JP2008251920A - Polyester film for liquid resist photomask protective tape - Google Patents

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JP2008251920A JP2007092634A JP2007092634A JP2008251920A JP 2008251920 A JP2008251920 A JP 2008251920A JP 2007092634 A JP2007092634 A JP 2007092634A JP 2007092634 A JP2007092634 A JP 2007092634A JP 2008251920 A JP2008251920 A JP 2008251920A
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyester film for liquid resist photomask protective tape, such that production of internal foreign matter and oligomer of a protection tape base material is very small. <P>SOLUTION: A biaxially-oriented polyester film for liquid resist photomask protective tape which has a surface resistivity of 1.0×10<SP>13</SP>Ω/square, the biaxially aligned polyester film containing a titanium compound and a phosphorus compound by amounts, such that expressions (1) 0<W<SB>TI</SB>≤20 and (2) 1≤W<SB>P</SB>≤300 (where W<SB>TI</SB>is the content (ppm) of titanium elements in the polyester film, and W<SB>P</SB>is the content (ppm) of phosphorus elements in the polyester film) are satisfied, at the same time, and the content of an antimony element is 10 ppm or lower. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、回路形成工程等において液状レジストなどの粘着性を有するフォトマスクに密着させて使用する液状レジストフォトマスク保護粘着テープの基材ポリエステルフィルムに関する。   The present invention relates to a substrate polyester film for a liquid resist photomask protective adhesive tape that is used in close contact with a photomask having adhesive properties such as a liquid resist in a circuit formation step or the like.

従来、プリント配線板を作成する際に、液状レジストなどのような粘着性を有するフォトレジストが使用されていることが多い。このレジストをフォトマスクと呼ばれるネガフィルムを介して365nm付近の紫外線を照射することによりレジストを硬化させる。フォトレジストに密着して使用される露光用フォトマスクの表面の汚れや損傷等から保護する目的で、厚み3〜25μmのポリエステルフィルムを基材とし、基材の片面に粘着剤層が、他の面に離型層が設けられたフォトマスク保護テープは良く知られている(特許文献1)。
従来、フォトマスク保護テープとして、高い光線透過率を有する、紫外線による粘着物性が低下しない、フォトマスクに粘着剤を残さずに剥離できる、離型処理層が高耐久性を有する等の条件が要求され、フォトマスク保護テープの粘着剤層や離型層などの改良がなされてきた(特許文献2および3)。
Conventionally, an adhesive photoresist such as a liquid resist is often used when producing a printed wiring board. The resist is cured by irradiating ultraviolet rays of around 365 nm through a negative film called a photomask. A polyester film having a thickness of 3 to 25 μm is used as a base material for the purpose of protecting the surface of the exposure photomask used in close contact with the photoresist from damage and damage, and an adhesive layer is provided on one side of the base material. A photomask protective tape having a release layer on its surface is well known (Patent Document 1).
Conventionally, as a photomask protective tape, conditions such as high light transmittance, no deterioration of adhesive properties due to ultraviolet rays, removal without leaving an adhesive on the photomask, and high durability of the release treatment layer are required. In addition, improvements such as a pressure-sensitive adhesive layer and a release layer of the photomask protective tape have been made (Patent Documents 2 and 3).

近年、プリント配線板がより高精細化され、プリント配線の幅が数十μm程度にまで高精細化されると、フォトマスク保護テープの基材フィルム中に含まれる内部異物が、紫外線を照射した際、その部分の光透過性が不十分になり、解像度が低下して、精密な回路パターンが得られないという問題が新たに発生してきた。   In recent years, when the printed wiring board has been further refined and the width of the printed wiring has been increased to about several tens of μm, the internal foreign matter contained in the base film of the photomask protective tape has been irradiated with ultraviolet rays. At this time, there is a new problem that the light transmittance of the portion becomes insufficient, the resolution is lowered, and a precise circuit pattern cannot be obtained.

特に、従来から基材ポリエステルフィルムの原料であるポリエステルの重縮合時の重合触媒としては、安価でかつ優れた触媒活性をもつことで三酸化アンチモンが広く用いられているが、これを重縮合触媒の主成分、すなわち、実用的な重合速度が発揮される程度の添加量にて使用すると、重縮合時に三酸化アンチモンが還元され10μm以下の金属アンチモン粒子が生成する。そしてフィルム製造時の溶融押出し工程で金属アンチモン粒子が凝集し、20〜50μmの黒色異物としてフィルム中に存在するようになる。   In particular, antimony trioxide has been widely used as a polymerization catalyst at the time of polycondensation of polyester, which is a raw material for a base polyester film, because it is inexpensive and has excellent catalytic activity. When used in such an amount that a practical polymerization rate is exhibited, antimony trioxide is reduced during polycondensation to produce metal antimony particles of 10 μm or less. And metal antimony particle | grains aggregate by the melt-extrusion process at the time of film manufacture, and come to exist in a film as a 20-50 micrometers black foreign material.

すなわち、これらの金属アンチモン粒子の凝集体は高精細な回路パターンを形成する際、紫外線の透過を遮蔽し、回路パターンに欠陥をもたらすという問題が残った。   That is, when these metal antimony particle aggregates form a high-definition circuit pattern, the problem remains that the transmission of ultraviolet rays is shielded and the circuit pattern is defective.

これらの金属アンチモン粒子の凝集体を除去するために、溶融押出時にフィルターを使用しても、金属アンチモン粒子の凝集体が変形しながらフィルターを通り抜け、完全に除去することは困難であった。   Even if a filter is used at the time of melt extrusion to remove these metal antimony particle aggregates, it has been difficult to completely remove the metal antimony particle aggregates through the filter while being deformed.

また、基材ポリエステルフィルムの原料であるポリエステルの重縮合時の重合触媒として、ゲルマニウム化合物が知られているが、ゲルマニウム化合物は非常に高価であり汎用的に用いることは難しい。   Moreover, germanium compounds are known as polymerization catalysts for the polycondensation of polyester, which is a raw material for the base polyester film, but germanium compounds are very expensive and difficult to use for general purposes.

さらにアンチモン化合物以外の重合触媒としてチタンテトラブトキシドなどのようなチタン化合物を用いることも提案されているが、このようなチタン化合物を使用すると黒色異物の問題は解決されるものの、得られたポリエステル自身が黄色く着色し、また溶融熱安定性も不安定となり、フィルムの破れなどが生じ生産性の悪化を招くという問題がある。上記着色問題を解決するためにコバルト化合物をポリエステルに添加して黄色味を抑えることが一般的に行われているが、溶融熱安定性が低下し、これも生産性が悪化する。   Furthermore, it has also been proposed to use a titanium compound such as titanium tetrabutoxide as a polymerization catalyst other than the antimony compound, but the use of such a titanium compound solves the problem of black foreign matter, but the obtained polyester itself. Is colored yellow, and the thermal stability of the melt is also unstable, and there is a problem that the film is torn and the productivity is deteriorated. In order to solve the above-mentioned coloring problem, it is generally performed to add a cobalt compound to polyester to suppress yellowness, but the heat stability of melting is lowered, which also deteriorates productivity.

上記問題を解決するために、チタン元素とリン元素の含有量を特定することでフィルムの内部異物を減少させる提案がなされているが(特許文献4)、ポリエステルを溶融重合する工程で発生するオリゴマーを考慮に入れた設計になっていない。   In order to solve the above-mentioned problem, a proposal has been made to reduce the internal foreign matter of the film by specifying the contents of titanium element and phosphorus element (Patent Document 4), but an oligomer generated in the process of melt polymerization of polyester. It is not designed to take into account.

また、フォトマスク保護テープはレジスト層から繰り返し剥離する際、剥離帯電により保護テープ表面が帯電し、ゴミやほこりが付着する問題が残っている。   Further, when the photomask protective tape is repeatedly peeled from the resist layer, there remains a problem that the surface of the protective tape is charged due to peeling charging and dust and dust are attached.

すなわち、高精細な回路パターンが要求されるフォトレジストにおいてはフォトマスク表面の汚れや損傷等の防止の為、保護テープが不可欠になっているが、保護テープ基材の内部異物やオリゴマー等、帯電による付着異物が紫外線照射時の光透過性の妨げ、解像度が低下して、精密な回路パターンが得られないという問題が残ったままである。
特開平4−355759号公報 特開平9−230580号公報 特開2005−181564号公報 特開平6−170911号公報
In other words, in photoresists that require high-definition circuit patterns, protective tape is indispensable to prevent contamination and damage of the photomask surface. The problem that the adhered foreign matter prevents the light transmission during ultraviolet irradiation, the resolution is lowered, and a precise circuit pattern cannot be obtained remains.
JP-A-4-355759 Japanese Patent Laid-Open No. 9-230580 JP 2005-181564 A JP-A-6-170911

本発明は、上記の従来の問題点を解決しようとするものであり、その解決課題は、内部異物や表面オリゴマーを防止し、かつ帯電防止能を有するフォトマスク保護粘着テープ用ポリエステルフィルムを提供することである。   The present invention is intended to solve the above-mentioned conventional problems, and the problem to be solved is to provide a polyester film for a photomask protective adhesive tape that prevents internal foreign matter and surface oligomers and has antistatic ability. That is.

本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討した結果、特定の構成を有するフィルムによれば、上記課題を容易に解決できることを見いだし、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies in view of the above problems, the present inventor has found that the above problems can be easily solved by a film having a specific configuration, and has completed the present invention.

すなわち、本発明の要旨は、下記式(1)および(2)を同時に満たす量のチタン化合物およびリン化合物を含み、かつアンチモン元素の含有量が10ppm以下の二軸配向ポリエステルフィルムであり、表面固有抵抗が1.0×1013Ω/□以下であることを特徴とする液状レジストフォトマスク保護テープ用二軸配向ポリエステルフィルムに存する。
0<WTI≦20 …(1)
1≦W≦300 …(2)
(上記式中、WTIはポリエステルフィルム中のチタン元素含有量(ppm)、Wはポリエステルフィルム中のリン元素含有量(ppm)を示す)
That is, the gist of the present invention is a biaxially oriented polyester film containing a titanium compound and a phosphorus compound in amounts satisfying the following formulas (1) and (2) at the same time and having an antimony element content of 10 ppm or less. It exists in the biaxially-oriented polyester film for liquid resist photomask protective tapes whose resistance is 1.0 * 10 < 13 > ohm / square or less.
0 <W TI ≦ 20 (1)
1 ≦ W P ≦ 300 (2)
(In the formula, W TI titanium element content in the polyester film (ppm), W P denotes phosphorus element content in the polyester film (ppm))

以下、本発明を詳細に説明する。
本発明はでいうポリエステルフィルムとは、押出口金から溶融押出される、いわゆる押出法により押し出した溶融ポリエステルシートを冷却した後、必要に応じ、延伸したフィルムである。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
In the present invention, the polyester film is a film that is melt-extruded from an extrusion die, and is stretched as necessary after cooling a molten polyester sheet extruded by a so-called extrusion method.

本発明のフィルムを構成するポリエステルとは、ジカルボン酸と、ジオールとからあるいはヒドロキシカルボン酸とから重縮合によって得られるエステル基を含むポリマーを指す。ジカルボン酸としては、テレフタル酸、イソフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸等を、ジオールとしては、エチレングリコール、1,4−ブタンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、ポリエチレングリコール等を、ヒドロキシカルボン酸としては、p−ヒドロキシ安息香酸、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸等をそれぞれ例示することができる。その製法としては、例えば、芳香族ジカルボン酸の低級アルキルエステルとグリコールとの間でエステル交換反応をさせるか、あるいは芳香族ジカルボン酸とグリコールとを直接エステル化させるかして、実質的に芳香族ジカルボン酸のビスグリコールエステル、またはその低重合体を形成させ、次いでこれを減圧下、加熱して 重縮合させる方法が採用される。   The polyester constituting the film of the present invention refers to a polymer containing an ester group obtained by polycondensation from a dicarboxylic acid and a diol or from a hydroxycarboxylic acid. Examples of the dicarboxylic acid include terephthalic acid, isophthalic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, and the diol includes ethylene glycol and 1,4-butane. Examples include diol, diethylene glycol, triethylene glycol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol, polyethylene glycol and the like, and examples of hydroxycarboxylic acid include p-hydroxybenzoic acid and 6-hydroxy-2-naphthoic acid. be able to. As the production method, for example, a transesterification reaction is carried out between a lower alkyl ester of an aromatic dicarboxylic acid and a glycol, or an aromatic dicarboxylic acid and a glycol are directly esterified to form a substantially aromatic compound. A method is employed in which a bisglycol ester of a dicarboxylic acid or a low polymer thereof is formed and then polycondensed by heating under reduced pressure.

かかるポリマーの代表的なものとして、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレン−2、6−ナフタレート等が例示される。これらのポリマーはホモポリマーであってもよく、また第3成分を共重合させたものでもよい。   Typical examples of such a polymer include polyethylene terephthalate and polyethylene-2,6-naphthalate. These polymers may be homopolymers or may be a copolymer of the third component.

前記縮重合反応に使用する触媒としてはチタン化合物が好ましい。重合触媒としてチタン化合物以外にゲルマニウム化合物やアンチモン化合物が挙げられるが、ゲルマニウム化合物は非常に高価であり汎用的に使うことができず、またアンチモン化合物はアンチモン元素含有量としてポリエステルフィルム中に10ppm以下である必要があり、好ましくはアンチモン元素がないことである。   The catalyst used for the condensation polymerization reaction is preferably a titanium compound. In addition to titanium compounds, germanium compounds and antimony compounds can be used as polymerization catalysts. However, germanium compounds are very expensive and cannot be used for general purposes. It must be present, preferably no antimony element.

アンチモン化合物が10ppmより多いと金属アンチモン粒子が凝集しやすく、異物となって紫外線を高精細な回路パターンを形成する際、紫外線の透過を遮蔽し、回路パターンに欠陥をもたらす。   If the amount of antimony compound is more than 10 ppm, the metal antimony particles are likely to aggregate, and when forming a high-definition circuit pattern with ultraviolet rays, the transmission of the ultraviolet rays is blocked, resulting in defects in the circuit pattern.

本発明のポリエステルフィルムの中には、チタン化合物およびリン化合物の双方を含有する必要がある。本発明のフィルムのチタン元素含有量は20ppm以下である必要があり、好ましくは1〜10ppm、さらに好ましくは1〜2ppmである。チタン化合物の含有量が多すぎるとポリエステルを溶融押出する工程でオリゴマーが副生成し、低オリゴマーで高度な透明性を有するフィルムを得ることができなく、フォトマスク保護テープとして製造工程においても、離型層や粘着層を塗工した時に表面オリゴマーが生成し、フォトマスク保護テープとして弊害が生じる。また、チタン元素を全く含まない場合、ポリエステル原料製造時の生産性が劣り、目的の重合度に達したポリエステル原料を得られない。一方、リン元素量は1〜300ppmであることが必要であり、好ましくは5〜200ppm、さらに好ましくは5〜100ppmである。上記したチタン化合物を特定量含有するとともに、リン化合物を含有させることにより、含有オリゴマーの低減に対して著しい効果を発揮できる。リン化合物の含有量が多すぎると、ゲル化が起こり、異物となってフィルムの品質を低下させる原因となることがある。本発明においては、チタン化合物、リン化合物を上記した範囲で含有する場合、オリゴマーの副生成も防止できる。   The polyester film of the present invention needs to contain both a titanium compound and a phosphorus compound. The titanium element content of the film of the present invention needs to be 20 ppm or less, preferably 1 to 10 ppm, more preferably 1 to 2 ppm. If the content of the titanium compound is too large, oligomers are by-produced in the process of melt-extrusion of the polyester, and it is not possible to obtain a low-oligomer and highly transparent film. When a mold layer or an adhesive layer is applied, a surface oligomer is formed, which causes a harmful effect as a photomask protective tape. Further, when no titanium element is contained, the productivity at the time of production of the polyester raw material is inferior, and the polyester raw material reaching the target degree of polymerization cannot be obtained. On the other hand, the amount of phosphorus element needs to be 1 to 300 ppm, preferably 5 to 200 ppm, and more preferably 5 to 100 ppm. By containing a specific amount of the above-described titanium compound and containing a phosphorus compound, it is possible to exert a remarkable effect on the reduction of the contained oligomer. When there is too much content of a phosphorus compound, gelatinization will occur and it may become a foreign material and cause the quality of a film to fall. In this invention, when a titanium compound and a phosphorus compound are contained in the above-mentioned range, the by-product of an oligomer can also be prevented.

本発明におけるポリエステルフィルムには、 微粒子を含有させる事が、フィルムの巻上げ工程、塗工工程、蒸着工程等での作業性を向上させる上で望ましい。 この微粒子としてはシリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、リン酸リチウム、リン酸マグネシウム、リン酸カルシウム、フッ化リチウム、酸化アルミニウム、カオリン等の無機粒子やアクリル樹脂、グアナミン樹脂等の有機粒子や触媒残差を粒子化させた析出粒子を挙げる事ができるが、これらに限定されるものではない。 これら粒子の中では、一時粒子の凝集粒子である多孔質シリカ粒子が特に好ましい。多孔質シリカ粒子はフィルムの延伸時に粒子周辺にボイドが発生しにくいため、フィルムの透明性を向上させる特長を有する。   In order to improve workability in the film winding process, coating process, vapor deposition process, etc., it is desirable that the polyester film in the present invention contains fine particles. The fine particles include inorganic particles such as silica, calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium sulfate, barium sulfate, lithium phosphate, magnesium phosphate, calcium phosphate, lithium fluoride, aluminum oxide, and kaolin, and organic particles such as acrylic resin and guanamine resin. In addition, there can be mentioned, but not limited to, precipitated particles in which the catalyst residual is made into particles. Among these particles, porous silica particles that are aggregate particles of temporary particles are particularly preferable. Since the porous silica particles are less likely to generate voids around the film when the film is stretched, the porous silica particles have the feature of improving the transparency of the film.

この多孔質シリカ粒子を構成する一次粒子の平均粒径は0.001〜0.1μmの範囲のあることが好ましい。一次粒子の平均粒径が0.001μm未満ではスラリー段階で解砕により極微細粒子が生成し、これが凝集体を形成して、透明性低下の原因となることがある。一方、一次粒子の平均粒径が0.1μmを超えると、粒子の多孔性が失われ、その結果、ボイド発生が少ない特長が失われるおそれがある。   The average particle diameter of primary particles constituting the porous silica particles is preferably in the range of 0.001 to 0.1 μm. If the average particle size of the primary particles is less than 0.001 μm, ultrafine particles are generated by crushing at the slurry stage, which may form an aggregate and cause a decrease in transparency. On the other hand, when the average particle size of the primary particles exceeds 0.1 μm, the porosity of the particles is lost, and as a result, there is a possibility that the feature with less generation of voids may be lost.

さらに、凝集粒子の細孔容積は、通常0.5〜2.0ml/g、好ましくは0.6〜1.8ml/gの範囲であることが好ましい。細孔容積が0.5ml/g未満では、粒子の多孔性が失われ、ボイドが発生しやすくなる傾向があり、フィルムの透明性が低下する場合がある。他方、細孔容積が2.0ml/gより大きいと、解砕、凝集が起こりやすく、粒径の調整を行うことが困難となる場合がある。   Furthermore, the pore volume of the aggregated particles is usually in the range of 0.5 to 2.0 ml / g, preferably 0.6 to 1.8 ml / g. When the pore volume is less than 0.5 ml / g, the porosity of the particles is lost, and voids tend to be generated, and the transparency of the film may be lowered. On the other hand, if the pore volume is larger than 2.0 ml / g, crushing and aggregation are likely to occur, and it may be difficult to adjust the particle size.

前記多孔質シリカ粒子の平均粒径は、0.1μm以上5.0μm未満の範囲内であることが好ましく、さらには0.5μm以上、4.0μm以下であることが好ましい。添加量は、100ppm以上2000ppm未満、さらには200ppm以上1500ppm以下の範囲内であることが好ましい。平均粒径が0.1μm以下では、フィルムの作業性すなわち滑り性を得るために添加量を多くせねばならず、透明性が損なわれるおそれがある。平均粒径が5.0μmを超えると、解像度が低下することがあり、回路を形成する導体の縁辺が直線的にならず、ギザギザになりやすい。添加量が100ppm未満では、滑り性付与に効果が乏しくなる傾向があり、2000ppm以上になると透明性が損なわれるおそれがある。   The average particle diameter of the porous silica particles is preferably in the range of 0.1 μm or more and less than 5.0 μm, and more preferably 0.5 μm or more and 4.0 μm or less. The addition amount is preferably in the range of 100 ppm or more and less than 2000 ppm, more preferably 200 ppm or more and 1500 ppm or less. When the average particle size is 0.1 μm or less, the addition amount must be increased in order to obtain the workability of the film, that is, the slipperiness, and the transparency may be impaired. When the average particle diameter exceeds 5.0 μm, the resolution may be lowered, and the edge of the conductor forming the circuit is not linear and is likely to be jagged. If the amount added is less than 100 ppm, the effect of imparting slipperiness tends to be poor, and if it exceeds 2000 ppm, the transparency may be impaired.

本発明におけるポリエステルに粒子を添加する方法としては、特に限定されるものではなく、公知の方法を採用し得る。例えば、ポリエステルを製造する任意の段階において添加することができるが、好ましくはエステル化の段階、もしくはエステル交換反応終了後重縮合反応開始前の段階でエチレングリコール等に分散させたスラリーとして添加し重縮合反応を進めてもよい。また、ベント付き混練押出機を用い、エチレングリコールまたは水などに分散させた粒子のスラリーとポリエステル原料とをブレンドする方法、または、混練押出機を用い、乾燥させた粒子とポリエステル原料とをブレンドする方法などによって行われる。   The method for adding particles to the polyester in the present invention is not particularly limited, and a known method can be adopted. For example, it can be added at any stage for producing the polyester, but it is preferably added as a slurry dispersed in ethylene glycol or the like at the stage of esterification or before the start of the polycondensation reaction after completion of the transesterification reaction. The condensation reaction may proceed. Also, a method of blending a slurry of particles dispersed in ethylene glycol or water with a vented kneading extruder and a polyester raw material, or a blending of dried particles and a polyester raw material using a kneading extruder. It is done by methods.

本発明で使用するポリエステルの極限粘度は、通常0.40〜0.90dl/g、好ましくは0.45〜0.80dl/g、さらに好ましくは0.50〜0.75dl/gである。極限粘度が0.40dl/g未満では、フィルムの機械的強度が弱くなる傾向があり、極限粘度が0.90を超える場合は、溶融粘度が高くなり、押出機に負荷がかかったり、製造コストがかかったりする。   The intrinsic viscosity of the polyester used in the present invention is usually 0.40 to 0.90 dl / g, preferably 0.45 to 0.80 dl / g, and more preferably 0.50 to 0.75 dl / g. When the intrinsic viscosity is less than 0.40 dl / g, the mechanical strength of the film tends to be weakened. When the intrinsic viscosity exceeds 0.90, the melt viscosity becomes high and the extruder is loaded, and the manufacturing cost is increased. It takes.

本発明におけるポリエステルフィルムは上記したポリエステル原料をエクストルーダーに代表される周知の溶融押出装置に供給し、当該ポリマーの融点以上の温度に加熱し溶融する。次いでスリット状のダイより溶融ポリマーを押出しながら、回転冷却ドラム状でガラス転移温度以下の温度になるよう急冷固化し、実質的に非晶状態の未配向シートを得る。このシートを2軸方向に延伸してフィルム化し、熱固定を施すことで得られる。この場合、延伸方法は逐次2軸延伸でも同時2軸延伸でもよい。また、必要に応じ、熱固定を施す前または後に再度縦および/または横方向に延伸してもよい。本発明においては十分な寸法安定性を得るため延伸倍率を面積倍率として8倍以上が好ましく、さらに好ましくは10倍以上である。   The polyester film in the present invention is melted by supplying the above-described polyester raw material to a known melt-extrusion apparatus represented by an extruder, and heating to a temperature equal to or higher than the melting point of the polymer. Next, while extruding the molten polymer from the slit-shaped die, it is rapidly cooled and solidified so that it is in the form of a rotary cooling drum or lower than the glass transition temperature to obtain a substantially amorphous unoriented sheet. This sheet is obtained by stretching in a biaxial direction to form a film and heat-setting. In this case, the stretching method may be sequential biaxial stretching or simultaneous biaxial stretching. Moreover, you may extend | stretch longitudinally and / or a horizontal direction again before or after performing heat setting as needed. In the present invention, in order to obtain sufficient dimensional stability, the draw ratio is preferably 8 times or more, more preferably 10 times or more, as the area ratio.

本発明において、帯電防止性というのは、例えば、表面の固有抵抗が1.0×1013Ω/□以下であることを示し、好ましくは1.0×1012Ω/□以下である。1.0×1013Ω/□を超えると、剥離帯電を制御することが困難であり、フォトマスク保護テープをレジスト層から剥離する際、剥離帯電により保護テープ表面が帯電し、ゴミやほこりが付着し、再度レジストに粘着させて、紫外線を露光したときに紫外線の透過を遮蔽し、回路パターンに欠陥をもたらす。 In the present invention, the antistatic property indicates, for example, that the surface specific resistance is 1.0 × 10 13 Ω / □ or less, and preferably 1.0 × 10 12 Ω / □ or less. If it exceeds 1.0 × 10 13 Ω / □, it is difficult to control the peeling charge. When the photomask protective tape is peeled from the resist layer, the surface of the protective tape is charged by the peeling charge, and dust and dust are generated. It adheres and adheres to the resist again, and when UV light is exposed to light, the UV light transmission is shielded, resulting in a defect in the circuit pattern.

本発明において帯電防止性を付与する方法としては、特に制約はないが、フィルムに帯電防止剤を配合する方法や、帯電防止剤を含有したコート層を設ける方法が挙げられる。
本発明で配合する帯電防止剤として、代表的なものとして、スルホン酸金属塩がある。
The method for imparting antistatic properties in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a method of adding an antistatic agent to the film and a method of providing a coating layer containing the antistatic agent.
A typical example of the antistatic agent blended in the present invention is a sulfonic acid metal salt.

なかでも、アルキルスルホン酸金属塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルスルホイソフタル酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩を挙げることができる。 金属塩の金属としては、リチウム、カリウム、ナトリウムが良い。 ここで、アルキル基としては、炭素数が8〜30の物が良い。炭素数が少ないとポリエステルとの相溶性が悪く、炭素数が多いと帯電防止能の効きが悪くなる。   Among these, metal alkyl sulfonates, alkyl benzene sulfonates, alkyl sulfoisophthalates, and alkyl naphthalene sulfonates can be exemplified. As the metal of the metal salt, lithium, potassium, and sodium are preferable. Here, as an alkyl group, a C8-C30 thing is good. When the number of carbon atoms is small, the compatibility with the polyester is poor, and when the number of carbon atoms is large, the effect of the antistatic ability is deteriorated.

帯電防止剤の配合量は、通常0.05〜10重量%、好ましくは、0.1〜5重量%である。配合量が少ないと帯電防止効果が少なく、多いとフィルムが滑りやすくなり、製膜性が悪くなる傾向がある。実際に使う際には、炭素数が異なる化合物の混合物を用いることが多い。また、配合に際しては、分散性を良くするために、ポリエチレングリコールやスチレンオリゴマーを配合しても良い。   The blending amount of the antistatic agent is usually 0.05 to 10% by weight, preferably 0.1 to 5% by weight. When the blending amount is small, the antistatic effect is small, and when the blending amount is large, the film tends to slip and the film forming property tends to be poor. In actual use, a mixture of compounds having different carbon numbers is often used. Further, when blending, polyethylene glycol or styrene oligomer may be blended in order to improve dispersibility.

本発明でコートする帯電防止剤としては、上記のスルホン酸塩やアルキル硫酸エステル塩および、カチオン系の化合物がある。 中でも、接着性が向上する帯電防止層をコートすることが好ましい。   Examples of the antistatic agent to be coated in the present invention include the sulfonates and alkyl sulfates described above and cationic compounds. Especially, it is preferable to coat the antistatic layer which improves adhesiveness.

本発明で使うスルホン酸塩やアルキル硫酸エステル塩のアルキル基としては、炭素数が8〜30が好ましい。炭素数が少ないと塗布する樹脂との相溶性が悪く、炭素数が多いと帯電防止能の効きが悪くなる傾向がある。   The alkyl group of the sulfonate or alkyl sulfate ester salt used in the present invention preferably has 8 to 30 carbon atoms. When the number of carbon atoms is small, the compatibility with the applied resin is poor, and when the number of carbon atoms is large, the effect of antistatic ability tends to be poor.

本発明で使うカチオン系帯電防止剤としては、例えば、4級アンモニウム塩基を有する化合物がある。これは、分子中の主鎖や側鎖に、4級アンモニウム塩基を含む構成要素を持つ化合物を指す。そのような構成要素としては例えば、ピロリジウム環、アルキルアミンの4級化物、さらにこれらをアクリル酸やメタクリル酸と共重合したもの、N−アルキルアミノアクリルアミドの4級化物、ビニルベンジルトリメチルアンモニウム塩、2−ヒドロキシ3−メタクリルオキシプロピルトリメチルアンモニウム塩等を挙げることができる。さらに、これらを組み合わせて、あるいは他の樹脂と共重合させても構わない。また、これらの4級アンモニウム塩の対イオンとなるアニオンとしては例えば、ハロゲン、アルキルサルフェート、アルキルスルホネート、硝酸等のイオンが挙げられる。   Examples of the cationic antistatic agent used in the present invention include compounds having a quaternary ammonium base. This refers to a compound having a component containing a quaternary ammonium base in the main chain or side chain in the molecule. Examples of such constituents include pyrrolidinium ring, quaternized alkylamine, copolymerized with acrylic acid or methacrylic acid, quaternized N-alkylaminoacrylamide, vinylbenzyltrimethylammonium salt, 2 -Hydroxy 3-methacryloxypropyltrimethylammonium salt etc. can be mentioned. Further, these may be combined or copolymerized with other resins. In addition, examples of anions that serve as counter ions for these quaternary ammonium salts include ions such as halogen, alkyl sulfate, alkyl sulfonate, and nitric acid.

また本発明においては、4級アンモニウム塩基を有する化合物は高分子化合物であることが望ましい。 数平均分子量が、通常は1000以上、さらには2000以上、特に5000以上、500000以下であることが望ましい。分子量が低すぎる場合は、帯電防止剤がブリードアウトし、接触する面に転移するトラブルを発生させることがある。分子量が高すぎる場合は、塗布液の粘度が高くなりすぎ、塗布性が悪くなるトラブルが発生するおそれがある。   In the present invention, the compound having a quaternary ammonium base is preferably a polymer compound. The number average molecular weight is usually 1000 or more, further 2000 or more, particularly 5000 or more and 500000 or less. If the molecular weight is too low, the antistatic agent may bleed out and cause troubles that transfer to the contacting surface. If the molecular weight is too high, the viscosity of the coating solution becomes too high, which may cause a problem that the coating property is deteriorated.

帯電防止層の厚さは乾燥厚さで、通常0.003〜1.5μm、好ましくは0.005〜0.5μmである。帯電防止層の厚さが0.003μm未満の場合は、十分な性能が得られない恐れがあり、1.5μmを超えるとフィルム同士のブロッキングが起こりやすくなる傾向がある。   The thickness of the antistatic layer is a dry thickness, and is usually 0.003 to 1.5 μm, preferably 0.005 to 0.5 μm. When the thickness of the antistatic layer is less than 0.003 μm, sufficient performance may not be obtained, and when it exceeds 1.5 μm, blocking between the films tends to occur.

ポリエステルフィルムに帯電防止層を設ける方法は、二軸延伸フィルムに従来技術でコートしてもよく、また、ポリエステルフィルムを製造する工程中で、従来技術でコートしてもよい。例えば、逐次二軸延伸法においては、縦一軸延伸後のフィルムに帯電防止剤を含む水分散体をコートした後、横に延伸し、その後、熱熱処理する方法、または、二軸延伸フィルム後にコートし乾燥する方法がある。方法に制約はないが、一軸延伸フィルムにコートし、次いで横延伸し、熱処理する方法は、コート層を均一に薄くできる等の特徴があり好ましい。   As a method of providing an antistatic layer on a polyester film, a biaxially stretched film may be coated by a conventional technique, or may be coated by a conventional technique in the process of producing a polyester film. For example, in the sequential biaxial stretching method, the film after longitudinal uniaxial stretching is coated with an aqueous dispersion containing an antistatic agent, then stretched laterally, and then thermally treated, or coated after the biaxially stretched film. Then there is a way to dry. Although the method is not limited, the method of coating a uniaxially stretched film, then laterally stretching, and heat-treating is preferable because it has a feature that the coat layer can be uniformly thinned.

ポリエステルフィルムに帯電防止剤をコートする方法としては、例えば、原崎勇次著、槙書店、1979年発行、「コーティング方式」に示されるような塗布技術を用いることができる。具体的には、エアドクターコーター、ブレードコーター、ロッドコーター、ナイフコーター、スクイズコーター、含浸コーター、リバースロールコーター、トランスファロールコーター、グラビアコーター、キスロールコーター、キャストコーター、スプレイコーター、カーテンコーター、カレンダコーター、押出コーター、バーコーター等のような技術が挙げられる。   As a method of coating the polyester film with an antistatic agent, for example, a coating technique as shown in “Coating system” published by Yuji Harasaki, Tsuji Shoten, published in 1979 can be used. Specifically, air doctor coater, blade coater, rod coater, knife coater, squeeze coater, impregnation coater, reverse roll coater, transfer roll coater, gravure coater, kiss roll coater, cast coater, spray coater, curtain coater, calendar coater And techniques such as an extrusion coater and a bar coater.

本発明のフィルムの厚みは3〜25μm、好ましくは4〜16μm、さらに好ましくは4〜12μmである。厚みが25μmを超えると露光時に光が散乱し解像度が低下し、厚みが3μm未満であると保護テープ作成時の取り扱いが困難になり作業性が悪化したり、剥離時に破断したりすることがある。   The thickness of the film of the present invention is 3 to 25 μm, preferably 4 to 16 μm, and more preferably 4 to 12 μm. If the thickness exceeds 25 μm, light is scattered during exposure to lower the resolution, and if the thickness is less than 3 μm, handling at the time of preparing the protective tape becomes difficult and workability may be deteriorated or the film may be broken at the time of peeling. .

本発明のポリエステルフィルムの波長365nmの紫外線透過率は70%以上であり、好ましくは75%以上である。紫外線透過率が70%未満であると、レジスト層の露光、硬化工程が円滑に完了しないことがある。   The polyester film of the present invention has an ultraviolet transmittance at a wavelength of 365 nm of 70% or more, preferably 75% or more. If the ultraviolet transmittance is less than 70%, the resist layer exposure and curing steps may not be completed smoothly.

本発明のポリエステルフィルムは150℃で測定した時の縦方向の熱収縮率が1.0〜5.0%であることが好ましい。縦方向の熱収縮率を1.0%未満に抑えると、フィルムの平面性が悪化することがあり、また透明性が低下することがあり、本発明のポリエステルフィルムをフォトマスク保護テープ用に使用した際に、製造工程で不具合が生じたり、レジスト層の露光、硬化工程が円滑に完了しないことがあったりする。また、縦方向の熱収縮率が5.0%を超えると、各工程での熱や溶剤によって収縮変形を生じやすくなる場合がある。   The polyester film of the present invention preferably has a longitudinal heat shrinkage of 1.0 to 5.0% when measured at 150 ° C. If the thermal contraction rate in the vertical direction is suppressed to less than 1.0%, the flatness of the film may be deteriorated and the transparency may be deteriorated. The polyester film of the present invention is used for a photomask protective tape. In this case, problems may occur in the manufacturing process, and the exposure and curing processes of the resist layer may not be completed smoothly. On the other hand, if the thermal shrinkage rate in the vertical direction exceeds 5.0%, shrinkage deformation may easily occur due to heat and solvent in each step.

本発明のポリエステルフィルムの表面粗度は5〜100nmが好ましく、さらに好ましくは10〜80nmである。表面粗度が100nmを超えると、フォトマスク保護テープをレジスト層と密着させる時に気泡が入り、露光時に光が散乱し解像度が低下することがある。表面粗度が5nm未満であると、保護テープ作成時の取り扱いが困難になル場合がある。   The surface roughness of the polyester film of the present invention is preferably 5 to 100 nm, more preferably 10 to 80 nm. If the surface roughness exceeds 100 nm, bubbles may enter when the photomask protective tape is brought into close contact with the resist layer, and light may be scattered during exposure to lower the resolution. If the surface roughness is less than 5 nm, it may be difficult to handle the protective tape when it is produced.

本発明のポリエステルフィルムの長手方向の引張破断強度は150MPa以上が好ましく、さらに好ましくは200MPa以上である。長手方向の引張破断強度が150MPa未満では、保護テープを使用するときに破断する恐れがある。   The tensile breaking strength in the longitudinal direction of the polyester film of the present invention is preferably 150 MPa or more, more preferably 200 MPa or more. If the tensile strength at break in the longitudinal direction is less than 150 MPa, the protective tape may break when used.

本発明の液状レジストフォトマスク保護粘着テープ用ポリエステルフィルムは、内部異物やオリゴマー、帯電により付着異物の発生を防止し、液状レジストフォトマスク保護テープとして高精細な回路パターンに形成に使用することができ、本発明の工業的価値は高い。   The polyester film for the liquid resist photomask protective adhesive tape of the present invention prevents the generation of adhering foreign matters due to internal foreign matter, oligomers, and electrification, and can be used for forming a high-definition circuit pattern as a liquid resist photomask protective tape. The industrial value of the present invention is high.

以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、実施例および比較例における評価方法やサンプルの処理方法は下記のとおりである。また、実施例および比較例中の「部」は「重量部」を示す。   EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist of the present invention. In addition, the evaluation method and the processing method of a sample in an Example and a comparative example are as follows. Further, “parts” in Examples and Comparative Examples represents “parts by weight”.

(1)ポリエステルの極限粘度の測定方法
ポリエステルに非相溶な他のポリマー成分および顔料を除去したポリエステル1gを精秤し、フェノール/テトラクロロエタン=50/50(重量比)の混合溶媒100mmlを加えて溶解させ、30℃で測定した。
(1) Measuring method of intrinsic viscosity of polyester 1 g of polyester from which other polymer components and pigments incompatible with polyester have been removed are precisely weighed, and 100 ml of a mixed solvent of phenol / tetrachloroethane = 50/50 (weight ratio) is added. And dissolved at 30 ° C.

(2)平均粒径(d50)
(株)島津製作所社製遠心沈降式粒度分布測定装置SA−CP3型を用いてスト−クスの抵抗値にもとづく沈降法によって粒子の大きさを測定した。
(2) Average particle diameter (d50)
The particle size was measured by a sedimentation method based on the resistance value of the stock using a centrifugal sedimentation type particle size distribution analyzer SA-CP3 manufactured by Shimadzu Corporation.

(3)ポリエステルフィルム層中のオリゴマー(環状三量体)含有量
所定量のポリエステル層をクロロホルム/1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール(混合比:3/2)混合溶液に溶解した後、クロロホルム/メタノール(混合比:2/1)で再析出して濾過し、線状ポリエチレンテレフタレートを除いた後、次いで得られた濾液中の溶媒を、エバポレータを用いて蒸発させ、得られた析出物を所定量のDMFに溶解させた。得られたDMFを、液体クロマトグラフィー(島津LC−7A)に供給してポリエステル中に含まれるオリゴマー(環状三量体)量を求め、この値を測定に用いたポリエステル量で割って、ポリエステルフィルム中に含まれるオリゴマー(環状三量体)量とした。液体クロマトグラフィーで求めるオリゴマー(環状三量体)量は、標準試料ピーク面積と測定試料ピーク面積のピーク面積比より求めた(絶対検量線法)。
標準試料の作成は、予め分取したオリゴマー(環状三量体)を秤量し、秤量したDMF(ジメチルホルムアミド)に溶解して作成した。なお、液体クロマトグラフの条件は下記のとおりとした。
(3) Oligomer (cyclic trimer) content in polyester film layer A predetermined amount of polyester layer is mixed with chloroform / 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol (mixing ratio: 3/2). ) After dissolving in the mixed solution, reprecipitated with chloroform / methanol (mixing ratio: 2/1) and filtered to remove linear polyethylene terephthalate. Then, the solvent in the obtained filtrate was removed using an evaporator. After evaporation, the resulting precipitate was dissolved in a predetermined amount of DMF. The obtained DMF was supplied to liquid chromatography (Shimadzu LC-7A) to determine the amount of oligomer (cyclic trimer) contained in the polyester, and this value was divided by the amount of polyester used for measurement to obtain a polyester film. The amount of oligomer (cyclic trimer) contained therein. The amount of oligomer (cyclic trimer) determined by liquid chromatography was determined from the peak area ratio between the standard sample peak area and the measured sample peak area (absolute calibration curve method).
The standard sample was prepared by weighing a preliminarily collected oligomer (cyclic trimer) and dissolving it in a weighed DMF (dimethylformamide). The conditions for the liquid chromatograph were as follows.

移動相A:アセトニトリル
移動相B:2%酢酸水溶液
カラム:三菱化学(株)製 MCI GEL ODS 1HU
カラム温度:40℃
流速:1ml/分
検出波長:254nm
Mobile phase A: Acetonitrile Mobile phase B: 2% acetic acid aqueous solution Column: MCI GEL ODS 1HU manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation
Column temperature: 40 ° C
Flow rate: 1 ml / min Detection wavelength: 254 nm

(4)溶剤処理後のフィルム表面オリゴマー量
ポリエステルフィルム表面にメチルエチルケトンを塗布し、窒素雰囲気下、120℃の熱風循環オーブンにて1分間乾燥した後、このフィルムを窒素雰囲気下、180℃の熱風循環オーブンにてポリエステルフィルムを10分間処理した。熱処理後のポリエステルフィルムの表面をDMFと3分間接触させ、表面に析出したオリゴマーを溶解させた。かかる操作は、例えばポリオレフィン等合成樹脂製食品容器包装等に関する自主基準において、溶出試験の中の片面溶出法に用いる溶出用器具に記載されている方法が採用できる。次いで得られたDMFを必要に応じて希釈等の方法で濃度を調整し、液体クロマトグラフィー(島津LC−7A)に供給してDMF中のオリゴマー量を求め、この値を、DMFを接触させたフィルム面積で割って、フィルム表面オリゴマー量(mg/m)とした。DMF中のオリゴマー量は、標準試料ピーク面積と測定試料ピーク面積のピーク面積比より求めた(絶対検量線法)。
(4) Amount of oligomer on film surface after solvent treatment After applying methyl ethyl ketone to the polyester film surface and drying in a hot air circulation oven at 120 ° C for 1 minute in a nitrogen atmosphere, this film was circulated in a hot air at 180 ° C in a nitrogen atmosphere. The polyester film was treated for 10 minutes in an oven. The surface of the polyester film after heat treatment was brought into contact with DMF for 3 minutes to dissolve the oligomer deposited on the surface. For this operation, for example, the method described in the elution apparatus used for the single-side elution method in the elution test can be adopted in the voluntary standard for food containers and packaging made of synthetic resin such as polyolefin. Next, the concentration of the obtained DMF was adjusted by a method such as dilution as necessary, and the resulting DMF was supplied to liquid chromatography (Shimadzu LC-7A) to determine the amount of oligomer in DMF, and this value was contacted with DMF. Divided by the film area, the amount of oligomer on the film surface (mg / m 2 ) was obtained. The amount of oligomer in DMF was determined from the peak area ratio between the standard sample peak area and the measured sample peak area (absolute calibration curve method).

標準試料の作成は、予め分取したオリゴマー(環状三量体)を秤量し、秤量したDMF(ジメチルホルムアミド)に溶解して作成した。標準試料の濃度は、0.001〜0.01mg/mlの範囲が好ましい。液体クロマトグラフの条件は下記のとおりとした。   The standard sample was prepared by weighing a pre-sorted oligomer (cyclic trimer) and dissolving it in a weighed DMF (dimethylformamide). The concentration of the standard sample is preferably in the range of 0.001 to 0.01 mg / ml. The conditions of the liquid chromatograph were as follows.

移動相A:アセトニトリル
移動相B:2%酢酸水溶液
カラム:三菱化学(株)製 MCI GEL ODS 1HU
カラム温度:40℃
流速:1ml/分
検出波長:254nm
Mobile phase A: Acetonitrile Mobile phase B: 2% acetic acid aqueous solution Column: MCI GEL ODS 1HU manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation
Column temperature: 40 ° C
Flow rate: 1 ml / min Detection wavelength: 254 nm

(5)フィルム中金属元素およびリン元素量の定量
蛍光X線分析装置((株)島津製作所社製型式「XRF−1500」を用いて、下記表1に示す条件下で、フィルムをFP法により単枚測定でフィルム中の元素量を求めた。なお、本方法での検出限界は、通常1ppm程度である。
(5) Quantification of amount of metal element and phosphorus element in film Using a fluorescent X-ray analyzer (model “XRF-1500” manufactured by Shimadzu Corporation), the film was subjected to FP method under the conditions shown in Table 1 below. The amount of elements in the film was determined by single-sheet measurement, and the detection limit in this method is usually about 1 ppm.

Figure 2008251920
Figure 2008251920

(6)フィルム内部異物の測定方法;
クラス1000のクリーンルームにてA4版サイズのフィルムをヤチヨ・コーポレーション社製FPT−80型異物検知器にて10μm以上の内部異物を測定した。
(6) Measuring method of foreign matter inside the film;
In a Class 1000 clean room, an A4 size film was measured for internal foreign matters of 10 μm or more with an FPT-80 type foreign matter detector manufactured by Yachiyo Corporation.

(7)フィルム厚みの測定方法;
フィルムを10枚重ねてマイクロメータ法にて厚さを測定し10で除して平均値を求めフィルム厚みとした。
(7) Method for measuring film thickness;
Ten films were stacked and the thickness was measured by a micrometer method and divided by 10 to obtain an average value to obtain the film thickness.

(8)フィルムの紫外線透過率の測定方法;
日本分光製可視紫外分光光度計UVIDEC−670を用いて波長365nmの紫外線透過率を測定した。
(8) Method for measuring ultraviolet transmittance of film;
The ultraviolet transmittance at a wavelength of 365 nm was measured using a visible ultraviolet spectrophotometer UVIDEC-670 manufactured by JASCO.

(9)熱収縮率の測定方法;
フィルムを長さ方向および幅方向に35mm幅×1000mm長の短冊状にサンプルを切り出し無張力状態にて150℃に設定されたオーブン(タバイエスペック(株)製:熱風循環炉)中に15分間熱処理を行い、熱処理前後の長さを直尺により測定し、下記式にて熱収縮率を求めた。
熱収縮率(%)=[(a−b)/a]×100
(上記式中、aは熱処理前のサンプルの長さ(mm)、bは熱処理後のサンプルの長さ(mm)を表す)
(9) Measurement method of heat shrinkage rate;
A film was cut into a strip of 35 mm width × 1000 mm length in the length direction and width direction, and the sample was cut out in an oven set at 150 ° C. in a non-tensioned state (Tabaie specs Co., Ltd .: hot air circulating furnace) for 15 minutes. The length before and after the heat treatment was measured with a straight scale, and the thermal shrinkage rate was obtained by the following formula.
Thermal contraction rate (%) = [(ab) / a] × 100
(In the above formula, a represents the length (mm) of the sample before heat treatment, and b represents the length (mm) of the sample after heat treatment)

(10)表面粗度の測定方法
小坂研究所製表面粗さ測定機SE3500を使用し、JIS−B−0601−1994の方法に準じて測定した。尚カットオフ値は80μmとして測定した。
(10) Measuring method of surface roughness It measured according to the method of JIS-B-0601-1994 using the surface roughness measuring machine SE3500 by Kosaka Laboratory. The cut-off value was measured as 80 μm.

(11)引張破断強度の測定方法;
インテスコ社製引張り試験機モデル2001型を用いて、温度23℃、湿度50%RHに調節された室内において長さ(チャック間)50mm、幅15mmの試料サンプルを200mm/分の歪み速度で引張り、フィルム破断時の荷重を測定し、下記式により引張破断速度を求めた。
引張破断強度(MPa)=切断時の荷重(N)/試料フィルムの断面積(mm
(11) Measuring method of tensile breaking strength;
Using an Intesco tensile tester model 2001, a sample sample having a length (between chucks) of 50 mm and a width of 15 mm was pulled at a strain rate of 200 mm / min in a room adjusted to a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% RH. The load at the time of film breakage was measured, and the tensile breakage rate was determined by the following formula.
Tensile strength at break (MPa) = Load during cutting (N) / Cross-sectional area of sample film (mm 2 )

(12)表面固有抵抗の測定方法
横河ヒューレットパッカード社製の内側電極50mm径、外側電極70mm径の同心円型電極である16008Aを23℃、50%RHの雰囲気下で試料に設置し、100Vの電圧を印加し、同社製の高抵抗計である4329Aで試料の体積固有抵抗を測定した。
(12) Measuring method of surface specific resistance A 16008A, which is a concentric electrode having an inner electrode 50 mm diameter and an outer electrode 70 mm diameter, manufactured by Yokogawa Hewlett-Packard Co., Ltd. was placed on a sample in an atmosphere of 23 ° C. and 50% RH. A voltage was applied, and the volume resistivity of the sample was measured with a 4329A high resistance meter manufactured by the same company.

実施例1:
<ポリエステル(A1)の製造>
テレフタル酸ジメチル100重量部とエチレングリコール60重量部とを出発原料とし、触媒としてテトラブトキシチタネートを加えて反応器にとり、反応開始温度を150℃とし、メタノールの留去とともに徐々に反応温度を上昇させ、3時間後に230℃とした。4時間後、実質的にエステル交換反応を終了させた。この反応混合物を重縮合槽に移し、平均粒子径2.5μmのシリカ粒子のエチレングリコールスラリーを、粒子のポリエステルに対する含有量が0.15重量%となるように添加し、4時間重縮合反応を行った。4時間後、実質的にエステル交換反応を終了させた。この反応混合物にエチルアシッドフォスフェートを添加した後、重縮合槽に移し、4時間重縮合反応を行った。すなわち、温度を230℃から徐々に昇温し280℃とした。一方、圧力は常圧より徐々に減じ、最終的には0.3mmHgとした。反応開始後、反応槽の攪拌動力の変化により、極限粘度0.55に相当する時点で反応を停止し、窒素加圧下ポリマーを吐出させ、ポリエステルのチップを得た。極限粘度は0.55であった。得られたポリエステルチップを220℃で固相重合し、極限粘度0.65のポリエステル(A1)を得た。
Example 1:
<Manufacture of polyester (A1)>
Using 100 parts by weight of dimethyl terephthalate and 60 parts by weight of ethylene glycol as starting materials, adding tetrabutoxy titanate as a catalyst to the reactor, setting the reaction start temperature to 150 ° C., and gradually increasing the reaction temperature as methanol is distilled off. After 3 hours, the temperature was 230 ° C. After 4 hours, the transesterification reaction was substantially terminated. This reaction mixture was transferred to a polycondensation tank, and an ethylene glycol slurry of silica particles having an average particle size of 2.5 μm was added so that the content of the particles with respect to the polyester would be 0.15% by weight, and a polycondensation reaction was performed for 4 hours. went. After 4 hours, the transesterification reaction was substantially terminated. Ethyl acid phosphate was added to the reaction mixture, which was then transferred to a polycondensation tank and subjected to a polycondensation reaction for 4 hours. That is, the temperature was gradually raised from 230 ° C. to 280 ° C. On the other hand, the pressure was gradually reduced from normal pressure, and finally 0.3 mmHg. After the start of the reaction, the reaction was stopped at a time corresponding to an intrinsic viscosity of 0.55 due to a change in stirring power of the reaction vessel, and the polymer was discharged under nitrogen pressure to obtain a polyester chip. The intrinsic viscosity was 0.55. The obtained polyester chip was subjected to solid phase polymerization at 220 ° C. to obtain polyester (A1) having an intrinsic viscosity of 0.65.

<ポリエステル(B1)の製造>
テレフタル酸ジメチル100重量部とエチレングリコール60重量部とを出発原料とし、触媒として酢酸マグネシウム・四水塩を加えて反応器にとり、反応開始温度を150℃とし、メタノールの留去とともに徐々に反応温度を上昇させ、3時間後に230℃とした。
4時間後、実質的にエステル交換反応を終了させた。この反応混合物を重縮合槽に移し、正リン酸を添加した後、4時間重縮合反応を行った。すなわち、温度を230℃から徐々に昇温し280℃とした。一方、圧力は常圧より徐々に減じ、最終的には0.3mmHgとした。反応開始後、反応槽の攪拌動力の変化により、極限粘度0.63に相当する時点で反応を停止し、窒素加圧下ポリマーを吐出させ、ポリエステル(B1)のチップを得た。ポリエステル(B1)の極限粘度は0.63であった。
<Manufacture of polyester (B1)>
Starting from 100 parts by weight of dimethyl terephthalate and 60 parts by weight of ethylene glycol, magnesium acetate / tetrahydrate is added as a catalyst to the reactor, the reaction start temperature is set to 150 ° C., and the reaction temperature is gradually increased as methanol is distilled off. Was raised to 230 ° C. after 3 hours.
After 4 hours, the transesterification reaction was substantially terminated. This reaction mixture was transferred to a polycondensation tank, and after adding normal phosphoric acid, a polycondensation reaction was performed for 4 hours. That is, the temperature was gradually raised from 230 ° C. to 280 ° C. On the other hand, the pressure was gradually reduced from normal pressure, and finally 0.3 mmHg. After the start of the reaction, the reaction was stopped at a time corresponding to an intrinsic viscosity of 0.63 due to a change in stirring power of the reaction vessel, and the polymer was discharged under nitrogen pressure to obtain a polyester (B1) chip. The intrinsic viscosity of the polyester (B1) was 0.63.

<フィルムの製造>
ポリエステル(A1)チップおよび、ポリエステル(B1)チップをそれぞれ95重量部、5重量部の割合でブレンドした原料を、ベント付き二軸押出機により、290℃で溶融押出し、静電印加密着法を用いて表面温度を40℃に設定した冷却ロール上で冷却固化して未延伸シートを得た。次いで、83℃で縦方向に3.8倍延伸した。この縦一軸延伸フィルムに、下記に記載のコート液Aをフィルムの両面に塗布した後、フィルムをテンターに導き、110℃で横方向に4.0倍延伸し、さらに225℃で熱処理を行い、厚さ6μmのポリエステルフィルムを得た。得られたフィルム中のオリゴマー量は0.60重量%、アンチモン、チタン、リン元素含有量は、それぞれ0ppm(検出下限値以下)、5ppm、50ppmであった。以下、各実施例、比較例にて得られたフィルム中のオリゴマー量、アンチモン、チタン、リン元素含有量および表面固有抵抗値は下記表2および表3にまとめて示す。
コート液A:下記の化合物の固形分が下記部数となるように水を媒体とするコート液を調整した。
<Manufacture of film>
A raw material in which the polyester (A1) chip and the polyester (B1) chip are blended at a ratio of 95 parts by weight and 5 parts by weight, respectively, is melt-extruded at 290 ° C. by a twin screw extruder with a vent, and an electrostatic application adhesion method is used. Then, it was cooled and solidified on a cooling roll whose surface temperature was set to 40 ° C. to obtain an unstretched sheet. Next, the film was stretched 3.8 times in the machine direction at 83 ° C. To this longitudinally uniaxially stretched film, after coating the coating liquid A described below on both sides of the film, the film was guided to a tenter, stretched 4.0 times in the transverse direction at 110 ° C, and further heat treated at 225 ° C, A polyester film having a thickness of 6 μm was obtained. The amount of oligomer in the obtained film was 0.60% by weight, and the contents of antimony, titanium, and phosphorus were 0 ppm (below the lower limit of detection), 5 ppm, and 50 ppm, respectively. Hereinafter, the oligomer amounts, antimony, titanium, phosphorus element contents and surface specific resistance values in the films obtained in each Example and Comparative Example are shown in Table 2 and Table 3 below.
Coating liquid A: A coating liquid containing water as a medium was prepared so that the solid content of the following compound was the following number of parts.

・帯電防止剤として、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド(平均分子量:約30000)が20部
・メチルメタクリレート/エチルアクリレート/メチロールアクリルアミド共重合体のノニオン水分散体(モノマー比率:47.5/47.5/5モル%)が60部
・架橋剤として、メトキシメチロールメラミンが20部
20 parts polydiallyldimethylammonium chloride (average molecular weight: about 30000) as an antistatic agent Nonionic water dispersion of methyl methacrylate / ethyl acrylate / methylol acrylamide copolymer (monomer ratio: 47.5 / 47.5 / 5 mol%) is 60 parts and 20 parts of methoxymethylolmelamine is used as a crosslinking agent.

実施例2:
コート液Aの代わりに下記の記載のコート液Bを使用した以外は実施例1と同様の方法でポリエステルフィルムを得た。
コート液B:下記の化合物の固形分が下記部数となるように水を媒体とするコート液を調整した。
・大日本インキ化学工業社製ポリウレタンであるハイドラン AP−40(商品名)が60部
・大日本インキ化学工業社製ポリエステルであるファインテックスES−670(商品名)が25部
・アルキルスルホン酸塩である花王社製の商品名ラテムルPSが5部
・架橋剤として、メトキシメチロールメラミンが10部
Example 2:
A polyester film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid B described below was used instead of the coating liquid A.
Coating liquid B: A coating liquid containing water as a medium was prepared so that the solid content of the following compound was the following number of parts.
・ 60 parts of Hydran AP-40 (trade name), a polyurethane manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. ・ 25 parts of Finetex ES-670 (trade name), a polyester manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. ・ Alkyl sulfonate 5 parts of the brand name Latemul PS manufactured by Kao Corporation and 10 parts of methoxymethylol melamine as the cross-linking agent

実施例3:
ポリエステル(A1)チップおよび、ポリエステル(B1)チップをそれぞれ94重量部、5重量部および炭素数14,15,16からなるアルキルスルホン酸ナトリウムを1重量部の割合でブレンドした原料を、ベント付き二軸押出機により、290℃で溶融押出し、静電印加密着法を用いて表面温度を40℃に設定した冷却ロール上で冷却固化して未延伸シートを得た。次いで、83℃で縦方向に3.8倍延伸しフィルムをテンターに導き、110℃で横方向に4.0倍延伸し、さらに225℃で熱処理を行い、厚さ6μmのポリエステルフィルムを得た。
Example 3:
A raw material obtained by blending polyester (A1) chip and polyester (B1) chip with 94 parts by weight, 5 parts by weight and 1 part by weight of sodium alkyl sulfonate consisting of 14, 15, and 16 carbon atoms, respectively, is provided with a vent. It melt-extruded at 290 degreeC with the axial extruder, and it solidified by cooling on the cooling roll which set the surface temperature to 40 degreeC using the electrostatic application adhesion method, and obtained the unstretched sheet. Subsequently, the film was stretched 3.8 times in the longitudinal direction at 83 ° C., led to a tenter, stretched 4.0 times in the transverse direction at 110 ° C., and further heat-treated at 225 ° C. to obtain a polyester film having a thickness of 6 μm. .

実施例4:
ポリエステル(B1)の製造において、正リン酸の添加量を変えた以外は、概製造法と同様の方法で極限粘度0.62のポリエステル(B2)チップを得た。実施例1において、使用したポリエステル(B1)チップの代わりに、ポリエステル(B2)チップを用いた以外は、実施例1と同様の方法でポリエステルフィルムを得た。
Example 4:
In the production of the polyester (B1), a polyester (B2) chip having an intrinsic viscosity of 0.62 was obtained in the same manner as in the general production method except that the addition amount of normal phosphoric acid was changed. In Example 1, a polyester film was obtained in the same manner as in Example 1 except that a polyester (B2) chip was used instead of the polyester (B1) chip used.

実施例5:
実施例1において、使用したポリエステル(A1)チップおよびポリエステル(B1)チップを95重量部、5重量部の割合でブレンドした原料の代わりに、ポリエステル(A1)チップのみを用いた以外は、実施例1と同様の方法でポリエステルフィルムを得た。
Example 5:
In Example 1, except that the polyester (A1) chip and the polyester (B1) chip were blended at a ratio of 95 parts by weight and 5 parts by weight, instead of the polyester (A1) chip alone, the example was used. A polyester film was obtained in the same manner as in 1.

実施例6:
ポリエステル(A1)の製造において、エチルアシッドフォスフェートの添加量を変えた以外は、概製造法と同様の方法で極限粘度0.64のポリエステル(A2)チップを得た。実施例3において、使用したポリエステル(A1)チップの代わりに、ポリエステル(A2)チップを用いた以外は、実施例1と同様の方法でポリエステルフィルムを得た。
Example 6:
In the production of polyester (A1), a polyester (A2) chip having an intrinsic viscosity of 0.64 was obtained in the same manner as in the general production method, except that the addition amount of ethyl acid phosphate was changed. In Example 3, a polyester film was obtained in the same manner as in Example 1 except that a polyester (A2) chip was used instead of the polyester (A1) chip used.

比較例1:
ポリエステル(A1)チップおよび、ポリエステル(B1)チップをそれぞれ95重量部、5重量部の割合でブレンドした原料を、ベント付き二軸押出機により、290℃で溶融押出し、静電印加密着法を用いて表面温度を40℃に設定した冷却ロール上で冷却固化して未延伸シートを得た。次いで、83℃で縦方向に3.8倍延伸し、フィルムをテンターに導き、110℃で横方向に4.0倍延伸し、さらに225℃で熱処理を行い、厚さ6μmのポリエステルフィルムを得た。
Comparative Example 1:
A raw material in which polyester (A1) chip and polyester (B1) chip are blended at a ratio of 95 parts by weight and 5 parts by weight, respectively, is melt-extruded at 290 ° C. by a twin screw extruder with a vent, and an electrostatic application adhesion method is used. Then, it was cooled and solidified on a cooling roll having a surface temperature set to 40 ° C. to obtain an unstretched sheet. Next, the film was stretched 3.8 times in the longitudinal direction at 83 ° C, the film was guided to a tenter, stretched 4.0 times in the lateral direction at 110 ° C, and further heat treated at 225 ° C to obtain a polyester film having a thickness of 6 µm. It was.

比較例2:
ポリエステル(B1)の製造において、正リン酸の添加量を変えた以外は、概製造法と同様の方法で極限粘度0.62のポリエステル(B3)チップを得た。実施例1において、使用したポリエスポリエステル(B1)チップの代わりに、ポリエステル(B2)チップを用いた以外は、実施例1と同様の方法でポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムにおいては、ゲル化物が原因と思われる異物が発生し、かつ溶剤処理後に大量の表面オリゴマーが発生し、フォトマスク保護テープ用途には適さないというレベルであった。
Comparative Example 2:
In the production of the polyester (B1), a polyester (B3) chip having an intrinsic viscosity of 0.62 was obtained in the same manner as in the general production method except that the addition amount of normal phosphoric acid was changed. In Example 1, a polyester film was obtained in the same manner as in Example 1 except that a polyester (B2) chip was used instead of the polyester polyester (B1) chip used. In the obtained film, the foreign material considered to be the cause of the gelled product was generated, and a large amount of surface oligomer was generated after the solvent treatment, which was not suitable for use as a photomask protective tape.

比較例3:
ポリエステルの製造において、テトラブトキシチタネートの添加量を変えた以外は、概製造法と同様の方法で極限粘度0.66のポリエステル(A3)チップを得た。実施例1において、使用したポリエステル(A1)チップの代わりに、ポリエステル(A3)チップを用いた以外は、実施例1と同様の方法でポリエステルフィルムを得た。
Comparative Example 3:
A polyester (A3) chip having an intrinsic viscosity of 0.66 was obtained in the same manner as in the general production method except that the amount of tetrabutoxy titanate was changed in the production of the polyester. In Example 1, a polyester film was obtained in the same manner as in Example 1 except that a polyester (A3) chip was used instead of the polyester (A1) chip used.

比較例4:
テレフタル酸ジメチル100重量部とエチレングリコール60重量部とを出発原料とし、触媒として酢酸マグネシウム四水塩を加えて反応器にとり、反応開始温度を150℃とし、メタノールの留去とともに徐々に反応温度を上昇させ、3時間後に230℃とした。4時間後、実質的にエステル交換反応を終了させた。この反応混合物にエチルアシッドフォスフェートを添加した後、重縮合槽に移し、平均粒子径2.5μmのシリカ粒子のエチレングリコールスラリーを、粒子のポリエステルに対する含有量が0.14重量%となるように添加し、三酸化アンチモンを加えて、4時間重縮合反応を行った。すなわち、温度を230℃から徐々に昇温し280℃とした。一方、圧力は常圧より徐々に減じ、最終的には0.3mmHgとした。反応開始後、反応槽の攪拌動力の変化により、極限粘度0.63に相当する時点で反応を停止し、窒素加圧下ポリマーを吐出させ、ポリエステルのチップを得た。この、ポリエステルの極限粘度は0.63であった。得られたポリエステルチップを真空下220℃で固相重合し、極限粘度0.67のポリエステル(C)を得た。ポリエステル(C)を、ベント付き二軸押出機により、290℃で溶融押出し、静電印加密着法を用いて表面温度を40℃に設定した冷却ロール上で冷却固化して未延伸シートを得た。次いで、83℃で縦方向に3.8倍延伸した後、テンターに導き、110℃で横方向に4.0倍延伸し、さらに225℃で熱処理を行い、厚さ6μmのポリエステルフィルムを得た。
Comparative Example 4:
Starting from 100 parts by weight of dimethyl terephthalate and 60 parts by weight of ethylene glycol, magnesium acetate tetrahydrate is added as a catalyst to the reactor, the reaction start temperature is 150 ° C., and the reaction temperature is gradually increased as methanol is distilled off. The temperature was raised to 230 ° C. after 3 hours. After 4 hours, the transesterification reaction was substantially terminated. After adding ethyl acid phosphate to the reaction mixture, the mixture was transferred to a polycondensation tank, and an ethylene glycol slurry of silica particles having an average particle diameter of 2.5 μm was added so that the content of the particles with respect to polyester was 0.14% by weight. Then, antimony trioxide was added and a polycondensation reaction was performed for 4 hours. That is, the temperature was gradually raised from 230 ° C. to 280 ° C. On the other hand, the pressure was gradually reduced from normal pressure, and finally 0.3 mmHg. After the start of the reaction, the reaction was stopped at a time corresponding to an intrinsic viscosity of 0.63 due to a change in stirring power of the reaction tank, and the polymer was discharged under nitrogen pressure to obtain a polyester chip. The intrinsic viscosity of this polyester was 0.63. The obtained polyester chip was subjected to solid phase polymerization at 220 ° C. under vacuum to obtain a polyester (C) having an intrinsic viscosity of 0.67. Polyester (C) was melt-extruded at 290 ° C with a vented twin-screw extruder, and cooled and solidified on a cooling roll having a surface temperature set to 40 ° C using an electrostatic application adhesion method to obtain an unstretched sheet. . Next, the film was stretched 3.8 times in the longitudinal direction at 83 ° C., then led to a tenter, stretched 4.0 times in the transverse direction at 110 ° C., and further heat-treated at 225 ° C. to obtain a polyester film having a thickness of 6 μm. .

Figure 2008251920
Figure 2008251920

Figure 2008251920
Figure 2008251920

本発明のフィルムは、例えば、液状レジストフォトマスク保護テープ用フィルムとして好適に利用することができる。   The film of the present invention can be suitably used, for example, as a film for a liquid resist photomask protective tape.

Claims (1)

下記式(1)および(2)を同時に満たす量のチタン化合物およびリン化合物を含み、かつアンチモン元素の含有量が10ppm以下の二軸配向ポリエステルフィルムであり、表面固有抵抗が1.0×1013Ω/□以下であることを特徴とする液状レジストフォトマスク保護テープ用二軸配向ポリエステルフィルム。
0<WTI≦20 …(1)
1≦W≦300 …(2)
(上記式中、WTIはポリエステルフィルム中のチタン元素含有量(ppm)、Wはポリエステルフィルム中のリン元素含有量(ppm)を示す)
A biaxially oriented polyester film containing a titanium compound and a phosphorus compound in amounts that simultaneously satisfy the following formulas (1) and (2) and having an antimony element content of 10 ppm or less, and having a surface resistivity of 1.0 × 10 13 A biaxially oriented polyester film for a liquid resist photomask protective tape, characterized in that it is Ω / □ or less.
0 <W TI ≦ 20 (1)
1 ≦ W P ≦ 300 (2)
(In the formula, W TI titanium element content in the polyester film (ppm), W P denotes phosphorus element content in the polyester film (ppm))
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