JP2018169478A - 位相差フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】輝点が低減される位相差フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】搬送される連続フィルム支持体１１上に、液晶化合物に対する配向規制力を備える配向層を形成するための配向層形成用材料を塗布および乾燥して第１の塗膜１２を形成する工程、第１の塗膜１２に偏光を照射することにより配向規制力を付与して配向層を形成する工程、および配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布および乾燥して第２の塗膜を形成する工程と、第２の塗膜中の液晶化合物を配向させ、配向を固定して液晶層を形成する工程とを備える位相差フィルムの製造方法であって、第１の塗膜１２を形成する工程の後、配向層を形成する工程の前に第１の塗膜１２に押圧力を作用させた状態で、第１の塗膜１２をヒートロール２０上で加熱する。【選択図】図２

Description

本発明は、位相差フィルムの製造方法に関するものである。

液晶ディスプレイ等に用いられる位相差フィルムや視野角補償フィルムとして、支持体上に配向層および液晶層が設けられたものが知られている。配向層は、液晶層の液晶化合物を一定方向に並べるための膜であり、配向素子を含む塗膜に配向処理を行って配向規制力が与えられる。

配向処理としては、これまで、ナイロンなどの布を巻いたローラを一定圧力で基板に押し込みながら回転させるラビング方式が広く用いられていた。しかし、基板の摩擦によって微細な粉塵や静電気が生じてしまうという問題があり、近年、偏光を照射して配向規制力を与える光配向方式が用いられるようになっている。配向層上に形成された液晶層中の液晶化合物は、配向層の配向に従って規則正しく配列した状態になる。液晶化合物を均一に配向させることは、液晶ディスプレイの視野角向上、生産性向上のために重要である。そこで、液晶化合物の配向を均一なものとするために種々の検討がなされている。

特許文献１には、光配向工程の前もしくは後、または両方で配向層を加熱処理する方法が記載されている。これにより配向層と液晶層との接着性が改善され、液晶ディスプレイのコントラスト比を向上させることができることが記載されている。

また、特許文献２には、均一に配列された液晶材料を含む位相差層を得るため、透明基板と配向層との間に透明無機物質からなる遮蔽層を設けた位相差フィルムが開示されている。

特開２００４−４６１９５号公報 特開２００７−３０４３７５号公報

ロールツーロール方式で層が形成される場合、液晶層まで作製された位相差フィルムの両側に透過光を遮断（クロスニコル配置）するように二枚の偏光板を配置させて光学顕微鏡で観察すると、微小な光る点、いわゆる「輝点」が見られる。輝点は、液晶化合物が均一に配向していない箇所、つまり配向欠陥を示すものである。配向欠陥が存在する箇所では、位相差フィルムを所望の複屈折率にすることが困難であり、液晶ディスプレイの品質を低下させることになる。

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、輝点の発生が抑制される位相差フィルムの製造方法を提供することを目的とする。

従来の配向層の製造には、例えば、図７に示すように、連続フィルム支持体が送出しロール５１から搬送されて、ダイコーター５２により配向層形成用材料が塗布され、温調板５３とオーブン５４によって乾燥した後、硬化前に一旦金属ロール５５に巻き取られる工程が存在する。
本発明者らの鋭意検討の結果、液晶層を形成後に発生する輝点は、巻き取り工程での金属ロール５５あるいは搬送中のタッチロールと塗膜とが接して生じる凹凸に起因することを見出し、本発明をなすに至った。

すなわち、本発明の位相差フィルムの製造方法は、
搬送される連続フィルム支持体上に、液晶化合物に対する配向規制力を備える配向層を形成するための配向層形成用材料を塗布および乾燥して第１の塗膜を形成する工程、
第１の塗膜に偏光を照射することにより配向規制力を付与して配向層を形成する工程、および
配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布および乾燥して第２の塗膜を形成する工程と、
第２の塗膜中の液晶化合物を配向させ、配向を固定して液晶層を形成する工程と、
を備える位相差フィルムの製造方法であって、
第１の塗膜を形成する工程の後、配向層を形成する工程の前に、第１の塗膜に押圧力を作用させた状態で、第１の塗膜をヒートロール上で加熱する工程を有するものである。

加熱する工程において、第１の塗膜が形成された連続フィルム支持体は、第１の塗膜とヒートロールとが接した状態で搬送されることが好ましい。

本発明の位相差フィルムの製造方法においては、第１の塗膜が形成された連続フィルム支持体をヒートロールに巻きかけることによって、第１の塗膜に押圧力を作用させてもよい。

本発明の位相差フィルムの製造方法においては、第１の塗膜が形成された連続フィルム支持体を、ヒートロールとニップロールとで挟むことによって、第１の塗膜に押圧力を作用させてもよい。

加熱する工程において、第１の塗膜が形成された連続フィルム支持体は、連続フィルム支持体とヒートロールとが接し、かつ、第１の塗膜が形成された連続フィルム支持体をヒートロールとニップロールとで挟むことにより第１の塗膜に押圧力を作用させてもよい。

加熱する工程において、第１の塗膜が形成された連続フィルム支持体は、第１の塗膜とヒートロールとが接した状態で搬送される場合、ヒートロールの表面粗さＲｚ（ｈ）は０．８以下であることが好ましい。

第１の塗膜が形成された連続フィルム支持体が、連続フィルム支持体とヒートロールとが接した状態で搬送される場合、ニップロールの表面粗さＲｚ（ｎ）は２．０以下であることが好ましい。

ここで、表面粗さＲｚは、粗さ曲線からその平均線の方向に基準長さだけを抜き取り、この抜き取り部分の山頂線と谷底線との間隔を粗さ曲線の縦倍率の方向に測定し、この値をマイクロメートル（μｍ）で表したものをいう。

本発明の位相差フィルムの製造方法において、加熱する工程は、偏光を塗膜に照射する直前に行うことが好ましい。

押圧力は、線圧で５Ｎ／ｃｍ以上であることが好ましい。

本発明の位相差フィルムの製造方法によれば、第１の塗膜を形成する工程の後、配向層を形成する工程の前に、第１の塗膜に押圧力を作用させた状態で、第１の塗膜をヒートロール上で加熱する工程を有するものとすることにより、配向層の凹凸を小さくすることができる、輝点を低減することができる。

図１は、本発明の位相差フィルムの製造方法の処理フローを示す図である。 図２は、本発明の位相差フィルムの製造方法における、第１の塗膜に押圧力を作用させた状態で第１の塗膜を加熱する工程の一例を示す概略断面図である。 図３は、本発明の位相差フィルムの製造方法における、第１の塗膜に押圧力を作用させた状態で第１の塗膜を加熱する工程の他の例を示す概略断面図である。 図４は、本発明の位相差フィルムの製造方法における、第１の塗膜に押圧力を作用させた状態で第１の塗膜を加熱する工程の他の例を示す概略断面図である。 図５は、本発明の位相差フィルムの製造方法における、第１の塗膜に押圧力を作用させた状態で第１の塗膜を加熱する工程の他の例を示す概略断面図である。 図６は、本発明の位相差フィルムの製造方法における、配向層を形成する工程の概略図である。 図７は、配向層を形成する工程を説明する図である。

以下、本発明の位相差フィルムの製造方法について図面を参照しながら説明する。

本発明の位相差フィルムの製造方法は、図１に示すように、
搬送される連続フィルム支持体上に、液晶化合物に対する配向規制力を備える配向層を形成するための配向層形成用材料を塗布および乾燥して第１の塗膜を形成する工程（ＳＴ１）
第１の塗膜に偏光を照射することにより配向規制力を付与して配向層を形成する工程（ＳＴ３）、および
配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布および乾燥して第２の塗膜を形成する工程（ＳＴ４）と、
第２の塗膜中の液晶化合物を配向させ、配向を固定して液晶層を形成する工程（ＳＴ５）と、
を備える位相差フィルムの製造方法であって、
第１の塗膜を形成する工程（ＳＴ１）の後、配向層を形成する工程（ＳＴ３）の前に、第１の塗膜に押圧力を作用させた状態で、第１の塗膜をヒートロール上で加熱する工程（ＳＴ２）を有するものである。

（ＳＴ２：第１の塗膜に押圧力を作用させた状態で、第１の塗膜をヒートロール上で加熱する工程）
まず、本発明の特徴的な工程である、第１の塗膜に押圧力を作用させた状態で、第１の塗膜をヒートロール上で加熱する工程（以下、「ＳＴ２工程」という）について図を参照しながら説明する。

ＳＴ２工程としては、例えば、図２に示すように、第１の塗膜１２が形成された連続フィルム支持体１１（以下、フィルム１０と記載する）を、第１の塗膜１２とヒートロール２０とが接した状態で、ヒートロール２０に巻きかけて搬送し、加熱する形態が挙げられる。フィルム１０には搬送張力がかかっているため、ラップ角θを付与した状態で巻きかけることにより、第１の塗膜１２に押圧力を作用させた状態とすることができる。

第１の塗膜１２に押圧力を作用させた状態で加熱することにより、第１の塗膜１２の凹凸を良好に低減することができ、均一な配向状態にすることができる。したがって、配向層の上に形成される液晶層の配列も均一な状態にすることができ、輝点を低減することができる。

ヒートロール２０は、温度が５０℃〜１２０℃に維持されるように、温度制御手段２１によって制御される。温度は、６０℃〜１２０℃がさらに好ましい。６０℃以上であることによって、第１の塗膜１２の凹凸をさらに小さくすることができる。

また、ラップ角θは、３０°以上１８０°以下が好ましい、９０°以上１８０°以下がより好ましい。３０°以上であることにより、第１の塗膜１２の凹凸を低減するのに充分な押圧力を作用させることができる。

搬送速度は、１０ｍ／ｍｉｎ以上５０ｍ／ｍｉｎ以下であることが好ましく１０ｍ／ｍｉｎ以上３０ｍ／ｍｉｎ以下であることが好ましい。１０ｍ／ｍｉｎ以上であることにより、生産性を維持することができる。５０ｍ／ｍｉｎ以下であることにより、ヒートロール上の滞在時間を長く確保することができる。滞在時間を長くすることで、より有効に加熱されるとともに、確実に処理を行うことができる。

なお、ＳＴ２工程は、特に制限はないが、第１の塗膜を形成する工程（ＳＴ１）の後、配向層を形成する工程（ＳＴ３）の前に実施すればよく、偏光を第１の塗膜に照射する直前に行うことがより好ましい。

第１の塗膜１２がヒートロール２０に接する場合は、ヒートロール２０の表面粗さＲｚ（ｈ）は２．０以下であることが好ましく、より好ましくは、０．８μｍ以下である。２．０μｍ以下であることにより、輝点を良好に低減することができる。
ヒートロール２０の表面にごみ等による凹凸があると輝点の原因となるため、ヒートロール２０の搬送上流側に、ヒートロール２０の表面を清掃するための装置を備えてもよい。

また、他の例として、図３に示すように、第１の塗膜１２が形成された連続フィルム支持体１１を、第１の塗膜１２とヒートロール２０とが接した状態で、かつ、ヒートロール２０とニップロール３０でフィルム１０を挟んで搬送し、加熱してもよい。フィルム１０をヒートロール２０に巻きかけ、さらにニップロール３０で挟むことにより、第１の塗膜１２をより平坦にすることができ、凹凸による輝点の発生を低減することができる。

押圧力は、ニップロールで挟まれている場合、線圧で５Ｎ／ｃｍ以上であることが好ましく、１０Ｎ／ｃｍ以上がより好ましい。５Ｎ／ｃｍ以上であることにより、ヒートロール２０上で第１の塗膜の表面を充分に平滑にすることができる。線圧は、ニップロールの変形が過度にならないようにするために、５０Ｎ／ｃｍ以下が好ましい。

上記一例では、ヒートロール２０に巻きかけて第１の塗膜１２に押圧力を作用させた状態としたが、さらに他の例として、図４に示すように、フィルム１０をヒートロールに巻きかけず、ニップロール３０で挟んで、第１の塗膜１２に押圧力が作用した状態にしてもよい。

上記では、第１の塗膜１２がヒートロール２０に接する形態について説明したが、連続フィルム支持体１１がヒートロール２０に接してもよい。例えば、図５に示すように、フィルム１０を、連続フィルム支持体１１とヒートロール２０とが接するようにヒートロール２０に巻きかけ、かつ、フィルム１０をヒートロール２０とニップロール３０とで挟むことにより、第１の塗膜１２に押圧力を作用させてもよい。
あるいは、フィルム１０をヒートロール２０にまきかけないでヒートロール２０とニップロール３０とで挟むことにより第１の塗膜１２に押圧力を作用させてもよい。

連続フィルム支持体１１とヒートロール２０とが接する場合、第１の塗膜１２はニップロール３０と接触するため、ニップロール３０の表面粗さＲｚ（ｎ）は２．０以下であることが好ましく、０．８μｍ以下がより好ましい。２．０以下であることにより、配向層の凹凸を低減することができ、輝点を良好に低減することができる。
また、ヒートロールの加熱手段は蒸気式、ガス式、熱媒循環式、低周波誘導加熱方式など方式は問わない。また、支持体温度を高い状態に保ちつつ押圧すればよいことから、加熱された処理室内で押圧してもよい。さらにヒートロールに加えて、予熱ヒーターと保温ロールとの組み合わせなどを用いてもよい。

以下、加熱する工程（ＳＴ２）以外の工程について工程順に説明する。

（ＳＴ１：第１の塗膜を形成する工程）
搬送方向に搬送される連続フィルム支持体上に、液晶化合物に対する配向規制力を備える配向層を形成するための配向層形成用材料を塗布および乾燥する。
以下、各構成要素の詳細を説明する。

−連続フィルム支持体−
連続フィルム支持体としては、バックアップロールに巻きかけることが可能なポリマーフィルムを用いることが好ましい。支持体として用いられるポリマーフィルムの材料の例には、セルロースアシレートフィルム（例えば、セルローストリアセテートフィルム（屈折率１．４８）、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム）、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂フィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリメチルメタクリレート等のポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルム、ポリオレフィン、脂環式構造を有するポリマー（ノルボルネン系樹脂（商品名「アートン（登録商標）」、ＪＳＲ社製、非晶質ポリオレフィン（商品名「ゼオネックス（登録商標）」、日本ゼオン社製））、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、脂環式構造を有するポリマーが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。

支持体の膜厚としては、５μｍ〜１０００μｍ程度であればよく、好ましくは１０μｍ〜２５０μｍであり、より好ましくは１５μｍ〜９０μｍである。

−配向層形成用材料−
光配向に用いられる配向層形成用材料としては、例えば、特開２００６−２８５１９７号公報、特開２００７−７６８３９号公報、特開２００７−１３８１３８号公報、特開２００７−９４０７１号公報、特開２００７−１２１７２１号公報、特開２００７−１４０４６５号公報、特開２００７−１５６４３９号公報、特開２００７−１３３１８４号公報、特開２００９−１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２−２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２−２６５５４１号公報、特開２００２−３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミドおよび／またはアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３−５２０８７８号公報、特表２００４−５２９２２０号公報、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミド、またはエステル、特開平９−１１８７１７号公報、特表平１０−５０６４２０号公報、特表２００３−５０５５６１号公報、ＷＯ２０１０/１５０７４８号、特開２０１３−１７７５６１号公報、特開２０１４−１２８２３号公報に記載の光二量化可能な化合物、特にシンナメート化合物、カルコン化合物、クマリン化合物が挙げられる。特に好ましい例としては、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、エステル、シンナメート化合物、カルコン化合物が挙げられる。

−塗布方法−
配向層形成用材料を塗布する際の方法としてはカーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、ワイヤーバー法等の公知の方法が挙げられる。

−乾燥工程−
乾燥は、オーブン、温風、ＩＲヒーター等によって、３０℃〜１４０℃で、１０秒〜１０分間程度行うことが好ましい。また、温風乾燥においては支持体側から温風をあてる構成でもよく、温風が塗膜を流動させないように拡散板を設置した構成としてもよい。

（ＳＴ３：配向層を形成する工程）
偏光を照射して配向層を形成する工程（ＳＴ３）について説明する。
第１の塗膜に偏光を照射することにより配向規制力を付与して配向層を形成する工程である。配向規制力を付与する工程とは、配向層形成用材料に光反応を生じせしめるための操作である。
偏光を照射して配向層を形成する工程として、例えば、図６に示すように、連続フィルム支持体１１上に第１の塗膜１２が形成されたフィルム１０をＹ方向に搬送しながら、フィルム１０上に、光配向装置からの偏光を照射する形態が挙げられる。光配向装置は、棒状光源４０と棒状光源からの光をフィルム１０方向へ反射する凹面反射鏡４１と、棒状光源４０の長手方向（図中Ｘ方向）に配列された複数の平行板４２からなるルーバー４３と、ルーバー４３によって平行光化された光を直線偏光するワイヤーグリッド偏光子４４とから構成される。そして、ワイヤーグリッド偏光子４４から発せられる偏光が第１の塗膜１２に照射される。

棒状光源４０として、通常使われる光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ、カーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー（例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、ＹＡＧ（Yttrium Aluminum Garnet）レーザー）、発光ダイオード、陰極線管などを挙げることができる。偏光のピーク波長は、２００ｎｍ〜４００ｎｍが好ましい。

光配向では、上記のような非接触の光照射によって光配向材料を配向させるため、ラビングのような不均一な物理的凹凸形状が発生しにくい。そのため、光配向によって配向規制力を付与された配向層を利用して作製した光学フィルムを用いた液晶表示装置では光漏れが低減され、高コントラストが実現できる。

（ＳＴ４：第２の塗膜を形成する工程）
配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布および乾燥して第２の塗膜を形成する。液晶層形成用材料の塗布および乾燥は、上記配向層形成用材料の塗布および乾燥と同様の方法を用いることができ、その詳細な説明は省略する。

−液晶層形成用材料−
液晶層形成用材料は、棒状液晶化合物もしくは円盤状液晶化合物および少なくともキラル剤を含有し、さらに、配向制御剤、重合開始剤および配向助剤などのその他の成分を含有していてもよい。

−−棒状液晶化合物−−
棒状液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性分子だけではなく、高分子液晶性分子も用いることができる。

棒状液晶化合物を重合によって配向を固定することがより好ましく、重合性棒状液晶化合物としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ． Ｃｈｅｍ．， １９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許４６８３３２７号公報、同５６２２６４８号公報、同５７７０１０７号公報、ＷＯ９５／２２５８６号公報、同９５／２４４５５号公報、同９７／００６００号公報、同９８／２３５８０号公報、同９８／５２９０５号公報、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、および特願２００１−６４６２７号公報などに記載の化合物を用いることができる。さらに棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報や特開２００７−２７９６８８号公報に記載のものも好ましく用いることができる。

−−円盤状液晶化合物−−
円盤状液晶化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号公報や特開２０１０−２４４０３８号公報に記載のものを好ましく用いることができる。

（ＳＴ５：液晶層の形成）
第２の塗膜中の液晶化合物を配向させ、配向を固定して液晶層を形成する。

−液晶化合物の配向−
液晶層形成用材料の配向固定（硬化）の前には、第２の塗膜の液晶化合物の配向処理を行う。配向処理は、室温等により乾燥させる、または加熱することにより行うことができる。配向処理で形成される液晶層は、サーモトロピック性液晶化合物の場合、一般に温度または圧力の変化により転移させることができる。リオトロピック性をもつ液晶化合物の場合には、溶媒量等の組成比によっても転移させることができる。

棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する場合、ネマチック相を発現する温度領域の方が、棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域よりも高いことが普通である。従って、棒状液晶化合物がネマチック相を発現する温度領域まで棒状液晶化合物を加熱し、次に、加熱温度を棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域まで低下させることにより、棒状液晶化合物をネマチック相からスメクチック相に転移させることができる。このような方法をスメクチック相とすることで、液晶化合物が高秩序度で配向した液晶層を提供することができる。

棒状液晶化合物がネマチック相を発現する温度領域では、棒状液晶化合物がモノドメインを形成するまで一定時間加熱する必要がある。加熱時間は、１０秒間〜５分間が好ましく、1０秒間〜３分間がさらに好ましく、1０秒間〜２分間が最も好ましい。
棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域では、棒状液晶化合物がスメクチック相を発現するまで一定時間加熱する必要がある。加熱時間は、１０秒間〜５分間が好ましく、１０秒間〜３分間がさらに好ましく、１０秒間〜２分間が最も好ましい。

−配向の固定−
第２の塗膜中の液晶化合物の配向を固定して液晶層を形成する。
配向の固定は、熱重合や活性エネルギー線による重合で行うことができ、その重合に適した重合性基や重合開始剤を適宜選択することで行うことができる。製造適性等を考慮すると紫外線照射による重合反応を好ましく用いることができる。紫外線の照射量が少ないと、未重合の重合性棒状液晶が残存し、光学特性の温度変化や、経時劣化の起きる原因となる。
そのため、残存する重合性棒状液晶の割合が５%以下になる様に照射条件を決めることが好ましく、その照射条件は重合性組成物の処方や第２の塗膜の厚さにもよるが目安として紫外線照射量は、５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、１００〜５００ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましい。

光照射に用いる光源は、通常使われる光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ、カーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー（例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、ＹＡＧ（Yttrium Aluminum Garnet）レーザー）、発光ダイオード、陰極線管などを挙げることができる。
その他、液晶層の詳細は、特開２００８−２２５２８１号公報や特開２００８−０２６７３０号公報の記載を参酌できる。

以下に、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。

［実施例１］
（ＳＴ１：第１の塗膜の形成）
セルローストリアセテートフィルムＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム製）の支持体表面をアルカリ鹸化処理した。具体的には、５５℃の１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に支持体を２分間浸漬した後、室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃の０．１規定の硫酸を用いて中和した。中和した後、室温の水洗浴槽中で洗浄し、更に１００℃の温風で乾燥した。
次に、支持体表面に、下記の組成の配向層形成材料をワイヤーバーで塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、第１の塗膜を形成した。

−配向層形成用材料の調製−
光配向用素材Ｐ−１ １．０質量部
ブトキシエタノール ３３質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ３３質量部
水 ３３質量部

（ＳＴ２：加熱する工程）
図３に示すように、第１の塗膜１２が形成された連続フィルム支持体１１（フィルム１０）をヒートロール２０に巻きかけ、第１の塗膜１２とヒートロール２０とが接するように、ヒートロール２０とニップロール３０で挟んで搬送し、第１の塗膜を加熱した。ヒートロール２０は、温度制御手段２１によって温度が６０℃に維持されていた。ヒートロール、ニップロール、および搬送条件の詳細を以下に示す。
ヒートロール：直径：２００ｍｍ、材質ＳＵＳ、表面粗さＲｚ：０．８
ニップロール：直径：１００ｍｍ、材質合成ゴム、表面粗さＲｚ：２．０
ラップ角：９０°
搬送速度：３０ｍ／ｍｉｎ
ラップ時間：０．３１sec
線圧：１０Ｎ／ｃｍ

（ＳＴ３：配向層を形成する工程）
次に、第１の塗膜上に直線偏光を照射して、光配向処理を行った。
このとき、ワイヤーグリッド偏光子(Moxtek社製, ProFlux PPL02)を第１の塗膜の面と平行に、かつ、ワイヤーグリッド偏光子の透過軸と配向層の吸収軸が平行になるようにセットして露光し、光配向処理を行った。この際用いる紫外線の照度はＵＶ（ultra-violet）−Ａ領域（波長３８０ｎｍ〜３２０ｎｍの積算）において１００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量はＵＶ−Ａ領域において１０００ｍＪ／ｃｍ^２とした。

（ＳＴ４，ＳＴ５：第２の塗膜の形成，液晶層の形成）
続いて、下記の液晶層形成用材料を調製した。

−液晶層形成用材料の調製−
逆波長分散液晶性化合物 Ｒ−３ １００質量部
光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ（株）製）
含フッ素化合物Ａ ０．８質量部
架橋性ポリマー Ｏ−２ ０．３質量部
クロロホルム ５８８質量部

配向層上に液晶層形成用材料を、バーコーターを用いて塗布した。膜面温度１００℃で６０秒間加熱熟成し、７０℃まで冷却した後に、空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍJ／ｃｍ^２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより液晶層を形成した。形成された液晶層は、偏光照射方向に対し遅相軸方向が直交（すなわち、偏光板の吸収軸とも直交）であった（逆波長分散液晶性化合物が偏光照射方向に対して直交に配向していた）。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性および光軸のチルト角を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが１３０ｎｍ、Ｒｔｈが６５ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．８３、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が１．０５、光軸のチルト角は０°で、逆波長分散液晶性化合物はホモジニアス配向であった。

［実施例２］
ニップロールを使用しなかった以外は、実施例１と同様に位相差フィルムを作製した。

［実施例３］
連続フィルム支持体１１がヒートロール２０に接するようにし、第１の塗膜が接するニップロールの表面粗さＲｚを２にした以外は、実施例１と同様に位相差フィルムを作製した。

［実施例４］
ヒートロール２０の温度を５０℃にした以外は、実施例１と同様に位相差フィルムを作製した。

［実施例５］
搬送速度を５０ｍ／ｍｉｎにし、ラップ時間を０．１９secにした以外は、実施例１と同様に位相差フィルムを作製した。

［実施例６］
ニップロールを用いなかった以外は、実施例５と同様に位相差フィルムを作製した。

［実施例７］
搬送速度を３０ｍ／ｍｉｎにし、ラップ時間を０．１０secにした以外は、実施例６と同様に位相差フィルムを作製した。

［実施例８］
線圧を５Ｎ／ｃｍにした以外は、実施例１と同様に位相差フィルムを作製した。

［比較例１］
連続フィルム支持体１１側をヒートロール２０に接するようにし、第１の塗膜が接するニップロールを使用しなかった以外には、実施例１と同様に位相差フィルムを作製した。

［比較例２］
搬送速度３０ｍ／ｍｉｎとし、ヒートロール２０に巻き掛けず、加熱も行わなかった。

［輝点評価方法］
作製した位相差フィルムの両側に透過光を遮断（クロスニコル配置）するように２枚の偏光板を配置した後、片側から光を照射し、反対側から光学顕微鏡（100倍）で観察して輝点の数を測定した。

（評価基準）
Ａ：５個／ｍｍ^２以下
Ｂ：５個／ｍｍ^２より多く４０個／ｍｍ^２以下
Ｃ：４０個／ｍｍ^２より多く６０個／ｍｍ^２以下
Ｄ：６１個／ｍｍ^２以上

表１に示すように、本発明の位相差フィルムは、第１の塗膜１２に押圧力が作用していない比較例１および加熱しない比較例２に比べ、良好に輝点が低減されている。
第１の塗膜１２とヒートロール２０が接し、かつニップロールでフィルム１０を挟んだ実施例１、搬送張力のみで押圧力を作用させて加熱をした実施例２、および第１の塗膜１２がニップロール３０側にして加熱した実施例３から、第１の塗膜１２がヒートロール２０側に配置され、かつ、ニップロール３０で挟まれた方がより好ましいことがわかる。
また、実施例１および実施例４から、ヒートロール２０はより高い温度が好ましいことがわかる。
また、実施例５、実施例６、および実施例７からラップ時間はより長い方が好ましいことがわかる。
また、実施例１および実施例８から、線圧は高い方が好ましいことがわかる。

１０ フィルム
１１ 連続フィルム支持体
１２ 第１の塗膜
２０ ヒートロール
２１ 温度制御手段
３０ ニップロール
４０ 棒状光源
４１ 凹面反射鏡
４２ 平行板
４３ ルーバー
４４ ワイヤーグリッド偏光子
５１ 送出しロール
５２ ダイコーター
５３ 温調板
５４ 乾燥機
５５ 巻き取りロール
θ ラップ角

Claims (9)

1. 搬送される連続フィルム支持体上に、液晶化合物に対する配向規制力を備える配向層を形成するための配向層形成用材料を塗布および乾燥して第１の塗膜を形成する工程、
   前記第１の塗膜に偏光を照射することにより前記配向規制力を付与して前記配向層を形成する工程、および
   前記配向層上に前記液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布および乾燥して第２の塗膜を形成する工程と、
   前記第２の塗膜中の前記液晶化合物を配向させ、該配向を固定して液晶層を形成する工程と、
   を備える位相差フィルムの製造方法であって、
   前記第１の塗膜を形成する工程の後、前記配向層を形成する工程の前に、前記第１の塗膜に押圧力を作用させた状態で、前記第１の塗膜をヒートロール上で加熱する工程を有する位相差フィルムの製造方法。
2. 前記加熱する工程において、前記第１の塗膜が形成された前記連続フィルム支持体が、前記第１の塗膜と前記ヒートロールとが接した状態で搬送される請求項１記載の位相差フィルムの製造方法。
3. 前記第１の塗膜が形成された前記連続フィルム支持体を前記ヒートロールに巻きかけることによって、前記第１の塗膜に押圧力を作用させる請求項２記載の位相差フィルムの製造方法。
4. 前記第１の塗膜が形成された前記連続フィルム支持体を、前記ヒートロールとニップロールとで挟むことによって、前記第１の塗膜に押圧力を作用させる請求項２または３記載の位相差フィルムの製造方法。
5. 前記加熱する工程において、前記第１の塗膜が形成された前記連続フィルム支持体が、前記連続フィルム支持体と前記ヒートロールとが接し、かつ、前記第１の塗膜が形成された前記連続フィルム支持体を前記ヒートロールとニップロールとで挟むことにより前記第１の塗膜に押圧力を作用させる請求項１記載の位相差フィルムの製造方法。
6. 前記ヒートロールの表面粗さＲｚ（ｈ）が０．８以下である請求項２から４いずれか１項記載の位相差フィルムの製造方法。
7. 前記ニップロールの表面粗さＲｚ（ｎ）が２．０以下である請求項５記載の位相差フィルムの製造方法。
8. 前記加熱する工程を、前記偏光を前記第１の塗膜に照射する直前に行う請求項１から７いずれか１項記載の位相差フィルムの製造方法。
9. 前記押圧力が線圧で５Ｎ／ｃｍ以上である請求項４または５記載の位相差フィルムの製造方法。