JP2018181815A - Manufacturing apparatus of flexible device and manufacturing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、有機エレクトロルミネッセンスデバイスのようなフレキシブルデバイスを製造するための装置及び方法に関する。 The present invention relates to an apparatus and method for manufacturing flexible devices such as organic electroluminescent devices.
湾曲可能なフレキシブル表示デバイスとして、有機エレクトロルミネッセンス(以下、有機EL)デバイスが、スマートフォン等の電子機器において広く使用されつつある。例えば特開2011−48374号公報に記載されているように、一般的な有機ELデバイスの製造方法においては、硬質の支持基板の一方の主面上に、フレキシブル膜が形成され、そのフレキシブル膜上に下部電極、有機EL部及び上部電極を含むデバイス層が形成される。デバイス層が形成された後、デバイス層を覆うように保護フィルムが接着剤を用いて貼られる。通常、支持基板としてガラス基板が使用されており、フレキシブル膜としてポリイミド膜が使用されている。 Organic electroluminescent (hereinafter, organic EL) devices are being widely used in electronic devices such as smart phones as flexible display devices that can be bent. For example, as described in JP-A-2011-48374, in a general method of manufacturing an organic EL device, a flexible film is formed on one main surface of a hard support substrate, and the flexible film is formed on the flexible film. A device layer including the lower electrode, the organic EL unit, and the upper electrode is formed on the After the device layer is formed, a protective film is attached using an adhesive to cover the device layer. Usually, a glass substrate is used as a support substrate, and a polyimide film is used as a flexible film.
支持基板上に、フレキシブル膜、デバイス層及び保護フィルムを含む層状構造体が形成された後、層状構造体の反対側にある支持基板の主面側からフレキシブル膜にレーザー光が照射される。この工程は、レーザーリフトオフ(LLO)と称されており、フレキシブル膜にレーザー光が照射されることで、支持基板とフレキシブル膜の間の密着性が低下して、層状構造体を支持基板から剥離することが可能となる。層状構造体は、表示デバイスを多面取り可能なように形成されており、層状構造体を支持基板から剥離した後、表示デバイスとして使用される個々の部分を層状構造体から切り取る工程が行われる。 After the layered structure including the flexible film, the device layer and the protective film is formed on the supporting substrate, the flexible film is irradiated with laser light from the main surface side of the supporting substrate on the opposite side of the layered structure. This process is called laser lift-off (LLO), and by irradiating the flexible film with laser light, the adhesion between the support substrate and the flexible film is reduced, and the layered structure is peeled off from the support substrate. It is possible to The layered structure is formed so that the display device can be chamfered, and after peeling the layered structure from the support substrate, a process of cutting away individual portions used as the display device from the layered structure is performed.
上記のような有機ELデバイスの製造方法では、保護フィルムの縁部と支持基板の主面とが接着剤で接着されることから、層状構造体を支持基板から剥離するために、LLOが行われた後に保護フィルムの縁部を刃物を用いて支持基板から剥がす工程が必要とされる。このような刃物を使用することで、層状構造体のフレキシブル膜に亀裂が生じたり、パーティクルが発生することがある。また、上記のような有機ELデバイスの製造方法では、保護フィルムを支持基板から剥がしたとしても、支持基板から刃物を離した後に保護フィルムの縁部が接着剤を介して支持基板と再付着することで、支持基板から層状構造体をスムーズに剥離できないことがある。 In the method of manufacturing the organic EL device as described above, since the edge of the protective film and the main surface of the support substrate are bonded with an adhesive, LLO is performed to separate the layered structure from the support substrate. Then, a step of peeling the edge of the protective film from the support substrate using a knife is required. By using such a blade, the flexible film of the layered structure may be cracked or particles may be generated. In addition, in the method of manufacturing an organic EL device as described above, even if the protective film is peeled off from the support substrate, the edge of the protective film reattaches to the support substrate via the adhesive after releasing the cutter from the support substrate. In some cases, the layered structure can not be peeled off smoothly from the supporting substrate.
更に、上記のような有機ELデバイスの製造方法では、層状構造体の剥離工程後、層状構造体を保護するために、支持基板から剥離した層状構造体のフレキシブル膜に第2の保護フィルムを貼ることが行われている。故に、有機ELデバイスの製造方法では、このような第2の保護フィルムに係る工程を無くすことが望まれている。 Furthermore, in the method of manufacturing an organic EL device as described above, the second protective film is attached to the flexible film of the layered structure peeled from the support substrate to protect the layered structure after the peeling step of the layered structure. The thing is done. Therefore, in the method of manufacturing an organic EL device, it is desirable to eliminate the process related to such a second protective film.
加えて、従来の有機ELデバイスの製造方法では、支持基板から剥離された層状構造体に皺が発生することがある。このような皺は、最終製品の表示デバイスの歩留まりを悪化させる原因になる。 In addition, in the conventional method of manufacturing an organic EL device, wrinkles may occur in the layered structure peeled off from the support substrate. Such defects cause deterioration in the yield of display devices of final products.
本発明は、上記の問題の少なくとも1つを解決できるフレキシブルデバイスの製造装置及び製造方法を提供する。 The present invention provides a flexible device manufacturing apparatus and method that can solve at least one of the above problems.
本発明の第1のフレキシブルデバイス製造装置は、支持基板に形成された層状構造体を処理して複数のフレキシブルデバイスを製造するフレキシブルデバイス製造装置であって、前記層状構造体は、前記支持基板の一方の主面と密着するように形成されたフレキシブル膜と、前記フレキシブル膜上に形成されており、前記複数のフレキシブルデバイスに電子デバイスとしての機能を与えるためのデバイス層と、接着剤を介してデバイス層を覆うように貼られた保護フィルムとを含んでおり、前記保護フィルムの縁部は、前記接着剤を介して前記支持基板の一方の主面に付着しており、レーザー光を用いて前記層状構造体を切断して、前記複数のフレキシブルデバイスに夫々対応した複数のデバイス部分と、残余部分とに前記層状構造体を分割する処理を行う第1処理ステーションと、前記第1処理ステーションで前記層状構造体が処理された後、前記支持基板の他方の主面側から前記フレキシブル膜にレーザー光を照射することで、前記フレキシブル膜と前記支持基板との密着性を低下させる、又は、前記フレキシブル膜の縁部を除いて前記フレキシブル膜と前記支持基板との密着性を低下させる処理を行う第2処理ステーションと、前記第2処理ステーションで前記層状構造体が処理された後、多孔質粒子で形成された吸着体を有する多孔質真空チャックに前記層状構造体が吸着した状態で前記支持基板と前記多孔質真空チャックとを離間させることで、前記多孔質真空チャックが吸着している前記複数のデバイス部分から、前記残余部分を前記支持基板と共に分離する処理を行うチャックユニットと、を備えている。 The first flexible device manufacturing apparatus of the present invention is a flexible device manufacturing apparatus for manufacturing a plurality of flexible devices by processing a layered structure formed on a support substrate, wherein the layered structure is the support substrate. A flexible film formed in close contact with one main surface, a device layer formed on the flexible film, for giving the plurality of flexible devices a function as an electronic device, and an adhesive And a protective film attached to cover the device layer, wherein the edge of the protective film is attached to one of the main surfaces of the support substrate via the adhesive, and a laser beam is used. The layered structure is cut to divide the layered structure into a plurality of device portions respectively corresponding to the plurality of flexible devices and a remaining portion. And the flexible film is irradiated with the laser beam from the other main surface side of the support substrate after the layered structure is processed at the first processing station for performing the processing and the first processing station. A second processing station for reducing adhesion between the membrane and the support substrate, or reducing adhesion between the flexible membrane and the support substrate except for the edge of the flexible membrane; After the layered structure is processed at a processing station, the support substrate and the porous vacuum chuck are separated in a state where the layered structure is adsorbed to a porous vacuum chuck having an adsorbent formed of porous particles. Process to separate the remaining part from the plurality of device parts adsorbed by the porous vacuum chuck together with the support substrate. It includes a chuck unit.
本発明の第1のフレキシブルデバイス製造装置は、前記チャックユニットを用いて前記層状構造体が処理された後、前記多孔質真空チャックが吸着している前記複数のデバイス部分の各々にフィルムを貼り付ける処理を行う第3処理ステーションを更に備えてよい。 In the first flexible device manufacturing apparatus of the present invention, after the layered structure is processed using the chuck unit, a film is attached to each of the plurality of device portions adsorbed by the porous vacuum chuck. It may further comprise a third processing station for processing.
本発明の第1のフレキシブルデバイス製造装置は支持基板に形成された層状構造体を処理して複数のフレキシブルデバイスを製造するフレキシブルデバイス製造装置であって、前記層状構造体は、前記支持基板の一方の主面と密着するように形成されたフレキシブル膜と、前記フレキシブル膜上に形成されており、前記複数のフレキシブルデバイスに電子デバイスとしての機能を与えるためのデバイス層と、接着剤を介してデバイス層を覆うように貼られた保護フィルムとを含んでおり、前記保護フィルムの縁部は、前記接着剤を介して前記支持基板の一方の主面に付着しており、前記複数のフレキシブルデバイスに夫々対応した複数のデバイス部分と、残余部分とに前記層状構造体が分割されている状態で前記層状構造体を吸着する多孔質真空チャックと、前記多孔質真空チャックが前記層状構造体を吸着している状態で、前記支持基板の他方の主面側から前記フレキシブル膜にレーザー光を照射することで、前記フレキシブル膜と前記支持基板との密着性を低下させる、又は、前記フレキシブル膜の縁部を除いて前記フレキシブル膜と前記支持基板との密着性を低下させる処理を行う第1処理ステーションと、前記第1処理ステーションで前記層状構造体が処理された後、前記支持基板と前記多孔質真空チャックとを離間させることで、前記多孔質真空チャックが吸着している前記複数のデバイス部分から、前記残余部分を前記支持基板と共に分離する処理を行うチャックユニットと、を備えている。 The first flexible device manufacturing apparatus of the present invention is a flexible device manufacturing apparatus for processing a layered structure formed on a support substrate to manufacture a plurality of flexible devices, wherein the layered structure is one of the support substrates. A flexible film formed to be in close contact with the main surface of the device, a device layer formed on the flexible film, for giving the plurality of flexible devices a function as an electronic device, and a device via an adhesive And a protective film attached to cover the layer, the edge of the protective film being attached to one main surface of the support substrate via the adhesive, to the plurality of flexible devices A porous material which adsorbs the layered structure in a state where the layered structure is divided into a plurality of corresponding device portions and a remaining portion. The flexible film and the support are formed by irradiating the flexible film with a laser beam from the other principal surface side of the support substrate while the empty chuck and the porous vacuum chuck are adsorbing the layered structure. A first processing station for performing processing for reducing adhesion to a substrate or reducing adhesion between the flexible film and the support substrate except for the edge of the flexible film; and By separating the support substrate and the porous vacuum chuck after the layered structure is processed, the remaining portions of the plurality of device portions to which the porous vacuum chuck is adsorbed are made to be together with the support substrate. And a chuck unit for performing separation processing.
本発明の第1のフレキシブルデバイス製造装置は、前記チャックユニットを用いて前記層状構造体が処理された後、前記多孔質真空チャックが吸着している前記複数のデバイス部分の各々にフィルムを貼り付ける処理を行う第2処理ステーションを更に備えてよい。 In the first flexible device manufacturing apparatus of the present invention, after the layered structure is processed using the chuck unit, a film is attached to each of the plurality of device portions adsorbed by the porous vacuum chuck. It may further comprise a second processing station for processing.
本発明の第2のフレキシブルデバイス製造装置は、支持基板に形成された層状構造体を処理して複数のフレキシブルデバイスを製造するフレキシブルデバイス製造装置であって、前記層状構造体を処理する1又は複数の処理ステーションと、多孔質粒子で形成された吸着体を有する多孔質真空チャックを載置可能であって、第1移動経路に沿って移動自在に設けられた第1移動コンベアユニットと、前記多孔質真空チャックを載置可能であって、第2移動経路に沿って移動自在に設けられた第2移動コンベアユニットと、を備えており、前記第1移動コンベアユニットと前記第2移動コンベアユニットとの間で、前記多孔質真空チャックテーブルの移動が行えるように構成されており、前記多孔質真空チャックは、前記第1移動コンベアユニットに載置された状態で、前記層状構造体を受け取り、前記多孔質真空チャックは、前記層状構造体を保持した状態で前記第1移動コンベアユニットから前記第2移動コンベアユニットに移動し、前記多孔質真空チャックは、前記層状構造体を保持していない状態で前記第2移動コンベアユニットから前記第1移動コンベアユニットへと戻される、フレキシブルデバイス製造装置。 A second flexible device manufacturing apparatus according to the present invention is a flexible device manufacturing apparatus for processing a layered structure formed on a support substrate to produce a plurality of flexible devices, wherein one or more of the layered structure are processed. And a first movable conveyor unit capable of mounting a porous vacuum chuck having an adsorbent formed of porous particles and movable along a first movement path; A second movable conveyer unit capable of mounting the quality vacuum chuck and movable along a second movement path, the first movable conveyer unit and the second movable conveyer unit Between the movable vacuum chuck table and the movable vacuum conveyor table, and the porous vacuum chuck is configured to move the porous vacuum chuck table. And the porous vacuum chuck is moved from the first movable conveyor unit to the second movable conveyor unit while holding the layered structure while being placed on the The flexible device manufacturing apparatus, wherein the porous vacuum chuck is returned from the second movable conveyor unit to the first movable conveyor unit without holding the layered structure.
本発明のフレキシブルデバイス製造方法は、支持基板に形成された層状構造体を処理して複数のフレキシブルデバイスを製造するフレキシブルデバイスの製造方法であって、前記層状構造体は、前記支持基板の一方の主面と密着するように形成されたフレキシブル膜と、前記フレキシブル膜上に形成されており、前記複数のフレキシブルデバイスに電子デバイスとしての機能を与えるためのデバイス層と、接着剤を介してデバイス層を覆うように貼られた保護フィルムとを含んでおり、前記保護フィルムの縁部は、前記接着剤を介して前記支持基板の一方の主面に付着しており、レーザー光を用いて前記層状構造体を切断して、前記複数のフレキシブルデバイスに夫々対応した複数のデバイス部分と、残余部分とに前記層状構造体を分割する第1工程と、前記第1工程後、前記支持基板の他方の主面側から前記フレキシブル膜にレーザー光を照射することで、前記フレキシブル膜と前記支持基板との密着性を低下させる、又は、前記フレキシブル膜の縁部を除いて前記フレキシブル膜と前記支持基板との密着性を低下させる第2工程と、前記第2工程後、多孔質粒子で形成された吸着体を有する多孔質真空チャックに前記層状構造体が吸着した状態で前記支持基板と前記多孔質真空チャックとを離間させることで、前記多孔質真空チャックが吸着している前記複数のデバイス部分から、前記残余部分を前記支持基板と共に分離する第3工程と、を含んでいる。 The method of manufacturing a flexible device according to the present invention is a method of manufacturing a flexible device in which a plurality of flexible devices are manufactured by processing a layered structure formed on a supporting substrate, wherein the layered structure is one of the supporting substrates. A flexible film formed to be in close contact with the main surface, a device layer formed on the flexible film, for giving the plurality of flexible devices a function as an electronic device, and a device layer via an adhesive And an edge portion of the protective film is attached to one main surface of the support substrate via the adhesive, and the layer is formed using a laser beam. The structure is cut to divide the layered structure into a plurality of device portions respectively corresponding to the plurality of flexible devices and a remaining portion. After the first step, the flexible film is irradiated with a laser beam from the other principal surface side of the support substrate to reduce the adhesion between the flexible film and the support substrate, or A second step of reducing the adhesion between the flexible membrane and the support substrate except for the edge of the flexible membrane, and a porous vacuum chuck having an adsorbent formed of porous particles after the second step. By separating the support substrate and the porous vacuum chuck in a state where the layered structure is adsorbed, the remaining portion is separated together with the support substrate from the plurality of device portions to which the porous vacuum chuck is adsorbed. And the third step of
本発明のフレキシブルデバイス製造方法は、前記第3工程後、前記多孔質真空チャックが吸着している前記複数のデバイス部分の各々にフィルムを貼り付ける第4工程を更に含んでよい。 The method of manufacturing a flexible device according to the present invention may further include a fourth step of applying a film to each of the plurality of device portions adsorbed by the porous vacuum chuck after the third step.
本発明の第1及び第2のフレキシブルデバイス製造装置と、本発明のフレキシブルデバイス製造方法とによれば、保護フィルムの縁部を刃物を用いて支持基板から剥がす工程を行う必要がない。 According to the first and second flexible device manufacturing apparatuses of the present invention and the flexible device manufacturing method of the present invention, it is not necessary to perform the step of peeling the edge of the protective film from the support substrate using a cutter.
本発明の第1乃至第3のフレキシブルデバイス製造装置と、本発明のフレキシブルデバイス製造方法とによれば、層状構造体のフレキシブル膜側に一時的な保護フィルムを貼る工程を排除でき、更には、支持基板から剥離された層状構造体に発生した皺に起因して最終製品のフレキシブルデバイスの歩留まりが悪化する事態は起こらない。 According to the first to third flexible device manufacturing apparatuses of the present invention and the flexible device manufacturing method of the present invention, the step of sticking a temporary protective film on the flexible film side of the layered structure can be eliminated, and further, The yield of the flexible device of the final product does not deteriorate due to the wrinkles generated in the layered structure peeled off from the support substrate.
以下、本発明を図を用いて説明する。図1は、本発明の一実施形態であるフレキシブルデバイス製造装置の概要を示す説明図であり、図2は、当該フレキシブルデバイス製造装置においてフレキシブルデバイスの製造に使用される層状構造体1及び支持基板10を示す断面図である。
Hereinafter, the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is an explanatory view showing an outline of a flexible device manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a
図1に示すフレキシブルデバイス製造装置とは別個に設けられている形成装置(図示せず)にて、図2に示すように、支持基板10の一方の主面上に層状構造体1が形成される。層状構造体1は、フレキシブルデバイス製造装置で製造されるフレキシブルデバイスを多面取り可能な構造と大きさを有するように形成されている。層状構造体1は、矩形で硬質の支持基板10の一方の主面と密着するように形成された矩形のフレキシブル膜11と、フレキシブル膜11上に形成されており、フレキシブルデバイスが電子デバイスとしての機能を実現するための構造を有するデバイス層12と、接着剤13を介してデバイス層12を覆うように貼られた矩形の保護フィルム14とを含んでいる。保護フィルム14の四辺の縁部は、接着剤13を介して支持基板10の主面に付着している(図5も参照のこと)。
In a forming apparatus (not shown) provided separately from the flexible device manufacturing apparatus shown in FIG. 1, a
フレキシブル膜11は、デバイス層12を支持するために設けられており、保護フィルム14は、デバイス層12を外部から保護するために設けられている。フレキシブル膜11は、層状構造体1の主面に密着するように形成されるが、レーザー光を照射することで、支持基板10との間の密着性が低下するような可撓性材料で形成されている。また、支持基板10は、レーザー光を透過する材料で形成されている。
The
本実施形態のフレキシブルデバイス製造装置で製造されるフレキシブルデバイスは、例えば、各種電子機器にて表示デバイスとして使用される有機ELデバイスであって、層状構造体1のデバイス層12は、下部電極、有機EL層及び上部電極を含んでいる(何れも図示せず)。フレキシブル膜11はポリイミド膜であり、保護フィルム14は、透明なポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムである。接着剤13としては、熱硬化性又は紫外線硬化性を有するアクリル系やエポキシ系の接着剤が使用される。接着剤13は、例えばシート状に形成された状態でデバイス層12を覆うように支持基板10上に配置され、その後、接着剤13を覆うように保護フィルム14が配置されて、接着剤13の硬化がなされる。支持基板10としては、例えば、透明なガラス基板が使用される。
The flexible device manufactured by the flexible device manufacturing apparatus of the present embodiment is, for example, an organic EL device used as a display device in various electronic devices, and the
有機ELデバイスの多面取りに使用されるこのような層状構造体1を支持基板10に形成する方法及び形成装置は公知であるので、それらに関する本明細書での更なる説明を省略する。なお、本発明は、有機ELデバイスの製造には限定されず、図2に示したような構成を有する層状構造体1をベースに製造可能な任意のフレキシブルデバイスの製造に適用されてよい。
Since a method and an apparatus for forming such a
フレキシブルデバイス製造装置は、層状構造体1が形成された支持基板10を、図示を省略した形成装置から受け取って、保持する保持ユニット2を備えている。保持ユニット2は、U字状に形成された吸着チャック21、支持部22及び昇降ガイド部23を備えている。吸着チャック21の基端側は、水平な回転軸R(図8参照)回りに回転自在に支持部22に取り付けられており、支持部22は、鉛直方向に昇降自在に昇降ガイド部23に取り付けられている。
The flexible device manufacturing apparatus includes a holding
層状構造体1が形成された支持基板10は、図2に示すように支持基板10側を下向きにして吸着チャック21に保持又は吸着される。保持ユニット2は、ボールねじ機構やラック・ピニオン機構などの駆動手段(図示せず)を用いて、水平に設けられた第1案内レール24に沿って走行自在に設けられている。保持ユニット2は、図1に示すように、第1案内レール24の一端側にて、支持基板10を受け取ると、第1案内レール24の他端側に向かう方向に走行する(図1では、保持ユニット2が移動する方向が矢印で示されている。その他の図においても矢印が図示されているが、これらの矢印は、本実施形態のフレキシブルデバイス製造装置の構成要素の動きを説明するものであって、当該フレキシブルデバイス製造装置の構成要素自体を示すものではない)。
The
フレキシブルデバイス製造装置は、ハーフカットステーション3と、保持ユニット2とハーフカットステーション3との間にて、支持基板10を搬送するための搬送ユニット4と、搬送ユニット4を移動させるための第1移動機構5を備えている。ハーフカットステーション3は、レーザーカッター31を備えており、支持基板10の層状構造体1を、フレキシブルデバイスとして使用される個々のデバイス部分15と、残余部分16とに分割するハーフカット工程を行う。
The flexible device manufacturing apparatus includes a
図3は、ハーフカット工程におけるフレキシブルデバイス製造装置の模様を示す説明図である(図3では、レーザーカッター31は図示省略)。図4は、フレキシブルデバイス製造装置で実行されるハーフカット工程に係る動作を説明する説明図である。搬送ユニット4は、台座部41と、台座部41の下に設けられた支柱部42とを備えている。本実施形態では、支柱部42は、その基部に(上方から見て)格子状に立設された9本の支柱を備えており、台座部41には、各支柱に対応した貫通孔43が鉛直方向に沿って開設されている。
FIG. 3 is an explanatory view showing the pattern of the flexible device manufacturing apparatus in the half cutting step (in FIG. 3, the
第1移動機構5は、スライダ部51を摺動自在に案内する第2案内レール52を有する1軸ロボット機構で構成されている。台座部41は、スライダ部51に対して固定されている。また、支柱部42は、スライダ部51に対して昇降自在に構成されている。
The
支持基板10を受け取った保持ユニット2が、第1案内レール24側に配置された状態の搬送ユニット4上で停止すると、支柱部42が上昇する。支柱部42が上昇すると、支柱部42の各支柱が、台座部41の貫通孔43を通って台座部41の上面から突出する。支柱部42の各支柱と、保持ユニット2の吸着チャック21とは、互いに干渉しないように配置されているので、支柱部42が上昇すると、吸着チャック21に保持されていた支持基板10が下方から押されて、吸着チャック21から取り外される。
When the holding
吸着チャック21から支持基板10が取り外されると、搬送ユニット4は、ハーフカットステーション3に向かって走行を開始すると共に、支柱部42が下降することで、支持基板10が台座部41に配置される。台座部41の上面は水平面であって、支持基板10は、層状構造体1を上向きにして台座部41の上面に載置される。
When the
レーザーカッター31は、水平面内で移動可能なレーザーヘッド32を備えており、搬送ユニット4が、ハーフカットステーション3に到着すると、レーザーヘッド32から放射されたレーザー光が、支持基板10の層状構造体1に照射されて、層状構造体1を厚さ方向に切断する。このレーザー光の出力は、支持基板10を切断しないように調整される。
The
図5は、ハーフカット工程後における層状構造体1の平面図であり、図6は、図5に示すA−A線にて破断した、ハーフカット工程後における層状構造体1及び支持基板10の断面図である。レーザーヘッド32の位置とレーザー光のオン・オフとが制御されることで、複数のデバイス部分15が、層状構造体1の残余部分16に対して切断又は分割される。デバイス部分15は、層状構造体1において、フレキシブルデバイスに使用される構造を有するように形成された部分である。本実施形態では、層状構造体1内にて、矩形のデバイス部分15が5行5列に配置されているが、本発明において、層状構造体1に含まれるデバイス部分15の数と配置は、実施形態の数と配置に限定されない。なお、図5にて斜線で示す領域にて、保護フィルム14は、接着剤13によって支持基板10と接着している。
FIG. 5 is a plan view of the
層状構造体1における全てのデバイス部分15が残余部分16から切断されると、搬送ユニット4が、保持ユニット2に向かって走行を開始すると共に、支柱部42が上昇することで、支持基板10が台座部41の上面から離間する。支持基板10は、吸着チャック21よりも高い位置に配置され、支持基板10が吸着チャック21上に到着すると、搬送ユニット4は停止する。そして、支柱部42が下降することで、支持基板10は、吸着チャック21に載置されて、吸着チャック21は、支持基板10を保持又は吸着する。
When all the
フレキシブルデバイス製造装置は、レーザーリフトオフ工程を行うLLOステーション6を備えている。LLOステーション6は、ハーフカットステーション3に隣接して設けられており、帯状又はライン状にレーザー光を下方に照射可能なビームヘッド61を有している。図1及び図3に示すように、第1案内レール24の他端側にて、多孔質真空チャックテーブル7を載置可能な第1移動コンベアユニット8が、第1案内レール24と直交する方向に走行自在に設けられている。第1移動コンベアユニット8を駆動する第2移動機構9は、第1移動コンベアユニット8を摺動自在に案内する第3案内レール91(図8参照)を有する1軸ロボット機構で構成されている。第3案内レール91は、第1移動コンベアユニット8の移動経路を規定しており、第1案内レール24の下側を通って、第1案内レール24と直交するように延びている。
The flexible device manufacturing apparatus includes an
多孔質真空チャックテーブル7の上面には、多孔質セラミック粒子を焼結させることで形成されることで多数の気孔を有する矩形の吸着体71が設けられている。吸着体71と連通する真空案内路(図示せず)を介して真空吸引を行うことで、吸着体71の上面全体にわたってワークの吸着が行える。
On the upper surface of the porous vacuum chuck table 7, a
第1移動コンベアユニット8は、多孔質真空チャックテーブル7の下側を支持する2列のローラ列を有する第1コンベア81と、第1コンベア81が設けられた第1可動部材82とを有する。第1可動部材82は、第3案内レール91に沿って摺動する第2移動機構9の第1スライダ92(図8参照)と連結している。第1コンベア81は、第1移動コンベアユニット8の移動方向と直交する方向に、多孔質真空チャックテーブル7を搬送するように動作可能である。図1及び図3に示すように、第1移動コンベアユニット8は、その初期位置である第1位置にて、多孔質真空チャックテーブル7を載置した状態で、第1案内レール24とLLOステーション6の間に配置されている。
The first moving
図7は、LLOステーション6でLLO工程が実行される状態におけるフレキシブルデバイス製造装置の模様を示す説明図であり(ビームヘッド61は図示せず)、図8は、フレキシブルデバイス製造装置で実行されるLLO工程に係る動作を説明する説明図である(図8の左側には、後述する多孔質真空チャックテーブル7の戻り工程も図示されている)。ハーフカット工程の終了後、支持基板10を保持した保持ユニット2は、図1に示す第1位置にある多孔質真空チャックテーブル7上に支持基板10が配置された状態で停止する。その後、保持ユニット2の支持部22は、昇降ガイド部23に沿って上昇する。
FIG. 7 is an explanatory view showing a pattern of the flexible device manufacturing apparatus in a state where the LLO process is performed in the LLO station 6 (the
図8の中央に示すように、保持ユニット2の支持部22が所定の高さまで上昇した後、吸着チャック21がその回転軸R回りで180度回転することで、支持基板10は、層状構造体1が下側になるように配置される。その後、保持ユニット2の支持部22が下降することで、支持基板10は、層状構造体1を下側にして、第1移動コンベアユニット8に載置された多孔質真空チャックテーブル7の吸着体71の上面に配置される。
As shown in the center of FIG. 8, after the
支持基板10が、多孔質真空チャックテーブル7の吸着体71の上面に配置されると、吸着チャック21による支持基板10の保持が解除されると共に、図示を省略した真空ポンプが駆動することで、多孔質真空チャックテーブル7が真空吸引されて、多孔質真空チャックテーブル7の吸着体71が、支持基板10に形成されている層状構造体1を吸着する。
When the
吸着体71が層状構造体1を吸着すると、第2移動機構9が動作することで、第1移動コンベアユニット8は、LLOステーション6に向けて移動する。多孔質真空チャックテーブル7と真空ポンプと連通する真空案内路には逆止弁(図示せず)が設けられており、当該逆止弁が働くことで、多孔質真空チャックテーブル7の吸着体71と層状構造体1の吸着状態が維持される。一方、保持ユニット2は、図1に示す初期位置へと移動し、支持部22が元の高さに戻され、吸着チャック21は回転軸R回りで180度反転することで元の位置に戻される。
When the
図9は、LLO工程における層状構造体1及び支持基板10の模様を示す、図6に対応した断面図である。第1移動コンベアユニット8は、LLOステーション6に到着すると停止する。第1移動コンベアユニット8及び支持基板10の上方には、ビームヘッド61が配置されている。本実施形態では、ビームヘッド61は、矩形の層状構造体1及び支持基板10の短手方向に沿った帯状又はライン状のレーザー光を下方に照射しつつ、長手方向に移動可能に構成されている。照射されたレーザー光は、支持基板10を透過してフレキシブル膜11に当たる。ビームヘッド61のレーザー光が支持基板10の一端側から他端側へと走査されることで、層状構造体1のフレキシブル膜11と支持基板10の間の密着性が低下する。
FIG. 9 is a cross-sectional view corresponding to FIG. 6 showing patterns of the
本実施形態では、図9から理解できるように、層状構造体1のフレキシブル膜11の面全体にビームヘッド61のレーザー光が照射されることで、フレキシブル膜11の面全体と支持基板10の間の密着性が低下する。なお、層状構造体1の残余部分16の外縁部を除くようにレーザー光が照射されることで、当該外縁部を構成するフレキシブル膜11の領域と支持基板10の間で密着性が維持されてもよい。なお、本発明では、LLO工程において、レーザー光の照射範囲を制限するマスクを支持基板10上に配置する必要はない。
In the present embodiment, as can be understood from FIG. 9, the entire surface of the
レーザー光の照射が完了すると、第1移動コンベアユニット8は、図1に示す第1位置に戻る。図1等に示すように、フレキシブルデバイス製造装置は、第1案内レール24に対して平行に設けられており、水平に配置された第4案内レール101に沿って移動可能な第1チャックユニット100を備えている。本実施形態では、第1案内レール24と第4案内レール101は、揃えて配置されている。第4案内レール101の一端側は、第1案内レール24側の他端側に配置されており、第4案内レール101の他端側には、支持基板回収ステーション110が設けられている。図1に示す状態では、第1チャックユニット100は、支持基板回収ステーション110に待機している。
When the irradiation of the laser beam is completed, the first
図1等に示すように、第4案内レール101の一端側には、多孔質真空チャックテーブル7を載置可能な第2移動コンベアユニット120が、第4案内レール101と直交する方向に走行自在に設けられている。第2移動コンベアユニット120を駆動する第3移動機構130は、第2移動コンベアユニット120を摺動自在に案内する第5案内レール131(図12参照)を有する1軸ロボット機構で構成されている。第5案内レール131は、第2移動コンベアユニット120の移動経路を規定し、第4案内レール101の下側にて、第4案内レール101と直交するように延びている。
As shown in FIG. 1 etc., the second
第2移動コンベアユニット120は、第1移動コンベアユニット8と同様に構成されており、多孔質真空チャックテーブル7の下側を支持する2列のローラ列を有する第2コンベア121と、第2コンベア121が設けられた第2可動部材122とを有する。第2可動部材122は、第5案内レール131に沿って摺動する第3移動機構130の第2スライダ132(図12参照)と連結されている。第2コンベア121は、第2移動コンベアユニット120の移動方向と直交する方向に、多孔質真空チャックテーブル7を搬送するように動作する。
The second moving
図1では、第1移動コンベアユニット8と第2移動コンベアユニット120は、共に初期位置又は待機位置である第1位置に配置されている。フレキシブルデバイス製造装置は、この状態にて、第1移動コンベアユニット8の第1コンベア81と第2移動コンベアユニット120の第2コンベア121とを連結する第1中間コンベア141を備えている。第1中間コンベア141は、多孔質真空チャックテーブル7を支持する2列のローラ列を備えている。
In FIG. 1, the first moving
LLO工程が完了した後、第1移動コンベアユニット8は、図1に示す第1位置に戻される。その後、第1コンベア81、第1中間コンベア141及び第2コンベア121が動作することで、層状構造体1を吸着した状態の多孔質真空チャックテーブル7が、第1移動コンベアユニット8から図1に示す第1位置に配置されている第2移動コンベアユニット120へと送られる。多孔質真空チャックテーブル7が、第2移動コンベアユニット120に移動した後、空の第1移動コンベアユニット8は、第3案内レール91に沿って、LLOステーション6から離れる向きに移動し、第1案内レール24を超えて、第3案内レール91の端部付近の第2位置にて停止する(図10等参照)。
After the LLO process is completed, the first
多孔質真空チャックテーブル7が第2移動コンベアユニット120へと送られると、支持基板10を回収する支持基板回収工程が行われる。図10は、支持基板回収工程におけるフレキシブルデバイス製造装置の模様を示す説明図である。図11(a)及び図11(b)は、支持基板回収工程における層状構造体1及び支持基板10の模様を示す断面図である。図12は、フレキシブルデバイス製造装置で実行される支持基板回収工程(並びに、後述するサポートフィルム貼付工程及びフレキシブルデバイス取出工程)を説明する説明図である。
When the porous vacuum chuck table 7 is sent to the second
支持基板回収工程では、まず、支持基板回収ステーション110に待機していた第1チャックユニット100が、第2移動コンベアユニット120に向かって移動する。本実施形態では、第1チャックユニット100は、合計4つの吸着パッド102を有するチャックヘッド103と、第1アーム部104とを備えている。チャックヘッド103は、第1アーム部104の一端側に昇降自在に設けられており、第1アーム部104の他端側は、第4案内レール101に摺動自在に取り付けられている。
In the supporting substrate recovery step, first, the
チャックヘッド103が、第2移動コンベアユニット120に配置されている多孔質真空チャックテーブル7に(層状構造体1を介して)吸着されている支持基板10の上に配置されると、第1チャックユニット100は停止する。その後、チャックヘッド103が下降して、図11(a)に示すように吸着パッド102が支持基板10と接触すると、吸着パッド102が支持基板10を吸着する。
When the
LLO工程によって層状構造体1と支持基板10との密着性が損なわれており、層状構造体1の保護フィルム14の四辺の縁部が、接着剤13を介して支持基板10に付着した状態で、層状構造体1の保護フィルム14は、多孔質真空チャックテーブル7の吸着体71の上面に吸着されている。さらに、LLO工程によって、層状構造体1における個々のデバイス部分15が、層状構造体1の残余部分16に対して切断されている。故に、吸着パッド102に支持基板10を吸着させた後、チャックヘッド103を多孔質真空チャックテーブル7に対して十分に上昇させることで、図11(b)に示すように、層状構造体1における各デバイス部分15が多孔質真空チャックテーブル7に吸着状態で残される一方、層状構造体1の残余部分16は、支持基板10に付着した状態で引っ張り上げられる。層状構造体1の残余部分16は、支持基板10と共に多孔質真空チャックテーブル7から離間することとなる。このようにして、大判の層状構造体1から、各々がフレキシブルデバイスとなる複数のデバイス部分15が取り出される。
The adhesion between the
フレキシブル膜11と支持基板10の間に異物が存在すると、LLO工程の後でも、フレキシブル膜11と支持基板10の間の密着性が局所的に維持される事態が起こり得る。その影響を受けたデバイス部分15は、チャックヘッド103の上昇に伴い、支持基板10と共に多孔質真空チャックテーブル7から離間するか、裂けてしまうであろう。しかしながら、本発明では、異物の影響を受けるデバイス部分15は限定される。上述した従来の有機ELデバイスの製造方法では、このような異物の影響によって、支持基板10に形成した層状構造物1全体の剥離が適切に行えないというより酷い状況が生じる。
If foreign matter is present between the
層状構造体1の残余部分16が付着した支持基板10が多孔質真空チャックテーブル7から離間すると、チャックヘッド103が支持基板10を吸着したままの状態で、第1チャックユニット100は、第4案内レール101に沿って支持基板回収ステーション110に向かって移動する。支持基板回収ステーション110に到着すると、第1チャックユニット100が下降し、チャックヘッド103と支持基板10との吸着状態が解除されることで、支持基板10は、支持基板回収ステーション110のスタッカ(図示せず)に配置される。その後、チャックヘッド103が上昇して、第1チャックユニット100は待機状態に戻る。回収された支持基板10は、付着している層状構造体1の残余部分16を取り除くことで再利用されてよい。
When the
図1等に示すように、フレキシブルデバイス製造装置は、LLOステーション6の側方にサポートフィルム貼付ステーション150を備えている。図12に示すように、第3移動機構130の第5案内レール131の一端は、サポートフィルム貼付ステーション150に至っている。支持基板10が層状構造体1の残余部分16と共に多孔質真空チャックテーブル7上から除去された後、第2移動コンベアユニット120は、第3移動機構130が動作することで、第5案内レール131に沿って移動し、サポートフィルム貼付ステーション150に送られる(図12の右側部分を参照)。サポートフィルム貼付ステーション150に到着すると、図示を省略した真空ポンプが動作することで、多孔質真空チャックテーブル7の吸着体71とデバイス部分15との吸着状態が強化される。
As shown in FIG. 1 and the like, the flexible device manufacturing apparatus is provided with a support
サポートフィルム貼付ステーション150では、多孔質真空チャックテーブル7の吸着体71が吸着している各デバイス部分15のフレキシブル膜11に、サポートフィルム17を貼り付けるサポートフィルム貼付工程が行われる。サポートフィルム17は、完成品のフレキシブルデバイスに含まれる銅箔シートやグラファイトシートであって、従来技術に関連して説明した第2の保護フィルムとは全く異なるものである。本実施形態では、サポートフィルム貼付ステーション150には、3つのスタッカ151が設けられており、各スタッカ151は、積み重ねされた状態の複数のサポートフィルム17を保管している。サポートフィルム17の一方の主面は粘着層になっており、当該粘着層に剥離紙(図示せず)が付着した状態で、サポートフィルム17は保管されている。
In the support
図12等に示すように、サポートフィルム貼付ステーション150は、サポートフィルム17の剥離紙を剥がす剥離機構152と、剥離紙が剥がされたサポートフィルム17を剥離機構152から受け取って、各デバイス部分15のフレキシブル膜11に貼り付ける可動式の貼付ヘッド153と、スタッカ151から剥離機構152へと受け渡す吸着ヘッド154を備えている。貼付ヘッド153は、吸着部155と押付ローラ156とを備えている。
As shown in FIG. 12 and the like, the support
剥離機構152におけるスタッカ151側の端部からは、粘着面を有するリボン157がその長さ方向に走行可能に繰り出されており、吸着ヘッド154で運ばれたサポートフィルム17は、剥離紙がリボン157の粘着面と接着するように剥離機構152に配置される。また、貼付ヘッド153の吸着部155は、サポートフィルム17の上面を吸着し、リボン157の走行に伴いサポートフィルム17と共に移動する。剥離機構152における多孔質真空チャックテーブル7の側の端部にて、リボン157が下向きに曲げられていることで、多孔質真空チャックテーブル7に向かって移動中の貼付ヘッド153の吸着部155が吸着しているサポートフィルム17の剥離紙は、サポートフィルム17から剥離する。
From the end of the
剥離紙がサポートフィルム17から剥離して、サポートフィルム17の粘着面が下向きに露出した状態で、貼付ヘッド153は、そのサポートフィルム17の貼り付けを行うデバイス部分15の上へと移動する。サポートフィルム貼付ステーション150は、多孔質真空チャックテーブル7上に配置されているデバイス部分15を撮像する撮像装置158を備えており、撮像装置158から得られた画像に基づいて、対象となるデバイス部分15に対して吸着ヘッド154の位置の制御が行われる。貼付ヘッド153は、押付ローラ156を下側にして傾動可能に構成されており、この状態でサポートフィルム17の一端側をデバイス部分15の一端側と接触させて、貼付ヘッド153をデバイス部分15の他端側へと移動させることで、サポートフィルム17は、押付ローラ156で押しつけられつつ、デバイス部分15のフレキシブル膜11上に徐々に貼られることとなる。デバイス部分15にサポートフィルム17が貼られることでフレキシブルデバイス18が完成する。
With the release paper peeling off the
多孔質真空チャックテーブル7に吸着している全てのデバイス部分15に対してサポートフィルム17が貼られて、これらデバイス部分15がフレキシブルデバイス18となった後、第3移動機構130が駆動することで、第2移動コンベアユニット120は、サポートフィルム貼付ステーション150から離れる向きに移動する。第2移動コンベアユニット120は、多孔質真空チャックテーブル7を載置した状態で、第4案内レール101を超えて、第5案内レール131の他端側にある第2位置へと移動する。第2移動コンベアユニット120が第2位置にある状態で、フレキシブルデバイス18を取り出すフレキシブルデバイス工程が実行される。
The
図1及び図12等から理解できるように、第5案内レール131の他端側には、フレキシブルデバイス回収ステーション160が設けられている。また、フレキシブルデバイス製造装置は、第5案内レール131或いは第2移動コンベアユニット120の移動方向と平行に設けられた第6案内レール171に沿って移動可能な第2チャックユニット170を備えている。本実施形態では、第2チャックユニット170は、吸着チャック172と、第2アーム部173とを備えている。吸着チャック172は、第2アーム部173の一端側に昇降自在に設けられており、第2アーム部173の他端側は、第6案内レール171に摺動自在に取り付けられている。
As can be understood from FIGS. 1 and 12, the flexible
図14は、フレキシブルデバイス取出工程におけるフレキシブルデバイス製造装置の模様を示す説明図である。図1、図14及び図12等から理解できるように、第2移動コンベアユニット120が第5案内レール131の他端側にある第2位置へと移動すると、フレキシブルデバイス回収ステーション160にて待機していた第2チャックユニット170が、第2移動コンベアユニット120に向かって移動する。第2チャックユニット170の吸着チャック172が多孔質真空チャックテーブル7上に到着すると、第2チャックユニット170は停止する。
FIG. 14 is an explanatory view showing the pattern of the flexible device manufacturing apparatus in the flexible device taking-out step. As can be understood from FIG. 1, FIG. 14 and FIG. 12 etc., when the second moving
第2チャックユニット170が停止すると、第2チャックユニット170の吸着チャック172が下降し、その吸着面は、多孔質真空チャックテーブル7に吸着されている全てのフレキシブルデバイス18と接触する。その後、多孔質真空チャックテーブル7とフレキシブルデバイス18の吸着状態が解消され、吸着チャック172に連通する真空ポンプ(図示せず)が駆動して、吸着チャック172は、全てのフレキシブルデバイス18を吸着する。フレキシブルデバイス18を吸着した吸着チャック172が所定の位置まで上昇した後、第2チャックユニット170は、フレキシブルデバイス回収ステーション160へと移動する。
When the
第2チャックユニット170がフレキシブルデバイス回収ステーション160に至るとフレキシブルデバイス18が回収テーブル161の上面に近接まで、吸着チャック172が下降する。その後、吸着チャック172とフレキシブルデバイス18の吸着状態が解消されて、フレキシブルデバイス18が回収テーブル161上に載置される(図12の左側部分を参照)。そして、吸着チャック172は上昇して、第2チャックユニット170は待機状態に戻る。
When the
図14等に示すように、フレキシブルデバイス製造装置は、第2位置にある状態の第1移動コンベアユニット8の第1コンベア81と、第2位置にある状態の第2移動コンベアユニット120の第2コンベア121とを連結する第2中間コンベア142を備えている。第2中間コンベア142は、多孔質真空チャックテーブル7を支持する2列のローラ列を備えている。フレキシブルデバイス取出工程が完了した後、第1コンベア81、第2中間コンベア142及び第2コンベア121が駆動することで、ワークが吸着されていない空状態の多孔質真空チャックテーブル7が第2移動コンベアユニット120から第1移動コンベアユニット8へと移動する。
As shown in FIG. 14 and the like, the flexible device manufacturing apparatus includes the
図14及び図8から理解できるように、第2移動コンベアユニット120から多孔質真空チャックテーブル7を受け取ると、第1移動コンベアユニット8は、第2移動機構9が駆動することで、第2位置から第1位置へと戻される。これにて、フレキシブルデバイス製造装置は、図1に示す初期状態に移行して、図示を省略した形成装置で層状構造体1が形成された新たな支持基板10に対して、上述したような一連の工程が実行される。
As can be understood from FIGS. 14 and 8, when the porous vacuum chuck table 7 is received from the second moving
上記説明は、本発明を説明するためのものであって、特許請求の範囲に記載の発明を限定し、或は範囲を減縮する様に解すべきではない。又、本発明の各部構成は上記実施例に限らず、特許請求の範囲に記載の技術的範囲内で種々の変形が可能であることは勿論である。 The above description is intended to illustrate the present invention, and is not to be construed as limiting the scope of the invention as defined in the appended claims. Further, the configuration of each part of the present invention is of course not limited to the above embodiment, and various modifications can be made within the technical scope described in the claims.
1 層状構造体
10 支持基板
11 フレキシブル膜
13 接着剤
14 保護フィルム
15 デバイス部分
16 残余部分
17 サポートフィルム
18 フレキシブルデバイス
2 保持ユニット
3 ハーフカットステーション
4 搬送ユニット
5 第1移動機構
6 LLOステーション
7 多孔質真空チャックテーブル
71 吸着体
8 第1移動コンベアユニット
9 第2移動機構
100 第1チャックユニット
110 支持基板回収ステーション
120 第2移動コンベアユニット
130 第3移動機構
141 第1中間コンベア
142 第2中間コンベア
150 サポートフィルム貼付ステーション
160 フレキシブルデバイス回収ステーション
170 第2チャックユニット
DESCRIPTION OF
Claims (7)
前記層状構造体は、前記支持基板の一方の主面と密着するように形成されたフレキシブル膜と、前記フレキシブル膜上に形成されており、前記複数のフレキシブルデバイスに電子デバイスとしての機能を与えるためのデバイス層と、接着剤を介してデバイス層を覆うように貼られた保護フィルムとを含んでおり、前記保護フィルムの縁部は、前記接着剤を介して前記支持基板の一方の主面に付着しており、
レーザー光を用いて前記層状構造体を切断して、前記複数のフレキシブルデバイスに夫々対応した複数のデバイス部分と、残余部分とに前記層状構造体を分割する処理を行う第1処理ステーションと、
前記第1処理ステーションで前記層状構造体が処理された後、前記支持基板の他方の主面側から前記フレキシブル膜にレーザー光を照射することで、前記フレキシブル膜と前記支持基板との密着性を低下させる、又は、前記フレキシブル膜の縁部を除いて前記フレキシブル膜と前記支持基板との密着性を低下させる処理を行う第2処理ステーションと、
前記第2処理ステーションで前記層状構造体が処理された後、多孔質粒子で形成された吸着体を有する多孔質真空チャックに前記層状構造体が吸着した状態で前記支持基板と前記多孔質真空チャックとを離間させることで、前記多孔質真空チャックが吸着している前記複数のデバイス部分から、前記残余部分を前記支持基板と共に分離する処理を行うチャックユニットと、
を備える、フレキシブルデバイス製造装置。 In a flexible device manufacturing apparatus for processing a layered structure formed on a support substrate to manufacture a plurality of flexible devices,
The layered structure is formed on a flexible film formed to be in close contact with one main surface of the support substrate, and on the flexible film, to give the plurality of flexible devices a function as an electronic device. And a protective film attached to cover the device layer via an adhesive, the edge of the protective film being on the one main surface of the support substrate via the adhesive. Is attached,
A first processing station for dividing the layered structure into a plurality of device portions respectively corresponding to the plurality of flexible devices and a remaining portion by cutting the layered structure using a laser beam;
After the layered structure is processed at the first processing station, the flexible film is irradiated with a laser beam from the other main surface side of the support substrate to thereby make the adhesion between the flexible film and the support substrate A second processing station for performing processing for reducing or reducing the adhesion between the flexible film and the support substrate except for the edge of the flexible film;
After the layered structure is processed at the second processing station, the support substrate and the porous vacuum chuck in a state where the layered structure is adsorbed to a porous vacuum chuck having an adsorbent formed of porous particles. A chuck unit for separating the remaining portion together with the support substrate from the plurality of device portions to which the porous vacuum chuck is attracted,
A flexible device manufacturing apparatus comprising:
前記層状構造体は、前記支持基板の一方の主面と密着するように形成されたフレキシブル膜と、前記フレキシブル膜上に形成されており、前記複数のフレキシブルデバイスに電子デバイスとしての機能を与えるためのデバイス層と、接着剤を介してデバイス層を覆うように貼られた保護フィルムとを含んでおり、前記保護フィルムの縁部は、前記接着剤を介して前記支持基板の一方の主面に付着しており、
前記複数のフレキシブルデバイスに夫々対応した複数のデバイス部分と、残余部分とに前記層状構造体が分割されている状態で前記層状構造体を吸着する多孔質真空チャックと、
前記多孔質真空チャックが前記層状構造体を吸着している状態で、前記支持基板の他方の主面側から前記フレキシブル膜にレーザー光を照射することで、前記フレキシブル膜と前記支持基板との密着性を低下させる、又は、前記フレキシブル膜の縁部を除いて前記フレキシブル膜と前記支持基板との密着性を低下させる処理を行う第1処理ステーションと、
前記第1処理ステーションで前記層状構造体が処理された後、前記支持基板と前記多孔質真空チャックとを離間させることで、前記多孔質真空チャックが吸着している前記複数のデバイス部分から、前記残余部分を前記支持基板と共に分離する処理を行うチャックユニットと、
を備える、フレキシブルデバイス製造装置。 In a flexible device manufacturing apparatus for processing a layered structure formed on a support substrate to manufacture a plurality of flexible devices,
The layered structure is formed on a flexible film formed to be in close contact with one main surface of the support substrate, and on the flexible film, to give the plurality of flexible devices a function as an electronic device. And a protective film attached to cover the device layer via an adhesive, the edge of the protective film being on the one main surface of the support substrate via the adhesive. Is attached,
A porous vacuum chuck for adsorbing the layered structure in a state in which the layered structure is divided into a plurality of device portions respectively corresponding to the plurality of flexible devices and a remaining portion;
The flexible film and the support substrate are adhered to each other by irradiating the flexible film with a laser beam from the other main surface side of the support substrate while the porous vacuum chuck is adsorbing the layered structure. A first processing station for performing processing for reducing the conductivity or reducing the adhesion between the flexible film and the support substrate except for the edge of the flexible film;
After the layered structure is processed at the first processing station, the support substrate and the porous vacuum chuck are separated to allow the porous vacuum chuck to adsorb the plurality of device portions from the plurality of device portions. A chuck unit for performing a process of separating the remaining portion with the support substrate;
A flexible device manufacturing apparatus comprising:
前記層状構造体を処理する1又は複数の処理ステーションと、
多孔質粒子で形成された吸着体を有する多孔質真空チャックを載置可能であって、第1移動経路に沿って移動自在に設けられた第1移動コンベアユニットと、
前記多孔質真空チャックを載置可能であって、第2移動経路に沿って移動自在に設けられた第2移動コンベアユニットと、
を備えており、
前記第1移動コンベアユニットと前記第2移動コンベアユニットとの間で、前記多孔質真空チャックテーブルの移動が行えるように構成されており、
前記多孔質真空チャックは、前記第1移動コンベアユニットに載置された状態で、前記層状構造体を受け取り、
前記多孔質真空チャックは、前記層状構造体を保持した状態で前記第1移動コンベアユニットから前記第2移動コンベアユニットに移動し、
前記多孔質真空チャックは、前記層状構造体を保持していない状態で前記第2移動コンベアユニットから前記第1移動コンベアユニットへと戻される、
フレキシブルデバイス製造装置。 In a flexible device manufacturing apparatus for processing a layered structure formed on a support substrate to manufacture a plurality of flexible devices,
One or more processing stations for processing the layered structure;
A first movable conveyor unit capable of mounting a porous vacuum chuck having an adsorbent formed of porous particles, and movably provided along a first movement path;
A second movable conveyor unit capable of mounting the porous vacuum chuck and movably provided along a second movement path;
Equipped with
The porous vacuum chuck table can be moved between the first moving conveyor unit and the second moving conveyor unit,
The porous vacuum chuck receives the layered structure while being placed on the first movable conveyor unit,
The porous vacuum chuck moves from the first movable conveyor unit to the second movable conveyor unit while holding the layered structure.
The porous vacuum chuck is returned from the second movable conveyor unit to the first movable conveyor unit without holding the layered structure.
Flexible device manufacturing equipment.
前記層状構造体は、前記支持基板の一方の主面と密着するように形成されたフレキシブル膜と、前記フレキシブル膜上に形成されており、前記複数のフレキシブルデバイスに電子デバイスとしての機能を与えるためのデバイス層と、接着剤を介してデバイス層を覆うように貼られた保護フィルムとを含んでおり、前記保護フィルムの縁部は、前記接着剤13を介して前記支持基板の一方の主面に付着しており、
レーザー光を用いて前記層状構造体を切断して、前記複数のフレキシブルデバイスに夫々対応した複数のデバイス部分と、残余部分とに前記層状構造体を分割する第1工程と、
前記第1工程後、前記支持基板の他方の主面側から前記フレキシブル膜にレーザー光を照射することで、前記フレキシブル膜と前記支持基板との密着性を低下させる、又は、前記フレキシブル膜の縁部を除いて前記フレキシブル膜と前記支持基板との密着性を低下させる第2工程と、
前記第2工程後、多孔質粒子で形成された吸着体を有する多孔質真空チャックに前記層状構造体が吸着した状態で前記支持基板と前記多孔質真空チャックとを離間させることで、前記多孔質真空チャックが吸着している前記複数のデバイス部分から、前記残余部分を前記支持基板と共に分離する第3工程と、
を含む、フレキシブルデバイスの製造方法。 In a method of manufacturing a flexible device, wherein a layered structure formed on a support substrate is processed to manufacture a plurality of flexible devices,
The layered structure is formed on a flexible film formed to be in close contact with one main surface of the support substrate, and on the flexible film, to give the plurality of flexible devices a function as an electronic device. And a protective film attached to cover the device layer via an adhesive, and the edge of the protective film is one of the main surfaces of the support substrate via the adhesive 13. Is attached to the
A first step of cutting the layered structure using laser light to divide the layered structure into a plurality of device portions respectively corresponding to the plurality of flexible devices and a remaining portion;
After the first step, the flexible film is irradiated with a laser beam from the other principal surface side of the support substrate to reduce the adhesion between the flexible film and the support substrate, or the edge of the flexible film A second step of reducing the adhesion between the flexible film and the support substrate except for
After the second step, the porous substrate is separated from the supporting substrate from the porous vacuum chuck in a state where the layered structure is adsorbed to the porous vacuum chuck having an adsorbent formed of porous particles. A third step of separating the remaining portion together with the support substrate from the plurality of device portions to which a vacuum chuck is attracted;
A method of manufacturing a flexible device, including:
The method of manufacturing a flexible device according to claim 6, further comprising: a fourth step of applying a film to each of the plurality of device portions adsorbed by the porous vacuum chuck after the third step.
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