JP2018159911A - Polarizing plate and image display device - Google Patents

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丈行 芦田
Takeyuki Ashida
丈行 芦田
寿和 松本
Toshikazu Matsumoto
寿和 松本
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polarizing plate that can reduce cracks in a polarizer caused by a change in temperature.SOLUTION: A polarizing plate (1A) comprises: a film-like polarizer (7); and a resin layer (9) containing a resin cured product. The resin layer (9) is overlapped on the polarizer (7) and closely adhered to the polarizer (7); a concave notch part (7C) is formed in an end (7e) of the polarizer (7) or a hole (21) penetrating the polarizer (7) is formed.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、偏光板及び画像表示装置に関する。   The present invention relates to a polarizing plate and an image display device.

偏光板は、液晶テレビ、有機ELテレビ又はスマートフォン等の画像表示装置を構成する光学部品の一つである。偏光板は、フィルム状の偏光子と、偏光子に重なる光学フィルム(例えば、保護フィルム)と、を備える。一般的な画像表示装置の殆どは、四角形状の画面を有するので、画像表示装置に搭載される従来の偏光板も四角形であり、その全体が一様に偏光能を有する。一方、特殊な画像表示装置は、それらの用途又は設計上の理由に応じて異形を有しており、当該装置に搭載される従来の偏光板も異形である。例えば、下記特許文献1には、液晶の注入口として、偏光子の端部に切欠き部(cut‐out portion)を形成することが記載されている。または、スマートウォッチ又は車載メーターに用いられる画像表示装置には、指針の回転軸が貫通するための穴を形成しなければならないことがある。したがって、画像表示装置に搭載される偏光板にも貫通穴を形成することが必要である。偏光板の用途・目的は多様であるので、用途・目的に応じて切欠き部又は貫通穴を偏光板に形成しなければならない様々な場合が想定される。   The polarizing plate is one of optical components that constitute an image display device such as a liquid crystal television, an organic EL television, or a smartphone. The polarizing plate includes a film-like polarizer and an optical film (for example, a protective film) that overlaps the polarizer. Since most of general image display devices have a quadrangular screen, the conventional polarizing plate mounted on the image display device is also quadrangular, and the whole has a uniform polarizing ability. On the other hand, special image display devices have irregular shapes depending on their use or design reasons, and conventional polarizing plates mounted on the devices are also irregular. For example, Patent Document 1 below describes forming a cut-out portion at the end of a polarizer as a liquid crystal injection port. Alternatively, an image display device used for a smart watch or a vehicle-mounted meter may have to be formed with a hole through which the rotating shaft of the pointer passes. Therefore, it is necessary to form a through hole in the polarizing plate mounted on the image display device. Since the use and purpose of the polarizing plate are various, various cases where notches or through holes must be formed in the polarizing plate are assumed depending on the use and purpose.

特開2000−155325号公報JP 2000-155325 A

偏光子は温度変化に伴って膨張又は収縮する。本発明者らによる研究の結果、温度変化に伴う偏光子の収縮に起因して、切欠き部又は貫通穴において偏光子のクラック(crack)が形成されることが判明した。特に熱衝撃(急激な温度変化)により、クラックが形成され易い。   The polarizer expands or contracts as the temperature changes. As a result of the study by the present inventors, it has been found that a crack of the polarizer is formed in the notch or the through hole due to the contraction of the polarizer accompanying the temperature change. In particular, cracks are likely to be formed due to thermal shock (rapid temperature change).

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、温度変化に起因する偏光子のクラックを抑制することができる偏光板、及び当該偏光板を含む画像表示装置を提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of the said situation, and it aims at providing the polarizing plate which can suppress the crack of the polarizer resulting from a temperature change, and the image display apparatus containing the said polarizing plate. .

本発明の一側面に係る偏光板は、フィルム状の偏光子と、樹脂硬化物を含む樹脂層と、を備え、樹脂層が、偏光子に重なり、且つ偏光子に密着しており、凹状の切欠き部が、偏光子の端部に形成されている。   A polarizing plate according to one aspect of the present invention includes a film-like polarizer and a resin layer containing a cured resin, and the resin layer overlaps the polarizer and is in close contact with the polarizer. A notch is formed at the end of the polarizer.

本発明の別の一側面に係る偏光板は、フィルム状の偏光子と、樹脂硬化物を含む樹脂層と、を備え、樹脂層が、偏光子に重なり、且つ偏光子に密着しており、偏光子を貫通する穴が形成される。   A polarizing plate according to another aspect of the present invention includes a film-like polarizer and a resin layer containing a cured resin, and the resin layer overlaps the polarizer and is in close contact with the polarizer. A hole is formed through the polarizer.

本発明の上記側面に係る偏光板は、粘着層を更に備えてよく、粘着層が、樹脂層に重なり、且つ樹脂層に密着していてよい。   The polarizing plate according to the above aspect of the present invention may further include an adhesive layer, and the adhesive layer may overlap the resin layer and be in close contact with the resin layer.

本発明の上記側面においては、樹脂硬化物は、エポキシ系化合物を含んでよい。   In the above aspect of the present invention, the cured resin may include an epoxy compound.

本発明の上記側面においては、樹脂硬化物は、オキセタン系化合物を含んでもよい。   In the above aspect of the present invention, the cured resin may contain an oxetane compound.

本発明の上記側面においては、樹脂硬化物は、(メタ)アクリル系化合物を含んでもよい。   In the above aspect of the present invention, the cured resin may include a (meth) acrylic compound.

本発明の上記側面においては、樹脂層は、オーバーコート層であってよい。   In the above aspect of the present invention, the resin layer may be an overcoat layer.

本発明の一側面に係る画像表示装置は、上記偏光板を含む。   An image display device according to one aspect of the present invention includes the polarizing plate.

本発明によれば、温度変化に起因する偏光子のクラックを抑制することができる偏光板、及び当該偏光板を含む画像表示装置が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the polarizing plate which can suppress the crack of the polarizer resulting from a temperature change, and the image display apparatus containing the said polarizing plate are provided.

本発明の第一実施形態に係る偏光板の模式的斜視図である。It is a typical perspective view of the polarizing plate which concerns on 1st embodiment of this invention. 図1に示された偏光板が備える偏光子の上面図である。It is a top view of the polarizer with which the polarizing plate shown by FIG. 1 is provided. 本発明の第一実施形態に係る画像表示装置(液晶表示装置)の断面の模式図である。It is a schematic diagram of the cross section of the image display apparatus (liquid crystal display device) which concerns on 1st embodiment of this invention. 図4中の(a)は、本発明の第一実施形態の変形例が備える偏光子の上面図であり、図4中の(b)は、本発明の第一実施形態の変形例が備える偏光子の上面図であり、図4中の(c)は、本発明の第一実施形態の変形例が備える偏光子の上面図であり、図4中の(d)は、本発明の第一実施形態の変形例が備える偏光子の上面図である。(A) in FIG. 4 is a top view of the polarizer included in the modification of the first embodiment of the present invention, and (b) in FIG. 4 is included in the modification of the first embodiment of the present invention. FIG. 4C is a top view of the polarizer, FIG. 4C is a top view of the polarizer included in the modification of the first embodiment of the present invention, and FIG. It is a top view of the polarizer with which the modification of one Embodiment is provided. 本発明の実施例が備える偏光子の上面図である。It is a top view of the polarizer with which the example of the present invention is provided. 本発明の第二実施形態に係る偏光板の模式的斜視図である。It is a typical perspective view of the polarizing plate which concerns on 2nd embodiment of this invention.

以下、図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について説明する。図面において、同等の構成要素には同等の符号を付す。本発明は下記実施形態に限定されるものではない。各図に示すX,Y及びZは、互いに直交する3つの座標軸を意味する。各座標軸が示す方向は、全図に共通する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings, the same components are denoted by the same reference numerals. The present invention is not limited to the following embodiment. X, Y, and Z shown in each figure mean three coordinate axes orthogonal to each other. The direction indicated by each coordinate axis is common to all drawings.

[第一実施形態]
図1及び図2に基づき、本発明の第一実施形態を説明する。第一実施形態に係る偏光板1Aは、フィルム状の偏光子7と、樹脂層9と、複数の光学フィルム(3,5,13)と、を備える。偏光子7、樹脂層9及び光学フィルム(3,5,13)のいずれも、四角形である。「光学フィルム」とは、偏光板を構成するフィルム状の部材(偏光子自体を除く。)を意味する。光学フィルムは、層、又は光学層と言い換えてよい。光学フィルムは、例えば、保護フィルム及び離型フィルムを含意する。第一実施形態では、複数の光学フィルム(3,5,13)とは、第一保護フィルム5、第二保護フィルム3、及び離型フィルム13(セパレータ)である。つまり、偏光板1Aは、偏光子7、第一保護フィルム5、樹脂層9、第二保護フィルム3、及び離型フィルム13を備える。偏光板1Aは、樹脂層9と離型フィルム13との間に位置する粘着層11も備える。
[First embodiment]
Based on FIG.1 and FIG.2, 1st embodiment of this invention is described. A polarizing plate 1A according to the first embodiment includes a film-like polarizer 7, a resin layer 9, and a plurality of optical films (3, 5, 13). All of the polarizer 7, the resin layer 9, and the optical films (3, 5, 13) are quadrangular. The “optical film” means a film-like member (excluding the polarizer itself) constituting the polarizing plate. The optical film may be rephrased as a layer or an optical layer. The optical film implies, for example, a protective film and a release film. In the first embodiment, the plurality of optical films (3, 5, 13) are the first protective film 5, the second protective film 3, and the release film 13 (separator). That is, the polarizing plate 1 </ b> A includes the polarizer 7, the first protective film 5, the resin layer 9, the second protective film 3, and the release film 13. The polarizing plate 1 </ b> A also includes an adhesive layer 11 positioned between the resin layer 9 and the release film 13.

樹脂層9は、偏光子7の一方の表面全体に重なっており、且つ偏光子7の一方の表面全体に密着している。粘着層11は、樹脂層9の表面全体に重なっており、樹脂層9の表面全体に強固に密着している。離型フィルム13は、粘着層11の表面全体を覆っている。第一保護フィルム5は、偏光子7の他方の表面全体に重なっており、且つ偏光子7の他方の表面全体に接着されている。第二保護フィルム3は、第一保護フィルム5の表面全体を覆っている。   The resin layer 9 overlaps the entire surface of the polarizer 7 and is in close contact with the entire surface of the polarizer 7. The adhesive layer 11 overlaps the entire surface of the resin layer 9 and is firmly adhered to the entire surface of the resin layer 9. The release film 13 covers the entire surface of the adhesive layer 11. The first protective film 5 overlaps the entire other surface of the polarizer 7 and is adhered to the entire other surface of the polarizer 7. The second protective film 3 covers the entire surface of the first protective film 5.

樹脂層9は、樹脂硬化物(cured resin)を含む。樹脂層9は、樹脂硬化物のみからなっていてよい。樹脂層9とは、硬化性樹脂組成物(curable resin composition)を硬化することによって形成された層である。樹脂層9は三次元の架橋構造を有しているため、樹脂層9は光学フィルム(3,5,13)等の樹脂フィルムよりも硬い。樹脂層9は、架橋構造又はモノマーの組成若しくは分子構造の違いに基づいて、光学フィルム(3,5,13)等の樹脂フィルムと識別される。   The resin layer 9 includes a cured resin. The resin layer 9 may consist only of a resin cured product. The resin layer 9 is a layer formed by curing a curable resin composition (curable resin composition). Since the resin layer 9 has a three-dimensional crosslinked structure, the resin layer 9 is harder than a resin film such as an optical film (3, 5, 13). The resin layer 9 is distinguished from a resin film such as an optical film (3, 5, 13) based on a cross-linked structure or a difference in monomer composition or molecular structure.

偏光子7の端部(第一端部7e)には、凹状の切欠き部7C(concave cut‐out portion)が形成されている。この切欠き部7Cは、偏光子7、樹脂層9、光学フィルム(3,5,13)及び粘着層11の積層方向(Z軸方向)において、偏光子7、樹脂層9、光学フィルム(3,5,13)及び粘着層11の全てを貫通している。つまり、偏光板1Aの端面には、偏光板1Aを構成する偏光子7、樹脂層9、光学フィルム(3,5,13)及び粘着層11の全てに共通する凹状の切欠き部が形成されている。積層方向(Z軸方向)から見た偏光子7の切欠き部7Cの形状は、積層方向から見た偏光板1Aの切欠き部の形状と同じ又は相似であってよい。積層方向から見た偏光板1Aの切欠き部の形状を、積層方向から見た偏光子7の切欠き部7Cの形状とみなしてよい。以下では、偏光子7の切欠き部7Cのみならず、切欠き部7Cを包含する偏光板1Aの切欠き部も、「切欠き部7C」と表記する場合がある。切欠き部7Cは、例えば、長方形である。   A concave cut-out portion (C) 7C (concave cut-out portion) is formed at the end portion (first end portion 7e) of the polarizer 7. The notch 7C is formed in the polarizer 7, the resin layer 9, the optical film (3, 5, 13) and the adhesive layer 11 in the stacking direction (Z-axis direction). 5, 13) and the adhesive layer 11 are all penetrated. That is, a concave notch common to all of the polarizer 7, the resin layer 9, the optical films (3, 5, 13) and the adhesive layer 11 constituting the polarizing plate 1 A is formed on the end face of the polarizing plate 1 A. ing. The shape of the notch 7C of the polarizer 7 viewed from the stacking direction (Z-axis direction) may be the same as or similar to the shape of the notch of the polarizing plate 1A viewed from the stacking direction. The shape of the notch of the polarizing plate 1A viewed from the stacking direction may be regarded as the shape of the notch 7C of the polarizer 7 viewed from the stacking direction. Hereinafter, not only the notch portion 7C of the polarizer 7 but also the notch portion of the polarizing plate 1A including the notch portion 7C may be referred to as “notch portion 7C”. The notch 7C is, for example, a rectangle.

以下に説明するように、偏光子7は、偏光子7の吸収軸線に沿って裂け易い。つまり、偏光子7のクラックは、偏光子7の吸収軸線に沿って形成され易い。ここで吸収軸線とは、例えば、偏光子7におけるポリビニルアルコール(PVA)分子の配向方向に略平行な直線と言い換えてよい。吸収軸線とは、例えば、偏光子7においてポリビニルアルコールに吸着する色素分子(例えばポリヨウ素又は有機染料)の配向方向に略平行な直線と言い換えてもよい。一つのPVA分子を構成する多数の炭素原子は、吸収軸線に沿った共有結合(C‐C結合)によって互いに結合している、といえる。一方、吸収軸線に略垂直な方向では、PVA分子同士が、架橋剤(例えばホウ酸)を介した架橋結合によって結合している。換言すれば、吸収軸線に略垂直な方向では、各PVA分子が有するヒドロキシ基が、PVA分子間に位置するホウ酸と水素結合又は酸素・ホウ素間結合(O‐B結合)を形成することによって、PVA分子同士が架橋されている。吸収軸線に沿って形成されているC‐C結合は、吸収軸線に略垂直な方向に沿って形成されている架橋結合よりも強固である。したがって、吸収軸線に略平行な方向における偏光子7の機械的強度は、吸収軸線に略垂直な方向における偏光子7の機械的強度よりも高い。換言すると、吸収軸線に略平行な方向における偏光子7の熱収縮は、吸収軸線に略垂直な方向における偏光子7の熱収縮に比べて、クラックを引き起こし難い。一方、吸収軸線と直交する方向では、PVA分子内のC‐C結合に比べて弱い架橋結合が形成されている。したがって、吸収軸線に略垂直な方向における偏光子7の熱収縮は、吸収軸線に略平行な方向における偏光子7の熱収縮に比べて、クラックを引き起こし易い。上記のような偏光子7における機械的強度の異方性は、特に切欠き部7Cにおける偏光子7のクラックを引き起こし易い。切欠き部7Cにおいて露出する偏光子7の端面の向きは、偏光子7の吸収軸線に対して一定・一様ではないので、偏光子7が温度変化に伴って収縮する際に切欠き部7Cは一様には収縮しない。その結果、切欠き部7Cにおいて露出する偏光子7の端面の局所において応力が生じ易い。この応力により、切欠き部7Cを起点としたクラックが偏光子7の吸収軸線に沿って形成され易い。例えば、切欠き部7Cの深部(奥部)が、吸収軸線に略垂直な方向において収縮すると、切欠き部7Cの深部においてクラックが吸収軸線に沿って形成され易い。また、切欠き部7Cにおける偏光子7のクラックは、切欠き部7Cを形成するための加工にも起因する。偏光板1Aの直線的な端部を形成する場合と異なり、凹状の切欠き部7Cを偏光板1Aの端部に形成する加工では、偏光板1Aを構成する積層体、特に偏光子7に負荷が掛かり易い。この加工時の負荷により、切欠き部7Cにおいて露出する偏光子7の端部に微小な傷が入り易い。この微小な傷が、偏光子7の熱収縮時にクラックの起点となり易い。   As will be described below, the polarizer 7 is easily split along the absorption axis of the polarizer 7. That is, the crack of the polarizer 7 is easily formed along the absorption axis of the polarizer 7. Here, the absorption axis may be rephrased as, for example, a straight line substantially parallel to the orientation direction of polyvinyl alcohol (PVA) molecules in the polarizer 7. The absorption axis may be rephrased as, for example, a straight line substantially parallel to the orientation direction of a dye molecule (for example, polyiodine or organic dye) adsorbed on polyvinyl alcohol in the polarizer 7. It can be said that many carbon atoms constituting one PVA molecule are bonded to each other by a covalent bond (CC bond) along the absorption axis. On the other hand, in a direction substantially perpendicular to the absorption axis, PVA molecules are bonded by a cross-linking bond via a cross-linking agent (for example, boric acid). In other words, in the direction substantially perpendicular to the absorption axis, the hydroxy group of each PVA molecule forms a hydrogen bond or an oxygen-boron bond (OB bond) with boric acid located between the PVA molecules. The PVA molecules are cross-linked. CC bonds formed along the absorption axis are stronger than cross-linked bonds formed along a direction substantially perpendicular to the absorption axis. Therefore, the mechanical strength of the polarizer 7 in the direction substantially parallel to the absorption axis is higher than the mechanical strength of the polarizer 7 in the direction substantially perpendicular to the absorption axis. In other words, the thermal contraction of the polarizer 7 in a direction substantially parallel to the absorption axis is less likely to cause cracks than the thermal contraction of the polarizer 7 in a direction substantially perpendicular to the absorption axis. On the other hand, in the direction perpendicular to the absorption axis, weak crosslinks are formed as compared to CC bonds in the PVA molecule. Therefore, thermal contraction of the polarizer 7 in a direction substantially perpendicular to the absorption axis is more likely to cause cracks than thermal contraction of the polarizer 7 in a direction substantially parallel to the absorption axis. The mechanical strength anisotropy in the polarizer 7 as described above tends to cause a crack in the polarizer 7 in the notch 7C. Since the orientation of the end face of the polarizer 7 exposed at the notch 7C is not constant and uniform with respect to the absorption axis of the polarizer 7, the notch 7C when the polarizer 7 contracts with a temperature change. Does not shrink uniformly. As a result, stress is likely to occur locally at the end face of the polarizer 7 exposed at the notch 7C. Due to this stress, a crack starting from the notch 7 </ b> C is likely to be formed along the absorption axis of the polarizer 7. For example, when the deep part (back part) of the notch 7C contracts in a direction substantially perpendicular to the absorption axis, cracks are likely to be formed along the absorption axis in the deep part of the notch 7C. Moreover, the crack of the polarizer 7 in the notch portion 7C is also caused by processing for forming the notch portion 7C. Unlike the case where the linear end portion of the polarizing plate 1A is formed, in the process of forming the concave notch portion 7C at the end portion of the polarizing plate 1A, a load is applied to the laminate constituting the polarizing plate 1A, particularly the polarizer 7. It is easy to start. Due to this processing load, minute scratches are likely to enter the end of the polarizer 7 exposed at the notch 7C. This minute scratch is likely to be a starting point of a crack when the polarizer 7 is thermally contracted.

しかし第一実施形態では、以下に説明するように、樹脂層9が偏光子7に密着しているため、温度変化に伴う切欠き部7Cでの偏光子7のクラックが抑制される。温度変化に伴って収縮する偏光子7に応力が生じたとしても、偏光子7に密着した樹脂層9が硬くて割れ難いため、樹脂層9に密着した偏光子7のクラックも抑制される。以上のように、偏光子7のクラックが樹脂層9によって抑制されるメカニズムは、樹脂層9の硬さ及び熱的挙動に関連する。このようなメカニズムによれば、切欠き部7Cの位置・向き・形状と偏光子7の吸収軸線との位置関係に左右されることなく、切欠き部7Cにおける偏光子7のクラックが抑制される。ただし、偏光子7のクラックが樹脂層9によって抑制されるメカニズムは未だ解明されていない。偏光子7のクラックが抑制される理由は上記に限定されない。また偏光板1Aが樹脂層9を備えることにより、偏光板1A(特に切欠き部7Cの周囲)における光抜け(白抜け)及び熱斑が抑制される。   However, in the first embodiment, as described below, since the resin layer 9 is in close contact with the polarizer 7, cracks of the polarizer 7 at the notch 7 </ b> C due to temperature change are suppressed. Even if stress is generated in the polarizer 7 that contracts with a change in temperature, the resin layer 9 that is in close contact with the polarizer 7 is hard and difficult to break, and therefore cracking of the polarizer 7 that is in close contact with the resin layer 9 is also suppressed. As described above, the mechanism by which the crack of the polarizer 7 is suppressed by the resin layer 9 is related to the hardness and thermal behavior of the resin layer 9. According to such a mechanism, the crack of the polarizer 7 in the notch 7C is suppressed without being influenced by the positional relationship between the position, orientation, and shape of the notch 7C and the absorption axis of the polarizer 7. . However, the mechanism by which the crack of the polarizer 7 is suppressed by the resin layer 9 has not yet been elucidated. The reason why cracks of the polarizer 7 are suppressed is not limited to the above. In addition, since the polarizing plate 1A includes the resin layer 9, light leakage (white spots) and thermal spots in the polarizing plate 1A (particularly around the notch 7C) are suppressed.

樹脂層9は、オーバーコート層であってよい。オーバーコート層とは、偏光子7の表面を覆う未硬化の硬化性樹脂組成物を硬化することによって形成された層と言い換えてよい。例えば、未硬化の硬化性樹脂を偏光子7の表面に直接塗って、未硬化の硬化性樹脂を含む層(未硬化層)を形成し、未硬化層を硬化することによって、樹脂層9を得てよい。または、未硬化層を基材フィルムの表面に形成して、未硬化層を基材フィルムから偏光子7の表面へ転写し、偏光子7の表面に転写された未硬化層を硬化することによって、樹脂層9を得てよい。未硬化層を偏光子7の表面に密着させると、比較的軟らかい未硬化層が偏光子7の表面の微細な凹凸に隙間なく食い込み易く、未硬化層の硬化によって得られた樹脂層9も偏光子7の表面の微細な凹凸に隙間なく食い込み易い。その結果、アンカー(Anchor)効果が生じて、アンカー効果によって切欠き部7Cにおける偏光子7のクラックが抑制され易くなる可能性がある。
樹脂層9の吸光度上昇率は、0以上%30%以下であってよい。吸光度上昇率は、下記数式(A)によって定義される。
吸光度上昇率(%)={(Absf−Absi)/Absi}×100 (A)
「Absf」とは、浸漬処理後の樹脂層9の360nmにおける吸光度である。浸漬処理とは、温度23℃、相対湿度60%の大気中で、樹脂層9を50%ヨウ化カリウム水溶液に100時間浸漬させることを意味する。吸光度の測定前に、浸漬処理後の樹脂層9の表面は純水で洗浄され、純水は樹脂層9の表面からふき取られる。「Absi」とは、浸漬処理前の樹脂層9の360nmにおける吸光度である。
樹脂層9の吸光度上昇率が低いほど、樹脂層9はヨウ素(二色性色素)を吸収し難い。樹脂層9の吸光度上昇率が30%以下である場合、偏光子7に含まれるヨウ素(二色性色素)の樹脂層9への移動が有効に抑制され、ヨウ素(二色性色素)による他の層(例えばITO層等の導電層)の腐食が抑制される。また樹脂層9の吸光度上昇率が30%以下である場合、偏光板1Aの光学性能が維持され易い。
樹脂層9の吸光度上昇率は低いほど好ましい。樹脂層9の吸光度上昇率は、0%以上25%以下、0%以上20%以下、0%以上15%以下、0%以上10%以下、又は0%以上3%以下であってよい。樹脂層9の吸光度上昇率が低いほど、上述のように偏光子7に含まれるヨウ素(二色性色素)の樹脂層9への移動が抑制され易く、他の層(例えば導電層)の腐食が抑制され易く、及び偏光板1Aの光学性能の劣化が抑制され易い。
樹脂層9の光弾性係数は、0以上10−12未満(測定限界未満)、又は、0以上10−13以下であってよい。樹脂層9の光弾性係数が小さく、他の光学フィルム(例えば保護フィルム)の光弾性係数よりも小さいほど、偏光板1Aにおける光抜け(白抜け)及び熱斑が抑制され易い。光弾性係数は、位相差測定装置(楕円偏光測定装置)によって測定されてよい。位相差測定装置としては、王子計測機器(株)製の「KOBRA‐WPR」を用いてよい。光弾性係数の測定では、樹脂層9の寸法は2cm×10cmに調整される。そして、樹脂層9の両端を挟持して5〜15Nの応力を樹脂層9に掛けながら、樹脂層9の中央の位相差値(23℃/波長590nm)を測定する。応力と位相差値の関数の傾きとから、光弾性係数が算出される。
The resin layer 9 may be an overcoat layer. The overcoat layer may be rephrased as a layer formed by curing an uncured curable resin composition that covers the surface of the polarizer 7. For example, an uncured curable resin is directly applied to the surface of the polarizer 7 to form a layer containing an uncured curable resin (an uncured layer), and the uncured layer is cured to form the resin layer 9. You may get. Alternatively, by forming an uncured layer on the surface of the base film, transferring the uncured layer from the base film to the surface of the polarizer 7, and curing the uncured layer transferred to the surface of the polarizer 7. The resin layer 9 may be obtained. When the uncured layer is brought into close contact with the surface of the polarizer 7, the relatively soft uncured layer can easily bite into the fine irregularities on the surface of the polarizer 7 without gaps, and the resin layer 9 obtained by curing the uncured layer is also polarized. It is easy to bite into the fine irregularities on the surface of the child 7 without a gap. As a result, an anchor effect occurs, and the anchor effect may easily suppress cracks in the polarizer 7 in the notch 7C.
The rate of increase in absorbance of the resin layer 9 may be 0% or more and 30% or less. The rate of increase in absorbance is defined by the following mathematical formula (A).
Absorbance increase rate (%) = {(Absf−Absi) / Absi} × 100 (A)
“Absf” is the absorbance at 360 nm of the resin layer 9 after the immersion treatment. The immersion treatment means that the resin layer 9 is immersed in a 50% aqueous solution of potassium iodide for 100 hours in the atmosphere at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 60%. Before the absorbance measurement, the surface of the resin layer 9 after the immersion treatment is washed with pure water, and the pure water is wiped off from the surface of the resin layer 9. “Absi” is the absorbance at 360 nm of the resin layer 9 before the immersion treatment.
The resin layer 9 is less likely to absorb iodine (dichroic dye) as the absorbance increase rate of the resin layer 9 is lower. When the rate of increase in absorbance of the resin layer 9 is 30% or less, the movement of iodine (dichroic dye) contained in the polarizer 7 to the resin layer 9 is effectively suppressed, and the other is caused by iodine (dichroic dye). Corrosion of the layer (for example, a conductive layer such as an ITO layer) is suppressed. Moreover, when the rate of increase in absorbance of the resin layer 9 is 30% or less, the optical performance of the polarizing plate 1A is easily maintained.
It is preferable that the absorbance increase rate of the resin layer 9 is as low as possible. The rate of increase in absorbance of the resin layer 9 may be 0% to 25%, 0% to 20%, 0% to 15%, 0% to 10%, or 0% to 3%. As the absorbance increase rate of the resin layer 9 is lower, the movement of iodine (dichroic dye) contained in the polarizer 7 to the resin layer 9 is more easily suppressed as described above, and corrosion of other layers (for example, conductive layers) is suppressed. Is easily suppressed, and deterioration of the optical performance of the polarizing plate 1A is easily suppressed.
The photoelastic coefficient of the resin layer 9 may be 0 or more and less than 10 −12 (less than the measurement limit), or 0 or more and 10 −13 or less. As the photoelastic coefficient of the resin layer 9 is smaller and smaller than the photoelastic coefficient of another optical film (for example, a protective film), light leakage (white spots) and thermal spots in the polarizing plate 1A are more easily suppressed. The photoelastic coefficient may be measured by a phase difference measuring device (elliptical polarization measuring device). As the phase difference measuring device, “KOBRA-WPR” manufactured by Oji Scientific Instruments may be used. In the measurement of the photoelastic coefficient, the dimension of the resin layer 9 is adjusted to 2 cm × 10 cm. Then, the center retardation value (23 ° C./wavelength 590 nm) of the resin layer 9 is measured while sandwiching both ends of the resin layer 9 and applying a stress of 5 to 15 N to the resin layer 9. A photoelastic coefficient is calculated from the slope of the function of the stress and the phase difference value.

偏光子7の端部(第一端部7e)に平行な方向における切欠き部7Cの幅Wcは、例えば、2mm以上600mm未満、又は5mm以上30mm以下であってよい。切欠き部7Cが形成された端部(第一端部7e)に平行な方向における偏光子7全体の幅Wは、例えば、30mm以上600mm以下であってよい。切欠き部7Cの幅Wcは、例えば、偏光子7全体の幅W未満であればよい。切欠き部7Cの幅Wcが5mm以上30mm以下である場合、偏光子7全体の幅W(偏光板1A全体の幅)は、20mmより大きく160mm以下、好ましくは25mmより大きく130mm以下、より好ましくは30mmより大きく100mm以下、さらに好ましくは30mmより大きく80mm以下であってよい(但し、Wc<W)。切欠き部7Cの幅Wcと偏光子7全体の幅Wとの比Wc/Wは、0.03以上1.0未満、0.10以上1.0未満、又は0.13以上1.0未満、好ましくは0.15以上1.0未満、又は0.17以上1.0未満、より好ましくは0.20以上1.0未満、又は0.22以上1.0未満、さらに好ましくは0.30以上1.0未満、又は0.33以上1.0未満であってよい。Wc/Wは、切欠き部7Cの幅Wcと偏光板1A全体の幅Wとの比と言い換えてよい。比Wc/Wが上記の範囲にある場合、切欠き部7Cにおけるクラックが抑制され易い。その理由は、次の通りである。切欠き部7Cの幅Wcが偏光子7全体の幅Wよりも小さいほど、温度変化に伴う偏光子7全体の収縮に因り、切欠き部7Cの幅Wcを拡げる力が生じ易く、切欠き部7Cにクラックが生じ易い。つまりWc/Wが小さいほど、切欠き部7Cにクラックが生じ易い。一方、Wc/Wが大きいほど(偏光子7全体の幅Wが小さいほど)、温度変化に伴う偏光子7全体の収縮量が低減される。つまり、偏光子7全体の幅Wが小さいほど、偏光子7の全体の幅Wの変化量の絶対値が低減される。温度変化に伴う偏光子7全体の収縮量が低減されることに因り、切欠き部7Cの幅Wcを拡げる力が生じ難く、切欠き部7Cにおけるクラックが抑制され易い。ただし、Wc/Wが上記の数値範囲外である場合であっても、切欠き部7Cにおけるクラックを抑制することは可能である。   The width Wc of the cutout portion 7C in the direction parallel to the end portion (first end portion 7e) of the polarizer 7 may be, for example, 2 mm or more and less than 600 mm, or 5 mm or more and 30 mm or less. The width W of the entire polarizer 7 in the direction parallel to the end portion (first end portion 7e) where the notch portion 7C is formed may be, for example, 30 mm or more and 600 mm or less. The width Wc of the notch 7C may be less than the width W of the entire polarizer 7, for example. When the width Wc of the notch 7C is 5 mm or more and 30 mm or less, the width W of the entire polarizer 7 (width of the entire polarizing plate 1A) is greater than 20 mm and 160 mm or less, preferably greater than 25 mm and 130 mm or less, more preferably It may be greater than 30 mm and not greater than 100 mm, more preferably greater than 30 mm and not greater than 80 mm (Wc <W). The ratio Wc / W between the width Wc of the notch 7C and the width W of the entire polarizer 7 is 0.03 or more and less than 1.0, 0.10 or more and less than 1.0, or 0.13 or more and less than 1.0. , Preferably 0.15 or more and less than 1.0, or 0.17 or more and less than 1.0, more preferably 0.20 or more and less than 1.0, or 0.22 or more and less than 1.0, and further preferably 0.30. It may be more than 1.0 and less than 0.33 or less than 1.0. Wc / W may be rephrased as the ratio of the width Wc of the notch 7C to the width W of the entire polarizing plate 1A. When the ratio Wc / W is in the above range, cracks at the notch 7C are easily suppressed. The reason is as follows. As the width Wc of the notch portion 7C is smaller than the entire width W of the polarizer 7, a force for expanding the width Wc of the notch portion 7C is more likely to occur due to contraction of the entire polarizer 7 due to temperature change. Cracks are likely to occur in 7C. In other words, the smaller Wc / W, the easier it is for cracks to occur in the notch 7C. On the other hand, as Wc / W is larger (the width W of the entire polarizer 7 is smaller), the contraction amount of the entire polarizer 7 due to the temperature change is reduced. That is, the absolute value of the amount of change in the overall width W of the polarizer 7 is reduced as the overall width W of the polarizer 7 is smaller. Due to the reduction in the amount of shrinkage of the entire polarizer 7 due to the temperature change, it is difficult to generate a force for expanding the width Wc of the notch 7C, and cracks in the notch 7C are easily suppressed. However, even when Wc / W is outside the above numerical range, it is possible to suppress cracks in the cutout portion 7C.

端部(第一端部7e)に垂直な方向における切欠き部7Cの長さDcは、例えば、1mm以上30mm以下であってよい。長さDcは、端部(第一端部7e)に垂直な方向における切欠き部7Cの深さと言い換えてよい。端部(第一端部7e)に垂直な方向における偏光子7全体の長さDは、例えば、30mm以上600mm以下であってよい。偏光板1Aの厚みは、例えば、10μm以上1200μm以下、10μm以上500μm以下、10μm以上300μm以下、又は10μm以上200μm以下であってよい。   The length Dc of the notch 7C in the direction perpendicular to the end (first end 7e) may be, for example, 1 mm or more and 30 mm or less. The length Dc may be rephrased as the depth of the notch 7C in the direction perpendicular to the end (first end 7e). The length D of the entire polarizer 7 in the direction perpendicular to the end portion (first end portion 7e) may be, for example, 30 mm or more and 600 mm or less. The thickness of the polarizing plate 1A may be, for example, 10 μm to 1200 μm, 10 μm to 500 μm, 10 μm to 300 μm, or 10 μm to 200 μm.

偏光板1Aの製造方法は、少なくとも、貼合ステップと、加工ステップと、を備える。貼合ステップでは、長尺な帯状の偏光子フィルムの表面に、樹脂層9を形成する。また貼合ステップでは、偏光子フィルムと、長尺な帯状の複数の光学フィルムと、を貼合して、積層体(第一積層体)を作製する。長尺な帯状の偏光子フィルムとは、加工・成形前の偏光子7である。長尺な帯状の複数の光学フィルムとは、加工・成形前の光学フィルム(3,5,13)である。続く加工ステップでは、第一積層体を加工して、所望の寸法及び形状を有する複数の積層体(第二積層体)を作製する。加工ステップでは、例えば、第一積層体を刃物で切断することにより、第二積層体を作製してよい。加工ステップでは、例えば、第一積層体の打ち抜き加工により、第二積層体を作製してもよい。加工ステップでは、例えば、第一積層体をレーザーで切断することにより、第二積層体を作製してもよい。レーザーは、例えば、COレーザー又はエキシマレーザーであってよい。加工ステップでは、例えば、上述の刃物を用いた切断、打ち抜き加工、及びレーザーを用いた切断を組み合わせて、第二積層体を作製してもよい。第一積層体を上述の加工方法により加工して第一積層体の寸法を所定の寸法より大きく調整した後、第一積層体の端部をフライスで切削・研磨することにより、第二積層体を作製してもよい。 The manufacturing method of the polarizing plate 1A includes at least a bonding step and a processing step. In the bonding step, the resin layer 9 is formed on the surface of the long strip-shaped polarizer film. In the bonding step, a polarizer film and a plurality of long strip-shaped optical films are bonded together to produce a laminate (first laminate). The long strip-shaped polarizer film is the polarizer 7 before processing and molding. The long strip-like optical films are optical films (3, 5, 13) before processing and molding. In the subsequent processing step, the first laminate is processed to produce a plurality of laminates (second laminates) having desired dimensions and shapes. In the processing step, for example, the second laminate may be produced by cutting the first laminate with a blade. In the processing step, for example, the second laminate may be produced by punching the first laminate. In the processing step, for example, the second laminate may be produced by cutting the first laminate with a laser. The laser may be, for example, a CO 2 laser or an excimer laser. In the processing step, for example, the second laminate may be manufactured by combining cutting using the above-described blade, punching, and cutting using a laser. The first laminated body is processed by the above-described processing method, and after adjusting the dimension of the first laminated body to be larger than a predetermined dimension, the end of the first laminated body is cut and polished with a milling cutter. May be produced.

加工ステップでは、例えば、打ち抜き加工、又は刃物若しくはレーザーを用いた切断により、凹状の切欠き部7Cを、第二積層体の第一端部7eに形成してよい。加工ステップにおいて切欠き部7Cが形成された第二積層体を作製した後、端部加工ステップを行ってよい。端部加工ステップでは、例えば、エンドミル(endmill)を用いて、切欠き部7Cを含む第二積層体の端面を切削・研磨してよい。エンドミルとは、切削加工用のフライスの一種である。エンドミルは、例えば、その回転軸に略平行な側面に位置する刃で、切欠き部7Cを含む第二積層体の端面を切削・研磨する。その結果、切欠き部7Cを含む第二積層体の端面が平滑に仕上がる。このエンドミルを用いることにより、短時間で、第二積層体を所望の形状及び寸法を有する偏光板1Aへ成形することが可能である。つまり、偏光板1Aの生産性が向上する。加工ステップにおいて従来よりも大きく第一積層体を打ち抜いて第二積層体を作製し、続く端部加工ステップでは第二積層体の端面をエンドミルで切削・研磨してよい。その結果、端部加工ステップにおいて第二積層体から除去される端部のマージン(margin)が減少し、端部加工ステップにおける研磨屑等の異物の発生が抑制され、異物の製品(偏光板1A)への混入が抑制される。   In the processing step, the concave notch portion 7C may be formed in the first end portion 7e of the second laminate by, for example, punching processing or cutting using a blade or a laser. After producing the 2nd laminated body in which the notch part 7C was formed in the process step, you may perform an edge part process step. In the end portion processing step, for example, the end surface of the second laminated body including the notch portion 7C may be cut and polished using an end mill. An end mill is a kind of milling cutter. The end mill cuts and polishes the end surface of the second laminate including the notch portion 7C, for example, with a blade located on a side surface substantially parallel to the rotation axis. As a result, the end surface of the second laminate including the notch 7C is finished smoothly. By using this end mill, the second laminate can be formed into a polarizing plate 1A having a desired shape and dimensions in a short time. That is, the productivity of the polarizing plate 1A is improved. In the processing step, the first laminate may be punched larger than before to produce a second laminate, and in the subsequent end portion processing step, the end face of the second laminate may be cut and polished with an end mill. As a result, the margin of the edge part removed from the second laminate in the end part processing step is reduced, and the generation of foreign matters such as polishing debris in the end part processing step is suppressed. ) Is suppressed.

加工ステップにおいて切欠き部7Cを形成せず、加工ステップに続く端部加工ステップにおいて、凹状の切欠き部7Cを第二積層体の第一端部7eに形成してもよい。端部加工ステップでは、例えば、上記のレーザーを第二積層体の端部に照射して端部の一部又は全部を切断することにより、切欠き部7Cを第二積層体に形成してよい。上記のエンドミルを用いた端部加工ステップにより、切欠き部7Cを第二積層体に形成してもよい。   The notch portion 7C may not be formed in the processing step, and the concave notch portion 7C may be formed in the first end portion 7e of the second stacked body in the end portion processing step subsequent to the processing step. In the end portion processing step, for example, the notched portion 7C may be formed in the second stacked body by irradiating the end portion of the second stacked body with the laser and cutting a part or all of the end portion. . The notch 7C may be formed in the second laminate by the end machining step using the above-described end mill.

樹脂層9を構成する樹脂硬化物は、活性エネルギー線の照射によって硬化する光硬化性樹脂組成物から形成されてよい。樹脂層9を構成する樹脂硬化物は、加熱によって硬化する熱硬化性樹脂組成物から形成されてもよい。樹脂層9を構成する樹脂硬化物は、エポキシ系化合物を含んでよい。樹脂層9を構成する樹脂硬化物は、オキセタン系化合物を含んでもよい。樹脂層9を構成する樹脂硬化物は、(メタ)アクリル系化合物を含んでもよい。以下では、樹脂層9(樹脂硬化物)の形成に適した硬化性樹脂組成物の具体例について詳しく説明する。   The cured resin that forms the resin layer 9 may be formed from a photocurable resin composition that is cured by irradiation with active energy rays. The cured resin that forms the resin layer 9 may be formed from a thermosetting resin composition that is cured by heating. The cured resin that forms the resin layer 9 may include an epoxy compound. The cured resin that forms the resin layer 9 may include an oxetane compound. The cured resin that forms the resin layer 9 may include a (meth) acrylic compound. Below, the specific example of the curable resin composition suitable for formation of the resin layer 9 (resin hardened | cured material) is demonstrated in detail.

<樹脂層9用の硬化性樹脂組成物>
樹脂層9の形成に用いる硬化性樹脂組成物は、活性エネルギー線硬化性化合物として、分子内にエポキシ基を少なくとも1個有するエポキシ系化合物を含むことが好ましい。このようなエポキシ系化合物を含む硬化性樹脂組成物を用いることにより、樹脂層9が偏光子7に対して良好な密着性を示すとともに、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性などに優れる耐久性能の高い偏光板1Aを得ることができる。「分子内にエポキシ基を少なくとも1個有するエポキシ系化合物」とは、分子内に1個以上のエポキシ基を有し、活性エネルギー線の照射により硬化し得る化合物を意味する。このエポキシ系化合物は特に、分子内にエポキシ基を少なくとも2個有することが好ましい。「活性エネルギー線硬化性化合物」とは、エポキシ系化合物をはじめとして、後述するオキセタン系化合物及び(メタ)アクリル系化合物を含め、活性エネルギー線の照射により硬化し得る硬化性樹脂組成物を総称する意味である。
<Curable resin composition for resin layer 9>
The curable resin composition used for forming the resin layer 9 preferably contains an epoxy compound having at least one epoxy group in the molecule as the active energy ray-curable compound. By using such a curable resin composition containing an epoxy compound, the resin layer 9 exhibits good adhesion to the polarizer 7, and also has transparency, mechanical strength, thermal stability, and moisture barrier properties. Thus, it is possible to obtain a polarizing plate 1A having excellent durability performance. The “epoxy compound having at least one epoxy group in the molecule” means a compound having one or more epoxy groups in the molecule and capable of being cured by irradiation with active energy rays. This epoxy compound preferably has at least two epoxy groups in the molecule. “Active energy ray-curable compound” is a generic term for curable resin compositions that can be cured by irradiation with active energy rays, including epoxy compounds, oxetane compounds and (meth) acrylic compounds described later. Meaning.

(活性エネルギー線硬化性化合物その1:カチオン重合性化合物)
硬化性樹脂組成物を構成するエポキシ系化合物は、脂環式環を有するポリオールのグリシジルエーテル、脂環式エポキシ系化合物、脂肪族エポキシ系化合物、芳香族エポキシ化合物などが例示できる。
(Active energy ray-curable compound 1: Cationic polymerizable compound)
Examples of the epoxy compound constituting the curable resin composition include a glycidyl ether of a polyol having an alicyclic ring, an alicyclic epoxy compound, an aliphatic epoxy compound, and an aromatic epoxy compound.

脂環式環を有するポリオールのグリシジルエーテルは、脂環式環に結合した水酸基を分子内に少なくとも2個有する化合物の水酸基をグリシジルエーテル化して得られる化合物である。脂環式環を有するポリオール、すなわち、脂環式環に結合した水酸基を分子内に少なくとも2個有する化合物は、芳香族ポリオールを触媒の存在下、加圧下で芳香環に選択的に水素化反応を行うことにより得られるものであることができる。芳香族ポリオールは、例えば、ビスフェノールA、ビスフェールF及びビスフェノールSのようなビスフェノール型化合物;フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂及びヒドロキシベンズアルデヒドフェノールノボラック樹脂のようなノボラック型樹脂;テトラヒドロキシジフェニルメタン、テトラヒドロキシベンゾフェノン及びポリビニルフェノールのような多官能型の化合物などである。これら芳香族ポリオールの芳香環に水素化反応を行って得られる脂環式ポリオールに、エピクロロヒドリンを反応させることにより、グリシジルエーテルとすることができる。これらのなかでも好ましいものとして、水素化されたビスフェノールAのジグリシジルエーテルが挙げられる。   The glycidyl ether of a polyol having an alicyclic ring is a compound obtained by glycidyl etherifying a hydroxyl group of a compound having at least two hydroxyl groups bonded to the alicyclic ring in the molecule. A polyol having an alicyclic ring, that is, a compound having at least two hydroxyl groups bonded to the alicyclic ring in the molecule is selectively hydrogenated to the aromatic ring under pressure in the presence of a catalyst. It can be obtained by performing. Aromatic polyols include, for example, bisphenol type compounds such as bisphenol A, bisphenol F and bisphenol S; novolac type resins such as phenol novolac resin, cresol novolac resin and hydroxybenzaldehyde phenol novolac resin; tetrahydroxydiphenylmethane, tetrahydroxybenzophenone And polyfunctional compounds such as polyvinylphenol. Glycidyl ether can be obtained by reacting an alicyclic polyol obtained by hydrogenating the aromatic ring of these aromatic polyols with epichlorohydrin. Among these, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether is preferable.

脂環式エポキシ系化合物は、脂環式環に結合したエポキシ基を分子内に少なくとも1個有する化合物である。「脂環式環に結合したエポキシ基」とは、下記化学式1に示される構造における橋かけの酸素原子−O−を意味し、この式中、mは2〜5の整数である。   An alicyclic epoxy compound is a compound having at least one epoxy group bonded to an alicyclic ring in the molecule. The “epoxy group bonded to the alicyclic ring” means a bridging oxygen atom —O— in the structure represented by the following chemical formula 1, wherein m is an integer of 2 to 5.

Figure 2018159911
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上記化学式1における(CH)中の水素原子を1個又は複数個取り除いた形の基が他の化学構造に結合している化合物が、脂環式エポキシ系化合物となり得る。脂環式環を形成する(CH)中の1個又は複数個の水素原子は、メチル基やエチル基のような直鎖状アルキル基で適宜置換されていてもよい。脂環式エポキシ系化合物のなかでも、エポキシシクロペンタン環(上記式においてm=3のもの)や、エポキシシクロへキサン環(上記式においてm=4のもの)を有するエポキシ系化合物は、硬化物の弾性率が高く、偏光子7との密着性に優れることからより好ましく用いられる。 A compound in which one or a plurality of hydrogen atoms in (CH 2 ) m in the above chemical formula 1 are bonded to another chemical structure can be an alicyclic epoxy compound. One or more hydrogen atoms in (CH 2 ) m forming the alicyclic ring may be appropriately substituted with a linear alkyl group such as a methyl group or an ethyl group. Among alicyclic epoxy compounds, epoxy compounds having an epoxycyclopentane ring (m = 3 in the above formula) or an epoxycyclohexane ring (m = 4 in the above formula) are cured products. Is more preferably used because of its high elastic modulus and excellent adhesion to the polarizer 7.

以下に、脂環式エポキシ系化合物の具体例を列挙する。以下では、まず化合物名を挙げ、続いて各化合物名に対応する化学式を示す。化合物名とそれに対応する化学式には同じ符号を付す。   Specific examples of the alicyclic epoxy compound are listed below. In the following, compound names are given first, followed by chemical formulas corresponding to the respective compound names. A compound name and a chemical formula corresponding to the compound name are denoted by the same reference numerals.

A:3,4−エポキシシクロヘキシルメチル 3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、
B:3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル 3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、
C:エチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、
D:ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル) アジペート、
E:ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル) アジペート、
F:ジエチレングリコールビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチルエーテル)、
G:エチレングリコールビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチルエーテル)、
H:2,3,14,15−ジエポキシ−7,11,18,21−テトラオキサトリスピロ[5.2.2.5.2.2]ヘンイコサン、
I:3−(3,4−エポキシシクロヘキシル)−8,9−エポキシ−1,5−ジオキサスピロ[5.5]ウンデカン、
J:4−ビニルシクロヘキセンジオキサイド、
K:リモネンジオキサイド、
L:ビス(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル、
M:ジシクロペンタジエンジオキサイドなど。
A: 3,4-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate,
B: 3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl 3,4-epoxy-6-methylcyclohexanecarboxylate,
C: ethylene bis (3,4-epoxycyclohexanecarboxylate),
D: Bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate,
E: bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate,
F: Diethylene glycol bis (3,4-epoxycyclohexyl methyl ether),
G: ethylene glycol bis (3,4-epoxycyclohexyl methyl ether),
H: 2,3,14,15-diepoxy-7,11,18,21-tetraoxatrispiro [5.2.2.5.2.2] henicosane,
I: 3- (3,4-epoxycyclohexyl) -8,9-epoxy-1,5-dioxaspiro [5.5] undecane,
J: 4-vinylcyclohexene dioxide,
K: Limonene dioxide
L: bis (2,3-epoxycyclopentyl) ether,
M: Dicyclopentadiene dioxide and the like.

Figure 2018159911
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脂肪族エポキシ系化合物は、脂肪族多価アルコール又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテルであることができる。脂肪族エポキシ系化合物は、例えば、1,4−ブタンジオールのジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンのトリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジルエーテル、エチレングリコールやプロピレングリコール、グリセリンのような脂肪族多価アルコールにアルキレンオキサイド(エチレンオキサイドやプロピレンオキサイド)を付加して得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテルなどである。
偏光子7と粘着層11の間の接着性を向上させる観点から、硬化性樹脂組成物に含まれる脂肪族エポキシ化合物は、脂肪族炭素原子に結合する2個のオキシラン環を分子内に有する二官能性のエポキシ化合物(脂肪族ジエポキシ化合物)であることが好ましい。硬化性樹脂組成物が脂肪族ジエポキシ化合物を含むことにより、粘度が低く、塗布し易い硬化性樹脂組成物を得ることができる。
The aliphatic epoxy-based compound can be an aliphatic polyhydric alcohol or a polyglycidyl ether of an alkylene oxide adduct thereof. Aliphatic epoxy compounds include, for example, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl. Ether, diglycidyl ether of propylene glycol, polyglycidyl ether of polyether polyol obtained by adding alkylene oxide (ethylene oxide or propylene oxide) to aliphatic polyhydric alcohol such as ethylene glycol, propylene glycol and glycerin .
From the viewpoint of improving the adhesiveness between the polarizer 7 and the pressure-sensitive adhesive layer 11, the aliphatic epoxy compound contained in the curable resin composition has two oxirane rings bonded to aliphatic carbon atoms in the molecule. It is preferable that it is a functional epoxy compound (aliphatic diepoxy compound). When the curable resin composition contains an aliphatic diepoxy compound, a curable resin composition having a low viscosity and easy to apply can be obtained.

芳香族エポキシ化合物は、分子内に1つ以上の芳香環を有する化合物である。以下に、芳香族エポキシ化合物の具体例を列挙する。
フェノール、クレゾール、ブチルフェノール等の少なくとも1つの芳香環を有する1価フェノールまたは、そのアルキレンオキシド付加物のモノ/ポリグリシジルエーテル化物、例えばビスフェノールA、ビスフェノールF、またはこれらにさらにアルキレンオキシドを付加した化合物のグリシジルエーテル化物やエポキシノボラック樹脂;
レゾルシノールやハイドロキノン、カテコール等の2つ以上のフェノール性水酸基を有する芳香族化合物のグリシジルエーテル;
ベンゼンジメタノールやベンゼンジエタノール、ベンゼンジブタノール等のアルコール性水酸基を2つ以上有する芳香族化合物のモノ/ポリグリシジルエーテル化物;
フタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸等の2つ以上のカルボン酸を有する多塩基酸芳香族化合物のグリシジルエステル;
安息香酸やトルイル酸、ナフトエ酸等の安息香酸類のグリシジルエステル;
スチレンオキシドまたはジビニルベンゼンのエポキシ化物等。
An aromatic epoxy compound is a compound having one or more aromatic rings in the molecule. Specific examples of the aromatic epoxy compound are listed below.
Monohydric phenol having at least one aromatic ring such as phenol, cresol, butylphenol or the like, or mono / polyglycidyl etherified product of an alkylene oxide adduct thereof, such as bisphenol A, bisphenol F, or a compound obtained by further adding an alkylene oxide thereto Glycidyl etherified products and epoxy novolac resins;
A glycidyl ether of an aromatic compound having two or more phenolic hydroxyl groups such as resorcinol, hydroquinone, catechol;
Mono / polyglycidyl etherified products of aromatic compounds having two or more alcoholic hydroxyl groups such as benzenedimethanol, benzenediethanol, benzenedibutanol;
Glycidyl esters of polybasic aromatic compounds having two or more carboxylic acids such as phthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid;
Glycidyl esters of benzoic acids such as benzoic acid, toluic acid, naphthoic acid;
Epoxidized styrene oxide or divinylbenzene.

硬化性組成物の低粘度化の観点から、芳香族エポキシ化合物は、フェノール類のグリシジルエーテル、アルコール性水酸基を2つ以上有する芳香族化合物のグリシジルエーテル化物、多価フェノール類のグリシジルエーテル化物、安息香酸類のグリシジルエステル、多塩基酸類のグリシジルエステル、スチレンオキシドまたはジビニルベンゼンのエポキシ化物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含むことが好ましい。また、硬化性組成物の硬化性を向上させることから、芳香族エポキシ化合物としては、エポキシ当量が80〜500であるものが好ましい。一種の芳香族エポキシ化合物を単独で用いても、異なる複数種の芳香族エポキシ化合物を組み合わせて用いてもよい。   From the viewpoint of lowering the viscosity of the curable composition, the aromatic epoxy compound includes a glycidyl ether of a phenol, a glycidyl ether of an aromatic compound having two or more alcoholic hydroxyl groups, a glycidyl ether of a polyhydric phenol, benzoic acid It is preferable to include at least one selected from the group consisting of glycidyl esters of acids, glycidyl esters of polybasic acids, styrene oxide or epoxidized divinylbenzene. Moreover, since it improves the sclerosis | hardenability of a curable composition, as an aromatic epoxy compound, what has an epoxy equivalent of 80-500 is preferable. One kind of aromatic epoxy compound may be used alone, or a plurality of different kinds of aromatic epoxy compounds may be used in combination.

芳香族エポキシ化合物としては、市販品を用いることができる。芳香族エポキシ化合物の市販品の商品名は、例えば、デナコールEX−121、デナコールEX−141、デナコールEX−142、デナコールEX−145、デナコールEX−146、デナコールEX−147、デナコールEX−201、デナコールEX−203、デナコールEX−711、デナコールEX−721、オンコートEX−1020、オンコートEX−1030、オンコートEX−1040、オンコートEX−1050、オンコートEX−1051、オンコートEX−1010、オンコートEX−1011、オンコート1012(以上、ナガセケムテックス社製);オグソールPG−100、オグソールEG−200、オグソールEG−210、オグソールEG−250(以上、大阪ガスケミカル社製);HP4032、HP4032D、HP4700(以上、DIC社製);ESN−475V(新日鉄住金化学社製);エピコートYX8800(三菱化学社製);マープルーフG−0105SA、マープルーフG−0130SP(日油社製);エピクロンN−665、エピクロンHP−7200(以上、DIC社製);EOCN−1020、EOCN−102S、EOCN−103S、EOCN−104S、XD−1000、NC−3000、EPPN−501H、EPPN−501HY、EPPN−502H、NC−7000L(以上、日本化薬社製);アデカグリシロールED−501、アデカグリシロールED−502、アデカグリシロールED−509、アデカグリシロールED−529、アデカレジンEP−4000、アデカレジンEP−4005、アデカレジンEP−4100、アデカレジンEP−4901(以上、ADEKA社製);TECHMORE VG−3101L、EPOX−MKR710、EPOX−MKR151(以上、プリンテック社製)などである。
硬化性樹脂組成物が芳香族エポキシ化合物を含むことにより、硬化性樹脂組成物が疎水性の樹脂となり、これにより得られる硬化物層(樹脂層9)も疎水性を有すことができる。その結果、高温高湿下において外部から偏光板1A内への水分の侵入が抑制され、偏光子7に含まれる二色性色素(ヨウ素)の移動が効果的に抑制される。
A commercially available product can be used as the aromatic epoxy compound. The commercial names of aromatic epoxy compounds are, for example, Denacol EX-121, Denacol EX-141, Denacol EX-142, Denacol EX-145, Denacol EX-146, Denacol EX-147, Denacol EX-201, Denacol EX-203, Denacol EX-711, Denacol EX-721, On-coat EX-1020, On-coat EX-1030, On-coat EX-1040, On-coat EX-1050, On-coat EX-1051, On-coat EX-1010, ONCOAT EX-1011, ONCOAT 1012 (manufactured by Nagase ChemteX Corporation); OGSOL PG-100, OGSOL EG-200, OGSOL EG-210, OGSOL EG-250 (manufactured by Osaka Gas Chemical Co.); HP4032, HP 032D, HP4700 (manufactured by DIC Corporation); ESN-475V (manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd.); Epicoat YX8800 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation); Marproof G-0105SA, Marproof G-0130SP (manufactured by NOF Corporation); N-665, Epicron HP-7200 (above, manufactured by DIC); EOCN-1020, EOCN-102S, EOCN-103S, EOCN-104S, XD-1000, NC-3000, EPPN-501H, EPPN-501HY, EPPN- 502H, NC-7000L (above, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.); Adekaglycilol ED-501, Adekaglycilol ED-502, Adekaglycilol ED-509, Adekaglycilol ED-529, Adekaresin EP-4000, Adeka Resin EP -4005, a Karejin EP-4100, Adecaresin EP-4901 (manufactured by ADEKA Corporation); TECHMORE VG-3101L, EPOX-MKR710, EPOX-MKR151 (manufactured by pudding-Tech Co., Ltd.), and the like.
When the curable resin composition contains an aromatic epoxy compound, the curable resin composition becomes a hydrophobic resin, and the cured product layer (resin layer 9) obtained thereby can also have hydrophobicity. As a result, entry of moisture from the outside into the polarizing plate 1A is suppressed under high temperature and high humidity, and the movement of the dichroic dye (iodine) contained in the polarizer 7 is effectively suppressed.

硬化性樹脂組成物において、エポキシ系化合物は、それぞれ単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。偏光子7に対する密着性に優れた樹脂層9が得られることから、硬化性樹脂組成物は、少なくとも脂環式エポキシ系化合物を含むことが好ましい。   In the curable resin composition, the epoxy compounds may be used alone or in combination of two or more. Since the resin layer 9 excellent in adhesiveness with respect to the polarizer 7 is obtained, the curable resin composition preferably includes at least an alicyclic epoxy compound.

エポキシ系化合物の含有量は、活性エネルギー線硬化性化合物の全量を基準に、30〜100重量%、好ましくは35〜70重量%、より好ましくは40〜60重量%であってよい。エポキシ系化合物の含有量が30重量%を下回ると、偏光子7との密着性が低下する傾向にある。   The content of the epoxy compound may be 30 to 100% by weight, preferably 35 to 70% by weight, more preferably 40 to 60% by weight, based on the total amount of the active energy ray-curable compound. When the content of the epoxy compound is less than 30% by weight, the adhesion with the polarizer 7 tends to be lowered.

また、硬化性樹脂組成物には、上記のエポキシ系化合物に加え、オキセタン系化合物を配合してもよい。オキセタン系化合物を添加することにより、硬化性樹脂組成物の粘度を低くし、硬化速度を速めることができる。さらには、硬化膜の黄変を防ぎ、光学耐久性を向上させる効果も期待される。   Moreover, in addition to said epoxy type compound, you may mix | blend an oxetane type compound with curable resin composition. By adding an oxetane compound, the viscosity of the curable resin composition can be lowered and the curing rate can be increased. Furthermore, the effect which prevents yellowing of a cured film and improves optical durability is also anticipated.

オキセタン系化合物は、分子内に4員環エーテルを有する化合物である。オキセタン系化合物は、例えば、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、1,4−ビス〔(3−エチル3−オキセタニル)メトキシメチル〕ベンゼン、3−エチル−3−(フェノキシメチル)オキセタン、ビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、3−エチル−3−(2−エチルヘキシルオキシメチル)オキセタン、フェノールノボラックオキセタンなどである。これらのオキセタン化合物の市販品を容易に入手することが可能である。例えば、東亞合成(株)から販売されているオキセタン化合物の商品名は、“アロンオキセタンOXT−101”、“アロンオキセタンOXT−121”、“アロンオキセタンOXT−211”、“アロンオキセタンOXT−221”、“アロンオキセタンOXT−212”などである。オキセタン系化合物の配合量は特に限定されないが、活性エネルギー線硬化性化合物の全量を基準に、70重量%以下、好ましくは10〜50重量%であってよい。
硬化性樹脂組成物の組成は、重合性化合物の総量100質量%(硬化性樹脂組成物全体)に対して、
(A1)2つ以上のオキセタニル基を有するオキセタン化合物35〜70質量%、
(A2)2つ以上のエポキシ基を有する脂肪族エポキシ化合物0〜40質量%、
(A3)2つ以上のエポキシ基を有する脂環式エポキシ化合物15〜50質量%、及び
(A4)1つ以上の芳香環を有する芳香族エポキシ化合物0〜20質量%
であることが好ましい。
硬化性樹脂組成物が、オキセタン化合物(A)及び脂環式エポキシ化合物(B1)を含有する場合、オキセタン化合物(A)の含有量(WA)に対する脂環式エポキシ化合物(B1)の含有量(WB1)の質量比(WB1/WA)は、0.05〜1.5であることが好ましい。
硬化性樹脂組成物が、オキセタン化合物(A)及び脂肪族エポキシ化合物(B2)を含有する場合、オキセタン化合物(A)の含有量(WA)に対する脂肪族エポキシ化合物(B2)の含有量(WB2)の質量比(WB2/WA)は、0.1〜0.5であることが好ましい。
硬化性樹脂組成物が、オキセタン化合物(A)及び芳香族エポキシ化合物(B3)を含有する場合、オキセタン化合物(A)の含有量(WA)に対する芳香族エポキシ化合物(B3)の含有量(WB3)の質量比(WB3/WA)は、0.1〜1.5であることが好ましい。
The oxetane compound is a compound having a 4-membered ring ether in the molecule. Examples of the oxetane compound include 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 1,4-bis [(3-ethyl3-oxetanyl) methoxymethyl] benzene, 3-ethyl-3- (phenoxymethyl) oxetane, bis ( 3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane, phenol novolac oxetane and the like. Commercial products of these oxetane compounds can be easily obtained. For example, the trade names of oxetane compounds sold by Toagosei are “Aron Oxetane OXT-101”, “Aron Oxetane OXT-121”, “Aron Oxetane OXT-211”, “Aron Oxetane OXT-221”. "Aron Oxetane OXT-212". The blending amount of the oxetane compound is not particularly limited, but may be 70% by weight or less, preferably 10 to 50% by weight, based on the total amount of the active energy ray-curable compound.
The composition of the curable resin composition is 100% by mass of the total amount of polymerizable compounds (the entire curable resin composition).
(A1) 35 to 70% by mass of an oxetane compound having two or more oxetanyl groups,
(A2) 0 to 40% by mass of an aliphatic epoxy compound having two or more epoxy groups,
(A3) 15 to 50% by mass of an alicyclic epoxy compound having two or more epoxy groups, and (A4) 0 to 20% by mass of an aromatic epoxy compound having one or more aromatic rings
It is preferable that
When the curable resin composition contains the oxetane compound (A) and the alicyclic epoxy compound (B1), the content of the alicyclic epoxy compound (B1) with respect to the content (WA) of the oxetane compound (A) ( The mass ratio (WB1 / WA) of WB1) is preferably 0.05 to 1.5.
When the curable resin composition contains an oxetane compound (A) and an aliphatic epoxy compound (B2), the content (WB2) of the aliphatic epoxy compound (B2) with respect to the content (WA) of the oxetane compound (A). The mass ratio (WB2 / WA) is preferably 0.1 to 0.5.
When the curable resin composition contains an oxetane compound (A) and an aromatic epoxy compound (B3), the content (WB3) of the aromatic epoxy compound (B3) with respect to the content (WA) of the oxetane compound (A). The mass ratio (WB3 / WA) is preferably 0.1 to 1.5.

(重合開始剤その1:光カチオン重合開始剤)
硬化性樹脂組成物が、エポキシ系化合物やオキセタン系化合物のようなカチオン重合性化合物を含む場合、その硬化性樹脂組成物には、光カチオン重合開始剤を配合することが好ましい。光カチオン重合開始剤を使用することで、常温での樹脂層9の形成が可能となるため、偏光子7の耐熱性や膨張による歪を考慮する必要が減少し、偏光子7に樹脂層9を密着させ易い。また、光カチオン重合開始剤は、光で触媒的に作用するため、硬化性樹脂組成物に混合しても保存安定性や作業性に優れる。
(Polymerization initiator 1: Photocationic polymerization initiator)
When the curable resin composition contains a cationically polymerizable compound such as an epoxy compound or an oxetane compound, it is preferable to add a photocationic polymerization initiator to the curable resin composition. By using the cationic photopolymerization initiator, the resin layer 9 can be formed at room temperature. Therefore, the heat resistance of the polarizer 7 and the distortion due to expansion are reduced, and the resin layer 9 is added to the polarizer 7. Is easy to adhere. Moreover, since a photocationic polymerization initiator acts catalytically by light, it is excellent in storage stability and workability even when mixed with a curable resin composition.

光カチオン重合開始剤は、可視光線、紫外線、X線、電子線のような活性エネルギー線の照射によって、カチオン種又はルイス酸を発生し、エポキシ系化合物及び/又はオキセタン系化合物の重合反応を開始させるものである。作業性の観点から、光カチオン重合開始剤には潜在性が付与されていることが好ましい。光カチオン重合開始剤には、例えば、芳香族ジアゾニウム塩;芳香族ヨードニウム塩や芳香族スルホニウム塩のようなオニウム塩;鉄−アレーン錯体などがある。   The cationic photopolymerization initiator generates a cationic species or a Lewis acid upon irradiation with active energy rays such as visible light, ultraviolet light, X-rays, and electron beams, and initiates a polymerization reaction of an epoxy compound and / or an oxetane compound. It is something to be made. From the viewpoint of workability, it is preferable that the cationic photopolymerization initiator is provided with latency. Examples of the cationic photopolymerization initiator include aromatic diazonium salts; onium salts such as aromatic iodonium salts and aromatic sulfonium salts; and iron-arene complexes.

芳香族ジアゾニウム塩の具体例は、以下の通りである。
ベンゼンジアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネート、
ベンゼンジアゾニウム ヘキサフルオロホスフェート、
ベンゼンジアゾニウム ヘキサフルオロボレートなど。
Specific examples of the aromatic diazonium salt are as follows.
Benzenediazonium hexafluoroantimonate,
Benzenediazonium hexafluorophosphate,
Benzenediazonium hexafluoroborate, etc.

芳香族ヨードニウム塩の具体例は、以下の通りである。
ジフェニルヨードニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
ジフェニルヨードニウム ヘキサフルオロホスフェート、
ジフェニルヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、
ビス(4−ノニルフェニル)ヨードニウム ヘキサフルオロホスフェートなど。
Specific examples of the aromatic iodonium salt are as follows.
Diphenyliodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate,
Diphenyliodonium hexafluorophosphate,
Diphenyliodonium hexafluoroantimonate,
Bis (4-nonylphenyl) iodonium hexafluorophosphate and the like.

芳香族スルホニウム塩の具体例は、以下の通りである。
トリフェニルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、
トリフェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、
トリフェニルスルホニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
4,4’−ビス(ジフェニルスルホニオ)ジフェニルスルフィド ビスヘキサフルオロホスフェート、
4,4’−ビス〔ジ(β−ヒドロキシエトキシ)フェニルスルホニオ〕ジフェニルスルフィド ビスヘキサフルオロアンチモネート、
4,4’−ビス〔ジ(β−ヒドロキシエトキシ)フェニルスルホニオ〕ジフェニルスルフィド ビスヘキサフルオロホスフェート、
7−〔ジ(p−トルイル)スルホニオ〕−2−イソプロピルチオキサントン ヘキサフルオロアンチモネート、
7−〔ジ(p−トルイル)スルホニオ〕−2−イソプロピルチオキサントン テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
4−フェニルカルボニル−4’−ジフェニルスルホニオジフェニルスルフィド ヘキサフルオロホスフェート、
4−(p−tert−ブチルフェニルカルボニル)−4’−ジフェニルスルホニオジフェニルスルフィド ヘキサフルオロアンチモネート、
4−(p−tert−ブチルフェニルカルボニル)−4’−ジ(p−トルイル)スルホニオジフェニルスルフィド テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートなど。
Specific examples of the aromatic sulfonium salt are as follows.
Triphenylsulfonium hexafluorophosphate,
Triphenylsulfonium hexafluoroantimonate,
Triphenylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate,
4,4′-bis (diphenylsulfonio) diphenyl sulfide bishexafluorophosphate,
4,4′-bis [di (β-hydroxyethoxy) phenylsulfonio] diphenyl sulfide bishexafluoroantimonate,
4,4′-bis [di (β-hydroxyethoxy) phenylsulfonio] diphenyl sulfide bishexafluorophosphate,
7- [di (p-toluyl) sulfonio] -2-isopropylthioxanthone hexafluoroantimonate,
7- [di (p-toluyl) sulfonio] -2-isopropylthioxanthone tetrakis (pentafluorophenyl) borate,
4-phenylcarbonyl-4′-diphenylsulfoniodiphenyl sulfide hexafluorophosphate,
4- (p-tert-butylphenylcarbonyl) -4′-diphenylsulfoniodiphenyl sulfide hexafluoroantimonate,
4- (p-tert-butylphenylcarbonyl) -4′-di (p-toluyl) sulfoniodiphenyl sulfide tetrakis (pentafluorophenyl) borate and the like.

また、鉄−アレーン錯体としては、例えば、次のような化合物が挙げられる。
キシレン−シクロペンタジエニル鉄(II) ヘキサフルオロアンチモネート、
クメン−シクロペンタジエニル鉄(II) ヘキサフルオロホスフェート、
キシレン−シクロペンタジエニル鉄(II) トリス(トリフルオロメチルスルホニル)メタナイドなど。
Moreover, as an iron-arene complex, the following compounds are mentioned, for example.
Xylene-cyclopentadienyl iron (II) hexafluoroantimonate,
Cumene-cyclopentadienyl iron (II) hexafluorophosphate,
Xylene-cyclopentadienyl iron (II) tris (trifluoromethylsulfonyl) methanide and the like.

これらの光カチオン重合開始剤の市販品を容易に入手することが可能である。光カチオン重合開始剤の市販品の商品名は、“カヤラッドPCI−220”及び“カヤラッドPCI−620”〔以上、日本化薬(株)製〕、“アデカオプトマーSP−150”及び“アデカオプトマーSP−170”〔以上、(株)ADEKA製〕、“UVACURE 1590”〔ダイセル・サイテック(株)製〕、“CI−5102”、“CIT−1370”、“CIT−1682”、“CIP−1866S”、“CIP−2048S”及び“CIP−2064S”〔以上、日本曹達(株)製〕、“DPI−101”、“DPI−102”、“DPI−103”、“DPI−105”、“MPI−103”、“MPI−105”、“BBI−101”、“BBI−102”、“BBI−103”、“BBI−105”、“TPS−101”、“TPS−102”、“TPS−103”、“TPS−105”、“MDS−103”、“MDS−105”、“DTS−102”及び“DTS−103”〔以上、みどり化学(株)製〕、“UVI−6990”〔ユニオンカーバイド社製〕、“PI−2074”〔ローディア社製〕などである。   Commercial products of these photocationic polymerization initiators can be easily obtained. The commercial names of the photocationic polymerization initiators are “Kayarad PCI-220” and “Kayarad PCI-620” (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), “Adekaoptomer SP-150” and “Adekaopt”. "Mer SP-170" (manufactured by ADEKA Corporation), "UVACURE 1590" (manufactured by Daicel Cytec Corporation), "CI-5102", "CIT-1370", "CIT-1682", "CIP-" 1866S "," CIP-2048S "and" CIP-2064S "(manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.)," DPI-101 "," DPI-102 "," DPI-103 "," DPI-105 "," “MPI-103”, “MPI-105”, “BBI-101”, “BBI-102”, “BBI-103”, “BBI-105”, “TPS-10” "," TPS-102 "," TPS-103 "," TPS-105 "," MDS-103 "," MDS-105 "," DTS-102 "and" DTS-103 "[Midori Chemical Co., Ltd. )], “UVI-6990” (manufactured by Union Carbide), “PI-2074” (manufactured by Rhodia), and the like.

これらの光カチオン重合開始剤は、それぞれ単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。これらのなかでも特に芳香族スルホニウム塩は、300nm以上の波長領域でも紫外線吸収特性を有することから、硬化性に優れ、良好な機械的強度や偏光子7との良好な密着性を有する硬化物を与えることができるため、好ましく用いられる。   These photocationic polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. Among these, aromatic sulfonium salts, in particular, have ultraviolet absorption characteristics even in a wavelength region of 300 nm or more, and therefore, cured products having excellent curability, good mechanical strength, and good adhesion to the polarizer 7. Since it can be given, it is preferably used.

光カチオン重合開始剤の配合量は、エポキシ系化合物及びオキセタン系化合物を含むカチオン重合性化合物の合計100重量部に対して、0.5〜20重量部、好ましくは10重量部以下、さらに好ましくは1〜6重量部であってよい。光カチオン重合開始剤の配合量が少ないと、硬化が不十分になり、機械的強度や樹脂層9と偏光子7との密着性を低下させる傾向にある。一方、光カチオン重合開始剤の配合量が多すぎると、硬化物中のイオン性物質が増加することで硬化物の吸湿性が高くなり、耐久性能が低下する可能性がある。   The compounding amount of the cationic photopolymerization initiator is 0.5 to 20 parts by weight, preferably 10 parts by weight or less, more preferably 100 parts by weight of the total of the cationically polymerizable compounds including the epoxy compound and the oxetane compound. It may be 1-6 parts by weight. If the amount of the cationic photopolymerization initiator is small, curing becomes insufficient, and the mechanical strength and the adhesion between the resin layer 9 and the polarizer 7 tend to be reduced. On the other hand, when there are too many compounding quantities of a photocationic polymerization initiator, the ionic substance in hardened | cured material will increase, the hygroscopic property of hardened | cured material will become high, and durability performance may fall.

(活性エネルギー線硬化性化合物その2:ラジカル重合性化合物)
本発明に用いられる硬化性樹脂組成物は、上述したエポキシ系化合物などのカチオン重合性化合物に加えて、重合開始剤の存在下で活性エネルギー線の照射により重合可能なラジカル重合性化合物を含有してもよい。また、ラジカル重合性化合物だけを活性エネルギー線硬化性化合物として、硬化性樹脂組成物を構成することもできる。ラジカル重合性化合物としては、分子内に(メタ)アクリロイルオキシ基を少なくとも1個有する(メタ)アクリル系化合物が好適に用いられる。なお、(メタ)アクリル系化合物とは、アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルのいずれでもよいことを意味し、その他本明細書において、(メタ)アクリロイル、(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸などというときの「(メタ)」も同様の趣旨である。
(Active energy ray-curable compound 2: Radical polymerizable compound)
The curable resin composition used in the present invention contains a radical polymerizable compound that can be polymerized by irradiation with active energy rays in the presence of a polymerization initiator in addition to the above-described cationic polymerizable compound such as an epoxy compound. May be. Moreover, a curable resin composition can also be comprised only with a radically polymerizable compound as an active energy ray curable compound. As the radical polymerizable compound, a (meth) acrylic compound having at least one (meth) acryloyloxy group in the molecule is preferably used. The (meth) acrylic compound means that either an acrylic acid ester or a methacrylic acid ester may be used, and in the present specification, (meth) acryloyl, (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, etc. “(Meta)” at the time has the same purpose.

分子内に(メタ)アクリロイルオキシ基を少なくとも1個有する(メタ)アクリル系化合物は、分子内に(メタ)アクリロイルオキシ基を少なくとも1個有する(メタ)アクリレートモノマーや、官能基を有する化合物を2種以上反応させて得られ、分子内に少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する(メタ)アクリレートオリゴマーなどを包含する。以下に、これらのモノマーやオリゴマーを具体的に説明するが、これらはそれぞれ単独で用いることができるほか、所望により2種以上を組み合わせて用いることもできる。2種以上の組合せには、モノマー同士の組合せ、及びオリゴマー同士の組合せが包含されるほか、モノマーの1種又は2種以上とオリゴマーの1種又は2種以上との組合せも包含される。   A (meth) acrylic compound having at least one (meth) acryloyloxy group in the molecule is a (meth) acrylate monomer having at least one (meth) acryloyloxy group in the molecule or a compound having a functional group. It includes a (meth) acrylate oligomer obtained by reacting more than one species and having at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule. These monomers and oligomers will be specifically described below, but these monomers can be used alone or in combination of two or more as desired. The combination of two or more types includes a combination of monomers and a combination of oligomers, and also includes a combination of one or more monomers and one or more oligomers.

(メタ)アクリレートモノマーには、分子内に(メタ)アクリロイルオキシ基を1個有する単官能(メタ)アクリレートモノマー、分子内に(メタ)アクリロイルオキシ基を2個有する2官能(メタ)アクリレートモノマー、及び分子内に(メタ)アクリロイルオキシ基を3個以上有する多官能(メタ)アクリレートモノマーがある。   The (meth) acrylate monomer includes a monofunctional (meth) acrylate monomer having one (meth) acryloyloxy group in the molecule, a bifunctional (meth) acrylate monomer having two (meth) acryloyloxy groups in the molecule, And a polyfunctional (meth) acrylate monomer having three or more (meth) acryloyloxy groups in the molecule.

単官能(メタ)アクリレートモノマーの具体例は、以下の通りである。
テトラヒドロフルフリル (メタ)アクリレート、
2−ヒドロキシエチル (メタ)アクリレート、
2−又は3−ヒドロキシプロピル (メタ)アクリレート、
2−ヒドロキシブチル (メタ)アクリレート、
2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル (メタ)アクリレート、
イソブチル (メタ)アクリレート、
tert−ブチル (メタ)アクリレート、
2−エチルヘキシル (メタ)アクリレート、
シクロヘキシル (メタ)アクリレート、
ジシクロペンテニル (メタ)アクリレート、
ベンジル (メタ)アクリレート、
イソボルニル (メタ)アクリレート、
2−フェノキシエチル (メタ)アクリレート、
ジシクロペンテニルオキシエチル (メタ)アクリレート、
N,N−ジメチル−2−アミノエチル (メタ)アクリレート、
エチルカルビトール (メタ)アクリレート、
トリメチロールプロパン モノ(メタ)アクリレート、
ペンタエリスリトール モノ(メタ)アクリレート、
フェノキシポリエチレングリコール (メタ)アクリレートなど。
Specific examples of the monofunctional (meth) acrylate monomer are as follows.
Tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate,
2-hydroxyethyl (meth) acrylate,
2- or 3-hydroxypropyl (meth) acrylate,
2-hydroxybutyl (meth) acrylate,
2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate,
Isobutyl (meth) acrylate,
tert-butyl (meth) acrylate,
2-ethylhexyl (meth) acrylate,
Cyclohexyl (meth) acrylate,
Dicyclopentenyl (meth) acrylate,
Benzyl (meth) acrylate,
Isobornyl (meth) acrylate,
2-phenoxyethyl (meth) acrylate,
Dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate,
N, N-dimethyl-2-aminoethyl (meth) acrylate,
Ethyl carbitol (meth) acrylate,
Trimethylolpropane mono (meth) acrylate,
Pentaerythritol mono (meth) acrylate,
Phenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate etc.

また、(メタ)アクリロイルオキシ基1個とともにカルボキシル基を分子内に有する化合物も、単官能(メタ)アクリレートモノマーとなり得る。カルボキシル基を有する単官能(メタ)アクリレートモノマーの具体例は、以下の通りである。
2−(メタ)アクリロイルオキシエチルフタル酸、
2−(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、
2−カルボキシエチル (メタ)アクリレート、
2−(メタ)アクリロイルオキシエチルコハク酸、
4−(メタ)アクリロイルオキシエチルトリメリット酸など。
A compound having a carboxyl group in the molecule together with one (meth) acryloyloxy group can also be a monofunctional (meth) acrylate monomer. Specific examples of the monofunctional (meth) acrylate monomer having a carboxyl group are as follows.
2- (meth) acryloyloxyethylphthalic acid,
2- (meth) acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid,
2-carboxyethyl (meth) acrylate,
2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid,
4- (meth) acryloyloxyethyl trimellitic acid and the like.

種々の2官能(メタ)アクリレートモノマーがある。代表的な2官能(メタ)アクリレートモノマーは、アルキレングリコールジ(メタ)アクリレート類、ポリオキシアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート類、ハロゲン置換アルキレングリコールジ(メタ)アクリレート類、脂肪族ポリオールのジ(メタ)アクリレート類、水添ジシクロペンタジエン又はトリシクロデカンジアルカノールのジ(メタ)アクリレート類、ジオキサングリコール又はジオキサンジアルカノールのジ(メタ)アクリレート類、ビスフェノールA又はビスフェノールFのアルキレンオキサイド付加物のジ(メタ)アクリレート類、ビスフェノールA又はビスフェノールFのエポキシジ(メタ)アクリレート類などである。   There are various bifunctional (meth) acrylate monomers. Typical bifunctional (meth) acrylate monomers include alkylene glycol di (meth) acrylates, polyoxyalkylene glycol di (meth) acrylates, halogen-substituted alkylene glycol di (meth) acrylates, di (meta) of aliphatic polyols. ) Diacrylates of acrylates, hydrogenated dicyclopentadiene or tricyclodecane dialkanol, di (meth) acrylates, di (meth) acrylates of dioxane glycol or dioxane dialkanol, di (meth) acrylate adducts of bisphenol A or bisphenol F Meth) acrylates, bisphenol A or bisphenol F epoxy di (meth) acrylates, and the like.

2官能(メタ)アクリレートモノマーの具体例は、以下の通りである。
エチレングリコール ジ(メタ)アクリレート、
1,3−ブタンジオール ジ(メタ)アクリレート、
1,4−ブタンジオール ジ(メタ)アクリレート、
1,6−ヘキサンジオール ジ(メタ)アクリレート、
1,9−ノナンジオール ジ(メタ)アクリレート、
ネオペンチルグリコール ジ(メタ)アクリレート、
トリメチロールプロパン ジ(メタ)アクリレート、
ペンタエリスリトール ジ(メタ)アクリレート、
ジトリメチロールプロパン ジ(メタ)アクリレート、
ジエチレングリコール ジ(メタ)アクリレート、
トリエチレングリコール ジ(メタ)アクリレート、
ジプロピレングリコール ジ(メタ)アクリレート、
トリプロピレングリコール ジ(メタ)アクリレート、
ポリエチレングリコール ジ(メタ)アクリレート、
ポリプロピレングリコール ジ(メタ)アクリレート、
ポリテトラメチレングリコール ジ(メタ)アクリレート、
ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルのジ(メタ)アクリレート、
2,2−ビス[4−{2−(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)エトキシ}フェニル]プロパン、
2,2−ビス[4−{2−(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)エトキシ}シクロヘキシル]プロパン、
水添ジシクロペンタジエニル ジ(メタ)アクリレート、
トリシクロデカンジメタノール ジ(メタ)アクリレート、
1,3−ジオキサン−2,5−ジイル ジ(メタ)アクリレート〔別名:ジオキサングリコールジ(メタ)アクリレート〕、
ヒドロキシピバルアルデヒドとトリメチロールプロパンとのアセタール化合物〔化学名:2−(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)−5−エチル−5−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキサン〕のジ(メタ)アクリレート、
1,3,5−トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートのジ(メタ)アクリレートなど。
Specific examples of the bifunctional (meth) acrylate monomer are as follows.
Ethylene glycol di (meth) acrylate,
1,3-butanediol di (meth) acrylate,
1,4-butanediol di (meth) acrylate,
1,6-hexanediol di (meth) acrylate,
1,9-nonanediol di (meth) acrylate,
Neopentyl glycol di (meth) acrylate,
Trimethylolpropane di (meth) acrylate,
Pentaerythritol di (meth) acrylate,
Ditrimethylolpropane di (meth) acrylate,
Diethylene glycol di (meth) acrylate,
Triethylene glycol di (meth) acrylate,
Dipropylene glycol di (meth) acrylate,
Tripropylene glycol di (meth) acrylate,
Polyethylene glycol di (meth) acrylate,
Polypropylene glycol di (meth) acrylate,
Polytetramethylene glycol di (meth) acrylate,
Di (meth) acrylate of hydroxypivalic acid neopentyl glycol ester,
2,2-bis [4- {2- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) ethoxy} phenyl] propane,
2,2-bis [4- {2- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) ethoxy} cyclohexyl] propane,
Hydrogenated dicyclopentadienyl di (meth) acrylate,
Tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate,
1,3-dioxane-2,5-diyl di (meth) acrylate [alias: dioxane glycol di (meth) acrylate],
Di (meta) of acetal compound [chemical name: 2- (2-hydroxy-1,1-dimethylethyl) -5-ethyl-5-hydroxymethyl-1,3-dioxane] of hydroxypivalaldehyde and trimethylolpropane ) Acrylate,
1,3,5-tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate di (meth) acrylate and the like.

3官能以上の多官能(メタ)アクリレートモノマーにも種々のものがある。例えば、3価以上の脂肪族ポリオールのポリ(メタ)アクリレートが代表的である。その具体例は、次の通りである。
グリセリン トリ(メタ)アクリレート、
トリメチロールプロパン トリ(メタ)アクリレート、
ジトリメチロールプロパン トリ(メタ)アクリレート、
ジトリメチロールプロパン テトラ(メタ)アクリレート、
ペンタエリスリトール トリ(メタ)アクリレート、
ペンタエリスリトール テトラ(メタ)アクリレート、
ジペンタエリスリトール テトラ(メタ)アクリレート、
ジペンタエリスリトール ペンタ(メタ)アクリレート、
ジペンタエリスリトール ヘキサ(メタ)アクリレートなど。
There are various polyfunctional (meth) acrylate monomers having three or more functions. For example, a poly (meth) acrylate of a trihydric or higher aliphatic polyol is representative. Specific examples thereof are as follows.
Glycerin tri (meth) acrylate,
Trimethylolpropane tri (meth) acrylate,
Ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate,
Ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate,
Pentaerythritol tri (meth) acrylate,
Pentaerythritol tetra (meth) acrylate,
Dipentaerythritol tetra (meth) acrylate,
Dipentaerythritol penta (meth) acrylate,
Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, etc.

その他に、3価以上のハロゲン置換ポリオールのポリ(メタ)アクリレート、グリセリンのアルキレンオキサイド付加物のトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンのアルキレンオキサイド付加物のトリ(メタ)アクリレート、1,1,1−トリス[2−{2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ}エトキシ]プロパン、1,3,5−トリス[2−(メタ)アクリロイルオキシエチル]イソシアヌレートなども、多官能(メタ)アクリレートモノマーとなり得る。   In addition, poly (meth) acrylates of trivalent or higher-valent halogen-substituted polyols, tri (meth) acrylates of alkylene oxide adducts of glycerin, tri (meth) acrylates of alkylene oxide adducts of trimethylolpropane, 1,1,1 -Tris [2- {2- (meth) acryloyloxyethoxy} ethoxy] propane, 1,3,5-tris [2- (meth) acryloyloxyethyl] isocyanurate can also be a polyfunctional (meth) acrylate monomer .

一方、(メタ)アクリレートオリゴマーは、例えば、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、ポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマー、エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーなどである。   On the other hand, the (meth) acrylate oligomer is, for example, a urethane (meth) acrylate oligomer, a polyester (meth) acrylate oligomer, or an epoxy (meth) acrylate oligomer.

ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーとは、分子内に(メタ)アクリロイルオキシ基を少なくとも2個有するとともに、ウレタン結合(−NHCOO−)を有する化合物をいう。ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、例えば、分子内に少なくとも1個の(メタ)アクリロイルオキシ基及び1個の水酸基をそれぞれ有する水酸基含有(メタ)アクリレートモノマーとポリイソシアネートとのウレタン化反応生成物であってよい。ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、例えば、ポリオール類をポリイソシアネートと反応させて得られる末端イソシアナト基含有ウレタン化合物と、分子内に少なくとも1個の(メタ)アクリロイルオキシ基及び1個の水酸基をそれぞれ有する水酸基含有(メタ)アクリレートモノマーとのウレタン化反応生成物であってよい。   The urethane (meth) acrylate oligomer refers to a compound having at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule and a urethane bond (—NHCOO—). The urethane (meth) acrylate oligomer is, for example, a urethanation reaction product of a hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer having at least one (meth) acryloyloxy group and one hydroxyl group in the molecule and a polyisocyanate. It's okay. The urethane (meth) acrylate oligomer has, for example, a terminal isocyanato group-containing urethane compound obtained by reacting polyols with polyisocyanate, and at least one (meth) acryloyloxy group and one hydroxyl group in the molecule, respectively. It may be a urethanization reaction product with a hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer.

上記ウレタン化反応に用いられる水酸基含有(メタ)アクリレートモノマーの具体例は、次の通りである。
2−ヒドロキシエチル (メタ)アクリレート、
2−ヒドロキシプロピル (メタ)アクリレート、
2−ヒドロキシブチル (メタ)アクリレート、
2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル (メタ)アクリレート、
グリセリン ジ(メタ)アクリレート、
トリメチロールプロパン ジ(メタ)アクリレート、
ペンタエリスリトール トリ(メタ)アクリレート、
ジペンタエリスリトール ペンタ(メタ)アクリレートなど。
Specific examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer used for the urethanization reaction are as follows.
2-hydroxyethyl (meth) acrylate,
2-hydroxypropyl (meth) acrylate,
2-hydroxybutyl (meth) acrylate,
2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate,
Glycerin di (meth) acrylate,
Trimethylolpropane di (meth) acrylate,
Pentaerythritol tri (meth) acrylate,
Dipentaerythritol penta (meth) acrylate and the like.

水酸基含有(メタ)アクリレートモノマーとのウレタン化反応に供されるポリイソシアネートの具体的は、次の通りである。
ヘキサメチレンジイソシアネート、
リジンジイソシアネート、
イソホロンジイソシアネート、
ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、
トリレンジイソシアネート、
キシリレンジイソシアネート、
芳香族ジイソシアネート類を水素添加して得られる化合物、例えば、水素添加トリレンジイソシアネートや、水素添加キシリレンジイソシアネート、
トリフェニルメタントリイソシアネート、
ジベンジルベンゼントリイソシアネート、
これらのうちのジイソシアネート類を多量化させて得られるポリイソシアネートなど。
Specific examples of the polyisocyanate subjected to the urethanization reaction with the hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer are as follows.
Hexamethylene diisocyanate,
Lysine diisocyanate,
Isophorone diisocyanate,
Dicyclohexylmethane diisocyanate,
Tolylene diisocyanate,
Xylylene diisocyanate,
Compounds obtained by hydrogenating aromatic diisocyanates, such as hydrogenated tolylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate,
Triphenylmethane triisocyanate,
Dibenzylbenzene triisocyanate,
Polyisocyanate obtained by diversifying diisocyanates among these.

また、ポリイソシアネートとの反応により末端イソシアナト基含有ウレタン化合物を製造するためのポリオール類は、脂肪族及び脂環式のポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオールなどであってよい。脂肪族及び脂環式のポリオールは、例えば、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ジメチロールヘプタン、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロール酪酸、グリセリン、水添ビスフェノールAなどである。   The polyols for producing the terminal isocyanate group-containing urethane compound by reaction with polyisocyanate may be aliphatic and alicyclic polyols, polyester polyols, polyether polyols and the like. Aliphatic and alicyclic polyols include, for example, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, trimethylolethane, trimethylolpropane, Examples include ditrimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, dimethylolheptane, dimethylolpropionic acid, dimethylolbutyric acid, glycerin, and hydrogenated bisphenol A.

ポリエステルポリオールは、上記したポリオール類に多塩基性カルボン酸又はその無水物を脱水縮合反応させることにより得られる化合物である。多塩基性カルボン酸及びその無水物の具体例は、(無水)コハク酸、アジピン酸、(無水)マレイン酸、(無水)イタコン酸、(無水)トリメリット酸、(無水)ピロメリット酸、ヘキサヒドロ(無水)フタル酸、(無水)フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸などがある。多塩基性カルボン酸は無水物でなくてもよい。   The polyester polyol is a compound obtained by subjecting the above-described polyols to a dehydration condensation reaction of a polybasic carboxylic acid or an anhydride thereof. Specific examples of the polybasic carboxylic acid and its anhydride are (anhydrous) succinic acid, adipic acid, (anhydrous) maleic acid, (anhydrous) itaconic acid, (anhydrous) trimellitic acid, (anhydrous) pyromellitic acid, hexahydro (Anhydrous) phthalic acid, (anhydrous) phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid and the like. The polybasic carboxylic acid may not be an anhydride.

ポリエーテルポリオールは、ポリアルキレングリコールであってよく、また、上記したポリオール類又はビスフェノール類にアルキレンオキサイドを反応させることにより得られるポリオキシアルキレン変性ポリオールであってもよい。   The polyether polyol may be a polyalkylene glycol, or may be a polyoxyalkylene-modified polyol obtained by reacting an alkylene oxide with the aforementioned polyols or bisphenols.

ポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマーとは、分子内に(メタ)アクリロイルオキシ基を少なくとも2個有するとともに、エステル結合を有する化合物をいう。(メタ)アクリル酸、多塩基性カルボン酸又はその無水物、及びポリオールの脱水縮合反応により、ポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマーを得ることができる。脱水縮合反応に用いられる多塩基性カルボン酸又はその無水物の具体例は、(無水)コハク酸、アジピン酸、(無水)マレイン酸、(無水)イタコン酸、(無水)トリメリット酸、(無水)ピロメリット酸、ヘキサヒドロ(無水)フタル酸、(無水)フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸などである。多塩基性カルボン酸の無水物でなくてよい。また脱水縮合反応に用いられるポリオールの具体例は、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ジメチロールヘプタン、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロール酪酸、グリセリン、水添ビスフェノールAなどである。   The polyester (meth) acrylate oligomer refers to a compound having at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule and an ester bond. A polyester (meth) acrylate oligomer can be obtained by dehydration condensation reaction of (meth) acrylic acid, polybasic carboxylic acid or anhydride thereof, and polyol. Specific examples of the polybasic carboxylic acid or its anhydride used in the dehydration condensation reaction are (anhydrous) succinic acid, adipic acid, (anhydrous) maleic acid, (anhydrous) itaconic acid, (anhydrous) trimellitic acid, (anhydrous) ) Pyromellitic acid, hexahydro (anhydrous) phthalic acid, (anhydrous) phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid. It may not be an anhydride of a polybasic carboxylic acid. Specific examples of polyols used in the dehydration condensation reaction include 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, trimethylol ethane, and trimethylol propane. Ditrimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, dimethylolheptane, dimethylolpropionic acid, dimethylolbutyric acid, glycerin, hydrogenated bisphenol A, and the like.

エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーとは、ポリグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸との付加反応により得られるものであり、分子内に少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有している。この付加反応に用いられるポリグリシジルエーテルの具体例は、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテルなどである。   The epoxy (meth) acrylate oligomer is obtained by addition reaction of polyglycidyl ether and (meth) acrylic acid, and has at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule. Specific examples of the polyglycidyl ether used in this addition reaction include ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, and the like. is there.

上述の(メタ)アクリル系化合物のなかでも、密着性と弾性率がともに優れていることから、以下の式(I)〜(IV)で示される(メタ)アクリル系化合物の少なくともいずれか一種が特に好ましい。   Among the above (meth) acrylic compounds, since both adhesion and elastic modulus are excellent, at least one of the (meth) acrylic compounds represented by the following formulas (I) to (IV) is Particularly preferred.

Figure 2018159911
Figure 2018159911

上記式(I)及び(II)において、Q及びQは互いに独立して、(メタ)アクリロイルオキシ基又は(メタ)アクリロイルオキシアルキル基を表す。Q又はQが(メタ)アクリロイルオキシアルキル基である場合、そのアルキルは直鎖でも分岐していてもよく、1〜10の炭素数を有することができるが、一般には1〜6程度の炭素数で十分である。また式(II)において、Qは水素又は炭素数1〜10の炭化水素基であり、この炭化水素基は直鎖でも分岐していてもよく、典型的にはアルキル基であることができる。この場合のアルキル基の炭素数も1〜6程度で十分である。 In the above formulas (I) and (II), Q 1 and Q 2 each independently represent a (meth) acryloyloxy group or a (meth) acryloyloxyalkyl group. When Q 1 or Q 2 is a (meth) acryloyloxyalkyl group, the alkyl may be linear or branched and can have 1 to 10 carbon atoms, but generally about 1 to 6 carbon atoms. Carbon number is sufficient. In the formula (II), Q is hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and this hydrocarbon group may be linear or branched, and can typically be an alkyl group. In this case, it is sufficient that the alkyl group has about 1 to 6 carbon atoms.

一方、上記式(III)において、R、R及びRは互いに独立して、(メタ)アクリロイルオキシ基を表し、式(IV)において、Rは水酸基又は(メタ)アクリロイルオキシ基を表す。 On the other hand, in the formula (III), R 1 , R 2 and R 3 independently represent a (meth) acryloyloxy group, and in the formula (IV), R represents a hydroxyl group or a (meth) acryloyloxy group. .

式(I)で表される化合物は、水添ジシクロペンタジエン又はトリシクロデカンジアルカノールのジ(メタ)アクリレート誘導体である。式(I)で表される化合物の具体例は、水添ジシクロペンタジエニル ジ(メタ)アクリレート〔式(I)において、Q及びQの両方が同じ(メタ)アクリロイルオキシ基である化合物〕、トリシクロデカンジメタノール ジ(メタ)アクリレート〔式(I)において、Q及びQの両方が同じ(メタ)アクリロイルオキシメチル基である化合物〕などである。 The compound represented by the formula (I) is a di (meth) acrylate derivative of hydrogenated dicyclopentadiene or tricyclodecane dialkanol. Specific examples of the compound represented by the formula (I) include hydrogenated dicyclopentadienyl di (meth) acrylate [in the formula (I), both Q 1 and Q 2 are the same (meth) acryloyloxy group. Compound], tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate [a compound in which both Q 1 and Q 2 are the same (meth) acryloyloxymethyl group in formula (I)], and the like.

式(II)で表される化合物は、ジオキサングリコール又はジオキサンジアルカノールのジ(メタ)アクリレート誘導体である。式(II)で表される化合物の具体例としては、1,3−ジオキサン−2,5−ジイル ジ(メタ)アクリレート〔別名:ジオキサングリコールジ(メタ)アクリレート、式(II)において、Q及びQの両方が同じ(メタ)アクリロイルオキシ基であり、QとHとが同じである化合物〕、ヒドロキシピバルアルデヒドとトリメチロールプロパンとのアセタール化合物〔化学名:2−(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)−5−エチル−5−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキサン〕のジ(メタ)アクリレート〔式(II)において、Qが(メタ)アクリロイルオキシメチル基、Qが2−(メタ)アクリロイルオキシ−1,1−ジメチルエチル基、Qがエチル基の化合物〕などである。 The compound represented by the formula (II) is a di (meth) acrylate derivative of dioxane glycol or dioxane dialkanol. Specific examples of the compound represented by the formula (II) include 1,3-dioxane-2,5-diyl di (meth) acrylate [also known as dioxane glycol di (meth) acrylate, in the formula (II), Q 1 And Q 2 are the same (meth) acryloyloxy groups and Q and H are the same], an acetal compound of hydroxypivalaldehyde and trimethylolpropane [chemical name: 2- (2-hydroxy- 1,1-dimethylethyl) -5-ethyl-5-hydroxymethyl-1,3-dioxane] di (meth) acrylate [in formula (II), Q 1 is a (meth) acryloyloxymethyl group, Q 2 is 2- (meth) acryloyloxy-1,1-dimethylethyl group, Q is an ethyl group compound] and the like.

式(III)で表される化合物は、1,3,5−トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートのトリアクリレート又はトリメタアクリレートである。また、式(IV)で表される化合物は、ペンタエリスリトールのトリ−又はテトラ−(メタ)アクリレートであり、その具体例は、ペンタエリスリトール トリ(メタ)アクリレート及びペンタエリスリトール テトラ(メタ)アクリレートである。   The compound represented by the formula (III) is triacrylate or trimethacrylate of 1,3,5-tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate. The compound represented by formula (IV) is pentaerythritol tri- or tetra- (meth) acrylate, and specific examples thereof are pentaerythritol tri (meth) acrylate and pentaerythritol tetra (meth) acrylate. .

(メタ)アクリル系化合物は、少なくともエポキシ系化合物と併用することが好ましい。(メタ)アクリル系化合物の含有量は、活性エネルギー線硬化性化合物全体の量を基準に、70重量%以下、好ましくは35〜70重量%、取り好ましくは40〜60重量%であってよい。活性エネルギー線硬化性化合物のうち(メタ)アクリル系化合物の含有量が70重量%を超えると、偏光子7との密着性が低下する傾向にある。   The (meth) acrylic compound is preferably used in combination with at least an epoxy compound. The content of the (meth) acrylic compound may be 70% by weight or less, preferably 35 to 70% by weight, preferably 40 to 60% by weight, based on the total amount of the active energy ray-curable compound. When the content of the (meth) acrylic compound in the active energy ray-curable compound exceeds 70% by weight, the adhesiveness with the polarizer 7 tends to decrease.

(重合開始剤その2:光ラジカル重合開始剤)
活性エネルギー線硬化性化合物が、(メタ)アクリル系化合物のようなラジカル重合性化合物を含有する場合には、重合開始剤として光ラジカル重合開始剤を配合することが好ましい。光ラジカル重合開始剤は、活性エネルギー線の照射によりラジカル重合性化合物の硬化を開始できるものであれば特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。光ラジカル重合開始剤の具体例は、アセトフェノン、3−メチルアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン及び2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オンのようなアセトフェノン系開始剤;ベンゾフェノン、4−クロロベンゾフェノン及び4,4’−ジアミノベンゾフェノンのようなベンゾフェノン系開始剤;ベンゾインプロピルエーテル及びベンゾインエチルエーテルのようなベンゾインエーテル系開始剤;4−イソプロピルチオキサントンのようなチオキサントン系開始剤;その他、キサントン、フルオレノン、カンファーキノン、ベンズアルデヒド、アントラキノンなどである。
(Polymerization initiator 2: Photoradical polymerization initiator)
When the active energy ray-curable compound contains a radical polymerizable compound such as a (meth) acrylic compound, it is preferable to mix a photo radical polymerization initiator as a polymerization initiator. The radical photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it can start curing of the radically polymerizable compound by irradiation with active energy rays, and a conventionally known one can be used. Specific examples of the photo radical polymerization initiator include acetophenone, 3-methylacetophenone, benzyldimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-methyl-1- [ Acetophenone initiators such as 4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one; benzophenone, 4-chlorobenzophenone and 4, Benzophenone initiators such as 4'-diaminobenzophenone; benzoin ether initiators such as benzoin propyl ether and benzoin ethyl ether; thioxanthone initiators such as 4-isopropylthioxanthone; other xanthones, fluorenones, camphorquinones, Be Such as nzualdehyde and anthraquinone.

光ラジカル重合開始剤の配合量は、(メタ)アクリル系化合物のようなラジカル重合性化合物100重量部に対して、0.5〜20重量部、好ましくは10重量部以下、さらに好ましくは1〜6重量部であってよい。光ラジカル重合開始剤の量が少ないと、硬化が不十分になり、機械的強度や樹脂層9と偏光子7との密着性が低下する傾向にある。一方、光ラジカル重合開始剤の量が多すぎると、硬化性樹脂組成物中の活性エネルギー線硬化性化合物の量が相対的に少なくなり、樹脂層9の耐久性能が低下する可能性がある。   The compounding amount of the radical photopolymerization initiator is 0.5 to 20 parts by weight, preferably 10 parts by weight or less, more preferably 1 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the radical polymerizable compound such as a (meth) acrylic compound. It may be 6 parts by weight. When the amount of the radical photopolymerization initiator is small, the curing becomes insufficient, and the mechanical strength and the adhesion between the resin layer 9 and the polarizer 7 tend to decrease. On the other hand, if the amount of the radical photopolymerization initiator is too large, the amount of the active energy ray-curable compound in the curable resin composition is relatively small, and the durability performance of the resin layer 9 may be reduced.

硬化性樹脂組成物は、必要に応じてさらに光増感剤を含有することができる。光増感剤を使用することで、カチオン重合及び/又はラジカル重合の反応性が向上し、樹脂層9の機械的強度や樹脂層9と偏光子7との密着性を向上させることができる。光増感剤は、例えば、カルボニル化合物、有機イオウ化合物、過硫化物、レドックス系化合物、アゾ化合物、ジアゾ化合物、ハロゲン化合物、光還元性色素などである。光増感剤は、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル及びα,α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノンのようなベンゾイン誘導体;ベンゾフェノン、2,4−ジクロロベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン及び4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンのようなベンゾフェノン誘導体;2−クロロチオキサントン及び2−イソプロピルチオキサントンのようなチオキサントン誘導体;2−クロロアントラキノン及び2−メチルアントラキノンのようなアントラキノン誘導体;N−メチルアクリドン及びN−ブチルアクリドンのようなアクリドン誘導体;その他、α,α−ジエトキシアセトフェノン、ベンジル、フルオレノン、キサントン、ウラニル化合物などである。これらの光増感剤は、それぞれ単独で使用してもよいし、2種以上の光増感剤を混合して使用してもよい。光増感剤の含有量は、活性エネルギー線硬化性化合物全体100重量部に対して、0.1〜20重量部であってよい。   The curable resin composition can further contain a photosensitizer as necessary. By using a photosensitizer, the reactivity of cationic polymerization and / or radical polymerization is improved, and the mechanical strength of the resin layer 9 and the adhesion between the resin layer 9 and the polarizer 7 can be improved. Examples of the photosensitizer include carbonyl compounds, organic sulfur compounds, persulfides, redox compounds, azo compounds, diazo compounds, halogen compounds, and photoreductive dyes. Photosensitizers include benzoin derivatives such as benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether and α, α-dimethoxy-α-phenylacetophenone; benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4 ′ Benzophenone derivatives such as bis (dimethylamino) benzophenone and 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone; thioxanthone derivatives such as 2-chlorothioxanthone and 2-isopropylthioxanthone; like 2-chloroanthraquinone and 2-methylanthraquinone Anthraquinone derivatives; acridone derivatives such as N-methylacridone and N-butylacridone; others, α, α-diethoxyacetophenone, benzyl, fluorenone, xanthone, ura Nil compounds and the like. These photosensitizers may be used alone or in combination of two or more photosensitizers. Content of a photosensitizer may be 0.1-20 weight part with respect to 100 weight part of the whole active energy ray-curable compound.

(硬化性樹脂組成物の任意成分)
また、硬化性樹脂組成物は、偏光板に帯電防止性能を付与するための帯電防止剤を含有してもよい。帯電防止剤は、例えば、カチオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、非イオン界面活性剤、上記カチオン界面活性剤以外の有機カチオンを有するイオン性化合物、上記アニオン界面活性剤以外の有機アニオンを有するイオン性化合物、導電性無機粒子、導電性高分子などであってよい。これら帯電防止剤の配合割合は、所望とする特性に合わせて適宜決められる。帯電防止剤の配合割合は、活性エネルギー線硬化性化合物全体を100重量部として、0.1〜20重量部程度であってよい。
(Optional component of curable resin composition)
Moreover, the curable resin composition may contain an antistatic agent for imparting antistatic performance to the polarizing plate. Examples of the antistatic agent include a cationic surfactant, an anionic surfactant, a nonionic surfactant, an ionic compound having an organic cation other than the cationic surfactant, and an ion having an organic anion other than the anionic surfactant. Conductive compounds, conductive inorganic particles, conductive polymers, and the like. The blending ratio of these antistatic agents is appropriately determined according to desired characteristics. The blending ratio of the antistatic agent may be about 0.1 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the entire active energy ray-curable compound.

硬化性樹脂組成物には、高分子材料に通常使用されている添加剤を配合することもできる。例えば、フェノール系やアミン系のような一次酸化防止剤、イオウ系の二次酸化防止剤、ヒンダードアミン系光安定剤(HALS)、ベンゾフェノン系やベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系のような紫外線吸収剤などが挙げられる。   In the curable resin composition, an additive usually used for a polymer material can be blended. For example, primary antioxidants such as phenols and amines, sulfur secondary antioxidants, hindered amine light stabilizers (HALS), UV absorbers such as benzophenones, benzotriazoles, and benzoates Can be mentioned.

硬化性樹脂組成物には、レベリング剤を配合することもできる。この硬化性樹脂組成物を偏光子7又は基材フィルム上へ塗布するにあたり、偏光子7や基材フィルムへの塗れ性が乏しい場合や、硬化物の表面性が悪い場合には、レベリング剤を配合することで、これ等の問題を改善することができる。レベリング剤は、シリコーン系レベリング剤、フッ素系レベリング剤、ポリエーテル系レベリング剤、アクリル酸共重合物系レベリング剤、チタネート系レベリング剤であってよい。これらのレベリング剤は、それぞれ単独で用いてもよいし、2種類以上混合して用いてもよい。レベリング剤の配合割合は、活性エネルギー線硬化性化合物100重量部に対して、0.01〜1重量部、好ましくは0.1〜0.7重量部、より好ましくは0.2〜0.5重量部であってよい。レベリング剤の配合量が少ないと、塗れ性や表面性の改善効果が十分に発揮されにくい。一方、その配合量が多すぎると、偏光子7と樹脂層9との密着性を低下させることがある。   A leveling agent can also be mix | blended with curable resin composition. In applying this curable resin composition onto the polarizer 7 or the substrate film, if the applicability to the polarizer 7 or the substrate film is poor or the surface property of the cured product is poor, a leveling agent is used. By blending, these problems can be improved. The leveling agent may be a silicone-based leveling agent, a fluorine-based leveling agent, a polyether-based leveling agent, an acrylic acid copolymer-based leveling agent, or a titanate-based leveling agent. These leveling agents may be used alone or in combination of two or more. The blending ratio of the leveling agent is 0.01 to 1 part by weight, preferably 0.1 to 0.7 part by weight, more preferably 0.2 to 0.5 part with respect to 100 parts by weight of the active energy ray-curable compound. It may be part by weight. If the amount of the leveling agent is small, the effect of improving the paintability and surface properties is hardly exhibited. On the other hand, when there are too many the compounding quantities, the adhesiveness of the polarizer 7 and the resin layer 9 may be reduced.

また硬化性樹脂組成物には、微粒子、例えばシリカ微粒子を配合してもよい。微粒子、特にシリカ微粒子を配合することにより、得られる樹脂層9の硬度及び機械的強度をより向上させることができる。シリカ微粒子は、例えば、有機溶剤に分散された液状物として硬化性樹脂組成物に配合することができる。有機溶剤に分散されたシリカ微粒子を用いる場合、有機溶剤中のシリカ濃度は、例えば20〜40重量%程度であってよい。   The curable resin composition may contain fine particles, for example, silica fine particles. By blending fine particles, particularly silica fine particles, the hardness and mechanical strength of the resulting resin layer 9 can be further improved. Silica fine particles can be blended in the curable resin composition as a liquid dispersed in an organic solvent, for example. When silica fine particles dispersed in an organic solvent are used, the silica concentration in the organic solvent may be, for example, about 20 to 40% by weight.

シリカ微粒子は、その表面に、水酸基、エポキシ基、(メタ)アクリロイル基、ビニル基などの反応性官能基を有していてもよい。シリカ微粒子の粒径は、通常100nm以下、好ましくは5〜50nm程度であってよい。微粒子の粒径が100nmを超えると、光学的に透明な樹脂層9が得られにくい傾向にある。   The silica fine particles may have a reactive functional group such as a hydroxyl group, an epoxy group, a (meth) acryloyl group, or a vinyl group on the surface thereof. The particle diameter of the silica fine particles is usually 100 nm or less, preferably about 5 to 50 nm. If the particle diameter of the fine particles exceeds 100 nm, the optically transparent resin layer 9 tends to be difficult to obtain.

シリカ微粒子の配合割合は、活性エネルギー線硬化性化合物100重量部に対して、5〜250重量部、好ましくは10〜100重量部であってよい。微粒子の配合量が少ないと、その添加による樹脂層9の硬度向上効果が十分に発揮されにくい。一方、微粒子の配合量が多すぎると、偏光子7と樹脂層9との密着性を低下させることがあり、また、硬化性樹脂組成物中における微粒子の分散安定性を低下させたり、その硬化性樹脂組成物の粘度を過度に上昇させたりすることがある。   The compounding ratio of the silica fine particles may be 5 to 250 parts by weight, preferably 10 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the active energy ray-curable compound. If the amount of the fine particles is small, the effect of improving the hardness of the resin layer 9 due to the addition of the fine particles is not sufficiently exhibited. On the other hand, if the amount of the fine particles is too large, the adhesion between the polarizer 7 and the resin layer 9 may be reduced, and the dispersion stability of the fine particles in the curable resin composition may be reduced, or the curing thereof may be reduced. The viscosity of the conductive resin composition may be excessively increased.

硬化性樹脂組成物は、必要に応じて溶剤を含有してもよい。溶剤は、硬化性樹脂組成物を構成する成分の溶解性により、適宜選択される。溶剤は、n−ヘキサンやシクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類;トルエンやキシレンのような芳香族炭化水素類;メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール及びブタノールのようなアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン及びシクロヘキサノンのようなケトン類;酢酸メチル、酢酸エチル及び酢酸ブチルのようなエステル類;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ及びブチルセロソルブのようなセロソルブ類;塩化メチレンやクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類などである。溶剤の配合割合は、成膜性などの加工上の目的による粘度調整などの観点から、適宜決定される。   The curable resin composition may contain a solvent as necessary. The solvent is appropriately selected depending on the solubility of the components constituting the curable resin composition. Solvents include aliphatic hydrocarbons such as n-hexane and cyclohexane; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol and butanol; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl Ketones such as ketones and cyclohexanones; esters such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate; cellosolves such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve and butyl cellosolve; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform is there. The mixing ratio of the solvent is appropriately determined from the viewpoint of adjusting the viscosity depending on the processing purpose such as film formability.

偏光子7は、延伸、染色及び架橋等の工程によって作製されたフィルム状のポリビニルアルコール系樹脂(PVAフィルム)であってよい。偏光子7の詳細は以下の通りである。   The polarizer 7 may be a film-like polyvinyl alcohol resin (PVA film) produced by processes such as stretching, dyeing, and crosslinking. Details of the polarizer 7 are as follows.

例えば、まず、PVAフィルムを、一軸方向又は二軸方向に延伸する。一軸方向に延伸された偏光子7の二色比は高い傾向がある。延伸に続いて、染色液を用いて、PVAフィルムをヨウ素、二色性色素(ポリヨウ素)又は有機染料によって染色する。染色液は、ホウ酸、硫酸亜鉛、又は塩化亜鉛を含んでいてもよい。染色前にPVAフィルムを水洗してもよい。水洗により、PVAフィルムの表面から、汚れ及びブロッキング防止剤が除去される。また水洗によってPVAフィルムが膨潤する結果、染色の斑(不均一な染色)が抑制され易い。染色後のPVAフィルムを、架橋のために、架橋剤の溶液(例えば、ホウ酸の水溶液)で処理する。架橋剤による処理後、PVAフィルムを水洗し、続いて乾燥する。以上の手順を経て、偏光子7が得られる。ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することにより得られる。ポリ酢酸ビニル系樹脂は、例えば、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニル、又は、酢酸ビニルと他の単量体との共重合体(例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体)であってよい。酢酸ビニルと共重合する他の単量体は、エチレンの他に、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、又はアンモニウム基を有するアクリルアミド類であってよい。ポリビニルアルコール系樹脂は、アルデヒド類で変性されていてもよい。変性されたポリビニルアルコール系樹脂は、例えば、部分ホルマール化ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、又はポリビニルブチラールであってよい。ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリビニルアルコールの脱水処理物、又はポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン系配向フィルムであってよい。延伸前に染色を行ってもよく、染色液中で延伸を行ってもよい。延伸された偏光子7の長さは、例えば、延伸前の長さの3〜7倍であってよい。   For example, first, a PVA film is stretched in a uniaxial direction or a biaxial direction. The dichroic ratio of the polarizer 7 stretched in the uniaxial direction tends to be high. Following stretching, the PVA film is dyed with iodine, a dichroic dye (polyiodine) or an organic dye using a dyeing solution. The staining liquid may contain boric acid, zinc sulfate, or zinc chloride. The PVA film may be washed with water before dyeing. By washing with water, dirt and an antiblocking agent are removed from the surface of the PVA film. In addition, as a result of swelling of the PVA film by washing with water, staining spots (non-uniform staining) are easily suppressed. The dyed PVA film is treated with a solution of a crosslinking agent (for example, an aqueous solution of boric acid) for crosslinking. After the treatment with the crosslinking agent, the PVA film is washed with water and subsequently dried. Through the above procedure, the polarizer 7 is obtained. The polyvinyl alcohol resin can be obtained by saponifying a polyvinyl acetate resin. The polyvinyl acetate resin is, for example, polyvinyl acetate, which is a homopolymer of vinyl acetate, or a copolymer of vinyl acetate and another monomer (for example, ethylene-vinyl acetate copolymer). Good. Other monomers that copolymerize with vinyl acetate may be unsaturated carboxylic acids, olefins, vinyl ethers, unsaturated sulfonic acids, or acrylamides with ammonium groups in addition to ethylene. The polyvinyl alcohol-based resin may be modified with aldehydes. The modified polyvinyl alcohol resin may be, for example, partially formalized polyvinyl alcohol, polyvinyl acetal, or polyvinyl butyral. The polyvinyl alcohol resin may be a polyene oriented film such as a dehydrated polyvinyl alcohol product or a dehydrochlorinated polyvinyl chloride product. Dyeing may be performed before stretching, or stretching may be performed in a dyeing solution. The length of the stretched polarizer 7 may be, for example, 3 to 7 times the length before stretching.

偏光子7の厚みは、例えば、50μm以下、30μm以下、15μm以下、10μm以下、又は8μm以下であってよい。偏光子7が薄いほど、温度変化に伴う偏光子7自体の収縮が抑制され、偏光子7自体の寸法の変化が抑制される。その結果、応力が偏光子7に作用し難く、偏光子7におけるクラックが抑制され易い。また、フィルム(偏光子7)の取り扱い性の観点から、偏光子7の厚みは、通常、1μm以上であってよく、4μm以上であってもよい。   The thickness of the polarizer 7 may be, for example, 50 μm or less, 30 μm or less, 15 μm or less, 10 μm or less, or 8 μm or less. As the polarizer 7 is thinner, the contraction of the polarizer 7 itself due to the temperature change is suppressed, and the change in the dimension of the polarizer 7 itself is suppressed. As a result, stress hardly acts on the polarizer 7 and cracks in the polarizer 7 are easily suppressed. Moreover, from the viewpoint of handling properties of the film (polarizer 7), the thickness of the polarizer 7 is usually 1 μm or more and may be 4 μm or more.

第一保護フィルム5は、透光性を有する熱可塑性樹脂であればよく、光学的に透明な熱可塑性樹脂であってもよい。第一保護フィルム5を構成する樹脂は、例えば、鎖状ポリオレフィン系樹脂、環状オレフィンポリマー系樹脂(COP系樹脂)、セルロースエステル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、又はこれらの混合物若しくは共重合体であってよい。   The 1st protective film 5 should just be a thermoplastic resin which has translucency, and may be an optically transparent thermoplastic resin. The resin constituting the first protective film 5 is, for example, a chain polyolefin resin, a cyclic olefin polymer resin (COP resin), a cellulose ester resin, a polyester resin, a polycarbonate resin, a (meth) acrylic resin, It may be a polystyrene-based resin, or a mixture or copolymer thereof.

鎖状ポリオレフィン系樹脂は、例えば、ポリエチレン樹脂又はポリプロピレン樹脂のような鎖状オレフィンの単独重合体であってよい。鎖状ポリオレフィン系樹脂は、二種以上の鎖状オレフィンからなる共重合体であってもよい。   The chain polyolefin resin may be, for example, a homopolymer of a chain olefin such as a polyethylene resin or a polypropylene resin. The chain polyolefin resin may be a copolymer composed of two or more chain olefins.

環状オレフィンポリマー系樹脂(環状ポリオレフィン系樹脂)は、例えば、環状オレフィンの開環(共)重合体、又は環状オレフィンの付加重合体であってよい。環状オレフィンポリマー系樹脂は、例えば、環状オレフィンと鎖状オレフィンとの共重合体(例えば、ランダム共重合体)であってよい。共重合体を構成する鎖状オレフィンは、例えば、エチレン又はプロピレンであってよい。環状オレフィンポリマー系樹脂は、上記の重合体を不飽和カルボン酸若しくはその誘導体で変性したグラフト重合体、又はそれらの水素化物であってもよい。環状オレフィンポリマー系樹脂は、例えば、ノルボルネン又は多環ノルボルネン系モノマー等のノルボルネン系モノマーを用いたノルボルネン系樹脂であってよい。   The cyclic olefin polymer resin (cyclic polyolefin resin) may be, for example, a cyclic olefin ring-opening (co) polymer or a cyclic olefin addition polymer. The cyclic olefin polymer-based resin may be, for example, a copolymer of a cyclic olefin and a chain olefin (for example, a random copolymer). The chain olefin constituting the copolymer may be, for example, ethylene or propylene. The cyclic olefin polymer-based resin may be a graft polymer obtained by modifying the above polymer with an unsaturated carboxylic acid or a derivative thereof, or a hydride thereof. The cyclic olefin polymer resin may be, for example, a norbornene resin using a norbornene monomer such as norbornene or a polycyclic norbornene monomer.

セルロースエステル系樹脂は、例えば、セルローストリアセテート(トリアセチルセルロース(TAC))、セルロースジアセテート、セルローストリプロピオネート又はセルロースジプロピオネートであってよい。これらの共重合物を用いてもよい。水酸基の一部が他の置換基で修飾されたセルロースエステル系樹脂を用いてもよい。   The cellulose ester resin may be, for example, cellulose triacetate (triacetyl cellulose (TAC)), cellulose diacetate, cellulose tripropionate, or cellulose dipropionate. These copolymers may be used. A cellulose ester resin in which a part of the hydroxyl group is modified with another substituent may be used.

セルロースエステル系樹脂以外のポリエステル系樹脂を用いてもよい。ポリエステル系樹脂は、例えば、多価カルボン酸又はその誘導体と多価アルコールとの重縮合体であってよい。多価カルボン酸又はその誘導体は、ジカルボン酸又はその誘導体であってよい。多価カルボン酸又はその誘導体は、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、ジメチルテレフタレート、又はナフタレンジカルボン酸ジメチルであってよい。多価アルコールは、例えば、ジオールであってよい。多価アルコールは、例えば、エチレングリコール、プロパンジオール、ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、又はシクロヘキサンジメタノールであってよい。   Polyester resins other than cellulose ester resins may be used. The polyester resin may be, for example, a polycondensate of a polyvalent carboxylic acid or derivative thereof and a polyhydric alcohol. The polyvalent carboxylic acid or derivative thereof may be a dicarboxylic acid or derivative thereof. The polyvalent carboxylic acid or derivative thereof may be, for example, terephthalic acid, isophthalic acid, dimethyl terephthalate, or dimethyl naphthalenedicarboxylate. The polyhydric alcohol may be, for example, a diol. The polyhydric alcohol may be, for example, ethylene glycol, propanediol, butanediol, neopentyl glycol, or cyclohexanedimethanol.

ポリエステル系樹脂は、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリトリメチレンナフタレート、ポリシクロへキサンジメチルテレフタレート、又はポリシクロヘキサンジメチルナフタレートであってよい。   The polyester-based resin may be, for example, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene naphthalate, polytrimethylene terephthalate, polytrimethylene naphthalate, polycyclohexanedimethyl terephthalate, or polycyclohexanedimethyl naphthalate. .

ポリカーボネート系樹脂は、カルボナート基を介して重合単位(モノマー)が結合された重合体である。ポリカーボネート系樹脂は、修飾されたポリマー骨格を有する変性ポリカーボネートであってよく、共重合ポリカーボネートであってもよい。   The polycarbonate-based resin is a polymer in which polymerized units (monomers) are bonded via a carbonate group. The polycarbonate resin may be a modified polycarbonate having a modified polymer skeleton, or may be a copolymerized polycarbonate.

(メタ)アクリル系樹脂は、例えば、ポリ(メタ)アクリル酸エステル(例えば、ポリメタクリル酸メチル(PMMA));メタクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸共重合体;メタクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸エステル共重合体;メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル−(メタ)アクリル酸共重合体;(メタ)アクリル酸メチル−スチレン共重合体(例えば、MS樹脂);メタクリル酸メチルと脂環族炭化水素基を有する化合物との共重合体(例えば、メタクリル酸メチル−メタクリル酸シクロヘキシル共重合体、メタクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸ノルボルニル共重合体等)であってよい。   (Meth) acrylic resin is, for example, poly (meth) acrylic acid ester (for example, polymethyl methacrylate (PMMA)); methyl methacrylate- (meth) acrylic acid copolymer; methyl methacrylate- (meth) acrylic Acid ester copolymer; methyl methacrylate-acrylic ester- (meth) acrylic acid copolymer; (meth) methyl acrylate-styrene copolymer (for example, MS resin); methyl methacrylate and alicyclic hydrocarbon It may be a copolymer with a compound having a group (for example, methyl methacrylate-cyclohexyl methacrylate copolymer, methyl methacrylate-norbornyl copolymer (meth) acrylate).

第一保護フィルム5は、滑剤、可塑剤、分散剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、帯電防止剤、及び酸化防止剤からな群より選ばれる少なくとも一種の添加剤を含んでよい。   The first protective film 5 may contain at least one additive selected from the group consisting of a lubricant, a plasticizer, a dispersant, a heat stabilizer, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an antistatic agent, and an antioxidant. .

第一保護フィルム5の厚みは、例えば、5μm以上90μm以下、5μm以上80μm以下、又は5μm以上50μm以下であってよい。   The thickness of the first protective film 5 may be, for example, 5 μm to 90 μm, 5 μm to 80 μm, or 5 μm to 50 μm.

樹脂層9の厚みは、例えば、0.5μm以上20μm以下、1μm以上10μm以下、又は1μm以上5μm以下であってよい。樹脂層9の厚みが上記下限値以上である場合、偏光子7から他層(例えば粘着層11)への二色性色素の移動を有効に抑制することができる。樹脂層9の厚みが上記上限値以下である場合、硬化性組成物を十分に硬化させることができる。   The thickness of the resin layer 9 may be, for example, 0.5 μm to 20 μm, 1 μm to 10 μm, or 1 μm to 5 μm. When the thickness of the resin layer 9 is not less than the above lower limit value, the movement of the dichroic dye from the polarizer 7 to another layer (for example, the adhesive layer 11) can be effectively suppressed. When the thickness of the resin layer 9 is not more than the above upper limit value, the curable composition can be sufficiently cured.

第一保護フィルム5は、位相差フィルム又は輝度向上フィルムのように、光学機能を有するフィルムであってよい。例えば、上記熱可塑性樹脂からなるフィルムを延伸したり、該フィルム上に液晶層等を形成したりすることにより、任意の位相差値が付与された位相差フィルムが得られる。   The first protective film 5 may be a film having an optical function, such as a retardation film or a brightness enhancement film. For example, a retardation film to which an arbitrary retardation value is given can be obtained by stretching a film made of the thermoplastic resin or forming a liquid crystal layer or the like on the film.

第一保護フィルム5は、接着層を介して、偏光子7に貼合されていてよい。接着層は、ポリビニルアルコール等の水系接着剤を含んでよく、活性エネルギー線硬化性樹脂を含んでもよい。   The first protective film 5 may be bonded to the polarizer 7 through an adhesive layer. The adhesive layer may contain an aqueous adhesive such as polyvinyl alcohol, and may contain an active energy ray curable resin.

活性エネルギー線硬化性樹脂は、活性エネルギー線を照射されることにより、硬化する樹脂である。活性エネルギー線は、例えば、紫外線、可視光、電子線、又はX線であってよい。活性エネルギー線硬化性樹脂は、紫外線硬化性樹脂であってよい。   The active energy ray-curable resin is a resin that cures when irradiated with active energy rays. The active energy ray may be, for example, ultraviolet light, visible light, electron beam, or X-ray. The active energy ray curable resin may be an ultraviolet curable resin.

活性エネルギー線硬化性樹脂は、一種の樹脂であってよく、複数種の樹脂を含んでもよい。例えば、活性エネルギー線硬化性樹脂は、カチオン重合性の硬化性化合物、又はラジカル重合性の硬化性化合物を含んでよい。活性エネルギー線硬化性樹脂は、上記硬化性化合物の硬化反応を開始させるためのカチオン重合開始剤又はラジカル重合開始剤を含んでよい。   The active energy ray-curable resin may be a kind of resin and may include a plurality of kinds of resins. For example, the active energy ray curable resin may contain a cationic polymerizable curable compound or a radical polymerizable curable compound. The active energy ray curable resin may contain a cationic polymerization initiator or a radical polymerization initiator for initiating a curing reaction of the curable compound.

カチオン重合性の硬化性化合物は、例えば、エポキシ系化合物(分子内に少なくとも一つのエポキシ基を有する化合物)、又はオキセタン系化合物(分子内に少なくとも一つのオキセタン環を有する化合物)であってよい。ラジカル重合性の硬化性化合物は、例えば、(メタ)アクリル系化合物(分子内に少なくとも一つの(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物)であってよい。ラジカル重合性の硬化性化合物は、ラジカル重合性の二重結合を有するビニル系化合物であってもよい。   The cationically polymerizable curable compound may be, for example, an epoxy compound (a compound having at least one epoxy group in the molecule) or an oxetane compound (a compound having at least one oxetane ring in the molecule). The radical polymerizable curable compound may be, for example, a (meth) acrylic compound (a compound having at least one (meth) acryloyloxy group in the molecule). The radical polymerizable curable compound may be a vinyl compound having a radical polymerizable double bond.

活性エネルギー線硬化性樹脂は、必要に応じて、カチオン重合促進剤、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤、帯電防止剤、レベリング剤、又は溶剤等を含んでよい。   The active energy ray curable resin may be a cationic polymerization accelerator, an ion trapping agent, an antioxidant, a chain transfer agent, a tackifier, a thermoplastic resin, a filler, a flow regulator, a plasticizer, or an antifoaming agent, if necessary. Agents, antistatic agents, leveling agents, or solvents.

粘着層11は、例えば、アクリル系感圧型接着剤、ゴム系感圧型接着剤、シリコーン系感圧型接着剤、又はウレタン系感圧型接着剤などの感圧型接着剤を含んでよい。粘着層11の厚みは、例えば、2μm以上500μm以下、2μm以上200μm以下、又は2μm以上50μm以下であってよい。   The pressure-sensitive adhesive layer 11 may include, for example, a pressure-sensitive adhesive such as an acrylic pressure-sensitive adhesive, a rubber-based pressure-sensitive adhesive, a silicone-based pressure-sensitive adhesive, or a urethane-based pressure-sensitive adhesive. The thickness of the adhesion layer 11 may be 2 μm or more and 500 μm or less, 2 μm or more and 200 μm or less, or 2 μm or more and 50 μm or less, for example.

第二保護フィルム3を構成する樹脂は、第一保護フィルム5を構成する樹脂として列挙された上記の樹脂と同じであってよい。第二保護フィルム3の厚みは、例えば、5μm以上200μm以下であってよい。   The resin constituting the second protective film 3 may be the same as the above-described resins listed as resins constituting the first protective film 5. The thickness of the second protective film 3 may be, for example, 5 μm or more and 200 μm or less.

離型フィルム13を構成する樹脂は、第一保護フィルム5を構成する樹脂として列挙された上記の樹脂と同じであってよい。離型フィルム13の厚みは、例えば、5μm以上200μm以下であってよい。   The resin constituting the release film 13 may be the same as the above-described resins listed as resins constituting the first protective film 5. The thickness of the release film 13 may be, for example, 5 μm or more and 200 μm or less.

本発明に係る画像表示装置は、例えば、液晶表示装置又は有機EL表示装置等であってよい。例えば、図3に示されるように、第一実施形態に係る液晶表示装置30Aは、液晶セル10と、液晶セル10の一方の表面(第一表面)に重なる偏光板1Aa(第一偏光板)と、を備える。図3に示された偏光板1Aaは、離型フィルム13及び第二保護フィルム3を備えない点を除いて、図1に示す偏光板1Aと同じである。偏光板1Aa(第一偏光板)は、粘着層11を介して、液晶セル10の第一表面に貼着されている。偏光板1Aa(フロント側偏光板)は、液晶セル10の第一表面に重なる粘着層11と、粘着層11に重なる樹脂層9と、樹脂層9に重なる偏光子7と、偏光子7に重なる第一保護フィルム5と、を有する。別の偏光板(リア側偏光板)が、液晶セル10の第二表面に貼着されていてよい。液晶セル10と、偏光板1Aa(フロント側偏光板)と、別の偏光板(リア側偏光板)とが、一つの液晶パネル20Aを構成してよい。液晶パネル20Aと、バックライト(面光源装置)その他の部材とが、液晶表示装置30Aを構成する。バックライトその他の部材は、図3において省略する。   The image display device according to the present invention may be, for example, a liquid crystal display device or an organic EL display device. For example, as illustrated in FIG. 3, the liquid crystal display device 30 </ b> A according to the first embodiment includes a liquid crystal cell 10 and a polarizing plate 1 </ b> Aa (first polarizing plate) that overlaps one surface (first surface) of the liquid crystal cell 10. And comprising. The polarizing plate 1Aa shown in FIG. 3 is the same as the polarizing plate 1A shown in FIG. 1 except that the release film 13 and the second protective film 3 are not provided. The polarizing plate 1 </ b> Aa (first polarizing plate) is attached to the first surface of the liquid crystal cell 10 via the adhesive layer 11. The polarizing plate 1 </ b> Aa (front-side polarizing plate) overlaps the adhesive layer 11 that overlaps the first surface of the liquid crystal cell 10, the resin layer 9 that overlaps the adhesive layer 11, the polarizer 7 that overlaps the resin layer 9, and the polarizer 7. A first protective film 5. Another polarizing plate (rear polarizing plate) may be attached to the second surface of the liquid crystal cell 10. The liquid crystal cell 10, the polarizing plate 1Aa (front side polarizing plate), and another polarizing plate (rear side polarizing plate) may constitute one liquid crystal panel 20A. The liquid crystal panel 20A and the backlight (surface light source device) and other members constitute the liquid crystal display device 30A. The backlight and other members are omitted in FIG.

図3に示されるように、樹脂層9が偏光子7と液晶セル10との間に配置されている場合、偏光子7中のヨウ素が液晶セル10を化学的に損傷することを抑制する。偏光子7中のヨウ素が、偏光子7の樹脂層9側の表面に析出した場合、ヨウ素の液晶セル10へ移動が樹脂層9よって抑制されるからである。   As shown in FIG. 3, when the resin layer 9 is disposed between the polarizer 7 and the liquid crystal cell 10, the iodine in the polarizer 7 is prevented from chemically damaging the liquid crystal cell 10. This is because when the iodine in the polarizer 7 is deposited on the surface of the polarizer 7 on the resin layer 9 side, the movement of iodine to the liquid crystal cell 10 is suppressed by the resin layer 9.

[第二実施形態]
以下では、本発明の第二実施形態について説明する。以下では、第二実施形態に固有の事項(第一実施形態と第二実施形態との相違点)について説明する。以下で説明されない事項において、第二実施形態は第一実施形態と共通する。
[Second Embodiment]
Below, 2nd embodiment of this invention is described. Hereinafter, matters unique to the second embodiment (differences between the first embodiment and the second embodiment) will be described. In matters not explained below, the second embodiment is common to the first embodiment.

第二実施形態では、凹上の切欠き部の代わりに、偏光子を貫通する穴が形成されていている。例えば、図6に示されるように、偏光板1Bは、フィルム状の偏光子7、樹脂層9、第一保護フィルム5、第二保護フィルム3、粘着層11及び離型フィルム13を備え、偏光板1Bには、偏光板1B全体を貫通する穴(貫通穴21)が形成されている。貫通穴21は、偏光板1Bの表面(XY平面)に略垂直であり、偏光板1Bの積層方向(Z軸方向)に略平行である。偏光板1Bの表面に平行な方向(XY平面方向)における貫通穴21の形状は、例えば、図6に示すように円である。ただし、貫通穴21の形状は、限定されない。例えば、貫通穴21の形状は、四角形又は三角形等の多角形であってよく、楕円形であってもよい。   In 2nd embodiment, the hole which penetrates a polarizer is formed instead of the notch part on a concave. For example, as illustrated in FIG. 6, the polarizing plate 1 </ b> B includes a film-like polarizer 7, a resin layer 9, a first protective film 5, a second protective film 3, an adhesive layer 11, and a release film 13, and a polarizing plate The plate 1B has a hole (through hole 21) penetrating the entire polarizing plate 1B. The through hole 21 is substantially perpendicular to the surface (XY plane) of the polarizing plate 1B and is substantially parallel to the stacking direction (Z-axis direction) of the polarizing plate 1B. The shape of the through hole 21 in the direction parallel to the surface of the polarizing plate 1B (XY plane direction) is, for example, a circle as shown in FIG. However, the shape of the through hole 21 is not limited. For example, the shape of the through hole 21 may be a polygon such as a quadrangle or a triangle, or may be an ellipse.

樹脂層9は、偏光子7の一方の表面全体に重なっており、且つ偏光子7の一方の表面全体に密着している。粘着層11は、樹脂層9の表面全体に重なっており、樹脂層9の表面全体に強固に密着している。離型フィルム13は、粘着層11の表面全体を覆っている。第一保護フィルム5は、偏光子7の他方の表面全体に重なっており、且つ偏光子7の他方の表面全体に接着されている。第二保護フィルム3は、第一保護フィルム5の表面全体を覆っている。   The resin layer 9 overlaps the entire surface of the polarizer 7 and is in close contact with the entire surface of the polarizer 7. The adhesive layer 11 overlaps the entire surface of the resin layer 9 and is firmly adhered to the entire surface of the resin layer 9. The release film 13 covers the entire surface of the adhesive layer 11. The first protective film 5 overlaps the entire other surface of the polarizer 7 and is adhered to the entire other surface of the polarizer 7. The second protective film 3 covers the entire surface of the first protective film 5.

貫通穴21の内側において露出する偏光子7の端面の向きは、偏光子7の吸収軸線に対して一定・一様ではないので、偏光子7が温度変化に伴って収縮する際に貫通穴21は一様には収縮しない。その結果、貫通穴21の内側において露出する偏光子7の端面の局所において応力が生じ易い。この応力により、貫通穴21の内側を起点としたクラックが偏光子7の吸収軸線に沿って形成され易い。また、貫通穴21における偏光子7のクラックは、貫通穴21を形成するための加工にも起因する。貫通穴21を偏光板1Bに形成する加工では、偏光板1Bを構成する積層体、特に偏光子7に負荷が掛かり易い。この加工時の負荷により、貫通穴21の内側に露出する偏光子7の端部に微小な傷が入り易い。この微小な傷が、偏光子7の熱収縮時にクラックの起点となり易い。しかし、樹脂層9が偏光子7に密着しているため、温度変化に伴う貫通穴21での偏光子7のクラックが抑制される。貫通穴21での偏光子7のクラックが抑制されるメカニズムは、切欠き部7Cにおける偏光子7のクラックが抑制されるメカニズムと同様である。また偏光板1Bが樹脂層9を備えることにより、偏光板1B(特に貫通穴21の周囲)における光抜け(白抜け)及び熱斑が抑制される。   Since the orientation of the end face of the polarizer 7 exposed inside the through hole 21 is not constant and uniform with respect to the absorption axis of the polarizer 7, the through hole 21 is contracted when the polarizer 7 contracts with a temperature change. Does not shrink uniformly. As a result, stress is likely to be generated locally on the end face of the polarizer 7 exposed inside the through hole 21. Due to this stress, a crack starting from the inside of the through hole 21 is easily formed along the absorption axis of the polarizer 7. Further, the crack of the polarizer 7 in the through hole 21 is also caused by processing for forming the through hole 21. In the process of forming the through hole 21 in the polarizing plate 1B, a load is easily applied to the laminated body that forms the polarizing plate 1B, in particular, the polarizer 7. Due to this processing load, minute scratches are likely to enter the end portion of the polarizer 7 exposed inside the through hole 21. This minute scratch is likely to be a starting point of a crack when the polarizer 7 is thermally contracted. However, since the resin layer 9 is in close contact with the polarizer 7, cracking of the polarizer 7 in the through hole 21 due to a temperature change is suppressed. The mechanism by which the crack of the polarizer 7 in the through hole 21 is suppressed is the same as the mechanism by which the crack of the polarizer 7 in the notch 7C is suppressed. Further, when the polarizing plate 1B includes the resin layer 9, light leakage (white spots) and heat spots in the polarizing plate 1B (particularly around the through hole 21) are suppressed.

貫通穴21の形成方法は、限定されない。上述の加工ステップにおいて、貫通穴21を第二積層体に形成してよい。例えば、パンチ及びダイを用いたプレス加工(打抜き加工)、又はドリルによる切削加工によって、貫通穴21を第二積層体に形成してよい。レーザーを第二積層体の表面に照射することにより、貫通穴21を第二積層体に形成してよい。例えば、CO2レーザー等を用いた加工(熱加工)又はエキシマレーザーを用いた加工(アブレーション加工)によって、貫通穴21を第二積層体に形成してよい。貫通穴21の内壁をエンドミルで研磨してもよい。   The method for forming the through hole 21 is not limited. In the above processing step, the through hole 21 may be formed in the second laminate. For example, the through hole 21 may be formed in the second laminated body by press working (punching) using a punch and a die or cutting by a drill. The through hole 21 may be formed in the second laminate by irradiating the surface of the second laminate with a laser. For example, the through-hole 21 may be formed in the second laminate by processing using a CO2 laser or the like (thermal processing) or processing using an excimer laser (ablation processing). The inner wall of the through hole 21 may be polished with an end mill.

[他の実施形態]
以上、本発明は上記の第一実施形態及び第二実施形態に限定されるものではない。
[Other Embodiments]
As mentioned above, this invention is not limited to said 1st embodiment and 2nd embodiment.

例えば、複数の凹状の切欠き部が偏光子及び偏光板に形成されていてよい。複数の貫通穴が偏光子及び偏光板に形成されていてよい。凹状の切欠き部及び貫通穴の両方が偏光子及び偏光板に形成されていてよい。凹状の切欠き部が偏光子のみに形成されていてよい。偏光子のみを貫通する穴が形成されていてもよい。   For example, a plurality of concave notches may be formed in the polarizer and the polarizing plate. A plurality of through holes may be formed in the polarizer and the polarizing plate. Both the concave notch and the through hole may be formed in the polarizer and the polarizing plate. The concave notch may be formed only in the polarizer. A hole penetrating only the polarizer may be formed.

偏光板を構成する光学フィルムの種類、数及び積層の順序は、限定されない。   The kind of optical film which comprises a polarizing plate, the number, and the order of lamination | stacking are not limited.

例えば、偏光子は、樹脂硬化物を含む一対の樹脂層の間に挟まれていてよい。つまり、樹脂硬化物を含む第一樹脂層が偏光子の第一表面に重なり、且つ第一樹脂層が偏光子の第一表面に密着してよく、樹脂硬化物を含む第二樹脂層が偏光子の第二表面(裏面)に重なり、且つ第二樹脂層が偏光子の第二表面に密着してよい。   For example, the polarizer may be sandwiched between a pair of resin layers containing a cured resin. That is, the first resin layer containing the cured resin may overlap the first surface of the polarizer, and the first resin layer may be in close contact with the first surface of the polarizer, and the second resin layer containing the cured resin may be polarized. The second resin layer may be in close contact with the second surface of the polarizer.

樹脂硬化物を含む樹脂層が偏光子の第一表面に重なり、且つ樹脂層が偏光子の第一表面に密着してよく、粘着層が偏光子の第二表面に重なり、且つ粘着層が偏光子の第二表面に密着してよい。   The resin layer containing the cured resin may overlap the first surface of the polarizer, and the resin layer may adhere to the first surface of the polarizer, the adhesive layer may overlap the second surface of the polarizer, and the adhesive layer may be polarized It may be in close contact with the second surface of the child.

偏光板1A又は偏光板1Bは、第二保護フィルム3及び離型フィルム13のうち一方又は両方を備えなくてもよい。例えば、第二保護フィルム3は、画像表示装置の製造過程において、偏光板1A又は偏光板1Bから剥離され、除去されてよい。つまり、第二保護フィルム3は、仮の保護フィルムであってよい。離型フィルム13も、画像表示装置の製造過程において、偏光板1Aから剥離され、除去されてよい。   The polarizing plate 1 </ b> A or the polarizing plate 1 </ b> B may not include one or both of the second protective film 3 and the release film 13. For example, the second protective film 3 may be peeled off and removed from the polarizing plate 1A or the polarizing plate 1B in the manufacturing process of the image display device. That is, the second protective film 3 may be a temporary protective film. The release film 13 may also be peeled off from the polarizing plate 1A during the manufacturing process of the image display device.

離型フィルムが、粘着層を介して、偏光板の両面に配置されていてもよい。   The release film may be arrange | positioned on both surfaces of the polarizing plate through the adhesion layer.

偏光板が備える光学フィルムは、反射型偏光フィルム、防眩機能付フィルム、表面反射防止機能付フィルム、反射フィルム、半透過反射フィルム、視野角補償フィルム、光学補償層、タッチセンサー層、帯電防止層又は防汚層であってもよい。   The optical film included in the polarizing plate is a reflective polarizing film, a film with an antiglare function, a film with a surface antireflection function, a reflective film, a transflective film, a viewing angle compensation film, an optical compensation layer, a touch sensor layer, and an antistatic layer. Or an antifouling layer may be sufficient.

偏光板が、ハードコート層をさらに備えてもよい。例えば、偏光板1A又は偏光板1Bの変形例では、ハードコート層が、第一保護フィルム5と第二保護フィルム3との間に位置してよい。つまり、ハードコート層が第一保護フィルム5の表面に直接重なっていてよい。この場合、第一保護フィルム5が、トリアセチルセルロースを含んでよい。   The polarizing plate may further include a hard coat layer. For example, in the modification of the polarizing plate 1 </ b> A or the polarizing plate 1 </ b> B, the hard coat layer may be positioned between the first protective film 5 and the second protective film 3. That is, the hard coat layer may directly overlap the surface of the first protective film 5. In this case, the first protective film 5 may contain triacetyl cellulose.

ハードコート層は、例えば、微細な凹凸形状が表面に設けられたアクリル系樹脂フィルムから構成される層である。ハードコート層は、例えば、有機微粒子又は無機微粒子を含有する塗膜から形成されてよい。この塗膜を、凹凸形状を有するロールに押し当てる方法(たとえばエンボス法等)を用いてもよい。有機微粒子又は無機微粒子を含有しない塗膜を形成後、この塗膜を、凹凸形状を有するロールに押し当てる方法を用いてもよい。無機微粒子は、例えば、シリカ、コロイダルシリカ、アルミナ、アルミナゾル、アルミノシリケート、アルミナ−シリカ複合酸化物、カオリン、タルク、マイカ、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム等であってよい。また、有機微粒子(樹脂粒子)は、例えば、架橋ポリアクリル酸粒子、メタクリル酸メチル/スチレン共重合体樹脂粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリメチルメタクリレート粒子、シリコーン樹脂粒子、ポリイミド粒子等であってよい。無機微粒子又は有機微粒子を分散させるためのバインダー成分は、高硬度(ハードコート)となる材料から選定されればよい。バインダー成分は、例えば、紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等であってよい。生産性、硬度などの観点から、バインダー成分としては、紫外線硬化性樹脂が好ましく使用される。ハードコート層の厚みは、例えば、2μm以上30μm以下、又は3μm以上30μm以下であってよい。   A hard-coat layer is a layer comprised from the acrylic resin film in which the fine uneven | corrugated shape was provided in the surface, for example. The hard coat layer may be formed from a coating film containing organic fine particles or inorganic fine particles, for example. You may use the method (for example, embossing method etc.) which presses this coating film on the roll which has uneven | corrugated shape. After forming a coating film that does not contain organic fine particles or inorganic fine particles, a method of pressing the coated film against a roll having an uneven shape may be used. The inorganic fine particles may be, for example, silica, colloidal silica, alumina, alumina sol, aluminosilicate, alumina-silica composite oxide, kaolin, talc, mica, calcium carbonate, calcium phosphate and the like. The organic fine particles (resin particles) may be, for example, crosslinked polyacrylic acid particles, methyl methacrylate / styrene copolymer resin particles, crosslinked polystyrene particles, crosslinked polymethyl methacrylate particles, silicone resin particles, polyimide particles, and the like. . The binder component for dispersing the inorganic fine particles or the organic fine particles may be selected from materials having high hardness (hard coat). The binder component may be, for example, an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, an electron beam curable resin, or the like. From the viewpoints of productivity and hardness, an ultraviolet curable resin is preferably used as the binder component. The thickness of the hard coat layer may be, for example, 2 μm to 30 μm, or 3 μm to 30 μm.

偏光板及び切欠き部其々の形状は、用途に応じた様々な形であってよい。例えば、図4中の(a)に示すように、切欠き部7Cの形状は、半円であってもよい。図4中の(b)に示すように、切欠き部7Cの形状は、三角形であってもよい。切欠き部7Cの形状は、四角形及び三角形以外の他の多角形であってもよい。図4中の(c)に示すように、偏光子7の外縁(第一端部7e及び第二端部17e)は、円形であってよい。図4中の(d)に示すように、切欠き部7Cの深部(隅部)に面取り部(chamfered part)7C3及び面取り部7C4が形成されていてよい。切欠き部7Cの両端に位置する角部7C1及び角部7C2も、面取りされていてよい。偏光子7の外縁に位置する外角部(outside corner)CR1,外角部CR2,外角部CR3及び外角部CR4も、面取りされていてよい。上記の面取りは、例えば、エンドミルに用いた切欠き部及び外縁の切削・研磨によって可能である。図4中の(a)、図4中の(b)、図4中の(c)及び図4中の(d)に示された偏光子7其々の形状は、其々の偏光子7を備える偏光板の形状とみなしてよい。換言すれば、図4中の(a)、図4中の(b)、図4中の(c)及び図4中の(d)に示された各偏光子7に形成された切欠き部7Cの形状は、各偏光子7を備える偏光板に形成された切欠き部の形状とみなしてよい。図4中の(d)に示されるように、切欠き部7Cの深部が面取りされていることにより、切欠き部7Cにおけるクラックが抑制され易い。図4中の(d)に示された面取り部7C3及び面取り部7C4は、切欠き部の曲面状の深部(隅部)と言い換えてよい。切欠き部7Cの曲面状の深部(隅部)の曲率半径が大きい程、切欠き部7Cにおけるクラックが抑制され易い。例えば、切欠き部7Cの曲面状の深部(隅部)の曲率半径が0.07mm以上であることにより、切欠き部7Cにおけるクラックが抑制され易い。切欠き部7Cの曲面状の深部(隅部)の曲率半径は、例えば、0.07mm以上30mm以下、又は0.07mm以上10mm以下、好ましくは0.09mm以上30mm以下、又は0.09mm以上10mm以下であればよい。   The shape of each of the polarizing plate and the notch may be various shapes depending on the application. For example, as shown to (a) in FIG. 4, the shape of the notch part 7C may be a semicircle. As shown in FIG. 4B, the shape of the cutout portion 7C may be a triangle. The shape of the cutout portion 7C may be a polygon other than a quadrangle and a triangle. As shown in (c) of FIG. 4, the outer edges (first end portion 7 e and second end portion 17 e) of the polarizer 7 may be circular. As shown in FIG. 4D, a chamfered part 7C3 and a chamfered part 7C4 may be formed in the deep part (corner part) of the notch part 7C. The corners 7C1 and 7C2 located at both ends of the notch 7C may also be chamfered. The outer corner CR1, the outer corner CR2, the outer corner CR3, and the outer corner CR4 located at the outer edge of the polarizer 7 may also be chamfered. The chamfering can be performed, for example, by cutting and polishing the notch and the outer edge used in the end mill. The shape of each of the polarizers 7 shown in (a) in FIG. 4, (b) in FIG. 4, (c) in FIG. 4 and (d) in FIG. May be regarded as the shape of a polarizing plate comprising In other words, the notch formed in each polarizer 7 shown in (a) in FIG. 4, (b) in FIG. 4, (c) in FIG. 4 and (d) in FIG. The shape of 7C may be regarded as the shape of the notch formed in the polarizing plate including each polarizer 7. As shown in (d) of FIG. 4, since the deep portion of the cutout portion 7C is chamfered, cracks in the cutout portion 7C are easily suppressed. The chamfered portion 7C3 and the chamfered portion 7C4 shown in FIG. 4D may be rephrased as a curved deep portion (corner portion) of the cutout portion. As the curvature radius of the curved deep portion (corner portion) of the cutout portion 7C is larger, cracks in the cutout portion 7C are more easily suppressed. For example, when the curvature radius of the curved deep portion (corner portion) of the cutout portion 7C is 0.07 mm or more, cracks in the cutout portion 7C are easily suppressed. The curvature radius of the curved deep portion (corner portion) of the cutout portion 7C is, for example, 0.07 mm or more and 30 mm or less, or 0.07 mm or more and 10 mm or less, preferably 0.09 mm or more and 30 mm or less, or 0.09 mm or more and 10 mm. The following is sufficient.

偏光子の外縁の一部が直線状であり、偏光子の外縁の残部が曲線状であってもよい。偏光子7の第一端部7eの一部が直線状であり、偏光子7の第一端部7eの残部が曲線状であってもよい。偏光子7の第一端部7eが、一つ以上の直線(一つ以上の辺)のみからなっていてもよい。偏光子7の第一端部6eが、曲線のみからなっていてもよい。偏光子7の第二端部17eの一部が直線状であり、偏光子7の第二端部17eの残部が曲線状であってもよい。偏光子7の第二端部17eが、一つ以上の直線(一つ以上の辺)のみからなっていてもよい。偏光子7の第二端部17eが、曲線のみからなっていてもよい。偏光子及び偏光板其々の形状は、四角形以外の多角形であってよい。偏光子及び偏光板其々の形状は、例えば、楕円形であってもよい。樹脂層9及び各光学フィルム(3,5,13)それぞれの形状は、偏光子7の形状と略同じであってよい。   A part of the outer edge of the polarizer may be linear, and the remaining part of the outer edge of the polarizer may be curved. A part of the first end 7e of the polarizer 7 may be linear, and the remaining part of the first end 7e of the polarizer 7 may be curved. The first end portion 7e of the polarizer 7 may be composed of only one or more straight lines (one or more sides). The first end 6e of the polarizer 7 may be composed only of a curve. A part of the second end 17e of the polarizer 7 may be linear, and the remaining part of the second end 17e of the polarizer 7 may be curved. The second end portion 17e of the polarizer 7 may consist of only one or more straight lines (one or more sides). The second end portion 17e of the polarizer 7 may be composed only of a curve. Each shape of the polarizer and the polarizing plate may be a polygon other than a quadrangle. The respective shapes of the polarizer and the polarizing plate may be elliptical, for example. The shapes of the resin layer 9 and the optical films (3, 5, 13) may be substantially the same as the shape of the polarizer 7.

また本発明によれば、切欠き部7C又は貫通穴21の周辺における光抜けを抑制することも可能である。例えば、偏光板1A又は1Bが液晶表示装置に実装される場合、離型フィルム13は偏光板1A又は1Bから剥がされて、粘着層11を介して偏光板1A又は1Bが液晶セルの表面に貼合される。液晶表示装置が作動すると、液晶表示装置内で発生する熱(例えば、バックライトに起因する熱)により、偏光子7がその吸収軸方向に大きく収縮する。仮に樹脂層9の代わりに、保護フィルムが偏光子7の表面に直接重なる場合、偏光子7の大きな熱収縮に伴い、保護フィルム自体にも歪みが生じ、位相差が発生する。位相差の発生した部分において、光が抜けて、位相差の発生した部分に斑が見える。このような光抜けが、液晶表示装置等の画像表示装置の品質を低下させる。特に上述した理由により、切り欠き部7C又は貫通穴21の周辺に応力が集中し易く、切り欠き部7C又は貫通穴21の周辺において光抜けが生じ易い。上記の位相差は、位相差が生じた箇所における各層の厚み又は光弾性係数に依存する。例えば、保護フィルムの厚みの増加、又保護フィルムの光弾性係数の増加に伴って、位相差が生じ易い。したがって、従来の保護フィルムよりも薄く、且つ光弾性係数が小さい樹脂層9(例えば、厚みが0.5〜10μmである樹脂層9)を、偏光子7と液晶セルの間に配置させることにより、切り欠き部7C又は貫通穴21の周辺における光抜けを抑制することができる。上記のような効果は、例えば、偏光板1A又は1Bを用いた耐久性試験(特に高温下での耐熱性試験)によって確認することができる。   Further, according to the present invention, it is also possible to suppress light leakage in the periphery of the notch 7C or the through hole 21. For example, when the polarizing plate 1A or 1B is mounted on a liquid crystal display device, the release film 13 is peeled off from the polarizing plate 1A or 1B, and the polarizing plate 1A or 1B is attached to the surface of the liquid crystal cell via the adhesive layer 11. Combined. When the liquid crystal display device is operated, the polarizer 7 is largely contracted in the absorption axis direction by heat generated in the liquid crystal display device (for example, heat caused by the backlight). If the protective film directly overlaps the surface of the polarizer 7 instead of the resin layer 9, the protective film itself is distorted due to the large thermal contraction of the polarizer 7, and a phase difference is generated. In the part where the phase difference occurs, light is lost and spots appear in the part where the phase difference occurs. Such light leakage deteriorates the quality of an image display device such as a liquid crystal display device. In particular, for the reasons described above, stress tends to concentrate around the notch 7C or the through hole 21, and light leakage tends to occur around the notch 7C or the through hole 21. Said phase difference is dependent on the thickness or photoelastic coefficient of each layer in the location where the phase difference has occurred. For example, a retardation is likely to occur with an increase in the thickness of the protective film and an increase in the photoelastic coefficient of the protective film. Therefore, by disposing a resin layer 9 (for example, a resin layer 9 having a thickness of 0.5 to 10 μm) thinner than the conventional protective film and having a small photoelastic coefficient between the polarizer 7 and the liquid crystal cell. The light omission in the periphery of the notch 7C or the through hole 21 can be suppressed. The effects as described above can be confirmed by, for example, a durability test (particularly a heat resistance test at a high temperature) using the polarizing plate 1A or 1B.

以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention still in detail, this invention is not limited to these Examples.

(実施例1)
偏光子フィルム(切断前の偏光子7)と、樹脂層9と、3枚の光学フィルム(3,5,13)と感圧型の粘着層11とから構成される長方形状の第一積層体を作製した。第一積層体は、離型フィルム13と、離型フィルム13全体に重なる粘着層11と、粘着層11全体に重なる樹脂層9と、樹脂層9全体に重なる偏光子フィルム(7)と、偏光子フィルム(7)全体に重なる第一保護フィルム5と、第一保護フィルム5全体に重なる第二保護フィルム3と、を備えていた。偏光子フィルム(7)としては、延伸され、且つ染色されたフィルム状のポリビニルアルコールを用いた。
Example 1
A rectangular first laminate composed of a polarizer film (polarizer 7 before cutting), a resin layer 9, three optical films (3, 5, 13), and a pressure-sensitive adhesive layer 11 Produced. The first laminate includes a release film 13, an adhesive layer 11 that overlaps the entire release film 13, a resin layer 9 that overlaps the entire adhesive layer 11, a polarizer film (7) that overlaps the entire resin layer 9, and a polarizing film. The first protective film 5 that overlaps the entire child film (7) and the second protective film 3 that overlaps the entire first protective film 5 were provided. As the polarizer film (7), stretched and dyed film-like polyvinyl alcohol was used.

樹脂層9は、以下の手順で作製した。未硬化の紫外線硬化性樹脂として、二種のエポキシ系化合物(下記の化合物A及びB)と、一種のオキセタン系化合物(下記の化合物C)と、光カチオン重合開始剤(下記の化合物D)と、を以下の配合比で混合することにより、混合物を調製した。この混合物をPET基材の表面に塗って、未硬化層(樹脂層9の前駆体)を形成した。偏光子フィルム(7)、第一保護フィルム5及び第二保護フィルム3をこの順に積層して、積層体を形成した。つづいて、偏光子フィルム(7)の表面(第一保護フィルム5が重なっていない表面)に、PET基材に形成された未硬化層を貼り合わせた。続いて、紫外線(UVB)を未硬化層へ照射した。紫外線の照度は、400mJ/cmに調整した。紫外線の照射後、PET基材を樹脂層9から剥離することにより、偏光子フィルム(7)の表面全体に重なり、偏光子の表面全体に強固に密着した樹脂層9を得た。 The resin layer 9 was produced by the following procedure. As an uncured ultraviolet curable resin, two kinds of epoxy compounds (compounds A and B below), a kind of oxetane compound (compound C below), and a photocationic polymerization initiator (compound D below) Were mixed at the following blending ratio to prepare a mixture. This mixture was applied to the surface of the PET substrate to form an uncured layer (precursor of the resin layer 9). The polarizer film (7), the first protective film 5 and the second protective film 3 were laminated in this order to form a laminate. Subsequently, the uncured layer formed on the PET substrate was bonded to the surface of the polarizer film (7) (the surface on which the first protective film 5 did not overlap). Subsequently, the uncured layer was irradiated with ultraviolet rays (UVB). The illuminance of ultraviolet light was adjusted to 400 mJ / cm 2 . After UV irradiation, the PET substrate was peeled from the resin layer 9 to obtain a resin layer 9 that overlapped the entire surface of the polarizer film (7) and was firmly adhered to the entire surface of the polarizer.

<未硬化の紫外線硬化性樹脂に含まれる各化合物及びその配合比>
化合物A: 3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル 3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート (株式会社ダイセル製の“セロキサイド 2021P”)
化合物Aの配合比: 35質量部
化合物B: 2−[4−(2,3−エポキシプロポキシ)フェニル]−2−[4−[1,1−ビス[4−([2,3−エポキシプロポキシ]フェニル]エチル]フェニル]プロパン ((株)プリンテック社製の“TECHMORE VG3101L”)
化合物Bの配合比: 15質量部
化合物C: ビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル (東亞合成(株)製の“アロンオキセタン OXT−221”)
化合物Cの配合比: 50質量部
化合物D: トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート
化合物Dの配合比: 2.25質量部
<Each compound contained in uncured ultraviolet curable resin and its blend ratio>
Compound A: 3 ′, 4′-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (“Celoxide 2021P” manufactured by Daicel Corporation)
Compound A mixing ratio: 35 parts by mass Compound B: 2- [4- (2,3-epoxypropoxy) phenyl] -2- [4- [1,1-bis [4-([2,3-epoxypropoxy] ] Phenyl] ethyl] phenyl] propane ("TECHMORE VG3101L" manufactured by Printec Co., Ltd.)
Compound B mixing ratio: 15 parts by mass Compound C: Bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether (“Aron Oxetane OXT-221” manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
Compound C compounding ratio: 50 parts by mass Compound D: Triphenylsulfonium hexafluorophosphate compound D compounding ratio: 2.25 parts by mass

第一保護フィルム5としては、トリアセチルセルロース(TAC)フィルムを用いた。第二保護フィルム3に対面する第一保護フィルム5の表面全体はハードコート層に覆われていた。第一保護フィルム5は、水系接着剤を介して、偏光子フィルム(7)に接着された。第二保護フィルム3としては、PETプロテクトフィルムを用いた。離型フィルム13としては、PETセパレーターを用いた。離型フィルム13の厚みは、38μmであった。粘着層11の厚みは、20μmであった。樹脂層9の厚みは、3μmであった。偏光子7の厚みは、7μmであった。ハードコート層を含む第一保護フィルム5全体の厚みは、32μmであった。第二保護フィルム3の厚みは、58μmであった。水系接着剤の厚みは、50nmであった。   As the first protective film 5, a triacetyl cellulose (TAC) film was used. The entire surface of the first protective film 5 facing the second protective film 3 was covered with the hard coat layer. The first protective film 5 was adhered to the polarizer film (7) through an aqueous adhesive. As the second protective film 3, a PET protective film was used. As the release film 13, a PET separator was used. The release film 13 had a thickness of 38 μm. The thickness of the adhesive layer 11 was 20 μm. The thickness of the resin layer 9 was 3 μm. The thickness of the polarizer 7 was 7 μm. The total thickness of the first protective film 5 including the hard coat layer was 32 μm. The thickness of the second protective film 3 was 58 μm. The thickness of the water-based adhesive was 50 nm.

上記の第一積層体をカッターで切断して、より小さい矩形状の第二積層体を作製した。第二積層体をステージに吸着させて固定した。固定された第二積層体の外縁にCOレーザーを照射することにより、第二積層体の横辺(第一端部)に凹状の切欠き部を形成した。切欠き部を形成する際に、切欠き部の深部(奥)を面取りした。以上の工程を経て、実施例1の偏光板を得た。COレーザーの出力は、20Wに設定した。COレーザーの発振波長は、10.4μmであった。 Said 1st laminated body was cut | disconnected with the cutter, and the smaller rectangular-shaped 2nd laminated body was produced. The second laminate was adsorbed on the stage and fixed. By irradiating the outer edge of the fixed second laminate with a CO 2 laser, a concave notch was formed on the lateral side (first end) of the second laminate. When forming the notch, the deep part (back) of the notch was chamfered. The polarizing plate of Example 1 was obtained through the above process. The output of the CO 2 laser was set to 20W. The oscillation wavelength of the CO 2 laser was 10.4 μm.

得られた偏光板の形状は、図5に示された偏光子7の形状と同じであった。つまり、図5に示された偏光子7は、上記の手順で作製された偏光板が備える偏光子である。偏光子7の第一端部7e(第二積層体の横辺)に形成された切欠き部7Cの深部(奥)は、半円であった。切欠き部7Cの深部の曲率半径Rは、2mmであった。第一端部7eに平行な方向における切欠き部7Cの幅Wは上記曲率半径Rの2倍、つまり4mmであった。第一端部7eに垂直な方向における切欠き部7Cの深さDは、10mmであった。切欠き部7Cが形成された偏光子7の第一端部7e全体の幅Wは、60mmであった。つまり、偏光板の横辺の長さ(偏光板の横幅)は、60mmであった。偏光板の縦辺の長さD(偏光板の縦幅)は、70mmであった。 The shape of the obtained polarizing plate was the same as the shape of the polarizer 7 shown in FIG. That is, the polarizer 7 shown in FIG. 5 is a polarizer included in the polarizing plate manufactured by the above procedure. The deep part (back) of the notch part 7C formed in the first end part 7e of the polarizer 7 (the lateral side of the second laminate) was a semicircle. The curvature radius R of the deep part of the notch 7C was 2 mm. 2 times the width W C is the curvature radius R of the cutout portion 7C in the direction parallel to the first end portion 7e, was That 4 mm. The depth D C of the cutout portion 7C in a direction perpendicular to the first end 7e was 10 mm. The width W of the entire first end portion 7e of the polarizer 7 in which the notch portion 7C was formed was 60 mm. That is, the length of the lateral side of the polarizing plate (lateral width of the polarizing plate) was 60 mm. The length D (vertical width of the polarizing plate) of the vertical side of the polarizing plate was 70 mm.

離型フィルム13を、偏光板の粘着層11から剥がし、粘着層11を介して、偏光板をガラス板に貼合した。さらに、第二保護フィルム3を偏光板から剥離した。このような手順により、ガラス板と、ガラス板に貼合された偏光板と、からなるサンプルを準備した。このサンプルを用いて、ヒートサイクル試験を行った。ヒートサイクル試験では、下記のステップ1と、ステップ1に続くステップ2と、からなるサイクルを繰り返した。
ステップ1: サンプルを85℃の雰囲気中で30分間加熱するステップ。
ステップ2: サンプルを−40℃の雰囲気中で30分間冷却するステップ。
The release film 13 was peeled off from the adhesive layer 11 of the polarizing plate, and the polarizing plate was bonded to the glass plate via the adhesive layer 11. Furthermore, the 2nd protective film 3 was peeled from the polarizing plate. By such a procedure, a sample comprising a glass plate and a polarizing plate bonded to the glass plate was prepared. A heat cycle test was conducted using this sample. In the heat cycle test, a cycle consisting of the following step 1 and step 2 following step 1 was repeated.
Step 1: heating the sample in an atmosphere at 85 ° C. for 30 minutes.
Step 2: Cool the sample in an atmosphere of −40 ° C. for 30 minutes.

上記のサイクルを、下記表1に示す所定の回数繰り返した各時点で、サンプルが備える偏光子7に形成されている切欠き部7Cを光学顕微鏡で観察した。
<樹脂層9の吸光度上昇率の測定>
上述の未硬化の紫外線硬化性樹脂をバーコータでシクロオレフィン系フィルムの片面に塗布することにより、塗膜を形成した。シクロオレフィン系フィルムとしては、日本ゼオン(株)製の「ZEONOR」を用いた。シクロオレフィン系フィルムの厚みは50μmであった。もう一つのシクロオレフィン系フィルムを塗膜に貼合して、積層体を作製した。紫外線を積層体の表面(つまりシクロオレフィン系フィルムの表面)に照射することにより、一対のシクロオレフィン系フィルムで挟まれた塗膜を硬化させて、樹脂層9’を形成した。樹脂層9’の組成は、上記の樹脂層9の組成と同じであった。280nm〜320nmの範囲における紫外線の積算光量は1000mJ/cmであった。紫外線の照射には、ベルトコンベア付き紫外線照射装置を用いた。紫外線の光源(ランプ)としては、フュージョンUVシステムズ社製の「Dバルブ」を使用した。樹脂層9’の両面からシクロオレフィン系フィルムを剥離した。樹脂層9’の厚みは、約30μmであった。樹脂層9’の吸光度Absi及びAbsfをそれぞれ測定した。Absi及びAbsfの測定には、(株)島津製作所製の紫外可視分光光度計(UV2450)を用いた。Absi及びAbsfから、樹脂層9’の吸光度上昇率を算出した。樹脂層9’の吸光度上昇率は、3%であった。
<偏光度の測定>
実施例1の偏光板を裁断して、偏光板の寸法を30mm×30mmに調整した。続いて、離型フィルム13を偏光板の粘着層11から剥がした。そして粘着層11を介して、偏光板をガラス板に貼合した。さらに、第二保護フィルム3を偏光板から剥離した。ガラス板としては、コーニング社製の無アルカリガラス「EAGLE XG」を用いた。以上の手順で作製されたサンプルに対して、温度50℃、圧力5kg/cm(490.3kPa)でのオートクレーブ処理を実施した。1時間のオートクレーブ処理後、温度23℃、相対湿度55%の環境下でサンプルを24時間放置した。続いて、オプションアクセサリーの「偏光フィルム付フィルムホルダー」を紫外可視分光光度計にセットした。紫外可視分光光度計としては、(株)島津製作所製の「UV2450」)を用いた。この紫外可視分光光度計を用いて、波長380〜700nmの範囲における偏光板の透過軸方向の透過スペクトルを測定した。同様に、偏光板の吸収軸方向の透過スペクトルを測定した。これらの透過スペクトルに基づいて、偏光板の初期の偏光度Pyi(単位:%)を求めた。続いて、80℃、相対湿度90%の環境下で、サンプルを24時間静置した。最後に、Pyiと同様の方法で、偏光板の終期の偏光度Pyf(単位:%)を求めた。実施例1の偏光度の変化ΔPy(つまり、Pyf−Pyi)は、−0.03であった。
At each time point when the above cycle was repeated a predetermined number of times shown in Table 1 below, the cutout portion 7C formed in the polarizer 7 included in the sample was observed with an optical microscope.
<Measurement of absorbance increase rate of resin layer 9>
A coating film was formed by applying the above-mentioned uncured ultraviolet curable resin to one side of a cycloolefin film with a bar coater. As the cycloolefin film, “ZEONOR” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd. was used. The thickness of the cycloolefin film was 50 μm. Another cycloolefin film was bonded to the coating film to produce a laminate. By irradiating the surface of the laminate (that is, the surface of the cycloolefin film) with ultraviolet rays, the coating film sandwiched between the pair of cycloolefin films was cured to form a resin layer 9 ′. The composition of the resin layer 9 ′ was the same as the composition of the resin layer 9 described above. The cumulative amount of ultraviolet light in the range of 280 nm to 320 nm was 1000 mJ / cm 2 . An ultraviolet irradiation device with a belt conveyor was used for ultraviolet irradiation. As an ultraviolet light source (lamp), a “D bulb” manufactured by Fusion UV Systems was used. The cycloolefin film was peeled from both surfaces of the resin layer 9 ′. The thickness of the resin layer 9 ′ was about 30 μm. The absorbances Absi and Absf of the resin layer 9 ′ were measured. For the measurement of Absi and Absf, an ultraviolet-visible spectrophotometer (UV2450) manufactured by Shimadzu Corporation was used. From the Absi and Absf, the absorbance increase rate of the resin layer 9 ′ was calculated. The rate of increase in absorbance of the resin layer 9 ′ was 3%.
<Measurement of degree of polarization>
The polarizing plate of Example 1 was cut and the size of the polarizing plate was adjusted to 30 mm × 30 mm. Subsequently, the release film 13 was peeled off from the adhesive layer 11 of the polarizing plate. And the polarizing plate was bonded to the glass plate through the adhesion layer 11. Furthermore, the 2nd protective film 3 was peeled from the polarizing plate. As the glass plate, non-alkali glass “EAGLE XG” manufactured by Corning was used. The sample produced by the above procedure was subjected to autoclave treatment at a temperature of 50 ° C. and a pressure of 5 kg / cm 2 (490.3 kPa). After autoclaving for 1 hour, the sample was allowed to stand for 24 hours in an environment at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55%. Subsequently, an optional accessory “film holder with polarizing film” was set in the UV-visible spectrophotometer. As the UV-visible spectrophotometer, “UV2450” manufactured by Shimadzu Corporation was used. Using this ultraviolet-visible spectrophotometer, the transmission spectrum in the transmission axis direction of the polarizing plate in the wavelength range of 380 to 700 nm was measured. Similarly, the transmission spectrum in the absorption axis direction of the polarizing plate was measured. Based on these transmission spectra, the initial polarization degree Pyi (unit:%) of the polarizing plate was determined. Subsequently, the sample was allowed to stand for 24 hours in an environment of 80 ° C. and a relative humidity of 90%. Finally, the polarization degree Pyf (unit:%) at the end of the polarizing plate was determined by the same method as Pyi. The change in polarization degree ΔPy (that is, Pyf−Pyi) of Example 1 was −0.03.

(比較例1)
比較例1では、樹脂層9を形成しなかった。比較例1では、樹脂層9の代わりに、第三保護フィルムを、水系接着剤を介して、偏光子フィルム(7)に接着した。第三保護フィルムとしては、環状オレフィンポリマー系樹脂(COP系樹脂)から構成されるフィルムを用いた。水系接着剤の厚みは、50nmであった。第三保護フィルムの厚みは、13μmであった。比較例1で用いた偏光子フィルム(7)の厚みは、12μmであった。
(Comparative Example 1)
In Comparative Example 1, the resin layer 9 was not formed. In the comparative example 1, instead of the resin layer 9, the 3rd protective film was adhere | attached on the polarizer film (7) through the water-system adhesive agent. As the third protective film, a film composed of a cyclic olefin polymer resin (COP resin) was used. The thickness of the water-based adhesive was 50 nm. The thickness of the third protective film was 13 μm. The thickness of the polarizer film (7) used in Comparative Example 1 was 12 μm.

比較例1の偏光板は、離型フィルム13と、離型フィルム13全体に重なる粘着層11と、粘着層11全体に重なる第三保護フィルムと、第三保護フィルム全体に重なる偏光子7と、偏光子7全体に重なる第一保護フィルム5と、第一保護フィルム5全体に重なる第二保護フィルム3と、を備えていた。   The polarizing plate of Comparative Example 1 includes a release film 13, an adhesive layer 11 that overlaps the entire release film 13, a third protective film that overlaps the entire adhesive layer 11, and a polarizer 7 that overlaps the entire third protective film, The first protective film 5 that overlaps the entire polarizer 7 and the second protective film 3 that overlaps the entire first protective film 5 were provided.

以上のような積層構造の違いを除いて実施例1と同様の方法で、比較例1の偏光板を作製した。得られた偏光板の形状は、図5に示された偏光子7の形状と同じであった。実施例1の場合と同様に、比較例1の偏光板を用いたヒートサイクル試験を行った。   A polarizing plate of Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1 except for the difference in the laminated structure as described above. The shape of the obtained polarizing plate was the same as the shape of the polarizer 7 shown in FIG. As in the case of Example 1, a heat cycle test using the polarizing plate of Comparative Example 1 was performed.

(比較例2)
比較例2で用いた第三保護フィルムの厚みは、23μmであった。
(Comparative Example 2)
The thickness of the third protective film used in Comparative Example 2 was 23 μm.

第三保護フィルムの厚みの違いを除いて比較例1と同様の方法で、比較例2の偏光板を作製した。比較例2の偏光板の形状は、図5に示された偏光子7の形状と同じであった。実施例1の場合と同様に、比較例2の偏光板を用いたヒートサイクル試験を行った。   A polarizing plate of Comparative Example 2 was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except for the difference in thickness of the third protective film. The shape of the polarizing plate of Comparative Example 2 was the same as the shape of the polarizer 7 shown in FIG. As in the case of Example 1, a heat cycle test using the polarizing plate of Comparative Example 2 was performed.

(比較例3)
比較例3では、第三保護フィルムとして、アクリル系樹脂から構成されるフィルムを用いた。比較例3で用いた第三保護フィルムの厚みは、20μmであった。
(Comparative Example 3)
In Comparative Example 3, a film made of an acrylic resin was used as the third protective film. The thickness of the third protective film used in Comparative Example 3 was 20 μm.

第三保護フィルムの組成及び厚みの違いを除いて比較例1と同様の方法で、比較例3の偏光板を作製した。比較例3の偏光板の形状は、図5に示された偏光子7の形状と同じであった。実施例1の場合と同様に、比較例3の偏光板を用いたヒートサイクル試験を行った。   A polarizing plate of Comparative Example 3 was produced in the same manner as Comparative Example 1 except for the difference in the composition and thickness of the third protective film. The shape of the polarizing plate of Comparative Example 3 was the same as that of the polarizer 7 shown in FIG. As in the case of Example 1, a heat cycle test using the polarizing plate of Comparative Example 3 was performed.

(比較例4)
比較例4では、樹脂層9を形成しなかった。比較例4では、樹脂層9の代わりに、第三保護フィルムを、水系接着剤を介して、偏光子フィルム(7)の一方の表面に接着した。第三保護フィルムとしては、環状オレフィンポリマー系樹脂(COP系樹脂)から構成されるフィルムを用いた。第三保護フィルムの厚みは、13μmであった。比較例4で用いた偏光子フィルム(7)の厚みは、7μmであった。比較例4では、第一保護フィルム5を用いなかった。比較例4では、第一保護フィルム5の代わりに、第二粘着層で偏光子フィルム(7)の他方の表面全体を直接覆った。第二粘着層(粘着層11とは別の粘着層)の厚みは、5μmであった。さらに、第二粘着層の表面全体を、輝度向上フィルムで直接覆った。輝度向上フィルムとして、スリーエムジャパン株式会社製のAPF−V3を用いた。輝度向上フィルムの厚みは、26μmであった。
(Comparative Example 4)
In Comparative Example 4, the resin layer 9 was not formed. In Comparative Example 4, instead of the resin layer 9, the third protective film was bonded to one surface of the polarizer film (7) through an aqueous adhesive. As the third protective film, a film composed of a cyclic olefin polymer resin (COP resin) was used. The thickness of the third protective film was 13 μm. The thickness of the polarizer film (7) used in Comparative Example 4 was 7 μm. In Comparative Example 4, the first protective film 5 was not used. In Comparative Example 4, instead of the first protective film 5, the entire other surface of the polarizer film (7) was directly covered with the second adhesive layer. The thickness of the 2nd adhesion layer (adhesion layer different from the adhesion layer 11) was 5 micrometers. Furthermore, the entire surface of the second adhesive layer was directly covered with a brightness enhancement film. APF-V3 manufactured by 3M Japan Ltd. was used as the brightness enhancement film. The thickness of the brightness enhancement film was 26 μm.

比較例4の偏光板は、離型フィルム13と、離型フィルム13全体に重なる粘着層11(第一粘着層)と、粘着層11全体に重なる第三保護フィルムと、第三保護フィルム全体に重なる偏光子7と、偏光子7全体に重なる第二粘着層と、第二粘着層全体に重なる輝度向上フィルムと、を備えていた。   The polarizing plate of Comparative Example 4 includes a release film 13, an adhesive layer 11 (first adhesive layer) that overlaps the entire release film 13, a third protective film that overlaps the entire adhesive layer 11, and the entire third protective film. The polarizer 7 which overlaps, the 2nd adhesion layer which overlaps with the whole polarizer 7, and the brightness enhancement film which overlaps with the 2nd adhesion layer were provided.

以上のような積層構造の違いを除いて実施例1と同様の方法で、比較例4の偏光板を作製した。比較例4の偏光板の形状は、図5に示された偏光子7の形状と同じであった。   A polarizing plate of Comparative Example 4 was produced in the same manner as in Example 1 except for the difference in the laminated structure as described above. The shape of the polarizing plate of Comparative Example 4 was the same as that of the polarizer 7 shown in FIG.

比較例4のヒートサイクル試験では、ガラス板に貼合された偏光板は、ガラス板に密着する粘着層11(第一粘着層)と、粘着層11全体に重なる第三保護フィルムと、第三保護フィルム全体に重なる偏光子7と、偏光子7全体に重なる第二粘着層と、第二粘着層全体に重なる輝度向上フィルムと、を備えていた。偏光板の積層構造を除いて実施例1の場合と同様に、比較例4のヒートサイクル試験を行った。   In the heat cycle test of Comparative Example 4, the polarizing plate bonded to the glass plate includes an adhesive layer 11 (first adhesive layer) that is in close contact with the glass plate, a third protective film that overlaps the entire adhesive layer 11, and a third layer. The polarizer 7 that overlaps the entire protective film, the second adhesive layer that overlaps the entire polarizer 7, and the brightness enhancement film that overlaps the entire second adhesive layer were provided. The heat cycle test of Comparative Example 4 was performed in the same manner as in Example 1 except for the laminated structure of the polarizing plates.

実施例1及び比較例1〜4それぞれのヒートサイクル試験の結果を、下記表1に示す。表中の「A」は、偏光子7の切欠き部7Cにおいてクラックが無かったことを意味する。「B」は、偏光子7の切欠き部7Cにおいて、長さが200μm以下であるクラックが形成されていたことを意味する。「C」は、偏光子7の切欠き部7Cにおいて、長さが201μm以上500μm以下であるクラックが形成されていたことを意味する。「D」は、偏光子7の切欠き部7Cにおいて、長さが501μm以上であるクラックが形成されていたことを意味する。「E」は、偏光子7の切欠き部7Cに形成されたクラックが偏光板の表面に沿って偏光板を貫通していたことを意味する。つまり「E」は、クラックが、切欠き部7Cの深部から第二端部17eに向かって、偏光板の全体を横断してしまったことを意味する。   The results of the heat cycle test for Example 1 and Comparative Examples 1 to 4 are shown in Table 1 below. “A” in the table means that there was no crack in the notch 7 </ b> C of the polarizer 7. “B” means that a crack having a length of 200 μm or less was formed in the notch 7 </ b> C of the polarizer 7. “C” means that a crack having a length of 201 μm or more and 500 μm or less was formed in the notch 7C of the polarizer 7. “D” means that a crack having a length of 501 μm or more was formed in the notch 7 </ b> C of the polarizer 7. “E” means that the crack formed in the notch 7C of the polarizer 7 penetrates the polarizing plate along the surface of the polarizing plate. That is, “E” means that the crack has traversed the entire polarizing plate from the deep portion of the cutout portion 7C toward the second end portion 17e.

Figure 2018159911
Figure 2018159911

(実施例1A)
実施例1Aでは、切欠き部7Cが形成された偏光子7の第一端部7eの幅W(偏光板の横幅)を120mmに調整した。偏光板の横幅の調整を除いて実施例1と同様の方法で、実施例1Aの偏光板を作製した。実施例1の場合と同様に、実施例1Aの偏光板を用いたヒートサイクル試験を行った。
Example 1A
In Example 1A, the width W (lateral width of the polarizing plate) of the first end 7e of the polarizer 7 in which the notch 7C was formed was adjusted to 120 mm. A polarizing plate of Example 1A was produced in the same manner as in Example 1 except for the adjustment of the lateral width of the polarizing plate. As in the case of Example 1, a heat cycle test using the polarizing plate of Example 1A was performed.

(比較例1A)
比較例1Aでは、切欠き部7Cが形成された偏光子7の第一端部7eの幅W(偏光板の横幅)を120mmに調整した。偏光板の横幅の調整を除いて比較例1と同様の方法で、比較例1Aの偏光板を作製した。比較例1の場合と同様に、比較例1Aの偏光板を用いたヒートサイクル試験を行った。
(Comparative Example 1A)
In Comparative Example 1A, the width W (lateral width of the polarizing plate) of the first end 7e of the polarizer 7 in which the notch 7C was formed was adjusted to 120 mm. A polarizing plate of Comparative Example 1A was produced in the same manner as Comparative Example 1 except for the adjustment of the lateral width of the polarizing plate. As in the case of Comparative Example 1, a heat cycle test using the polarizing plate of Comparative Example 1A was performed.

(比較例2A)
比較例2Aでは、切欠き部7Cが形成された偏光子7の第一端部7eの幅W(偏光板の横幅)を120mmに調整した。偏光板の横幅の調整を除いて比較例2と同様の方法で、比較例2Aの偏光板を作製した。比較例2の場合と同様に、比較例2Aの偏光板を用いたヒートサイクル試験を行った。
(Comparative Example 2A)
In Comparative Example 2A, the width W (lateral width of the polarizing plate) of the first end 7e of the polarizer 7 in which the notch 7C was formed was adjusted to 120 mm. A polarizing plate of Comparative Example 2A was produced in the same manner as Comparative Example 2 except for the adjustment of the lateral width of the polarizing plate. As in the case of Comparative Example 2, a heat cycle test using the polarizing plate of Comparative Example 2A was performed.

(比較例3A)
比較例3Aでは、切欠き部7Cが形成された偏光子7の第一端部7eの幅W(偏光板の横幅)を120mmに調整した。偏光板の横幅の調整を除いて比較例3と同様の方法で、比較例3Aの偏光板を作製した。比較例3の場合と同様に、比較例3Aの偏光板を用いたヒートサイクル試験を行った。
(Comparative Example 3A)
In Comparative Example 3A, the width W (lateral width of the polarizing plate) of the first end 7e of the polarizer 7 in which the notch 7C was formed was adjusted to 120 mm. A polarizing plate of Comparative Example 3A was produced in the same manner as Comparative Example 3 except for the adjustment of the lateral width of the polarizing plate. As in the case of Comparative Example 3, a heat cycle test using the polarizing plate of Comparative Example 3A was performed.

(比較例4A)
比較例4Aでは、切欠き部7Cが形成された偏光子7の第一端部7eの幅W(偏光板の横幅)を120mmに調整した。偏光板の横幅の調整を除いて比較例4と同様の方法で、比較例4Aの偏光板を作製した。比較例4の場合と同様に、比較例4Aの偏光板を用いたヒートサイクル試験を行った。
(Comparative Example 4A)
In Comparative Example 4A, the width W (lateral width of the polarizing plate) of the first end 7e of the polarizer 7 in which the notch 7C was formed was adjusted to 120 mm. A polarizing plate of Comparative Example 4A was produced in the same manner as Comparative Example 4 except for the adjustment of the lateral width of the polarizing plate. As in the case of Comparative Example 4, a heat cycle test using the polarizing plate of Comparative Example 4A was performed.

実施例1A及び比較例1A〜4Aそれぞれのヒートサイクル試験の結果を、下記表2に示す。   The results of the heat cycle test of Example 1A and Comparative Examples 1A to 4A are shown in Table 2 below.

Figure 2018159911
Figure 2018159911

(実施例1B)
実施例1Bでは、第二積層体の横辺(第一端部)に凹状の切欠き部を形成しなかった。図6に示されるように、実施例1Bでは、第二積層体の表面の中心部において、第二積層体を貫通する円形の穴を形成した。この貫通穴の内径φは、2.5mmであった。貫通穴は、ピナクル刃を用いたプレス加工により形成した。実施例1Bでは、偏光子7の第一端部7eの幅W(偏光板の横幅)を120mmに調整した。
(Example 1B)
In Example 1B, no concave notch was formed on the lateral side (first end) of the second laminate. As shown in FIG. 6, in Example 1B, a circular hole penetrating the second laminate was formed at the center of the surface of the second laminate. The inner diameter φ of this through hole was 2.5 mm. The through hole was formed by press working using a pinnacle blade. In Example 1B, the width W (lateral width of the polarizing plate) of the first end 7e of the polarizer 7 was adjusted to 120 mm.

以上の事項を除いて実施例1と同様の方法で、実施例1Bの偏光板を作製した。実施例1の場合と同様に、実施例1Bの偏光板を用いたヒートサイクル試験を行った。   A polarizing plate of Example 1B was produced in the same manner as in Example 1 except for the above items. As in the case of Example 1, a heat cycle test using the polarizing plate of Example 1B was performed.

(比較例1B)
比較例1Bでは、第二積層体の横辺(第一端部)に凹状の切欠き部を形成しなかった。図6に示されるように、比較例1Bでは、第二積層体の表面の中心部において、第二積層体を貫通する円形の穴を形成した。この貫通穴の内径φは、2.5mmであった。貫通穴は、ピナクル刃を用いたプレス加工により形成した。比較例1Bでは、偏光子7の第一端部7eの幅W(偏光板の横幅)を120mmに調整した。
(Comparative Example 1B)
In Comparative Example 1B, no concave notch was formed on the lateral side (first end) of the second laminate. As shown in FIG. 6, in Comparative Example 1B, a circular hole penetrating the second laminate was formed at the center of the surface of the second laminate. The inner diameter φ of this through hole was 2.5 mm. The through hole was formed by press working using a pinnacle blade. In Comparative Example 1B, the width W (lateral width of the polarizing plate) of the first end portion 7e of the polarizer 7 was adjusted to 120 mm.

以上の事項を除いて比較例1と同様の方法で、比較例1Bの偏光板を作製した。比較例1の場合と同様に、比較例1Bの偏光板を用いたヒートサイクル試験を行った。   A polarizing plate of Comparative Example 1B was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except for the above items. As in the case of Comparative Example 1, a heat cycle test using the polarizing plate of Comparative Example 1B was performed.

(比較例2B)
比較例2Bでは、第二積層体の横辺(第一端部)に凹状の切欠き部を形成しなかった。図6に示されるように、比較例2Bでは、第二積層体の表面の中心部において、第二積層体を貫通する円形の穴を形成した。この貫通穴の内径φは、2.5mmであった。貫通穴は、ピナクル刃を用いたプレス加工により形成した。比較例2Bでは、偏光子7の第一端部7eの幅W(偏光板の横幅)を120mmに調整した。
(Comparative Example 2B)
In Comparative Example 2B, no concave notch was formed on the lateral side (first end) of the second laminate. As shown in FIG. 6, in Comparative Example 2B, a circular hole penetrating the second laminate was formed at the center of the surface of the second laminate. The inner diameter φ of this through hole was 2.5 mm. The through hole was formed by press working using a pinnacle blade. In Comparative Example 2B, the width W (lateral width of the polarizing plate) of the first end 7e of the polarizer 7 was adjusted to 120 mm.

以上の事項を除いて比較例2と同様の方法で、比較例2Bの偏光板を作製した。比較例1の場合と同様に、比較例2Bの偏光板を用いたヒートサイクル試験を行った。   A polarizing plate of Comparative Example 2B was produced in the same manner as in Comparative Example 2 except for the above items. As in the case of Comparative Example 1, a heat cycle test using the polarizing plate of Comparative Example 2B was performed.

(比較例3B)
比較例3Bでは、第二積層体の横辺(第一端部)に凹状の切欠き部を形成しなかった。図6に示されるように、比較例3Bでは、第二積層体の表面の中心部において、第二積層体を貫通する穴を形成した。この貫通穴の内径φは、2.5mmであった。貫通穴は、ピナクル刃を用いたプレス加工により形成した。比較例3Bでは、偏光子7の第一端部7eの幅W(偏光板の横幅)を120mmに調整した。
(Comparative Example 3B)
In Comparative Example 3B, no concave notch was formed on the lateral side (first end) of the second laminate. As shown in FIG. 6, in Comparative Example 3B, a hole penetrating the second laminate was formed at the center of the surface of the second laminate. The inner diameter φ of this through hole was 2.5 mm. The through hole was formed by press working using a pinnacle blade. In Comparative Example 3B, the width W (lateral width of the polarizing plate) of the first end 7e of the polarizer 7 was adjusted to 120 mm.

以上の事項を除いて比較例3と同様の方法で、比較例3Bの偏光板を作製した。比較例1の場合と同様に、比較例3Bの偏光板を用いたヒートサイクル試験を行った。   A polarizing plate of Comparative Example 3B was produced in the same manner as Comparative Example 3 except for the above items. As in the case of Comparative Example 1, a heat cycle test using the polarizing plate of Comparative Example 3B was performed.

実施例1B及び比較例1B〜3Bそれぞれのヒートサイクル試験の結果を、下記表3に示す。
<熱斑の評価>
偏光子7の吸収軸方向daと切欠き部7Cが延びる方向dcとが平行であること以外は実施例1と同様の実施例1Cの偏光板を作製した。偏光子7の吸収軸方向daと切欠き部7Cが延びる方向dcとが平行であること以外は比較例1と同様の比較例1Cの偏光板を作製した。偏光子7の吸収軸方向daと切欠き部7Cが延びる方向dcとがなす角度θが45°であること以外は比較例1と同様の比較例1C’の偏光板を作製した。
上記のヒートサイクル試験の場合と同様の方法で、実施例1Cのサンプルを準備した。乾燥されたオーブン内にサンプルを設置して、サンプルを85℃で2時間加熱した。加熱後の実施例1Cの偏光板をクロスニコル状態で観察した。
実施例1Cと同様の手順で、加熱後の比較例1C及び比較例1C’それぞれの偏光板をクロスニコル状態で観察した。
上記観察の結果、比較例1C及び1C’それぞれの偏光板では光抜け(白抜け)及び熱斑があった。光抜け(白抜け)及び熱斑は、各偏光板が樹脂層9を備えず、加熱に伴って大きな収縮応力が偏光子7の延伸方向において生じたことに起因する。一方、実施例1Cの各偏光板では光抜け(白抜け)及び熱斑がなかった。
実施例1Cと同様の手順で、加熱後の実施例1B及び比較例1Bそれぞれの偏光板をクロスニコル状態で観察した。
上記観察の結果、比較例1Bの偏光板では光抜け(白抜け)及び熱斑があった。光抜け(白抜け)及び熱斑は、比較例1Bの偏光板が樹脂層9を備えず、加熱に伴って大きな収縮応力が偏光子7の延伸方向において生じたことに起因する。一方、実施例1Bの各偏光板では光抜け(白抜け)及び熱斑がなかった。
The results of the heat cycle test of Example 1B and Comparative Examples 1B to 3B are shown in Table 3 below.
<Evaluation of hot spots>
The polarizing plate of Example 1C similar to Example 1 was produced except that the absorption axis direction da of the polarizer 7 and the direction dc in which the notch 7C extends were parallel. A polarizing plate of Comparative Example 1C similar to Comparative Example 1 was produced, except that the absorption axis direction da of the polarizer 7 and the direction dc in which the notch 7C extends were parallel. A polarizing plate of Comparative Example 1C ′ similar to Comparative Example 1 was produced except that the angle θ formed by the absorption axis direction da of the polarizer 7 and the direction dc in which the notch 7C extends was 45 °.
A sample of Example 1C was prepared in the same manner as in the heat cycle test. The sample was placed in a dried oven and the sample was heated at 85 ° C. for 2 hours. The polarizing plate of Example 1C after heating was observed in a crossed Nicol state.
In the same procedure as in Example 1C, each polarizing plate of Comparative Example 1C and Comparative Example 1C ′ after heating was observed in a crossed Nicols state.
As a result of the above observation, the polarizing plates of Comparative Examples 1C and 1C ′ had light omission (white omission) and heat spots. Light omission (white omission) and heat spots are caused by the fact that each polarizing plate does not include the resin layer 9 and a large shrinkage stress is generated in the stretching direction of the polarizer 7 with heating. On the other hand, in each polarizing plate of Example 1C, there was no light omission (white omission) and heat spots.
In the same procedure as Example 1C, the polarizing plates of Example 1B and Comparative Example 1B after heating were observed in a crossed Nicols state.
As a result of the above observation, the polarizing plate of Comparative Example 1B had light omission (white omission) and heat spots. The light omission (white omission) and heat spots are caused by the fact that the polarizing plate of Comparative Example 1B does not include the resin layer 9 and a large shrinkage stress is generated in the stretching direction of the polarizer 7 with heating. On the other hand, each polarizing plate of Example 1B had no light omission (white omission) and heat spots.

Figure 2018159911
Figure 2018159911

(実施例2〜6)
以下に説明されるように、樹脂層9の組成が異なること以外は実施例1と同様の方法で、実施例2〜6其々の偏光板を作製した。つまり、実施例2〜6其々の樹脂層9の原料に用いた混合物の組成は、実施例1で用いられた上記混合物の組成と異なる。
(Examples 2 to 6)
As described below, Examples 2 to 6 were prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the resin layer 9 was different. That is, the composition of the mixture used for the raw material of each resin layer 9 in Examples 2 to 6 is different from the composition of the mixture used in Example 1.

実施例2〜6其々の樹脂層9の原料として、下記表4に示される各化合物から混合物を調製した。実施例2〜6其々の混合物における各化合物の配合比(単位:質量部)は、下記表4に示される値に調整された。
下記表4中の「CEL2021P」とは、実施例1で用いた化合物Aと同じである。
下記表4中の「EHPE3150」とは、株式会社ダイセル製の2,2‐ビス(ヒドロキシメチル)‐1‐ブタノールの1,2‐エポキシ‐4‐(2‐オキシラニル)シクロヘキサン付加物(つまりエポキシ系化合物)である。
下記表4中の「EX−214L」とは、ナガセケムテックス株式会社製のデナコールEX‐Lシリーズの一種であり、1,4‐ブタンジオールジグリシジルエーテル(つまりエポキシ系化合物)である。
下記表4中の「VG3101L」とは、実施例1で用いた化合物Bと同じである。
下記表4中の「OXT−221」とは、実施例1で用いた化合物Cと同じである。
下記表4中の「A‐DCP」とは、新中村化学工業株式会社製のトリシクロデカンジメタノールジアクリレート(つまり(メタ)アクリル系化合物)である。
下記表4中の「CPI‐100P」とは、サンアプロ株式会社製のトリアリールスルホニウム塩タイプの光酸発生剤(光カチオン重合開始剤)である。
下記表4中の「IRGACURE 1173」は、IGM Resins B.V.製の旧商品名(現商品名:Omnirad 1173)であり、2‐ヒドロキシ‐2‐メチル‐1‐フェニル‐プロパン‐1‐オン(光重合開始剤)である。
Examples 2 to 6 As raw materials for the respective resin layers 9, mixtures were prepared from the respective compounds shown in Table 4 below. Examples 2 to 6 The compounding ratio (unit: part by mass) of each compound in each mixture was adjusted to the values shown in Table 4 below.
“CEL2021P” in the following Table 4 is the same as Compound A used in Example 1.
“EHPE3150” in Table 4 below refers to a 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol manufactured by Daicel Corporation (that is, an epoxy system) Compound).
“EX-214L” in Table 4 below is a member of the Denacol EX-L series manufactured by Nagase ChemteX Corporation and is 1,4-butanediol diglycidyl ether (that is, an epoxy compound).
“VG3101L” in the following Table 4 is the same as the compound B used in Example 1.
“OXT-221” in the following Table 4 is the same as the compound C used in Example 1.
“A-DCP” in Table 4 below is tricyclodecane dimethanol diacrylate (that is, (meth) acrylic compound) manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
“CPI-100P” in Table 4 below is a triarylsulfonium salt type photoacid generator (photocation polymerization initiator) manufactured by San Apro Co., Ltd.
“IRGACURE 1173” in Table 4 below is an old trade name (current trade name: Omnirad 1173) manufactured by IGM Resins B.V. and is 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one. (Photopolymerization initiator).

Figure 2018159911
Figure 2018159911

実施例1の場合と同様の方法で、実施例2〜6其々の偏光板を用いたヒートサイクル試験を行った。240回のサイクル後及び500回のサイクル後の各時点において、実施例2〜6其々の偏光子7の切欠き部7Cにはクラックが無かった。   In the same manner as in Example 1, Examples 2 to 6 were subjected to heat cycle tests using the respective polarizing plates. At each time point after 240 cycles and after 500 cycles, Examples 2 to 6 had no cracks in the cutout portions 7C of the respective polarizers 7.

(実施例2B,3B,4B,5B,6B)
実施例2Bの樹脂層9の組成は、実施例2の樹脂層9の組成と同じであった。実施例3Bの樹脂層9の組成は、実施例3の樹脂層9の組成と同じであった。実施例4Bの樹脂層9の組成は、実施例4の樹脂層9の組成と同じであった。実施例5Bの樹脂層9の組成は、実施例5の樹脂層9の組成と同じであった。実施例6Bの樹脂層9の組成は、実施例6の樹脂層9の組成と同じであった。
(Examples 2B, 3B, 4B, 5B, 6B)
The composition of the resin layer 9 of Example 2B was the same as the composition of the resin layer 9 of Example 2. The composition of the resin layer 9 of Example 3B was the same as the composition of the resin layer 9 of Example 3. The composition of the resin layer 9 of Example 4B was the same as the composition of the resin layer 9 of Example 4. The composition of the resin layer 9 of Example 5B was the same as the composition of the resin layer 9 of Example 5. The composition of the resin layer 9 of Example 6B was the same as the composition of the resin layer 9 of Example 6.

以上の事項を除いて実施例1Bと同様の方法で、実施例2B,3B,4B,5B及び6B其々の偏光板を作製した。つまり、実施例1Bの偏光板と同様に、実施例2B,3B,4B,5B及び6B其々の偏光板には、円形の貫通穴が形成された。   Except for the above matters, polarizing plates of Examples 2B, 3B, 4B, 5B, and 6B were prepared in the same manner as in Example 1B. That is, similarly to the polarizing plate of Example 1B, circular through holes were formed in the polarizing plates of Examples 2B, 3B, 4B, 5B, and 6B.

実施例1の場合と同様の方法で、実施例2B,3B,4B,5B及び6B其々の偏光板を用いたヒートサイクル試験を行った。240回のサイクル後及び500回のサイクル後の各時点において、実施例2B,3B,4B,5B及び6B其々の偏光子7の切欠き部7Cにはクラックが無かった。   In the same manner as in Example 1, heat cycle tests were performed using the polarizing plates of Examples 2B, 3B, 4B, 5B, and 6B. At each time point after 240 cycles and after 500 cycles, the notch 7C of each polarizer 7 in Examples 2B, 3B, 4B, 5B, and 6B had no cracks.

実施例1Cの場合と同様に、実施例2B,3B,4B,5B及び6B其々の偏光板を85℃で2時間加熱した後、実施例2B,3B,4B,5B及び6B其々の偏光板をクロスニコル状態で観察した。実施例2B,3B,4B,5B及び6Bのいずれの偏光板においても、光抜け(白抜け)及び熱斑がなかった。   As in Example 1C, the polarizing plates of Examples 2B, 3B, 4B, 5B, and 6B were heated at 85 ° C. for 2 hours, and then the polarized light of Examples 2B, 3B, 4B, 5B, and 6B. The plate was observed in a crossed Nicol state. In any of the polarizing plates of Examples 2B, 3B, 4B, 5B, and 6B, there was no light omission (white omission) and heat spots.

(実施例2C,3C,4C,5C,6C)
偏光子7の吸収軸方向daと切欠き部7Cが延びる方向dcとが平行であること以外は実施例2と同様の実施例2Cの偏光板を作製した。
偏光子7の吸収軸方向daと切欠き部7Cが延びる方向dcとが平行であること以外は実施例3と同様の実施例3Cの偏光板を作製した。
偏光子7の吸収軸方向daと切欠き部7Cが延びる方向dcとが平行であること以外は実施例4と同様の実施例4Cの偏光板を作製した。
偏光子7の吸収軸方向daと切欠き部7Cが延びる方向dcとが平行であること以外は実施例5と同様の実施例5Cの偏光板を作製した。
偏光子7の吸収軸方向daと切欠き部7Cが延びる方向dcとが平行であること以外は実施例6と同様の実施例6Cの偏光板を作製した。
<熱斑の評価>
実施例1Cの場合と同様に、実施例2C,3C,4C,5C及び6C其々の偏光板を85℃で2時間加熱した後、実施例2C,3C,4C,5C及び6C其々の偏光板をクロスニコル状態で観察した。実施例2C,3C,4C,5C及び6Cのいずれの偏光板においても、光抜け(白抜け)及び熱斑がなかった。
(Examples 2C, 3C, 4C, 5C, 6C)
A polarizing plate of Example 2C similar to Example 2 was produced except that the absorption axis direction da of the polarizer 7 and the direction dc in which the notch 7C extends were parallel.
A polarizing plate of Example 3C similar to Example 3 was produced except that the absorption axis direction da of the polarizer 7 and the direction dc in which the notch 7C extends were parallel.
A polarizing plate of Example 4C similar to Example 4 was produced except that the absorption axis direction da of the polarizer 7 and the direction dc in which the notch 7C extends were parallel.
A polarizing plate of Example 5C similar to Example 5 was produced except that the absorption axis direction da of the polarizer 7 and the direction dc in which the notch 7C extends were parallel.
A polarizing plate of Example 6C similar to Example 6 was produced except that the absorption axis direction da of the polarizer 7 and the direction dc in which the notch 7C extends were parallel.
<Evaluation of hot spots>
In the same manner as in Example 1C, the polarizing plates of Examples 2C, 3C, 4C, 5C, and 6C were heated at 85 ° C. for 2 hours, and then polarized in Examples 2C, 3C, 4C, 5C, and 6C. The plate was observed in a crossed Nicol state. In any of the polarizing plates of Examples 2C, 3C, 4C, 5C, and 6C, there was no light omission (white omission) and heat spots.

本発明に係る偏光板は、例えば、液晶セル又は有機ELデバイス等に貼着され、液晶テレビ、有機ELテレビ又はスマートフォン等の画像表示装置を構成する光学部品として適用される。   The polarizing plate according to the present invention is applied to, for example, a liquid crystal cell or an organic EL device, and is applied as an optical component constituting an image display device such as a liquid crystal television, an organic EL television, or a smartphone.

1A,1Aa,1B…偏光板、3…第二保護フィルム、5…第一保護フィルム、7…偏光子、7C…切欠き部、7e…偏光子の端部(第一端部)、9…樹脂層、10…液晶セル、11…粘着層、13…離型フィルム、17e…偏光子の第二端部、20A…液晶パネル、30A…液晶表示装置(画像表示装置)、21…偏光子を貫通する穴、da…偏光子の吸収軸方向、dc…切欠き部が延びる方向、θ…偏光子の吸収軸方向と切欠き部が延びる方向とがなす角度。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1A, 1Aa, 1B ... Polarizing plate, 3 ... 2nd protective film, 5 ... 1st protective film, 7 ... Polarizer, 7C ... Notch part, 7e ... End part (first end part) of polarizer, 9 ... Resin layer, 10 ... liquid crystal cell, 11 ... adhesive layer, 13 ... release film, 17e ... second end of polarizer, 20A ... liquid crystal panel, 30A ... liquid crystal display device (image display device), 21 ... polarizer A through-hole, da: the absorption axis direction of the polarizer, dc: a direction in which the notch extends, θ: an angle formed by the absorption axis direction of the polarizer and the direction in which the notch extends.

Claims (8)

フィルム状の偏光子と、
樹脂硬化物を含む樹脂層と、を備え、
前記樹脂層が、前記偏光子に重なり、且つ前記偏光子に密着しており、
凹状の切欠き部が、前記偏光子の端部に形成されている、
偏光板。
A film-like polarizer,
A resin layer containing a cured resin,
The resin layer overlaps the polarizer and is in close contact with the polarizer;
A concave notch is formed at the end of the polarizer,
Polarizer.
フィルム状の偏光子と、
樹脂硬化物を含む樹脂層と、を備え、
前記樹脂層が、前記偏光子に重なり、且つ前記偏光子に密着しており、
前記偏光子を貫通する穴が形成される、
偏光板。
A film-like polarizer,
A resin layer containing a cured resin,
The resin layer overlaps the polarizer and is in close contact with the polarizer;
A hole is formed through the polarizer.
Polarizer.
粘着層を更に備え、
前記粘着層が、前記樹脂層に重なり、且つ前記樹脂層に密着している、
請求項1又は2に記載の偏光板。
It further comprises an adhesive layer,
The adhesive layer overlaps the resin layer and is in close contact with the resin layer;
The polarizing plate according to claim 1 or 2.
前記樹脂硬化物は、エポキシ系化合物を含む、
請求項1〜3のいずれか一項に記載の偏光板。
The cured resin contains an epoxy compound,
The polarizing plate as described in any one of Claims 1-3.
前記樹脂硬化物は、オキセタン系化合物を含む、
請求項1〜4のいずれか一項に記載の偏光板。
The cured resin contains an oxetane compound,
The polarizing plate as described in any one of Claims 1-4.
前記樹脂硬化物は、(メタ)アクリル系化合物を含む、
請求項1〜5のいずれか一項に記載の偏光板。
The cured resin includes a (meth) acrylic compound,
The polarizing plate as described in any one of Claims 1-5.
前記樹脂層は、オーバーコート層である、
請求項1〜6のいずれか一項に記載の偏光板。
The resin layer is an overcoat layer.
The polarizing plate as described in any one of Claims 1-6.
請求項1〜7のいずれか一項に記載の偏光板を含む、
画像表示装置。
Including the polarizing plate according to any one of claims 1 to 7,
Image display device.
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