JP2018172551A - Method of producing thermoplastic resin film, method of producing electrically conductive film, thermoplastic resin film, and electrically conductive film - Google Patents
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Abstract
Description
本開示は、熱可塑性樹脂フィルムの製造方法、導電性フィルムの製造方法、熱可塑性樹脂フィルム、及び、導電性フィルムに関する。 The present disclosure relates to a method for producing a thermoplastic resin film, a method for producing a conductive film, a thermoplastic resin film, and a conductive film.
従来、半導体素子や電子回路等に使われる配線、電極等の形成にはフォトリソグラフィ法が用いられている。フォトリソグラフィ法では、ステッパーに代表される精度の高い露光機が用いられ、更に成膜やエッチングをする真空装置が用いられる。このようにフォトリソグラフィ法では高価な設備が必要になり、また工程数が多く、複雑であり、更に材料使用効率も低いため、製造コストが高くなるという問題があった。
より具体的には、例えば、タッチパネルの製造工程において、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）層や金属電極層のパターニングが必要で、一般的にはフォトレジストの塗布を行い、所望のマスクを介し露光し、現像を行うという流れを枚葉で行っている。上記操作が１層につき１セット行われるが、枚葉での作業であること、配線のパターン毎にマスクを作る必要があることなど、工程が多く生産コストが非常にかかる。
Conventionally, a photolithography method has been used to form wirings, electrodes and the like used for semiconductor elements and electronic circuits. In the photolithography method, an exposure machine with high accuracy represented by a stepper is used, and further, a vacuum apparatus for film formation and etching is used. As described above, the photolithographic method requires expensive equipment, has a large number of steps, is complicated, and has a problem that the material use efficiency is low, resulting in an increase in manufacturing cost.
More specifically, for example, in the touch panel manufacturing process, it is necessary to pattern an indium tin oxide (ITO) layer or a metal electrode layer, and in general, a photoresist is applied and exposed through a desired mask, The flow of developing is performed on a single sheet. Although one set of the above operations is performed per layer, there are many processes such as work on a single wafer and the need to create a mask for each wiring pattern, and production costs are very high.
また、従来の配線形成方法としては、以下の方法が知られている。
特許文献１には、基材の少なくとも一方に基材側からアンダーコート層、ナノカーボン層、オーバーコート層がこの順に設けられた導電積層体において、上記アンダーコート層と上記オーバーコート層との屈折率差が０．１以下である導電積層体において、オーバーコート層とナノカーボン層にレーザー光を照射することにより、オーバーコート層とナノカーボン層を除去し、パターニングする方法が記載されている。
また、特許文献２には、基板上に、エネルギーの付与により表面エネルギーが変化する材料を含有する第１の濡れ性変化層を形成する工程と、上記第１の濡れ性変化層中又は第１の濡れ性変化層上に第１の導電層を形成する工程と、上記第１の導電層が形成された第１の濡れ性変化層上に、エネルギーの付与により表面エネルギーが変化する材料を含有する第２の濡れ性変化層を形成する工程と、上記第２の濡れ性変化層に、紫外線領域の波長のレーザーを用いたレーザーアブレーション法により、第２の導電層の配線パターンとなる凹部を形成するとともに、上記凹部の形成によって露呈した第２の濡れ性変化層表面の表面エネルギーを変化させて高表面エネルギー領域を形成した後、上記第１の導電層の一部が露出するようにビアホールを形成するとともに、上記ビアホールの形成によって露呈した第２の濡れ性変化層表面の表面エネルギーを変化させて高表面エネルギー領域を形成する工程と、上記高表面エネルギー領域に導電性インクを塗布し、第２の導電層及びビアを同時に形成する工程と、を有することを特徴とする積層配線の形成方法が知られている。
Further, the following methods are known as conventional wiring forming methods.
In Patent Document 1, in a conductive laminate in which an undercoat layer, a nanocarbon layer, and an overcoat layer are provided in this order on at least one of the substrates from the substrate side, refraction of the undercoat layer and the overcoat layer is described. In a conductive laminate having a rate difference of 0.1 or less, a method is described in which the overcoat layer and the nanocarbon layer are removed by patterning by irradiating the overcoat layer and the nanocarbon layer with laser light.
Patent Document 2 discloses a step of forming a first wettability changing layer containing a material whose surface energy is changed by applying energy on a substrate, and the first wettability changing layer or the first A step of forming a first conductive layer on the wettability changing layer, and a material whose surface energy is changed by application of energy on the first wettability changing layer on which the first conductive layer is formed Forming a second wettability changing layer, and forming a recess to be a wiring pattern of the second conductive layer by laser ablation using a laser having a wavelength in the ultraviolet region on the second wettability changing layer. Forming a high surface energy region by changing the surface energy of the surface of the second wettability variable layer exposed by the formation of the concave portion, and then forming a via hole so that a part of the first conductive layer is exposed. Forming a high surface energy region by changing the surface energy of the surface of the second wettability variable layer exposed by the formation of the via hole, applying a conductive ink to the high surface energy region, And a step of simultaneously forming two conductive layers and vias. A method for forming a laminated wiring is known.
ところで、表面を研磨し平滑にする技術にガスクラスターイオンビーム（ＧＣＩＢ）技術が知られている。図１に示すように、単原子イオンビームの照射では、基材の奥深くまで掘られてしまい、表面の粗さは悪化していってしまうところ、ガスクラスターイオンビームの照射によって、基材の表面近傍のみ切削し、基材の表面を平滑にさせることができ、シリコンウェハや金型の研磨によく用いられている。更に、クラスターを照射するため、照射物が単原子に比べ大きく、比較的広範囲を一度に処理することができ、短時間での処理を行うことができる。 Incidentally, a gas cluster ion beam (GCIB) technique is known as a technique for polishing and smoothing the surface. As shown in FIG. 1, in the irradiation of the monoatomic ion beam, the surface of the substrate is dug deep into the base material and the surface roughness is deteriorated. It is possible to cut only the vicinity and smooth the surface of the substrate, which is often used for polishing silicon wafers and dies. Furthermore, since the cluster is irradiated, the irradiated object is larger than a single atom, a relatively wide range can be processed at a time, and processing can be performed in a short time.
本発明の実施形態が解決しようとする課題は、表面エネルギー（表面の濡れ性）の異なる任意のパターン形状を有する熱可塑性樹脂フィルムの製造方法、及び、上記製造方法により得られた熱可塑性樹脂フィルムを用いる導電性フィルムの製造方法を提供することである。
本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、表面エネルギー（表面の濡れ性）の異なる任意のパターン形状を有する熱可塑性樹脂フィルム、及び、上記熱可塑性樹脂フィルムを有する導電性フィルムを提供することである。
The problems to be solved by the embodiments of the present invention are a method for producing a thermoplastic resin film having an arbitrary pattern shape having different surface energy (surface wettability), and a thermoplastic resin film obtained by the production method. It is providing the manufacturing method of the electroconductive film which uses this.
A problem to be solved by another embodiment of the present invention is to provide a thermoplastic resin film having an arbitrary pattern shape having different surface energy (surface wettability), and a conductive film having the thermoplastic resin film. It is to be.
特許文献１に記載された方法では、塗布後は一般的にカバーフィルムが必要のため、加工前にカバーフィルムの剥離、及び、加工後にカバーフィルムの再貼合が必要であり、工程数が多く、製造コストが高くなるという問題がある。
更に、特許文献２に記載された方法では、臨界表面張力変化層が必要であり、フォトマスクを使用しているか、あるいは、物理的に溝を形成しており、工程数が多く、製造コストが高くなるという問題がある。
本発明者は、ガスクラスターイオンビームにより熱可塑性樹脂フィルムの表面を処理することで、表面を改質させる可能性に注目した。詳細な検討を行った結果、平滑にしたあと更に照射を続けることで、処理前と同等の表面粗さにもかかわらず表面エネルギーを変えることができることを見出した。
具体的には、図２に示すように、ガスクラスターイオンビーム（ＧＣＩＢ）を照射することにより、照射部分は初めに平滑となり、更に照射を続けることにより、処理前と同等の表面粗さとなると推定している。
一方、図２に示すように、単原子イオンビームの照射では、基材の奥深くまで掘られてしまい、表面の粗さは悪化してしまう。
In the method described in Patent Document 1, since a cover film is generally required after coating, peeling of the cover film before processing and re-bonding of the cover film after processing are necessary, and the number of processes is large. There is a problem that the manufacturing cost becomes high.
Furthermore, in the method described in Patent Document 2, a critical surface tension change layer is necessary, and a photomask is used or a groove is physically formed, so that the number of processes is large and the manufacturing cost is high. There is a problem of becoming higher.
The inventor paid attention to the possibility of modifying the surface of the thermoplastic resin film by treating it with a gas cluster ion beam. As a result of detailed examination, it was found that the surface energy can be changed by continuing irradiation after smoothing, despite the surface roughness equivalent to that before the treatment.
Specifically, as shown in FIG. 2, by irradiating a gas cluster ion beam (GCIB), the irradiated portion is first smoothed, and by continuing the irradiation, it is estimated that the surface roughness is the same as before the treatment. doing.
On the other hand, as shown in FIG. 2, in the irradiation of the monoatomic ion beam, the substrate is dug deep into the substrate, and the surface roughness is deteriorated.
上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞ 熱可塑性樹脂フィルムの表面の一部にガスクラスターイオンビームを照射し、照射した部分における表面エネルギーを変化させる工程を含む熱可塑性樹脂フィルムの製造方法。
＜２＞ 上記照射を、上記熱可塑性樹脂フィルムを移動させながら行う、上記＜１＞に記載の熱可塑性樹脂フィルムの製造方法。
＜３＞ 上記照射した部分の表面粗さＲａの変化率が、上記ガスクラスターイオンビームの照射前後で±２０％以内である、上記＜１＞又は＜２＞に記載の熱可塑性樹脂フィルムの製造方法。
＜４＞ 上記照射した部分の表面粗さＲａの変化率が、上記ガスクラスターイオンビームの照射前後で±１０％以内である、上記＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の熱可塑性樹脂フィルムの製造方法。
＜５＞ 使用する上記熱可塑性樹脂フィルムの表面における表面粗さＲａが、０．１ｎｍ以上５０ｎｍ以下である、上記＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の熱可塑性樹脂フィルムの製造方法。
＜６＞ 使用する上記熱可塑性樹脂フィルムの厚さが、１μｍ〜３００μｍである、上記＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の熱可塑性樹脂フィルムの製造方法。
＜７＞ 上記ガスクラスターイオンビームにおけるクラスターガスが、アルゴン及び窒素よりなる群から選ばれた少なくとも１種のガスである、上記＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の熱可塑性樹脂フィルムの製造方法。
＜８＞ 上記熱可塑性樹脂フィルムの材質が、ポリエステル樹脂、及び、シクロオレフィンポリマーよりなる群から選ばれた少なくとも１種の樹脂である、上記＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の熱可塑性樹脂フィルムの製造方法。
＜９＞ 上記＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載の熱可塑性樹脂フィルムの製造方法により得られた熱可塑性樹脂フィルムの表面エネルギーが変化した表面に導電性材料又は導電性材料を含む組成物を塗布し、表面エネルギーの異なる任意のパターン形状に導電性材料を付与する工程を含む導電性フィルムの製造方法。
＜１０＞ 少なくとも一方の面の表面に表面エネルギーの異なる任意のパターンを有し、上記パターンを有する面の表面粗さＲａが０．１ｎｍ以上５０ｎｍ以下である熱可塑性樹脂フィルム。
＜１１＞ 厚さが１μｍ〜３００μｍである、上記＜１０＞に記載の熱可塑性樹脂フィルム。
＜１２＞ 上記＜１０＞又は＜１１＞に記載の熱可塑性樹脂フィルムの上記パターン上に導電性材料を有する導電性フィルム。
Means for solving the above problems include the following aspects.
<1> A method for producing a thermoplastic resin film comprising a step of irradiating a part of the surface of a thermoplastic resin film with a gas cluster ion beam and changing the surface energy in the irradiated part.
<2> The method for producing a thermoplastic resin film according to <1>, wherein the irradiation is performed while moving the thermoplastic resin film.
<3> Production of the thermoplastic resin film according to <1> or <2>, wherein the rate of change of the surface roughness Ra of the irradiated portion is within ± 20% before and after irradiation with the gas cluster ion beam. Method.
<4> The heat according to any one of <1> to <3>, wherein a rate of change of the surface roughness Ra of the irradiated portion is within ± 10% before and after irradiation with the gas cluster ion beam. A method for producing a plastic resin film.
<5> Production of the thermoplastic resin film according to any one of <1> to <4>, wherein the surface roughness Ra on the surface of the thermoplastic resin film to be used is 0.1 nm to 50 nm. Method.
<6> The method for producing a thermoplastic resin film according to any one of <1> to <5>, wherein the thickness of the thermoplastic resin film to be used is 1 μm to 300 μm.
<7> The thermoplastic resin according to any one of <1> to <6>, wherein the cluster gas in the gas cluster ion beam is at least one gas selected from the group consisting of argon and nitrogen. A method for producing a film.
<8> The material according to any one of <1> to <6>, wherein the thermoplastic resin film is at least one resin selected from the group consisting of a polyester resin and a cycloolefin polymer. Manufacturing method of thermoplastic resin film.
<9> A conductive material or a conductive material is applied to the surface of the thermoplastic resin film obtained by the method for producing a thermoplastic resin film according to any one of the above items <1> to <8>. The manufacturing method of the electroconductive film including the process of apply | coating the composition which contains and providing a conductive material to the arbitrary pattern shapes from which surface energy differs.
<10> A thermoplastic resin film having an arbitrary pattern having different surface energy on the surface of at least one surface, and a surface roughness Ra of the surface having the pattern of 0.1 nm to 50 nm.
<11> The thermoplastic resin film according to <10>, wherein the thickness is 1 μm to 300 μm.
<12> A conductive film having a conductive material on the pattern of the thermoplastic resin film according to <10> or <11>.
本発明の実施形態によれば、表面エネルギー（表面の濡れ性）の異なる任意のパターン形状を有する熱可塑性樹脂フィルムの製造方法、及び、上記製造方法により得られた熱可塑性樹脂フィルムを用いる導電性フィルムの製造方法を提供することができる。
また、本発明の他の実施形態によれば、表面エネルギー（表面の濡れ性）の異なる任意のパターン形状を有する熱可塑性樹脂フィルム、及び、上記熱可塑性樹脂フィルムを有する導電性フィルムを提供することができる。
According to the embodiment of the present invention, a method for producing a thermoplastic resin film having an arbitrary pattern shape having different surface energy (surface wettability), and conductivity using the thermoplastic resin film obtained by the above production method. A method for producing a film can be provided.
Moreover, according to other embodiment of this invention, the thermoplastic resin film which has arbitrary pattern shapes from which surface energy (surface wettability) differs, and the electroconductive film which has the said thermoplastic resin film are provided. Can do.
以下、本開示について詳細に説明する。
なお、本明細書中、「ｘｘ〜ｙｙ」の記載は、ｘｘ及びｙｙを含む数値範囲を表す。
また、本明細書中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。
また、本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
Hereinafter, the present disclosure will be described in detail.
In addition, in this specification, description of "xx-yy" represents the numerical range containing xx and yy.
In addition, the term “process” in this specification is not limited to an independent process, and even if it cannot be clearly distinguished from other processes, the term is used as long as the intended purpose of the process is achieved. included.
In the present disclosure, a combination of two or more preferred embodiments is a more preferred embodiment.
（熱可塑性樹脂フィルムの製造方法）
本開示に係る熱可塑性樹脂フィルムの製造方法は、熱可塑性樹脂フィルムの表面の一部にガスクラスターイオンビームを照射し、照射した部分における表面エネルギーを変化させる工程を含む。
(Method for producing thermoplastic resin film)
The method for producing a thermoplastic resin film according to the present disclosure includes a step of irradiating a part of the surface of the thermoplastic resin film with a gas cluster ion beam and changing the surface energy in the irradiated part.
本発明者が詳細な検討を行った結果、上記熱可塑性樹脂フィルムの製造方法とすることにより、表面エネルギー（表面の濡れ性）の異なる任意のパターン形状を有する熱可塑性樹脂フィルムが得られることを見出した。
ガスクラスターイオンビーム（ＧＣＩＢ）は、断熱膨張しクラスター化させたガス分子を、処理対象に照射した際、対象物水平方向に放射状に飛び散る分子により、表面の凹凸を削ることができる装置である。
本発明者は、ガスクラスターイオンビームにより熱可塑性樹脂フィルムの表面を処理することで、表面を改質させ、表面エネルギー（濡れ性）を制御できることを見出した。
ガスクラスターイオンビームによる処理は、スポット処理のため、処理ヘッドあるいは処理対象（フィルムの送出し〜巻取りの構造）を幅方向において任意に走査させることで、表面エネルギーの異なる任意のパターン形状を形成することができる。フィルム表面の表面エネルギーが異なることにより、表面の濡れ性が異なり、塗布組成物に応じ、濡れ性の違いによるパターン形成を容易に行うことができる。したがって、本開示に係る熱可塑性樹脂フィルムの製造方法によれば、例えば、配線パターンの形状を避けるようにＧＣＩＢ処理することにより、その後処理したフィルム表面に対して、塗布組成物を全面に塗布するだけで、表面エネルギーの差異により、所望の配線パターンのみに塗布組成物が塗布される。
詳細な機構は明確にはわかっていないが、フィルムの最表面と内部とでは分子配列が異なっており、ＧＣＩＢにて表面が削られることで、フィルム内部が露出され、最表面の構成と異なり、表面エネルギーが異なるものと推定している。
As a result of detailed studies by the present inventors, it is possible to obtain a thermoplastic resin film having an arbitrary pattern shape having different surface energy (surface wettability) by using the method for producing a thermoplastic resin film. I found it.
A gas cluster ion beam (GCIB) is a device that can cut the surface irregularities with molecules that scatter radially in the horizontal direction of an object when the gas molecules adiabatically expanded and clustered are irradiated onto the object to be processed.
The present inventor has found that by treating the surface of the thermoplastic resin film with a gas cluster ion beam, the surface can be modified and the surface energy (wetting property) can be controlled.
The processing by gas cluster ion beam is a spot processing, so that arbitrary pattern shapes with different surface energies can be formed by arbitrarily scanning the processing head or processing target (film feeding to winding structure) in the width direction. can do. When the surface energy of the film surface is different, the wettability of the surface is different, and pattern formation due to the difference in wettability can be easily performed according to the coating composition. Therefore, according to the method for producing a thermoplastic resin film according to the present disclosure, for example, by applying GCIB treatment so as to avoid the shape of the wiring pattern, the coating composition is applied to the entire surface of the film after the treatment. Thus, the coating composition is applied only to a desired wiring pattern due to the difference in surface energy.
Although the detailed mechanism is not clearly understood, the molecular arrangement is different between the outermost surface and the inside of the film, and by cutting the surface with GCIB, the inside of the film is exposed, unlike the configuration of the outermost surface, It is estimated that the surface energy is different.
本開示に係る熱可塑性樹脂フィルムの製造方法は、ガスクラスターイオンビームの照射という簡便な方法により、生産性にも優れる。
更に、本開示に係る熱可塑性樹脂フィルムの製造方法は、使用する熱可塑性樹脂フィルムの表面粗さをあまり変化させず、表面エネルギーの異なる任意のパターン形状を形成することも可能である。
また更に、本開示に係る熱可塑性樹脂フィルムの製造方法は、従来の表面処理方法に比べ、平滑性に優れ、かつ表面エネルギーの異なる任意のパターン形状を有する熱可塑性樹脂フィルムが得られる。
The method for producing a thermoplastic resin film according to the present disclosure is excellent in productivity by a simple method of irradiation with a gas cluster ion beam.
Furthermore, the method for producing a thermoplastic resin film according to the present disclosure can form arbitrary pattern shapes having different surface energies without changing the surface roughness of the thermoplastic resin film to be used.
Furthermore, the method for producing a thermoplastic resin film according to the present disclosure provides a thermoplastic resin film having an arbitrary pattern shape that is superior in smoothness and has a different surface energy as compared with a conventional surface treatment method.
＜パターニング工程＞
本開示に係る熱可塑性樹脂フィルムの製造方法は、熱可塑性樹脂フィルムの表面の一部にガスクラスターイオンビームを照射し、照射した部分における表面エネルギーを変化させる工程（「パターニング工程」ともいう。）を含む。
本開示に用いられるガスクラスターイオンビームの照射手段としては、特に制限はなく、公知のガスクラスターイオン銃及びガスクラスターイオンビーム照射装置を用いることができる。
本開示に用いられるガスクラスターイオンビームにおいて、クラスター化するガス（クラスターガス）としては、特に制限はないが、表面粗さの制御、及び、表面エネルギーの差異の観点から、不活性ガスであることが好ましく、アルゴン及び窒素よりなる群から選ばれた少なくとも１種のガスであることがより好ましく、アルゴンであることが更に好ましい。また、単一のＧＣＩＢ処理である必要はなく、例えば、アルゴンによるＧＣＩＢ処理の後、ついで（例えば次工程で）窒素によるＧＣＩＢ処理をしてもよい。
<Patterning process>
In the method for producing a thermoplastic resin film according to the present disclosure, a part of the surface of the thermoplastic resin film is irradiated with a gas cluster ion beam, and the surface energy in the irradiated part is changed (also referred to as a “patterning process”). including.
The irradiation means for the gas cluster ion beam used in the present disclosure is not particularly limited, and a known gas cluster ion gun and gas cluster ion beam irradiation apparatus can be used.
In the gas cluster ion beam used in the present disclosure, the gas to be clustered (cluster gas) is not particularly limited, but is an inert gas from the viewpoint of controlling the surface roughness and the difference in surface energy. It is more preferable that it is at least one gas selected from the group consisting of argon and nitrogen, and more preferable is argon. Moreover, it is not necessary to be a single GCIB process. For example, after the GCIB process with argon, the GCIB process with nitrogen may be performed (for example, in the next step).
上記パターニング工程におけるガスクラスターの照射量（ドーズ量）は、表面エネルギーの異なる部分を熱可塑性樹脂フィルムの表面に形成可能な量であれば特に制限はないが、表面エネルギーの差、生産性及び表面粗さ維持性の観点から、１×１０１４（ｉｏｎｓ／ｃｍ２）以上５×１０１６（ｉｏｎｓ／ｃｍ２）以下であることが好ましく、１×１０１５（ｉｏｎｓ／ｃｍ２）以上３×１０１６（ｉｏｎｓ／ｃｍ２）以下であることがより好ましく、３×１０１５（ｉｏｎｓ／ｃｍ２）以上２×１０１６（ｉｏｎｓ／ｃｍ２）以下であることが更に好ましく、４×１０１５（ｉｏｎｓ／ｃｍ２）以上１×１０１６（ｉｏｎｓ／ｃｍ２）以下であることが特に好ましい。
上記パターニング工程におけるガスクラスターイオンビームの照射時間は、特に制限はなく、上記所望のドーズ量や形成される表面エネルギーの差に応じて、適宜選択することができる。
The irradiation amount (dose amount) of the gas cluster in the patterning step is not particularly limited as long as it is an amount capable of forming portions having different surface energies on the surface of the thermoplastic resin film, but the difference in surface energy, productivity, and surface From the standpoint of roughness maintenance, it is preferably 1 × 10 14 (ions / cm 2 ) or more and 5 × 10 16 (ions / cm 2 ) or less, preferably 1 × 10 15 (ions / cm 2 ) or more and 3 × 10. It is more preferably 16 (ions / cm 2 ) or less, further preferably 3 × 10 15 (ions / cm 2 ) or more and 2 × 10 16 (ions / cm 2 ) or less, and 4 × 10 15 (ions). / Cm 2 ) and 1 × 10 16 (ions / cm 2 ) or less are particularly preferable.
The irradiation time of the gas cluster ion beam in the patterning step is not particularly limited, and can be appropriately selected according to the desired dose and the difference in surface energy to be formed.
上記パターニング工程におけるガスクラスターイオンビームの照射時の衝突加速電圧は、表面エネルギーの差、生産性及び表面粗さ維持性の観点から、１ｋＶ以上５０ｋＶ以下であることが好ましく、３ｋＶ以上４０ｋＶ以下であることがより好ましく、４ｋＶ以上３０ｋＶ以下であることが特に好ましい。
上記パターニング工程におけるガスクラスターイオンビーム照射時の温度、及び、雰囲気は、特に制限はなく、公知の温度条件及び雰囲気により行うことができる。
The collision acceleration voltage at the time of irradiation with the gas cluster ion beam in the patterning step is preferably 1 kV or more and 50 kV or less, preferably 3 kV or more and 40 kV or less from the viewpoint of surface energy difference, productivity, and surface roughness maintenance. More preferably, it is 4 kV or more and 30 kV or less.
The temperature and atmosphere at the time of gas cluster ion beam irradiation in the patterning step are not particularly limited, and can be performed under known temperature conditions and atmosphere.
上記パターン形状は、特に制限はなく、所望の任意の形状を形成すればよい。
上記パターニング工程において、上記ガスクラスターイオンビームの照射を、上記熱可塑性樹脂フィルムを移動させながら行ってもよいし、ガスクラスターイオンビームの装置（イオンビーム照射口）を移動させ行ってもよいし、その両方を行ってもよいが、生産性及びパターン形成性の観点から、上記熱可塑性樹脂フィルムを移動させながら行うことが好ましい。
また、上記パターニング工程においては、少なくともガスクラスターイオンビームを照射した表面と、ガスクラスターイオンビームを照射していない表面とによりパターンを形成すればよく、所望のパターンの形状の主となる部分を、ガスクラスターイオンビームを照射した表面により形成してもよいし、ガスクラスターイオンビームを照射していない表面により形成してもよい。
There is no restriction | limiting in particular in the said pattern shape, What is necessary is just to form desired arbitrary shapes.
In the patterning step, the irradiation of the gas cluster ion beam may be performed while moving the thermoplastic resin film, or the gas cluster ion beam apparatus (ion beam irradiation port) may be moved, Both may be performed, but it is preferable to carry out the above-mentioned thermoplastic resin film movement from the viewpoint of productivity and pattern formability.
In the patterning step, a pattern may be formed by at least the surface irradiated with the gas cluster ion beam and the surface not irradiated with the gas cluster ion beam. It may be formed by a surface irradiated with a gas cluster ion beam, or may be formed by a surface not irradiated with a gas cluster ion beam.
得られた熱可塑性樹脂フィルムの表面におけるガスクラスターイオンビームを照射した部分の表面エネルギーと熱可塑性樹脂フィルムの表面におけるガスクラスターイオンビームを照射していない部分の表面エネルギーとの差（変化量）の絶対値は、濡れ性の差の観点から、３．２ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、３．５ｍＮ／ｍ以上であることがより好ましく、５．０ｍＮ／ｍ以上であることが更に好ましい。ガスクラスターイオンビームの照射前後における熱可塑性樹脂フィルムの表面における表面エネルギーの差（変化量）の絶対値が３．０ｍＮ／ｍを超えると、パターン形成部とそれ以外の部分との差異が十分ある範囲といえる。
上記表面エネルギーの差の絶対値は、熱可塑性樹脂フィルムの素材などにもよるが、例えば、３．６ｍＮ／ｍ、４．９ｍＮ／ｍ、５．５ｍＮ／ｍ、５．９ｍＮ／ｍ、６．２ｍＮ／ｍ、６．３ｍＮ／ｍなどが挙げられるが、無論これらに限定されるものではない。
The difference (change amount) between the surface energy of the part irradiated with the gas cluster ion beam on the surface of the obtained thermoplastic resin film and the surface energy of the part not irradiated with the gas cluster ion beam on the surface of the thermoplastic resin film The absolute value is preferably 3.2 mN / m or more, more preferably 3.5 mN / m or more, and further preferably 5.0 mN / m or more, from the viewpoint of the difference in wettability. If the absolute value of the surface energy difference (change amount) on the surface of the thermoplastic resin film before and after irradiation with the gas cluster ion beam exceeds 3.0 mN / m, there is a sufficient difference between the pattern forming portion and the other portions. It's a range.
The absolute value of the difference in surface energy depends on the material of the thermoplastic resin film, but is, for example, 3.6 mN / m, 4.9 mN / m, 5.5 mN / m, 5.9 mN / m, 6. Although 2 mN / m, 6.3 mN / m, etc. are mentioned, of course, it is not limited to these.
また、得られた熱可塑性樹脂フィルムの表面における表面エネルギーの違いを確認する方法としては、以下の方法により表面エネルギーを測定して確認することができる。
熱可塑性樹脂フィルムにおける表面エネルギーの測定方法としては、例えば、色材工学ハンドブック（色材協会編）に記載の方法を参考に実施した。
すなわち、２３℃、５０％ＲＨ雰囲気下で、表面エネルギーの異なる２液（蒸留水（Ａ液）、及び、ヨウ化メチレン（Ｂ液））を滴下する。上記２液それぞれにおける各接触角を測定する（全自動接触角計 ＤＭ−７０１（協和界面科学（株）製））。次いで、得られた接触角θから算出されるｃｏｓθ（ｙ軸）と、上記２種類の試験液の表面エネルギー（ｘ軸）とで、ｘ−ｙプロットし、線形近似式より接触角ゼロ度（ｃｏｓθ＝１）のときの表面エネルギーを、測定対象の表面エネルギーとした。各測定は５箇所にて行い、その平均接触角を対象試験液を用いた接触角とした。上記測定をＧＣＩＢ処理前後にて測定した。
Moreover, as a method for confirming the difference in surface energy on the surface of the obtained thermoplastic resin film, it can be confirmed by measuring the surface energy by the following method.
As a method for measuring the surface energy in the thermoplastic resin film, for example, the method described in the Color Material Engineering Handbook (Edited by Color Material Association) was used as a reference.
That is, two liquids (distilled water (liquid A) and methylene iodide (liquid B)) having different surface energies are dropped in a 23 ° C., 50% RH atmosphere. Each contact angle in each of the two liquids is measured (fully automatic contact angle meter DM-701 (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.)). Next, xy plotting is performed with cos θ (y-axis) calculated from the obtained contact angle θ and the surface energy (x-axis) of the above two types of test solutions, and a contact angle of zero degrees ( The surface energy when cos θ = 1) was defined as the surface energy of the measurement target. Each measurement was performed at five locations, and the average contact angle was defined as the contact angle using the target test solution. The above measurement was performed before and after GCIB treatment.
本開示に用いられる熱可塑性樹脂フィルムは、特に制限はなく、公知の熱可塑性樹脂フィルムを用いることができる。また、２軸延伸フィルム製膜中にＧＣＩＢ処理を実施してもよい。例えば、樹脂を溶融しダイからシート状に吐出し冷却固化させ得られた熱可塑性未延伸フィルムに対しＧＣＩＢ処理を施し、その後２軸延伸してもよい。
上記熱可塑性樹脂フィルムの材質としては、熱可塑性樹脂であればよく、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、シクロオレフィンポリマー、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリオレフィン、スチレンアクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリアミド樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体等が挙げられる。
熱可塑性樹脂フィルムにおける材質は、１種単独の樹脂であっても、２種以上のポリマーブレンドであってもよい。
中でも、導電性フィルム等の要求品質（例えば、耐熱性、寸法安定性、コスト等）の観点から、ポリエステル樹脂、及び、シクロオレフィンポリマーよりなる群から選ばれる少なくとも１種の樹脂が好ましく、ポリエチレンテレフタレート、及び、シクロオレフィンポリマーよりなる群から選ばれる少なくとも１種の樹脂がより好ましい。
There is no restriction | limiting in particular in the thermoplastic resin film used for this indication, A well-known thermoplastic resin film can be used. Moreover, you may implement GCIB process during film formation of a biaxially stretched film. For example, a GCIB treatment may be applied to a thermoplastic unstretched film obtained by melting a resin, discharging it from a die into a sheet, and solidifying by cooling, and then biaxially stretching.
The material of the thermoplastic resin film may be any thermoplastic resin, such as acrylic resin, polyester resin, cycloolefin polymer, triacetyl cellulose, polystyrene, polyolefin, styrene acrylic resin, polycarbonate, polyvinyl chloride, polyamide resin, acrylonitrile. -Butadiene-styrene copolymer etc. are mentioned.
The material for the thermoplastic resin film may be one kind of resin or two or more kinds of polymer blends.
Among these, from the viewpoint of required quality of the conductive film and the like (for example, heat resistance, dimensional stability, cost, etc.), at least one resin selected from the group consisting of a polyester resin and a cycloolefin polymer is preferable. Polyethylene terephthalate And at least one resin selected from the group consisting of cycloolefin polymers is more preferred.
上記パターニング工程におけるガスクラスターイオンビーム照射前の熱可塑性樹脂フィルムの表面全体の表面粗さＲａは、表面エネルギーの差、及び、取扱い性の観点から、０．１ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、０．３ｎｍ以上４０ｎｍ以下であることがより好ましく、０．５ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることが更に好ましく、１ｎｍ以上２５ｎｍ以下であることが特に好ましい。例えば１５ｎｍ、２０ｎｍなどが挙げられるが、特に限定されない。
また、上記パターニング工程におけるガスクラスターイオンビーム照射後の熱可塑性樹脂フィルムの表面全体の表面粗さＲａは、表面エネルギーの差、及び、取扱い性の観点から、０．１ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、０．３ｎｍ以上４０ｎｍ以下であることがより好ましく、０．５ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることが更に好ましく、１ｎｍ以上２５ｎｍ以下であることが特に好ましい。例えば１５ｎｍ、２０ｎｍなどが挙げられるが、特に限定されない。
更に、本開示に係る熱可塑性樹脂フィルムの製造方法により得られるガスクラスターイオンビームを照射した部分の熱可塑性樹脂フィルム表面における表面粗さＲａは、平滑性、表面エネルギーの差、及び、取扱い性の観点から、０．１ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、０．３ｎｍ以上４０ｎｍ以下であることがより好ましく、０．５ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることが更に好ましく、１ｎｍ以上２５ｎｍ以下であることが特に好ましい。表面粗さが０．１ｎｍ以上であると例えばフィルムロールへの張り付きに対してなどフィルム取り扱い性がよく、５０ｎｍ以下であると平滑性や外観などが好ましく、例えば光学用途でのニーズに好適に用いることができる。表面粗さの値としては例えば１５ｎｍ、２０ｎｍなどが具体的に挙げられるが、特に限定されない。
The surface roughness Ra of the entire surface of the thermoplastic resin film before irradiation with the gas cluster ion beam in the patterning step is preferably 0.1 nm or more and 50 nm or less from the viewpoint of surface energy difference and handleability, The thickness is more preferably 0.3 nm or more and 40 nm or less, further preferably 0.5 nm or more and 30 nm or less, and particularly preferably 1 nm or more and 25 nm or less. Examples thereof include 15 nm and 20 nm, but are not particularly limited.
Further, the surface roughness Ra of the entire surface of the thermoplastic resin film after irradiation with the gas cluster ion beam in the patterning step may be 0.1 nm or more and 50 nm or less from the viewpoint of the difference in surface energy and handleability. Preferably, it is 0.3 nm or more and 40 nm or less, more preferably 0.5 nm or more and 30 nm or less, and particularly preferably 1 nm or more and 25 nm or less. Examples thereof include 15 nm and 20 nm, but are not particularly limited.
Furthermore, the surface roughness Ra on the surface of the thermoplastic resin film irradiated with the gas cluster ion beam obtained by the method for producing a thermoplastic resin film according to the present disclosure is smoothness, difference in surface energy, and handleability. From the viewpoint, it is preferably 0.1 nm or more and 50 nm or less, more preferably 0.3 nm or more and 40 nm or less, further preferably 0.5 nm or more and 30 nm or less, and particularly preferably 1 nm or more and 25 nm or less. preferable. When the surface roughness is 0.1 nm or more, for example, the film is easy to handle such as sticking to a film roll, and when it is 50 nm or less, smoothness and appearance are preferable, and for example, it is suitably used for needs in optical applications. be able to. Specific examples of the surface roughness include 15 nm and 20 nm, but are not particularly limited.
本開示における熱可塑性樹脂フィルムの表面粗さＲａの測定方法は、接触形状測定機（Ｍｉｔｕｔｏｙｏ ＦＯＲＭＴＲＡＣＥＲ ＥＸＴＲＥＭＥ ＣＳ−５０００ ＣＮＣ）を用い、下記の条件にて、測定対象フィルムのＭＤ方向及びＴＤ方向の任意の位置において各１２回計測し、Ｒａの最小値及び最大値を除去したＭＤ方向１０点及びＴＤ方向１０点の平均を求め、２０点の平均値をＲａとする。
＜条件＞
・測定針先端径：０．５μｍ
・触針荷重：０．７５ｍＮ
・測定長：０．８ｍｍ
・カットオフ値：０．０８ｍｍ
The method of measuring the surface roughness Ra of the thermoplastic resin film in the present disclosure is performed using a contact shape measuring machine (Mitutoyo FORMRACER EXTREME CS-5000 CNC), under any of the following conditions, in any of the MD direction and the TD direction of the measurement target film. Measured 12 times at each position, and obtained the average of 10 points in the MD direction and 10 points in the TD direction from which the minimum and maximum values of Ra were removed, and the average value of 20 points is defined as Ra.
<Conditions>
・ Measurement needle tip diameter: 0.5 μm
-Stylus load: 0.75mN
・ Measurement length: 0.8mm
・ Cutoff value: 0.08mm
本開示に用いられる熱可塑性樹脂フィルムの厚さは、要求品質、取扱い性及び強度の観点から、１μｍ〜３００μｍであることが好ましく、５μｍ〜２５０μｍであることがより好ましく、１０μｍ〜２００μｍであることが更に好ましい。例えば、５μｍ、６０μｍ、１００μｍ、２５０μｍなどが挙げられるが、これに限定されない。
また、本開示に用いられる熱可塑性樹脂フィルムの厚さ以外の形状については、特に制限はなく、所望の形状であればよい。例えば、枚葉状のフィルムであっても、ロール状のフィルムであってもよい。
The thickness of the thermoplastic resin film used in the present disclosure is preferably 1 μm to 300 μm, more preferably 5 μm to 250 μm, and more preferably 10 μm to 200 μm from the viewpoint of required quality, handleability and strength. Is more preferable. Examples thereof include 5 μm, 60 μm, 100 μm, and 250 μm, but are not limited thereto.
Moreover, there is no restriction | limiting in particular about shapes other than the thickness of the thermoplastic resin film used for this indication, What is necessary is just a desired shape. For example, it may be a sheet-like film or a roll-like film.
上記熱可塑性樹脂フィルムの表面におけるガスクラスターイオンビームを照射した部分の表面粗さＲａの変化率（１００×（照射後のＲａ−照射前のＲａ）／照射前のＲａ、単位：％）は、取扱い性の観点から、上記ガスクラスターイオンビームの照射前後で±４０％以内であることが好ましく、±２０％以内であることがより好ましく、±１０％以内であることが特に好ましい。
本開示に係る熱可塑性樹脂フィルムの製造方法によれば、ガスクラスターイオンビームを用いて表面エネルギーを変化させることにより、上記熱可塑性樹脂フィルムの表面における表面粗さをあまり変化させずとも、パターン形成が可能である。従来の表面処理によるパターニング方法では、フィルム表面が深く削られ、フィルムの表面粗さが悪化する場合が多い。
The rate of change of the surface roughness Ra of the portion irradiated with the gas cluster ion beam on the surface of the thermoplastic resin film (100 × (Ra after irradiation−Ra before irradiation) / Ra before irradiation, unit:%) is: From the viewpoint of handleability, it is preferably within ± 40% before and after irradiation with the gas cluster ion beam, more preferably within ± 20%, and particularly preferably within ± 10%.
According to the method for producing a thermoplastic resin film according to the present disclosure, by changing the surface energy using a gas cluster ion beam, pattern formation can be performed without changing the surface roughness on the surface of the thermoplastic resin film so much. Is possible. In a conventional patterning method by surface treatment, the film surface is often deeply shaved, and the surface roughness of the film often deteriorates.
本開示に係る熱可塑性樹脂フィルムの製造方法は、上記パターニング工程以外の工程を含んでいてもよい。
上記パターニング工程以外の工程としては、例えば、上記パターニング工程の前に、熱可塑性樹脂フィルムを準備する工程や、熱可塑性樹脂フィルムを洗浄する工程、洗浄された熱可塑性樹脂フィルムを乾燥する工程などが挙げられる。
また、本開示に係る熱可塑性樹脂フィルムの製造方法により得られた熱可塑性樹脂フィルムのパターンを保護するため、保護フィルムを貼り付けてもよい。
保護フィルムとしては、公知のものを用いることができる。
The manufacturing method of the thermoplastic resin film which concerns on this indication may include processes other than the said patterning process.
Examples of steps other than the patterning step include a step of preparing a thermoplastic resin film, a step of washing the thermoplastic resin film, a step of drying the washed thermoplastic resin film, etc. before the patterning step. Can be mentioned.
Moreover, in order to protect the pattern of the thermoplastic resin film obtained by the method for producing a thermoplastic resin film according to the present disclosure, a protective film may be attached.
A well-known thing can be used as a protective film.
（導電性フィルムの製造方法）
本開示に係る導電性フィルムの製造方法は、本開示に係る熱可塑性樹脂フィルムの製造方法により得られた熱可塑性樹脂フィルムを用いた導電性フィルムの製造方法であり、本開示に係る熱可塑性樹脂フィルムの製造方法により得られた熱可塑性樹脂フィルムの表面エネルギーが変化した表面に導電性材料又は導電性材料を含む組成物を塗布し、表面エネルギーの異なる任意のパターン形状に導電性材料を付与する工程（「付与工程」ともいう。）を含むことが好ましい。
上記付与工程を含む本開示に係る導電性フィルムの製造方法により得られた導電性フィルムは、導電性材料のパターンを有する導電性フィルムとして、好適に用いることができる。
(Method for producing conductive film)
The method for producing a conductive film according to the present disclosure is a method for producing a conductive film using the thermoplastic resin film obtained by the method for producing a thermoplastic resin film according to the present disclosure, and the thermoplastic resin according to the present disclosure. A conductive material or a composition containing a conductive material is applied to the surface of the thermoplastic resin film obtained by the method for producing a film on which the surface energy has changed, and the conductive material is applied to any pattern shape having a different surface energy. It is preferable to include a step (also referred to as “applying step”).
The conductive film obtained by the method for producing a conductive film according to the present disclosure including the applying step can be suitably used as a conductive film having a pattern of a conductive material.
＜付与工程＞
上記付与工程における導電性材料又は導電性材料を含む組成物の塗布量は、特に制限はなく、所望の導電性材料の量、使用する熱可塑性樹脂フィルムの表面エネルギーの差、及び、上記組成物の表面張力等に応じて、適宜選択すればよいが、パターン形成可能な量を塗布することが好ましい。
また、上記付与工程における導電性材料又は導電性材料を含む組成物の塗布は、熱可塑性樹脂フィルムの全面に行ってもよいし、パターン形状が必要な部分にのみ塗布してもよい。本開示に係る導電性フィルムの製造方法においては、表面エネルギーの違いによりパターン形成可能な熱可塑性樹脂フィルムを用いるため、所望のパターン形状と同じ形状に導電性材料又は導電性材料を含む組成物を塗布しなくても、例えば、導電性材料又は導電性材料を含む組成物を全面に塗布しても、表面エネルギーの違いによりパターン形状が形成され、所望のパターン形状に導電性材料を付与することができる。
また、上記付与工程においては、導電性材料を含む組成物を塗布することが好ましい。組成物として用いることにより、塗布する熱可塑性樹脂フィルムの表面エネルギーの違いに応じた調整が容易である。
<Granting process>
The coating amount of the conductive material or the composition containing the conductive material in the application step is not particularly limited, and the amount of the desired conductive material, the difference in surface energy of the thermoplastic resin film to be used, and the composition Depending on the surface tension or the like, it may be appropriately selected, but it is preferable to apply an amount capable of forming a pattern.
Moreover, application | coating of the composition containing the electroconductive material or electroconductive material in the said provision process may be performed to the whole surface of a thermoplastic resin film, and may be apply | coated only to the part for which a pattern shape is required. In the method for producing a conductive film according to the present disclosure, since a thermoplastic resin film that can be patterned by a difference in surface energy is used, a conductive material or a composition containing a conductive material in the same shape as a desired pattern shape is used. Even if it is not applied, for example, even if a conductive material or a composition containing a conductive material is applied to the entire surface, a pattern shape is formed due to a difference in surface energy, and a conductive material is imparted to a desired pattern shape. Can do.
Moreover, in the said provision process, it is preferable to apply | coat the composition containing an electroconductive material. By using as a composition, the adjustment according to the difference in the surface energy of the thermoplastic resin film to apply | coat is easy.
導電性材料としては、金属、金属酸化物、導電性高分子などを挙げることができる。
金属としては、Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ等を挙げることができる。
金属酸化物としては、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）等を挙げることができる。
導電性高分子としては、ポリアセチレン類、ポリチオフェン類、ポリアニリン類、ポリピロール類等を挙げることができる。
Examples of the conductive material include metals, metal oxides, and conductive polymers.
Examples of the metal include Al, Zn, Cu, Ag, Au, Fe, Ni, Cr, and Mo.
Examples of the metal oxide include ITO (Indium Tin Oxide) and IZO (Indium Zinc Oxide).
Examples of the conductive polymer include polyacetylenes, polythiophenes, polyanilines, and polypyrroles.
上記導電性材料を含む組成物は、導電性材料を分散した組成物であっても、導電性材料を溶解した組成物であってもよい。
上記導電性材料を含む組成物は、溶媒（分散媒）を含むことが好ましい。
溶媒としては、特に制限はなく、塗布する熱可塑性樹脂フィルムの表面エネルギーの違いに応じて、適宜選択することができる。例えば、極性溶媒を用いてもよいし、無極性溶媒を用いてもよい。
上記組成物における導電性材料、及び、溶媒の含有量は、特に制限はなく、所望の導電性材料のパターン、及び、塗布する熱可塑性樹脂フィルムの表面エネルギーの違いに応じて、適宜選択すればよい。
The composition containing the conductive material may be a composition in which the conductive material is dispersed or a composition in which the conductive material is dissolved.
The composition containing the conductive material preferably contains a solvent (dispersion medium).
There is no restriction | limiting in particular as a solvent, According to the difference in the surface energy of the thermoplastic resin film to apply | coat, it can select suitably. For example, a polar solvent may be used or a nonpolar solvent may be used.
The content of the conductive material and the solvent in the composition is not particularly limited, and may be appropriately selected according to the desired conductive material pattern and the difference in surface energy of the thermoplastic resin film to be applied. Good.
また、上記導電性材料を含む組成物は、必要に応じて、バインダーポリマー、粘度調整剤、界面活性剤等、その他の公知の添加剤を含んでいてもよい。 Moreover, the composition containing the said electroconductive material may contain other well-known additives, such as a binder polymer, a viscosity modifier, and surfactant, as needed.
上記導電性材料を含む組成物が溶媒を含む場合、本開示に係る導電性フィルムの製造方法は、形成されたパターンから溶媒を除去する工程を含むことが好ましい。
溶媒の除去方法としては、公知の乾燥方法を用いることができる。
When the composition containing the said electroconductive material contains a solvent, it is preferable that the manufacturing method of the electroconductive film which concerns on this indication includes the process of removing a solvent from the formed pattern.
As a method for removing the solvent, a known drying method can be used.
（熱可塑性樹脂フィルム、及び、導電性フィルム）
本開示に係る熱可塑性樹脂フィルムは、少なくとも一方の面の表面に表面エネルギーの異なる任意のパターンを有し、上記パターンを有する面の表面粗さＲａが０．１ｎｍ以上５０ｎｍ以下である。
また、本開示に係る熱可塑性樹脂フィルムは、上述した本開示に係る熱可塑性樹脂フィルムの製造方法により製造された熱可塑性樹脂フィルムであることが好ましい。
本開示に係る導電性フィルムは、本開示に係る熱可塑性樹脂フィルムの上記パターン上に導電性材料を有する。
また、本開示に係る導電性フィルムは、上述した本開示に係る転写フィルムの製造方法により製造された導電性フィルムであることが好ましい。
(Thermoplastic resin film and conductive film)
The thermoplastic resin film according to the present disclosure has an arbitrary pattern with different surface energy on the surface of at least one surface, and the surface roughness Ra of the surface having the pattern is 0.1 nm or more and 50 nm or less.
Moreover, it is preferable that the thermoplastic resin film which concerns on this indication is a thermoplastic resin film manufactured with the manufacturing method of the thermoplastic resin film which concerns on this indication mentioned above.
The conductive film according to the present disclosure has a conductive material on the pattern of the thermoplastic resin film according to the present disclosure.
Moreover, it is preferable that the electroconductive film which concerns on this indication is the electroconductive film manufactured by the manufacturing method of the transfer film which concerns on this indication mentioned above.
本開示に係る熱可塑性樹脂フィルム、及び、本開示に係る導電性フィルムの好ましい態様は、後述した以外は、上述した本開示に係る熱可塑性樹脂フィルムの製造方法により製造された熱可塑性樹脂フィルム、及び、本開示に係る導電性フィルムの製造方法により製造された導電性フィルムの好ましい態様と同様である。 Preferred embodiments of the thermoplastic resin film according to the present disclosure and the conductive film according to the present disclosure are the thermoplastic resin film manufactured by the method for manufacturing the thermoplastic resin film according to the present disclosure described above, except as described below. And it is the same as that of the preferable aspect of the electroconductive film manufactured by the manufacturing method of the electroconductive film which concerns on this indication.
本開示に係る熱可塑性樹脂フィルムの表面粗さＲａは、取扱い性の観点から、０．３ｎｍ以上４０ｎｍ以下であることがより好ましく、０．５ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることが更に好ましく、１ｎｍ以上２５ｎｍ以下であることが特に好ましい。 The surface roughness Ra of the thermoplastic resin film according to the present disclosure is more preferably from 0.3 nm to 40 nm, further preferably from 0.5 nm to 30 nm, and more preferably from 1 nm to 25 nm, from the viewpoint of handleability. It is particularly preferred that
以下、本発明の実施形態を実施例により更に具体的に説明するが、本開示はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は質量基準である。 Hereinafter, the embodiments of the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present disclosure is not limited to the following examples unless it exceeds the gist of the present invention. Unless otherwise specified, “part” is based on mass.
（実施例１〜６）
表１に記載の熱可塑性樹脂フィルムに対し、ガスクラスターイオンビーム装置（アールエムテック（株）製）を使用して、下記に示す条件でガスクラスターイオンビームの照射を行い、表面エネルギーの異なるパターン形状を有する熱可塑性樹脂フィルムをそれぞれ得た。
なお、表１に記載のフィルム形態が、「枚葉」の場合は、１００ｍｍ×１００ｍｍのフィルムを使用し、「Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ」の場合は、１００ｍｍ幅のフィルムを使用した。
(Examples 1-6)
Using the gas cluster ion beam device (manufactured by M-Tech Co., Ltd.), the thermoplastic resin film listed in Table 1 is irradiated with the gas cluster ion beam under the following conditions, and the pattern shapes having different surface energies A thermoplastic resin film having the following was obtained.
In addition, when the film form described in Table 1 was “sheet”, a 100 mm × 100 mm film was used, and when it was “Roll to Roll”, a 100 mm wide film was used.
−ガスクラスターイオンビーム照射条件−
・クラスターガス：アルゴン
・ガスクラスターのドーズ量：表１に記載の量
・衝突加速電圧：表１に記載の加速電圧
・幅方向送り速度：２０ｍｍ／ｓｅｃ
・長手方向ピッチ：０．４ｍｍ
・パターン形状：図３に示す形状を１００ｍｍ×１００ｍｍ毎に形成した。
-Gas cluster ion beam irradiation conditions-
・ Cluster gas: Argon ・ Dose amount of gas cluster: Amount described in Table 1 ・ Collision acceleration voltage: Acceleration voltage described in Table 1 ・ Width direction feed speed: 20 mm / sec
・ Longitudinal pitch: 0.4mm
Pattern shape: The shape shown in FIG. 3 was formed every 100 mm × 100 mm.
図３は、１００ｍｍ×１００ｍｍ毎のパターン形状１０を示し、ガスクラスターイオンビーム処理部１２、及び、未処理部１４を有し、未処理部１４は搬送方向Ｄ１に対し、横向きのＷ状に形成されており、未処理部１４の各部の幅Ｌ１は、０．５ｍｍである。 FIG. 3 shows a pattern shape 10 every 100 mm × 100 mm, which includes a gas cluster ion beam processing unit 12 and an unprocessed unit 14, and the unprocessed unit 14 is formed in a W shape that is transverse to the transport direction D1. The width L1 of each part of the unprocessed part 14 is 0.5 mm.
（比較例１）
表１に記載の熱可塑性樹脂フィルムに対し、イオンビームエッチング装置（アールエムテック（株）製）を使用して、下記に示す条件で単分子イオンビームの照射を行い、熱可塑性樹脂フィルムを得た。
(Comparative Example 1)
The thermoplastic resin film shown in Table 1 was irradiated with a monomolecular ion beam under the conditions shown below using an ion beam etching apparatus (manufactured by R-Mtech Co., Ltd.) to obtain a thermoplastic resin film. .
−単分子イオンビーム照射条件−
・イオン：アルゴン
・イオンのドーズ量：表１に記載の量
・衝突加速電圧：表１に記載の加速電圧
・幅方向送り速度：２０ｍｍ／ｓｅｃ
・長手方向ピッチ：０．４ｍｍ
・パターン形状：ガスクラスターイオンビーム照射時と同様
-Single molecule ion beam irradiation conditions-
・ Ion: Argon ・ Dose amount of ion: Amount described in Table 1 ・ Collision acceleration voltage: Acceleration voltage described in Table 1 ・ Width direction feed rate: 20 mm / sec
・ Longitudinal pitch: 0.4mm
・ Pattern shape: Same as gas cluster ion beam irradiation
＜表面粗さＲａ、及び、表面エネルギーの測定方法＞
上述した表面粗さＲａの測定方法、及び、表面エネルギーの測定方法により、測定した。
<Measurement method of surface roughness Ra and surface energy>
It measured by the measuring method of surface roughness Ra mentioned above, and the measuring method of surface energy.
＜表面粗さ維持性評価＞
得られた熱可塑性樹脂フィルムにおけるガスクラスターイオンビームを照射した部分の表面粗さＲａの変化率（１００×（照射後のＲａ−照射前のＲａ）／照射前のＲａ、単位：％）を算出し、以下の評価基準により評価した。
Ａ：表面粗さＲａの変化率が±１０％以内
Ｂ：表面粗さＲａの変化率が±１０％を超え±２０％以内
Ｃ：表面粗さＲａの変化率が±２０％を超え±４０％以内
Ｄ：表面粗さＲａの変化率が＋４０％を超える
<Surface roughness maintenance evaluation>
Change rate (100 × (Ra after irradiation−Ra before irradiation) / Ra before irradiation, unit:%) of the surface roughness Ra of the portion irradiated with the gas cluster ion beam in the obtained thermoplastic resin film is calculated. And evaluated according to the following evaluation criteria.
A: Change rate of surface roughness Ra within ± 10% B: Change rate of surface roughness Ra exceeds ± 10% and within ± 20% C: Change rate of surface roughness Ra exceeds ± 20% and ± 40% Within% D: Change rate of surface roughness Ra exceeds + 40%
表１に示すように、実施例１〜実施例６で得られた熱可塑性樹脂フィルムは、ガスクラスターイオンビームの照射前後で表面粗さがほとんど変化せず、表面エネルギー（表面の濡れ性）の異なる任意のパターン形状を有する熱可塑性樹脂フィルムであった。
一方、比較例１で得られた熱可塑性樹脂フィルムは、単原子イオンビームを照射した部分としていない部分との表面エネルギーの差が小さく、表面の濡れ性が十分変化したものではなかった。更に表面粗さがパターニング処理前後で大きく変化していた。
また、表１に示すように、実施例１〜実施例６の製造方法は、表面粗さ維持性に優れており、得られた熱可塑性樹脂フィルムは、平滑性にも優れていた。
As shown in Table 1, the thermoplastic resin films obtained in Examples 1 to 6 have almost no change in surface roughness before and after irradiation with the gas cluster ion beam, and have a surface energy (surface wettability). It was a thermoplastic resin film having arbitrary different pattern shapes.
On the other hand, the thermoplastic resin film obtained in Comparative Example 1 had a small difference in surface energy from the portion not irradiated with the monoatomic ion beam, and the surface wettability was not sufficiently changed. Furthermore, the surface roughness greatly changed before and after the patterning process.
Moreover, as shown in Table 1, the manufacturing methods of Examples 1 to 6 were excellent in surface roughness maintenance, and the obtained thermoplastic resin films were also excellent in smoothness.
表１に記載の熱可塑性樹脂フィルムを以下に示す。
ＰＥＴ（厚さ１００μｍ、枚葉）：ポリエチレンテレフタレートフィルム
ＰＥＴ（厚さ１００μｍ、ロール）：ポリエチレンテレフタレートフィルム
ＰＥＴ（厚さ５μｍ、ロール）：ポリエチレンテレフタレートフィルム
ＰＥＴ（厚さ２５０μｍ、ロール）：ポリエチレンテレフタレートフィルム
ＣＯＰ（厚さ６０μｍ、枚葉）：シクロオレフィンポリマーフィルム
また、これら熱可塑性樹脂フィルムは、下記の方法により作製し、ロールとした、又は、枚葉状に裁断したものを用いた。
The thermoplastic resin film described in Table 1 is shown below.
PET (thickness 100 μm, single wafer): polyethylene terephthalate film PET (thickness 100 μm, roll): polyethylene terephthalate film PET (thickness 5 μm, roll): polyethylene terephthalate film PET (thickness 250 μm, roll): polyethylene terephthalate film COP (Thickness 60 μm, single wafer): cycloolefin polymer film These thermoplastic resin films were prepared by the following method and used as rolls or cut into single sheets.
＜ポリエステル原料樹脂１の合成＞
以下に示すように、テレフタル酸及びエチレングリコールを直接反応させて水を留去し、エステル化した後、減圧下で重縮合を行う直接エステル化法を用いて、連続重合装置によりポリエステル（Ｔｉ触媒系ＰＥＴ）を得た。
<Synthesis of polyester raw material resin 1>
As shown below, by directly reacting terephthalic acid and ethylene glycol to distill off water, esterify, and then use a direct esterification method in which polycondensation is performed under reduced pressure, polyester (Ti catalyst) using a continuous polymerization apparatus. System PET) was obtained.
（１）エステル化反応
第一エステル化反応槽に、高純度テレフタル酸４．７トンとエチレングリコール１．８トンを９０分かけて混合してスラリー形成させ、３，８００ｋｇ／ｈの流量で連続的に第一エステル化反応槽に供給した。更にクエン酸がＴｉ金属に配位したクエン酸キレートチタン錯体（ＶＥＲＴＥＣ ＡＣ−４２０、ジョンソン・マッセイ社製）のエチレングリコール溶液を連続的に供給し、反応槽内温度２５０℃、撹拌下、平均滞留時間約４．３時間で反応を行なった。この際、クエン酸キレートチタン錯体は、Ｔｉ添加量が元素換算値で９ｐｐｍとなるように連続的に添加した。このとき、得られたオリゴマーの酸価は６００当量／トンであった。なお、本明細書中において、「当量／ｔ」は１トンあたりのモル当量を表す。
この反応物を第二エステル化反応槽に移送し、撹拌下、反応槽内温度２５０℃で、平均滞留時間で１．２時間反応させ、酸価が２００当量／トンのオリゴマーを得た。第二エステル化反応槽は内部が３ゾーンに仕切られており、第２ゾーンから酢酸マグネシウムのエチレングリコール溶液を、Ｍｇ添加量が元素換算値で７５ｐｐｍになるように連続的に供給し、続いて第３ゾーンから、リン酸トリメチルのエチレングリコール溶液を、Ｐ添加量が元素換算値で６５ｐｐｍになるように連続的に供給した。
(1) Esterification reaction In a first esterification reaction tank, 4.7 tons of high-purity terephthalic acid and 1.8 tons of ethylene glycol are mixed for 90 minutes to form a slurry, and continuously at a flow rate of 3,800 kg / h. Was fed to the first esterification reactor. Further, an ethylene glycol solution of a citrate chelate titanium complex (VERTEC AC-420, manufactured by Johnson Matthey) in which citric acid is coordinated to Ti metal is continuously supplied, and the average residence time is kept at 250 ° C. with stirring in the reaction vessel. The reaction was carried out for about 4.3 hours. At this time, the citric acid chelate titanium complex was continuously added so that the amount of Ti added was 9 ppm in terms of element. At this time, the acid value of the obtained oligomer was 600 equivalent / ton. In the present specification, “equivalent / t” represents a molar equivalent per ton.
This reaction product was transferred to a second esterification reaction vessel and reacted with stirring at a temperature in the reaction vessel of 250 ° C. and an average residence time of 1.2 hours to obtain an oligomer having an acid value of 200 equivalents / ton. The inside of the second esterification reaction tank is partitioned into three zones, and an ethylene glycol solution of magnesium acetate is continuously supplied from the second zone so that the amount of Mg added is 75 ppm in terms of element, From the third zone, an ethylene glycol solution of trimethyl phosphate was continuously supplied so that the added amount of P was 65 ppm in terms of element.
（２）重縮合反応
上記で得られたエステル化反応生成物を連続的に第一重縮合反応槽に供給し、撹拌下、反応温度２７０℃、反応槽内圧力２０ｔｏｒｒ（２．６７×１０−３ＭＰａ）で、平均滞留時間約１．８時間で重縮合させた。
更に、第二重縮合反応槽に移送し、この反応槽において撹拌下、反応槽内温度２７６℃、反応槽内圧力５ｔｏｒｒ（６．６７×１０−４ＭＰａ）で滞留時間約１．２時間の条件で反応（重縮合）させた。
次いで、更に第三重縮合反応槽に移送し、この反応槽では、反応槽内温度２７８℃、反応槽内圧力１．５ｔｏｒｒ（２．０×１０−４ＭＰａ）で、滞留時間１．５時間の条件で反応（重縮合）させ、反応物（ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ））を得た。
(2) a polycondensation reaction resulting esterification reaction product in the above was continuously supplied to the first polycondensation reaction vessel, stirred under a reaction temperature of 270 ° C., the reaction vessel pressure 20 torr (2.67 × 10 - 3 MPa) and polycondensation with an average residence time of about 1.8 hours.
Further, it was transferred to the second double condensation reaction tank, and while stirring in this reaction tank, the reaction tank temperature was 276 ° C., the reaction tank pressure was 5 torr (6.67 × 10 −4 MPa), and the residence time was about 1.2 hours. The reaction (polycondensation) was performed under the conditions.
Subsequently, it was further transferred to the third triple condensation reaction tank. In this reaction tank, the reaction tank temperature was 278 ° C., the reaction tank internal pressure was 1.5 torr (2.0 × 10 −4 MPa), and the residence time was 1.5 hours. The reaction product (polyethylene terephthalate (PET)) was obtained by reaction (polycondensation) under the following conditions.
次に、得られた反応物を、冷水にストランド状に吐出し、直ちにカッティングしてポリエステルのペレット＜断面：長径約４ｍｍ、短径約２ｍｍ、長さ：約３ｍｍ＞を作製した。 Next, the obtained reaction product was discharged into cold water in a strand form and immediately cut to prepare polyester pellets (cross section: major axis: about 4 mm, minor axis: about 2 mm, length: about 3 mm).
得られたポリエステルについて、高分解能型高周波誘導結合プラズマ−質量分析（ＨＲ−ＩＣＰ−ＭＳ；ＳＩＩナノテクノロジー社製ＡｔｔｏＭ）を用いて以下に示すように測定した結果、Ｔｉ＝９ｐｐｍ、Ｍｇ＝７５ｐｐｍ、Ｐ＝６０ｐｐｍであった。Ｐは当初の添加量に対して僅かに減少しているが、重合過程において揮発したものと推定される。
以上のようにして、ポリエステル原料樹脂１を合成した。
About the obtained polyester, as a result of measuring as shown below using high resolution type high frequency inductively coupled plasma-mass spectrometry (HR-ICP-MS; AttoM manufactured by SII Nanotechnology), Ti = 9 ppm, Mg = 75 ppm, P = 60 ppm. P is slightly reduced with respect to the initial addition amount, but is estimated to have volatilized during the polymerization process.
Polyester raw material resin 1 was synthesized as described above.
＜未延伸ポリエステルフィルムの作製＞
ポリエステル原料樹脂１を、含水率２０ｐｐｍ以下に乾燥させた後、直径５０ｍｍの１軸混練押出機のホッパーに投入した。ポリエステル原料樹脂１は、３００℃に溶融し、下記押出条件により、ギアポンプ、濾過器（孔径２０μｍ）を介し、ダイから押出した。なお、ポリエステルシートの厚さが０．４ｍｍとなるように、ダイのスリットの寸法を調整した。ポリエステルシートの厚さは、キャスティングロールの出口に設置した自動厚み計により測定した。
<Preparation of unstretched polyester film>
The polyester raw resin 1 was dried to a moisture content of 20 ppm or less, and then charged into a hopper of a single-screw kneading extruder having a diameter of 50 mm. Polyester raw resin 1 was melted at 300 ° C. and extruded from a die through a gear pump and a filter (pore diameter: 20 μm) under the following extrusion conditions. The dimension of the die slit was adjusted so that the thickness of the polyester sheet was 0.4 mm. The thickness of the polyester sheet was measured with an automatic thickness meter installed at the exit of the casting roll.
この際、溶融樹脂の押出は、圧力変動を１％とし、溶融樹脂の温度分布を２％とする条件にて行った。具体的には、押出機のバレルにおける背圧を、押出機のバレル内平均圧力に対して１％高い圧力とし、押出機の配管温度を、押出機のバレル内平均温度に対して２％高い温度として加熱した。ダイから押出すにあたり、溶融樹脂を冷却用のキャスティングロール上に押出し、静電印加法を用いてキャスティングロールに密着させた。溶融樹脂の冷却は、キャスティングロールの温度を２５℃に設定し、かつ、キャスティングロールに対面して設置された冷風発生装置から２５℃の冷風を吹き出して溶融樹脂にあてた。キャスティングロールに対向配置された剥ぎ取りロールによって、キャスティングロールから厚さ０．４ｍｍ、フィルム幅０．９ｍの未延伸ポリエステルフィルム（未延伸ポリエステルフィルム１）を剥離した。 At this time, extrusion of the molten resin was performed under the condition that the pressure fluctuation was 1% and the temperature distribution of the molten resin was 2%. Specifically, the back pressure in the barrel of the extruder is 1% higher than the average pressure in the barrel of the extruder, and the piping temperature of the extruder is 2% higher than the average temperature in the barrel of the extruder. Heated as temperature. In extruding from the die, the molten resin was extruded onto a cooling casting roll and brought into close contact with the casting roll using an electrostatic application method. For the cooling of the molten resin, the temperature of the casting roll was set to 25 ° C., and cold air of 25 ° C. was blown out from the cold air generator installed facing the casting roll and applied to the molten resin. An unstretched polyester film (unstretched polyester film 1) having a thickness of 0.4 mm and a film width of 0.9 m was peeled from the casting roll by a peeling roll disposed opposite to the casting roll.
＜２軸延伸ポリエステルフィルムの作製＞
得られた未延伸ポリエステルフィルム１に対し、以下の各工程を経ることにより逐次２軸延伸を施し、厚さ１００μｍ、５μｍ又は２５０μｍ及びフィルム幅（ＴＤの全長）２．５ｍの２軸延伸ポリエステル（ＰＥＴ）フィルムをそれぞれ作製した。
なお、下記各工程の延伸倍率を調整することにより、所望の厚みとした。
得られた２軸延伸ポリエステルフィルムを幅１００ｍｍに裁断し、上記において使用した。
<Preparation of biaxially stretched polyester film>
The obtained unstretched polyester film 1 is sequentially biaxially stretched through the following steps to obtain a biaxially stretched polyester having a thickness of 100 μm, 5 μm, or 250 μm and a film width (total length of TD) of 2.5 m ( PET) films were prepared respectively.
In addition, it was set as desired thickness by adjusting the draw ratio of each following process.
The obtained biaxially stretched polyester film was cut into a width of 100 mm and used in the above.
−第１の延伸工程−
未延伸ポリエステルフィルム１を周速の異なる２対のニップロールの間に通し、下記条件でＭＤ方向（搬送方向）に第１の延伸（縦延伸）を行った。
<条件>
予熱温度：８０℃
延伸温度：９０℃
延伸応力：１２ＭＰａ
-First stretching step-
The unstretched polyester film 1 was passed between two pairs of nip rolls having different peripheral speeds, and the first stretching (longitudinal stretching) was performed in the MD direction (conveying direction) under the following conditions.
<Condition>
Preheating temperature: 80 ° C
Stretching temperature: 90 ° C
Stretching stress: 12 MPa
−第２の延伸工程−
縦延伸したポリエステルフィルム（一軸延伸ポリエステルフィルム）に対し、テンター（２軸延伸機）を用いて下記の方法、条件にて第２の延伸（横延伸）を行った。
-Second stretching step-
The polyester film (uniaxially stretched polyester film) subjected to longitudinal stretching was subjected to second stretching (lateral stretching) using a tenter (biaxial stretching machine) under the following method and conditions.
（予熱部）
予熱温度を１１０℃とし、延伸可能なように加熱した。
(Preheating part)
The preheating temperature was 110 ° C., and heating was performed so that stretching was possible.
（延伸部）
予熱された一軸延伸ポリエステルフィルムを、ＭＤ方向と直交するフィルム幅方向（ＴＤ方向）に下記条件にて緊張を与え、延伸（横延伸）した。
<条件>
延伸温度：１２５℃
延伸応力：１８ＭＰａ
延伸速度：１８％／秒
(Extension part)
The preheated uniaxially stretched polyester film was stretched (laterally stretched) by applying tension to the film width direction (TD direction) perpendicular to the MD direction under the following conditions.
<Condition>
Stretching temperature: 125 ° C
Stretching stress: 18 MPa
Stretching speed: 18% / second
（熱固定部）
次いで、ポリエステルフィルムの最高到達膜面温度（熱固定温度）を下記範囲に制御して加熱し、結晶化させた。
・最高到達膜面温度（熱固定温度Ｔ熱固定）：２２０℃
(Heat fixing part)
Next, the highest reachable film surface temperature (heat setting temperature) of the polyester film was controlled within the following range to heat and crystallize.
・ Maximum film surface temperature (heat setting temperature T heat setting): 220 ° C
（熱緩和部）
熱固定後のポリエステルフィルムを下記温度に加熱し、フィルムの緊張を熱緩和した。
<条件>
・熱緩和温度（Ｔ熱緩和）：１９０℃
・熱緩和率：ＴＤ方向（ＴＤ熱緩和率；ΔＬ）＝５％
(Heat relaxation part)
The polyester film after heat setting was heated to the following temperature to relax the tension of the film.
<Condition>
-Thermal relaxation temperature (T thermal relaxation): 190 ° C
Thermal relaxation rate: TD direction (TD thermal relaxation rate; ΔL) = 5%
（冷却部）
次に、熱緩和後のポリエステルフィルムを６５℃の冷却温度にて冷却した。それと同時に、ポリエステルフィルムをフィルム幅方向（ＴＤ方向）に下記条件にて緊張を与え、僅かな拡張処理を施した。
<条件>
拡張倍率：１．５％
延伸速度：０．１％／秒
なお、拡張倍率は、上記の熱緩和部での熱緩和の終了時点のフィルム幅に対する拡張割合を示す。
(Cooling section)
Next, the polyester film after heat relaxation was cooled at a cooling temperature of 65 ° C. At the same time, the polyester film was tensioned in the film width direction (TD direction) under the following conditions and subjected to a slight expansion treatment.
<Condition>
Expansion magnification: 1.5%
Stretching speed: 0.1% / second The expansion ratio indicates the expansion ratio with respect to the film width at the end of the thermal relaxation in the thermal relaxation part.
−フィルムの回収−
冷却終了後、ポリエステルフィルムの両端を２０ｃｍずつトリミングした。その後、両端に幅１０ｍｍで押出し加工（ナーリング）を行った後、張力２５ｋｇ／ｍで巻き取った。
-Film collection-
After cooling, both ends of the polyester film were trimmed by 20 cm. Then, after extruding (knurling) with a width of 10 mm at both ends, it was wound up with a tension of 25 kg / m.
以上のようにして、２軸延伸ポリエステル（ＰＥＴ）フィルムを作製した。 As described above, a biaxially stretched polyester (PET) film was produced.
＜環状ポリオレフィンフィルムの作製＞
上記のＰＥＴフィルムの作製において、ポリエステル原料樹脂１を、ＡＲＴＯＮ（登録商標；比重ρ：１．０８ｇ／ｃｍ３、ガラス転移温度（Ｔｇ）：１３８℃、ＪＳＲ（株）製）に代えたこと以外は、上記のＰＥＴフィルムの作製と同様にして、シクロオレフィンポリマーフィルム（ＣＯＰ）を作製した。
この際、第１の延伸（縦延伸）を、予熱温度：１２０℃、延伸温度：１４０℃にて行い、第２の延伸（横延伸）を、予熱温度：１２０℃、延伸温度：１４０℃にて行ったこと以外は、上記のＰＥＴフィルムの作製と同様の条件とした。
<Production of cyclic polyolefin film>
In the production of the PET film, the polyester raw material resin 1 is replaced with ARTON (registered trademark; specific gravity ρ: 1.08 g / cm 3 , glass transition temperature (Tg): 138 ° C., manufactured by JSR Corporation). Produced a cycloolefin polymer film (COP) in the same manner as in the production of the PET film.
At this time, the first stretching (longitudinal stretching) is performed at a preheating temperature: 120 ° C. and a stretching temperature: 140 ° C., and the second stretching (lateral stretching) is performed at a preheating temperature: 120 ° C. and a stretching temperature: 140 ° C. The conditions were the same as those for the production of the PET film except for the above.
（実施例７）
実施例１で得られたフィルムに対し、特開２０１３−１７８５８４号公報の記載を参考に導電性組成物を含有する塗布液（ポリチオフェン類を含有する塗布液）を塗布した後、乾燥、紫外線照射し、導電性フィルムを得た。得られた導電性フィルムは、ＧＣＩＢにて処理していない箇所のみ導電層を形成しており、導電層をパターニングできていることを確認した。
(Example 7)
The film obtained in Example 1 was coated with a coating solution containing a conductive composition (a coating solution containing polythiophenes) with reference to the description in JP 2013-178484 A, and then dried and irradiated with ultraviolet rays. As a result, a conductive film was obtained. The obtained electroconductive film formed the electroconductive layer only in the location which was not processed by GCIB, and confirmed that the electroconductive layer was patterned.
１０：パターン形状、１２：ガスクラスターイオンビーム処理部、１４：未処理部、１０２：イオン、１０４：基材表面、１０６：基材、１０８：ガスクラスターイオン、１１０：熱可塑性樹脂フィルム、Ｄ１：熱可塑性樹脂フィルムの搬送方向、Ｌ１：未処理部１４の幅
10: pattern shape, 12: gas cluster ion beam processing section, 14: untreated section, 102: ions, 104: base material surface, 106: base material, 108: gas cluster ions, 110: thermoplastic resin film, D1: Transport direction of thermoplastic resin film, L1: Width of untreated part 14
Claims (12)
熱可塑性樹脂フィルムの製造方法。 A method for producing a thermoplastic resin film comprising a step of irradiating a part of the surface of a thermoplastic resin film with a gas cluster ion beam and changing the surface energy in the irradiated part.
導電性フィルムの製造方法。 A composition containing a conductive material or a conductive material on the surface of which the surface energy of the thermoplastic resin film obtained by the method for producing a thermoplastic resin film according to any one of claims 1 to 8 is changed. The manufacturing method of an electroconductive film including the process of apply | coating and providing an electroconductive material to the arbitrary pattern shapes from which surface energy differs.
前記パターンを有する面の表面粗さＲａが０．１ｎｍ以上５０ｎｍ以下である
熱可塑性樹脂フィルム。 Having any pattern with different surface energy on the surface of at least one surface,
A thermoplastic resin film, wherein the surface having the pattern has a surface roughness Ra of from 0.1 nm to 50 nm.
導電性フィルム。
The electroconductive film which has an electroconductive material on the said pattern of the thermoplastic resin film of Claim 10 or Claim 11.
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