KR20190107710A - Polarizer and Image Display - Google Patents

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KR20190107710A
KR20190107710A KR1020197024308A KR20197024308A KR20190107710A KR 20190107710 A KR20190107710 A KR 20190107710A KR 1020197024308 A KR1020197024308 A KR 1020197024308A KR 20197024308 A KR20197024308 A KR 20197024308A KR 20190107710 A KR20190107710 A KR 20190107710A
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polarizer
polarizing plate
meth
resin
compound
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KR1020197024308A
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다케유키 아시다
도시카즈 마츠모토
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스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
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Abstract

온도 변화에 기인하는 편광자의 크랙을 억제할 수 있는 편광판을 제공한다. 편광판(1A)은, 필름형의 편광자(7)와, 수지 경화물을 포함하는 수지층(9)을 구비하고, 수지층(9)이, 편광자(7)에 겹쳐지며, 또한 편광자(7)에 밀착되어 있고, 오목형의 절결부(7C)가, 편광자(7)의 단부(7e)에 형성되어 있다. 또는 편광자(7)를 관통하는 구멍(21)이 형성된다.The polarizing plate which can suppress the crack of the polarizer resulting from temperature change is provided. The polarizing plate 1A is provided with the film-shaped polarizer 7 and the resin layer 9 containing the resin hardened | cured material, the resin layer 9 overlaps with the polarizer 7, and also the polarizer 7 7C of concave notches are formed in the edge part 7e of the polarizer 7. Alternatively, a hole 21 penetrating the polarizer 7 is formed.

Figure P1020197024308
Figure P1020197024308

Description

편광판 및 화상 표시 장치Polarizer and Image Display

본 발명은 편광판 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a polarizing plate and an image display device.

편광판은, 액정 텔레비전, 유기 EL 텔레비전 또는 스마트폰 등의 화상 표시 장치를 구성하는 광학 부품의 하나이다. 편광판은, 필름형의 편광자와, 편광자에 겹쳐지는 광학 필름(예컨대, 보호 필름)을 구비한다. 일반적인 화상 표시 장치의 대부분은, 사각 형상의 화면을 갖기 때문에, 화상 표시 장치에 탑재되는 종래의 편광판도 사각형이며, 그 전체가 똑같이 편광능을 갖는다. 한편, 특수한 화상 표시 장치는, 이들의 용도 또는 설계상의 이유에 따라 이형(異形)을 갖고 있고, 상기 장치에 탑재되는 종래의 편광판도 이형이다. 예컨대, 하기 특허문헌 1에는, 액정의 주입구로서, 편광자의 단부에 절결부(cut-out portion)를 형성하는 것이 기재되어 있다. 또는, 스마트 워치 또는 차재(車載) 미터에 이용되는 화상 표시 장치에는, 지침의 회전축이 관통하기 위한 구멍을 형성하지 않으면 안 되는 경우가 있다. 따라서, 화상 표시 장치에 탑재되는 편광판에도 관통 구멍을 형성하는 것이 필요하다. 편광판의 용도·목적은 다양하기 때문에, 용도·목적에 따라 절결부 또는 관통 구멍을 편광판에 형성하지 않으면 안 되는 여러 가지 경우가 상정된다.A polarizing plate is one of the optical components which comprise image display apparatuses, such as a liquid crystal television, an organic EL television, or a smartphone. A polarizing plate is equipped with a film-shaped polarizer and the optical film (for example, protective film) which overlaps with a polarizer. Since most of the general image display apparatuses have a rectangular screen, the conventional polarizing plate mounted on the image display apparatus is also rectangular, and the whole has the same polarizing power. On the other hand, the special image display apparatus has a mold release according to these uses or design reasons, and the conventional polarizing plate mounted in the said apparatus is also a mold release. For example, Patent Literature 1 below describes that a cut-out portion is formed at an end of a polarizer as an injection hole of a liquid crystal. Or the image display apparatus used for a smart watch or an in-vehicle meter may have to form the hole through which the rotating shaft of a guide | route passes. Therefore, it is necessary to form a through hole also in the polarizing plate mounted in an image display apparatus. Since the use and the purpose of a polarizing plate are various, the various cases which must form a notch or a through hole in a polarizing plate are assumed according to a use and an objective.

특허문헌 1: 일본 특허 공개 제2000-155325호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-155325

편광자는 온도 변화에 따라 팽창 또는 수축한다. 본 발명자들에 의한 연구의 결과, 온도 변화에 따르는 편광자의 수축에 기인하여, 절결부 또는 관통 구멍에 있어서 편광자의 크랙(crack)이 형성되는 것이 판명되었다. 특히 열충격(급격한 온도 변화)에 의해, 크랙이 형성되기 쉽다.The polarizer expands or contracts with temperature changes. As a result of the study by the inventors, it was found that due to the shrinkage of the polarizer due to the temperature change, cracks of the polarizer were formed at the cutouts or through holes. In particular, cracks tend to be formed due to thermal shock (rapid temperature change).

본 발명은, 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 온도 변화에 기인하는 편광자의 크랙을 억제할 수 있는 편광판, 및 상기 편광판을 포함하는 화상 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.This invention is made | formed in view of the said situation, and an object of this invention is to provide the polarizing plate which can suppress the crack of the polarizer resulting from a temperature change, and the image display apparatus containing the said polarizing plate.

본 발명의 일 측면에 따른 편광판은, 필름형의 편광자와, 수지 경화물을 포함하는 수지층을 구비하고, 수지층이, 편광자에 겹쳐지며, 또한 편광자에 밀착되어 있고, 오목형의 절결부가, 편광자의 단부에 형성되어 있다.The polarizing plate which concerns on one aspect of this invention is equipped with the film-shaped polarizer and the resin layer containing resin cured material, a resin layer is superimposed on a polarizer, and is closely adhered to a polarizer, and the recessed notch part Is formed at the end of the polarizer.

본 발명의 다른 일 측면에 따른 편광판은, 필름형의 편광자와, 수지 경화물을 포함하는 수지층을 구비하고, 수지층이, 편광자에 겹쳐지며, 또한 편광자에 밀착되어 있고, 편광자를 관통하는 구멍이 형성된다.The polarizing plate which concerns on another aspect of this invention is equipped with the film type polarizer and the resin layer containing resin hardened | cured material, and a resin layer overlaps with a polarizer, is in close contact with a polarizer, and is a hole which penetrates a polarizer. Is formed.

본 발명의 상기 측면에 따른 편광판은, 점착층을 더 구비해도 좋고, 점착층이, 수지층에 겹쳐지며, 또한 수지층에 밀착되어 있어도 좋다.The polarizing plate which concerns on the said side surface of this invention may further be equipped with an adhesion layer, and an adhesion layer may overlap with a resin layer, and may be in close contact with a resin layer.

본 발명의 상기 측면에 있어서는, 수지 경화물은, 에폭시계 화합물을 포함해도 좋다.In the said aspect of this invention, the resin hardened | cured material may also contain an epoxy-type compound.

본 발명의 상기 측면에 있어서는, 수지 경화물은, 옥세탄계 화합물을 포함해도 좋다.In the said aspect of this invention, the resin hardened | cured material may also contain an oxetane type compound.

본 발명의 상기 측면에 있어서는, 수지 경화물은, (메트)아크릴계 화합물을 포함해도 좋다.In the said aspect of this invention, the resin hardened | cured material may also contain a (meth) acrylic-type compound.

본 발명의 상기 측면에 있어서는, 수지층은, 오버코트층이어도 좋다.In the above aspect of the present invention, the resin layer may be an overcoat layer.

본 발명의 일 측면에 따른 화상 표시 장치는, 상기 편광판을 포함한다.An image display device according to an aspect of the present invention includes the polarizing plate.

본 발명에 의하면, 온도 변화에 기인하는 편광자의 크랙을 억제할 수 있는 편광판, 및 상기 편광판을 포함하는 화상 표시 장치가 제공된다.According to this invention, the polarizing plate which can suppress the crack of the polarizer resulting from a temperature change, and the image display apparatus containing the said polarizing plate are provided.

도 1은 본 발명의 제1 실시형태에 따른 편광판의 모식적 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 편광판이 구비하는 편광자의 상면도이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시형태에 따른 화상 표시 장치(액정 표시 장치)의 단면의 모식도이다.
도 4는 도 4 중의 (a)는 본 발명의 제1 실시형태의 변형예가 구비하는 편광자의 상면도이고, 도 4 중의 (b)는 본 발명의 제1 실시형태의 변형예가 구비하는 편광자의 상면도이며, 도 4 중의 (c)는 본 발명의 제1 실시형태의 변형예가 구비하는 편광자의 상면도이고, 도 4 중의 (d)는 본 발명의 제1 실시형태의 변형예가 구비하는 편광자의 상면도이다.
도 5는 본 발명의 실시예가 구비하는 편광자의 상면도이다.
도 6은 본 발명의 제2 실시형태에 따른 편광판의 모식적 사시도이다.
1 is a schematic perspective view of a polarizing plate according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a top view of a polarizer included in the polarizing plate illustrated in FIG. 1.
It is a schematic diagram of the cross section of the image display apparatus (liquid crystal display apparatus) which concerns on 1st Embodiment of this invention.
4: (a) in FIG. 4 is a top view of the polarizer with which the modification of 1st Embodiment of this invention is equipped, (b) in FIG. 4 is the top surface of the polarizer with which the modification of 1st Embodiment of this invention is equipped. It is a figure, (c) in FIG. 4 is a top view of the polarizer with which the modification of 1st Embodiment of this invention is equipped, (d) in FIG. 4 is the top surface of the polarizer with which the modification of 1st Embodiment of this invention is equipped. It is also.
5 is a top view of the polarizer included in the embodiment of the present invention.
It is a typical perspective view of the polarizing plate which concerns on 2nd Embodiment of this invention.

이하, 도면을 참조하면서, 본 발명의 적합한 실시형태에 대해 설명한다. 도면에 있어서, 동등한 구성 요소에는 동등한 부호를 붙인다. 본 발명은 하기 실시형태에 한정되는 것은 아니다. 각 도면에 나타내는 X, Y 및 Z는, 서로 직교하는 3개의 좌표축을 의미한다. 각 좌표축이 나타내는 방향은, 모든 도면에 공통된다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, preferred embodiment of this invention is described, referring drawings. In the drawings, equivalent components are denoted by the same reference numerals. This invention is not limited to the following embodiment. X, Y, and Z shown in each figure mean three coordinate axes orthogonal to each other. The direction indicated by each coordinate axis is common to all the drawings.

[제1 실시형태][First Embodiment]

도 1 및 도 2에 기초하여, 본 발명의 제1 실시형태를 설명한다. 제1 실시형태에 따른 편광판(1A)은, 필름형의 편광자(7)와, 수지층(9)과, 복수의 광학 필름(3, 5, 13)을 구비한다. 편광자(7), 수지층(9) 및 광학 필름(3, 5, 13) 모두, 사각형이다. 「광학 필름」이란, 편광판을 구성하는 필름형의 부재(편광자 자체를 제외한다.)를 의미한다. 광학 필름은, 층, 또는 광학층이라고 바꿔 말해도 좋다. 광학 필름은, 예컨대, 보호 필름 및 이형 필름을 함의 (含意)한다. 제1 실시형태에서는, 복수의 광학 필름(3, 5, 13)이란, 제1 보호 필름(5), 제2 보호 필름(3), 및 이형 필름(13)(세퍼레이터)이다. 즉, 편광판(1A)은, 편광자(7), 제1 보호 필름(5), 수지층(9), 제2 보호 필름(3), 및 이형 필름(13)을 구비한다. 편광판(1A)은, 수지층(9)과 이형 필름(13) 사이에 위치하는 점착층(11)도 구비한다.Based on FIG. 1 and FIG. 2, 1st Embodiment of this invention is described. The polarizing plate 1A according to the first embodiment includes a film polarizer 7, a resin layer 9, and a plurality of optical films 3, 5, 13. The polarizer 7, the resin layer 9, and the optical films 3, 5, 13 are all rectangular. An "optical film" means the film-shaped member (except polarizer itself) which comprises a polarizing plate. The optical film may be referred to as a layer or an optical layer. An optical film contains a protective film and a release film, for example. In 1st Embodiment, the some optical films 3, 5, 13 are the 1st protective film 5, the 2nd protective film 3, and the release film 13 (separator). That is, 1 A of polarizing plates are equipped with the polarizer 7, the 1st protective film 5, the resin layer 9, the 2nd protective film 3, and the release film 13. The polarizing plate 1A is also equipped with the adhesion layer 11 located between the resin layer 9 and the release film 13.

수지층(9)은, 편광자(7)의 한쪽의 표면 전체에 겹쳐져 있고, 또한 편광자(7)의 한쪽의 표면 전체에 밀착되어 있다. 점착층(11)은, 수지층(9)의 표면 전체에 겹쳐져 있고, 수지층(9)의 표면 전체에 강고하게 밀착되어 있다. 이형 필름(13)은, 점착층(11)의 표면 전체를 덮고 있다. 제1 보호 필름(5)은, 편광자(7)의 다른쪽의 표면 전체에 겹쳐져 있고, 또한 편광자(7)의 다른쪽의 표면 전체에 접착되어 있다. 제2 보호 필름(3)은, 제1 보호 필름(5)의 표면 전체를 덮고 있다. The resin layer 9 is superposed on the entire surface of one of the polarizers 7 and is in close contact with the entire surface of one of the polarizers 7. The adhesion layer 11 is superposed on the whole surface of the resin layer 9, and is firmly in contact with the whole surface of the resin layer 9. The release film 13 has covered the whole surface of the adhesion layer 11. The 1st protective film 5 is overlapped with the whole other surface of the polarizer 7, and is adhere | attached on the whole other surface of the polarizer 7. The second protective film 3 covers the entire surface of the first protective film 5.

수지층(9)은, 수지 경화물(cured resin)을 포함한다. 수지층(9)은, 수지 경화물만으로 이루어져 있어도 좋다. 수지층(9)이란, 경화성 수지 조성물(curable resin composition)을 경화함으로써 형성된 층이다. 수지층(9)은 삼차원의 가교 구조를 갖고 있기 때문에, 수지층(9)은 광학 필름(3, 5, 13) 등의 수지 필름보다 딱딱하다. 수지층(9)은, 가교 구조 또는 모노머의 조성 혹은 분자 구조의 차이에 기초하여, 광학 필름(3, 5, 13) 등의 수지 필름과 식별된다. The resin layer 9 contains cured resin. The resin layer 9 may consist only of the cured resin. The resin layer 9 is a layer formed by curing a curable resin composition. Since the resin layer 9 has a three-dimensional crosslinked structure, the resin layer 9 is harder than resin films such as the optical films 3, 5, and 13. The resin layer 9 is distinguished from resin films, such as the optical films 3, 5, 13, based on the crosslinked structure, the composition of a monomer, or the difference of a molecular structure.

편광자(7)의 단부(제1 단부(7e))에는, 오목형의 절결부(7C)(concave cut-out portion)가 형성되어 있다. 이 절결부(7C)는, 편광자(7), 수지층(9), 광학 필름(3, 5, 13) 및 점착층(11)의 적층 방향(Z축 방향)에 있어서, 편광자(7), 수지층(9), 광학 필름(3, 5, 13) 및 점착층(11) 모두를 관통하고 있다. 즉, 편광판(1A)의 단부면에는, 편광판(1A)을 구성하는 편광자(7), 수지층(9), 광학 필름(3, 5, 13) 및 점착층(11) 모두에 공통되는 오목형의 절결부가 형성되어 있다. 적층 방향(Z축 방향)에서 본 편광자(7)의 절결부(7C)의 형상은, 적층 방향에서 본 편광판(1A)의 절결부의 형상과 동일하거나 또는 서로 닮아도 좋다. 적층 방향에서 본 편광판(1A)의 절결부의 형상을, 적층 방향에서 본 편광자(7)의 절결부(7C)의 형상이라고 간주해도 좋다. 이하에서는, 편광자(7)의 절결부(7C)뿐만이 아니라, 절결부(7C)를 포함하는 편광판(1A)의 절결부도, 「절결부(7C)」라고 표기하는 경우가 있다. 절결부(7C)는, 예컨대, 직사각형이다.At the end (first end 7e) of the polarizer 7, a concave cut-out portion 7C is formed. This notch 7C is a polarizer 7 in the lamination direction (Z-axis direction) of the polarizer 7, the resin layer 9, the optical films 3, 5, 13, and the adhesive layer 11. It penetrates all the resin layer 9, the optical films 3, 5, 13, and the adhesion layer 11. That is, the end surface of the polarizing plate 1A has a concave shape common to all of the polarizer 7, the resin layer 9, the optical films 3, 5, 13, and the adhesive layer 11 constituting the polarizing plate 1A. The notch of is formed. The shape of the notch 7C of the polarizer 7 seen from the lamination direction (Z-axis direction) may be the same as or similar to the shape of the notch of the polarizing plate 1A seen from the lamination direction. The shape of the notch of the polarizing plate 1A seen from the lamination direction may be regarded as the shape of the notch 7C of the polarizer 7 seen from the laminated direction. Hereinafter, not only the notch 7C of the polarizer 7 but also the notch of the polarizing plate 1A containing the notch 7C may be described as "notch 7C." The notch 7C is rectangular, for example.

이하에 설명하는 바와 같이, 편광자(7)는, 편광자(7)의 흡수축선을 따라 갈라지기 쉽다. 즉, 편광자(7)의 크랙은, 편광자(7)의 흡수축선을 따라 형성되기 쉽다. 여기서 흡수축선이란, 예컨대, 편광자(7)에 있어서의 폴리비닐알코올(PVA) 분자의 배향 방향에 대략 평행한 직선이라고 바꿔 말해도 좋다. 흡수축선이란, 예컨대, 편광자(7)에 있어서 폴리비닐알코올에 흡착되는 색소 분자(예컨대 폴리요오드 또는 유기 염료)의 배향 방향에 대략 평행한 직선이라고 바꿔 말해도 좋다. 하나의 PVA 분자를 구성하는 다수의 탄소 원자는, 흡수축선을 따른 공유 결합(C-C 결합)에 의해 서로 결합하고 있다고 할 수 있다. 한편, 흡수축선에 대략 수직인 방향에서는, PVA 분자끼리가, 가교제(예컨대 붕산)를 통한 가교 결합에 의해 결합하고 있다. 환언하면, 흡수축선에 대략 수직인 방향에서는, 각 PVA 분자가 갖는 히드록시기가, PVA 분자 사이에 위치하는 붕산과 수소 결합 또는 산소·붕소 간 결합(O-B 결합)을 형성함으로써, PVA 분자끼리가 가교되어 있다. 흡수축선을 따라 형성되어 있는 C-C 결합은, 흡수축선에 대략 수직인 방향을 따라 형성되어 있는 가교 결합보다 강고하다. 따라서, 흡수축선에 대략 평행한 방향에 있어서의 편광자(7)의 기계적 강도는, 흡수축선에 대략 수직인 방향에 있어서의 편광자(7)의 기계적 강도보다 높다. 환언하면, 흡수축선에 대략 평행한 방향에 있어서의 편광자(7)의 열수축은, 흡수축선에 대략 수직인 방향에 있어서의 편광자(7)의 열수축에 비해, 크랙을 발생시키기 어렵다. 한편, 흡수축선과 직교하는 방향에서는, PVA 분자 내의 C-C 결합에 비해 약한 가교 결합이 형성되어 있다. 따라서, 흡수축선에 대략 수직인 방향에 있어서의 편광자(7)의 열수축은, 흡수축선에 대략 평행한 방향에 있어서의 편광자(7)의 열수축에 비해, 크랙을 발생시키기 쉽다. 상기와 같은 편광자(7)에 있어서의 기계적 강도의 이방성은, 특히 절결부(7C)에 있어서의 편광자(7)의 크랙을 발생시키기 쉽다. 절결부(7C)에 있어서 노출되는 편광자(7)의 단부면의 방향은, 편광자(7)의 흡수축선에 대해 일정·똑같지는 않기 때문에, 편광자(7)가 온도 변화에 따라 수축할 때에 절결부(7C)는 똑같이는 수축하지 않는다. 그 결과, 절결부(7C)에 있어서 노출되는 편광자(7)의 단부면의 국소에 있어서 응력이 발생하기 쉽다. 이 응력에 의해, 절결부(7C)를 기점으로 한 크랙이 편광자(7)의 흡수축선을 따라 형성되기 쉽다. 예컨대, 절결부(7C)의 심부(深部)(안쪽부)가, 흡수축선에 대략 수직인 방향에 있어서 수축하면, 절결부(7C)의 심부에 있어서 크랙이 흡수축선을 따라 형성되기 쉽다. 또한, 절결부(7C)에 있어서의 편광자(7)의 크랙은, 절결부(7C)를 형성하기 위한 가공에도 기인한다. 편광판(1A)의 직선적인 단부를 형성하는 경우와 달리, 오목형의 절결부(7C)를 편광판(1A)의 단부에 형성하는 가공에서는, 편광판(1A)을 구성하는 적층체, 특히 편광자(7)에 부하가 가해지기 쉽다. 이 가공 시의 부하에 의해, 절결부(7C)에 있어서 노출되는 편광자(7)의 단부에 미소한 상처가 생기기 쉽다. 이 미소한 상처가, 편광자(7)의 열수축 시에 크랙의 기점이 되기 쉽다.As described below, the polarizer 7 tends to break along the absorption axis of the polarizer 7. That is, the crack of the polarizer 7 tends to be formed along the absorption axis of the polarizer 7. Here, you may say that an absorption axis is a straight line substantially parallel to the orientation direction of the polyvinyl alcohol (PVA) molecule | numerator in the polarizer 7, for example. For example, the absorption axis may be referred to as a straight line substantially parallel to the alignment direction of the dye molecules (for example, polyiodine or organic dye) adsorbed to the polyvinyl alcohol in the polarizer 7. Many carbon atoms constituting one PVA molecule can be said to be bonded to each other by a covalent bond (C-C bond) along the absorption axis. On the other hand, in the direction substantially perpendicular to the absorption axis, PVA molecules are bonded by crosslinking via a crosslinking agent (for example, boric acid). In other words, in the direction substantially perpendicular to the absorption axis, the hydroxy group of each PVA molecule forms a boric acid and a hydrogen bond or an oxygen-boron bond (OB bond) located between the PVA molecules, whereby the PVA molecules are crosslinked. have. C-C bonds formed along the absorption axis are stronger than crosslinks formed along a direction substantially perpendicular to the absorption axis. Therefore, the mechanical strength of the polarizer 7 in the direction substantially parallel to the absorption axis is higher than the mechanical strength of the polarizer 7 in the direction substantially perpendicular to the absorption axis. In other words, thermal contraction of the polarizer 7 in a direction substantially parallel to the absorption axis is less likely to cause cracks than thermal contraction of the polarizer 7 in a direction substantially perpendicular to the absorption axis. On the other hand, in the direction orthogonal to the absorption axis, weak crosslinking bonds are formed compared to C-C bonds in the PVA molecules. Therefore, thermal contraction of the polarizer 7 in a direction substantially perpendicular to the absorption axis tends to generate cracks as compared with thermal contraction of the polarizer 7 in a direction substantially parallel to the absorption axis. The anisotropy of the mechanical strength in the polarizer 7 as described above is particularly likely to cause cracks in the polarizer 7 in the notch 7C. Since the direction of the end surface of the polarizer 7 exposed in the notch 7C is not constant and the same as the absorption axis of the polarizer 7, the notch part when the polarizer 7 shrinks with temperature change. (7C) does not shrink equally. As a result, a stress tends to generate | occur | produce in the localization of the end surface of the polarizer 7 exposed in notch 7C. Due to this stress, cracks starting from the cutout portion 7C are likely to be formed along the absorption axis of the polarizer 7. For example, when the deep portion (inner portion) of the cutout portion 7C contracts in a direction substantially perpendicular to the absorption axis, cracks are likely to be formed along the absorption axis in the core portion of the cutout portion 7C. In addition, the crack of the polarizer 7 in the notch 7C originates also in the process for forming the notch 7C. Unlike the case where the linear end of the polarizing plate 1A is formed, in the process of forming the concave notch 7C at the end of the polarizing plate 1A, the laminate constituting the polarizing plate 1A, in particular, the polarizer 7 ) Is likely to be loaded. By the load at the time of this process, a minute wound tends to generate | occur | produce in the edge part of the polarizer 7 exposed in the notch 7C. This minute wound tends to be a starting point of the crack at the time of thermal contraction of the polarizer 7.

그러나 제1 실시형태에서는, 이하에 설명하는 바와 같이, 수지층(9)이 편광자(7)에 밀착되어 있기 때문에, 온도 변화에 따르는 절결부(7C)에서의 편광자(7)의 크랙이 억제된다. 온도 변화에 따라 수축하는 편광자(7)에 응력이 발생했다고 해도, 편광자(7)에 밀착된 수지층(9)이 딱딱하여 깨지기 어렵기 때문에, 수지층(9)에 밀착된 편광자(7)의 크랙도 억제된다. 이상과 같이, 편광자(7)의 크랙이 수지층(9)에 의해 억제되는 메커니즘은, 수지층(9)의 딱딱함 및 열적 거동에 관련된다. 이러한 메커니즘에 의하면, 절결부(7C)의 위치·방향·형상과 편광자(7)의 흡수축선의 위치 관계에 좌우되지 않고, 절결부(7C)에 있어서의 편광자(7)의 크랙이 억제된다. 단, 편광자(7)의 크랙이 수지층(9)에 의해 억제되는 메커니즘은 아직 해명되어 있지 않다. 편광자(7)의 크랙이 억제되는 이유는 상기에 한정되지 않는다. 또한 편광판(1A)이 수지층(9)을 구비함으로써, 편광판(1A)(특히 절결부(7C) 주위)에 있어서의 광 누설(화이트 스폿) 및 열 불균일이 억제된다.However, in the first embodiment, as described below, since the resin layer 9 is in close contact with the polarizer 7, cracks in the polarizer 7 at the notch 7C due to temperature change are suppressed. . Even if stress is generated in the polarizer 7 shrinking due to the temperature change, the resin layer 9 in close contact with the polarizer 7 is hard and hard to be broken, so that the polarizer 7 in close contact with the resin layer 9 Cracks are also suppressed. As mentioned above, the mechanism by which the crack of the polarizer 7 is suppressed by the resin layer 9 is related to the hardness and thermal behavior of the resin layer 9. According to this mechanism, the crack of the polarizer 7 in the notch 7C is suppressed, regardless of the position relationship of the position, the direction, and the shape of the notch 7C, and the position of the absorption axis of the polarizer 7. However, the mechanism by which the crack of the polarizer 7 is suppressed by the resin layer 9 is not yet clarified. The reason why the crack of the polarizer 7 is suppressed is not limited to the above. In addition, since the polarizing plate 1A includes the resin layer 9, light leakage (white spot) and thermal unevenness in the polarizing plate 1A (particularly around the cutout 7C) are suppressed.

수지층(9)은, 오버코트층이어도 좋다. 오버코트층이란, 편광자(7)의 표면을 덮는 미경화의 경화성 수지 조성물을 경화함으로써 형성된 층이라고 바꿔 말해도 좋다. 예컨대, 미경화의 경화성 수지를 편광자(7)의 표면에 직접 칠하여, 미경화의 경화성 수지를 포함하는 층(미경화층)을 형성하고, 미경화층을 경화함으로써, 수지층(9)을 얻어도 좋다. 또는, 미경화층을 기재(基材) 필름의 표면에 형성하고, 미경화층을 기재 필름으로부터 편광자(7)의 표면에 전사하며, 편광자(7)의 표면에 전사된 미경화층을 경화함으로써, 수지층(9)을 얻어도 좋다. 미경화층을 편광자(7)의 표면에 밀착시키면, 비교적 부드러운 미경화층이 편광자(7)의 표면의 미세한 요철에 간극 없이 파고들기 쉽고, 미경화층의 경화에 의해 얻어진 수지층(9)도 편광자(7)의 표면의 미세한 요철에 간극 없이 파고들기 쉽다. 그 결과, 앵커(Anchor) 효과가 발생하고, 앵커 효과에 의해 절결부(7C)에 있어서의 편광자(7)의 크랙이 억제되기 쉬워질 가능성이 있다. The resin layer 9 may be an overcoat layer. The overcoat layer may be referred to as a layer formed by curing an uncured curable resin composition covering the surface of the polarizer 7. For example, the uncured curable resin is directly coated on the surface of the polarizer 7 to form a layer (uncured layer) containing the uncured curable resin, and the uncured layer is cured to obtain a resin layer 9. Also good. Alternatively, an uncured layer is formed on the surface of the base film, the uncured layer is transferred from the base film to the surface of the polarizer 7, and the uncured layer transferred to the surface of the polarizer 7 is cured. You may obtain the resin layer 9. When the uncured layer is brought into close contact with the surface of the polarizer 7, the relatively soft uncured layer is likely to penetrate into the minute unevenness of the surface of the polarizer 7 without a gap, and the resin layer 9 obtained by curing of the uncured layer is also It is easy to penetrate into the minute unevenness | corrugation of the surface of the polarizer 7 without a gap. As a result, an anchor effect may arise and the crack of the polarizer 7 in the notch 7C may be easily suppressed by the anchor effect.

수지층(9)의 흡광도 상승률은, 0% 이상 30% 이하여도 좋다. 흡광도 상승률은, 하기 수식 (A)에 의해 정의된다. The absorbance increase rate of the resin layer 9 may be 0% or more and 30% or less. The absorbance increase rate is defined by the following formula (A).

흡광도 상승률(%)={(Absf-Absi)/Absi}×100 (A)Absorbance increase rate (%) = {(Absf-Absi) / Absi} × 100 (A)

「Absf」란, 침지 처리 후의 수지층(9)의 360 ㎚에 있어서의 흡광도이다. 침지 처리란, 온도 23℃, 상대 습도 60%의 대기 중에서, 수지층(9)을 50% 요오드화칼륨 수용액에 100시간 침지시키는 것을 의미한다. 흡광도의 측정 전에, 침지 처리 후의 수지층(9)의 표면은 순수(純水)로 세정되고, 순수는 수지층(9)의 표면으로부터 닦아 내어진다. 「Absi」란, 침지 처리 전의 수지층(9)의 360 ㎚에 있어서의 흡광도이다."Absf" is the absorbance in 360 nm of the resin layer 9 after the immersion treatment. Immersion treatment means immersing the resin layer 9 in 50% of potassium iodide aqueous solution for 100 hours in the atmosphere of temperature 23 degreeC, and 60% of a relative humidity. Before the measurement of absorbance, the surface of the resin layer 9 after the immersion treatment is washed with pure water, and the pure water is wiped off from the surface of the resin layer 9. "Absi" is the absorbance at 360 nm of the resin layer 9 before the immersion treatment.

수지층(9)의 흡광도 상승률이 낮을수록, 수지층(9)은 요오드(이색성 색소)를 흡수하기 어렵다. 수지층(9)의 흡광도 상승률이 30% 이하인 경우, 편광자(7)에 포함되는 요오드(이색성 색소)의 수지층(9)으로의 이동이 유효하게 억제되어, 요오드(이색성 색소)에 의한 다른 층(예컨대 ITO층 등의 도전층)의 부식이 억제된다. 또한 수지층(9)의 흡광도 상승률이 30% 이하인 경우, 편광판(1A)의 광학 성능이 유지되기 쉽다. As the absorbance increase rate of the resin layer 9 is lower, the resin layer 9 is less likely to absorb iodine (dichroic dye). When the absorbance increase rate of the resin layer 9 is 30% or less, the movement of the iodine (dichroic dye) contained in the polarizer 7 to the resin layer 9 is effectively suppressed, and due to iodine (dichroic dye) Corrosion of other layers (for example, conductive layers such as ITO layers) is suppressed. Moreover, when the absorbance increase rate of the resin layer 9 is 30% or less, the optical performance of the polarizing plate 1A is easy to be maintained.

수지층(9)의 흡광도 상승률은 낮을수록 바람직하다. 수지층(9)의 흡광도 상승률은, 0% 이상 25% 이하, 0% 이상 20% 이하, 0% 이상 15% 이하, 0% 이상 10% 이하, 또는 0% 이상 3% 이하여도 좋다. 수지층(9)의 흡광도 상승률이 낮을수록, 전술한 바와 같이 편광자(7)에 포함되는 요오드(이색성 색소)의 수지층(9)으로의 이동이 억제되기 쉬워, 다른 층(예컨대 도전층)의 부식이 억제되기 쉽고, 및 편광판(1A)의 광학 성능의 열화가 억제되기 쉽다. The lower the absorbance increase rate of the resin layer 9 is, the more preferable. The absorbance increase rate of the resin layer 9 may be 0% or more and 25% or less, 0% or more and 20% or less, 0% or more and 15% or less, 0% or more and 10% or less, or 0% or more and 3% or less. As the absorbance increase rate of the resin layer 9 is lower, as described above, the movement of the iodine (dichroic dye) contained in the polarizer 7 to the resin layer 9 tends to be suppressed, and another layer (for example, a conductive layer) Corrosion is easy to be suppressed, and deterioration of the optical performance of the polarizing plate 1A is easy to be suppressed.

수지층(9)의 광탄성 계수는, 0 이상 10-12 미만(측정 한계 미만), 또는, 0 이상 10-13 이하여도 좋다. 수지층(9)의 광탄성 계수가 작고, 다른 광학 필름(예컨대 보호 필름)의 광탄성 계수보다 작을수록, 편광판(1A)에 있어서의 광 누설(화이트 스폿) 및 열 불균일이 억제되기 쉽다. 광탄성 계수는, 위상차 측정 장치(타원 편광 측정 장치)에 의해 측정되어도 좋다. 위상차 측정 장치로서는, 오지 게이소쿠 기키(주) 제조의 「KOBRA-WPR」을 이용해도 좋다. 광탄성 계수의 측정에서는, 수지층(9)의 치수는 2 ㎝×10 ㎝로 조정된다. 그리고, 수지층(9)의 양단을 협지(挾持)하여 5∼15 N의 응력을 수지층(9)에 가하면서, 수지층(9)의 중앙의 위상차값(23℃/파장 590 ㎚)을 측정한다. 응력과 위상차값의 함수의 기울기로부터, 광탄성 계수가 산출된다.The photoelastic coefficient of the resin layer 9 may be 0 or more and less than 10 -12 (less than a measurement limit), or 0 or more and 10 -13 or less. The photoelastic coefficient of the resin layer 9 is small, and smaller than the photoelastic coefficient of another optical film (for example, protective film), the light leakage (white spot) and thermal nonuniformity in 1A of polarizing plates are easy to be suppressed. The photoelastic coefficient may be measured by a phase difference measuring device (elliptical polarization measuring device). As a phase difference measuring apparatus, you may use "KOBRA-WPR" by Oji Keisoku Kiki Co., Ltd. product. In the measurement of the photoelastic coefficient, the dimension of the resin layer 9 is adjusted to 2 cm x 10 cm. The phase difference value (23 ° C / wavelength 590 nm) in the center of the resin layer 9 is determined while sandwiching both ends of the resin layer 9 and applying a stress of 5 to 15 N to the resin layer 9. Measure From the slope of the function of the stress and the retardation value, the photoelastic coefficient is calculated.

편광자(7)의 단부(제1 단부(7e))에 평행한 방향에 있어서의 절결부(7C)의 폭(Wc)은, 예컨대, 2 ㎜ 이상 600 ㎜ 미만, 또는 5 ㎜ 이상 30 ㎜ 이하여도 좋다. 절결부(7C)가 형성된 단부(제1 단부(7e))에 평행한 방향에 있어서의 편광자(7) 전체의 폭(W)은, 예컨대, 30 ㎜ 이상 600 ㎜ 이하여도 좋다. 절결부(7C)의 폭(Wc)은, 예컨대, 편광자(7) 전체의 폭(W) 미만이면 된다. 절결부(7C)의 폭(Wc)이 5 ㎜ 이상 30 ㎜ 이하인 경우, 편광자(7) 전체의 폭(W)(편광판(1A) 전체의 폭)은, 20 ㎜보다 크고 160 ㎜ 이하, 바람직하게는 25 ㎜보다 크고 130 ㎜ 이하, 보다 바람직하게는 30 ㎜보다 크고 100 ㎜ 이하, 더욱 바람직하게는 30 ㎜보다 크고 80 ㎜ 이하여도 좋다(단, Wc<W). 절결부(7C)의 폭(Wc)과 편광자(7) 전체의 폭(W)의 비(Wc/W)는, 0.03 이상 1.0 미만, 0.10 이상 1.0 미만, 또는 0.13 이상 1.0 미만, 바람직하게는 0.15 이상 1.0 미만, 또는 0.17 이상 1.0 미만, 보다 바람직하게는 0.20 이상 1.0 미만, 또는 0.22 이상 1.0 미만, 더욱 바람직하게는 0.30 이상 1.0 미만, 또는 0.33 이상 1.0 미만이어도 좋다. Wc/W는, 절결부(7C)의 폭(Wc)과 편광판(1A) 전체의 폭(W)의 비라고 바꿔 말해도 좋다. 비(Wc/W)가 상기한 범위에 있는 경우, 절결부(7C)에 있어서의 크랙이 억제되기 쉽다. 그 이유는 다음과 같다. 절결부(7C)의 폭(Wc)이 편광자(7) 전체의 폭(W)보다 작을수록, 온도 변화에 따르는 편광자(7) 전체의 수축에 의해, 절결부(7C)의 폭(Wc)을 넓히는 힘이 생기기 쉬워, 절결부(7C)에 크랙이 발생하기 쉽다. 즉 Wc/W가 작을수록, 절결부(7C)에 크랙이 발생하기 쉽다. 한편, Wc/W가 클수록(편광자(7) 전체의 폭(W)이 작을수록), 온도 변화에 따르는 편광자(7) 전체의 수축량이 저감된다. 즉, 편광자(7) 전체의 폭(W)이 작을수록, 편광자(7) 전체의 폭(W)의 변화량의 절대값이 저감된다. 온도 변화에 따르는 편광자(7) 전체의 수축량이 저감됨으로써, 절결부(7C)의 폭(Wc)을 넓히는 힘이 생기기 어렵고, 절결부(7C)에 있어서의 크랙이 억제되기 쉽다. 단, Wc/W가 상기한 수치 범위 외인 경우라도, 절결부(7C)에 있어서의 크랙을 억제하는 것은 가능하다.Even if the width Wc of the notch 7C in the direction parallel to the edge part (1st edge part 7e) of the polarizer 7 is 2 mm or more and less than 600 mm, or 5 mm or more and 30 mm or less, for example, good. The width W of the whole polarizer 7 in the direction parallel to the edge part (1st edge part 7e) in which the notch 7C was formed may be 30 mm or more and 600 mm or less, for example. The width Wc of the notch 7C may be, for example, less than the width W of the entire polarizer 7. When the width Wc of the notch 7C is 5 mm or more and 30 mm or less, the width W of the entire polarizer 7 (width of the entire polarizing plate 1A) is greater than 20 mm and preferably 160 mm or less. May be greater than 25 mm and 130 mm or less, more preferably greater than 30 mm and 100 mm or less, more preferably greater than 30 mm and 80 mm or less (however, Wc < W). The ratio (Wc / W) of the width Wc of the notch 7C and the width W of the entire polarizer 7 is 0.03 or more and less than 1.0, 0.10 or more and less than 1.0, or 0.13 or more and less than 1.0, preferably 0.15. 1.0 or more, or 0.17 or more and less than 1.0, more preferably 0.20 or more and less than 1.0, or 0.22 or more and less than 1.0, still more preferably 0.30 or more and less than 1.0, or 0.33 or more and less than 1.0. Wc / W may be referred to as the ratio between the width Wc of the notch 7C and the width W of the entire polarizing plate 1A. When the ratio Wc / W is in the above range, the crack in the notch 7C is easily suppressed. The reason for this is as follows. As the width Wc of the notch 7C is smaller than the width W of the polarizer 7 as a whole, the width Wc of the notch 7C is reduced by shrinkage of the entire polarizer 7 due to temperature change. The spreading force tends to occur, and cracks tend to occur in the notch 7C. That is, the smaller the Wc / W, the more likely the crack is to occur in the notch 7C. On the other hand, the larger the Wc / W (the smaller the width W of the entire polarizer 7), the smaller the shrinkage amount of the entire polarizer 7 due to the temperature change. That is, the smaller the width W of the whole polarizer 7 is, the smaller the absolute value of the change amount of the width W of the whole polarizer 7 is. By reducing the shrinkage amount of the entire polarizer 7 due to the temperature change, a force for widening the width Wc of the notch 7C is hardly generated, and the crack in the notch 7C is easily suppressed. However, even when Wc / W is outside the above-mentioned numerical range, it is possible to suppress the crack in the notch 7C.

단부(제1 단부(7e))에 수직인 방향에 있어서의 절결부(7C)의 길이(Dc)는, 예컨대, 1 ㎜ 이상 30 ㎜ 이하여도 좋다. 길이(Dc)는, 단부(제1 단부(7e))에 수직인 방향에 있어서의 절결부(7C)의 깊이라고 바꿔 말해도 좋다. 단부(제1 단부(7e))에 수직인 방향에 있어서의 편광자(7) 전체의 길이(D)는, 예컨대, 30 ㎜ 이상 600 ㎜ 이하여도 좋다. 편광판(1A)의 두께는, 예컨대, 10 ㎛ 이상 1200 ㎛ 이하, 10 ㎛ 이상 500 ㎛ 이하, 10 ㎛ 이상 300 ㎛ 이하, 또는 10 ㎛ 이상 200 ㎛ 이하여도 좋다.The length Dc of the notch 7C in the direction perpendicular to the end (first end 7e) may be, for example, 1 mm or more and 30 mm or less. The length Dc may be referred to as the depth of the notch 7C in the direction perpendicular to the end (first end 7e). The length D of the whole polarizer 7 in the direction perpendicular to the end portion (first end portion 7e) may be, for example, 30 mm or more and 600 mm or less. The thickness of the polarizing plate 1A may be, for example, 10 µm or more and 1200 µm or less, 10 µm or more and 500 µm or less, 10 µm or more and 300 µm or less, or 10 µm or more and 200 µm or less.

편광판(1A)의 제조 방법은, 적어도, 접합 단계와, 가공 단계를 구비한다. 접합 단계에서는, 장척(長尺)의 띠 형상의 편광자 필름의 표면에, 수지층(9)을 형성한다. 또한 접합 단계에서는, 편광자 필름과, 장척의 띠 형상의 복수의 광학 필름을 접합하여, 적층체(제1 적층체)를 제작한다. 장척의 띠 형상의 편광자 필름이란, 가공·성형 전의 편광자(7)이다. 장척의 띠 형상의 복수의 광학 필름이란, 가공·성형 전의 광학 필름(3, 5, 13)이다. 이어지는 가공 단계에서는, 제1 적층체를 가공하여, 원하는 치수 및 형상을 갖는 복수의 적층체(제2 적층체)를 제작한다. 가공 단계에서는, 예컨대, 제1 적층체를 날붙이로 절단함으로써, 제2 적층체를 제작해도 좋다. 가공 단계에서는, 예컨대, 제1 적층체의 펀칭 가공에 의해, 제2 적층체를 제작해도 좋다. 가공 단계에서는, 예컨대, 제1 적층체를 레이저로 절단함으로써, 제2 적층체를 제작해도 좋다. 레이저는, 예컨대, CO2 레이저 또는 엑시머 레이저여도 좋다. 가공 단계에서는, 예컨대, 전술한 날붙이를 이용한 절단, 펀칭 가공, 및 레이저를 이용한 절단을 조합하여, 제2 적층체를 제작해도 좋다. 제1 적층체를 전술한 가공 방법에 의해 가공하여 제1 적층체의 치수를 소정의 치수보다 크게 조정한 후, 제1 적층체의 단부를 프레이즈로 절삭·연마함으로써, 제2 적층체를 제작해도 좋다.The manufacturing method of 1 A of polarizing plates is equipped with the bonding step and the processing step at least. In the bonding step, the resin layer 9 is formed on the surface of the elongated strip-shaped polarizer film. In the bonding step, a polarizer film and a plurality of long strip-shaped optical films are bonded together to produce a laminate (first laminate). The elongate strip-shaped polarizer film is a polarizer 7 before processing and molding. The long strip | belt-shaped several optical film is the optical film 3, 5, 13 before a process and the shaping | molding. In the subsequent processing step, the first laminate is processed to produce a plurality of laminates (second laminates) having desired dimensions and shapes. In the processing step, for example, the second laminate may be produced by cutting the first laminate with a blade. In the processing step, for example, the second laminate may be produced by punching the first laminate. In the processing step, for example, the second laminate may be produced by cutting the first laminate with a laser. The laser may be, for example, a CO 2 laser or an excimer laser. In the processing step, for example, the second laminate may be prepared by combining the above-described cutting using a cutlery, punching processing, and cutting using a laser. Even if a 1st laminated body is processed by the above-mentioned processing method, the dimension of a 1st laminated body is adjusted to larger than a predetermined dimension, and the edge part of a 1st laminated body is cut and polished by a phrase, even if it manufactures a 2nd laminated body. good.

가공 단계에서는, 예컨대, 펀칭 가공, 또는 날붙이 혹은 레이저를 이용한 절단에 의해, 오목형의 절결부(7C)를, 제2 적층체의 제1 단부(7e)에 형성해도 좋다. 가공 단계에 있어서 절결부(7C)가 형성된 제2 적층체를 제작한 후, 단부 가공 단계를 행해도 좋다. 단부 가공 단계에서는, 예컨대, 엔드 밀(endmill)을 이용하여, 절결부(7C)를 포함하는 제2 적층체의 단부면을 절삭·연마해도 좋다. 엔드 밀이란, 절삭 가공용의 프레이즈의 1종이다. 엔드 밀은, 예컨대, 그 회전축에 대략 평행한 측면에 위치하는 날로, 절결부(7C)를 포함하는 제2 적층체의 단부면을 절삭·연마한다. 그 결과, 절결부(7C)를 포함하는 제2 적층체의 단부면이 평활하게 다듬질된다. 이 엔드 밀을 이용함으로써, 단시간에, 제2 적층체를 원하는 형상 및 치수를 갖는 편광판(1A)으로 성형하는 것이 가능하다. 즉, 편광판(1A)의 생산성이 향상된다. 가공 단계에 있어서 종래보다 크게 제1 적층체를 펀칭하여 제2 적층체를 제작하고, 이어지는 단부 가공 단계에서는 제2 적층체의 단부면을 엔드 밀로 절삭·연마해도 좋다. 그 결과, 단부 가공 단계에 있어서 제2 적층체로부터 제거되는 단부의 마진(margin)이 감소하여, 단부 가공 단계에 있어서의 연마 부스러기 등의 이물의 발생이 억제되고, 이물의 제품(편광판(1A))에의 혼입이 억제된다.In the processing step, for example, a concave notched portion 7C may be formed at the first end 7e of the second laminate by punching or cutting using a blade or a laser. In the machining step, the second laminated body having the cutout portions 7C formed therein may be subjected to an end machining step. In the end working step, for example, an end mill may be used to cut and polish the end face of the second laminate including the notched portion 7C. An end mill is one kind of phrase for cutting. The end mill is, for example, a blade located on a side surface substantially parallel to the rotational axis, and cuts and polishes the end face of the second laminate including the notch 7C. As a result, the end face of the 2nd laminated body containing the notch 7C is smoothed. By using this end mill, it is possible to shape | mold the 2nd laminated body into 1 A of polarizing plates which have a desired shape and dimension in a short time. That is, productivity of 1 A of polarizing plates improves. In the machining step, the first laminate may be punched out larger than before to produce the second laminate, and in the subsequent end machining step, the end face of the second laminate may be cut and polished with an end mill. As a result, the margin of the end removed from the second laminate in the end machining step is reduced, and the generation of foreign matters such as polishing debris in the end machining step is suppressed, and the foreign matter product (polarizing plate 1A). ) Is suppressed.

가공 단계에 있어서 절결부(7C)를 형성하지 않고, 가공 단계에 이어지는 단부 가공 단계에 있어서, 오목형의 절결부(7C)를 제2 적층체의 제1 단부(7e)에 형성해도 좋다. 단부 가공 단계에서는, 예컨대, 상기한 레이저를 제2 적층체의 단부에 조사하여 단부의 일부 또는 전부를 절단함으로써, 절결부(7C)를 제2 적층체에 형성해도 좋다. 상기한 엔드 밀을 이용한 단부 가공 단계에 의해, 절결부(7C)를 제2 적층체에 형성해도 좋다.Instead of forming the notch 7C in the machining step, in the end machining step following the machining step, the recessed notch 7C may be formed at the first end 7e of the second laminate. In the edge processing step, for example, the notched portion 7C may be formed in the second laminate by irradiating the edge of the second laminate to cut an end or part of the edge. The notch 7C may be formed in the second laminate by the end machining step using the end mill described above.

수지층(9)을 구성하는 수지 경화물은, 활성 에너지선의 조사에 의해 경화하는 광경화성 수지 조성물로 형성되어도 좋다. 수지층(9)을 구성하는 수지 경화물은, 가열에 의해 경화하는 열경화성 수지 조성물로 형성되어도 좋다. 수지층(9)을 구성하는 수지 경화물은, 에폭시계 화합물을 포함해도 좋다. 수지층(9)을 구성하는 수지 경화물은, 옥세탄계 화합물을 포함해도 좋다. 수지층(9)을 구성하는 수지 경화물은, (메트)아크릴계 화합물을 포함해도 좋다. 이하에서는, 수지층(9)(수지 경화물)의 형성에 적합한 경화성 수지 조성물의 구체예에 대해 상세히 설명한다. The resin cured material constituting the resin layer 9 may be formed of a photocurable resin composition that is cured by irradiation with an active energy ray. The resin cured material constituting the resin layer 9 may be formed of a thermosetting resin composition that is cured by heating. The resin cured material which comprises the resin layer 9 may contain an epoxy compound. The resin cured material which comprises the resin layer 9 may also contain an oxetane type compound. The resin cured material which comprises the resin layer 9 may also contain a (meth) acrylic-type compound. Below, the specific example of curable resin composition suitable for formation of the resin layer 9 (resin cured material) is demonstrated in detail.

<수지층(9)용의 경화성 수지 조성물><Curable resin composition for the resin layer 9>

수지층(9)의 형성에 이용하는 경화성 수지 조성물은, 활성 에너지선 경화성 화합물로서, 분자 내에 에폭시기를 적어도 1개 갖는 에폭시계 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 이러한 에폭시계 화합물을 포함하는 경화성 수지 조성물을 이용함으로써, 수지층(9)이 편광자(7)에 대해 양호한 밀착성을 나타내고, 투명성, 기계적 강도, 열 안정성, 수분 차단성 등이 우수한 내구 성능이 높은 편광판(1A)을 얻을 수 있다. 「분자 내에 에폭시기를 적어도 1개 갖는 에폭시계 화합물」이란, 분자 내에 1개 이상의 에폭시기를 갖고, 활성 에너지선의 조사에 의해 경화할 수 있는 화합물을 의미한다. 이 에폭시계 화합물은 특히, 분자 내에 에폭시기를 적어도 2개 갖는 것이 바람직하다. 「활성 에너지선 경화성 화합물」이란, 에폭시계 화합물을 비롯하여, 후술하는 옥세탄계 화합물 및 (메트)아크릴계 화합물을 포함하고, 활성 에너지선의 조사에 의해 경화할 수 있는 경화성 수지 조성물을 총칭하는 의미이다. It is preferable that the curable resin composition used for formation of the resin layer 9 contains an epoxy-type compound which has at least 1 epoxy group in a molecule | numerator as an active energy ray curable compound. By using curable resin composition containing such an epoxy compound, the resin layer 9 shows favorable adhesiveness with respect to the polarizer 7, and is a polarizing plate with high durability performance excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture barrier property, etc. (1A) can be obtained. "The epoxy compound which has at least one epoxy group in a molecule" means the compound which has one or more epoxy groups in a molecule | numerator, and can harden | cure by irradiation of an active energy ray. It is preferable that especially this epoxy compound has at least 2 epoxy groups in a molecule | numerator. An "active energy ray curable compound" is a meaning which generically refers to the curable resin composition which contains the oxetane type compound and (meth) acrylic compound mentioned later including an epoxy type compound and can harden | cure by irradiation of an active energy ray.

(활성 에너지선 경화성 화합물 그 1: 양이온 중합성 화합물)(Active energy ray curable compound 1: Cationic polymerizable compound)

경화성 수지 조성물을 구성하는 에폭시계 화합물은, 지환식 고리를 갖는 폴리올의 글리시딜에테르, 지환식 에폭시계 화합물, 지방족 에폭시계 화합물, 방향족 에폭시 화합물 등을 예시할 수 있다.Examples of the epoxy compound constituting the curable resin composition include glycidyl ethers of polyols having alicyclic rings, alicyclic epoxy compounds, aliphatic epoxy compounds, aromatic epoxy compounds and the like.

지환식 고리를 갖는 폴리올의 글리시딜에테르는, 지환식 고리에 결합한 수산기를 분자 내에 적어도 2개 갖는 화합물의 수산기를 글리시딜에테르화하여 얻어지는 화합물이다. 지환식 고리를 갖는 폴리올, 즉, 지환식 고리에 결합한 수산기를 분자 내에 적어도 2개 갖는 화합물은, 방향족 폴리올을 촉매의 존재하, 가압하에서 방향환에 선택적으로 수소화 반응을 행함으로써 얻어지는 것일 수 있다. 방향족 폴리올은, 예컨대, 비스페놀 A, 비스페놀 F 및 비스페놀 S와 같은 비스페놀형 화합물; 페놀노볼락 수지, 크레졸노볼락 수지 및 히드록시벤즈알데히드페놀노볼락 수지와 같은 노볼락형 수지; 테트라히드록시디페닐메탄, 테트라히드록시벤조페논 및 폴리비닐페놀과 같은 다작용형의 화합물 등이다. 이들 방향족 폴리올의 방향환에 수소화 반응을 행하여 얻어지는 지환식 폴리올에, 에피클로로히드린을 반응시킴으로써, 글리시딜에테르로 할 수 있다. 이들 중에서도 바람직한 것으로서, 수소화된 비스페놀 A의 디글리시딜에테르를 들 수 있다.Glycidyl ether of the polyol having an alicyclic ring is a compound obtained by glycidyl etherifying the hydroxyl group of the compound which has at least 2 hydroxyl groups in a molecule | numerator connected to an alicyclic ring. The polyol having an alicyclic ring, ie, the compound having at least two hydroxyl groups bonded to the alicyclic ring, may be obtained by selectively hydrogenating an aromatic polyol to an aromatic ring under pressure in the presence of a catalyst. Aromatic polyols include, for example, bisphenol type compounds such as bisphenol A, bisphenol F and bisphenol S; Novolak-type resins such as phenol novolak resin, cresol novolak resin and hydroxybenzaldehyde phenol novolak resin; Polyfunctional compounds such as tetrahydroxydiphenylmethane, tetrahydroxybenzophenone and polyvinylphenol. It can be set as glycidyl ether by making epichlorohydrin react with the alicyclic polyol obtained by performing a hydrogenation reaction to the aromatic ring of these aromatic polyols. Among these, preferable is the diglycidyl ether of hydrogenated bisphenol A.

지환식 에폭시계 화합물은, 지환식 고리에 결합한 에폭시기를 분자 내에 적어도 1개 갖는 화합물이다. 「지환식 고리에 결합한 에폭시기」란, 하기 화학식 1에 나타나는 구조에 있어서의 가교의 산소 원자 -O-를 의미하고, 이 식 중, m은 2∼5의 정수이다.An alicyclic epoxy compound is a compound which has at least one epoxy group couple | bonded with an alicyclic ring in a molecule | numerator. "The epoxy group couple | bonded with the alicyclic ring" means the oxygen atom -O- of bridge | crosslinking in the structure shown by following formula (1), and m is an integer of 2-5 in this formula.

Figure pct00001
Figure pct00001

상기 화학식 1에 있어서의 (CH2)m 중의 수소 원자를 1개 또는 복수 개 제거한 형태의 기가 다른 화학 구조에 결합하고 있는 화합물이, 지환식 에폭시계 화합물이 될 수 있다. 지환식 고리를 형성하는 (CH2)m 중의 1개 또는 복수 개의 수소 원자는, 메틸기나 에틸기와 같은 직쇄상 알킬기로 적절히 치환되어 있어도 좋다. 지환식 에폭시계 화합물 중에서도, 에폭시시클로펜탄환(상기 식에 있어서 m=3인 것)이나, 에폭시시클로헥산환(상기 식에 있어서 m=4인 것)을 갖는 에폭시계 화합물은, 경화물의 탄성률이 높고, 편광자(7)와의 밀착성이 우수하기 때문에 보다 바람직하게 이용된다.The compound that is (CH 2) m combine the hydrogen atom in the one or more types of different chemical structure group is removed in the above formula (1) it may be a cycloaliphatic epoxy compound. One or a plurality of hydrogen atoms in (CH 2 ) m forming an alicyclic ring may be appropriately substituted with a linear alkyl group such as a methyl group or an ethyl group. Among the alicyclic epoxy compounds, the epoxy compound having an epoxy cyclopentane ring (m = 3 in the above formula) or an epoxycyclohexane ring (m = 4 in the above formula) has an elastic modulus of the cured product. It is high, and since it is excellent in adhesiveness with the polarizer 7, it is used more preferably.

이하에, 지환식 에폭시계 화합물의 구체예를 열거한다. 이하에서는, 먼저 화합물명을 들고, 계속해서 각 화합물명에 대응하는 화학식을 나타낸다. 화합물명과 그것에 대응하는 화학식에는 동일한 부호를 붙인다.Specific examples of the alicyclic epoxy compound are listed below. In the following, the compound name is first given, followed by the chemical formula corresponding to each compound name. The compound name and the chemical formula corresponding thereto are assigned the same symbol.

A: 3,4-에폭시시클로헥실메틸 3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트,A: 3,4-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate,

B: 3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실메틸 3,4-에폭시-6-메틸시클로헥산카르복실레이트,B: 3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl 3,4-epoxy-6-methylcyclohexanecarboxylate,

C: 에틸렌비스(3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트),C: ethylene bis (3,4-epoxycyclohexanecarboxylate),

D: 비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸) 아디페이트,D: bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate,

E: 비스(3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실메틸) 아디페이트,E: bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate,

F: 디에틸렌글리콜비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸에테르),F: diethylene glycol bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl ether),

G: 에틸렌글리콜비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸에테르),G: ethylene glycol bis (3,4-epoxycyclohexyl methyl ether),

H: 2,3,14,15-디에폭시-7,11,18,21-테트라옥사트리스피로[5.2.2.5.2.2]헨이코산,H: 2,3,14,15-diepoxy-7,11,18,21-tetraoxatrisspiro [5.2.2.5.2.2] henic acid,

I: 3-(3,4-에폭시시클로헥실)-8,9-에폭시-1,5-디옥사스피로[5.5]운데칸,I: 3- (3,4-epoxycyclohexyl) -8,9-epoxy-1,5-dioxaspiro [5.5] undecane,

J: 4-비닐시클로헥센디옥사이드,J: 4-vinylcyclohexene dioxide,

K: 리모넨디옥사이드,K: limonene dioxide,

L: 비스(2,3-에폭시시클로펜틸)에테르,L: bis (2,3-epoxycyclopentyl) ether,

M: 디시클로펜타디엔디옥사이드 등.M: dicyclopentadiene dioxide and the like.

Figure pct00002
Figure pct00002

지방족 에폭시계 화합물은, 지방족 다가 알코올 또는 그 알킬렌옥사이드 부가물의 폴리글리시딜에테르일 수 있다. 지방족 에폭시계 화합물은, 예컨대, 1,4-부탄디올의 디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올의 디글리시딜에테르, 글리세린의 트리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판의 트리글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜의 디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜의 디글리시딜에테르, 에틸렌글리콜이나 프로필렌글리콜, 글리세린과 같은 지방족 다가 알코올에 알킬렌옥사이드(에틸렌옥사이드나 프로필렌옥사이드)를 부가하여 얻어지는 폴리에테르폴리올의 폴리글리시딜에테르 등이다.The aliphatic epoxy compound may be an aliphatic polyhydric alcohol or polyglycidyl ether of an alkylene oxide adduct thereof. Aliphatic epoxy compounds are, for example, diglycidyl ether of 1,4-butanediol, diglycidyl ether of 1,6-hexanediol, triglycidyl ether of glycerin, triglycidyl ether of trimethylolpropane, and polyethylene Polyglycol of polyether polyol obtained by adding alkylene oxide (ethylene oxide or propylene oxide) to aliphatic polyhydric alcohols such as diglycidyl ether of glycol, diglycidyl ether of propylene glycol, ethylene glycol, propylene glycol, glycerin Cyl ether.

편광자(7)와 점착층(11) 사이의 접착성을 향상시키는 관점에서, 경화성 수지 조성물에 포함되는 지방족 에폭시 화합물은, 지방족 탄소 원자에 결합하는 2개의 옥시란환을 분자 내에 갖는 이작용성의 에폭시 화합물(지방족 디에폭시 화합물)인 것이 바람직하다. 경화성 수지 조성물이 지방족 디에폭시 화합물을 포함함으로써, 점도가 낮고, 도포하기 쉬운 경화성 수지 조성물을 얻을 수 있다.From the viewpoint of improving the adhesion between the polarizer 7 and the adhesive layer 11, the aliphatic epoxy compound included in the curable resin composition is a bifunctional epoxy having two oxirane rings bonded to aliphatic carbon atoms in a molecule thereof. It is preferable that it is a compound (aliphatic diepoxy compound). When the curable resin composition contains an aliphatic diepoxy compound, a curable resin composition having a low viscosity and easy to apply can be obtained.

방향족 에폭시 화합물은, 분자 내에 하나 이상의 방향환을 갖는 화합물이다. 이하에, 방향족 에폭시 화합물의 구체예를 열거한다.An aromatic epoxy compound is a compound which has one or more aromatic rings in a molecule | numerator. Specific examples of the aromatic epoxy compound are listed below.

페놀, 크레졸, 부틸페놀 등의 적어도 하나의 방향환을 갖는 1가 페놀 또는, 그 알킬렌옥사이드 부가물의 모노/폴리글리시딜에테르화물, 예컨대 비스페놀 A, 비스페놀 F, 또는 이들에 또한 알킬렌옥사이드를 부가한 화합물의 글리시딜에테르화물이나 에폭시노볼락 수지;Monovalent polyphenols having at least one aromatic ring such as phenol, cresol, butylphenol or the like, or mono / polyglycidyl ether compounds of alkylene oxide adducts thereof such as bisphenol A, bisphenol F, or alkylene oxides Glycidyl ether compounds and epoxy novolac resins of the added compounds;

레조르시놀이나 하이드로퀴논, 카테콜 등의 2개 이상의 페놀성 수산기를 갖는 방향족 화합물의 글리시딜에테르;Glycidyl ethers of aromatic compounds having two or more phenolic hydroxyl groups such as resorcinol, hydroquinone and catechol;

벤젠디메탄올이나 벤젠디에탄올, 벤젠디부탄올 등의 알코올성 수산기를 2개 이상 갖는 방향족 화합물의 모노/폴리글리시딜에테르화물;Mono / polyglycidyl ether compounds of aromatic compounds having two or more alcoholic hydroxyl groups such as benzenedimethanol, benzenediethanol and benzenedibutanol;

프탈산, 테레프탈산, 트리멜리트산 등의 2개 이상의 카르복실산을 갖는 다염기산 방향족 화합물의 글리시딜에스테르;Glycidyl esters of polybasic acid aromatic compounds having two or more carboxylic acids such as phthalic acid, terephthalic acid and trimellitic acid;

벤조산이나 톨루일산, 나프토에산 등의 벤조산류의 글리시딜에스테르;Glycidyl esters of benzoic acids such as benzoic acid, toluic acid and naphthoic acid;

스티렌옥사이드 또는 디비닐벤젠의 에폭시화물 등.Epoxides of styrene oxide or divinylbenzene;

경화성 조성물의 저점도화의 관점에서, 방향족 에폭시 화합물은, 페놀류의 글리시딜에테르, 알코올성 수산기를 2개 이상 갖는 방향족 화합물의 글리시딜에테르화물, 다가 페놀류의 글리시딜에테르화물, 벤조산류의 글리시딜에스테르, 다염기산류의 글리시딜에스테르, 스티렌옥사이드 또는 디비닐벤젠의 에폭시화물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 경화성 조성물의 경화성을 향상시키는 점에서, 방향족 에폭시 화합물로서는, 에폭시 당량이 80∼500인 것이 바람직하다. 1종의 방향족 에폭시 화합물을 단독으로 이용해도, 상이한 복수 종의 방향족 에폭시 화합물을 조합하여 이용해도 좋다.From the viewpoint of low viscosity of the curable composition, the aromatic epoxy compound is a glycidyl ether of a phenol, a glycidyl ether of an aromatic compound having two or more alcoholic hydroxyl groups, a glycidyl ether of a polyhydric phenol, and a glyc of benzoic acid. It is preferable to contain at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of a cydyl ester, glycidyl ester of polybasic acids, styrene oxide, or divinylbenzene. Moreover, as an aromatic epoxy compound, it is preferable that epoxy equivalent is 80-500 from the point which improves sclerosis | hardenability of a curable composition. One type of aromatic epoxy compound may be used alone, or a plurality of different types of aromatic epoxy compounds may be used in combination.

방향족 에폭시 화합물로서는, 시판품을 이용할 수 있다. 방향족 에폭시 화합물의 시판품의 상품명은, 예컨대, 데나콜 EX-121, 데나콜 EX-141, 데나콜 EX-142, 데나콜 EX-145, 데나콜 EX-146, 데나콜 EX-147, 데나콜 EX-201, 데나콜 EX-203, 데나콜 EX-711, 데나콜 EX-721, 온코트 EX-1020, 온코트 EX-1030, 온코트 EX-1040, 온코트 EX-1050, 온코트 EX-1051, 온코트 EX-1010, 온코트 EX-1011, 온코트 1012(이상, 나가세 켐텍스사 제조); 오그솔 PG-100, 오그솔 EG-200, 오그솔 EG-210, 오그솔 EG-250(이상, 오사카 가스 케미컬사 제조); HP4032, HP4032D, HP4700(이상, DIC사 제조); ESN-475V(신닛테츠 스미킨 가가쿠사 제조); 에피코트 YX8800(미쓰비시 가가쿠사 제조); 마프루프 G-0105SA, 마프루프 G-0130SP(니치유사 제조); 에피클론 N-665, 에피클론 HP-7200(이상, DIC사 제조); EOCN-1020, EOCN-102S, EOCN-103S, EOCN-104S, XD-1000, NC-3000, EPPN-501H, EPPN-501HY, EPPN-502H, NC-7000L(이상, 닛폰 가야쿠사 제조); 아데카 글리시롤 ED-501, 아데카 글리시롤 ED-502, 아데카 글리시롤 ED-509, 아데카 글리시롤 ED-529, 아데카 레진 EP-4000, 아데카 레진 EP-4005, 아데카 레진 EP-4100, 아데카 레진 EP-4901(이상, ADEKA사 제조); TECHMORE VG-3101L, EPOX-MKR710, EPOX-MKR151(이상, 프린텍사 제조) 등이다. A commercial item can be used as an aromatic epoxy compound. The brand name of the commercial item of an aromatic epoxy compound is Denacol EX-121, Denacol EX-141, Denacol EX-142, Denacol EX-145, Denacol EX-146, Denacol EX-147, Denacol EX -201, Denacol EX-203, Denacol EX-711, Denacol EX-721, Oncoat EX-1020, Oncoat EX-1030, Oncoat EX-1040, Oncoat EX-1050, Oncoat EX-1051 , On coat EX-1010, on coat EX-1011, on coat 1012 (above, manufactured by Nagase Chemtex); Ogsol PG-100, Ogsol EG-200, Ogsol EG-210, Ogsol EG-250 (above, the Osaka Gas Chemical Company make); HP4032, HP4032D, HP4700 (above, manufactured by DIC Corporation); ESN-475V (manufactured by Shinnitetsu Sumikin Kagaku Co., Ltd.); Epicoat YX8800 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation); Mapruf G-0105SA, mapruf G-0130SP (manufactured by Nichi Oil Co., Ltd.); Epiclone N-665, Epiclone HP-7200 (above, manufactured by DIC Corporation); EOCN-1020, EOCN-102S, EOCN-103S, EOCN-104S, XD-1000, NC-3000, EPPN-501H, EPPN-501HY, EPPN-502H, NC-7000L (above, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.); Adeka Glycerol ED-501, Adeka Glycyrrole ED-502, Adeka Glycyrrole ED-509, Adeka Glycerol ED-529, Adeka Resin EP-4000, Adeka Resin EP-4005, Adeka Resin EP-4100 and Adeka Resin EP-4901 (above, manufactured by ADEKA Corporation); TECHMORE VG-3101L, EPOX-MKR710, and EPOX-MKR151 (above, manufactured by Printtec).

경화성 수지 조성물이 방향족 에폭시 화합물을 포함함으로써, 경화성 수지 조성물이 소수성의 수지가 되고, 이에 의해 얻어지는 경화물층(수지층(9))도 소수성을 가질 수 있다. 그 결과, 고온 고습하에 있어서 외부로부터 편광판(1A) 내에의 수분의 침입이 억제되고, 편광자(7)에 포함되는 이색성 색소(요오드)의 이동이 효과적으로 억제된다.When curable resin composition contains an aromatic epoxy compound, curable resin composition turns into hydrophobic resin, and the hardened | cured material layer (resin layer 9) obtained by this can also have hydrophobicity. As a result, invasion of moisture into the polarizing plate 1A from the outside under high temperature and high humidity is suppressed, and the movement of the dichroic dye (iodine) contained in the polarizer 7 is effectively suppressed.

경화성 수지 조성물에 있어서, 에폭시계 화합물은, 각각 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다. 편광자(7)에 대한 밀착성이 우수한 수지층(9)이 얻어지는 점에서, 경화성 수지 조성물은, 적어도 지환식 에폭시계 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.In curable resin composition, an epoxy type compound may respectively be used independently and may use 2 or more types together. Since the resin layer 9 which is excellent in adhesiveness with respect to the polarizer 7 is obtained, it is preferable that curable resin composition contains an alicyclic epoxy-type compound at least.

에폭시계 화합물의 함유량은, 활성 에너지선 경화성 화합물의 전량을 기준으로, 30∼100 중량%, 바람직하게는 35∼70 중량%, 보다 바람직하게는 40∼60 중량%여도 좋다. 에폭시계 화합물의 함유량이 30 중량%를 하회하면, 편광자(7)와의 밀착성이 저하되는 경향이 있다.The content of the epoxy compound may be 30 to 100% by weight, preferably 35 to 70% by weight, more preferably 40 to 60% by weight based on the total amount of the active energy ray-curable compound. When content of an epoxy type compound is less than 30 weight%, there exists a tendency for adhesiveness with the polarizer 7 to fall.

또한, 경화성 수지 조성물에는, 상기한 에폭시계 화합물에 더하여, 옥세탄계 화합물을 배합해도 좋다. 옥세탄계 화합물을 첨가함으로써, 경화성 수지 조성물의 점도를 낮게 하고, 경화 속도를 빠르게 할 수 있다. 또한, 경화막의 황변을 방지하고, 광학 내구성을 향상시키는 효과도 기대된다.Moreover, in addition to said epoxy type compound, you may mix | blend an oxetane type compound with curable resin composition. By adding an oxetane type compound, the viscosity of curable resin composition can be made low and a cure rate can be made quick. Moreover, the effect of preventing yellowing of a cured film and improving optical durability is also anticipated.

옥세탄계 화합물은, 분자 내에 4원환 에테르를 갖는 화합물이다. 옥세탄계 화합물은, 예컨대, 3-에틸-3-히드록시메틸옥세탄, 1,4-비스〔(3-에틸 3-옥세타닐)메톡시메틸〕벤젠, 3-에틸-3-(페녹시메틸)옥세탄, 비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 3-에틸-3-(2-에틸헥실옥시메틸)옥세탄, 페놀노볼락옥세탄 등이다. 이들 옥세탄 화합물의 시판품을 용이하게 입수하는 것이 가능하다. 예컨대, 도아 고세이(주)로부터 판매되고 있는 옥세탄 화합물의 상품명은, "아론 옥세탄 OXT-101", "아론 옥세탄 OXT-121", "아론 옥세탄 OXT-211", "아론 옥세탄 OXT-221", "아론 옥세탄 OXT-212" 등이다. 옥세탄계 화합물의 배합량은 특별히 한정되지 않으나, 활성 에너지선 경화성 화합물의 전량을 기준으로, 70 중량% 이하, 바람직하게는 10∼50 중량%여도 좋다.An oxetane type compound is a compound which has a 4-membered ring ether in a molecule | numerator. The oxetane-based compound is, for example, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 1,4-bis [(3-ethyl 3-oxetanyl) methoxymethyl] benzene, 3-ethyl-3- (phenoxy Methyl) oxetane, bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane, phenol novolac oxetane and the like. It is possible to easily obtain the commercial item of these oxetane compounds. For example, the brand names of the oxetane compound sold from Toagosei Co., Ltd. are "Aron Oxetane OXT-101", "Aron Oxetane OXT-121", "Aron Oxetane OXT-211", "Aron Oxetane OXT" -221 "," Aron Oxetane OXT-212 ", and the like. Although the compounding quantity of an oxetane type compound is not specifically limited, Based on the whole quantity of an active-energy-ray-curable compound, 70 weight% or less, Preferably 10-50 weight% may be sufficient.

경화성 수지 조성물의 조성은, 중합성 화합물의 총량 100 질량%(경화성 수지 조성물 전체)에 대해,The composition of the curable resin composition is based on 100% by mass of the total amount of the polymerizable compound (the entire curable resin composition),

(A1) 2개 이상의 옥세타닐기를 갖는 옥세탄 화합물 35∼70 질량%,(A1) 35-70 mass% of the oxetane compound which has two or more oxetanyl groups,

(A2) 2개 이상의 에폭시기를 갖는 지방족 에폭시 화합물 0∼40 질량%,(A2) 0-40 mass% of aliphatic epoxy compounds which have two or more epoxy groups,

(A3) 2개 이상의 에폭시기를 갖는 지환식 에폭시 화합물 15∼50 질량%, 및(A3) 15-50 mass% of alicyclic epoxy compounds which have two or more epoxy groups, and

(A4) 하나 이상의 방향환을 갖는 방향족 에폭시 화합물 0∼20 질량%인 것이 바람직하다.(A4) It is preferable that it is 0-20 mass% of the aromatic epoxy compound which has one or more aromatic rings.

경화성 수지 조성물이, 옥세탄 화합물(A) 및 지환식 에폭시 화합물(B1)을 함유하는 경우, 옥세탄 화합물(A)의 함유량(WA)에 대한 지환식 에폭시 화합물(B1)의 함유량(WB1)의 질량비(WB1/WA)는, 0.05∼1.5인 것이 바람직하다.When curable resin composition contains an oxetane compound (A) and an alicyclic epoxy compound (B1), of content (WB1) of alicyclic epoxy compound (B1) with respect to content (WA) of an oxetane compound (A) It is preferable that mass ratio (WB1 / WA) is 0.05-1.5.

경화성 수지 조성물이, 옥세탄 화합물(A) 및 지방족 에폭시 화합물(B2)을 함유하는 경우, 옥세탄 화합물(A)의 함유량(WA)에 대한 지방족 에폭시 화합물(B2)의 함유량(WB2)의 질량비(WB2/WA)는, 0.1∼0.5인 것이 바람직하다.When curable resin composition contains an oxetane compound (A) and an aliphatic epoxy compound (B2), the mass ratio of content (WB2) of an aliphatic epoxy compound (B2) with respect to content (WA) of an oxetane compound (A) ( It is preferable that WB2 / WA) is 0.1-0.5.

경화성 수지 조성물이, 옥세탄 화합물(A) 및 방향족 에폭시 화합물(B3)을 함유하는 경우, 옥세탄 화합물(A)의 함유량(WA)에 대한 방향족 에폭시 화합물(B3)의 함유량(WB3)의 질량비(WB3/WA)는, 0.1∼1.5인 것이 바람직하다.When curable resin composition contains an oxetane compound (A) and an aromatic epoxy compound (B3), the mass ratio of content (WB3) of aromatic epoxy compound (B3) with respect to content (WA) of an oxetane compound (A) ( It is preferable that WB3 / WA) is 0.1-1.5.

(중합 개시제 그 1: 광양이온 중합 개시제)(Polymerization initiator 1: Photocationic polymerization initiator)

경화성 수지 조성물이, 에폭시계 화합물이나 옥세탄계 화합물과 같은 양이온 중합성 화합물을 포함하는 경우, 그 경화성 수지 조성물에는, 광양이온 중합 개시제를 배합하는 것이 바람직하다. 광양이온 중합 개시제를 사용함으로써, 상온에서의 수지층(9)의 형성이 가능해지기 때문에, 편광자(7)의 내열성이나 팽창에 의한 변형을 고려할 필요가 감소하고, 편광자(7)에 수지층(9)을 밀착시키기 쉽다. 또한, 광양이온 중합 개시제는, 광에 의해 촉매적으로 작용하기 때문에, 경화성 수지 조성물에 혼합해도 보존 안정성이나 작업성이 우수하다.When curable resin composition contains the cationically polymerizable compound like an epoxy compound and an oxetane type compound, it is preferable to mix | blend a photocationic polymerization initiator with this curable resin composition. By using a photocationic polymerization initiator, formation of the resin layer 9 at normal temperature becomes possible, and the necessity to consider the deformation | transformation by the heat resistance or expansion of the polarizer 7 is reduced, and the resin layer 9 is applied to the polarizer 7. ) Is easy to close. Moreover, since a photocationic polymerization initiator acts catalytically with light, even if it mixes with curable resin composition, it is excellent in storage stability and workability.

광양이온 중합 개시제는, 가시 광선, 자외선, X선, 전자선과 같은 활성 에너지선의 조사에 의해, 양이온종 또는 루이스산을 발생하여, 에폭시계 화합물 및/또는 옥세탄계 화합물의 중합 반응을 개시시키는 것이다. 작업성의 관점에서, 광양이온 중합 개시제에는 잠재성이 부여되어 있는 것이 바람직하다. 광양이온 중합 개시제에는, 예컨대, 방향족 디아조늄염; 방향족 요오도늄염이나 방향족 술포늄염과 같은 오늄염; 철-아렌 착체 등이 있다.A photocationic polymerization initiator generates a cationic species or Lewis acid by irradiation of active energy rays, such as visible light, an ultraviolet-ray, X-ray, and an electron beam, and starts the polymerization reaction of an epoxy type compound and / or an oxetane type compound. From the viewpoint of workability, it is preferable that the potential is imparted to the photocationic polymerization initiator. Examples of the photocationic polymerization initiator include aromatic diazonium salts; Onium salts such as aromatic iodonium salts and aromatic sulfonium salts; Iron-arene complexes;

방향족 디아조늄염의 구체예는, 이하와 같다.The specific example of aromatic diazonium salt is as follows.

벤젠디아조늄 헥사플루오로안티모네이트,Benzenediazonium hexafluoroantimonate,

벤젠디아조늄 헥사플루오로포스페이트,Benzenediazonium hexafluorophosphate,

벤젠디아조늄 헥사플루오로보레이트 등.Benzenediazonium hexafluoroborate and the like.

방향족 요오도늄염의 구체예는, 이하와 같다.The specific example of aromatic iodonium salt is as follows.

디페닐요오도늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트,Diphenyl iodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate,

디페닐요오도늄 헥사플루오로포스페이트,Diphenyl iodonium hexafluorophosphate,

디페닐요오도늄 헥사플루오로안티모네이트,Diphenyl iodonium hexafluoroantimonate,

비스(4-노닐페닐)요오도늄 헥사플루오로포스페이트 등.Bis (4-nonylphenyl) iodonium hexafluorophosphate and the like.

방향족 술포늄염의 구체예는, 이하와 같다.The specific example of aromatic sulfonium salt is as follows.

트리페닐술포늄 헥사플루오로포스페이트,Triphenylsulfonium hexafluorophosphate,

트리페닐술포늄 헥사플루오로안티모네이트,Triphenylsulfonium hexafluoroantimonate,

트리페닐술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트,Triphenylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate,

4,4'-비스(디페닐술포니오)디페닐술피드 비스헥사플루오로포스페이트,4,4'-bis (diphenylsulfonio) diphenylsulfide bishexafluorophosphate,

4,4'-비스〔디(β-히드록시에톡시)페닐술포니오〕디페닐술피드 비스헥사플루오로안티모네이트,4,4'-bis [di (β-hydroxyethoxy) phenylsulfonio] diphenylsulfide bishexafluoroantimonate,

4,4'-비스〔디(β-히드록시에톡시)페닐술포니오〕디페닐술피드 비스헥사플루오로포스페이트,4,4'-bis [di (β-hydroxyethoxy) phenylsulfonio] diphenylsulfide bishexafluorophosphate,

7-〔디(p-톨루일)술포니오〕-2-이소프로필티오크산톤 헥사플루오로안티모네이트,7- [di (p-toluyl) sulfonio] -2-isopropylthioxanthone hexafluoroantimonate,

7-〔디(p-톨루일)술포니오〕-2-이소프로필티오크산톤 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트,7- [di (p-toluyl) sulfonio] -2-isopropylthioxanthone tetrakis (pentafluorophenyl) borate,

4-페닐카르보닐-4'-디페닐술포니오디페닐술피드 헥사플루오로포스페이트,4-phenylcarbonyl-4'-diphenylsulfoniodiphenylsulfide hexafluorophosphate,

4-(p-tert-부틸페닐카르보닐)-4'-디페닐술포니오디페닐술피드 헥사플루오로안티모네이트,4- (p-tert-butylphenylcarbonyl) -4'-diphenylsulfoniodiphenylsulfide hexafluoroantimonate,

4-(p-tert-부틸페닐카르보닐)-4'-디(p-톨루일)술포니오디페닐술피드 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 등.4- (p-tert-butylphenylcarbonyl) -4'-di (p-toluyl) sulfoniodiphenylsulfide tetrakis (pentafluorophenyl) borate and the like.

또한, 철-아렌 착체로서는, 예컨대, 다음과 같은 화합물을 들 수 있다.Moreover, as an iron-arene complex, the following compounds are mentioned, for example.

크실렌-시클로펜타디에닐철(Ⅱ) 헥사플루오로안티모네이트,Xylene-cyclopentadienyl iron (II) hexafluoroantimonate,

쿠멘-시클로펜타디에닐철(Ⅱ) 헥사플루오로포스페이트,Cumene-cyclopentadienyl iron (II) hexafluorophosphate,

크실렌-시클로펜타디에닐철(Ⅱ) 트리스(트리플루오로메틸술포닐)메타나이드 등.Xylene-cyclopentadienyl iron (II) tris (trifluoromethylsulfonyl) metanide and the like.

이들 광양이온 중합 개시제의 시판품을 용이하게 입수하는 것이 가능하다. 광양이온 중합 개시제의 시판품의 상품명은, "카야라드 PCI-220" 및 "카야라드 PCI-620"〔이상, 닛폰 가야쿠(주) 제조〕, "아데카 옵토머 SP-150" 및 "아데카 옵토머 SP-170"〔이상, (주)ADEKA 제조〕, "UVACURE 1590"〔다이셀·사이텍(주) 제조〕, "CI-5102", "CIT-1370", "CIT-1682", "CIP-1866S", "CIP-2048S" 및 "CIP-2064S"〔이상, 닛폰 소다(주) 제조〕, "DPI-101", "DPI-102", "DPI-103", "DPI-105", "MPI-103", "MPI-105", "BBI-101", "BBI-102", "BBI-103", "BBI-105", "TPS-101", "TPS-102", "TPS-103", "TPS-105", "MDS-103", "MDS-105", "DTS-102" 및 "DTS-103"〔이상, 미도리 가가쿠(주) 제조〕, "UVI-6990"〔유니온 카바이드사 제조〕, "PI-2074"〔로디아사 제조〕 등이다.It is possible to easily obtain the commercial item of these photocationic polymerization initiators. Commercial names of photocationic polymerization initiators are "Kayarad PCI-220" and "Kayarad PCI-620" (above, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), "Adeka Optomer SP-150" and "Adeca" Optomer SP-170 "(above, manufactured by ADEKA Corporation)," UVACURE 1590 "(manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.)," CI-5102 "," CIT-1370 "," CIT-1682 "," CIP-1866S "," CIP-2048S "and" CIP-2064S "(above, manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.)," DPI-101 "," DPI-102 "," DPI-103 "," DPI-105 " , "MPI-103", "MPI-105", "BBI-101", "BBI-102", "BBI-103", "BBI-105", "TPS-101", "TPS-102", " TPS-103 "," TPS-105 "," MDS-103 "," MDS-105 "," DTS-102 "and" DTS-103 "(above, manufactured by Midori Kagaku Co., Ltd.)," UVI-6990 " "Union Carbide Co., Ltd.", "PI-2074" [Rodia Co., Ltd.], etc. are mentioned.

이들 광양이온 중합 개시제는, 각각 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다. 이들 중에서도 특히 방향족 술포늄염은, 300 ㎚ 이상의 파장 영역에서도 자외선 흡수 특성을 갖는 점에서, 경화성이 우수하고, 양호한 기계적 강도나 편광자(7)와의 양호한 밀착성을 갖는 경화물을 제공할 수 있기 때문에, 바람직하게 이용된다.These photocationic polymerization initiators may be used independently, respectively and may use 2 or more types together. Among these, in particular, the aromatic sulfonium salt is excellent in curability because it has ultraviolet absorbing properties even in a wavelength range of 300 nm or more, and can provide a cured product having good mechanical strength and good adhesion with the polarizer 7. Is used.

광양이온 중합 개시제의 배합량은, 에폭시계 화합물 및 옥세탄계 화합물을 포함하는 양이온 중합성 화합물의 합계 100 중량부에 대해, 0.5∼20 중량부, 바람직하게는 10 중량부 이하, 더욱 바람직하게는 1∼6 중량부여도 좋다. 광양이온 중합 개시제의 배합량이 적으면, 경화가 불충분하게 되어, 기계적 강도나 수지층(9)과 편광자(7)의 밀착성을 저하시키는 경향이 있다. 한편, 광양이온 중합 개시제의 배합량이 지나치게 많으면, 경화물 중의 이온성 물질이 증가함으로써 경화물의 흡습성이 높아져, 내구 성능이 저하될 가능성이 있다.The compounding quantity of a photocationic polymerization initiator is 0.5-20 weight part, Preferably it is 10 weight part or less, More preferably 1-, with respect to a total of 100 weight part of the cationically polymerizable compound containing an epoxy type compound and an oxetane type compound. 6 parts weight may be sufficient. When there is little compounding quantity of a photocationic polymerization initiator, hardening becomes inadequate and there exists a tendency for the mechanical strength and adhesiveness of the resin layer 9 and the polarizer 7 to fall. On the other hand, when the compounding quantity of a photocationic polymerization initiator is too big | large, the hygroscopicity of hardened | cured material becomes high by increasing the ionic substance in hardened | cured material, and there exists a possibility that durability performance may fall.

(활성 에너지선 경화성 화합물 그 2: 라디칼 중합성 화합물)(Active energy ray curable compound 2: 2: radically polymerizable compound)

본 발명에 이용되는 경화성 수지 조성물은, 전술한 에폭시계 화합물 등의 양이온 중합성 화합물에 더하여, 중합 개시제의 존재하에서 활성 에너지선의 조사에 의해 중합 가능한 라디칼 중합성 화합물을 함유해도 좋다. 또한, 라디칼 중합성 화합물만을 활성 에너지선 경화성 화합물로 하여, 경화성 수지 조성물을 구성할 수도 있다. 라디칼 중합성 화합물로서는, 분자 내에 (메트)아크릴로일옥시기를 적어도 1개 갖는 (메트)아크릴계 화합물이 적합하게 이용된다. 한편, (메트)아크릴계 화합물이란, 아크릴산에스테르 및 메타크릴산에스테르의 어느 것이어도 좋은 것을 의미하고, 그 외 본 명세서에 있어서, (메트)아크릴로일, (메트)아크릴레이트, (메트)아크릴산 등이라고 말할 때의 「(메트)」도 동일한 취지이다.Curable resin composition used for this invention may contain the radically polymerizable compound which can superpose | polymerize by irradiation of an active energy ray in presence of a polymerization initiator in addition to cationically polymerizable compounds, such as the epoxy-type compound mentioned above. Moreover, curable resin composition can also be comprised using only a radically polymerizable compound as an active energy ray curable compound. As a radically polymerizable compound, the (meth) acrylic-type compound which has at least 1 (meth) acryloyloxy group in a molecule | numerator is used suitably. In addition, a (meth) acrylic-type compound means that any of acrylic acid ester and methacrylic acid ester may be sufficient, In addition, in this specification, (meth) acryloyl, (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, etc. "(Meth)" when said is also the same meaning.

분자 내에 (메트)아크릴로일옥시기를 적어도 1개 갖는 (메트)아크릴계 화합물은, 분자 내에 (메트)아크릴로일옥시기를 적어도 1개 갖는 (메트)아크릴레이트 모노머나, 작용기를 갖는 화합물을 2종 이상 반응시켜 얻어지고, 분자 내에 적어도 2개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 (메트)아크릴레이트 올리고머 등을 포함한다. 이하에, 이들 모노머나 올리고머를 구체적으로 설명하는데, 이들은 각각 단독으로 이용할 수 있는 것 외에, 소망에 의해 2종 이상을 조합하여 이용할 수도 있다. 2종 이상의 조합에는, 모노머끼리의 조합, 및 올리고머끼리의 조합이 포함되는 것 외에, 모노머의 1종 또는 2종 이상과 올리고머의 1종 또는 2종 이상과의 조합도 포함된다.The (meth) acrylic compound having at least one (meth) acryloyloxy group in a molecule has two kinds of a (meth) acrylate monomer having at least one (meth) acryloyloxy group in a molecule or a compound having a functional group. It is obtained by making it react above, and contains the (meth) acrylate oligomer etc. which have at least 2 (meth) acryloyloxy group in a molecule | numerator. Although these monomers and oligomers are demonstrated concretely below, these can be used individually, respectively, and can also be used in combination of 2 or more type as needed. The combination of two or more types includes combinations of monomers and combinations of oligomers, and also includes a combination of one or two or more kinds of monomers and one or two or more kinds of oligomers.

(메트)아크릴레이트 모노머에는, 분자 내에 (메트)아크릴로일옥시기를 1개 갖는 단작용 (메트)아크릴레이트 모노머, 분자 내에 (메트)아크릴로일옥시기를 2개 갖는 2작용 (메트)아크릴레이트 모노머, 및 분자 내에 (메트)아크릴로일옥시기를 3개 이상 갖는 다작용 (메트)아크릴레이트 모노머가 있다.In the (meth) acrylate monomer, a monofunctional (meth) acrylate monomer having one (meth) acryloyloxy group in a molecule, a bifunctional (meth) acrylate having two (meth) acryloyloxy groups in a molecule There exists a monomer and the polyfunctional (meth) acrylate monomer which has three or more (meth) acryloyloxy groups in a molecule | numerator.

단작용 (메트)아크릴레이트 모노머의 구체예는, 이하와 같다.The specific example of a monofunctional (meth) acrylate monomer is as follows.

테트라히드로푸르푸릴 (메트)아크릴레이트,Tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate,

2-히드록시에틸 (메트)아크릴레이트,2-hydroxyethyl (meth) acrylate,

2- 또는 3-히드록시프로필 (메트)아크릴레이트,2- or 3-hydroxypropyl (meth) acrylate,

2-히드록시부틸 (메트)아크릴레이트,2-hydroxybutyl (meth) acrylate,

2-히드록시-3-페녹시프로필 (메트)아크릴레이트,2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate,

이소부틸 (메트)아크릴레이트,Isobutyl (meth) acrylate,

tert-부틸 (메트)아크릴레이트,tert-butyl (meth) acrylate,

2-에틸헥실 (메트)아크릴레이트,2-ethylhexyl (meth) acrylate,

시클로헥실 (메트)아크릴레이트,Cyclohexyl (meth) acrylate,

디시클로펜테닐 (메트)아크릴레이트,Dicyclopentenyl (meth) acrylate,

벤질 (메트)아크릴레이트,Benzyl (meth) acrylate,

이소보르닐 (메트)아크릴레이트,Isobornyl (meth) acrylate,

2-페녹시에틸 (메트)아크릴레이트,2-phenoxyethyl (meth) acrylate,

디시클로펜테닐옥시에틸 (메트)아크릴레이트,Dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate,

N,N-디메틸-2-아미노에틸 (메트)아크릴레이트,N, N-dimethyl-2-aminoethyl (meth) acrylate,

에틸카르비톨 (메트)아크릴레이트,Ethyl carbitol (meth) acrylate,

트리메틸올프로판 모노(메트)아크릴레이트,Trimethylolpropane mono (meth) acrylate,

펜타에리스리톨 모노(메트)아크릴레이트,Pentaerythritol mono (meth) acrylate,

페녹시폴리에틸렌글리콜 (메트)아크릴레이트 등.Phenoxy polyethylene glycol (meth) acrylates and the like.

또한, (메트)아크릴로일옥시기 1개와 함께 카르복실기를 분자 내에 갖는 화합물도, 단작용 (메트)아크릴레이트 모노머가 될 수 있다. 카르복실기를 갖는 단작용 (메트)아크릴레이트 모노머의 구체예는, 이하와 같다.Moreover, the compound which has a carboxyl group in a molecule with one (meth) acryloyloxy group can also be a monofunctional (meth) acrylate monomer. The specific example of the monofunctional (meth) acrylate monomer which has a carboxyl group is as follows.

2-(메트)아크릴로일옥시에틸프탈산,2- (meth) acryloyloxyethyl phthalic acid,

2-(메트)아크릴로일옥시에틸헥사히드로프탈산,2- (meth) acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid,

2-카르복시에틸 (메트)아크릴레이트,2-carboxyethyl (meth) acrylate,

2-(메트)아크릴로일옥시에틸숙신산,2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid,

4-(메트)아크릴로일옥시에틸트리멜리트산 등.4- (meth) acryloyloxyethyl trimellitic acid and the like.

여러 가지의 2작용 (메트)아크릴레이트 모노머가 있다. 대표적인 2작용 (메트)아크릴레이트 모노머는, 알킬렌글리콜디(메트)아크릴레이트류, 폴리옥시알킬렌글리콜디(메트)아크릴레이트류, 할로겐 치환 알킬렌글리콜디(메트)아크릴레이트류, 지방족 폴리올의 디(메트)아크릴레이트류, 수소 첨가 디시클로펜타디엔 또는 트리시클로데칸디알칸올의 디(메트)아크릴레이트류, 디옥산글리콜 또는 디옥산디알칸올의 디(메트)아크릴레이트류, 비스페놀 A 또는 비스페놀 F의 알킬렌옥사이드 부가물의 디(메트)아크릴레이트류, 비스페놀 A 또는 비스페놀 F의 에폭시디(메트)아크릴레이트류 등이다.There are several difunctional (meth) acrylate monomers. Representative bifunctional (meth) acrylate monomers include alkylene glycol di (meth) acrylates, polyoxyalkylene glycol di (meth) acrylates, halogen substituted alkylene glycol di (meth) acrylates, and aliphatic polyols Di (meth) acrylates, di (meth) acrylates of hydrogenated dicyclopentadiene or tricyclodecanedialkanol, di (meth) acrylates of dioxane glycol or dioxanedialkanol, bisphenol A or Di (meth) acrylates of alkylene oxide adducts of bisphenol F, bisphenol A or epoxy di (meth) acrylates of bisphenol F;

2작용 (메트)아크릴레이트 모노머의 구체예는, 이하와 같다.The specific example of a bifunctional (meth) acrylate monomer is as follows.

에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트,Ethylene glycol di (meth) acrylate,

1,3-부탄디올 디(메트)아크릴레이트,1,3-butanediol di (meth) acrylate,

1,4-부탄디올 디(메트)아크릴레이트,1,4-butanediol di (meth) acrylate,

1,6-헥산디올 디(메트)아크릴레이트,1,6-hexanediol di (meth) acrylate,

1,9-노난디올 디(메트)아크릴레이트,1,9-nonanediol di (meth) acrylate,

네오펜틸글리콜 디(메트)아크릴레이트,Neopentylglycol di (meth) acrylate,

트리메틸올프로판 디(메트)아크릴레이트,Trimethylolpropane di (meth) acrylate,

펜타에리스리톨 디(메트)아크릴레이트,Pentaerythritol di (meth) acrylate,

디트리메틸올프로판 디(메트)아크릴레이트,Ditrimethylolpropane di (meth) acrylate,

디에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트,Diethylene glycol di (meth) acrylate,

트리에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트,Triethylene glycol di (meth) acrylate,

디프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트,Dipropylene glycol di (meth) acrylate,

트리프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트,Tripropylene glycol di (meth) acrylate,

폴리에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트,Polyethylene glycol di (meth) acrylate,

폴리프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트,Polypropylene glycol di (meth) acrylate,

폴리테트라메틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트,Polytetramethylene glycol di (meth) acrylate,

히드록시피발산네오펜틸글리콜에스테르의 디(메트)아크릴레이트,Di (meth) acrylate of hydroxy pivalate neopentyl glycol ester,

2,2-비스[4-{2-(2-(메트)아크릴로일옥시에톡시)에톡시}페닐]프로판,2,2-bis [4- {2- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) ethoxy} phenyl] propane,

2,2-비스[4-{2-(2-(메트)아크릴로일옥시에톡시)에톡시}시클로헥실]프로판,2,2-bis [4- {2- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) ethoxy} cyclohexyl] propane,

수소 첨가 디시클로펜타디에닐 디(메트)아크릴레이트,Hydrogenated dicyclopentadienyl di (meth) acrylate,

트리시클로데칸디메탄올 디(메트)아크릴레이트,Tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate,

1,3-디옥산-2,5-디일 디(메트)아크릴레이트〔별명: 디옥산글리콜디(메트)아크릴레이트〕,1,3-dioxane-2,5-diyl di (meth) acrylate [alias: dioxane glycol di (meth) acrylate],

히드록시피발알데히드와 트리메틸올프로판과의 아세탈 화합물〔화학명: 2-(2-히드록시-1,1-디메틸에틸)-5-에틸-5-히드록시메틸-1,3-디옥산〕의 디(메트)아크릴레이트, Di of Acetal Compound [Chemical Name: 2- (2-hydroxy-1,1-dimethylethyl) -5-ethyl-5-hydroxymethyl-1,3-dioxane] of hydroxypivalaldehyde and trimethylolpropane (Meth) acrylate,

1,3,5-트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트의 디(메트)아크릴레이트 등.Di (meth) acrylate of 1,3,5-tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate and the like.

3작용 이상의 다작용 (메트)아크릴레이트 모노머에도 여러 가지의 것이 있다. 예컨대, 3가 이상의 지방족 폴리올의 폴리(메트)아크릴레이트가 대표적이다. 그 구체예는, 다음과 같다.There exist various things in the trifunctional or more than trifunctional (meth) acrylate monomer. For example, poly (meth) acrylates of trivalent or higher aliphatic polyols are representative. The specific example is as follows.

글리세린 트리(메트)아크릴레이트,Glycerin tri (meth) acrylate,

트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트,Trimethylolpropane tri (meth) acrylate,

디트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트,Ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate,

디트리메틸올프로판 테트라(메트)아크릴레이트,Ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate,

펜타에리스리톨 트리(메트)아크릴레이트,Pentaerythritol tri (meth) acrylate,

펜타에리스리톨 테트라(메트)아크릴레이트,Pentaerythritol tetra (meth) acrylate,

디펜타에리스리톨 테트라(메트)아크릴레이트,Dipentaerythritol tetra (meth) acrylate,

디펜타에리스리톨 펜타(메트)아크릴레이트,Dipentaerythritol penta (meth) acrylate,

디펜타에리스리톨 헥사(메트)아크릴레이트 등.Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and the like.

그 외에, 3가 이상의 할로겐 치환 폴리올의 폴리(메트)아크릴레이트, 글리세린의 알킬렌옥사이드 부가물의 트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판의 알킬렌옥사이드 부가물의 트리(메트)아크릴레이트, 1,1,1-트리스[2-{2-(메트)아크릴로일옥시에톡시}에톡시]프로판, 1,3,5-트리스[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]이소시아누레이트 등도, 다작용 (메트)아크릴레이트 모노머가 될 수 있다.In addition, poly (meth) acrylate of trivalent or more halogen-substituted polyol, tri (meth) acrylate of alkylene oxide adduct of glycerin, tri (meth) acrylate of alkylene oxide adduct of trimethylolpropane, 1,1 , 1-tris [2- {2- (meth) acryloyloxyethoxy} ethoxy] propane, 1,3,5-tris [2- (meth) acryloyloxyethyl] isocyanurate and the like, Multifunctional (meth) acrylate monomers.

한편, (메트)아크릴레이트 올리고머는, 예컨대, 우레탄(메트)아크릴레이트 올리고머, 폴리에스테르(메트)아크릴레이트 올리고머, 에폭시(메트)아크릴레이트 올리고머 등이다.In addition, a (meth) acrylate oligomer is a urethane (meth) acrylate oligomer, polyester (meth) acrylate oligomer, epoxy (meth) acrylate oligomer, etc., for example.

우레탄(메트)아크릴레이트 올리고머란, 분자 내에 (메트)아크릴로일옥시기를 적어도 2개 갖고, 우레탄 결합(-NHCOO-)을 갖는 화합물을 말한다. 우레탄(메트)아크릴레이트 올리고머는, 예컨대, 분자 내에 적어도 1개의 (메트)아크릴로일옥시기 및 1개의 수산기를 각각 갖는 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 모노머와 폴리이소시아네이트와의 우레탄화 반응 생성물이어도 좋다. 우레탄(메트)아크릴레이트 올리고머는, 예컨대, 폴리올류를 폴리이소시아네이트와 반응시켜 얻어지는 말단 이소시아네이트기 함유 우레탄 화합물과, 분자 내에 적어도 1개의 (메트)아크릴로일옥시기 및 1개의 수산기를 각각 갖는 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 모노머와의 우레탄화 반응 생성물이어도 좋다.A urethane (meth) acrylate oligomer means the compound which has at least two (meth) acryloyloxy groups in a molecule | numerator, and has a urethane bond (-NHCOO-). The urethane (meth) acrylate oligomer may be, for example, a urethanization reaction product of a hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer having at least one (meth) acryloyloxy group and one hydroxyl group in a molecule and a polyisocyanate. The urethane (meth) acrylate oligomer contains, for example, a terminal isocyanate group-containing urethane compound obtained by reacting polyols with a polyisocyanate, and a hydroxyl group each having at least one (meth) acryloyloxy group and one hydroxyl group in the molecule ( The urethanation reaction product with a meth) acrylate monomer may be sufficient.

상기 우레탄화 반응에 이용되는 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 모노머의 구체예는, 다음과 같다.The specific example of the hydroxyl group containing (meth) acrylate monomer used for the said urethanation reaction is as follows.

2-히드록시에틸 (메트)아크릴레이트,2-hydroxyethyl (meth) acrylate,

2-히드록시프로필 (메트)아크릴레이트,2-hydroxypropyl (meth) acrylate,

2-히드록시부틸 (메트)아크릴레이트,2-hydroxybutyl (meth) acrylate,

2-히드록시-3-페녹시프로필 (메트)아크릴레이트,2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate,

글리세린 디(메트)아크릴레이트,Glycerin di (meth) acrylate,

트리메틸올프로판 디(메트)아크릴레이트,Trimethylolpropane di (meth) acrylate,

펜타에리스리톨 트리(메트)아크릴레이트,Pentaerythritol tri (meth) acrylate,

디펜타에리스리톨 펜타(메트)아크릴레이트 등.Dipentaerythritol penta (meth) acrylate and the like.

수산기 함유 (메트)아크릴레이트 모노머와의 우레탄화 반응에 제공되는 폴리이소시아네이트의 구체예는, 다음과 같다.The specific example of the polyisocyanate provided for the urethanation reaction with a hydroxyl-containing (meth) acrylate monomer is as follows.

헥사메틸렌디이소시아네이트,Hexamethylene diisocyanate,

리신디이소시아네이트,Lysine diisocyanate,

이소포론디이소시아네이트,Isophorone diisocyanate,

디시클로헥실메탄디이소시아네이트,Dicyclohexyl methane diisocyanate,

톨릴렌디이소시아네이트,Tolylene diisocyanate,

크실릴렌디이소시아네이트,Xylylene diisocyanate,

방향족 디이소시아네이트류를 수소 첨가하여 얻어지는 화합물, 예컨대, 수소 첨가 톨릴렌디이소시아네이트나, 수소 첨가 크실릴렌디이소시아네이트,Compounds obtained by hydrogenating aromatic diisocyanates such as hydrogenated tolylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate,

트리페닐메탄트리이소시아네이트, Triphenylmethanetriisocyanate,

디벤질벤젠트리이소시아네이트,Dibenzylbenzenetriisocyanate,

이들 중 디이소시아네이트류를 다량화시켜 얻어지는 폴리이소시아네이트 등.Polyisocyanate etc. which are obtained by multiplying diisocyanate among these.

또한, 폴리이소시아네이트와의 반응에 의해 말단 이소시아네이트기 함유 우레탄 화합물을 제조하기 위한 폴리올류는, 지방족 및 지환식의 폴리올, 폴리에스테르폴리올, 폴리에테르폴리올 등이어도 좋다. 지방족 및 지환식의 폴리올은, 예컨대, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 펜타에리스리톨, 디펜타에리스리톨, 디메틸올헵탄, 디메틸올프로피온산, 디메틸올부티르산, 글리세린, 수소 첨가 비스페놀 A 등이다.The polyols for producing terminal isocyanate group-containing urethane compounds by reaction with polyisocyanate may be aliphatic and alicyclic polyols, polyester polyols, polyether polyols and the like. Aliphatic and alicyclic polyols are, for example, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, trimethylol ethane, trimethylolpropane, di Trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, dimethylolheptane, dimethylolpropionic acid, dimethylolbutyric acid, glycerin, hydrogenated bisphenol A and the like.

폴리에스테르폴리올은, 상기한 폴리올류에 다염기성 카르복실산 또는 그 무수물을 탈수 축합 반응시킴으로써 얻어지는 화합물이다. 다염기성 카르복실산 및 그 무수물의 구체예는, (무수)숙신산, 아디프산, (무수)말레산, (무수)이타콘산, (무수)트리멜리트산, (무수)피로멜리트산, 헥사히드로(무수)프탈산, (무수)프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산 등이 있다. 다염기성 카르복실산은 무수물이 아니어도 좋다.Polyester polyol is a compound obtained by dehydrating condensation reaction of polybasic carboxylic acid or its anhydride with said polyol. Specific examples of the polybasic carboxylic acid and its anhydride include (anhydride) succinic acid, adipic acid, (anhydride) maleic acid, (anhydrous) itaconic acid, (anhydrous) trimellitic acid, (anhydrous) pyromellitic acid, hexahydro (Anhydrous) phthalic acid, (anhydride) phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid and the like. The polybasic carboxylic acid may not be an anhydride.

폴리에테르폴리올은, 폴리알킬렌글리콜이어도 좋고, 또한, 상기한 폴리올류 또는 비스페놀류에 알킬렌옥사이드를 반응시킴으로써 얻어지는 폴리옥시알킬렌 변성 폴리올이어도 좋다.The polyether polyol may be a polyalkylene glycol or may be a polyoxyalkylene-modified polyol obtained by reacting an alkylene oxide with the above-described polyols or bisphenols.

폴리에스테르(메트)아크릴레이트 올리고머란, 분자 내에 (메트)아크릴로일옥시기를 적어도 2개 갖고, 에스테르 결합을 갖는 화합물을 말한다. (메트)아크릴산, 다염기성 카르복실산 또는 그 무수물, 및 폴리올의 탈수 축합 반응에 의해, 폴리에스테르(메트)아크릴레이트 올리고머를 얻을 수 있다. 탈수 축합 반응에 이용되는 다염기성 카르복실산 또는 그 무수물의 구체예는, (무수)숙신산, 아디프산, (무수)말레산, (무수)이타콘산, (무수)트리멜리트산, (무수)피로멜리트산, 헥사히드로(무수)프탈산, (무수)프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산 등이다. 다염기성 카르복실산의 무수물이 아니어도 좋다. 또한 탈수 축합 반응에 이용되는 폴리올의 구체예는, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 펜타에리스리톨, 디펜타에리스리톨, 디메틸올헵탄, 디메틸올프로피온산, 디메틸올부티르산, 글리세린, 수소 첨가 비스페놀 A 등이다.The polyester (meth) acrylate oligomer means a compound having at least two (meth) acryloyloxy groups in a molecule and having an ester bond. Polyester (meth) acrylate oligomer can be obtained by the dehydration condensation reaction of (meth) acrylic acid, polybasic carboxylic acid or its anhydride, and a polyol. Specific examples of the polybasic carboxylic acid or anhydride thereof used in the dehydration condensation reaction include (anhydride) succinic acid, adipic acid, (anhydrous) maleic acid, (anhydrous) itaconic acid, (anhydrous) trimellitic acid, and (anhydrous) Pyromellitic acid, hexahydro (anhydrous) phthalic acid, (anhydrous) phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid and the like. It does not need to be an anhydride of polybasic carboxylic acid. Specific examples of the polyol used in the dehydration condensation reaction include 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, trimethylol ethane and trimethylol. Propane, ditrimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, dimethylolheptane, dimethylolpropionic acid, dimethylolbutyric acid, glycerin, hydrogenated bisphenol A and the like.

에폭시(메트)아크릴레이트 올리고머란, 폴리글리시딜에테르와 (메트)아크릴산의 부가 반응에 의해 얻어지는 것이며, 분자 내에 적어도 2개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖고 있다. 이 부가 반응에 이용되는 폴리글리시딜에테르의 구체예는, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 트리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 비스페놀 A 디글리시딜에테르 등이다.An epoxy (meth) acrylate oligomer is obtained by addition reaction of polyglycidyl ether and (meth) acrylic acid, and has at least two (meth) acryloyloxy groups in a molecule | numerator. Specific examples of the polyglycidyl ether used for this addition reaction include ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, and 1,6-hexanediol diglycid. Dimethyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, and the like.

전술한 (메트)아크릴계 화합물 중에서도, 밀착성과 탄성률이 모두 우수한 점에서, 이하의 식 (Ⅰ)∼(Ⅳ)로 나타나는 (메트)아크릴계 화합물의 적어도 어느 1종이 특히 바람직하다.Among the above-mentioned (meth) acrylic compounds, at least one kind of the (meth) acrylic compound represented by the following formulas (I) to (IV) is particularly preferable from the viewpoint of excellent adhesion and elastic modulus.

Figure pct00003
Figure pct00003

상기 식 (Ⅰ) 및 (Ⅱ)에 있어서, Q1 및 Q2는 서로 독립적으로, (메트)아크릴로일옥시기 또는 (메트)아크릴로일옥시알킬기를 나타낸다. Q1 또는 Q2가 (메트)아크릴로일옥시알킬기인 경우, 그 알킬은 직쇄여도 분기되어 있어도 좋고, 1∼10의 탄소수를 가질 수 있으나, 일반적으로는 1∼6 정도의 탄소수로 충분하다. 또한 식 (Ⅱ)에 있어서, Q는 수소 또는 탄소수 1∼10의 탄화수소기이고, 이 탄화수소기는 직쇄여도 분기되어 있어도 좋으며, 전형적으로는 알킬기일 수 있다. 이 경우의 알킬기의 탄소수도 1∼6 정도로 충분하다.In the formulas (I) and (II), Q 1 and Q 2 each independently represent a (meth) acryloyloxy group or a (meth) acryloyloxyalkyl group. When Q 1 or Q 2 is a (meth) acryloyloxyalkyl group, the alkyl may be linear or branched, and may have 1 to 10 carbon atoms, but in general, about 1 to 6 carbon atoms are sufficient. In formula (II), Q is hydrogen or a C1-C10 hydrocarbon group, and this hydrocarbon group may be linear or branched, and may be an alkyl group typically. In this case, carbon number of the alkyl group is also sufficient as 1-6.

한편, 상기 식 (Ⅲ)에 있어서, R1, R2 및 R3은 서로 독립적으로, (메트)아크릴로일옥시기를 나타내고, 식 (Ⅳ)에 있어서, R은 수산기 또는 (메트)아크릴로일옥시기를 나타낸다.In Formula (III), R 1 , R 2, and R 3 independently represent a (meth) acryloyloxy group, and in Formula (IV), R represents a hydroxyl group or (meth) acryloyl jade. Indicate the time.

식 (Ⅰ)로 표시되는 화합물은, 수소 첨가 디시클로펜타디엔 또는 트리시클로데칸디알칸올의 디(메트)아크릴레이트 유도체이다. 식 (Ⅰ)로 표시되는 화합물의 구체예는, 수소 첨가 디시클로펜타디에닐 디(메트)아크릴레이트〔식 (Ⅰ)에 있어서, Q1 및 Q2의 양방이 동일한 (메트)아크릴로일옥시기인 화합물〕, 트리시클로데칸디메탄올 디(메트)아크릴레이트〔식 (Ⅰ)에 있어서, Q1 및 Q2의 양방이 동일한 (메트)아크릴로일옥시메틸기인 화합물〕 등이다.The compound represented by Formula (I) is a di (meth) acrylate derivative of hydrogenated dicyclopentadiene or tricyclodecanedialkanol. Specific examples of the compound represented by formula (I) include hydrogenated dicyclopentadienyl di (meth) acrylate [In formula (I), both of Q 1 and Q 2 are the same (meth) acryloyloxy group. Phosphorus compound] and tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate [the compound which is both the same (meth) acryloyloxymethyl group in Q <1> and Q <2> in Formula (I)].

식 (Ⅱ)로 표시되는 화합물은, 디옥산글리콜 또는 디옥산디알칸올의 디(메트)아크릴레이트 유도체이다. 식 (Ⅱ)로 표시되는 화합물의 구체예로서는, 1,3-디옥산-2,5-디일 디(메트)아크릴레이트〔별명: 디옥산글리콜디(메트)아크릴레이트, 식 (Ⅱ)에 있어서, Q1 및 Q2의 양방이 동일한 (메트)아크릴로일옥시기이고, Q와 H가 동일한 화합물〕, 히드록시피발알데히드와 트리메틸올프로판과의 아세탈 화합물〔화학명: 2-(2-히드록시-1,1-디메틸에틸)-5-에틸-5-히드록시메틸-1,3-디옥산〕의 디(메트)아크릴레이트〔식 (Ⅱ)에 있어서, Q1이 (메트)아크릴로일옥시메틸기, Q2가 2-(메트)아크릴로일옥시-1,1-디메틸에틸기, Q가 에틸기인 화합물〕 등이다.The compound represented by formula (II) is a di (meth) acrylate derivative of dioxane glycol or dioxane dialkanol. As a specific example of a compound represented by Formula (II), 1, 3- dioxane-2, 5- diyl di (meth) acrylate [alias: dioxane glycol di (meth) acrylate, in formula (II), A compound in which both Q 1 and Q 2 are the same (meth) acryloyloxy group and Q and H are the same], and an acetal compound of hydroxypivalaldehyde and trimethylolpropane [chemical name: 2- (2-hydroxy-1 In the di (meth) acrylate [formula (II) of 1,3-dimethylethyl) -5-ethyl-5-hydroxymethyl-1,3-dioxane], Q 1 is a (meth) acryloyloxymethyl group , Q 2 is a 2- (meth) acryloyloxy-1,1-dimethylethyl group, and Q is an ethyl group].

식 (Ⅲ)으로 표시되는 화합물은, 1,3,5-트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트의 트리아크릴레이트 또는 트리메타아크릴레이트이다. 또한, 식 (Ⅳ)로 표시되는 화합물은, 펜타에리스리톨의 트리- 또는 테트라- (메트)아크릴레이트이고, 그 구체예는, 펜타에리스리톨 트리(메트)아크릴레이트 및 펜타에리스리톨 테트라(메트)아크릴레이트이다.The compound represented by Formula (III) is triacrylate or trimethacrylate of 1,3,5-tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate. In addition, the compound represented by Formula (IV) is tri- or tetra- (meth) acrylate of pentaerythritol, and the specific example is pentaerythritol tri (meth) acrylate and pentaerythritol tetra (meth) acrylate. .

(메트)아크릴계 화합물은, 적어도 에폭시계 화합물과 병용하는 것이 바람직하다. (메트)아크릴계 화합물의 함유량은, 활성 에너지선 경화성 화합물 전체의 양을 기준으로, 70 중량% 이하, 바람직하게는 35∼70 중량%, 특히 바람직하게는 40∼60 중량%여도 좋다. 활성 에너지선 경화성 화합물 중 (메트)아크릴계 화합물의 함유량이 70 중량%를 초과하면, 편광자(7)와의 밀착성이 저하되는 경향이 있다.It is preferable to use a (meth) acrylic compound together with an epoxy compound at least. The content of the (meth) acrylic compound may be 70% by weight or less, preferably 35 to 70% by weight, particularly preferably 40 to 60% by weight, based on the total amount of the active energy ray-curable compound. When content of the (meth) acrylic-type compound in an active energy ray curable compound exceeds 70 weight%, there exists a tendency for adhesiveness with the polarizer 7 to fall.

(중합 개시제 그 2: 광라디칼 중합 개시제)(Polymerization Initiator 2: Optical Radical Polymerization Initiator)

활성 에너지선 경화성 화합물이, (메트)아크릴계 화합물과 같은 라디칼 중합성 화합물을 함유하는 경우에는, 중합 개시제로서 광라디칼 중합 개시제를 배합하는 것이 바람직하다. 광라디칼 중합 개시제는, 활성 에너지선의 조사에 의해 라디칼 중합성 화합물의 경화를 개시할 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않고, 종래 공지된 것을 이용할 수 있다. 광라디칼 중합 개시제의 구체예는, 아세토페논, 3-메틸아세토페논, 벤질디메틸케탈, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온 및 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온과 같은 아세토페논계 개시제; 벤조페논, 4-클로로벤조페논 및 4,4'-디아미노벤조페논과 같은 벤조페논계 개시제; 벤조인프로필에테르 및 벤조인에틸에테르와 같은 벤조인에테르계 개시제; 4-이소프로필티오크산톤과 같은 티오크산톤계 개시제; 그 외, 크산톤, 플루오레논, 캄파퀴논, 벤즈알데히드, 안트라퀴논 등이다.When an active energy ray curable compound contains radically polymerizable compounds like the (meth) acrylic compound, it is preferable to mix | blend an optical radical polymerization initiator as a polymerization initiator. The radical photopolymerization initiator is not particularly limited as long as curing of the radically polymerizable compound can be initiated by irradiation of an active energy ray, and a conventionally known one can be used. Specific examples of the radical photopolymerization initiator include acetophenone, 3-methylacetophenone, benzyl dimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, and 2-methyl- Acetophenone-based initiators such as 1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one; Benzophenone-based initiators such as benzophenone, 4-chlorobenzophenone and 4,4'-diaminobenzophenone; Benzoin ether-based initiators such as benzoin propyl ether and benzoin ethyl ether; Thioxanthone initiators such as 4-isopropyl thioxanthone; In addition, xanthone, fluorenone, camphor quinone, benzaldehyde, anthraquinone and the like.

광라디칼 중합 개시제의 배합량은, (메트)아크릴계 화합물과 같은 라디칼 중합성 화합물 100 중량부에 대해, 0.5∼20 중량부, 바람직하게는 10 중량부 이하, 더욱 바람직하게는 1∼6 중량부여도 좋다. 광라디칼 중합 개시제의 양이 적으면, 경화가 불충분하게 되어, 기계적 강도나 수지층(9)과 편광자(7)의 밀착성이 저하되는 경향이 있다. 한편, 광라디칼 중합 개시제의 양이 지나치게 많으면, 경화성 수지 조성물 중의 활성 에너지선 경화성 화합물의 양이 상대적으로 적어져, 수지층(9)의 내구 성능이 저하될 가능성이 있다.The compounding quantity of the radical photopolymerization initiator may be 0.5 to 20 parts by weight, preferably 10 parts by weight or less, and more preferably 1 to 6 parts by weight with respect to 100 parts by weight of a radically polymerizable compound such as a (meth) acrylic compound. . When there is little quantity of radical photopolymerization initiator, hardening becomes inadequate and there exists a tendency for the mechanical strength and adhesiveness of the resin layer 9 and the polarizer 7 to fall. On the other hand, when there is too much quantity of a radical photopolymerization initiator, the quantity of the active energy ray curable compound in curable resin composition will become comparatively small, and there exists a possibility that the durability performance of the resin layer 9 may fall.

경화성 수지 조성물은, 필요에 따라 또한 광증감제를 함유할 수 있다. 광증감제를 사용함으로써, 양이온 중합 및/또는 라디칼 중합의 반응성이 향상되어, 수지층(9)의 기계적 강도나 수지층(9)과 편광자(7)의 밀착성을 향상시킬 수 있다. 광증감제는, 예컨대, 카르보닐 화합물, 유기 황 화합물, 과황화물, 레독스계 화합물, 아조 화합물, 디아조 화합물, 할로겐 화합물, 광환원성 색소 등이다. 광증감제는, 벤조인메틸에테르, 벤조인이소프로필에테르 및 α,α-디메톡시-α-페닐아세토페논과 같은 벤조인 유도체; 벤조페논, 2,4-디클로로벤조페논, o-벤조일벤조산메틸, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논 및 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논과 같은 벤조페논 유도체; 2-클로로티오크산톤 및 2-이소프로필티오크산톤과 같은 티오크산톤 유도체; 2-클로로안트라퀴논 및 2-메틸안트라퀴논과 같은 안트라퀴논 유도체; N-메틸아크리돈 및 N-부틸아크리돈과 같은 아크리돈 유도체; 그 외, α,α-디에톡시아세토페논, 벤질, 플루오레논, 크산톤, 우라닐 화합물 등이다. 이들 광증감제는, 각각 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상의 광증감제를 혼합하여 사용해도 좋다. 광증감제의 함유량은, 활성 에너지선 경화성 화합물 전체 100 중량부에 대해, 0.1∼20 중량부여도 좋다.Curable resin composition can contain a photosensitizer further as needed. By using a photosensitizer, the reactivity of cationic polymerization and / or radical polymerization can be improved, and the mechanical strength of the resin layer 9 and the adhesiveness of the resin layer 9 and the polarizer 7 can be improved. The photosensitizer is, for example, a carbonyl compound, an organic sulfur compound, a persulfide, a redox compound, an azo compound, a diazo compound, a halogen compound, a photoreducing dye, and the like. Photosensitizers include benzoin derivatives such as benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether and α, α-dimethoxy-α-phenylacetophenone; Benzophenone derivatives such as benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone; Thioxanthone derivatives such as 2-chlorothioxanthone and 2-isopropyl thioxanthone; Anthraquinone derivatives such as 2-chloroanthraquinone and 2-methylanthraquinone; Acridon derivatives such as N-methylacridone and N-butylacridone; In addition, (alpha), (alpha)-diethoxy acetophenone, benzyl, fluorenone, xanthone, a uranil compound, etc. These photosensitizers may be used independently, respectively, and may mix and use 2 or more types of photosensitizers. 0.1-20 weight part of content of a photosensitizer may be sufficient with respect to 100 weight part of whole active energy ray curable compounds.

(경화성 수지 조성물의 임의 성분)(Optional component of the curable resin composition)

또한, 경화성 수지 조성물은, 편광판에 대전 방지 성능을 부여하기 위한 대전 방지제를 함유해도 좋다. 대전 방지제는, 예컨대, 양이온 계면 활성제, 음이온 계면 활성제, 비이온 계면 활성제, 상기 양이온 계면 활성제 이외의 유기 양이온을 갖는 이온성 화합물, 상기 음이온 계면 활성제 이외의 유기 음이온을 갖는 이온성 화합물, 도전성 무기 입자, 도전성 고분자 등이어도 좋다. 이들 대전 방지제의 배합 비율은, 소망으로 하는 특성에 맞춰 적절히 결정할 수 있다. 대전 방지제의 배합 비율은, 활성 에너지선 경화성 화합물 전체를 100 중량부로 하여, 0.1∼20 중량부 정도여도 좋다.Moreover, curable resin composition may contain the antistatic agent for giving antistatic performance to a polarizing plate. The antistatic agent is, for example, a cationic surfactant, an anionic surfactant, a nonionic surfactant, an ionic compound having an organic cation other than the cationic surfactant, an ionic compound having an organic anion other than the anionic surfactant, conductive inorganic particles And a conductive polymer may be used. The compounding ratio of these antistatic agents can be suitably determined according to the desired characteristic. The compounding ratio of the antistatic agent may be about 0.1 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the entire active energy ray curable compound.

경화성 수지 조성물에는, 고분자 재료에 통상 사용되고 있는 첨가제를 배합할 수도 있다. 예컨대, 페놀계나 아민계와 같은 일차 산화 방지제, 황계의 이차 산화 방지제, 힌더드 아민계 광안정제(HALS), 벤조페논계나 벤조트리아졸계, 벤조에이트계와 같은 자외선 흡수제 등을 들 수 있다.You may mix | blend the additive normally used for a polymeric material with curable resin composition. For example, primary antioxidants such as phenolic or amine based, sulfur secondary antioxidants, hindered amine light stabilizers (HALS), ultraviolet absorbers such as benzophenone based, benzotriazole based, and benzoate based.

경화성 수지 조성물에는, 레벨링제를 배합할 수도 있다. 이 경화성 수지 조성물을 편광자(7) 또는 기재 필름 상에 도포할 때에, 편광자(7)나 기재 필름에의 젖음성이 부족한 경우나, 경화물의 표면성이 나쁜 경우에는, 레벨링제를 배합함으로써, 이들의 문제를 개선할 수 있다. 레벨링제는, 실리콘계 레벨링제, 불소계 레벨링제, 폴리에테르계 레벨링제, 아크릴산 공중합물계 레벨링제, 티타네이트계 레벨링제여도 좋다. 이들 레벨링제는, 각각 단독으로 이용해도 좋고, 2종류 이상 혼합하여 이용해도 좋다. 레벨링제의 배합 비율은, 활성 에너지선 경화성 화합물 100 중량부에 대해, 0.01∼1 중량부, 바람직하게는 0.1∼0.7 중량부, 보다 바람직하게는 0.2∼0.5 중량부여도 좋다. 레벨링제의 배합량이 적으면, 젖음성이나 표면성의 개선 효과가 충분히 발휘되기 어렵다. 한편, 그 배합량이 지나치게 많으면, 편광자(7)와 수지층(9)의 밀착성을 저하시키는 경우가 있다.You may mix | blend a leveling agent with curable resin composition. When apply | coating this curable resin composition on the polarizer 7 or a base film, when the wettability to the polarizer 7 and a base film is insufficient, or when the surface property of hardened | cured material is bad, by mixing a leveling agent, these You can improve the problem. The leveling agent may be a silicone leveling agent, a fluorine leveling agent, a polyether leveling agent, an acrylic acid copolymer type leveling agent, or a titanate leveling agent. These leveling agents may be used independently, respectively, and may mix and use two or more types. The blending ratio of the leveling agent may be 0.01 to 1 part by weight, preferably 0.1 to 0.7 part by weight, and more preferably 0.2 to 0.5 part by weight based on 100 parts by weight of the active energy ray curable compound. When there is little compounding quantity of a leveling agent, the wettability and surface improvement effect will not fully be exhibited. On the other hand, when there is too much compounding quantity, the adhesiveness of the polarizer 7 and the resin layer 9 may fall.

또한 경화성 수지 조성물에는, 미립자, 예컨대 실리카 미립자를 배합해도 좋다. 미립자, 특히 실리카 미립자를 배합함으로써, 얻어지는 수지층(9)의 경도 및 기계적 강도를 보다 향상시킬 수 있다. 실리카 미립자는, 예컨대, 유기 용제에 분산된 액상물로서 경화성 수지 조성물에 배합할 수 있다. 유기 용제에 분산된 실리카 미립자를 이용하는 경우, 유기 용제 중의 실리카 농도는, 예컨대 20∼40 중량% 정도여도 좋다.Moreover, you may mix | blend microparticles | fine-particles, such as a silica microparticle, with curable resin composition. By mix | blending microparticles | fine-particles, especially a silica microparticle, the hardness and mechanical strength of the resin layer 9 obtained can be improved more. Silica microparticles | fine-particles can be mix | blended with curable resin composition as a liquid substance disperse | distributed to the organic solvent, for example. When using the silica fine particles dispersed in the organic solvent, the silica concentration in the organic solvent may be, for example, about 20 to 40% by weight.

실리카 미립자는, 그 표면에, 수산기, 에폭시기, (메트)아크릴로일기, 비닐기 등의 반응성 작용기를 갖고 있어도 좋다. 실리카 미립자의 입경(粒徑)은, 통상 100 ㎚ 이하, 바람직하게는 5∼50 ㎚ 정도여도 좋다. 미립자의 입경이 100 ㎚를 초과하면, 광학적으로 투명한 수지층(9)이 얻어지기 어려운 경향이 있다.The silica fine particles may have reactive functional groups, such as a hydroxyl group, an epoxy group, a (meth) acryloyl group, and a vinyl group, on the surface. The particle size of the silica fine particles is usually 100 nm or less, preferably about 5 to 50 nm. When the particle diameter of the fine particles exceeds 100 nm, the optically transparent resin layer 9 tends to be difficult to be obtained.

실리카 미립자의 배합 비율은, 활성 에너지선 경화성 화합물 100 중량부에 대해, 5∼250 중량부, 바람직하게는 10∼100 중량부여도 좋다. 미립자의 배합량이 적으면, 그 첨가에 의한 수지층(9)의 경도 향상 효과가 충분히 발휘되기 어렵다. 한편, 미립자의 배합량이 지나치게 많으면, 편광자(7)와 수지층(9)의 밀착성을 저하시키는 경우가 있고, 또한, 경화성 수지 조성물 중에 있어서의 미립자의 분산 안정성을 저하시키거나, 그 경화성 수지 조성물의 점도를 과도하게 상승시키거나 하는 경우가 있다.The blending ratio of the silica fine particles may be 5 to 250 parts by weight, preferably 10 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the active energy ray curable compound. When the compounding quantity of microparticles | fine-particles is small, the hardness improvement effect of the resin layer 9 by the addition is hard to fully exhibit. On the other hand, when there are too many compounding quantities of microparticles | fine-particles, the adhesiveness of the polarizer 7 and the resin layer 9 may fall, and also the dispersion stability of the microparticles | fine-particles in curable resin composition may be reduced, or of the curable resin composition The viscosity may be excessively increased.

경화성 수지 조성물은, 필요에 따라 용제를 함유해도 좋다. 용제는, 경화성 수지 조성물을 구성하는 성분의 용해성에 따라, 적절히 선택된다. 용제는, n-헥산이나 시클로헥산과 같은 지방족 탄화수소류; 톨루엔이나 크실렌과 같은 방향족 탄화수소류; 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올 및 부탄올과 같은 알코올류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 및 시클로헥사논과 같은 케톤류; 아세트산메틸, 아세트산에틸 및 아세트산부틸과 같은 에스테르류; 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브 및 부틸셀로솔브와 같은 셀로솔브류; 염화메틸렌이나 클로로포름과 같은 할로겐화 탄화수소류 등이다. 용제의 배합 비율은, 성막성(成膜性) 등의 가공상의 목적에 의한 점도 조정 등의 관점에서, 적절히 결정된다.Curable resin composition may contain a solvent as needed. A solvent is suitably selected according to the solubility of the component which comprises curable resin composition. The solvent includes aliphatic hydrocarbons such as n-hexane and cyclohexane; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol and butanol; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; Esters such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate; Cellosolves such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve and butyl cellosolve; Halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform; The compounding ratio of a solvent is suitably determined from a viewpoint of viscosity adjustment by the processing objectives, such as film-forming property.

편광자(7)는, 연신, 염색 및 가교 등의 공정에 의해 제작된 필름형의 폴리비닐알코올계 수지(PVA 필름)여도 좋다. 편광자(7)의 상세한 것은 이하와 같다.The polarizer 7 may be a film-type polyvinyl alcohol-based resin (PVA film) produced by a process such as stretching, dyeing and crosslinking. The detail of the polarizer 7 is as follows.

예컨대, 먼저, PVA 필름을, 일축 방향 또는 이축 방향으로 연신한다. 일축 방향으로 연신된 편광자(7)의 이색비는 높은 경향이 있다. 연신에 이어서, 염색액을 이용하여, PVA 필름을 요오드, 이색성 색소(폴리요오드) 또는 유기 염료에 의해 염색한다. 염색액은, 붕산, 황산아연, 또는 염화아연을 포함하고 있어도 좋다. 염색 전에 PVA 필름을 수세(水洗)해도 좋다. 수세에 의해, PVA 필름의 표면으로부터, 오물 및 블로킹 방지제가 제거된다. 또한 수세에 의해 PVA 필름이 팽윤하는 결과, 염색의 얼룩(불균일한 염색)이 억제되기 쉽다. 염색 후의 PVA 필름을, 가교를 위해서, 가교제의 용액(예컨대, 붕산의 수용액)으로 처리한다. 가교제에 의한 처리 후, PVA 필름을 수세하고, 계속해서 건조한다. 이상의 순서를 거쳐, 편광자(7)가 얻어진다. 폴리비닐알코올계 수지는, 폴리아세트산비닐계 수지를 비누화함으로써 얻어진다. 폴리아세트산비닐계 수지는, 예컨대, 아세트산비닐의 단독 중합체인 폴리아세트산비닐, 또는, 아세트산비닐과 다른 단량체와의 공중합체(예컨대, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체)여도 좋다. 아세트산비닐과 공중합하는 다른 단량체는, 에틸렌 외에, 불포화 카르복실산류, 올레핀류, 비닐에테르류, 불포화 술폰산류, 또는 암모늄기를 갖는 아크릴아미드류여도 좋다. 폴리비닐알코올계 수지는, 알데히드류로 변성되어 있어도 좋다. 변성된 폴리비닐알코올계 수지는, 예컨대, 부분 포르말화 폴리비닐알코올, 폴리비닐아세탈, 또는 폴리비닐부티랄이어도 좋다. 폴리비닐알코올계 수지는, 폴리비닐알코올의 탈수 처리물, 또는 폴리염화비닐의 탈염산 처리물 등의 폴리엔계 배향 필름이어도 좋다. 연신 전에 염색을 행해도 좋고, 염색액 중에서 연신을 행해도 좋다. 연신된 편광자(7)의 길이는, 예컨대, 연신 전의 길이의 3∼7배여도 좋다.For example, first, a PVA film is stretched in the uniaxial direction or the biaxial direction. The dichroic ratio of the polarizer 7 extended in the uniaxial direction tends to be high. Following stretching, the dyeing solution is used to dye the PVA film with iodine, dichroic dye (polyiodine) or organic dye. The dyeing solution may contain boric acid, zinc sulfate, or zinc chloride. You may wash with water a PVA film before dyeing. By washing with water, dirt and an antiblocking agent are removed from the surface of a PVA film. Moreover, as a result of swelling of the PVA film by washing with water, unevenness (uniform dyeing) of dyeing is easily suppressed. The PVA film after dyeing is treated with a solution of a crosslinking agent (for example, an aqueous solution of boric acid) for crosslinking. After the treatment with the crosslinking agent, the PVA film is washed with water and subsequently dried. Through the above procedure, the polarizer 7 is obtained. Polyvinyl alcohol-type resin is obtained by saponifying polyvinyl acetate type resin. Polyvinyl acetate type resin may be polyvinyl acetate which is a homopolymer of vinyl acetate, or the copolymer (for example, ethylene-vinyl acetate copolymer) of vinyl acetate and another monomer may be sufficient as it. The other monomer copolymerized with vinyl acetate may be unsaturated carboxylic acids, olefins, vinyl ethers, unsaturated sulfonic acids, or acrylamides having an ammonium group in addition to ethylene. The polyvinyl alcohol-based resin may be modified with aldehydes. The modified polyvinyl alcohol-based resin may be, for example, partially formalized polyvinyl alcohol, polyvinyl acetal, or polyvinyl butyral. The polyvinyl alcohol-based resin may be a polyene-based alignment film such as a dehydrated product of polyvinyl alcohol or a dehydrochloric acid treated product of polyvinyl chloride. You may dye before extending | stretching, and you may extend | stretch in a dyeing liquid. The length of the stretched polarizer 7 may be 3 to 7 times the length before stretching, for example.

편광자(7)의 두께는, 예컨대, 50 ㎛ 이하, 30 ㎛ 이하, 15 ㎛ 이하, 10 ㎛ 이하, 또는 8 ㎛ 이하여도 좋다. 편광자(7)가 얇을수록, 온도 변화에 따르는 편광자(7) 자체의 수축이 억제되어, 편광자(7) 자체의 치수의 변화가 억제된다. 그 결과, 응력이 편광자(7)에 작용하기 어렵고, 편광자(7)에 있어서의 크랙이 억제되기 쉽다. 또한, 필름(편광자(7))의 취급성의 관점에서, 편광자(7)의 두께는, 통상, 1 ㎛ 이상이어도 좋고, 4 ㎛ 이상이어도 좋다.The thickness of the polarizer 7 may be 50 µm or less, 30 µm or less, 15 µm or less, 10 µm or less, or 8 µm or less, for example. As the polarizer 7 is thinner, the shrinkage of the polarizer 7 itself due to the temperature change is suppressed, and the change in the dimension of the polarizer 7 itself is suppressed. As a result, stress hardly acts on the polarizer 7, and the crack in the polarizer 7 is easily suppressed. In addition, 1 micrometer or more may be sufficient as the thickness of the polarizer 7 from a viewpoint of the handleability of the film (polarizer 7), and 4 micrometers or more may be sufficient as it.

제1 보호 필름(5)은, 투광성을 갖는 열가소성 수지이면 되고, 광학적으로 투명한 열가소성 수지여도 좋다. 제1 보호 필름(5)을 구성하는 수지는, 예컨대, 쇄상 폴리올레핀계 수지, 환상 올레핀 폴리머계 수지(COP계 수지), 셀룰로오스에스테르계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리카보네이트계 수지, (메트)아크릴계 수지, 폴리스티렌계 수지, 또는 이들의 혼합물 혹은 공중합체여도 좋다.The first protective film 5 may be a thermoplastic resin having light transmittance, and may be an optically transparent thermoplastic resin. Resin which comprises the 1st protective film 5 is chain polyolefin type resin, cyclic olefin polymer type resin (COP type resin), cellulose ester type resin, polyester type resin, polycarbonate type resin, (meth) acrylic type, for example. Resin, polystyrene resin, or a mixture or copolymer thereof may be sufficient.

쇄상 폴리올레핀계 수지는, 예컨대, 폴리에틸렌 수지 또는 폴리프로필렌 수지와 같은 쇄상 올레핀의 단독 중합체여도 좋다. 쇄상 폴리올레핀계 수지는, 2종 이상의 쇄상 올레핀으로 이루어지는 공중합체여도 좋다.The linear polyolefin resin may be, for example, a homopolymer of a chain olefin such as polyethylene resin or polypropylene resin. The linear polyolefin resin may be a copolymer composed of two or more kinds of chain olefins.

환상 올레핀 폴리머계 수지(환상 폴리올레핀계 수지)는, 예컨대, 환상 올레핀의 개환 (공)중합체, 또는 환상 올레핀의 부가 중합체여도 좋다. 환상 올레핀 폴리머계 수지는, 예컨대, 환상 올레핀과 쇄상 올레핀의 공중합체(예컨대, 랜덤 공중합체)여도 좋다. 공중합체를 구성하는 쇄상 올레핀은, 예컨대, 에틸렌 또는 프로필렌이어도 좋다. 환상 올레핀 폴리머계 수지는, 상기한 중합체를 불포화 카르복실산 혹은 그 유도체로 변성한 그라프트 중합체, 또는 이들의 수소화물이어도 좋다. 환상 올레핀 폴리머계 수지는, 예컨대, 노르보르넨 또는 다환 노르보르넨계 모노머 등의 노르보르넨계 모노머를 이용한 노르보르넨계 수지여도 좋다.The cyclic olefin polymer resin (cyclic polyolefin resin) may be, for example, a ring-opening (co) polymer of a cyclic olefin or an addition polymer of a cyclic olefin. The cyclic olefin polymer resin may be, for example, a copolymer of a cyclic olefin and a chain olefin (for example, a random copolymer). The chain olefin constituting the copolymer may be, for example, ethylene or propylene. The cyclic olefin polymer-based resin may be a graft polymer obtained by modifying the above polymer with an unsaturated carboxylic acid or a derivative thereof, or a hydride thereof. The cyclic olefin polymer resin may be, for example, norbornene-based resin using a norbornene-based monomer such as norbornene or a polycyclic norbornene-based monomer.

셀룰로오스에스테르계 수지는, 예컨대, 셀룰로오스트리아세테이트(트리아세틸셀룰로오스(TAC)), 셀룰로오스디아세테이트, 셀룰로오스트리프로피오네이트 또는 셀룰로오스디프로피오네이트여도 좋다. 이들의 공중합물을 이용해도 좋다. 수산기의 일부가 다른 치환기로 수식된 셀룰로오스에스테르계 수지를 이용해도 좋다.The cellulose ester resin may be, for example, cellulose triacetate (triacetyl cellulose (TAC)), cellulose diacetate, cellulose tripropionate or cellulose dipropionate. You may use these copolymers. You may use the cellulose-ester type resin in which one part of hydroxyl groups was modified by the other substituent.

셀룰로오스에스테르계 수지 이외의 폴리에스테르계 수지를 이용해도 좋다. 폴리에스테르계 수지는, 예컨대, 다가 카르복실산 또는 그 유도체와 다가 알코올과의 중축합체여도 좋다. 다가 카르복실산 또는 그 유도체는, 디카르복실산 또는 그 유도체여도 좋다. 다가 카르복실산 또는 그 유도체는, 예컨대, 테레프탈산, 이소프탈산, 디메틸테레프탈레이트, 또는 나프탈렌디카르복실산디메틸이어도 좋다. 다가 알코올은, 예컨대, 디올이어도 좋다. 다가 알코올은, 예컨대, 에틸렌글리콜, 프로판디올, 부탄디올, 네오펜틸글리콜, 또는 시클로헥산디메탄올이어도 좋다.You may use polyester-type resin other than cellulose-ester type resin. The polyester resin may be, for example, a polycondensate of a polyhydric carboxylic acid or a derivative thereof and a polyhydric alcohol. Dicarboxylic acid or its derivative (s) may be polyhydric carboxylic acid or its derivative (s). The polyhydric carboxylic acid or derivatives thereof may be, for example, terephthalic acid, isophthalic acid, dimethyl terephthalate, or dimethyl naphthalenedicarboxylic acid. The polyhydric alcohol may be, for example, diol. The polyhydric alcohol may be, for example, ethylene glycol, propanediol, butanediol, neopentylglycol, or cyclohexanedimethanol.

폴리에스테르계 수지는, 예컨대, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌나프탈레이트, 폴리트리메틸렌테레프탈레이트, 폴리트리메틸렌나프탈레이트, 폴리시클로헥산디메틸테레프탈레이트, 또는 폴리시클로헥산디메틸나프탈레이트여도 좋다.The polyester-based resin is, for example, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene naphthalate, polytrimethylene terephthalate, polytrimethylenenaphthalate, polycyclohexanedimethylterephthalate, or polycyclohexane Dimethyl naphthalate may be sufficient.

폴리카보네이트계 수지는, 카보네이트기를 통해 중합 단위(모노머)가 결합된 중합체이다. 폴리카보네이트계 수지는, 수식된 폴리머 골격을 갖는 변성 폴리카보네이트여도 좋고, 공중합 폴리카보네이트여도 좋다.Polycarbonate resin is a polymer in which a polymerization unit (monomer) is bonded via a carbonate group. The polycarbonate resin may be a modified polycarbonate having a modified polymer skeleton or may be a copolymerized polycarbonate.

(메트)아크릴계 수지는, 예컨대, 폴리(메트)아크릴산에스테르(예컨대, 폴리메타크릴산메틸(PMMA)); 메타크릴산메틸-(메트)아크릴산 공중합체; 메타크릴산메틸-(메트)아크릴산에스테르 공중합체; 메타크릴산메틸-아크릴산에스테르-(메트)아크릴산 공중합체; (메트)아크릴산메틸-스티렌 공중합체(예컨대, MS 수지); 메타크릴산메틸과 지환족 탄화수소기를 갖는 화합물과의 공중합체(예컨대, 메타크릴산메틸-메타크릴산시클로헥실 공중합체, 메타크릴산메틸-(메트)아크릴산노르보르닐 공중합체 등)여도 좋다.Examples of the (meth) acrylic resins include poly (meth) acrylic acid esters (eg, polymethyl methacrylate (PMMA)); Methyl methacrylate- (meth) acrylic acid copolymer; Methyl methacrylate- (meth) acrylic acid ester copolymer; Methyl methacrylate-acrylic acid ester- (meth) acrylic acid copolymer; Methyl (meth) acrylate-styrene copolymers (eg, MS resin); A copolymer of methyl methacrylate with a compound having an alicyclic hydrocarbon group (for example, methyl methacrylate-cyclohexyl copolymer, methyl methacrylate-norbornyl copolymer, etc.) may be used.

제1 보호 필름(5)은, 활제(滑劑), 가소제, 분산제, 열 안정제, 자외선 흡수제, 적외선 흡수제, 대전 방지제, 및 산화 방지제로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 첨가제를 포함해도 좋다.The 1st protective film 5 may also contain the at least 1 sort (s) of additive chosen from the group which consists of a lubricating agent, a plasticizer, a dispersing agent, a heat stabilizer, a ultraviolet absorber, an infrared absorber, an antistatic agent, and antioxidant.

제1 보호 필름(5)의 두께는, 예컨대, 5 ㎛ 이상 90 ㎛ 이하, 5 ㎛ 이상 80 ㎛ 이하, 또는 5 ㎛ 이상 50 ㎛ 이하여도 좋다.The thickness of the 1st protective film 5 may be 5 micrometers or more and 90 micrometers or less, 5 micrometers or more and 80 micrometers or less, or 5 micrometers or more and 50 micrometers or less, for example.

수지층(9)의 두께는, 예컨대, 0.5 ㎛ 이상 20 ㎛ 이하, 1 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하, 또는 1 ㎛ 이상 5 ㎛ 이하여도 좋다. 수지층(9)의 두께가 상기 하한값 이상인 경우, 편광자(7)로부터 타층(예컨대 점착층(11))으로의 이색성 색소의 이동을 유효하게 억제할 수 있다. 수지층(9)의 두께가 상기 상한값 이하인 경우, 경화성 조성물을 충분히 경화시킬 수 있다.The thickness of the resin layer 9 may be, for example, 0.5 µm or more and 20 µm or less, 1 µm or more and 10 µm or less, or 1 µm or more and 5 µm or less. When the thickness of the resin layer 9 is more than the said lower limit, the movement of the dichroic dye from the polarizer 7 to another layer (for example, the adhesion layer 11) can be suppressed effectively. When the thickness of the resin layer 9 is below the said upper limit, the curable composition can be fully hardened.

제1 보호 필름(5)은, 위상차 필름 또는 휘도 향상 필름과 같이, 광학 기능을 갖는 필름이어도 좋다. 예컨대, 상기 열가소성 수지로 이루어지는 필름을 연신하거나, 상기 필름 상에 액정층 등을 형성하거나 함으로써, 임의의 위상차값이 부여된 위상차 필름이 얻어진다.The first protective film 5 may be a film having an optical function, such as a retardation film or a brightness enhancing film. For example, the retardation film to which arbitrary phase difference value was provided is obtained by extending | stretching the film which consists of said thermoplastic resins, or forming a liquid crystal layer etc. on the said film.

제1 보호 필름(5)은, 접착층을 통해, 편광자(7)에 접합되어 있어도 좋다. 접착층은, 폴리비닐알코올 등의 수계 접착제를 포함해도 좋고, 활성 에너지선 경화성 수지를 포함해도 좋다.The first protective film 5 may be bonded to the polarizer 7 via an adhesive layer. The adhesive layer may contain an aqueous adhesive such as polyvinyl alcohol, or may contain an active energy ray curable resin.

활성 에너지선 경화성 수지는, 활성 에너지선을 조사함으로써, 경화하는 수지이다. 활성 에너지선은, 예컨대, 자외선, 가시광, 전자선, 또는 X선이어도 좋다. 활성 에너지선 경화성 수지는, 자외선 경화성 수지여도 좋다.Active energy ray curable resin is resin which hardens | cures by irradiating an active energy ray. The active energy ray may be, for example, ultraviolet rays, visible light, electron beams or X-rays. The active energy ray curable resin may be an ultraviolet curable resin.

활성 에너지선 경화성 수지는, 1종의 수지여도 좋고, 복수 종의 수지를 포함해도 좋다. 예컨대, 활성 에너지선 경화성 수지는, 양이온 중합성의 경화성 화합물, 또는 라디칼 중합성의 경화성 화합물을 포함해도 좋다. 활성 에너지선 경화성 수지는, 상기 경화성 화합물의 경화 반응을 개시시키기 위한 양이온 중합 개시제 또는 라디칼 중합 개시제를 포함해도 좋다.1 type of resin may be sufficient as active energy ray curable resin, and may contain multiple types of resin. For example, active energy ray curable resin may contain a cationically polymerizable curable compound or a radically polymerizable curable compound. Active-energy-ray-curable resin may also contain the cationic polymerization initiator or radical polymerization initiator for starting hardening reaction of the said curable compound.

양이온 중합성의 경화성 화합물은, 예컨대, 에폭시계 화합물(분자 내에 적어도 하나의 에폭시기를 갖는 화합물), 또는 옥세탄계 화합물(분자 내에 적어도 하나의 옥세탄환을 갖는 화합물)이어도 좋다. 라디칼 중합성의 경화성 화합물은, 예컨대, (메트)아크릴계 화합물(분자 내에 적어도 하나의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 화합물)이어도 좋다. 라디칼 중합성의 경화성 화합물은, 라디칼 중합성의 이중 결합을 갖는 비닐계 화합물이어도 좋다.The cationically polymerizable curable compound may be, for example, an epoxy compound (a compound having at least one epoxy group in a molecule) or an oxetane compound (a compound having at least one oxetane ring in a molecule). The radically polymerizable curable compound may be, for example, a (meth) acrylic compound (a compound having at least one (meth) acryloyloxy group in a molecule). The radically polymerizable curable compound may be a vinyl compound having a radically polymerizable double bond.

활성 에너지선 경화성 수지는, 필요에 따라, 양이온 중합 촉진제, 이온 트랩제, 산화 방지제, 연쇄 이동제, 점착 부여제, 열가소성 수지, 충전제, 유동 조정제, 가소제, 소포제, 대전 방지제, 레벨링제, 또는 용제 등을 포함해도 좋다.The active energy ray-curable resin may be a cationic polymerization accelerator, an ion trapping agent, an antioxidant, a chain transfer agent, a tackifier, a thermoplastic resin, a filler, a flow regulator, a plasticizer, an antifoaming agent, an antistatic agent, a leveling agent, a solvent, or the like, as necessary. It may include.

점착층(11)은, 예컨대, 아크릴계 감압형 접착제, 고무계 감압형 접착제, 실리콘계 감압형 접착제, 또는 우레탄계 감압형 접착제 등의 감압형 접착제를 포함해도 좋다. 점착층(11)의 두께는, 예컨대, 2 ㎛ 이상 500 ㎛ 이하, 2 ㎛ 이상 200 ㎛ 이하, 또는 2 ㎛ 이상 50 ㎛ 이하여도 좋다.The adhesion layer 11 may contain pressure sensitive adhesives, such as an acrylic pressure sensitive adhesive, a rubber pressure sensitive adhesive, a silicone pressure sensitive adhesive, or a urethane type pressure sensitive adhesive, for example. The thickness of the adhesion layer 11 may be 2 micrometers or more and 500 micrometers or less, 2 micrometers or more and 200 micrometers or less, or 2 micrometers or more and 50 micrometers or less, for example.

제2 보호 필름(3)을 구성하는 수지는, 제1 보호 필름(5)을 구성하는 수지로서 열거된 상기한 수지와 동일해도 좋다. 제2 보호 필름(3)의 두께는, 예컨대, 5 ㎛ 이상 200 ㎛ 이하여도 좋다.Resin which comprises the 2nd protective film 3 may be the same as the above-mentioned resin enumerated as resin which comprises the 1st protective film 5. The thickness of the 2nd protective film 3 may be 5 micrometers or more and 200 micrometers or less, for example.

이형 필름(13)을 구성하는 수지는, 제1 보호 필름(5)을 구성하는 수지로서 열거된 상기한 수지와 동일해도 좋다. 이형 필름(13)의 두께는, 예컨대, 5 ㎛ 이상 200 ㎛ 이하여도 좋다.Resin which comprises the release film 13 may be the same as the above-mentioned resin enumerated as resin which comprises the 1st protective film 5. The thickness of the release film 13 may be 5 micrometers or more and 200 micrometers or less, for example.

본 발명에 따른 화상 표시 장치는, 예컨대, 액정 표시 장치 또는 유기 EL 표시 장치 등이어도 좋다. 예컨대, 도 3에 도시된 바와 같이, 제1 실시형태에 따른 액정 표시 장치(30A)는, 액정 셀(10)과, 액정 셀(10)의 한쪽의 표면(제1 표면)에 겹쳐지는 편광판(1Aa)(제1 편광판)을 구비한다. 도 3에 도시된 편광판(1Aa)은, 이형 필름(13) 및 제2 보호 필름(3)을 구비하지 않는 점을 제외하고, 도 1에 도시된 편광판(1A)과 동일하다. 편광판(1Aa)(제1 편광판)은, 점착층(11)을 통해, 액정 셀(10)의 제1 표면에 접착되어 있다. 편광판(1Aa)(프론트측 편광판)은, 액정 셀(10)의 제1 표면에 겹쳐지는 점착층(11)과, 점착층(11)에 겹쳐지는 수지층(9)과, 수지층(9)에 겹쳐지는 편광자(7)와, 편광자(7)에 겹쳐지는 제1 보호 필름(5)을 갖는다. 다른 편광판(리어측 편광판)이, 액정 셀(10)의 제2 표면에 접착되어 있어도 좋다. 액정 셀(10)과, 편광판(1Aa)(프론트측 편광판)과, 다른 편광판(리어측 편광판)이, 하나의 액정 패널(20A)을 구성해도 좋다. 액정 패널(20A)과, 백라이트(면광원 장치) 그 외의 부재가, 액정 표시 장치(30A)를 구성한다. 백라이트 그 외의 부재는, 도 3에 있어서 생략한다.The image display device according to the present invention may be, for example, a liquid crystal display device or an organic EL display device. For example, as shown in FIG. 3, the liquid crystal display device 30A according to the first embodiment includes a polarizing plate overlapping the liquid crystal cell 10 and one surface (first surface) of the liquid crystal cell 10. 1Aa) (1st polarizing plate) is provided. The polarizing plate 1Aa shown in FIG. 3 is the same as the polarizing plate 1A shown in FIG. 1 except that the release film 13 and the 2nd protective film 3 are not provided. The polarizing plate 1Aa (first polarizing plate) is adhered to the first surface of the liquid crystal cell 10 via the adhesive layer 11. The polarizing plate 1Aa (front side polarizing plate) has the adhesion layer 11 which overlaps with the 1st surface of the liquid crystal cell 10, the resin layer 9 which overlaps with the adhesion layer 11, and the resin layer 9 It has the polarizer 7 superimposed on and the 1st protective film 5 superimposed on the polarizer 7. Another polarizing plate (rear side polarizing plate) may be bonded to the second surface of the liquid crystal cell 10. The liquid crystal cell 10, the polarizing plate 1Aa (front side polarizing plate), and the other polarizing plate (rear side polarizing plate) may constitute one liquid crystal panel 20A. The liquid crystal panel 20A and the backlight (surface light source device) and other members constitute the liquid crystal display device 30A. The other members of the backlight are omitted in FIG. 3.

도 3에 도시된 바와 같이, 수지층(9)이 편광자(7)와 액정 셀(10) 사이에 배치되어 있는 경우, 편광자(7) 중의 요오드가 액정 셀(10)을 화학적으로 손상시키는 것을 억제한다. 편광자(7) 중의 요오드가, 편광자(7)의 수지층(9)측의 표면에 석출된 경우, 요오드의 액정 셀(10)로의 이동이 수지층(9)에 의해 억제되기 때문이다.As shown in FIG. 3, when the resin layer 9 is disposed between the polarizer 7 and the liquid crystal cell 10, the iodine in the polarizer 7 suppresses chemical damage to the liquid crystal cell 10. do. This is because, when the iodine in the polarizer 7 is deposited on the surface of the resin layer 9 side of the polarizer 7, movement of the iodine to the liquid crystal cell 10 is suppressed by the resin layer 9.

[제2 실시형태]Second Embodiment

이하에서는, 본 발명의 제2 실시형태에 대해 설명한다. 이하에서는, 제2 실시형태에 고유의 사항(제1 실시형태와 제2 실시형태의 상위점)에 대해 설명한다. 이하에서 설명되지 않는 사항에 있어서, 제2 실시형태는 제1 실시형태와 공통된다.Below, 2nd Embodiment of this invention is described. Below, the matter (distance of 1st Embodiment and 2nd Embodiment) intrinsic to 2nd Embodiment is demonstrated. In the matter which is not described below, the second embodiment is common to the first embodiment.

제2 실시형태에서는, 오목형의 절결부 대신에, 편광자를 관통하는 구멍이 형성되어 있다. 예컨대, 도 6에 도시된 바와 같이, 편광판(1B)은, 필름형의 편광자(7), 수지층(9), 제1 보호 필름(5), 제2 보호 필름(3), 점착층(11) 및 이형 필름(13)을 구비하고, 편광판(1B)에는, 편광판(1B) 전체를 관통하는 구멍(관통 구멍(21))이 형성되어 있다. 관통 구멍(21)은, 편광판(1B)의 표면(XY 평면)에 대략 수직이고, 편광판(1B)의 적층 방향(Z축 방향)에 대략 평행하다. 편광판(1B)의 표면에 평행한 방향(XY 평면 방향)에 있어서의 관통 구멍(21)의 형상은, 예컨대, 도 6에 도시된 바와 같이 원이다. 단, 관통 구멍(21)의 형상은, 한정되지 않는다. 예컨대, 관통 구멍(21)의 형상은, 사각형 또는 삼각형 등의 다각형이어도 좋고, 타원형이어도 좋다.In 2nd Embodiment, the hole which penetrates a polarizer is formed instead of the recessed notch. For example, as shown in FIG. 6, the polarizing plate 1B includes a film polarizer 7, a resin layer 9, a first protective film 5, a second protective film 3, and an adhesive layer 11. ) And the release film 13, the hole (through hole 21) which penetrates the whole polarizing plate 1B is formed in the polarizing plate 1B. The through-hole 21 is substantially perpendicular to the surface (XY plane) of the polarizing plate 1B, and is substantially parallel to the lamination direction (Z-axis direction) of the polarizing plate 1B. The shape of the through hole 21 in the direction parallel to the surface of the polarizing plate 1B (XY plane direction) is, for example, a circle as shown in FIG. 6. However, the shape of the through hole 21 is not limited. For example, the shape of the through hole 21 may be a polygon such as a square or a triangle, or may be elliptical.

수지층(9)은, 편광자(7)의 한쪽의 표면 전체에 겹쳐져 있고, 또한 편광자(7)의 한쪽의 표면 전체에 밀착되어 있다. 점착층(11)은, 수지층(9)의 표면 전체에 겹쳐져 있고, 수지층(9)의 표면 전체에 강고하게 밀착되어 있다. 이형 필름(13)은, 점착층(11)의 표면 전체를 덮고 있다. 제1 보호 필름(5)은, 편광자(7)의 다른쪽의 표면 전체에 겹쳐져 있고, 또한 편광자(7)의 다른쪽의 표면 전체에 접착되어 있다. 제2 보호 필름(3)은, 제1 보호 필름(5)의 표면 전체를 덮고 있다.The resin layer 9 is superposed on the entire surface of one of the polarizers 7 and is in close contact with the entire surface of one of the polarizers 7. The adhesion layer 11 is superposed on the whole surface of the resin layer 9, and is firmly in contact with the whole surface of the resin layer 9. The release film 13 has covered the whole surface of the adhesion layer 11. The 1st protective film 5 is overlapped with the whole other surface of the polarizer 7, and is adhere | attached on the whole other surface of the polarizer 7. The second protective film 3 covers the entire surface of the first protective film 5.

관통 구멍(21)의 내측에 있어서 노출되는 편광자(7)의 단부면의 방향은, 편광자(7)의 흡수축선에 대해 일정·똑같지는 않기 때문에, 편광자(7)가 온도 변화에 따라 수축할 때에 관통 구멍(21)은 똑같이는 수축하지 않는다. 그 결과, 관통 구멍(21)의 내측에 있어서 노출되는 편광자(7)의 단부면의 국소에 있어서 응력이 발생하기 쉽다. 이 응력에 의해, 관통 구멍(21)의 내측을 기점으로 한 크랙이 편광자(7)의 흡수축선을 따라 형성되기 쉽다. 또한, 관통 구멍(21)에 있어서의 편광자(7)의 크랙은, 관통 구멍(21)을 형성하기 위한 가공에도 기인한다. 관통 구멍(21)을 편광판(1B)에 형성하는 가공에서는, 편광판(1B)을 구성하는 적층체, 특히 편광자(7)에 부하가 가해지기 쉽다. 이 가공 시의 부하에 의해, 관통 구멍(21)의 내측에 노출되는 편광자(7)의 단부에 미소한 상처가 생기기 쉽다. 이 미소한 상처가, 편광자(7)의 열수축 시에 크랙의 기점이 되기 쉽다. 그러나, 수지층(9)이 편광자(7)에 밀착되어 있기 때문에, 온도 변화에 따르는 관통 구멍(21)에서의 편광자(7)의 크랙이 억제된다. 관통 구멍(21)에서의 편광자(7)의 크랙이 억제되는 메커니즘은, 절결부(7C)에 있어서의 편광자(7)의 크랙이 억제되는 메커니즘과 동일하다. 또한 편광판(1B)이 수지층(9)을 구비함으로써, 편광판(1B)(특히 관통 구멍(21) 주위)에 있어서의 광 누설(화이트 스폿) 및 열 불균일이 억제된다.Since the direction of the end face of the polarizer 7 exposed inside the through hole 21 is not constant or the same as the absorption axis of the polarizer 7, when the polarizer 7 shrinks with temperature change, The through hole 21 does not shrink equally. As a result, a stress tends to occur at a local portion of the end face of the polarizer 7 exposed inside the through hole 21. Due to this stress, cracks starting from the inside of the through hole 21 are likely to be formed along the absorption axis of the polarizer 7. In addition, the crack of the polarizer 7 in the through hole 21 also originates in the process for forming the through hole 21. FIG. In the process of forming the through-hole 21 in the polarizing plate 1B, a load is easy to be applied to the laminated body which comprises the polarizing plate 1B, especially the polarizer 7. Due to the load at the time of processing, minute scratches are likely to occur at the end of the polarizer 7 exposed inside the through hole 21. This minute wound tends to be a starting point of the crack at the time of thermal contraction of the polarizer 7. However, since the resin layer 9 is in close contact with the polarizer 7, cracks in the polarizer 7 in the through hole 21 due to the temperature change are suppressed. The mechanism by which the crack of the polarizer 7 in the through-hole 21 is suppressed is the same as the mechanism by which the crack of the polarizer 7 in the notch 7C is suppressed. Moreover, since the polarizing plate 1B is equipped with the resin layer 9, the light leakage (white spot) and thermal nonuniformity in the polarizing plate 1B (especially around the through hole 21) are suppressed.

관통 구멍(21)의 형성 방법은, 한정되지 않는다. 전술한 가공 단계에 있어서, 관통 구멍(21)을 제2 적층체에 형성해도 좋다. 예컨대, 펀치 및 다이를 이용한 프레스 가공(펀칭 가공), 또는 드릴에 의한 절삭 가공에 의해, 관통 구멍(21)을 제2 적층체에 형성해도 좋다. 레이저를 제2 적층체의 표면에 조사함으로써, 관통 구멍(21)을 제2 적층체에 형성해도 좋다. 예컨대, CO2 레이저 등을 이용한 가공(열 가공) 또는 엑시머 레이저를 이용한 가공(어블레이션 가공)에 의해, 관통 구멍(21)을 제2 적층체에 형성해도 좋다. 관통 구멍(21)의 내벽을 엔드 밀로 연마해도 좋다.The formation method of the through hole 21 is not limited. In the above-described processing step, the through hole 21 may be formed in the second laminate. For example, the through hole 21 may be formed in the second laminate by press working (punching) using a punch and a die, or cutting by a drill. The through hole 21 may be formed in the second laminate by irradiating a laser onto the surface of the second laminate. For example, the through hole 21 may be formed in the second laminate by processing using a CO 2 laser or the like (processing) or processing using an excimer laser (ablation processing). The inner wall of the through hole 21 may be polished with an end mill.

[다른 실시형태][Other Embodiments]

이상, 본 발명은 상기한 제1 실시형태 및 제2 실시형태에 한정되는 것은 아니다.As mentioned above, this invention is not limited to said 1st Embodiment and 2nd Embodiment.

예컨대, 복수의 오목형의 절결부가 편광자 및 편광판에 형성되어 있어도 좋다. 복수의 관통 구멍이 편광자 및 편광판에 형성되어 있어도 좋다. 오목형의 절결부 및 관통 구멍의 양방이 편광자 및 편광판에 형성되어 있어도 좋다. 오목형의 절결부가 편광자에만 형성되어 있어도 좋다. 편광자만을 관통하는 구멍이 형성되어 있어도 좋다.For example, the plurality of concave notches may be formed in the polarizer and the polarizing plate. A plurality of through holes may be formed in the polarizer and the polarizing plate. Both concave notches and through holes may be formed in the polarizer and the polarizing plate. The recessed notch may be formed only in the polarizer. A hole penetrating only the polarizer may be formed.

편광판을 구성하는 광학 필름의 종류, 수 및 적층의 순서는, 한정되지 않는다.The kind, number, and order of lamination | stacking of the optical film which comprise a polarizing plate are not limited.

예컨대, 편광자는, 수지 경화물을 포함하는 한 쌍의 수지층 사이에 끼워져 있어도 좋다. 즉, 수지 경화물을 포함하는 제1 수지층이 편광자의 제1 표면에 겹쳐지고, 또한 제1 수지층이 편광자의 제1 표면에 밀착되어도 좋고, 수지 경화물을 포함하는 제2 수지층이 편광자의 제2 표면(이면)에 겹쳐지고, 또한 제2 수지층이 편광자의 제2 표면에 밀착되어도 좋다.For example, the polarizer may be sandwiched between a pair of resin layers containing a cured resin. That is, the 1st resin layer containing hardened | cured resin may overlap on the 1st surface of the polarizer, and the 1st resin layer may be in close contact with the 1st surface of the polarizer, and the 2nd resin layer containing hardened | cured resin may be a polarizer. It may overlap with the 2nd surface (back surface) of, and a 2nd resin layer may adhere to the 2nd surface of a polarizer.

수지 경화물을 포함하는 수지층이 편광자의 제1 표면에 겹쳐지고, 또한 수지층이 편광자의 제1 표면에 밀착되어도 좋고, 점착층이 편광자의 제2 표면에 겹쳐지고, 또한 점착층이 편광자의 제2 표면에 밀착되어도 좋다.The resin layer containing the cured resin may be superposed on the first surface of the polarizer, the resin layer may be in close contact with the first surface of the polarizer, and the adhesive layer may be superimposed on the second surface of the polarizer, and the adhesive layer may be It may be in close contact with the second surface.

편광판(1A) 또는 편광판(1B)은, 제2 보호 필름(3) 및 이형 필름(13) 중 한쪽 또는 양방을 구비하지 않아도 좋다. 예컨대, 제2 보호 필름(3)은, 화상 표시 장치의 제조 과정에 있어서, 편광판(1A) 또는 편광판(1B)으로부터 박리되어, 제거되어도 좋다. 즉, 제2 보호 필름(3)은, 임시의 보호 필름이어도 좋다. 이형 필름(13)도, 화상 표시 장치의 제조 과정에 있어서, 편광판(1A)으로부터 박리되어, 제거되어도 좋다.The polarizing plate 1A or the polarizing plate 1B may not include one or both of the second protective film 3 and the release film 13. For example, in the manufacturing process of an image display apparatus, the 2nd protective film 3 may peel from the polarizing plate 1A or the polarizing plate 1B, and may remove it. That is, the temporary protective film may be sufficient as the 2nd protective film 3. The release film 13 may also be peeled from the polarizing plate 1A and removed in the manufacturing process of the image display device.

이형 필름이, 점착층을 통해, 편광판의 양면에 배치되어 있어도 좋다.The release film may be arrange | positioned on both surfaces of a polarizing plate through an adhesion layer.

편광판이 구비하는 광학 필름은, 반사형 편광 필름, 방현 기능을 갖는 필름, 표면 반사 방지 기능을 갖는 필름, 반사 필름, 반투과 반사 필름, 시야각 보상 필름, 광학 보상층, 터치 센서층, 대전 방지층 또는 방오층(防汚層)이어도 좋다.The optical film which a polarizing plate is equipped with is a reflective polarizing film, an anti-glare film, the film with a surface reflection prevention function, a reflective film, a semi-transmissive reflective film, a viewing angle compensation film, an optical compensation layer, a touch sensor layer, an antistatic layer, or It may be an antifouling layer.

편광판이, 하드 코트층을 더 구비해도 좋다. 예컨대, 편광판(1A) 또는 편광판(1B)의 변형예에서는, 하드 코트층이, 제1 보호 필름(5)과 제2 보호 필름(3) 사이에 위치해도 좋다. 즉, 하드 코트층이 제1 보호 필름(5)의 표면에 직접 겹쳐져 있어도 좋다. 이 경우, 제1 보호 필름(5)이, 트리아세틸셀룰로오스를 포함해도 좋다.The polarizing plate may further include a hard coat layer. For example, in a modification of the polarizing plate 1A or the polarizing plate 1B, the hard coat layer may be located between the first protective film 5 and the second protective film 3. That is, the hard coat layer may be directly superposed on the surface of the 1st protective film 5. In this case, the first protective film 5 may contain triacetyl cellulose.

하드 코트층은, 예컨대, 미세한 요철 형상이 표면에 형성된 아크릴계 수지 필름으로 구성되는 층이다. 하드 코트층은, 예컨대, 유기 미립자 또는 무기 미립자를 함유하는 도막으로 형성되어도 좋다. 이 도막을, 요철 형상을 갖는 롤에 밀어붙이는 방법(예컨대 엠보스법 등)을 이용해도 좋다. 유기 미립자 또는 무기 미립자를 함유하지 않는 도막을 형성 후, 이 도막을, 요철 형상을 갖는 롤에 밀어붙이는 방법을 이용해도 좋다. 무기 미립자는, 예컨대, 실리카, 콜로이달 실리카, 알루미나, 알루미나졸, 알루미노실리케이트, 알루미나-실리카 복합 산화물, 카올린, 탤크, 마이카, 탄산칼슘, 인산칼슘 등이어도 좋다. 또한, 유기 미립자(수지 입자)는, 예컨대, 가교 폴리아크릴산 입자, 메타크릴산메틸/스티렌 공중합체 수지 입자, 가교 폴리스티렌 입자, 가교 폴리메틸메타크릴레이트 입자, 실리콘 수지 입자, 폴리이미드 입자 등이어도 좋다. 무기 미립자 또는 유기 미립자를 분산시키기 위한 바인더 성분은, 고경도(하드 코트)가 되는 재료에서 선정되면 된다. 바인더 성분은, 예컨대, 자외선 경화성 수지, 열경화성 수지, 전자선 경화성 수지 등이어도 좋다. 생산성, 경도 등의 관점에서, 바인더 성분으로서는, 자외선 경화성 수지가 바람직하게 사용된다. 하드 코트층의 두께는, 예컨대, 2 ㎛ 이상 30 ㎛ 이하, 또는 3 ㎛ 이상 30 ㎛ 이하여도 좋다.A hard coat layer is a layer which consists of an acrylic resin film in which the fine uneven | corrugated shape was formed in the surface, for example. The hard coat layer may be formed of, for example, a coating film containing organic fine particles or inorganic fine particles. You may use the method (for example, the embossing method etc.) which sticks this coating film to the roll which has an uneven shape. After forming the coating film which does not contain an organic fine particle or an inorganic fine particle, you may use the method of sticking this coating film to the roll which has an uneven shape. The inorganic fine particles may be, for example, silica, colloidal silica, alumina, alumina sol, aluminosilicate, alumina-silica composite oxide, kaolin, talc, mica, calcium carbonate, calcium phosphate, or the like. The organic fine particles (resin particles) may be, for example, crosslinked polyacrylic acid particles, methyl methacrylate / styrene copolymer resin particles, crosslinked polystyrene particles, crosslinked polymethylmethacrylate particles, silicone resin particles, polyimide particles, or the like. . What is necessary is just to select the binder component for disperse | distributing an inorganic fine particle or organic fine particle from the material used as a high hardness (hard coat). The binder component may be, for example, an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, an electron beam curable resin, or the like. From a viewpoint of productivity, hardness, etc., as a binder component, ultraviolet curable resin is used preferably. The thickness of the hard coat layer may be, for example, 2 µm or more and 30 µm or less, or 3 µm or more and 30 µm or less.

편광판 및 절결부 각각의 형상은, 용도에 따른 여러 가지 형태여도 좋다. 예컨대, 도 4 중의 (a)에 도시된 바와 같이, 절결부(7C)의 형상은, 반원이어도 좋다. 도 4 중의 (b)에 도시된 바와 같이, 절결부(7C)의 형상은, 삼각형이어도 좋다. 절결부(7C)의 형상은, 사각형 및 삼각형 이외의 다른 다각형이어도 좋다. 도 4 중의 (c)에 도시된 바와 같이, 편광자(7)의 외연(外緣)(제1 단부(7e) 및 제2 단부(17e))은, 원형이어도 좋다. 도 4 중의 (d)에 도시된 바와 같이, 절결부(7C)의 심부(모퉁이부)에 모따기부(chamfered part)(7C3) 및 모따기부(7C4)가 형성되어 있어도 좋다. 절결부(7C)의 양단에 위치하는 모서리부(7C1) 및 모서리부(7C2)도, 모따기되어 있어도 좋다. 편광자(7)의 외연에 위치하는 외각부(outside corner)(CR1), 외각부(CR2), 외각부(CR3) 및 외각부(CR4)도, 모따기되어 있어도 좋다. 상기한 모따기는, 예컨대, 엔드 밀을 이용한 절결부 및 외연의 절삭·연마에 의해 가능하다. 도 4 중의 (a), 도 4 중의 (b), 도 4 중의 (c) 및 도 4 중의 (d)에 도시된 편광자(7) 각각의 형상은, 각각의 편광자(7)를 구비하는 편광판의 형상이라고 간주해도 좋다. 환언하면, 도 4 중의 (a), 도 4 중의 (b), 도 4 중의 (c) 및 도 4 중의 (d)에 도시된 각 편광자(7)에 형성된 절결부(7C)의 형상은, 각 편광자(7)를 구비하는 편광판에 형성된 절결부의 형상이라고 간주해도 좋다. 도 4 중의 (d)에 도시된 바와 같이, 절결부(7C)의 심부가 모따기되어 있음으로써, 절결부(7C)에 있어서의 크랙이 억제되기 쉽다. 도 4 중의 (d)에 도시된 모따기부(7C3) 및 모따기부(7C4)는, 절결부의 곡면형의 심부(모퉁이부)라고 바꿔 말해도 좋다. 절결부(7C)의 곡면형의 심부(모퉁이부)의 곡률 반경이 클수록, 절결부(7C)에 있어서의 크랙이 억제되기 쉽다. 예컨대, 절결부(7C)의 곡면형의 심부(모퉁이부)의 곡률 반경이 0.07 ㎜ 이상임으로써, 절결부(7C)에 있어서의 크랙이 억제되기 쉽다. 절결부(7C)의 곡면형의 심부(모퉁이부)의 곡률 반경은, 예컨대, 0.07 ㎜ 이상 30 ㎜ 이하, 또는 0.07 ㎜ 이상 10 ㎜ 이하, 바람직하게는 0.09 ㎜ 이상 30 ㎜ 이하, 또는 0.09 ㎜ 이상 10 ㎜ 이하이면 된다.The shape of each of a polarizing plate and a notch may be various forms according to a use. For example, as shown in (a) of FIG. 4, the shape of the notch 7C may be a semicircle. As shown in (b) of FIG. 4, the shape of the notch 7C may be triangular. The shape of the notch 7C may be a polygon other than a rectangle and a triangle. As shown in (c) in FIG. 4, the outer edges (first end 7e and second end 17e) of the polarizer 7 may be circular. As shown to (d) in FIG. 4, the chamfered part 7C3 and the chamfer 7C4 may be formed in the core part (corner part) of the notch 7C. The corner portions 7C1 and the corner portions 7C2 located at both ends of the notched portion 7C may also be chamfered. An outer corner CR1, an outer corner CR2, an outer corner CR3, and an outer corner CR4 positioned at the outer edge of the polarizer 7 may also be chamfered. Said chamfering is possible, for example by cutting and grinding of the notch part and outer edge which used the end mill. The shape of each polarizer 7 shown to (a) in FIG. 4, (b) in FIG. 4, (c) in FIG. 4, and (d) in FIG. 4 is the shape of the polarizing plate provided with each polarizer 7, respectively. You may consider it a shape. In other words, the shape of the notch 7C formed in each polarizer 7 shown to (a) in FIG. 4, (b) in FIG. 4, (c) in FIG. 4, and (d) in FIG. You may consider it the shape of the notch part formed in the polarizing plate provided with the polarizer 7. As shown in (d) in FIG. 4, the crack in the notch 7C is easily suppressed by the chamfering of the notch 7C. The chamfer 7C3 and the chamfer 7C4 shown in (d) of FIG. 4 may be replaced with the curved core part (corner part) of a notch. The larger the radius of curvature of the curved core portion (corner) of the notch 7C, the more easily the crack in the notch 7C is suppressed. For example, when the radius of curvature of the curved core (corner) of the notch 7C is 0.07 mm or more, the crack in the notch 7C is easily suppressed. The radius of curvature of the curved core (corner) of the notch 7C is, for example, 0.07 mm or more and 30 mm or less, or 0.07 mm or more and 10 mm or less, preferably 0.09 mm or more and 30 mm or less, or 0.09 mm or more. What is necessary is just 10 mm or less.

편광자의 외연의 일부가 직선형이고, 편광자의 외연의 잔부가 곡선형이어도 좋다. 편광자(7)의 제1 단부(7e)의 일부가 직선형이고, 편광자(7)의 제1 단부(7e)의 잔부가 곡선형이어도 좋다. 편광자(7)의 제1 단부(7e)가, 하나 이상의 직선(하나 이상의 변)으로만 이루어져 있어도 좋다. 편광자(7)의 제1 단부(6e)가, 곡선으로만 이루어져 있어도 좋다. 편광자(7)의 제2 단부(17e)의 일부가 직선형이고, 편광자(7)의 제2 단부(17e)의 잔부가 곡선형이어도 좋다. 편광자(7)의 제2 단부(17e)가, 하나 이상의 직선(하나 이상의 변)으로만 이루어져 있어도 좋다. 편광자(7)의 제2 단부(17e)가, 곡선으로만 이루어져 있어도 좋다. 편광자 및 편광판 각각의 형상은, 사각형 이외의 다각형이어도 좋다. 편광자 및 편광판 각각의 형상은, 예컨대, 타원형이어도 좋다. 수지층(9) 및 각 광학 필름(3, 5, 13) 각각의 형상은, 편광자(7)의 형상과 대략 동일해도 좋다.A part of the outer edge of the polarizer may be linear, and the remainder of the outer edge of the polarizer may be curved. A part of the first end 7e of the polarizer 7 may be straight, and the remainder of the first end 7e of the polarizer 7 may be curved. The first end 7e of the polarizer 7 may consist only of one or more straight lines (one or more sides). The first end 6e of the polarizer 7 may consist only of a curve. A part of the second end 17e of the polarizer 7 may be straight, and the remainder of the second end 17e of the polarizer 7 may be curved. The second end 17e of the polarizer 7 may consist of only one or more straight lines (one or more sides). The second end 17e of the polarizer 7 may consist only of a curve. The shape of each polarizer and polarizing plate may be polygons other than a rectangle. The shape of each of a polarizer and a polarizing plate may be elliptical, for example. The shape of each of the resin layer 9 and each of the optical films 3, 5, 13 may be substantially the same as the shape of the polarizer 7.

또한 본 발명에 의하면, 절결부(7C) 또는 관통 구멍(21)의 주변에 있어서의 광 누설을 억제하는 것도 가능하다. 예컨대, 편광판(1A 또는 1B)이 액정 표시 장치에 실장되는 경우, 이형 필름(13)은 편광판(1A 또는 1B)으로부터 박리되고, 점착층(11)을 통해 편광판(1A 또는 1B)이 액정 셀의 표면에 접합된다. 액정 표시 장치가 작동하면, 액정 표시 장치 내에서 발생하는 열(예컨대, 백라이트에 기인하는 열)에 의해, 편광자(7)가 그 흡수축 방향으로 크게 수축한다. 만일 수지층(9) 대신에, 보호 필름이 편광자(7)의 표면에 직접 겹쳐지는 경우, 편광자(7)의 큰 열수축에 따라, 보호 필름 자체에도 변형이 생겨, 위상차가 발생한다. 위상차가 발생한 부분에 있어서, 광이 누설되어, 위상차가 발생한 부분에 얼룩이 보인다. 이러한 광 누설이, 액정 표시 장치 등의 화상 표시 장치의 품질을 저하시킨다. 특히 전술한 이유에 의해, 절결부(7C) 또는 관통 구멍(21)의 주변에 응력이 집중되기 쉽고, 절결부(7C) 또는 관통 구멍(21)의 주변에 있어서 광 누설이 발생하기 쉽다. 상기한 위상차는, 위상차가 발생한 개소에 있어서의 각 층의 두께 또는 광탄성 계수에 의존한다. 예컨대, 보호 필름의 두께의 증가, 또한 보호 필름의 광탄성 계수의 증가에 따라, 위상차가 발생하기 쉽다. 따라서, 종래의 보호 필름보다 얇고, 또한 광탄성 계수가 작은 수지층(9)(예컨대, 두께가 0.5∼10 ㎛인 수지층(9))을, 편광자(7)와 액정 셀 사이에 배치시킴으로써, 절결부(7C) 또는 관통 구멍(21)의 주변에 있어서의 광 누설을 억제할 수 있다. 상기와 같은 효과는, 예컨대, 편광판(1A 또는 1B)을 이용한 내구성 시험(특히 고온하에서의 내열성 시험)에 의해 확인할 수 있다.Moreover, according to this invention, it is also possible to suppress light leakage in the notch 7C or the periphery of the through-hole 21. FIG. For example, when the polarizing plate 1A or 1B is mounted on the liquid crystal display device, the release film 13 is peeled off from the polarizing plate 1A or 1B, and the polarizing plate 1A or 1B is attached to the liquid crystal cell through the adhesive layer 11. Bonded to the surface. When the liquid crystal display device operates, the polarizer 7 contracts greatly in the absorption axis direction due to heat generated in the liquid crystal display device (for example, heat due to the backlight). If instead of the resin layer 9, when the protective film is directly superposed on the surface of the polarizer 7, a large amount of heat shrinkage of the polarizer 7 causes deformation of the protective film itself, resulting in a phase difference. In the part where phase difference generate | occur | produced, light leaks and a spot is seen in the part which phase difference generate | occur | produced. Such light leakage deteriorates the quality of an image display device such as a liquid crystal display device. In particular, for the reasons described above, stress tends to be concentrated around the cutout portion 7C or the through hole 21, and light leakage tends to occur around the cutout portion 7C or the through hole 21. The retardation described above depends on the thickness or photoelastic coefficient of each layer at the point where the phase difference occurs. For example, with the increase of the thickness of a protective film and also the increase of the photoelastic coefficient of a protective film, phase difference tends to generate | occur | produce. Therefore, the resin layer 9 (for example, the resin layer 9 whose thickness is 0.5-10 micrometers) which is thinner than the conventional protective film and is small is arrange | positioned between the polarizer 7 and a liquid crystal cell, Light leakage in the periphery of the connection part 7C or the through-hole 21 can be suppressed. The above effects can be confirmed, for example, by a durability test (particularly, heat resistance test under high temperature) using the polarizing plate 1A or 1B.

실시예Example

이하, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 상세히 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것이 아니다.Hereinafter, although an Example demonstrates this invention still in detail, this invention is not limited to these Examples.

(실시예 1)(Example 1)

편광자 필름(절단 전의 편광자(7))과, 수지층(9)과, 3장의 광학 필름(3, 5, 13)과 감압형의 점착층(11)으로 구성되는 직사각형 형상의 제1 적층체를 제작하였다. 제1 적층체는, 이형 필름(13)과, 이형 필름(13) 전체에 겹쳐지는 점착층(11)과, 점착층(11) 전체에 겹쳐지는 수지층(9)과, 수지층(9) 전체에 겹쳐지는 편광자 필름(7)과, 편광자 필름(7) 전체에 겹쳐지는 제1 보호 필름(5)과, 제1 보호 필름(5) 전체에 겹쳐지는 제2 보호 필름(3)을 구비하고 있었다. 편광자 필름(7)으로서는, 연신되고, 또한 염색된 필름형의 폴리비닐알코올을 이용하였다.The rectangular 1st laminated body comprised from the polarizer film (polarizer 7 before cutting), the resin layer 9, three optical films 3, 5, 13, and the pressure-sensitive adhesive layer 11 Produced. The 1st laminated body is the release film 13, the adhesion layer 11 which overlaps with the whole release film 13, the resin layer 9 which overlaps with the whole adhesion layer 11, and the resin layer 9 The polarizer film 7 which overlaps the whole, the 1st protective film 5 which overlaps with the whole polarizer film 7, and the 2nd protective film 3 which overlaps with the whole 1st protective film 5 are provided, there was. As the polarizer film 7, polyvinyl alcohol of stretched and dyed film type was used.

수지층(9)은, 이하의 순서로 제작하였다. 미경화의 자외선 경화성 수지로서, 2종의 에폭시계 화합물(하기의 화합물 A 및 B)과, 1종의 옥세탄계 화합물(하기의 화합물 C)과, 광양이온 중합 개시제(하기의 화합물 D)를 이하의 배합비로 혼합함으로써, 혼합물을 조제하였다. 이 혼합물을 PET 기재의 표면에 칠하여, 미경화층(수지층(9)의 전구체)을 형성하였다. 편광자 필름(7), 제1 보호 필름(5) 및 제2 보호 필름(3)을 이 순서로 적층하여, 적층체를 형성하였다. 계속해서, 편광자 필름(7)의 표면(제1 보호 필름(5)이 겹쳐져 있지 않은 표면)에, PET 기재에 형성된 미경화층을 접합시켰다. 계속해서, 자외선(UVB)을 미경화층에 조사하였다. 자외선의 조도는, 400 mJ/㎠로 조정하였다. 자외선의 조사 후, PET 기재를 수지층(9)으로부터 박리함으로써, 편광자 필름(7)의 표면 전체에 겹쳐지고, 편광자의 표면 전체에 강고하게 밀착된 수지층(9)을 얻었다.The resin layer 9 was produced in the following procedures. As the uncured ultraviolet curable resin, two epoxy compounds (compounds A and B below), one oxetane compound (compound C below), and a photocationic polymerization initiator (compound D below) are described below. The mixture was prepared by mixing in the compounding ratio of. This mixture was applied to the surface of the PET substrate to form an uncured layer (a precursor of the resin layer 9). The polarizer film 7, the 1st protective film 5, and the 2nd protective film 3 were laminated | stacked in this order, and the laminated body was formed. Subsequently, the uncured layer formed on the PET substrate was bonded to the surface of the polarizer film 7 (the surface on which the first protective film 5 did not overlap). Subsequently, ultraviolet (UVB) was irradiated to the uncured layer. The illuminance of the ultraviolet ray was adjusted to 400 mJ / cm 2. After irradiating an ultraviolet-ray, the PET base material was peeled from the resin layer 9, and the resin layer 9 superposed on the whole surface of the polarizer film 7 and firmly stuck to the whole surface of the polarizer was obtained.

<미경화의 자외선 경화성 수지에 포함되는 각 화합물 및 그 배합비><Each compound contained in uncured ultraviolet curable resin and its compounding ratio>

화합물 A: 3',4'-에폭시시클로헥실메틸 3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트(가부시키가이샤 다이셀 제조의 "셀록사이드 2021P")Compound A: 3 ', 4'-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate ("Celoxide 2021P" manufactured by Daicel Co., Ltd.)

화합물 A의 배합비: 35 질량부Compounding ratio of compound A: 35 parts by mass

화합물 B: 2-[4-(2,3-에폭시프로폭시)페닐]-2-[4-[1,1-비스[4-([2,3-에폭시프로폭시]페닐]에틸]페닐]프로판((주)프린텍사 제조의 "TECHMORE VG3101L")Compound B: 2- [4- (2,3-epoxypropoxy) phenyl] -2- [4- [1,1-bis [4-([2,3-epoxypropoxy] phenyl] ethyl] phenyl] Propane ("TECHMORE VG3101L" manufactured by Printech Co., Ltd.)

화합물 B의 배합비: 15 질량부Compounding ratio of compound B: 15 parts by mass

화합물 C: 비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르(도아 고세이(주) 제조의 "아론 옥세탄 OXT-221")Compound C: bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether ("Aron Oxetane OXT-221" manufactured by Toagosei Co., Ltd.)

화합물 C의 배합비: 50 질량부Compounding ratio of compound C: 50 parts by mass

화합물 D: 트리페닐술포늄헥사플루오로포스페이트Compound D: Triphenylsulfonium Hexafluorophosphate

화합물 D의 배합비: 2.25 질량부Compounding ratio of compound D: 2.25 parts by mass

제1 보호 필름(5)으로서는, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름을 이용하였다. 제2 보호 필름(3)에 대면하는 제1 보호 필름(5)의 표면 전체는 하드 코트층에 덮여 있었다. 제1 보호 필름(5)은, 수계 접착제를 통해, 편광자 필름(7)에 접착되었다. 제2 보호 필름(3)으로서는, PET 프로텍트 필름을 이용하였다. 이형 필름(13)으로서는, PET 세퍼레이터를 이용하였다. 이형 필름(13)의 두께는, 38 ㎛였다. 점착층(11)의 두께는, 20 ㎛였다. 수지층(9)의 두께는, 3 ㎛였다. 편광자(7)의 두께는, 7 ㎛였다. 하드 코트층을 포함하는 제1 보호 필름(5) 전체의 두께는, 32 ㎛였다. 제2 보호 필름(3)의 두께는, 58 ㎛였다. 수계 접착제의 두께는, 50 ㎚였다.As the 1st protective film 5, the triacetyl cellulose (TAC) film was used. The entire surface of the first protective film 5 facing the second protective film 3 was covered with the hard coat layer. The 1st protective film 5 was adhere | attached to the polarizer film 7 via the water-based adhesive agent. As the second protective film 3, a PET protect film was used. As the release film 13, PET separator was used. The thickness of the release film 13 was 38 micrometers. The thickness of the adhesion layer 11 was 20 micrometers. The thickness of the resin layer 9 was 3 micrometers. The thickness of the polarizer 7 was 7 micrometers. The thickness of the whole 1st protective film 5 containing a hard-coat layer was 32 micrometers. The thickness of the 2nd protective film 3 was 58 micrometers. The thickness of the water-based adhesive agent was 50 nm.

상기한 제1 적층체를 커터로 절단하여, 보다 작은 직사각형 형상의 제2 적층체를 제작하였다. 제2 적층체를 스테이지에 흡착시켜 고정하였다. 고정된 제2 적층체의 외연에 CO2 레이저를 조사함으로써, 제2 적층체의 가로변(제1 단부)에 오목형의 절결부를 형성하였다. 절결부를 형성할 때에, 절결부의 심부(안쪽)를 모따기하였다. 이상의 공정을 거쳐, 실시예 1의 편광판을 얻었다. CO2 레이저의 출력은, 20 W로 설정하였다. CO2 레이저의 발진 파장은, 10.4 ㎛였다.The said 1st laminated body was cut out with the cutter, and the 2nd laminated body of a smaller rectangular shape was produced. The second laminate was fixed to the stage by adsorption. By irradiation of CO 2 laser on the outer edge of the fixed second laminate, to form a first cut-away portion of the negative type to the roadside (first end) of the second laminate. When forming a notch, the core (inside) of the notch was chamfered. The polarizing plate of Example 1 was obtained through the above process. The output of the CO 2 laser was set to 20 W. The oscillation wavelength of the CO 2 laser was 10.4 μm.

얻어진 편광판의 형상은, 도 5에 도시된 편광자(7)의 형상과 동일하였다. 즉, 도 5에 도시된 편광자(7)는, 상기한 순서로 제작된 편광판이 구비하는 편광자이다. 편광자(7)의 제1 단부(7e)(제2 적층체의 가로변)에 형성된 절결부(7C)의 심부(안쪽)는, 반원이었다. 절결부(7C)의 심부의 곡률 반경(R)은, 2 ㎜였다. 제1 단부(7e)에 평행한 방향에 있어서의 절결부(7C)의 폭(WC)은 상기 곡률 반경(R)의 2배, 즉 4 ㎜였다. 제1 단부(7e)에 수직인 방향에 있어서의 절결부(7C)의 깊이(DC)는, 10 ㎜였다. 절결부(7C)가 형성된 편광자(7)의 제1 단부(7e) 전체의 폭(W)은, 60 ㎜였다. 즉, 편광판의 가로변의 길이(편광판의 가로폭)는, 60 ㎜였다. 편광판의 세로변의 길이(D)(편광판의 세로폭)는, 70 ㎜였다.The shape of the obtained polarizing plate was the same as that of the polarizer 7 shown in FIG. That is, the polarizer 7 shown in FIG. 5 is a polarizer with which the polarizing plate produced by the said procedure is equipped. The core part (inside) of the notch 7C formed in the 1st edge part 7e (horizontal side of a 2nd laminated body) of the polarizer 7 was a semicircle. The radius of curvature R of the core portion of the notched portion 7C was 2 mm. The width W C of the notch 7C in the direction parallel to the first end 7e was twice the radius of curvature R, that is, 4 mm. The depth D C of the notch 7C in the direction perpendicular to the first end 7e was 10 mm. The width W of the whole 1st edge part 7e of the polarizer 7 in which the notch 7C was formed was 60 mm. That is, the length (width of the polarizing plate) of the horizontal side of the polarizing plate was 60 mm. The length D (vertical width of a polarizing plate) of the vertical side of a polarizing plate was 70 mm.

이형 필름(13)을, 편광판의 점착층(11)으로부터 박리하고, 점착층(11)을 통해, 편광판을 유리판에 접합하였다. 또한, 제2 보호 필름(3)을 편광판으로부터 박리하였다. 이러한 순서에 의해, 유리판과, 유리판에 접합된 편광판으로 이루어지는 샘플을 준비하였다. 이 샘플을 이용하여, 히트 사이클 시험을 행하였다. 히트 사이클 시험에서는, 하기의 단계 1과, 단계 1에 이어지는 단계 2로 이루어지는 사이클을 반복하였다.The release film 13 was peeled from the adhesion layer 11 of the polarizing plate, and the polarizing plate was bonded to the glass plate through the adhesion layer 11. In addition, the 2nd protective film 3 was peeled from the polarizing plate. By this procedure, the sample which consists of a glass plate and the polarizing plate bonded to the glass plate was prepared. The heat cycle test was done using this sample. In the heat cycle test, the cycle consisting of the following Step 1 and Step 2 following Step 1 was repeated.

단계 1: 샘플을 85℃의 분위기 중에서 30분간 가열하는 단계.Step 1: The sample is heated for 30 minutes in an atmosphere of 85 ° C.

단계 2: 샘플을 -40℃의 분위기 중에서 30분간 냉각하는 단계.Step 2: Cool the sample for 30 minutes in the atmosphere of -40 ℃.

상기한 사이클을, 하기 표 1에 나타내는 소정의 횟수 반복한 각 시점에서, 샘플이 구비하는 편광자(7)에 형성되어 있는 절결부(7C)를 광학 현미경으로 관찰하였다.At each time point in which the said cycle was repeated the predetermined number of times shown in following Table 1, the notch 7C formed in the polarizer 7 with which a sample was equipped was observed with the optical microscope.

<수지층(9)의 흡광도 상승률의 측정><Measurement of Absorbance Rising Rate of Resin Layer 9>

전술한 미경화의 자외선 경화성 수지를 바 코터로 시클로올레핀계 필름의 한쪽 면에 도포함으로써, 도막을 형성하였다. 시클로올레핀계 필름으로서는, 닛폰 제온(주) 제조의 「ZEONOR」를 이용하였다. 시클로올레핀계 필름의 두께는 50 ㎛였다. 또 하나의 시클로올레핀계 필름을 도막에 접합하여, 적층체를 제작하였다. 자외선을 적층체의 표면(즉 시클로올레핀계 필름의 표면)에 조사함으로써, 한 쌍의 시클로올레핀계 필름으로 끼워진 도막을 경화시켜, 수지층(9')을 형성하였다. 수지층(9')의 조성은, 상기한 수지층(9)의 조성과 동일하였다. 280 ㎚∼320 ㎚의 범위에 있어서의 자외선의 적산 광량은 1000 mJ/㎠였다. 자외선의 조사에는, 벨트 컨베이어를 갖는 자외선 조사 장치를 이용하였다. 자외선의 광원(램프)으로서는, 퓨전 UV 시스템즈사 제조의 「D 벌브」를 사용하였다. 수지층(9')의 양면으로부터 시클로올레핀계 필름을 박리하였다. 수지층(9')의 두께는, 약 30 ㎛였다. 수지층(9')의 흡광도(Absi 및 Absf)를 각각 측정하였다. Absi 및 Absf의 측정에는, (주)시마즈 세이사쿠쇼 제조의 자외 가시 분광 광도계(UV2450)를 이용하였다. Absi 및 Absf로부터, 수지층(9')의 흡광도 상승률을 산출하였다. 수지층(9')의 흡광도 상승률은, 3%였다.The coating film was formed by apply | coating the above-mentioned uncured ultraviolet curable resin to one side of a cycloolefin type film with a bar coater. As a cycloolefin type film, "ZEONOR" by Nippon Xeon Co., Ltd. was used. The thickness of the cycloolefin type film was 50 micrometers. Another cycloolefin type film was bonded to the coating film, and the laminated body was produced. By irradiating the surface of a laminated body (namely, the surface of a cycloolefin type film), the coating film sandwiched by a pair of cycloolefin type film was hardened and the resin layer 9 'was formed. The composition of the resin layer 9 'was the same as the composition of the resin layer 9 mentioned above. The accumulated light amount of ultraviolet rays in the range of 280 nm to 320 nm was 1000 mJ / cm 2. The ultraviolet irradiation device which has a belt conveyor was used for irradiation of an ultraviolet-ray. As a light source (lamp) of an ultraviolet-ray, "D bulb" by a fusion UV system company was used. The cycloolefin type film was peeled off from both surfaces of the resin layer 9 '. The thickness of the resin layer 9 'was about 30 micrometers. The absorbance (Absi and Absf) of the resin layer 9 'was measured, respectively. For the measurement of Absi and Absf, an ultraviolet visible spectrophotometer (UV2450) manufactured by Shimadzu Corporation was used. From Absi and Absf, the absorbance increase rate of the resin layer 9 'was calculated. The absorbance increase rate of the resin layer 9 'was 3%.

<편광도의 측정>Measurement of Polarization

실시예 1의 편광판을 재단하여, 편광판의 치수를 30 ㎜×30 ㎜로 조정하였다. 계속해서, 이형 필름(13)을 편광판의 점착층(11)으로부터 박리하였다. 그리고 점착층(11)을 통해, 편광판을 유리판에 접합하였다. 또한, 제2 보호 필름(3)을 편광판으로부터 박리하였다. 유리판으로서는, 코닝사 제조의 무알칼리 유리 「EAGLE XG」를 이용하였다. 이상의 순서로 제작된 샘플에 대해, 온도 50℃, 압력 5 ㎏/㎠(490.3 ㎪)에서의 오토클레이브 처리를 실시하였다. 1시간의 오토클레이브 처리 후, 온도 23℃, 상대 습도 55%의 환경하에서 샘플을 24시간 방치하였다. 계속해서, 옵션 액세서리의 「편광 필름 부착 필름 홀더」를 자외 가시 분광 광도계에 세트하였다. 자외 가시 분광 광도계로서는, (주)시마즈 세이사쿠쇼 제조의 「UV2450」을 이용하였다. 이 자외 가시 분광 광도계를 이용하여, 파장 380∼700 ㎚의 범위에 있어서의 편광판의 투과축 방향의 투과 스펙트럼을 측정하였다. 마찬가지로, 편광판의 흡수축 방향의 투과 스펙트럼을 측정하였다. 이들 투과 스펙트럼에 기초하여, 편광판의 초기의 편광도(Pyi)(단위: %)를 구하였다. 계속해서, 80℃, 상대 습도 90%의 환경하에서, 샘플을 24시간 정치(靜置)하였다. 마지막으로, Pyi와 동일한 방법으로, 편광판의 종기(終期)의 편광도(Pyf)(단위: %)를 구하였다. 실시예 1의 편광도의 변화(ΔPy)(즉, Pyf-Pyi)는, -0.03이었다.The polarizing plate of Example 1 was cut out, and the dimension of the polarizing plate was adjusted to 30 mm x 30 mm. Then, the release film 13 was peeled from the adhesion layer 11 of the polarizing plate. And the polarizing plate was bonded to the glass plate through the adhesion layer 11. In addition, the 2nd protective film 3 was peeled from the polarizing plate. As a glass plate, the alkali free glass "EAGLE XG" by a Corning company was used. The sample produced in the above procedure was subjected to autoclave treatment at a temperature of 50 ° C. and a pressure of 5 kg / cm 2 (490.3 kPa). After 1 hour of autoclave treatment, the sample was allowed to stand for 24 hours in an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55%. Then, the "film holder with polarizing film" of an optional accessory was set to the ultraviolet visible spectrophotometer. As an ultraviolet visible spectrophotometer, "UV2450" by Shimadzu Corporation was used. The transmission spectrum of the transmission axis direction of the polarizing plate in the range of wavelength 380-700 nm was measured using this ultraviolet visible spectrophotometer. Similarly, the transmission spectrum of the absorption axis direction of the polarizing plate was measured. Based on these transmission spectra, the initial polarization degree Pyi (unit:%) of the polarizing plate was calculated | required. Then, the sample was left to stand for 24 hours in the environment of 80 degreeC and 90% of a relative humidity. Finally, the polarization degree Pyf (unit:%) of the terminal of the polarizing plate was calculated | required in the same way as Pyi. The change (ΔPy) (that is, Pyf-Pyi) of the degree of polarization of Example 1 was -0.03.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

비교예 1에서는, 수지층(9)을 형성하지 않았다. 비교예 1에서는, 수지층(9) 대신에, 제3 보호 필름을, 수계 접착제를 통해, 편광자 필름(7)에 접착하였다. 제3 보호 필름으로서는, 환상 올레핀 폴리머계 수지(COP계 수지)로 구성되는 필름을 이용하였다. 수계 접착제의 두께는, 50 ㎚였다. 제3 보호 필름의 두께는, 13 ㎛였다. 비교예 1에서 이용한 편광자 필름(7)의 두께는, 12 ㎛였다.In Comparative Example 1, the resin layer 9 was not formed. In the comparative example 1, instead of the resin layer 9, the 3rd protective film was adhere | attached on the polarizer film 7 via the water-based adhesive agent. As a 3rd protective film, the film comprised from cyclic olefin polymer type resin (COP type resin) was used. The thickness of the water-based adhesive agent was 50 nm. The thickness of the 3rd protective film was 13 micrometers. The thickness of the polarizer film 7 used by the comparative example 1 was 12 micrometers.

비교예 1의 편광판은, 이형 필름(13)과, 이형 필름(13) 전체에 겹쳐지는 점착층(11)과, 점착층(11) 전체에 겹쳐지는 제3 보호 필름과, 제3 보호 필름 전체에 겹쳐지는 편광자(7)와, 편광자(7) 전체에 겹쳐지는 제1 보호 필름(5)과, 제1 보호 필름(5) 전체에 겹쳐지는 제2 보호 필름(3)을 구비하고 있었다.The polarizing plate of the comparative example 1 is the release film 13, the adhesion layer 11 which overlaps with the whole release film 13, the 3rd protective film which overlaps with the whole adhesion layer 11, and the whole 3rd protective film. It was provided with the polarizer 7 which overlaps with, the 1st protective film 5 which overlaps with the whole polarizer 7, and the 2nd protective film 3 which overlaps with the whole 1st protective film 5. As shown in FIG.

이상과 같은 적층 구조의 차이를 제외하고 실시예 1과 동일한 방법으로, 비교예 1의 편광판을 제작하였다. 얻어진 편광판의 형상은, 도 5에 도시된 편광자(7)의 형상과 동일하였다. 실시예 1의 경우와 마찬가지로, 비교예 1의 편광판을 이용한 히트 사이클 시험을 행하였다.A polarizing plate of Comparative Example 1 was prepared in the same manner as in Example 1 except for the above difference in laminated structure. The shape of the obtained polarizing plate was the same as that of the polarizer 7 shown in FIG. As in the case of Example 1, the heat cycle test using the polarizing plate of Comparative Example 1 was conducted.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

비교예 2에서 이용한 제3 보호 필름의 두께는, 23 ㎛였다.The thickness of the 3rd protective film used by the comparative example 2 was 23 micrometers.

제3 보호 필름의 두께의 차이를 제외하고 비교예 1과 동일한 방법으로, 비교예 2의 편광판을 제작하였다. 비교예 2의 편광판의 형상은, 도 5에 도시된 편광자(7)의 형상과 동일하였다. 실시예 1의 경우와 마찬가지로, 비교예 2의 편광판을 이용한 히트 사이클 시험을 행하였다.The polarizing plate of the comparative example 2 was produced by the method similar to the comparative example 1 except the difference of the thickness of a 3rd protective film. The shape of the polarizing plate of Comparative Example 2 was the same as that of the polarizer 7 shown in FIG. 5. As in the case of Example 1, the heat cycle test using the polarizing plate of Comparative Example 2 was performed.

(비교예 3)(Comparative Example 3)

비교예 3에서는, 제3 보호 필름으로서, 아크릴계 수지로 구성되는 필름을 이용하였다. 비교예 3에서 이용한 제3 보호 필름의 두께는, 20 ㎛였다.In the comparative example 3, the film comprised from acrylic resin was used as a 3rd protective film. The thickness of the 3rd protective film used by the comparative example 3 was 20 micrometers.

제3 보호 필름의 조성 및 두께의 차이를 제외하고 비교예 1과 동일한 방법으로, 비교예 3의 편광판을 제작하였다. 비교예 3의 편광판의 형상은, 도 5에 도시된 편광자(7)의 형상과 동일하였다. 실시예 1의 경우와 마찬가지로, 비교예 3의 편광판을 이용한 히트 사이클 시험을 행하였다.The polarizing plate of the comparative example 3 was produced by the method similar to the comparative example 1 except the difference of the composition and thickness of a 3rd protective film. The shape of the polarizing plate of Comparative Example 3 was the same as that of the polarizer 7 shown in FIG. 5. As in the case of Example 1, the heat cycle test using the polarizing plate of Comparative Example 3 was performed.

(비교예 4)(Comparative Example 4)

비교예 4에서는, 수지층(9)을 형성하지 않았다. 비교예 4에서는, 수지층(9) 대신에, 제3 보호 필름을, 수계 접착제를 통해, 편광자 필름(7)의 한쪽의 표면에 접착하였다. 제3 보호 필름으로서는, 환상 올레핀 폴리머계 수지(COP계 수지)로 구성되는 필름을 이용하였다. 제3 보호 필름의 두께는, 13 ㎛였다. 비교예 4에서 이용한 편광자 필름(7)의 두께는, 7 ㎛였다. 비교예 4에서는, 제1 보호 필름(5)을 이용하지 않았다. 비교예 4에서는, 제1 보호 필름(5) 대신에, 제2 점착층으로 편광자 필름(7)의 다른쪽의 표면 전체를 직접 덮었다. 제2 점착층(점착층(11)과는 다른 점착층)의 두께는, 5 ㎛였다. 또한, 제2 점착층의 표면 전체를, 휘도 향상 필름으로 직접 덮었다. 휘도 향상 필름으로서, 쓰리엠 재팬 가부시키가이샤 제조의 APF-V3를 이용하였다. 휘도 향상 필름의 두께는, 26 ㎛였다.In Comparative Example 4, the resin layer 9 was not formed. In the comparative example 4, instead of the resin layer 9, the 3rd protective film was adhere | attached on one surface of the polarizer film 7 via an aqueous adhesive. As a 3rd protective film, the film comprised from cyclic olefin polymer type resin (COP type resin) was used. The thickness of the 3rd protective film was 13 micrometers. The thickness of the polarizer film 7 used in the comparative example 4 was 7 micrometers. In Comparative Example 4, the first protective film 5 was not used. In the comparative example 4, instead of the 1st protective film 5, the whole other surface of the polarizer film 7 was directly covered by the 2nd adhesion layer. The thickness of the 2nd adhesion layer (adhesion layer different from the adhesive layer 11) was 5 micrometers. In addition, the whole surface of the 2nd adhesion layer was directly covered with the brightness improving film. As the brightness improving film, 3M Japan Corporation APF-V3 was used. The thickness of the brightness improving film was 26 micrometers.

비교예 4의 편광판은, 이형 필름(13)과, 이형 필름(13) 전체에 겹쳐지는 점착층(11)(제1 점착층)과, 점착층(11) 전체에 겹쳐지는 제3 보호 필름과, 제3 보호 필름 전체에 겹쳐지는 편광자(7)와, 편광자(7) 전체에 겹쳐지는 제2 점착층과, 제2 점착층 전체에 겹쳐지는 휘도 향상 필름을 구비하고 있었다.The polarizing plate of the comparative example 4 has the release film 13, the adhesion layer 11 (1st adhesion layer) which overlaps with the whole release film 13, the 3rd protective film which overlaps with the whole adhesion layer 11, and And the polarizer 7 superimposed on the whole 3rd protective film, the 2nd adhesion layer which overlaps with the whole polarizer 7, and the brightness improvement film which overlaps the whole 2nd adhesion layer.

이상과 같은 적층 구조의 차이를 제외하고 실시예 1과 동일한 방법으로, 비교예 4의 편광판을 제작하였다. 비교예 4의 편광판의 형상은, 도 5에 도시된 편광자(7)의 형상과 동일하였다.A polarizing plate of Comparative Example 4 was prepared in the same manner as in Example 1 except for the above difference in laminated structure. The shape of the polarizing plate of Comparative Example 4 was the same as that of the polarizer 7 shown in FIG. 5.

비교예 4의 히트 사이클 시험에서는, 유리판에 접합된 편광판은, 유리판에 밀착되는 점착층(11)(제1 점착층)과, 점착층(11) 전체에 겹쳐지는 제3 보호 필름과, 제3 보호 필름 전체에 겹쳐지는 편광자(7)와, 편광자(7) 전체에 겹쳐지는 제2 점착층과, 제2 점착층 전체에 겹쳐지는 휘도 향상 필름을 구비하고 있었다. 편광판의 적층 구조를 제외하고 실시예 1의 경우와 마찬가지로, 비교예 4의 히트 사이클 시험을 행하였다.In the heat cycle test of the comparative example 4, the polarizing plate bonded to the glass plate is the adhesion layer 11 (1st adhesion layer) which adheres to a glass plate, the 3rd protective film which overlaps the whole adhesion layer 11, and the 3rd The polarizer 7 superimposed on the whole protective film, the 2nd adhesion layer which overlaps with the whole polarizer 7, and the brightness improvement film which overlaps the whole 2nd adhesion layer were provided. The heat cycle test of Comparative Example 4 was conducted in the same manner as in Example 1 except for the laminated structure of the polarizing plate.

실시예 1 및 비교예 1∼4 각각의 히트 사이클 시험의 결과를, 하기 표 1에 나타낸다. 표 중의 「A」는, 편광자(7)의 절결부(7C)에 있어서 크랙이 없었던 것을 의미한다. 「B」는, 편광자(7)의 절결부(7C)에 있어서, 길이가 200 ㎛ 이하인 크랙이 형성되어 있었던 것을 의미한다. 「C」는, 편광자(7)의 절결부(7C)에 있어서, 길이가 201 ㎛ 이상 500 ㎛ 이하인 크랙이 형성되어 있었던 것을 의미한다. 「D」는, 편광자(7)의 절결부(7C)에 있어서, 길이가 501 ㎛ 이상인 크랙이 형성되어 있었던 것을 의미한다. 「E」는, 편광자(7)의 절결부(7C)에 형성된 크랙이 편광판의 표면을 따라 편광판을 관통하고 있었던 것을 의미한다. 즉 「E」는, 크랙이, 절결부(7C)의 심부로부터 제2 단부(17e)를 향해, 편광판 전체를 횡단해 버린 것을 의미한다.The results of the heat cycle tests in each of Example 1 and Comparative Examples 1 to 4 are shown in Table 1 below. "A" in the table means that there was no crack in the notch 7C of the polarizer 7. "B" means that the crack whose length is 200 micrometers or less was formed in the notch 7C of the polarizer 7. "C" means that in the notch 7C of the polarizer 7, the crack of 201 micrometer or more and 500 micrometers or less was formed. "D" means that the crack whose length is 501 micrometers or more was formed in the notch 7C of the polarizer 7. "E" means that the crack formed in the notch 7C of the polarizer 7 penetrated the polarizing plate along the surface of the polarizing plate. That is, "E" means that the crack crossed the whole polarizing plate toward the 2nd edge part 17e from the core part of 7 C of notch parts.

Figure pct00004
Figure pct00004

(실시예 1A)(Example 1A)

실시예 1A에서는, 절결부(7C)가 형성된 편광자(7)의 제1 단부(7e)의 폭(W)(편광판의 가로폭)을 120 ㎜로 조정하였다. 편광판의 가로폭의 조정을 제외하고 실시예 1과 동일한 방법으로, 실시예 1A의 편광판을 제작하였다. 실시예 1의 경우와 마찬가지로, 실시예 1A의 편광판을 이용한 히트 사이클 시험을 행하였다.In Example 1A, the width W (horizontal width of the polarizing plate) of the first end 7e of the polarizer 7 with the cutout 7C was adjusted to 120 mm. The polarizing plate of Example 1A was produced by the method similar to Example 1 except adjusting the width of a polarizing plate. As in the case of Example 1, the heat cycle test using the polarizing plate of Example 1A was done.

(비교예 1A)(Comparative Example 1A)

비교예 1A에서는, 절결부(7C)가 형성된 편광자(7)의 제1 단부(7e)의 폭(W)(편광판의 가로폭)을 120 ㎜로 조정하였다. 편광판의 가로폭의 조정을 제외하고 비교예 1과 동일한 방법으로, 비교예 1A의 편광판을 제작하였다. 비교예 1의 경우와 마찬가지로, 비교예 1A의 편광판을 이용한 히트 사이클 시험을 행하였다.In Comparative Example 1A, the width W (horizontal width of the polarizing plate) of the first end 7e of the polarizer 7 in which the cutout portion 7C was formed was adjusted to 120 mm. The polarizing plate of Comparative Example 1A was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that the width of the polarizing plate was adjusted. As in the case of Comparative Example 1, a heat cycle test using a polarizing plate of Comparative Example 1A was performed.

(비교예 2A)(Comparative Example 2A)

비교예 2A에서는, 절결부(7C)가 형성된 편광자(7)의 제1 단부(7e)의 폭(W)(편광판의 가로폭)을 120 ㎜로 조정하였다. 편광판의 가로폭의 조정을 제외하고 비교예 2와 동일한 방법으로, 비교예 2A의 편광판을 제작하였다. 비교예 2의 경우와 마찬가지로, 비교예 2A의 편광판을 이용한 히트 사이클 시험을 행하였다.In Comparative Example 2A, the width W (horizontal width of the polarizing plate) of the first end 7e of the polarizer 7 with the cutout 7C was adjusted to 120 mm. The polarizing plate of Comparative Example 2A was produced in the same manner as in Comparative Example 2 except that the width of the polarizing plate was adjusted. As in the case of Comparative Example 2, a heat cycle test using a polarizing plate of Comparative Example 2A was conducted.

(비교예 3A)(Comparative Example 3A)

비교예 3A에서는, 절결부(7C)가 형성된 편광자(7)의 제1 단부(7e)의 폭(W)(편광판의 가로폭)을 120 ㎜로 조정하였다. 편광판의 가로폭의 조정을 제외하고 비교예 3과 동일한 방법으로, 비교예 3A의 편광판을 제작하였다. 비교예 3의 경우와 마찬가지로, 비교예 3A의 편광판을 이용한 히트 사이클 시험을 행하였다.In Comparative Example 3A, the width W (the horizontal width of the polarizing plate) of the first end 7e of the polarizer 7 with the cutout 7C was adjusted to 120 mm. The polarizing plate of Comparative Example 3A was produced in the same manner as in Comparative Example 3 except that the width of the polarizing plate was adjusted. As in the case of Comparative Example 3, a heat cycle test using a polarizing plate of Comparative Example 3A was conducted.

(비교예 4A)(Comparative Example 4A)

비교예 4A에서는, 절결부(7C)가 형성된 편광자(7)의 제1 단부(7e)의 폭(W)(편광판의 가로폭)을 120 ㎜로 조정하였다. 편광판의 가로폭의 조정을 제외하고 비교예 4와 동일한 방법으로, 비교예 4A의 편광판을 제작하였다. 비교예 4의 경우와 마찬가지로, 비교예 4A의 편광판을 이용한 히트 사이클 시험을 행하였다.In Comparative Example 4A, the width W (the horizontal width of the polarizing plate) of the first end 7e of the polarizer 7 with the cutout 7C was adjusted to 120 mm. The polarizing plate of Comparative Example 4A was produced in the same manner as in Comparative Example 4 except that the width of the polarizing plate was adjusted. As in the case of Comparative Example 4, a heat cycle test using a polarizing plate of Comparative Example 4A was performed.

실시예 1A 및 비교예 1A∼4A 각각의 히트 사이클 시험의 결과를, 하기 표 2에 나타낸다.The results of the heat cycle tests for each of Example 1A and Comparative Examples 1A to 4A are shown in Table 2 below.

Figure pct00005
Figure pct00005

(실시예 1B)(Example 1B)

실시예 1B에서는, 제2 적층체의 가로변(제1 단부)에 오목형의 절결부를 형성하지 않았다. 도 6에 도시된 바와 같이, 실시예 1B에서는, 제2 적층체의 표면의 중심부에 있어서, 제2 적층체를 관통하는 원형의 구멍을 형성하였다. 이 관통 구멍의 내경(φ)은, 2.5 ㎜였다. 관통 구멍은, 피너클날을 이용한 프레스 가공에 의해 형성하였다. 실시예 1B에서는, 편광자(7)의 제1 단부(7e)의 폭(W)(편광판의 가로폭)을 120 ㎜로 조정하였다.In Example 1B, concave notches were not formed on the lateral edges (first ends) of the second laminate. As shown in FIG. 6, in Example 1B, the circular hole which penetrates the 2nd laminated body was formed in the center part of the surface of a 2nd laminated body. The inner diameter φ of this through hole was 2.5 mm. The through hole was formed by press working using a pinnacle blade. In Example 1B, the width W (horizontal width of the polarizing plate) of the first end 7e of the polarizer 7 was adjusted to 120 mm.

이상의 사항을 제외하고 실시예 1과 동일한 방법으로, 실시예 1B의 편광판을 제작하였다. 실시예 1의 경우와 마찬가지로, 실시예 1B의 편광판을 이용한 히트 사이클 시험을 행하였다.A polarizing plate of Example 1B was produced in the same manner as in Example 1 except for the above matters. As in the case of Example 1, the heat cycle test using the polarizing plate of Example 1B was performed.

(비교예 1B)(Comparative Example 1B)

비교예 1B에서는, 제2 적층체의 가로변(제1 단부)에 오목형의 절결부를 형성하지 않았다. 도 6에 도시된 바와 같이, 비교예 1B에서는, 제2 적층체의 표면의 중심부에 있어서, 제2 적층체를 관통하는 원형의 구멍을 형성하였다. 이 관통 구멍의 내경(φ)은, 2.5 ㎜였다. 관통 구멍은, 피너클날을 이용한 프레스 가공에 의해 형성하였다. 비교예 1B에서는, 편광자(7)의 제1 단부(7e)의 폭(W)(편광판의 가로폭)을 120 ㎜로 조정하였다.In the comparative example 1B, the recessed notch was not formed in the horizontal side (1st edge part) of a 2nd laminated body. As shown in FIG. 6, in the comparative example 1B, the circular hole which penetrates a 2nd laminated body was formed in the center part of the surface of a 2nd laminated body. The inner diameter φ of this through hole was 2.5 mm. The through hole was formed by press working using a pinnacle blade. In Comparative Example 1B, the width W (width of the polarizing plate) of the first end 7e of the polarizer 7 was adjusted to 120 mm.

이상의 사항을 제외하고 비교예 1과 동일한 방법으로, 비교예 1B의 편광판을 제작하였다. 비교예 1의 경우와 마찬가지로, 비교예 1B의 편광판을 이용한 히트 사이클 시험을 행하였다.Except the above matter, the polarizing plate of the comparative example 1B was produced by the method similar to the comparative example 1. As in the case of Comparative Example 1, a heat cycle test using a polarizing plate of Comparative Example 1B was performed.

(비교예 2B)(Comparative Example 2B)

비교예 2B에서는, 제2 적층체의 가로변(제1 단부)에 오목형의 절결부를 형성하지 않았다. 도 6에 도시된 바와 같이, 비교예 2B에서는, 제2 적층체의 표면의 중심부에 있어서, 제2 적층체를 관통하는 원형의 구멍을 형성하였다. 이 관통 구멍의 내경(φ)은, 2.5 ㎜였다. 관통 구멍은, 피너클날을 이용한 프레스 가공에 의해 형성하였다. 비교예 2B에서는, 편광자(7)의 제1 단부(7e)의 폭(W)(편광판의 가로폭)을 120 ㎜로 조정하였다.In the comparative example 2B, the recessed notch was not formed in the horizontal side (1st edge part) of a 2nd laminated body. As shown in FIG. 6, in the comparative example 2B, the circular hole which penetrates a 2nd laminated body was formed in the center part of the surface of a 2nd laminated body. The inner diameter φ of this through hole was 2.5 mm. The through hole was formed by press working using a pinnacle blade. In Comparative Example 2B, the width W (width of the polarizing plate) of the first end 7e of the polarizer 7 was adjusted to 120 mm.

이상의 사항을 제외하고 비교예 2와 동일한 방법으로, 비교예 2B의 편광판을 제작하였다. 비교예 1의 경우와 마찬가지로, 비교예 2B의 편광판을 이용한 히트 사이클 시험을 행하였다.Except the above matter, the polarizing plate of the comparative example 2B was produced by the method similar to the comparative example 2. As in the case of Comparative Example 1, a heat cycle test using a polarizing plate of Comparative Example 2B was performed.

(비교예 3B)(Comparative Example 3B)

비교예 3B에서는, 제2 적층체의 가로변(제1 단부)에 오목형의 절결부를 형성하지 않았다. 도 6에 도시된 바와 같이, 비교예 3B에서는, 제2 적층체의 표면의 중심부에 있어서, 제2 적층체를 관통하는 구멍을 형성하였다. 이 관통 구멍의 내경(φ)은, 2.5 ㎜였다. 관통 구멍은, 피너클날을 이용한 프레스 가공에 의해 형성하였다. 비교예 3B에서는, 편광자(7)의 제1 단부(7e)의 폭(W)(편광판의 가로폭)을 120 ㎜로 조정하였다.In the comparative example 3B, the recessed notch was not formed in the horizontal side (1st edge part) of a 2nd laminated body. As shown in FIG. 6, in the comparative example 3B, the hole which penetrates a 2nd laminated body was formed in the center part of the surface of a 2nd laminated body. The inner diameter φ of this through hole was 2.5 mm. The through hole was formed by press working using a pinnacle blade. In Comparative Example 3B, the width W (width of the polarizing plate) of the first end 7e of the polarizer 7 was adjusted to 120 mm.

이상의 사항을 제외하고 비교예 3과 동일한 방법으로, 비교예 3B의 편광판을 제작하였다. 비교예 1의 경우와 마찬가지로, 비교예 3B의 편광판을 이용한 히트 사이클 시험을 행하였다.Except the above matter, the polarizing plate of the comparative example 3B was produced by the method similar to the comparative example 3. As in the case of Comparative Example 1, a heat cycle test using a polarizing plate of Comparative Example 3B was conducted.

실시예 1B 및 비교예 1B∼3B 각각의 히트 사이클 시험의 결과를, 하기 표 3에 나타낸다.The result of the heat cycle test of each of Example 1B and Comparative Examples 1B to 3B is shown in Table 3 below.

<열 불균일의 평가><Evaluation of Heat Unevenness>

편광자(7)의 흡수축 방향(da)과 절결부(7C)가 연장되는 방향(dc)이 평행한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 실시예 1C의 편광판을 제작하였다. 편광자(7)의 흡수축 방향(da)과 절결부(7C)가 연장되는 방향(dc)이 평행한 것 이외에는 비교예 1과 동일한 비교예 1C의 편광판을 제작하였다. 편광자(7)의 흡수축 방향(da)과 절결부(7C)가 연장되는 방향(dc)이 이루는 각도(θ)가 45°인 것 이외에는 비교예 1과 동일한 비교예 1C'의 편광판을 제작하였다.The polarizing plate of Example 1C similar to Example 1 was produced except that the absorption axis direction da of the polarizer 7 and the direction dc in which the notch 7C extends are parallel. A polarizing plate of Comparative Example 1C similar to Comparative Example 1 was produced except that the absorption axis direction da of the polarizer 7 and the direction dc in which the cutout portions 7C extended were parallel. A polarizing plate of Comparative Example 1C ′ similar to Comparative Example 1 was produced except that the angle θ formed between the absorption axis direction da of the polarizer 7 and the direction dc of the cutout portion 7C was 45 °. .

상기한 히트 사이클 시험의 경우와 동일한 방법으로, 실시예 1C의 샘플을 준비하였다. 건조된 오븐 내에 샘플을 설치하고, 샘플을 85℃에서 2시간 가열하였다. 가열 후의 실시예 1C의 편광판을 크로스 니콜 상태에서 관찰하였다.In the same manner as in the heat cycle test described above, a sample of Example 1C was prepared. The sample was placed in a dried oven and the sample was heated at 85 ° C. for 2 hours. The polarizing plate of Example 1C after heating was observed in a cross nicol state.

실시예 1C와 동일한 순서로, 가열 후의 비교예 1C 및 비교예 1C' 각각의 편광판을 크로스 니콜 상태에서 관찰하였다.In the same procedure as in Example 1C, the polarizing plates of Comparative Example 1C and Comparative Example 1C 'after heating were observed in a cross nicol state.

상기 관찰의 결과, 비교예 1C 및 1C' 각각의 편광판에서는 광 누설(화이트 스폿) 및 열 불균일이 있었다. 광 누설(화이트 스폿) 및 열 불균일은, 각 편광판이 수지층(9)을 구비하지 않아, 가열에 따라 큰 수축 응력이 편광자(7)의 연신 방향에 있어서 발생한 것에 기인한다. 한편, 실시예 1C의 각 편광판에서는 광 누설(화이트 스폿) 및 열 불균일이 없었다.As a result of the observation, light leakage (white spot) and thermal nonuniformity existed in the polarizing plates of Comparative Examples 1C and 1C ', respectively. Light leakage (white spot) and thermal nonuniformity are because each polarizing plate does not have the resin layer 9, and large shrinkage stress generate | occur | produced in the extending direction of the polarizer 7 with heating. On the other hand, in each polarizing plate of Example 1C, there was no light leakage (white spot) and heat nonuniformity.

실시예 1C와 동일한 순서로, 가열 후의 실시예 1B 및 비교예 1B 각각의 편광판을 크로스 니콜 상태에서 관찰하였다.In the same procedure as in Example 1C, the polarizing plates of Example 1B and Comparative Example 1B after heating were observed in a cross nicol state.

상기 관찰의 결과, 비교예 1B의 편광판에서는 광 누설(화이트 스폿) 및 열 불균일이 있었다. 광 누설(화이트 스폿) 및 열 불균일은, 비교예 1B의 편광판이 수지층(9)을 구비하지 않아, 가열에 따라 큰 수축 응력이 편광자(7)의 연신 방향에 있어서 발생한 것에 기인한다. 한편, 실시예 1B의 각 편광판에서는 광 누설(화이트 스폿) 및 열 불균일이 없었다.As a result of the observation, in the polarizing plate of Comparative Example 1B, there were light leakage (white spot) and thermal nonuniformity. The light leakage (white spot) and thermal nonuniformity are due to the polarizing plate of Comparative Example 1B not having the resin layer 9, and a large shrinkage stress occurred in the stretching direction of the polarizer 7 with heating. On the other hand, in each polarizing plate of Example 1B, there was no light leakage (white spot) and heat nonuniformity.

Figure pct00006
Figure pct00006

(실시예 2∼6)(Examples 2 to 6)

이하에 설명되는 바와 같이, 수지층(9)의 조성이 상이한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로, 실시예 2∼6 각각의 편광판을 제작하였다. 즉, 실시예 2∼6 각각의 수지층(9)의 원료에 이용한 혼합물의 조성은, 실시예 1에서 이용된 상기 혼합물의 조성과 상이하다.As described below, the polarizing plates of Examples 2 to 6 were produced in the same manner as in Example 1 except that the composition of the resin layer 9 was different. That is, the composition of the mixture used for the raw material of each resin layer 9 of Examples 2-6 differs from the composition of the said mixture used in Example 1.

실시예 2∼6 각각의 수지층(9)의 원료로서, 하기 표 4에 나타나는 각 화합물로 혼합물을 조제하였다. 실시예 2∼6 각각의 혼합물에 있어서의 각 화합물의 배합비(단위: 질량부)는, 하기 표 4에 나타나는 값으로 조정되었다.As a raw material of each resin layer 9 of Examples 2-6, the mixture was prepared with each compound shown in Table 4 below. The compounding ratio (unit: mass part) of each compound in each mixture of Examples 2-6 was adjusted to the value shown in Table 4 below.

하기 표 4 중의 「CEL2021P」란, 실시예 1에서 이용한 화합물 A와 동일하다."CEL2021P" in the following Table 4 is the same as that of Compound A used in Example 1.

하기 표 4 중의 「EHPE3150」이란, 가부시키가이샤 다이셀 제조의 2,2-비스(히드록시메틸)-1-부탄올의 1,2-에폭시-4-(2-옥시라닐)시클로헥산 부가물(즉 에폭시계 화합물)이다."EHPE3150" of following Table 4 is the 1, 2- epoxy- 4- (2- oxiranyl) cyclohexane addition product of 2, 2-bis (hydroxymethyl) -1- butanol by the Daicel Corporation | Namely an epoxy compound).

하기 표 4 중의 「EX-214L」이란, 나가세 켐텍스 가부시키가이샤 제조의 데나콜 EX-L 시리즈의 1종이고, 1,4-부탄디올디글리시딜에테르(즉 에폭시계 화합물)이다."EX-214L" of following Table 4 is 1 type of the Denacol EX-L series by Nagase Chemtex Co., Ltd., and is 1, 4- butanediol diglycidyl ether (that is, an epoxy compound).

하기 표 4 중의 「VG3101L」이란, 실시예 1에서 이용한 화합물 B와 동일하다."VG3101L" in the following Table 4 is the same as that of Compound B used in Example 1.

하기 표 4 중의 「OXT-221」이란, 실시예 1에서 이용한 화합물 C와 동일하다."OXT-221" in the following Table 4 is the same as that of the compound C used in Example 1.

하기 표 4 중의 「A-DCP」란, 신나카무라 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제조의 트리시클로데칸디메탄올디아크릴레이트(즉 (메트)아크릴계 화합물)이다."A-DCP" in following Table 4 is the tricyclodecane dimethanol diacrylate (namely, a (meth) acrylic-type compound) by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. make.

하기 표 4 중의 「CPI-100P」란, 산아프로 가부시키가이샤 제조의 트리아릴술포늄염 타입의 광산 발생제(광양이온 중합 개시제)이다."CPI-100P" in following Table 4 is a photo-acid generator (photocationic polymerization initiator) of the triaryl sulfonium salt type by San Afro Corporation.

하기 표 4 중의 「IRGACURE 1173」은, IGM Resins B.V. 제조의 구상품명(현상품명: Omnirad 1173)이고, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온(광중합 개시제)이다."IRGACURE 1173" in the following Table 4 is IGM Resins B.V. It is the former brand name (current brand name: Omnirad 1173) of manufacture, and 2-hydroxy- 2-methyl- 1-phenyl- propane- 1-one (photoinitiator).

Figure pct00007
Figure pct00007

실시예 1의 경우와 동일한 방법으로, 실시예 2∼6 각각의 편광판을 이용한 히트 사이클 시험을 행하였다. 240회의 사이클 후 및 500회의 사이클 후의 각 시점에 있어서, 실시예 2∼6 각각의 편광자(7)의 절결부(7C)에는 크랙이 없었다.In the same manner as in the case of Example 1, heat cycle tests using the polarizing plates of Examples 2 to 6 were performed. At each time point after 240 cycles and 500 cycles, the notch 7C of the polarizer 7 in each of Examples 2 to 6 had no cracks.

(실시예 2B, 3B, 4B, 5B, 6B)(Examples 2B, 3B, 4B, 5B, 6B)

실시예 2B의 수지층(9)의 조성은, 실시예 2의 수지층(9)의 조성과 동일하였다. 실시예 3B의 수지층(9)의 조성은, 실시예 3의 수지층(9)의 조성과 동일하였다. 실시예 4B의 수지층(9)의 조성은, 실시예 4의 수지층(9)의 조성과 동일하였다. 실시예 5B의 수지층(9)의 조성은, 실시예 5의 수지층(9)의 조성과 동일하였다. 실시예 6B의 수지층(9)의 조성은, 실시예 6의 수지층(9)의 조성과 동일하였다.The composition of the resin layer 9 of Example 2B was the same as that of the resin layer 9 of Example 2. The composition of the resin layer 9 of Example 3B was the same as that of the resin layer 9 of Example 3. The composition of the resin layer 9 of Example 4B was the same as that of the resin layer 9 of Example 4. The composition of the resin layer 9 of Example 5B was the same as that of the resin layer 9 of Example 5. The composition of the resin layer 9 of Example 6B was the same as that of the resin layer 9 of Example 6.

이상의 사항을 제외하고 실시예 1B와 동일한 방법으로, 실시예 2B, 3B, 4B, 5B 및 6B 각각의 편광판을 제작하였다. 즉, 실시예 1B의 편광판과 마찬가지로, 실시예 2B, 3B, 4B, 5B 및 6B 각각의 편광판에는, 원형의 관통 구멍이 형성되었다.Except the above, the polarizing plates of Example 2B, 3B, 4B, 5B, and 6B were produced by the method similar to Example 1B. That is, similarly to the polarizing plate of Example 1B, circular through holes were formed in each of the polarizing plates of Example 2B, 3B, 4B, 5B, and 6B.

실시예 1의 경우와 동일한 방법으로, 실시예 2B, 3B, 4B, 5B 및 6B 각각의 편광판을 이용한 히트 사이클 시험을 행하였다. 240회의 사이클 후 및 500회의 사이클 후의 각 시점에 있어서, 실시예 2B, 3B, 4B, 5B 및 6B 각각의 편광자(7)의 절결부(7C)에는 크랙이 없었다.In the same manner as in the case of Example 1, a heat cycle test using polarizing plates of Examples 2B, 3B, 4B, 5B, and 6B was performed. At each time point after 240 cycles and 500 cycles, the notch 7C of the polarizer 7 in each of Examples 2B, 3B, 4B, 5B, and 6B was free of cracks.

실시예 1C의 경우와 마찬가지로, 실시예 2B, 3B, 4B, 5B 및 6B 각각의 편광판을 85℃에서 2시간 가열한 후, 실시예 2B, 3B, 4B, 5B 및 6B 각각의 편광판을 크로스 니콜 상태에서 관찰하였다. 실시예 2B, 3B, 4B, 5B 및 6B의 어느 편광판에 있어서도, 광 누설(화이트 스폿) 및 열 불균일이 없었다.As in the case of Example 1C, the polarizing plates of Examples 2B, 3B, 4B, 5B, and 6B were heated at 85 ° C. for 2 hours, and then the polarizing plates of Examples 2B, 3B, 4B, 5B, and 6B were cross nicoled. Observed at In any of the polarizing plates of Examples 2B, 3B, 4B, 5B, and 6B, there was no light leakage (white spot) and thermal nonuniformity.

(실시예 2C, 3C, 4C, 5C, 6C)(Examples 2C, 3C, 4C, 5C, 6C)

편광자(7)의 흡수축 방향(da)과 절결부(7C)가 연장되는 방향(dc)이 평행한 것 이외에는 실시예 2와 동일한 실시예 2C의 편광판을 제작하였다.The polarizing plate of Example 2C similar to Example 2 was produced except that the absorption axis direction da of the polarizer 7 and the direction dc in which the notch 7C extends are parallel.

편광자(7)의 흡수축 방향(da)과 절결부(7C)가 연장되는 방향(dc)이 평행한 것 이외에는 실시예 3과 동일한 실시예 3C의 편광판을 제작하였다.The polarizing plate of Example 3C similar to Example 3 was produced except that the absorption axis direction da of the polarizer 7 and the direction dc in which the notch 7C extends are parallel.

편광자(7)의 흡수축 방향(da)과 절결부(7C)가 연장되는 방향(dc)이 평행한 것 이외에는 실시예 4와 동일한 실시예 4C의 편광판을 제작하였다.The polarizing plate of Example 4C similar to Example 4 was produced except that the absorption axis direction da of the polarizer 7 and the direction dc in which the notch 7C extends were parallel.

편광자(7)의 흡수축 방향(da)과 절결부(7C)가 연장되는 방향(dc)이 평행한 것 이외에는 실시예 5와 동일한 실시예 5C의 편광판을 제작하였다.The polarizing plate of Example 5C similar to Example 5 was produced except that the absorption axis direction da of the polarizer 7 and the direction dc in which the notch 7C extends are parallel.

편광자(7)의 흡수축 방향(da)과 절결부(7C)가 연장되는 방향(dc)이 평행한 것 이외에는 실시예 6과 동일한 실시예 6C의 편광판을 제작하였다.The polarizing plate of Example 6C similar to Example 6 was produced except that the absorption axis direction da of the polarizer 7 and the direction dc in which the notch 7C extends are parallel.

<열 불균일의 평가><Evaluation of Heat Unevenness>

실시예 1C의 경우와 마찬가지로, 실시예 2C, 3C, 4C, 5C 및 6C 각각의 편광판을 85℃에서 2시간 가열한 후, 실시예 2C, 3C, 4C, 5C 및 6C 각각의 편광판을 크로스 니콜 상태에서 관찰하였다. 실시예 2C, 3C, 4C, 5C 및 6C의 어느 편광판에 있어서도, 광 누설(화이트 스폿) 및 열 불균일이 없었다.As in the case of Example 1C, the polarizing plates of Examples 2C, 3C, 4C, 5C, and 6C were heated at 85 ° C. for 2 hours, and then the polarizing plates of Examples 2C, 3C, 4C, 5C, and 6C were cross nicol. Observed at In any of the polarizing plates of Examples 2C, 3C, 4C, 5C, and 6C, there was no light leakage (white spot) and thermal nonuniformity.

본 발명에 따른 편광판은, 예컨대, 액정 셀 또는 유기 EL 디바이스 등에 접착되어, 액정 텔레비전, 유기 EL 텔레비전 또는 스마트폰 등의 화상 표시 장치를 구성하는 광학 부품으로서 적용된다.The polarizing plate according to the present invention is applied to, for example, a liquid crystal cell or an organic EL device, and is applied as an optical component constituting an image display device such as a liquid crystal television, an organic EL television or a smartphone.

1A, 1Aa, 1B: 편광판 3: 제2 보호 필름
5: 제1 보호 필름 7: 편광자
7C: 절결부 7e: 편광자의 단부(제1 단부)
9: 수지층 10: 액정 셀
11: 점착층 13: 이형 필름
17e: 편광자의 제2 단부 20A: 액정 패널
30A: 액정 표시 장치(화상 표시 장치) 21: 편광자를 관통하는 구멍
da: 편광자의 흡수축 방향 dc: 절결부가 연장되는 방향
θ: 편광자의 흡수축 방향과 절결부가 연장되는 방향이 이루는 각도
1A, 1Aa, 1B: Polarizing plate 3: 2nd protective film
5: 1st protective film 7: polarizer
7C: notch 7e: end of polarizer (first end)
9: resin layer 10: liquid crystal cell
11: adhesion layer 13: release film
17e: second end of polarizer 20A: liquid crystal panel
30A: Liquid Crystal Display (Image Display) 21: Hole Through Polarizer
da: absorption axis direction of polarizer dc: direction in which the notch extends
θ: angle formed between the absorption axis direction of the polarizer and the direction in which the cutouts extend

Claims (8)

필름형의 편광자와,
수지 경화물을 포함하는 수지층을 구비하고,
상기 수지층이, 상기 편광자에 겹쳐지며, 또한 상기 편광자에 밀착되어 있고,
오목형의 절결부가, 상기 편광자의 단부에 형성되어 있는 편광판.
With a film polarizer,
A resin layer containing a cured resin product,
The resin layer is superimposed on the polarizer and in close contact with the polarizer,
The recessed cutout part is formed in the edge part of the said polarizer.
필름형의 편광자와,
수지 경화물을 포함하는 수지층을 구비하고,
상기 수지층이, 상기 편광자에 겹쳐지며, 또한 상기 편광자에 밀착되어 있고,
상기 편광자를 관통하는 구멍이 형성되는 편광판.
With a film polarizer,
A resin layer containing a cured resin product,
The resin layer is superimposed on the polarizer and in close contact with the polarizer,
A polarizing plate is formed through the hole of the polarizer.
제1항 또는 제2항에 있어서, 점착층을 더 구비하고,
상기 점착층이, 상기 수지층에 겹쳐지며, 또한 상기 수지층에 밀착되어 있는 편광판.
According to claim 1 or 2, further comprising an adhesive layer,
The said adhesive layer is overlapped with the said resin layer, and the polarizing plate is in close contact with the said resin layer.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 수지 경화물은, 에폭시계 화합물을 포함하는 편광판.The polarizing plate of any one of Claims 1-3 in which the said resin hardened | cured material contains an epoxy type compound. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 수지 경화물은, 옥세탄계 화합물을 포함하는 편광판.The polarizing plate of any one of Claims 1-4 in which the said resin hardened | cured material contains an oxetane type compound. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 수지 경화물은, (메트)아크릴계 화합물을 포함하는 편광판.The polarizing plate of any one of Claims 1-5 in which the said resin hardened | cured material contains a (meth) acrylic-type compound. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 수지층은, 오버코트층인 편광판.The polarizing plate according to any one of claims 1 to 6, wherein the resin layer is an overcoat layer. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 편광판을 포함하는 화상 표시 장치.The image display apparatus containing the polarizing plate of any one of Claims 1-7.
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