-23 | Canon Inc | インプリント装置及び物品の製造方法 |
WO2011077584A1 (ja) * | 2009-12-26 | 2011-06-30 | キヤノン株式会社 | インプリント装置及び物品の製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102523787B1 (ko) * | 2022-02-03 | 2023-04-21 | 주식회사피에스디이 | 기포 문제를 해결하기 위한 임프린팅 장치 및 임프린팅 방법 |
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