KR102092471B1 - Polarizing plate and image display apparatus comprising the same - Google Patents

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Abstract

본 명세서는 편광자; 및 상기 편광자의 일면 또는 양면에 상기 편광자에 직접 접하여 구비된 보호층을 포함하고, 상기 보호층은 에폭시 화합물 및 옥세탄계 화합물을 포함하는 편광판 보호층용 광경화성 조성물의 경화물인 편광판 및 상기 편광판을 포함하는 화상표시장치를 제공한다.This specification is a polarizer; And a protective layer provided on one or both surfaces of the polarizer in direct contact with the polarizer, wherein the protective layer comprises a polarizing plate and the polarizing plate which is a cured product of a photocurable composition for a polarizing plate protective layer comprising an epoxy compound and an oxetane-based compound. An image display device is provided.

Description

편광판 및 이를 포함하는 화상표시장치{POLARIZING PLATE AND IMAGE DISPLAY APPARATUS COMPRISING THE SAME}Polarizing plate and image display device including the same {POLARIZING PLATE AND IMAGE DISPLAY APPARATUS COMPRISING THE SAME}

본 출원은 2017년 9월 22일자로 한국 특허청에 제출된 제10-2017-0122686 호 의 출원일의 이익을 주장하며, 그 내용 전부는 본 명세서에 포함된다.This application claims the benefit of the filing date of No. 10-2017-0122686 filed with the Korean Intellectual Property Office on September 22, 2017, the entire contents of which are incorporated herein.

본 명세서는 편광판 및 이를 포함하는 화상표시장치에 관한 것이다.This specification relates to a polarizing plate and an image display device including the same.

기존 액정 표시 장치용 편광판은 일반적인 폴리비닐알코올계 편광자를 사용하고, 그 편광자의 적어도 한쪽 면에 TAC 등의 보호필름을 부착하는 구성으로 되어 있다.Conventional polarizing plates for liquid crystal displays use a general polyvinyl alcohol-based polarizer, and are configured to attach a protective film such as TAC to at least one side of the polarizer.

최근 편광판 시장에서는 저빛샘 및 박형화에 따른 요구가 높아지고 있어, 이 물성을 만족하기 위하여 기존의 미리 제막한 보호 기재를 적용하는 대신 편광자 상에 직접 보호막을 형성하는 방법이 검토되고 있다.Recently, in the polarizer market, the demand for low light leakage and thinning is increasing, and a method of forming a protective film directly on a polarizer is being investigated instead of applying a conventional pre-formed protective substrate to satisfy this property.

다만, 기존 폴리비닐알코올계 연신 타입 폴리비닐알코올계 편광자 상에 직접 보호막을 형성하는 경우, 기존처럼 양면에 보호기재를 적용하는 경우에 비해 고온에서 편광자 수축에 의해 발생되는 응력에 의해 편광자의 찢어짐 현상이 발생되는 문제를 해결하기 어려웠다.However, when the protective film is directly formed on the existing polyvinyl alcohol-based stretched type polyvinyl alcohol-based polarizer, the polarizer is torn due to the stress caused by the contraction of the polarizer at high temperature compared to the case where a protective substrate is applied to both surfaces as in the past. It was difficult to solve the problem that occurred.

일본 특허공개공보 2006-199855Japanese Patent Publication No. 2006-199855

본 명세서는 편광판 및 이를 포함하는 화상표시장치를 제공한다.The present specification provides a polarizing plate and an image display device including the same.

본 명세서는 편광자; 및This specification is a polarizer; And

상기 편광자의 일면 또는 양면에 상기 편광자에 직접 접하여 구비된 보호층을 포함하고,A protective layer provided in direct contact with the polarizer on one or both sides of the polarizer,

상기 보호층은 에폭시 화합물 및 옥세탄계 화합물을 포함하는 편광판 보호층용 광경화성 조성물의 경화물이고,The protective layer is a cured product of a photocurable composition for a polarizing plate protective layer comprising an epoxy compound and an oxetane-based compound,

상기 보호층의 푸리에 변환 적외분광법(FTIR)에 의한 스펙트럼에 있어서, 하기 식 1을 만족하고,In the spectrum by the Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR) of the protective layer, the following equation 1 is satisfied,

상기 보호층의 두께가 4 ㎛ 내지 11㎛이고,The thickness of the protective layer is 4㎛ to 11㎛,

상기 보호층의 푸리에 변환 적외분광법(FTIR)에 의한 스펙트럼에 있어서, 하기 식 1을 만족하는 것인 편광판을 제공한다.In the spectrum by the Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR) of the protective layer, to provide a polarizing plate that satisfies the following equation (1).

[식 1][Equation 1]

Figure 112018094257594-pat00001
Figure 112018094257594-pat00001

상기 식 1에 있어서,In the above formula 1,

Ie는 상기 보호층의 푸리에 변환 적외분광법(FTIR)에 의한 스펙트럼에서 1740cm-1 내지 1700cm-1에서의 피크 강도 대비 920 cm-1 내지 900cm-1에서의 피크 강도의 비율이고,I e is the ratio of the peak intensity in the protective layer Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR) 1740cm -1 to 1700cm -1 in the spectra due to the peak intensity compared to 920 cm -1 to 900cm -1 in a,

Ia는 상기 보호층의 푸리에 변환 적외분광법(FTIR)에 의한 스펙트럼에서 1740cm-1 내지 1700cm-1에서의 피크 강도 대비 1420 cm-1 내지 1380cm-1에서의 피크 강도이다.I a is the peak intensity in the Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR) spectrum 1740cm -1 to 1700cm -1 1420 cm -1 peak intensity compared to 1380cm -1 in at by the protective layer.

또한, 본 명세서는 상술한 편광판을 포함하는 화상표시장치를 제공한다.In addition, the present specification provides an image display device including the polarizing plate described above.

본 명세서의 일 실시상태에 따른 편광판은 종래의 접착층이 개재되는 것을 필수로 하는 기재층을 하나의 코팅층으로 대체하여, 편광판의 박막화, 경량화 및 가격과 공정의 최소화가 가능하다는 장점을 가진다.The polarizing plate according to an exemplary embodiment of the present specification has the advantage of replacing the base layer, which requires that the conventional adhesive layer is interposed, with a single coating layer, so that thinning, lightening of the polarizing plate, and minimization of cost and process are possible.

본 명세서의 일 실시상태에 따른 편광판은 위상차가 적거나 거의 없는 장점을 가진다.The polarizing plate according to an exemplary embodiment of the present specification has the advantage of little or little phase difference.

본 명세서의 일 실시상태에 따른 편광판은 인장 탄성률과 저장 탄성률이 높은 보호층을 포함함으로써, 보호층의 형성하기 위하여 보호층용 광경화성 조성물을 경화할 때 수축이 크게 발생하지 않는 장점이 있다.The polarizing plate according to an exemplary embodiment of the present specification includes a protective layer having a high tensile elasticity modulus and a storage elastic modulus, and thus has a merit that shrinkage does not occur significantly when curing the photocurable composition for a protective layer to form a protective layer.

또한, 고온 또는 고습 환경하에서도 편광자의 수축 또는 팽창에 의한 빛샘 현상을 억제할 수 있는 장점이 있다.In addition, even in a high temperature or high humidity environment, there is an advantage that can suppress the light leakage phenomenon due to shrinkage or expansion of the polarizer.

또한, 보호층의 인장 탄성률과 인장 탄성률이 높은 특성을 가지고 있어, 보호층 상에 별도의 보호필름을 포함하지 않더라도, 높은 내구성을 갖는 장점이 있다.In addition, since the tensile modulus and tensile modulus of the protective layer have high properties, even if a separate protective film is not included on the protective layer, there is an advantage of having high durability.

본 명세서의 일 실시상태에 따른 편광판은 고온 환경하에서 내구성이 우수하여, 대면적을 갖는 액정표시장치에 적용시 빛샘 현상을 억제할 수 있는 장점이 있다.The polarizing plate according to an exemplary embodiment of the present specification is excellent in durability under a high temperature environment, and has an advantage of suppressing light leakage when applied to a liquid crystal display having a large area.

또한, 본 명세서의 일 실시상태에 따른 편광판은 보호층의 황변 현상이 발생하는 것을 최소화할 수 있다.In addition, the polarizing plate according to an exemplary embodiment of the present specification can minimize the occurrence of yellowing of the protective layer.

도 1은 본 명세서의 일 실시상태에 따른 편광판을 도시한 것이다.
도 2는 본 명세서의 다른 실시상태에 따른 편광판을 도시한 것이다.
도 3은 본 명세서의 또 다른 실시상태에 따른 편광판을 도시한 것이다.
도 4는 본 명세서의 일 실시상태에 따른 화상표시장치의 일례를 보여주는 단면도이다.
도 5는 비교예 8의 편광판의 보호층에 대한 FTIR 스펙트럼이다.
도 6은 실시예 1의 편광판의 보호층에 대한 FTIR 스펙트럼이다.
1 shows a polarizing plate according to an exemplary embodiment of the present specification.
2 shows a polarizing plate according to another exemplary embodiment of the present specification.
3 shows a polarizing plate according to another exemplary embodiment of the present specification.
4 is a cross-sectional view showing an example of an image display device according to an exemplary embodiment of the present specification.
5 is an FTIR spectrum of the protective layer of the polarizing plate of Comparative Example 8.
6 is an FTIR spectrum of the protective layer of the polarizing plate of Example 1.

이하, 본 발명에 대하여 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described.

본 명세서에서 어떤 부재가 다른 부재 "상에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.When a member is referred to as being “on” another member in the present specification, this includes not only the case where one member abuts another member, but also another member between the two members.

본 명세서에서 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.In the present specification, when a part “includes” a certain component, this means that other components may be further included rather than excluding other components unless specifically stated to the contrary.

본 명세서에 있어서, FTIR은 푸리에 변환 적외분광법(Fourier transform infrared spectroscopy: FTIR)을 의미하며, 측정 시 Varian 3100 FT-IR(Varian 사 제조)을 사용할 수 있다.In the present specification, FTIR means Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR), and Varian 3100 FT-IR (manufactured by Varian) may be used for measurement.

본 명세서에 있어서, 상기 "1740cm-1 내지 1700cm-1에서의 피크 강도"는 보호층의 C=O 결합에 대한 피크 강도로써, 다른 피크 강도를 표준화하기 위하여 사용된다.In the present specification, the "peak intensity at 1740 cm -1 to 1700 cm -1 " is the peak intensity for the C = O bond of the protective layer, and is used to standardize other peak intensity.

본 명세서에 있어서, 상기 "920 cm-1 내지 900cm-1에서의 피크 강도"는 보호층의 옥세탄 화합물의 oxirane group의 C-O 결합(Stretching C-O of oxirane group)에 대한 피크 강도이다.In the present specification, the "peak intensity at 920 cm -1 to 900cm -1" is the peak intensity of the CO bond of the oxirane group of octanoic cetane compound (CO Stretching of oxirane group) of the protective layer.

본 명세서에 있어서, 상기 "1420 cm-1 내지 1380cm-1에서의 피크 강도"는 보호층의 아크릴 화합물의 =CH-H 결합(=CH-H band of acrylate)에 대한 피크 강도이고, 상기 Ie는 보호층의 에폭시기의 존재 여부를 나타내며, Ia는 보호층의 아크릴레이트기의 존재 여부를 나타낸다.In this specification, the peak intensity for the "1420 cm -1 to peak intensity at 1380cm -1" is = CH-H bond (= CH-H band of acrylate ) of the acrylic compound of the protective layer, the I e Indicates the presence of an epoxy group in the protective layer, and I a indicates the presence or absence of an acrylate group in the protective layer.

본 명세서에 있어서, 상기 피크 강도는 FTIR 스펙트럼의 피크 면적에 상응한다. 예를 들어, 상기 피크 면적은 직접 적분법에 의하여 도출될 수 있다. 또는 상기 FTIR 스펙트럼의 일 피크를 가우시안 분포로 가정하고, 상기 피크 면적은 상기 피크의 높이와 반값 폭(half value width)의 곱으로 표현될 수 있다.In this specification, the peak intensity corresponds to the peak area of the FTIR spectrum. For example, the peak area can be derived by direct integration. Alternatively, it is assumed that one peak of the FTIR spectrum is a Gaussian distribution, and the peak area can be expressed as a product of the height of the peak and a half value width.

본 명세서에 있어서, 상기 피크 강도는 보호층 조성물의 경화 전/후에 각각 측정될 수 있다.In the present specification, the peak intensities may be measured before and after curing of the protective layer composition, respectively.

이하, 본 명세서의 일 실시상태에 따른 편광판에 대하여 설명한다.Hereinafter, a polarizing plate according to an exemplary embodiment of the present specification will be described.

도 1에 따르면, 본 명세서의 일 실시상태에 따른 편광판은 편광자(10); 및 상기 편광자(10)의 일면 또는 양면에 상기 편광자에 직접 접하여 구비된 보호층(20)을 포함한다.According to FIG. 1, a polarizer according to an exemplary embodiment of the present specification includes a polarizer 10; And a protective layer 20 provided on one or both sides of the polarizer 10 in direct contact with the polarizer.

본 명세서는 편광자; 및This specification is a polarizer; And

상기 편광자의 일면 또는 양면에 상기 편광자에 직접 접하여 구비된 보호층을 포함하고,A protective layer provided in direct contact with the polarizer on one or both sides of the polarizer,

상기 보호층은 에폭시 화합물 및 옥세탄계 화합물을 포함하는 편광판 보호층용 광경화성 조성물의 경화물이고,The protective layer is a cured product of a photocurable composition for a polarizing plate protective layer comprising an epoxy compound and an oxetane-based compound,

상기 보호층의 푸리에 변환 적외분광법(FTIR)에 의한 스펙트럼에 있어서, 하기 식 1을 만족하고,In the spectrum by the Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR) of the protective layer, the following equation 1 is satisfied,

상기 보호층의 두께가 4 ㎛ 내지 11㎛이고,The thickness of the protective layer is 4㎛ to 11㎛,

상기 보호층의 푸리에 변환 적외분광법(FTIR)에 의한 스펙트럼에 있어서, 하기 식 1을 만족하는 것인 편광판을 제공한다.In the spectrum by the Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR) of the protective layer, to provide a polarizing plate that satisfies the following equation (1).

[식 1][Equation 1]

Figure 112018094257594-pat00002
Figure 112018094257594-pat00002

상기 식 1에 있어서,In the above formula 1,

Ie는 상기 보호층의 푸리에 변환 적외분광법(FTIR)에 의한 스펙트럼에서 1740cm-1 내지 1700cm-1에서의 피크 강도 대비 920 cm-1 내지 900cm-1에서의 피크 강도의 비율이고,I e is the ratio of the peak intensity in the protective layer Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR) 1740cm -1 to 1700cm -1 in the spectra due to the peak intensity compared to 920 cm -1 to 900cm -1 in a,

Ia는 상기 보호층의 푸리에 변환 적외분광법(FTIR)에 의한 스펙트럼에서 1740cm-1 내지 1700cm-1에서의 피크 강도 대비 1420 cm-1 내지 1380cm-1에서의 피크 강도이다. 상기 식 1을 만족한다는 것은 편광판의 보호층이 아크릴레이트기를 거의 포함하지 않는다는 것을 의미한다. 이 경우, 보호층이 아크릴레이트기 또는 아크릴 화합물을 포함하는 경우에 비하여 보호층의 인성(toughness)와 강도(hardness)가 향상되는 효과가 있다.I a is the peak intensity in the Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR) spectrum 1740cm -1 to 1700cm -1 1420 cm -1 peak intensity compared to 1380cm -1 in at by the protective layer. Satisfying Equation 1 means that the protective layer of the polarizing plate hardly contains an acrylate group. In this case, the toughness and hardness of the protective layer are improved compared to the case where the protective layer contains an acrylate group or an acrylic compound.

또한, 편광자 또는 편광판 연신 시에 편광자에 응력이 발생하고, 편광판을 고온에 노출할 때 편광자에 크랙이 발생하게 된다. 이를 방지하기 위해 편광자에 보호층을 도입하는데, 보호층이 아크릴레이트기 또는 아크릴 화합물을 포함하는 경우에는 보호층이 편광자를 효과적으로 보호할 수 없어서 고온에서 편광자에 크랙이 발생하는 문제가 있다.In addition, stress is generated in the polarizer when stretching the polarizer or the polarizer, and cracks are generated in the polarizer when the polarizer is exposed to high temperatures. In order to prevent this, a protective layer is introduced into the polarizer, but when the protective layer includes an acrylate group or an acrylic compound, the protective layer cannot effectively protect the polarizer, and thus there is a problem that cracks occur in the polarizer at high temperatures.

반면에, 보호층이 아크릴레이트기 또는 아크릴 화합물을 포함하지 않고, 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물을 포함하는 경우에는 보호층이 편광자를 효과적으로 보호하여, 고온에서 편광자에 크랙이 발생하는 것을 효과적으로 억제할 수 있다.On the other hand, when the protective layer does not contain an acrylate group or an acrylic compound, and includes an epoxy compound and an oxetane compound, the protective layer effectively protects the polarizer, so that cracking of the polarizer at high temperature can be effectively suppressed. have.

또한, 본 명세서의 일 실시상태에 따른 편광판은 보호층이 에폭시 화합물 및 옥세탄계 화합물을 포함하는 편광판 보호층용 광경화성 조성물의 경화물이고, 상기 보호층의 두께가 4 ㎛ 내지 11㎛인 것으로 조절하여 편광판 또는 보호층에 황변 현상이 나타나는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.In addition, the polarizing plate according to an exemplary embodiment of the present specification is a cured product of a photocurable composition for a protective layer of a polarizing plate comprising an epoxy compound and an oxetane-based compound, and the thickness of the protective layer is adjusted to be 4 μm to 11 μm. It is possible to effectively prevent yellowing from appearing on the polarizing plate or the protective layer.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 [식 1]은 하기 식 1-1 또는 식 1-2로 표시될 수 있다. 이 경우, 보호층이 아크릴레이트기 또는 아크릴 화합물을 포함하는 경우에 비하여 보호층의 인성(toughness)와 강도(hardness)가 향상되는 효과가 있다.In one embodiment of the present specification, [Equation 1] may be represented by the following Equation 1-1 or Equation 1-2. In this case, the toughness and toughness of the protective layer are improved compared to the case where the protective layer contains an acrylate group or an acrylic compound.

[식 1-1][Equation 1-1]

Figure 112018094257594-pat00003
Figure 112018094257594-pat00003

[식 1-2][Equation 1-2]

Figure 112018094257594-pat00004
Figure 112018094257594-pat00004

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 보호층의 두께는 4㎛ 내지 11㎛ 이고, 바람직하게는 5㎛ 내지 10㎛이고, 더욱 바람직하게는 6 ㎛ 내지 8㎛이다. 보호층의 두께가 상기 범위보다 작은 경우에는 보호층의 강도나 고온 내구성이 저하될 우려가 있으며, 상기 범위를 초과하는 경우에는 편광판의 박형화 측면에서 적합하지 않고, 보호층의 황색도가 크게 상승하는 문제가 있다. 따라서, 본 명세서의 편광판은 보호층의 두께를 상기 범위로 조절하여 보호층의 황색도가 상승하는 것을 억제하는 효과를 갖는다.In one embodiment of the present specification, the thickness of the protective layer is 4 μm to 11 μm, preferably 5 μm to 10 μm, and more preferably 6 μm to 8 μm. When the thickness of the protective layer is smaller than the above range, there is a fear that the strength or high temperature durability of the protective layer may be lowered, and when it exceeds the above range, it is not suitable in terms of thinning of the polarizing plate, and the yellowness of the protective layer is greatly increased. there is a problem. Therefore, the polarizing plate of the present specification has an effect of controlling the thickness of the protective layer to the above range to suppress the yellowness of the protective layer from rising.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 보호층의 황색도(Yp)이 1 이하, 바람직하게는 0.9 이하, 더욱 바람직하게는 0.8 이하일 수 있다. 상기 수치 범위를 만족할 때, 보호층에 발생된 황변 현상(yellowing) 에 의해 편광판의 광학 물성이 저하하는 것을 억제하는 장점을 갖는다.In one embodiment of the present specification, the yellowness (Yp) of the protective layer may be 1 or less, preferably 0.9 or less, and more preferably 0.8 or less. When the numerical range is satisfied, it has an advantage of suppressing the deterioration of the optical properties of the polarizing plate by yellowing generated in the protective layer.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 하기 식 2로 계산되는 황색도 변화(△Yp)가 1 이하, 바람직하게는 0.9 이하, 더욱 바람직하게는 0.8 이하이다.In one embodiment of the present specification, the change in yellowness (ΔYp) calculated by Equation 2 below is 1 or less, preferably 0.9 or less, and more preferably 0.8 or less.

[식 2][Equation 2]

황색도 변화: △Yp=Ybf-YbiYellowness change: △ Yp = Ybf-Ybi

상기 식 2에 있어서, Ybi는 상기 편광자의 황색도이고,In Formula 2, Ybi is the yellowness of the polarizer,

Ybf는 상기 편광판을 25℃ 및 40%의 상대습도 조건에서 48 시간 동안 방치하였을 때의 보호층의 황색도이다.Ybf is the yellowness of the protective layer when the polarizing plate is left for 48 hours at 25 ° C and 40% relative humidity.

본 명세서에 있어서, 상기 Ybi는 상기 편광자의 황색도로서, 보호층이 구비되지 않은 편광자 자체의 황색도 측정값을 의미한다.In the present specification, the Ybi is the yellowness of the polarizer, and means a yellowness measurement value of the polarizer itself without a protective layer.

본 명세서에 있어서, 상기 △Yp는 보호층이 형성된 편광판의 황색도(Ybf)와 보호층이 형성되지 않은 편광판의 황색도(Ybi)의 차이값으로써, 보호층 자체의 황색도(Yp)를 의미할 수 있다. 또한, 상기 보호층이 형성되지 않은 편광판의 황색도(Ybi)는 보호층이 적층되지 않은 편광자 자체의 황색도를 계산하고 이 결과를 사용할 수 있다.In the present specification, ΔYp is a difference between the yellowness (Ybf) of the polarizing plate on which the protective layer is formed and the yellowness (Ybi) of the polarizing plate on which the protective layer is not formed, and means the yellowness (Yp) of the protective layer itself. can do. In addition, the yellowness (Ybi) of the polarizing plate on which the protective layer is not formed may calculate the yellowness of the polarizer itself on which the protective layer is not laminated and use the result.

본 명세서에 있어서, 상기 황색도는 광선 분광계(V-7100, JASCO사 제조)를 이용하여 측정할 수 있다.In the present specification, the yellowness can be measured using a light spectrometer (V-7100, manufactured by JASCO).

기존 폴리비닐알코올계 연신 타입의 폴리비닐알코올계 편광자 상에 직접 보호막을 형성하는 경우, 기존처럼 양면에 보호기재를 적용하는 경우에 비해 고온에서 편광자 수축에 의해 발생되는 응력에 의해 편광자의 찢어짐 현상이 발생되는 문제를 해결하기 어려웠다. 또한, 보호기재에 따른 편광판의 광학특성 저하 문제를 방지하기 위하여, 위상차가 없고, 황변(Yellowing)이 없는 물성이 요구되어 왔다.When a protective film is directly formed on a conventional polyvinyl alcohol-based stretched type polyvinyl alcohol-based polarizer, tearing of the polarizer is caused by stress caused by the shrinkage of the polarizer at high temperatures compared to the case where a protective substrate is applied to both sides as in the past. It was difficult to solve the problem that occurred. In addition, in order to prevent the problem of deterioration of the optical properties of the polarizing plate according to the protective substrate, there has been a demand for a property without a phase difference and without yellowing.

따라서, 편광자 상에 직접 보호막을 형성하기 위해서는 고온에서 편광자의Therefore, in order to form a protective film directly on the polarizer, the polarizer

수축에 의한 응력을 견딜 수 있는 수준의 물성이 요구된다. 이러한 물성을 만족하는 보호막으로는 UV 경화형 양이온계 코팅층이 주로 사용된다. 양이온계 코팅층의 경우, 경화도 향상을 위하여 광개시제 및 광증감제가 주로 사용되는데, 이러한 과정에서 경화물의 황변으로 인하여 편광판의 광학특성이 저하되는 문제가 발생된다.Physical properties of a level capable of withstanding stress caused by shrinkage are required. As a protective film satisfying these properties, a UV-curable cationic coating layer is mainly used. In the case of the cationic coating layer, a photoinitiator and a photosensitizer are mainly used to improve the degree of curing, and in this process, a problem that the optical properties of the polarizing plate is deteriorated due to yellowing of the cured product.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 보호층의 80℃에서의 열팽창계수가 100 ppm/K 이하, 85 ppm/K 이하, 10 ppm/K 이상 100 ppm/K 이하, 또는 10 ppm/K 이상 85ppm/K 이하일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the thermal expansion coefficient at 80 ° C of the protective layer is 100 ppm / K or less, 85 ppm / K or less, 10 ppm / K or more, 100 ppm / K or less, or 10 ppm / K or more and 85 ppm / K or less.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 보호층의 80℃ 미만의 온도에서 측정한 열팽창계수가 100 ppm/K 이하, 85 ppm/K 이하, 10 ppm/K 이상 100 ppm/K 이하, 또는 10 ppm/K 이상 85ppm/K 이하일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the thermal expansion coefficient measured at a temperature of less than 80 ° C of the protective layer is 100 ppm / K or less, 85 ppm / K or less, 10 ppm / K or more, 100 ppm / K or less, or 10 ppm It may be / K or more and 85 ppm / K or less.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 보호층의 40℃ 초과 80℃ 미만의 온도에서 측정한 열팽창계수가 100 ppm/K 이하, 85 ppm/K 이하, 10 ppm/K 이상 100 ppm/K 이하, 또는 10 ppm/K 이상 85ppm/K 이하일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the thermal expansion coefficient measured at a temperature of greater than 40 ° C and less than 80 ° C of the protective layer is 100 ppm / K or less, 85 ppm / K or less, 10 ppm / K or more and 100 ppm / K or less, Or 10 ppm / K or more and 85 ppm / K or less.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 보호층의 70℃에서의 열팽창계수가 100 ppm/K 이하, 85 ppm/K 이하, 10 ppm/K 이상 100 ppm/K 이하, 또는 10 ppm/K 이상 85ppm/K 이하일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the thermal expansion coefficient at 70 ° C of the protective layer is 100 ppm / K or less, 85 ppm / K or less, 10 ppm / K or more, 100 ppm / K or less, or 10 ppm / K or more and 85 ppm / K or less.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 보호층의 60℃에서의 열팽창계수가 100 ppm/K 이하, 85 ppm/K 이하, 10 ppm/K 이상 100 ppm/K 이하, 또는 10 ppm/K 이상 85ppm/K 이하일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the thermal expansion coefficient at 60 ° C of the protective layer is 100 ppm / K or less, 85 ppm / K or less, 10 ppm / K or more, 100 ppm / K or less, or 10 ppm / K or more and 85 ppm / K or less.

상기 보호층의 열팽창계수가 상기 범위를 만족하는 경우, 내열충격 환경에서 편광판의 크랙이 발생을 효과적으로 억제한다는 장점이 있다. When the thermal expansion coefficient of the protective layer satisfies the above range, there is an advantage of effectively suppressing the occurrence of cracks in the polarizing plate in a heat shock resistant environment.

상기 열팽창계수의 측정 방법은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어, 상기 보호층과 동일한 조성을 갖는 광경화성 조성물을 도포하여 제작한 50㎛의 두께를 갖는 경화된 시편을 폭 6㎜ 및 길이 10㎜의 크기로 재단하고, Tension load를 0.05N으로 유지한 상태에서 온도를 30℃에서 시작하여 150℃까지 상승하면서 길이 변화를 측정한다. 이때 승온 속도는 5℃/min 이며, 측정이 완료된 후 40℃에서 목표 온도까지 변화된 길이로서 열팽창계수(CTE)값을 계산한다. 상기 목표 온도는 80℃ 또는 80℃ 미만의 온도로서, 예를 들면, 70℃ 또는 60℃가 있다.The method for measuring the coefficient of thermal expansion is not particularly limited, for example, a size of 6 mm in width and 10 mm in length of a cured specimen having a thickness of 50 μm prepared by applying a photocurable composition having the same composition as the protective layer. Cut to, and measure the change in length while maintaining the tension load at 0.05N, starting at 30 ℃ and rising to 150 ℃. At this time, the rate of temperature rise is 5 ° C / min, and after the measurement is completed, the thermal expansion coefficient (CTE) value is calculated as the changed length from 40 ° C to the target temperature. The target temperature is 80 ° C or less than 80 ° C, for example, 70 ° C or 60 ° C.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 보호층의 유리전이온도(Tg)가 90℃ 이상 170 ℃ 이하이고, 바람직하게는 100 ℃ 이상 150 ℃ 이하, 더욱 바람직하게는 100℃ 이상 130℃ 이하일 수 있다. 보호층의 유리전이온도가 상기 수치 범위를 만족하는 경우, 고온 환경하에서 보호층의 물성이 유지될 수 있는 장점이 있다.In one embodiment of the present specification, the glass transition temperature (Tg) of the protective layer is 90 ° C or more and 170 ° C or less, preferably 100 ° C or more and 150 ° C or less, and more preferably 100 ° C or more and 130 ° C or less . When the glass transition temperature of the protective layer satisfies the above numerical range, there is an advantage that the physical properties of the protective layer can be maintained under a high temperature environment.

상기 보호층의 유리전이온도는 이형필름(예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름)에 두께 6 내지 7 ㎛로 도포하고, 자외선을 조사하여 경화시킨 후, 이형 필름을 제거하고, 시편을 5~10 mg 취하여 DSC(differential scanning calorimetry)를 통해 측정한다. 이 때, 측정온도는 25℃의 시작 온도에서 5℃/min의 승온 속도로 150℃까지 승온하면서, Heat flow를 측정하여 그 변곡점에서 유리전이 온도를 측정한다.The glass transition temperature of the protective layer is coated on a release film (for example, polyethylene terephthalate film) with a thickness of 6 to 7 μm, cured by irradiating with ultraviolet rays, and then the release film is removed, and the specimen is 5 to 10 mg. It is taken and measured through differential scanning calorimetry (DSC). At this time, the measurement temperature is increased from the starting temperature of 25 ° C to 150 ° C at a heating rate of 5 ° C / min, and the heat flow is measured to measure the glass transition temperature at the inflection point.

보호층Protective layer

본 명세서의 일 실시상태에 따른 편광판은 편광자의 어느 일면 또는 양면에 직접 형성된 보호층을 포함한다. 편광자는 외부 충격에 취약하므로, 통상의 편광판은 편광자와 그 양면에 접착제로 접착된 보호필름을 포함한다. 그러한 경우에 부착된 보호필름의 두께만큼 편광판의 두께가 커지는 문제가 있다.The polarizing plate according to the exemplary embodiment of the present specification includes a protective layer directly formed on one or both surfaces of the polarizer. Since the polarizer is vulnerable to external shock, a conventional polarizing plate includes a polarizer and a protective film adhesively bonded to both surfaces. In such a case, there is a problem that the thickness of the polarizing plate is increased by the thickness of the protective film attached.

그러나, 본 명세서의 일 실시상태에 따른 편광판은 편광자의 일면 또는 양면에 구비된 보호층을 포함함으로써, 별도의 보호필름을 포함하지 않거나, 편광자의 일면에만 보호필름을 포함하여 두께가 현저히 감소되고, 원가 절감이 가능한 편광판을 제공한다. 이에, 박막 경량화된 화상표시장치를 구현할 수 있다.However, the polarizing plate according to an exemplary embodiment of the present specification includes a protective layer provided on one or both surfaces of the polarizer, so that a separate protective film is not included, or the thickness is significantly reduced by including the protective film on only one surface of the polarizer. Provided is a polarizing plate capable of cost reduction. Accordingly, it is possible to implement a thin film and light weight image display device.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 보호층은 편광자를 지지 및 보호하기 위한 것으로, 당해 기술 분야에 잘 알려진 방법에 의해 형성될 수 있다.In one embodiment of the present specification, the protective layer is for supporting and protecting the polarizer, and may be formed by a method well known in the art.

본 명세서의 일 실시상태에 따른 편광판의 보호층 각각은 상기 편광자에 직접 접하는 것일 수 있다. 상기 편광자의 어느 일면 또는 양면에 직접 접하는 것은, 접착제층의 개재 없이 편광자와 보호층이 접하는 것을 의미한다. 즉, 본 명세서의 따른 보호층은 접착제층 없이 편광자 상에 직접 형성됨으로써, 박형 편광판을 제공할 수 있다.Each of the protective layers of the polarizing plate according to the exemplary embodiment of the present specification may be in direct contact with the polarizer. Direct contact with one or both surfaces of the polarizer means that the polarizer and the protective layer contact without intervening an adhesive layer. That is, the protective layer according to the present specification is formed directly on the polarizer without the adhesive layer, thereby providing a thin polarizing plate.

본 명세서의 일 실시상태에 따른 편광판의 보호층 각각은 상기 편광자의 양면에 직접 접하는 것일 수 있다.Each of the protective layers of the polarizing plate according to an exemplary embodiment of the present specification may be in direct contact with both sides of the polarizer.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 보호층은 상기 편광자의 양면에 구비되는 것일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the protective layer may be provided on both sides of the polarizer.

본 명세서의 일 실시상태에 따른 편광판의 보호층은 편광자를 보호하면서 가혹 환경하에서 편광자의 크랙 발생을 억제할 수 있는 효과가 있다.The protective layer of the polarizing plate according to the exemplary embodiment of the present specification has an effect capable of suppressing the occurrence of cracks in the polarizer under harsh environments while protecting the polarizer.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 보호층의 80℃에서의 저장 탄성률이 1,500 Mpa 이상, 1,500 Mpa 이상 10,000Mpa 이하, 바람직하게는 1800 Mpa 이상 8,000Mpa 이하, 더욱 바람직하게는 2,000 Mpa 이상 7,000Mpa 이하이다. 보호층의 저장 탄성률이 상기 수치 범위를 만족하는 경우, 편광자에 가해지는 스트레스를 효과적으로 억제하여, 고온 또는 고습 환경에서 편광자의 수축 또는 팽창에 의한 편광자의 크랙 발생을 효과적으로 억제하는 효과가 있다. 또한, 편광자에 대한 접착력이 향상된다. 이로써, 고온에서의 편광판의 수축 및 팽창을 억제하여 편광판이 액정 패널 등에 적용되었을 때, 빛샘 현상이 발생하는 것을 방지할 수 있고, 우수한 접착력을 나타내는 장점이 있다. 특히, 상기 보호층의 80℃에서의 저장 탄성률이 2,000Mpa 이상 7,000Mpa 이하인 경우, 고온에서의 편광판의 수축이 효과적으로 억제되어 편광자 크랙 발생이 매우 효과적으로 억제될 수 있다는 장점이 있다.In one embodiment of the present specification, the storage modulus of the protective layer at 80 ° C is 1,500 Mpa or more, 1,500 Mpa or more, 10,000 Mpa or less, preferably 1800 Mpa or more and 8,000 Mpa or less, and more preferably 2,000 Mpa or more and 7,000 Mpa or more Is below. When the storage elastic modulus of the protective layer satisfies the above numerical range, stress applied to the polarizer is effectively suppressed, thereby effectively suppressing crack generation of the polarizer due to shrinkage or expansion of the polarizer in a high temperature or high humidity environment. In addition, adhesion to the polarizer is improved. Thus, by suppressing shrinkage and expansion of the polarizing plate at high temperature, when the polarizing plate is applied to a liquid crystal panel or the like, light leakage can be prevented from occurring, and there is an advantage of exhibiting excellent adhesion. Particularly, when the storage modulus of the protective layer at 80 ° C is 2,000 Mpa or more and 7,000 Mpa or less, the shrinkage of the polarizing plate at high temperature is effectively suppressed, so that generation of polarizer cracks can be effectively suppressed.

상기 보호층의 저장 탄성률은 이형필름(예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름)에 상기 보호층과 동일한 조성을 갖는 광경화성 조성물을 두께 50 ㎛로 도포하고, 광량 1000mJ/cm2 이상의 조건에서 자외선을 조사하여 경화시킨 후, 이형 필름을 제거하고, 시편을 일정한 크기로 레이저 재단한 후, DMA를 통해 측정한다. 이 때, 측정온도는 -30℃의 시작 온도에서 5℃/min의 승온 속도로 160℃까지 승온 시키면서 10%의 strain으로 일정하게 인장할 때의 저장 탄성률을 측정하였으며, 80℃일 때의 저장 탄성률 값을 기록하였다.The storage elastic modulus of the protective layer is applied to a release film (eg, polyethylene terephthalate film) with a photocurable composition having the same composition as the protective layer with a thickness of 50 μm, and irradiated with ultraviolet light under conditions of a light amount of 1000 mJ / cm 2 or higher. After curing, the release film is removed, the specimen is laser cut to a constant size, and then measured through DMA. At this time, the measured temperature was measured from the starting temperature of -30 ℃ to a heating rate of 5 ℃ / min to 160 ℃ while measuring the storage elastic modulus when straining with a strain of 10%, and the storage elastic modulus at 80 ℃ Values were recorded.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 보호층의 25℃에서의 인장 탄성률이 1,700 Mpa 이상, 바람직하게는 1,800Mpa 이상, 더욱 바람직하게는 2,000Mpa 이상이다. 보호층의 인장 탄성률이 상기 수치 범위를 만족하는 경우, 편광자에 가해지는 스트레스를 효과적으로 억제하여, 고온 또는 고습 환경에서 편광자의 수축 또는 팽창에 의한 편광자의 크랙 발생을 효과적으로 억제하는 효과가 있다. 또한, 편광자에 대한 접착력이 향상된다. 이로써, 고온에서의 편광판의 수축 및 팽창을 억제하여 편광판이 액정 패널 등에 적용되었을 때, 빛샘 현상이 발생하는 것을 방지할 수 있고, 우수한 접착력을 나타내는 장점이 있다.In one embodiment of the present specification, the tensile modulus of elasticity of the protective layer at 25 ° C is 1,700 Mpa or more, preferably 1,800 Mpa or more, and more preferably 2,000 Mpa or more. When the tensile elastic modulus of the protective layer satisfies the above numerical range, the stress applied to the polarizer is effectively suppressed, thereby effectively suppressing the occurrence of cracks in the polarizer due to shrinkage or expansion of the polarizer in a high temperature or high humidity environment. In addition, adhesion to the polarizer is improved. Thus, by suppressing shrinkage and expansion of the polarizing plate at high temperature, when the polarizing plate is applied to a liquid crystal panel or the like, light leakage can be prevented from occurring, and there is an advantage of exhibiting excellent adhesion.

상기 보호층의 인장 탄성률은 이형필름(예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름)에 상기 보호층과 동일한 조성을 갖는 조성물을 두께 100 ㎛로 도포하고, 광량 1000mJ/cm2 이상의 조건에서 자외선을 조사하여 경화시킨 후, 이형 필름을 제거하고, 시편을 10mm 폭으로 일정하게 레이저 재단한 후, UTM(Universal Testing Machine)을 통해 측정한다. 이 때, 측정 온도는 25℃으로 하고 측정 길이는 50 mm 인장속도는 50 mm/min으로 일정하게 인장하여 얻은 S-S (Stress-Strain) 커브를 통해 인장탄성률을 구한다. 인장 탄성률은 S-S 커브의 초기 기울기 값에 100을 곱하여 구한다.The tensile modulus of elasticity of the protective layer is applied to a release film (eg, polyethylene terephthalate film) having a composition having the same composition as the protective layer with a thickness of 100 μm, and cured by irradiating with ultraviolet light under conditions of a light amount of 1000 mJ / cm 2 or higher. Then, the release film is removed, and the specimen is regularly laser cut to a width of 10 mm, and then measured through a universal testing machine (UTM). At this time, the measurement temperature is 25 ° C., and the measurement length is 50 mm. The tensile speed is 50 mm / min, and the tensile modulus is obtained through the SS (Stress-Strain) curve obtained by uniformly stretching. The tensile modulus is obtained by multiplying the initial slope of the SS curve by 100.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 편광판을 80℃에서 4시간 이상 방치하였을 때, 흡수축 방향(MD 방향) 및 투과축 방향(TD 방향) 중 어느 하나 이상의 수축력이 3N 내지 10N일 수 있다. 상기 범위를 만족할 때, 열충격시 편광자에 크랙이 발생하는 것을 최소화할 수 있다. 이때, 상기 방치 시간은 4시간 또는 5시간일 수 있다.In one embodiment of the present specification, when the polarizing plate is left at 80 ° C for 4 hours or more, a contraction force of any one or more of an absorption axis direction (MD direction) and a transmission axis direction (TD direction) may be 3N to 10N. When satisfying the above range, it is possible to minimize the occurrence of cracks in the polarizer during thermal shock. At this time, the standing time may be 4 hours or 5 hours.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 편광판을 80℃에서 4시간 이상 방치하였을 때, 흡수축 방향(MD 방향)의 수축력이 7N 내지 9N이다. 상기 범위를 만족할 때, 열충격시 편광자에 크랙이 발생하는 것을 최소화할 수 있다.In one embodiment of the present specification, when the polarizing plate is left at 80 ° C for 4 hours or more, the contraction force in the absorption axis direction (MD direction) is 7N to 9N. When satisfying the above range, it is possible to minimize the occurrence of cracks in the polarizer during thermal shock.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 편광판을 80℃에서 4시간 이상 방치하였을 때, 투과축 방향(TD 방향)의 수축력이 4N 내지 9N이다. 상기 범위를 만족할 때, 열충격시 편광자에 크랙이 발생하는 것을 최소화할 수 있다.In one embodiment of the present specification, when the polarizing plate is left at 80 ° C for 4 hours or more, the contraction force in the transmission axis direction (TD direction) is 4N to 9N. When satisfying the above range, it is possible to minimize the occurrence of cracks in the polarizer during thermal shock.

상기 수축력은 편광판을 2mm(투과축 방향)×50mm(흡수축 방향) 크기로 절단한 후, 표점 거리를 15mm로 하고, 80℃에서 4시간 이상 등온 상태인 채로 정치하고 DMA Q800(Dynamic mechanical analyzer, TA사)로 MD 방향 또는 TD 방향의 수축력을 측정하였다. 이때 측정 전에 편광판을 평탄한 상태로 유지하기 위해 최소한의 하중을 편광자의 두께 방향에 걸쳐 측정하였다.The shrinking force is 2mm (transmission axis direction) × 50mm (absorption axis direction) cut the polarizing plate, the target distance is set to 15mm, and is left in an isothermal state at 80 ℃ for 4 hours or more DMA Q800 (Dynamic mechanical analyzer, TA company) to measure the contraction force in the MD or TD direction. At this time, in order to keep the polarizing plate flat before the measurement, the minimum load was measured over the thickness direction of the polarizer.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 편광판은 하기 식 A를 만족한다. 편광판이 하기 식 A를 만족할 때, 편광판의 각 영역에 따른 수축력 차이가 적으므로, 대형 화상표시장치에도 적용 가능하다는 장점이 있다.In one embodiment of the present specification, the polarizing plate satisfies Expression A below. When the polarizing plate satisfies Equation A below, since the difference in shrinking force according to each region of the polarizing plate is small, it can be applied to a large image display device.

[식 A][Equation A]

Figure 112018094257594-pat00005
Figure 112018094257594-pat00005

상기 식 A에 있어서,In the above formula A,

상기 Lc는 편광판의 중심부를 원점으로 하는 지름 1cm 원면적에 해당하는 영역의 수축력이고, The L c is the contraction force of a region corresponding to a circular area of 1 cm in diameter with the center of the polarizing plate as the origin,

상기 Le는 편광판의 각 꼭지점에서 만나는 두 edge부에 접하는 지름 1cm 원면적에 해당하는 영역의 편광판 수축력이고,The L e is a shrinking force of the polarizing plate in a region corresponding to a circular area of 1 cm in diameter, which is in contact with two edge portions that meet at each vertex of the polarizing plate,

상기 Li는 편광자의 흡수축 방향(MD 방향) 또는 투과축 방향(TD 방향)의 평균 수축력; 또는 편광판의 흡수축 방향(MD 방향) 또는 투과축 방향(TD 방향)의 평균 수축력이다.The L i is the average shrinking force in the absorption axis direction (MD direction) or the transmission axis direction (TD direction) of the polarizer; Alternatively, it is the average shrinkage force in the absorption axis direction (MD direction) or transmission axis direction (TD direction) of the polarizing plate.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 식 A는 하기 식 A-1 또는 식 A-2로 표시될 수 있다.In one embodiment of the present specification, Equation A may be represented by Equation A-1 or Equation A-2 below.

[식 A-1][Equation A-1]

Figure 112018094257594-pat00006
Figure 112018094257594-pat00006

[식 A-2][Equation A-2]

Figure 112018094257594-pat00007
Figure 112018094257594-pat00007

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 보호층의 인장 탄성률, 저장 탄성률 및 열팽창계수를 만족하기 위한 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어, 보호층을 형성하기 위한 광경화성 조성물에 유리전이온도(Tg)가 높은 광중합성 화합물에 포함하거나, 적산광량을 높이는 방법 등을 들 수 있다.In one embodiment of the present specification, a method for satisfying the tensile modulus, the storage modulus, and the coefficient of thermal expansion of the protective layer is not particularly limited, and for example, the glass transition temperature in the photocurable composition for forming the protective layer ( Tg) may be included in a photopolymerizable compound having a high content, or a method of increasing the integrated light amount.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 보호층은 광경화성 조성물로 형성되는 것이 바람직하다. 이와 같이, 보호층이 광경화성 조성물로부터 형성되는 경화형 수지층인 경우, 그 제조 방법이 간단하고, 나아가 보호층과 편광자와의 밀착성이 우수하다는 장점이 있다. 또한, 편광판의 내구성을 보다 개선시킬 수 있다.In one embodiment of the present specification, the protective layer is preferably formed of a photocurable composition. As described above, when the protective layer is a curable resin layer formed from a photocurable composition, the manufacturing method is simple, and further, there is an advantage of excellent adhesion between the protective layer and the polarizer. In addition, the durability of the polarizing plate can be further improved.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 이때, 상기 광경화성 조성물은 열팽창계수가 상기 범위를 만족하는 것이면 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 에폭시 화합물 및 옥세탄계 화합물을 포함하는 광경화성 조성물일 수 있다. 이 경우, 내열성 및 내수성이 우수하며, 종래의 접착제를 필수적으로 필요로 하는 보호필름을 대신하여 접착제층 없이 편광자에 부착될 수 있다는 장점이 있다.In one embodiment of the present specification, the photocurable composition is not particularly limited as long as the coefficient of thermal expansion satisfies the above range, and may be, for example, a photocurable composition including an epoxy compound and an oxetane-based compound. In this case, there is an advantage that it is excellent in heat resistance and water resistance, and can be attached to a polarizer without an adhesive layer in place of a protective film that essentially requires a conventional adhesive.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 편광판 보호층용 광경화성 조성물은 에폭시 화합물 및 옥세탄계 화합물을 포함한다.In one embodiment of the present specification, the photocurable composition for the polarizing plate protective layer includes an epoxy compound and an oxetane-based compound.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 에폭시 화합물은 지환족 에폭시 화합물을 포함한다. 상기 지환족 에폭시 화합물이란, 에폭시화 지방족 고리기를 하나 이상 포함하는 화합물을 의미한다. 상기 지환족 에폭시 화합물은 비교적 높은 유리전이온도를 가지기 때문에, 보호층의 열팽창계수를 낮추고 저장 탄성률을 높이는 데 바람직하다. 이로써, 경화 후 고온 또는 고습 환경 하에서 우수한 내구성을 구현하는 역할을 한다.In one embodiment of the present specification, the epoxy compound includes an alicyclic epoxy compound. The alicyclic epoxy compound means a compound containing at least one epoxidized aliphatic ring group. Since the alicyclic epoxy compound has a relatively high glass transition temperature, it is preferable to lower the coefficient of thermal expansion of the protective layer and increase the storage modulus. Thus, it serves to realize excellent durability under high temperature or high humidity environment after curing.

상기 지환족 에폭시 화합물로는, 하기 [화학식 1]로 표시되는 에폭시시클로헥실메틸 에폭시시클로헥산카복실레이트계 화합물이 예시될 수 있다.As the alicyclic epoxy compound, an epoxycyclohexylmethyl epoxycyclohexanecarboxylate-based compound represented by the following [Chemical Formula 1] may be exemplified.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112018094257594-pat00008
Figure 112018094257594-pat00008

상기 화학식 1에서 R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소 또는 알킬기를 나타낸다.In Formula 1, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen or an alkyl group.

본 명세서에서 용어 알킬기는, 특별히 달리 규정하지 않는 한, 탄소수 1 내지 20, 탄소수 1 내지 16, 탄소수 1 내지 12, 탄소수 1 내지 8 또는 탄소수 1 내지 4의 직쇄형, 분지쇄형 또는 고리형 알킬기를 의미할 수 있고, 상기 알킬기는 임의적으로 하나 이상의 치환기에 의하여 치환되어 있거나, 비치환된 상태일 수 있다.The term alkyl group used herein means a straight-chain, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, 1 to 16 carbon atoms, 1 to 12 carbon atoms, 1 to 8 carbon atoms, or 1 to 4 carbon atoms, unless otherwise specified. The alkyl group may be optionally substituted by one or more substituents, or may be in an unsubstituted state.

지환족 에폭시 화합물의 다른 예시로는, 하기 화학식 2로 표시되는 알칸디올의 에폭시시클로헥산 카복실레이트계 화합물을 들 수 있다.Another example of the alicyclic epoxy compound includes an epoxycyclohexane carboxylate-based compound of an alkanediol represented by the following formula (2).

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112018094257594-pat00009
Figure 112018094257594-pat00009

상기 화학식 A에서 R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소 또는 알킬기를 나타내고, n은 2 내지 20의 정수를 나타낸다.In Formula A, R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen or alkyl group, and n represents an integer of 2 to 20.

또한, 지환족 에폭시 화합물의 또 다른 예시로는, 하기 화학식 3으로 표시되는 디카르복시산의 에폭시 시클로헥실메틸 에스테르계 화합물을 들 수 있다.Moreover, as another example of an alicyclic epoxy compound, the epoxy cyclohexylmethyl ester type compound of dicarboxylic acid represented by following formula (3) is mentioned.

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112018094257594-pat00010
Figure 112018094257594-pat00010

상기 화학식 3에서 R5 및 R6은 각각 독립적으로 수소 또는 알킬기를 나타내고, p는 2 내지 20의 정수를 나타낸다.In Formula 3, R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen or an alkyl group, and p represents an integer of 2 to 20.

지환족 에폭시 화합물의 또 다른 예시로는, 하기 화학식 4로 나타나는 폴리에틸렌글리콜의 에폭시시클로헥실메틸 에테르계 화합물을 들 수 있다.Another example of the alicyclic epoxy compound includes an epoxycyclohexylmethyl ether-based compound of polyethylene glycol represented by the following formula (4).

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112018094257594-pat00011
Figure 112018094257594-pat00011

상기 화학식 4에서 R7 및 R8은 각각 독립적으로 수소 또는 알킬기를 나타내고, q는 2 내지 20의 정수를 나타낸다.In Formula 4, R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen or an alkyl group, and q represents an integer of 2 to 20.

지환족 에폭시 화합물의 또 다른 예시로는, 하기 화학식 5로 나타나는 알칸디올의 에폭시시클로헥실메틸 에테르계 화합물을 들 수 있다.Another example of the alicyclic epoxy compound includes an epoxycyclohexylmethyl ether-based compound of an alkanediol represented by the following formula (5).

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112018094257594-pat00012
Figure 112018094257594-pat00012

상기 화학식 5에서 R9 및 R10은 각각 독립적으로 수소 또는 알킬기를 나타내고, r는 2 내지 20의 정수를 나타낸다.In Formula 5, R 9 and R 10 each independently represent a hydrogen or alkyl group, and r represents an integer of 2 to 20.

지환족 에폭시 화합물의 또 다른 예시로는, 하기 화학식 6으로 나타나는 디에폭시트리스피로계 화합물을 들 수 있다.As another example of the alicyclic epoxy compound, there may be mentioned a diepoxycitrispyro compound represented by the following formula (6).

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112018094257594-pat00013
Figure 112018094257594-pat00013

상기 화학식 6에서 R11 및 R12는 각각 독립적으로 수소 또는 알킬기를 나타낸다.In Formula 6, R 11 and R 12 each independently represent a hydrogen or an alkyl group.

지환족 에폭시 화합물의 또 다른 예시로는, 하기 화학식 7로 나타나는 디에폭시모노스피로계 화합물을 들 수 있다.Another example of the alicyclic epoxy compound is a diepoxymonospiro compound represented by the following formula (7).

[화학식 7][Formula 7]

Figure 112018094257594-pat00014
Figure 112018094257594-pat00014

상기 화학식 7에서 R13 및 R14은 각각 독립적으로 수소 또는 알킬기를 나타낸다.In Formula 7, R 13 and R 14 each independently represent a hydrogen or an alkyl group.

지환족 에폭시 화합물의 또 다른 예시로는, 하기 화학식 8로 나타나는 비닐시클로헥센 디에폭시드 화합물을 들 수 있다.As another example of the alicyclic epoxy compound, there may be mentioned a vinylcyclohexene diepoxide compound represented by the following formula (8).

[화학식 8][Formula 8]

Figure 112018094257594-pat00015
Figure 112018094257594-pat00015

상기 화학식 8에서 R15는 수소 또는 알킬기를 나타낸다.In Formula 8, R 15 represents hydrogen or an alkyl group.

지환족 에폭시 화합물의 또 다른 예시로는, 하기 화학식 9로 표시되는 에폭시시클로펜틸 에테르 화합물을 들 수 있다.Another example of the alicyclic epoxy compound is an epoxy cyclopentyl ether compound represented by the following formula (9).

[화학식 9][Formula 9]

Figure 112018094257594-pat00016
Figure 112018094257594-pat00016

상기 화학식 9에서 R16 및 R17은, 각각 독립적으로 수소 또는 알킬기를 나타낸다.In Formula 9, R 16 and R 17 each independently represent a hydrogen or an alkyl group.

지환족 에폭시 화합물의 다른 예시로는, 하기 화학식 10으로 표시되는 디에폭시 트리시클로 데칸 화합물을 들 수 있다.Another example of the alicyclic epoxy compound includes a diepoxy tricyclo decane compound represented by the following formula (10).

[화학식 10][Formula 10]

Figure 112018094257594-pat00017
Figure 112018094257594-pat00017

상기 화학식 10에서 R18은, 수소 또는 알킬기를 나타낸다.In the formula (10), R 18 represents hydrogen or an alkyl group.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 지환족 에폭시 화합물로는, 보다 구체적으로 에폭시시클로헥실메틸 에폭시시클로헥산 카복실레이트 화합물, 알칸디올의 에폭시시클로헥산 카복실레이트 화합물, 디카르복시산의 에폭시시클로헥실메틸 에스테르 화합물 또는 알칸디올의 에폭시시클로헥실메틸 에테르 화합물을 사용하는 것이 바람직하고, 7-옥사비시클로[4,1,0]헵탄-3-카르복시산과 (7-옥사-비시클로[4,1,0]헵토-3-일)메타놀과의 에스테르화물(상기 화학식 1에서 R1 및 R2가 수소인 화합물); 4-메틸-7-옥사비시클로[4,1,0]헵탄-3-카르복시산과 (4-메틸-7-옥사-비시클로[4,1,0]헵토-3-일)메탄올과의 에스테르화물(상기 화학식 1에서, R1이 4-CH3이고, R2가 4-CH3인 화합물); 7-옥사비시클로[4,1,0]헵탄-3-카르복시산과 1,2-에탄디올과의 에스테르화물(상기 화학식 A에서 R3 및 R4가 수소이고, n이 1인 화합물); (7-옥사비시클로[4,1,0]헵토-3-일)메탄올과 아디프산의 에스테르화물(상기 화학식 3에서 R5 및 R6가 수소이고, p가 2인 화합물); (4-메틸-7-옥사비시클로[4,1,0]헵토-3-일)메탄올과 아디프산의 에스테르화물(상기 화학식 3에서 R5 및 R6가 4-CH3이고, p가 2인 화합물); 및 (7-옥사비시클로[4,1,0]헵토-3-일)메탄올과 1,2-에탄디올의 에테르화물(상기 화학식 5에서 R9 및 R10이 수소이고, r이 1인 화합물)로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상이 바람직하게 사용될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In one embodiment of the present specification, as the alicyclic epoxy compound, more specifically, an epoxycyclohexylmethyl epoxycyclohexane carboxylate compound, an alkanediol epoxycyclohexane carboxylate compound, and a dicarboxylic acid epoxycyclohexylmethyl ester compound Or, it is preferable to use an epoxycyclohexylmethyl ether compound of alkanediol, 7-oxabicyclo [4,1,0] heptan-3-carboxylic acid and (7-oxa-bicyclo [4,1,0] hepto -3-yl) esterified with methanol (a compound in which R 1 and R 2 in Formula 1 are hydrogen); Ester of 4-methyl-7-oxabicyclo [4,1,0] heptan-3-carboxylic acid with (4-methyl-7-oxa-bicyclo [4,1,0] hepto-3-yl) methanol Cargo (in Formula 1, R 1 is 4-CH 3 and R 2 is 4-CH 3 ); An esterified product of 7-oxabicyclo [4,1,0] heptane-3-carboxylic acid and 1,2-ethanediol (a compound wherein R 3 and R 4 in the formula (A) is hydrogen and n is 1); (7-oxabicyclo [4,1,0] hepto-3-yl) esterified product of methanol and adipic acid (a compound in which R 5 and R 6 in the formula (3) is hydrogen and p is 2); Esterate of (4-methyl-7-oxabicyclo [4,1,0] hepto-3-yl) methanol and adipic acid (R 5 and R 6 in Formula 3 above are 4-CH 3 , p is 2 compounds); And (7-oxabicyclo [4,1,0] hepto-3-yl) methanol and an etherified product of 1,2-ethanediol (R 9 and R 10 in Formula 5 are hydrogen and r is 1) ) May be preferably used one or more selected from the group consisting of), but is not limited thereto.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 에폭시 화합물과 옥세탄계 화합물의 중량비가 9:1 내지 1:9이고, 바람직한 중량비는 9:1 내지 7:3이다. 에폭시 화합물 및 옥세탄계 화합물의 중량비의 수치 범위가 상기와 같은 경우, 조성물의 유리전이온도가 높게 유지될 수 있으며, 경화 후의 보호층의 강도가 크게 개선되는 효과가 있다. 또한, 상기 범위를 만족하는 경우, 경화 후의 보호층의 저장 탄성률이 우수하다는 장점이 있다.In one embodiment of the present specification, the weight ratio of the epoxy compound and the oxetane-based compound is 9: 1 to 1: 9, and the preferred weight ratio is 9: 1 to 7: 3. When the numerical range of the weight ratio of the epoxy compound and the oxetane-based compound is as described above, the glass transition temperature of the composition may be maintained high, and the strength of the protective layer after curing is greatly improved. In addition, when the above range is satisfied, there is an advantage that the storage elastic modulus of the protective layer after curing is excellent.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 에폭시 화합물은 전체 조성물 100 중량부를 기준으로, 50 내지 90 중량부인 것이 바람직하고, 70 내지 90 중량부인 것이 보다 바람직하다. 상기 범위를 만족하는 경우, 전술한 보호층의 저장 탄성률 및 열팽창계수를 만족하기에 용이하며, 전체 조성물의 경화 후의 유리전이온도가 높게 유지되고, 조성물의 편광자에 대한 접착력이 우수한 장점이 있다.In one embodiment of the present specification, the epoxy compound is preferably 50 to 90 parts by weight, more preferably 70 to 90 parts by weight based on 100 parts by weight of the total composition. When the above range is satisfied, it is easy to satisfy the storage elastic modulus and thermal expansion coefficient of the above-described protective layer, and the glass transition temperature after curing of the entire composition is maintained high, and the composition has excellent adhesive strength to the polarizer.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 에폭시 화합물은 글리시딜 에테르 타입 에폭시 화합물을 포함한다. 상기 글리시딜 에테르 타입 에폭시 화합물이란 글리시딜 에테르기를 적어도 하나 이상 포함하는 에폭시 화합물을 의미한다.In one embodiment of the present specification, the epoxy compound includes a glycidyl ether type epoxy compound. The glycidyl ether type epoxy compound means an epoxy compound containing at least one glycidyl ether group.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 글리시딜 에테르 타입 에폭시 화합물에는, 예를 들면, 노볼락 에폭시, 비스페놀 A계 에폭시, 비스페놀 F계 에폭시, 브롬화 비스페놀 에폭시, n-부틸 글리시딜에테르, 알리파틱 글리시딜에테르(탄소수 12 내지 14), 2-에틸헥실글리시딜 에테르, 페닐 글리시딜 에테르, o-크레실(cresyl) 글리시딜 에테르, 노닐 페닐 글리시딜 에테르, 에틸렌글리콜 디글리시딜에테르, 디에틸렌글리콜 디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜 디글리시딜에테르, 트리프로필렌글리콜 디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜 디글리시딜에테르, 1,4-부탄디올 디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올 디글리시딜에테르, 트리메틸올프로판 트리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판 디글리시딜에테르, 트리메틸올프로판 폴리글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜 디글리시딜에테르 또는 글리세린 트리글리시딜에테르 등이 예시될 수 있고, 또한 1,4-시클로헥산디메탄올 디글리시딜 에테르 등과 같은 고리형 지방족 골격을 가지는 글리시딜 에테르 또는 방향족 에폭시 화합물의 수소 첨가 화합물 등이 예시될 수 있으며, 바람직하게는 고리형 지방족 골격을 가지는 글리시딜 에테르, 바람직하게는 탄소수 3 내지 20, 바람직하게는 탄소수 3 내지 16, 보다 바람직하게는 탄소수 3 내지 12의 고리형 지방족 골격을 가지는 글리시딜 에테르가 사용될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In one embodiment of the present specification, the glycidyl ether type epoxy compound includes, for example, novolac epoxy, bisphenol A-based epoxy, bisphenol F-based epoxy, brominated bisphenol epoxy, n-butyl glycidyl ether, ali Patic glycidyl ether (12 to 14 carbon atoms), 2-ethylhexylglycidyl ether, phenyl glycidyl ether, o-cresyl glycidyl ether, nonyl phenyl glycidyl ether, ethylene glycol diglycol Cidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, trimethylolpropane diglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, polyethylene glycol di Ricidyl ether or glycerin triglycidyl ether and the like can be exemplified, and also hydrogenated compounds of glycidyl ethers or aromatic epoxy compounds having a cyclic aliphatic skeleton such as 1,4-cyclohexanedimethanol diglycidyl ether and the like Etc. can be exemplified, preferably a glycidyl ether having a cyclic aliphatic skeleton, preferably a cyclic aliphatic skeleton having 3 to 20 carbon atoms, preferably 3 to 16 carbon atoms, more preferably 3 to 12 carbon atoms Glycidyl ether may be used, but is not limited thereto.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 에폭시 화합물은 지환족 에폭시 화합물과 글리시딜 에테르 타입 에폭시 화합물의 혼합물을 사용할 수 있다. In one embodiment of the present specification, the epoxy compound may be a mixture of an alicyclic epoxy compound and a glycidyl ether type epoxy compound.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 지환족 에폭시 화합물 및 글리시딜 에테르 타입 에폭시 화합물이 혼합되어 사용되는 경우, 그 중량비는 3:1 내지 1:3인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 2:1 내지 1:2일 수 있다.In one embodiment of the present specification, when the alicyclic epoxy compound and the glycidyl ether type epoxy compound are used in combination, the weight ratio is preferably 3: 1 to 1: 3, and more preferably 2: 1 to 1: 2.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 지환족 에폭시 화합물은 상기 에폭시 화합물 전체 중량 기준으로 10 중량% 내지 100 중량% 포함될 수 있고, 바람직하게는 20 중량% 내지 80 중량%, 더욱 바람직하게는 30 중량% 내지 70 중량%로 포함될 수 있다. 상기 수치 범위를 만족하는 경우, 광경화 시에 효과적으로 조성물이 경화될 수 있는 장점이 있다.In one embodiment of the present specification, the alicyclic epoxy compound may be included in an amount of 10% to 100% by weight based on the total weight of the epoxy compound, preferably 20% to 80% by weight, more preferably 30% by weight % To 70% by weight. When the above numerical range is satisfied, there is an advantage that the composition can be effectively cured during photocuring.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 글리시딜 에테르 타입 에폭시 화합물은 상기 에폭시 화합물 전체 중량 기준으로 10 중량% 내지 60 중량% 포함될 수 있고, 바람직하게는 30 중량% 내지 50 중량% 포함될 수 있다.In one embodiment of the present specification, the glycidyl ether type epoxy compound may be included in an amount of 10% to 60% by weight based on the total weight of the epoxy compound, and preferably 30% to 50% by weight.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 옥세탄계 화합물은 분자 내에 4원환 에테르를 갖는 화합물로, 이에 한정되는 것은 아니나, 3-에틸-3-히드록시메틸옥세탄, 1,4-비스〔(3-에틸-3-옥세타닐)메톡시메틸〕벤젠, 3-에틸-3-(페녹시메틸)옥세탄, 디〔(3-에틸-3-옥세타닐)메틸〕에테르, 3-에틸-3-(2-에틸헥실옥시메틸)옥세탄, 페놀노볼락 옥세탄 등을 그 예로 들 수 있다. 이들 옥세탄 화합물은 시판품을 용이하게 입수하는 것이 가능하고, 구체적으로는 아론옥세탄 OXT-101(도아 고세이(주) 제조), 아론옥세탄 OXT-121(도아 고세이(주) 제조), 아론옥세탄 OXT-211(도아 고세이(주) 제조), 아론옥세탄 OXT-221(도아 고세이(주) 제조), 아론옥세탄 OXT-212(도아 고세이(주) 제조) 등을 들 수 있다.In one embodiment of the present specification, the oxetane-based compound is a compound having a 4-membered ring ether in a molecule, but is not limited thereto, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 1,4-bis [(3 -Ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] benzene, 3-ethyl-3- (phenoxymethyl) oxetane, di [(3-ethyl-3-oxetanyl) methyl] ether, 3-ethyl- Examples include 3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane and phenol novolac oxetane. These oxetane compounds can be obtained commercially easily, specifically, Aaron oxetane OXT-101 (manufactured by Doa Kosei Co., Ltd.), Aaron oxetane OXT-121 (manufactured by Doa Kosei Co., Ltd.), Aaron ox And cetane OXT-211 (manufactured by Doa Kosei Co., Ltd.), Aaronoxetane OXT-221 (manufactured by Doa Kosei Co., Ltd.), and aronoxetane OXT-212 (manufactured by Doa Kosei Co., Ltd.).

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 옥세탄계 화합물은 단독 또는 혼합하여 사용될 수 있으며, 그 함량은 전체 조성물 100 중량부에 있어서, 10 내지 50 중량부인 것이 바람직하고, 10 내지 30 중량부인 것이 보다 바람직하다. 상기 수치 범위를 만족하는 경우, 전체 조성물의 경화 후의 유리전이온도와 저장 탄성률이 높게 유지될 수 있는 장점이 있으며, 점도를 일정하게 유지하여 균일한 두께의 보호층 형성이 가능한 장점이 있다.In one embodiment of the present specification, the oxetane-based compound may be used alone or in mixture, and the content thereof is preferably 10 to 50 parts by weight, and more preferably 10 to 30 parts by weight in 100 parts by weight of the total composition. Do. When the above numerical range is satisfied, there is an advantage that the glass transition temperature and the storage modulus after curing of the entire composition can be kept high, and the viscosity is kept constant to form a protective layer of uniform thickness.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 편광판 보호층용 광경화성 조성물은 광개시제를 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present specification, the photocurable composition for the polarizing plate protective layer may further include a photoinitiator.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광개시제의 예로는 알파-히드록시케톤계 화합물(ex. IRGACURE 184, IRGACURE 500, IRGACURE 2959, DAROCUR 1173; Ciba Specialty Chemicals(제)); 페닐글리옥실레이트 (phenylglyoxylate)계 화합물(ex. IRGACURE 754, DAROCUR MBF; Ciba Specialty Chemicals(제)); 벤질디메틸케탈계 화합물(ex. IRGACURE 651; Ciba Specialty Chemicals(제)); α-아미노케톤계 화합물(ex. IRGACURE 369, IRGACURE 907, IRGACURE 1300; Ciba Specialty Chemicals(제)); 모노아실포스핀계 화합물(MAPO)(ex. DAROCUR TPO; Ciba Specialty Chemicals(제)); 비스아실포스펜계 화합물(BAPO)(ex. IRGACURE 819, IRGACURE 819DW; Ciba Specialty Chemicals(제)); 포스핀옥시드계 화합물(ex. IRGACURE 2100; Ciba Specialty Chemicals(제)); 메탈로센계 화합물(ex. IRGACURE 784; Ciba Specialty Chemicals(제)); 아이오도늄염(iodonium salt)(ex. IRGACURE 250; Ciba Specialty Chemicals(제)); 및 상기 중 하나 이상의 혼합물(ex. DAROCUR 4265, IRGACURE 2022, IRGACURE 1300, IRGACURE 2005, IRGACURE 2010, IRGACURE 2020; Ciba Specialty Chemicals(제)) 등을 들 수 있다. 본 발명에서는 상기 중 일종 또는 이종 이상을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In one embodiment of the present specification, examples of the photoinitiator include alpha-hydroxyketone compounds (ex. IRGACURE 184, IRGACURE 500, IRGACURE 2959, DAROCUR 1173; Ciba Specialty Chemicals (product)); Phenylglyoxylate-based compounds (ex. IRGACURE 754, DAROCUR MBF; Ciba Specialty Chemicals (manufactured)); Benzyl dimethyl ketal compounds (ex. IRGACURE 651; Ciba Specialty Chemicals (manufactured)); α-aminoketone compounds (ex. IRGACURE 369, IRGACURE 907, IRGACURE 1300; Ciba Specialty Chemicals (manufactured)); Monoacylphosphine-based compounds (MAPO) (ex. DAROCUR TPO; Ciba Specialty Chemicals (manufactured)); Bisacylphosphene compound (BAPO) (ex. IRGACURE 819, IRGACURE 819DW; Ciba Specialty Chemicals (manufactured)); Phosphine oxide compounds (ex. IRGACURE 2100; Ciba Specialty Chemicals (manufactured)); Metallocene compounds (ex. IRGACURE 784; Ciba Specialty Chemicals (manufactured)); Iodonium salt (ex. IRGACURE 250; Ciba Specialty Chemicals (manufactured)); And mixtures of one or more of the above (ex. DAROCUR 4265, IRGACURE 2022, IRGACURE 1300, IRGACURE 2005, IRGACURE 2010, IRGACURE 2020; Ciba Specialty Chemicals (manufactured)). In the present invention, one or more of the above may be used, but is not limited thereto.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광개시제는 편광판 보호층용 광경화성 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 5 중량부로 포함될 수 있다. 광개시제가 상기 수치범위의 함량으로 포함되는 경우, 포함되지 않거나, 상기 수치범위를 만족하지 않는 경우에 비해 경화가 우수하게 진행되며, 밀착성이 보다 향상되는 장점이 있다.In one embodiment of the present specification, the photoinitiator may be included in an amount of 0.01 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the photocurable composition for a polarizing plate protective layer. When the photoinitiator is included in the content of the numerical range, it is not included, or the curing progresses better than when the numerical range is not satisfied, and there is an advantage that adhesion is more improved.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 편광판 보호층용 광경화성 조성물은 전체 조성물 100 중량부에 대하여 양이온 중합개시제를 1 내지 5 중량부로 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present specification, the photocurable composition for the polarizing plate protective layer may further include 1 to 5 parts by weight of a cationic polymerization initiator relative to 100 parts by weight of the total composition.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 편광판 보호층용 광경화성 조성물은 25℃에서 점도가 50 cPs 이상 200 cPs 이하인 것이 바람직하며, 예를 들면, 25℃에서 50 cPs 내지 130 cPs 이하일 수 있다. 조성물의 점도가 상기 수치범위를 만족하는 경우 보호층의 두께를 얇게 형성할 수 있고, 저점도를 갖기 때문에 작업성이 우수한 장점이 있다.In one embodiment of the present specification, the photocurable composition for the polarizing plate protective layer preferably has a viscosity of 50 cPs or more and 200 cPs or less at 25 ° C, for example, 50 cPs to 130 cPs or less at 25 ° C. When the viscosity of the composition satisfies the above numerical range, the thickness of the protective layer can be thinly formed, and it has the advantage of excellent workability because it has a low viscosity.

상기 점도는 브룩필드 점도계(Brook Field 사 제조)를 이용하여 18번 스핀들(spindle)을 이용하여 상온(25℃)에서 측정한다. 이때, 조성물의 양은 6.5 내지 10mL이 적절하며, 빛에 장시간 노출되는 것을 피하기 위하여 5분 이내에서 안정화된 수치를 측정한다.The viscosity is measured at room temperature (25 ° C) using a spindle 18 using a Brookfield viscometer (manufactured by Brook Field). At this time, the amount of the composition is 6.5 to 10mL is appropriate, and to avoid exposure to light for a long time, the stabilized value is measured within 5 minutes.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 편광판 보호층용 광경화성 조성물은 필요에 따라서 염료, 안료, 에폭시 수지, 자외선 안정제, 산화 방지제, 조색제, 보강제, 충진제, 소포제, 계면 활성제, 광증감제 및 가소제로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 첨가제를 추가로 포함할 수 있다.In one embodiment of the present specification, the photocurable composition for the polarizing plate protective layer is a dye, a pigment, an epoxy resin, an ultraviolet stabilizer, an antioxidant, a colorant, a reinforcing agent, a filler, an antifoaming agent, a surfactant, a photosensitizer, and a plasticizer as necessary. One or more additives selected from the group consisting may be further included.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 첨가제는 편광판 보호층용 광경화성 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 5 중량부로 포함될 수 있다.In one embodiment of the present specification, the additive may be included in an amount of 0.01 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the photocurable composition for a polarizing plate protective layer.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 보호층의 형성 방법은 특별히 한정되지 않으며, 당해 기술 분야에 잘 알려진 방법에 의해 형성될 수 있다. 예를 들면, 편광자의 일면에 상기 편광판 보호층용 광경화성 조성물을 당해 기술 분야에 잘 알려진 코팅 법, 예컨대 스핀 코팅, 바 코팅, 롤 코팅, 그라비아 코팅, 블레이드 코팅 등의 방법으로 도포하여 보호층을 형성한 다음, 자외선 조사를 통해 경화시키는 방법으로 수행될 수 있다. 예를 들면, 자외선 조사 장치를 이용하여 조사광인 자외선을 조사하는 방법으로 수행할 수 있다.In one embodiment of the present specification, the method of forming the protective layer is not particularly limited, and may be formed by a method well known in the art. For example, the photocurable composition for the polarizing plate protective layer is applied to one surface of the polarizer by a coating method well known in the art, such as spin coating, bar coating, roll coating, gravure coating, blade coating, and the like to form a protective layer. Then, it may be performed by a method of curing through ultraviolet irradiation. For example, it can be performed by a method of irradiating ultraviolet rays that are irradiated light using an ultraviolet irradiation device.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 자외선의 파장은 100nm 내지 400nm, 바람직하게는 320nm 내지 400nm일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the wavelength of the ultraviolet rays may be 100 nm to 400 nm, preferably 320 nm to 400 nm.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 조사광의 광량은 100mJ/cm2 내지 1,000mJ/cm2, 바람직하게는 500mJ/cm2 내지 1,000mJ/cm2일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the light amount of the irradiated light may be 100 mJ / cm 2 to 1,000 mJ / cm 2 , preferably 500 mJ / cm 2 to 1,000 mJ / cm 2 .

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 조사광의 조사 시간은 1초 내지 10분, 바람직하게는 2초 내지 30초일 수 있다. 상기 조사 시간 범위를 만족하는 경우, 광원으로부터 지나치게 열이 전달되는 것을 방지하여, 편광자에 주행 주름이 발생하는 것을 최소화할 수 있는 장점이 있다.In one embodiment of the present specification, the irradiation time of the irradiation light may be 1 second to 10 minutes, preferably 2 seconds to 30 seconds. When the irradiation time range is satisfied, it is possible to prevent excessive heat from being transmitted from the light source, thereby minimizing generation of travel wrinkles in the polarizer.

보호필름Protection film

본 명세서는 상기 보호층이 상기 편광자의 일면에 구비되고,In this specification, the protective layer is provided on one surface of the polarizer,

상기 편광자의 보호층이 구비된 면의 타면에 접착제층을 매개로 보호필름이 부착된 편광판으로서,As a polarizing plate is a protective film is attached to the other side of the surface provided with a protective layer of the polarizer via an adhesive layer,

상기 보호필름의 25℃에서의 인장 탄성률이 1700 Mpa 이상인 것인 편광판을 제공한다.It provides a polarizing plate having a tensile modulus of elasticity at 25 ℃ of the protective film is 1700 Mpa or more.

도 2에 따르면, 본 명세서는 보호층(20)이 상기 편광자(10)의 일면에 구비되고, 상기 편광자(10)의 보호층(20)이 구비된 면의 타면에 접착제층을 매개로 보호필름(30)이 부착된 편광판을 제공한다.According to FIG. 2, in the present specification, a protective film 20 is provided on one surface of the polarizer 10 and an adhesive layer is applied to the other surface of the surface provided with the protective layer 20 of the polarizer 10 as a medium. It provides a polarizing plate is attached (30).

본 명세서에 있어서, 상기 보호층이 편광자의 일면에 형성된 경우, 보호층이 형성된 면의 반대면에 편광자를 지지 및 보호하기 위하여 접착제층을 매개로 별도의 보호필름을 부착할 수 있다.In the present specification, when the protective layer is formed on one surface of the polarizer, a separate protective film may be attached via an adhesive layer to support and protect the polarizer on the opposite side of the surface on which the protective layer is formed.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 보호필름은 편광자를 지지 및 보호하기 위한 것으로, 당해 기술 분야에 일반적으로 알려져 있는 다양한 재질의 보호필름들, 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET, polyethylene terephthalate) 필름, 싸이클로올레핀 폴리머(COP, cycloolefin polymer) 필름, 등이 사용될 수 있다. 이 중에서도 광학 특성, 내구성, 경제성 등을 고려할 때, 폴리에틸렌테레프탈레이트를 사용하는 것이 특히 바람직하다.In one embodiment of the present specification, the protective film is for supporting and protecting the polarizer, protective films of various materials generally known in the art, for example, polyethylene terephthalate (PET) Films, cycloolefin polymer (COP) films, and the like can be used. Among these, it is particularly preferable to use polyethylene terephthalate when considering optical properties, durability, economical efficiency, and the like.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 보호필름의 25℃에서의 인장 탄성률이 1,800 Mpa 이상 10,000Mpa 이하, 바람직하게는 2,000 Mpa 이상 8,000Mpa 이하, 더욱 바람직하게는 3,000Mpa 이상 7,000Mpa 이하일 수 있다. 상기 수치 범위를 만족하는 경우, 보호필름의 편광자 보호 효과가 증대될 수 있다. 구체적으로, 고온 또는 고습 환경하에서 편광자 수축 또는 팽창에 의해 발생되는 응력에 의한 편광자의 찢어짐 현상을 방지할 수 있다.In one embodiment of the present specification, the tensile modulus of elasticity of the protective film at 25 ° C may be 1,800 Mpa or more and 10,000 Mpa or less, preferably 2,000 Mpa or more and 8,000 Mpa or less, and more preferably 3,000 Mpa or more and 7,000 Mpa or less. When the numerical range is satisfied, the protective effect of the polarizer of the protective film may be increased. Specifically, the tearing phenomenon of the polarizer due to stress generated by the shrinkage or expansion of the polarizer in a high temperature or high humidity environment can be prevented.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 편광자와 보호필름의 부착은 롤 코터, 그라비어 코터, 바 코터, 나이프 코터 또는 캐필러리 코터 등을 사용하여 편광자 또는 보호필름의 표면에 편광판 접착제 조성물을 코팅한 후, 이들을 합지 롤로 가열 합지하거나, 상온 압착하여 합지하는 방법 또는 합지 후 UV 조사하는 방법 등에 의해 수행될 수 있다. 상기 편광판 접착제 조성물에 대해서는 후술하기로 한다.In one embodiment of the present specification, the polarizer and the protective film are coated by using a roll coater, a gravure coater, a bar coater, a knife coater or a capillary coater, etc., to coat the polarizer adhesive composition on the surface of the polarizer or the protective film. Subsequently, they may be heated by laminating with a laminating roll, or by laminating by pressing at room temperature, or by UV irradiation after laminating. The polarizing plate adhesive composition will be described later.

접착제층Adhesive layer

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 접착제층은 접착제 조성물의 경화물이다. 이와 같이, 접착제층이 광경화성 조성물로 형성되는 경화형 수지층인 경우, 그 제조 방법이 간단하고, 나아가 보호필름과의 밀착성이 우수하다는 장점이 있다. 또한, 편광판의 내구성을 보다 개선시킬 수 있다.In one embodiment of the present specification, the adhesive layer is a cured product of the adhesive composition. As described above, when the adhesive layer is a curable resin layer formed of a photocurable composition, the manufacturing method is simple, and further has an advantage of excellent adhesion to a protective film. In addition, the durability of the polarizing plate can be further improved.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 접착제층의 40℃ 내지 80℃에서의 열팽창계수는 130 ppm/K 이하이다. 상기 열팽창계수가 130 ppm/K를 초과하면 내열충격 환경에서 편광판의 크랙이 발생한다는 문제가 있다.In one embodiment of the present specification, the coefficient of thermal expansion of the adhesive layer at 40 ° C to 80 ° C is 130 ppm / K or less. When the coefficient of thermal expansion exceeds 130 ppm / K, there is a problem that cracking of the polarizing plate occurs in a heat shock resistant environment.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 접착제층의 80℃에서의 저장 탄성률이 100Mpa 이상 1,800 Mpa 이하일 수 있고, 바람직하게는 150Mpa 이상 1,300Mpa 이하일 수 있고, 더욱 바람직하게는 180Mpa 이상 500Mpa 이하일 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 접착제층에 의한 접착력이 증대되어 보호필름의 박리가 잘 일어나지 않는 효과가 있다. 특히, 상기 범위를 초과하는 경우 저장 탄성률이 너무 높아, 접착력이 떨어지므로 접착제층으로서의 기능을 충분히 할 수 없다.In one embodiment of the present specification, the storage modulus of the adhesive layer at 80 ° C may be 100 Mpa or more and 1,800 Mpa or less, preferably 150 Mpa or more and 1,300 Mpa or less, and more preferably 180 Mpa or more and 500 Mpa or less. When the above range is satisfied, there is an effect that adhesion of the adhesive layer is increased and peeling of the protective film does not easily occur. In particular, if it exceeds the above range, the storage modulus is too high, and the adhesive force is poor, so that it cannot function sufficiently as an adhesive layer.

상기 접착제층의 저장 탄성률은 이형필름(예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름)에 상기 접착제층과 동일한 조성을 갖는 광경화성 조성물을 두께 50 ㎛로 도포하고, 광량 1000mJ/cm2 이상의 조건에서 자외선을 조사하여 경화시킨 후, 이형 필름을 제거하고, 시편을 일정한 크기로 레이저 재단한 후, DMA를 통해 측정한다. 이 때, 측정온도는 -30℃의 시작 온도에서 5℃/min의 승온 속도로 160℃까지 승온 시키면서 10%의 strain으로 일정하게 인장할 때의 저장 탄성률을 측정하였으며, 80℃일 때의 저장 탄성률 값을 기록하였다.The storage elastic modulus of the adhesive layer is coated on a release film (for example, polyethylene terephthalate film) with a photocurable composition having the same composition as the adhesive layer with a thickness of 50 μm, and irradiated with ultraviolet light under conditions of a light amount of 1000 mJ / cm 2 or higher. After curing, the release film is removed, the specimen is laser cut to a constant size, and then measured through DMA. At this time, the measured temperature was measured from the starting temperature of -30 ℃ to a heating rate of 5 ℃ / min to 160 ℃ while measuring the storage elastic modulus when straining with a strain of 10%, and the storage elastic modulus at 80 ℃ Values were recorded.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광경화성 접착제 조성물은 열팽창계수가 상기 범위를 만족하는 것이면 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 에폭시 화합물 및 옥세탄계 화합물을 포함하는 광경화성 조성물일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the photocurable adhesive composition is not particularly limited as long as the coefficient of thermal expansion satisfies the above range, and may be, for example, a photocurable composition comprising an epoxy compound and an oxetane-based compound.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 에폭시 화합물로는 지환족 에폭시 화합물 및 글리시딜 에테르 타입 에폭시 화합물 중 적어도 하나 이상을 사용할 수 있고, 바람직하게는 지환족 에폭시 화합물과 글리시딜 에테르 타입 에폭시 화합물의 혼합물을 사용할 수 있다. 상기 글리시딜 에테르 타입 에폭시 화합물이란 글리시딜 에테르기를 적어도 하나 이상 포함하는 에폭시 화합물을 의미한다.In one embodiment of the present specification, the epoxy compound may use at least one of an alicyclic epoxy compound and a glycidyl ether type epoxy compound, preferably an alicyclic epoxy compound and a glycidyl ether type epoxy compound Mixtures of can be used. The glycidyl ether type epoxy compound means an epoxy compound containing at least one glycidyl ether group.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 글리시딜 에테르 타입 에폭시 화합물에는, 예를 들면, 노볼락 에폭시, 비스페놀 A계 에폭시, 비스페놀 F계 에폭시, 브롬화 비스페놀 에폭시, n-부틸 글리시딜에테르, 알리파틱 글리시딜에테르(탄소수 12 내지 14), 2-에틸헥실글리시딜 에테르, 페닐 글리시딜 에테르, o-크레실(cresyl) 글리시딜 에테르, 노닐 페닐 글리시딜 에테르, 에틸렌글리콜 디글리시딜에테르, 디에틸렌글리콜 디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜 디글리시딜에테르, 트리프로필렌글리콜 디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜 디글리시딜에테르, 1,4-부탄디올 디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올 디글리시딜에테르, 트리메틸올프로판 트리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판 디글리시딜에테르, 트리메틸올프로판 폴리글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜 디글리시딜에테르 또는 글리세린 트리글리시딜에테르 등이 예시될 수 있고, 또한 1,4-시클로헥산디메탄올 디글리시딜 에테르 등과 같은 고리형 지방족 골격을 가지는 글리시딜 에테르 또는 방향족 에폭시 화합물의 수소 첨가 화합물 등이 예시될 수 있으며, 바람직하게는 고리형 지방족 골격을 가지는 글리시딜 에테르, 바람직하게는 탄소수 3 내지 20, 바람직하게는 탄소수 3 내지 16, 보다 바람직하게는 탄소수 3 내지 12의 고리형 지방족 골격을 가지는 글리시딜 에테르가 사용될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In one embodiment of the present specification, the glycidyl ether type epoxy compound includes, for example, novolac epoxy, bisphenol A-based epoxy, bisphenol F-based epoxy, brominated bisphenol epoxy, n-butyl glycidyl ether, ali Patic glycidyl ether (12 to 14 carbon atoms), 2-ethylhexylglycidyl ether, phenyl glycidyl ether, o-cresyl glycidyl ether, nonyl phenyl glycidyl ether, ethylene glycol diglycol Cidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, trimethylolpropane diglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, polyethylene glycol di Ricidyl ether or glycerin triglycidyl ether and the like can be exemplified, and also hydrogenated compounds of glycidyl ethers or aromatic epoxy compounds having a cyclic aliphatic skeleton such as 1,4-cyclohexanedimethanol diglycidyl ether and the like Etc. can be exemplified, preferably a glycidyl ether having a cyclic aliphatic skeleton, preferably a cyclic aliphatic skeleton having 3 to 20 carbon atoms, preferably 3 to 16 carbon atoms, more preferably 3 to 12 carbon atoms Glycidyl ether may be used, but is not limited thereto.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 지환족 에폭시 화합물 및 글리시딜 에테르 타입 에폭시 화합물이 혼합되어 사용되는 경우, 그 중량비는 3:1 내지 1:3인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 2:1 내지 1:2일 수 있다.In one embodiment of the present specification, when the alicyclic epoxy compound and the glycidyl ether type epoxy compound are used in combination, the weight ratio is preferably 3: 1 to 1: 3, and more preferably 2: 1 to 1: 2.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 지환족 에폭시 화합물은 상기 에폭시 화합물 전체 중량 기준으로 10 중량% 내지 50 중량% 포함될 수 있고, 바람직하게는 20 중량% 내지 40 중량% 포함될 수 있다. 상기 수치 범위를 만족하는 경우, 광경화 시에 효과적으로 조성물이 경화될 수 있는 장점이 있다.In one embodiment of the present specification, the alicyclic epoxy compound may be included in an amount of 10% to 50% by weight based on the total weight of the epoxy compound, and preferably 20% to 40% by weight. When the above numerical range is satisfied, there is an advantage that the composition can be effectively cured during photocuring.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 글리시딜 에테르 타입 에폭시 화합물은 상기 에폭시 화합물 전체 중량 기준으로 10 중량% 내지 60 중량% 포함될 수 있고, 바람직하게는 30 중량% 내지 50 중량% 포함될 수 있다.In one embodiment of the present specification, the glycidyl ether type epoxy compound may be included in an amount of 10% to 60% by weight based on the total weight of the epoxy compound, and preferably 30% to 50% by weight.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 에폭시 화합물의 예로는 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시클로헥산카르복실레이트, 비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸)아디페이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트의 카프로락톤 변성물, 다가 카르복실산과 3,4-에폭시시클로헥실메틸알코올의 에스테르화물 또는 카프로락톤 변성물, 말단에 지환족 에폭시기를 갖는 실리콘계 화합물, 비스페놀 A 의 디글리시딜에테르, 비스페놀 F 의 디글리시딜에테르, 브롬화비스페놀 A 의 디글리시딜에테르, 페놀노볼락형 에폭시 수지, 크레졸노볼락형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 테레프탈산디글리시딜에스테르, 프탈산디글리시딜에스테르, 말단 카르복실산 폴리부타디엔과 비스페놀 A 형 에폭시 수지의 부가 반응물, 디시클로펜타디엔디옥사이드, 리모넨디옥사이드, 4-비닐시클로헥센디옥사이드, 폴리에틸렌글리콜 (반복수 3 이상) 디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜 (반복수 3 이상) 디글리시딜에테르, 폴리테트라메틸렌글리콜 (반복수 3 이상) 디글리시딜에테르, 수소 첨가 비스페놀 A 디글리시딜에테르, 에폭시화 식물유, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 양 말단 수산기의 폴리부타디엔디글리시딜에테르, 폴리부타디엔의 내부 에폭시화물, 스티렌-부타디엔 공중합체의 2 중 결합이 일부 에폭시화된 화합물〔예를 들어, 다이셀 화학 공업 (주) 제조의 "에포프렌드"〕, 및 에틸렌-부틸렌 공중합체와 폴리이소프렌의 블록 코폴리머의 이소프렌 단위가 일부 에폭시화된 화합물 (예를 들어, KRATON 사 제조의 "L-207") 등을 들 수 있다.In one embodiment of the present specification, examples of the epoxy compound include 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, 3 Caprolactone modified product of, 4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, esterified product of polyvalent carboxylic acid and 3,4-epoxycyclohexylmethyl alcohol or caprolactone modified product, alicyclic at the terminal Silicone compound having an epoxy group, diglycidyl ether of bisphenol A, diglycidyl ether of bisphenol F, diglycidyl ether of bisphenol A bromide, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, biphenyl Type epoxy resin, terephthalic acid diglycidyl ester, phthalic acid diglycidyl ester, addition reaction product of terminal carboxylic acid polybutadiene and bisphenol A type epoxy resin, dicyclopentadiene Oxide, limonene dioxide, 4-vinylcyclohexene dioxide, polyethylene glycol (3 or more repetitions) diglycidyl ether, polypropylene glycol (3 or more repetitions) diglycidyl ether, polytetramethylene glycol (3 or more repetitions) ) Diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, epoxidized vegetable oil, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl Triethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, polybutadienediglycidyl ether of both terminal hydroxyl groups, internal epoxide of polybutadiene, styrene-butadiene air Compounds in which the double bond of the coalescence is partially epoxidized [for example, "epopend" manufactured by Daicel Chemical Industry Co., Ltd.], and the isoprene unit of the block copolymer of ethylene-butylene copolymer and polyisoprene And some epoxidized compounds (eg, “L-207” manufactured by KRATON).

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 접착제 조성물은 경화성 성분을 더 포함할 수 있고, 상기 경화성 성분은 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물, 비닐기 등의 중합성 2중 결합을 복수 개 갖는 화합물일 수 있다. 예를 들면, 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트, 1,9-노난디올디아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올디아크릴레이트, 고리형 트리메틸올프로판포르말아크릴레이트, 디옥산글리콜디아크릴레이트, EO 변성 디글리세린테트라아크릴레이트, 아로닉스 M-220 (토아 합성사 제조), 라이트아크릴레이트 1,9ND-A (쿄에이샤 화학사 제조), 라이트아크릴레이트 DGE-4A (쿄에이샤 화학사 제조), 라이트아크릴레이트 DCP-A (쿄에이샤 화학사 제조), SR-531 (Sartomer 사 제조), CD-536 (Sartomer 사 제조) 등을 들 수있다. 또한 필요에 따라, 각종 에폭시(메트)아크릴레이트, 우레탄(메트)아크릴레이트, 폴리에스테르(메트)아크릴레이트나, 각종 (메트)아크릴레이트계 모노머 등을 들 수 있다. 상기 경화성 성분을 포함하는 경우, 경화 속도를 상승시킬 수 있고, 낮은 광량으로도 높은 수준의 경화가 가능하다는 장점이 있다.In one embodiment of the present specification, the adhesive composition may further include a curable component, and the curable component is a compound having a plurality of polymerizable double bonds such as a compound having a (meth) acryloyl group and a vinyl group. Can be For example, tripropylene glycol diacrylate, 1,9-nonanediol diacrylate, tricyclodecane dimethanol diacrylate, cyclic trimethylolpropane formal acrylate, dioxane glycol diacrylate, EO modified di Glycerin Tetraacrylate, Aaronix M-220 (manufactured by Toa Synthetic), Lightacrylate 1,9ND-A (manufactured by Kyoeisha Chemicals), Lightacrylate DGE-4A (manufactured by Kyoeisha Chemicals), Lightacrylate DCP And -A (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), SR-531 (manufactured by Sartomer), and CD-536 (manufactured by Sartomer). Moreover, various epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, polyester (meth) acrylates, and various (meth) acrylate-based monomers may be mentioned as necessary. When including the curable component, it is possible to increase the curing rate, there is an advantage that a high level of curing is possible even with a low light amount.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 편광판 접착제 조성물은 상기 편광판 접착제 조성물은 광개시제를 더 포함할 수 있다. 상기 광개시제에 대한 설명은 상술한 보호층에 포함되는 광개시제의 설명과 같다.In one embodiment of the present specification, the polarizer adhesive composition may further include a photoinitiator. The description of the photoinitiator is the same as that of the photoinitiator included in the above-described protective layer.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 편광판 접착제 조성물은 필요에 따라서 염료, 안료, 에폭시 수지, 자외선 안정제, 산화 방지제, 조색제, 보강제, 충진제, 소포제, 계면 활성제, 광증감제 및 가소제로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 첨가제를 추가로 포함할 수 있다. 상기 첨가제에 대한 설명은 상술한 보호층에 포함되는 첨가제의 설명과 같다.In one embodiment of the present specification, the polarizing plate adhesive composition is a dye, a pigment, an epoxy resin, an ultraviolet stabilizer, an antioxidant, a colorant, a reinforcing agent, a filler, an antifoaming agent, a surfactant, a photosensitizer, and a plasticizer, if necessary. It may further include one or more additives selected. The description of the additive is the same as that of the additive included in the protective layer described above.

편광자Polarizer

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 편광자는 당해 기술분야에 잘 알려진 편광자, 예를 들면 요오드 또는 이색성 염료를 포함하는 폴리비닐알코올(PVA)로 이루어진 필름을 사용할 수 있다. 상기 편광자는 폴리비닐알코올 필름에 요오드 또는 이색성 염료를 염착시켜서 제조될 수 있으나, 이의 제조방법은 특별히 한정되지 않는다. In one embodiment of the present specification, the polarizer may be a polarizer well known in the art, for example, a film made of polyvinyl alcohol (PVA) including iodine or a dichroic dye. The polarizer may be prepared by dyeing an iodine or dichroic dye on a polyvinyl alcohol film, but the manufacturing method thereof is not particularly limited.

본 명세서에 있어서, 편광자는 보호층(또는 보호필름)을 포함하지 않는 상태를 의미하며, 편광판은 편광자와 보호층(또는 보호필름)을 포함하는 상태를 의미한다.In the present specification, the polarizer means a state that does not include a protective layer (or protective film), and the polarizer means a state that includes a polarizer and a protective layer (or protective film).

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 편광자의 두께가 5㎛ 내지 40㎛, 보다 바람직하게는 5㎛ 내지 25㎛일 수 있다. 편광자의 두께가 상기 범위보다 얇으면 광학특성이 떨어질 수 있으며, 상기 범위보다 두꺼우면 저온(-30℃ 정도)에서의 편광자 수축량이 커져서 전체적인 편광판의 열에 관련한 내구성에 문제가 될 수 있다.In one embodiment of the present specification, the polarizer may have a thickness of 5 μm to 40 μm, more preferably 5 μm to 25 μm. If the thickness of the polarizer is thinner than the above range, the optical properties may deteriorate, and if it is thicker than the above range, the shrinkage of the polarizer at a low temperature (about -30 ° C) may be large, which may be a problem in durability related to heat of the entire polarizing plate.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 편광자가 폴리비닐알코올계 필름이다. 폴리비닐알코올계 필름은 폴리비닐알코올 수지 또는 그 유도체를 포함하는 것이면 특별한 제한 없이 사용이 가능하다. 이때, 상기 폴리비닐알코올 수지의 유도체로는, 이에 한정되는 것은 아니나, 폴리비닐포르말 수지, 폴리비닐아세탈 수지 등을 들 수 있다. 또는, 상기 폴리비닐알코올계 필름은 당해 기술분야에 있어서 편광자 제조에 일반적으로 사용되는 시판되는 폴리비닐알코올계 필름, 예컨대, 구라레 사의 P30, PE30, PE60, 일본합성사의 M2000, M3000, M6000 등을 사용할 수도 있다.In one embodiment of the present specification, the polarizer is a polyvinyl alcohol-based film. The polyvinyl alcohol-based film can be used without particular limitation as long as it includes a polyvinyl alcohol resin or a derivative thereof. At this time, as the derivative of the polyvinyl alcohol resin, but not limited to, polyvinyl formal resin, polyvinyl acetal resin and the like. Alternatively, the polyvinyl alcohol-based film is a commercially available polyvinyl alcohol-based film commonly used in the manufacture of polarizers in the art, for example, P30, PE30, PE60 from Gurayre, M2000, M3000, M6000 of Japan Synthetic, etc. You can also use

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 폴리비닐알코올계 필름의 중합도가 1,000 내지 10,000, 바람직하게는 1,500 내지 5,000이다. 중합도가 상기 범위를 만족할 때, 분자 움직임이 자유롭고, 요오드 또는 이색성 염료 등과 유연하게 혼합될 수 있다.In one embodiment of the present specification, the polymerization degree of the polyvinyl alcohol-based film is 1,000 to 10,000, preferably 1,500 to 5,000. When the polymerization degree satisfies the above range, molecular movement is free, and it can be flexibly mixed with iodine or dichroic dye.

점착층Adhesive layer

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 편광판은 상기 보호층의 상부에 점착층을 더 포함한다. 이는 표시장치 패널 또는 위상차 필름과 같은 광학 필름과의 부착을 위한 것이다.In one embodiment of the present specification, the polarizing plate further includes an adhesive layer on the protective layer. This is for attachment to an optical film, such as a display panel or retardation film.

도 3에 따르면, 본 명세서는 보호층(20)이 상기 편광자(10)의 일면에 구비되고, 상기 편광자(10)의 보호층(20)이 구비된 면의 타면에 접착제층을 매개로 보호필름(30)이 부착되고, 상기 보호층(20)의 상부에 구비된 점착층(40)을 더 포함한다.According to FIG. 3, in the present specification, a protective film 20 is provided on one surface of the polarizer 10 and an adhesive layer is applied to the other surface of the surface provided with the protective layer 20 of the polarizer 10 as a medium. 30 is attached, and further includes an adhesive layer 40 provided on the protective layer 20.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 점착층은 당해 기술 분야에 잘 알려져 있는 다양한 점착제들을 사용하여 형성될 수 있으며, 그 종류가 특별히 제한되는 것은 아니다. 예를 들면, 상기 점착층은 고무계 점착제, 아크릴계 점착제, 실리콘계 점착제, 우레탄계 점착제, 폴리비닐알코올계 점착제, 폴리비닐피롤리돈계 점착제, 폴리아크릴아미드계 점착제, 셀룰로오스계 점착제, 비닐알킬에테르계 점착제 등을 이용하여 형성될 수 있다. 이 중에서도 투명성 및 내열성 등을 고려할 때, 아크릴계 점착제를 사용하는 것이 특히 바람직하다.In one embodiment of the present specification, the adhesive layer may be formed using various adhesives well known in the art, and the type is not particularly limited. For example, the adhesive layer is a rubber-based adhesive, an acrylic adhesive, a silicone-based adhesive, a urethane-based adhesive, a polyvinyl alcohol-based adhesive, a polyvinylpyrrolidone-based adhesive, a polyacrylamide-based adhesive, a cellulose-based adhesive, a vinyl alkyl ether-based adhesive, etc. It can be formed using. Among these, when considering transparency, heat resistance, and the like, it is particularly preferable to use an acrylic adhesive.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 점착층은 보호층 상부에 점착제를 도포하는 방법으로 형성될 수도 있고, 이형 시트 상에 점착제를 도포한 후 건조시켜 제조되는 점착 시트를 보호층 상부에 부착하는 방법으로 형성될 수도 있다.In one embodiment of the present specification, the pressure-sensitive adhesive layer may be formed by applying a pressure-sensitive adhesive on the top of the protective layer, and after applying the pressure-sensitive adhesive on a release sheet and drying it, the pressure-sensitive adhesive sheet prepared by drying is attached to the top of the protective layer It may be formed in a manner.

화상표시장치Image display device

본 명세서는 상술한 편광판을 포함하는 화상표시장치를 제공한다.The present specification provides an image display device including the polarizing plate described above.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 편광판은 액정표시장치 등과 같은 화상표시장치에 유용하게 적용될 수 있다. In one embodiment of the present specification, the polarizing plate may be usefully applied to an image display device such as a liquid crystal display device.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 화상표시장치는 액정 패널; 상기 액정 패널의 상면에 구비되는 상부 편광판; 및 상기 액정 패널의 하면에 구비되는 하부 편광판을 포함한다.In one embodiment of the present specification, the image display device includes a liquid crystal panel; An upper polarizing plate provided on an upper surface of the liquid crystal panel; And a lower polarizing plate provided on the lower surface of the liquid crystal panel.

도 4는 상기 액정 패널(200)의 일면에 편광판(100)이 구비된 화상표시장치를 도시한 것이다. 도 4에 따르면, 상기 액정 패널(200)의 일면과 상기 편광판(100)은 상기 편광판(100)의 점착층(40)을 매개로 점착된다.FIG. 4 illustrates an image display device having a polarizing plate 100 on one surface of the liquid crystal panel 200. According to FIG. 4, one surface of the liquid crystal panel 200 and the polarizing plate 100 are adhered through the adhesive layer 40 of the polarizing plate 100.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 상부 편광판은 상술한 편광판이다.In one embodiment of the present specification, the upper polarizing plate is the polarizing plate described above.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 하부 편광판은 상술한 편광판이다.In one embodiment of the present specification, the lower polarizing plate is the polarizing plate described above.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 상부 편광판 및 상기 하부 편광판은 상술한 편광판이다.In one embodiment of the present specification, the upper polarizing plate and the lower polarizing plate are the polarizing plates described above.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 액정 패널의 종류는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, TN(twisted nematic)형, STN(super twisted nematic)형, F(ferroelectic)형 또는 PD(polymer dispersed)형과 같은 수동 행렬 방식의 패널; 2단자형(two terminal) 또는 3단자형(three terminal)과 같은 능동행렬 방식의 패널; 횡전계형(IPS; In Plane Switching) 패널 및 수직배향형(VA; Vertical Alignment) 패널 등의 공지의 패널이 모두 적용될 수 있다. 또한, 액정표시장치를 구성하는 기타 구성, 예를 들면, 상부 및 하부 기판(ex. 컬러 필터 기판 또는 어레이 기판) 등의 종류 역시 특별히 제한되지 않고, 이 분야에 공지되어 있는 구성이 제한 없이 채용될 수 있다.In one embodiment of the present specification, the type of the liquid crystal panel is not particularly limited. For example, a passive matrix type panel such as a twisted nematic (TN) type, a super twisted nematic (STN) type, a ferroelectic (F) type, or a polymer dispersed (PD) type; An active matrix panel such as a two-terminal type or a three-terminal type; All well-known panels, such as an in-plane switching (IPS) panel and a vertical alignment (VA) panel, can be applied. In addition, other configurations constituting the liquid crystal display device, for example, types of upper and lower substrates (ex. Color filter substrates or array substrates) are also not particularly limited, and configurations known in this field may be employed without limitation. You can.

이하에서, 실시예를 통하여 본 명세서를 더욱 상세하게 설명한다. 그러나, 이하의 실시예는 본 명세서를 예시하기 위한 것이며, 이에 의하여 본 명세서의 범위가 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present specification will be described in more detail through examples. However, the following examples are intended to illustrate the present specification, and the scope of the present specification is not limited thereby.

<광경화성 조성물의 제조><Preparation of photocurable composition>

<제조예 A1 및 A2: 아크릴레이트기를 포함하지 않는 보호층 조성물 제조><Production Examples A1 and A2: Preparation of a protective layer composition not containing an acrylate group>

3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트(상품명 셀록사이드-2021) 80 중량부 및 3-에틸-3-[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸]옥세탄(도아 고세이 아론 옥세탄 OXT-221) 20 중량부를 포함하는 광경화성 조성물 100 중량부에 광개시제로서 Irgacure 250 3 중량부 및 광증감제로서 ESACURE ITX를 1 중량부 첨가하여 광경화성 조성물 A1를 제조하였다.80 parts by weight of 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate (trade name Celloxide-2021) and 3-ethyl-3-[(3-ethyloxetan-3-yl) Methoxymethyl] oxetane (Doa Gosei Aaron Oxetane OXT-221) 100 parts by weight of a photocurable composition containing 20 parts by weight of Irgacure 250 as a photoinitiator and 3 parts by weight of ESACURE ITX as a photosensitizer and photocurable by adding 1 part by weight of ESACURE ITX Composition A1 was prepared.

같은 방법으로 아래 표 1의 조성을 갖는 조성물 A2을 제조하였다. 광개시제 및 광증감제의 함량은 광개시제 및 광증감제를 제외한, 나머지 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물의 전체 중량을 기준으로 한 것이다.In the same manner, a composition A2 having the composition of Table 1 below was prepared. The content of the photoinitiator and photosensitizer is based on the total weight of the remaining epoxy compound and oxetane compound, excluding the photoinitiator and photosensitizer.

구분division 에폭시 화합물Epoxy compounds 옥세탄 화합물Oxetane compounds 광개시제Photoinitiator 광증감제Photosensitizer 지환족 에폭시 화합물Alicyclic epoxy compound 글리시딜 에테르 타입 에폭시 화합물화합물Glycidyl ether type epoxy compound compound 제품명product name CEL2021PCEL2021P CHDMDGECHDMDGE OXT-221OXT-221 IRG-250IRG-250 ESCURE ITXESCURE ITX 조성물 A1Composition A1 8080 -- 2020 33 1One 조성물 A2Composition A2 4242 2828 3030 33 1One

* CEL2021P: 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트CHDMDGE: 1,4-시클로헥실 디메탄올 디글리시딜 에테르* CEL2021P: 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate CHDMDGE: 1,4-cyclohexyl dimethanol diglycidyl ether

OXT-221: 3-에틸-3-[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시메틸]옥세탄(도아 고세이 아론 옥세탄 OXT-221)OXT-221: 3-ethyl-3-[(3-ethyloxetan-3-yl) methoxymethyl] oxetane (Doase Gosei Aaron Oxetane OXT-221)

IRG-250: 아이오도늄염(제품명: Irgacure-250, CIBA사 제조)IRG-250: Iodonium salt (Product name: Irgacure-250, manufactured by CIBA)

<제조예 B1 내지 B9: 아크릴레이트기를 포함하는 보호층 조성물 제조><Production Examples B1 to B9: Preparation of a protective layer composition containing an acrylate group>

1) 제조예 B1 내지 B81) Preparation Examples B1 to B8

아래 표 2의 조성대로 아크릴레이트기를 포함하는 보호층 조성물을 제조하였다. 광개시제 및 광증감제의 함량은 광개시제 및 광증감제를 제외한, 나머지 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물 및 아크릴 화합물의 전체 중량을 기준으로 한 것이다.A protective layer composition including an acrylate group was prepared according to the composition of Table 2 below. The content of the photoinitiator and photosensitizer is based on the total weight of the remaining epoxy compound, oxetane compound and acrylic compound, excluding the photoinitiator and photosensitizer.

구분division 에폭시 화합물Epoxy compounds 옥세탄 화합물Oxetane compounds 아크릴 화합물Acrylic compound 광개시제Photoinitiator 광증감제Photosensitizer 제품명product name C2021PC2021P OXT221OXT221 DCPDADCPDA PVEEAPVEEA VEEAVEEA Irgacure 250Irgacure 250 Irgacure 819Irgacure 819 ESCURE ITXESCURE ITX 제조예 B1Preparation Example B1 조성물 B1Composition B1 5656 1414 3030 00 00 1.851.85 1One 0.740.74 제조예 B2Preparation Example B2 조성물 B2Composition B2 4848 1212 4040 00 00 1.581.58 1.51.5 0.630.63 제조예 B3Preparation Example B3 조성물 B3Composition B3 5656 1414 00 3030 00 1.851.85 1One 0.740.74 제조예 B4Preparation Example B4 조성물 B4Composition B4 4848 1212 00 3030 1010 1.581.58 1.51.5 0.630.63 제조예 B5Preparation Example B5 조성물 B5Composition B5 5656 1414 00 2020 1010 1.851.85 1One 0.740.74 제조예 B6Preparation Example B6 조성물 B6Composition B6 5656 1414 1515 1515 00 1.851.85 1One 0.740.74 제조예 B7Preparation Example B7 조성물 B7Composition B7 5656 1414 1515 55 1010 1.851.85 1One 0.740.74 제조예 B8Preparation Example B8 조성물 B8Composition B8 5656 1414 55 1515 1010 1.851.85 1One 0.740.74

* DCPDA: Dicyclopentadiene acrylate* DCPDA: Dicyclopentadiene acrylate

VEEA: 2-(2-Vinyloxyethoxy)ethyl acrylateVEEA: 2- (2-Vinyloxyethoxy) ethyl acrylate

IRG-819: (Bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphineoxide)IRG-819: (Bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphineoxide)

2) 제조예 B92) Production Example B9

4-히드록시부틸아크릴레이트(4-Hydroxybutyl Acrylate: 오사카 화학공업사 제조) 80 중량부 및 Tris(2-acryloyloxyethyl) Isocyanurate(제품명: FA-731A, 히타치케미칼사 제조) 20 중량부를 포함하는 광경화성 조성물 100 중량부에 광개시제로서 IRG-819(Bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphineoxide) 3 중량부를 첨가한 광경화성 조성물 B9를 제조하였다.100 parts by weight of 4-hydroxybutyl acrylate (4-Hydroxybutyl Acrylate: manufactured by Osaka Chemical Industries) and 20 parts by weight of Tris (2-acryloyloxyethyl) Isocyanurate (product name: FA-731A, manufactured by Hitachi Chemical) 100 parts by weight A photocurable composition B9 was prepared by adding 3 parts by weight of IRG-819 (Bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphineoxide) as a photoinitiator.

<제조예 C1 내지 C3: 접착제 조성물 제조><Production Examples C1 to C3: Preparation of adhesive composition>

아래 표 3의 조성대로 접착제 조성물을 제조하였다. 하기 표 3에 있어서, 광개시제 및 광증감제의 함량은 광개시제 및 광증감제를 제외한, 나머지 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물 및 아크릴 화합물의 전체 중량을 기준으로 한 것이다.An adhesive composition was prepared according to the composition of Table 3 below. In Table 3, the content of the photoinitiator and photosensitizer is based on the total weight of the remaining epoxy compound, oxetane compound, and acrylic compound, excluding the photoinitiator and photosensitizer.

구분division 에폭시 화합물Epoxy compounds 옥세탄 화합물Oxetane compounds 아크릴 화합물Acrylic compound 광개시제Photoinitiator 광증감제Photosensitizer 지환족 에폭시 화합물Alicyclic epoxy compound 글리시딜 에테르 타입 에폭시 화합물Glycidyl ether type epoxy compound 제품명 또는 화합물명Product or compound name CEL2021PCEL2021P CHDMDGECHDMDGE OXT-221OXT-221 OXT-212OXT-212 노난디올 디아크릴레이트Nonanediol diacrylate -- ESCURE ITXESCURE ITX 조성물 C1Composition C1 3030 4040 2020 -- 1010 3 (IRG-250)3 (IRG-250) 1One 조성물 C2Composition C2 3535 2020 55 4040 -- 22 1One 조성물 C3Composition C3 3030 4040 2020 -- 1010 5 (CPI110P)5 (CPI110P) --

* CPI-100P: 산아프로사 제조 광개시제* CPI-100P: Photoinitiator manufactured by San Apro

OXT-212: 3-에틸-3-[(2-에틸헥실옥시)메틸]옥세탄 (도아 고세이 아론 옥세탄 OXT-212)OXT-212: 3-ethyl-3-[(2-ethylhexyloxy) methyl] oxetane (Toagosei Aaron Oxetane OXT-212)

<실시예 및 비교예: 편광판의 제조><Examples and Comparative Examples: Preparation of polarizing plate>

<실시예 1>- 보호필름/편광판/보호층의 구조<Example 1>-Structure of the protective film / polarizing plate / protective layer

폴리비닐알코올(PVA)계 수지 필름에 이색성 염료를 염착시킨 후, 일정한 방향으로 연신하고 가교시키는 방법으로 편광자를 제조하였다. 접착제층으로서 상기 제조한 편광자의 일면에 광경화성 조성물 C1을 롤 코터를 사용하여 코팅하고, 보호필름으로서 PET 필름을 적층한 다음 자외선을 조사하여 접착제층을 경화시켰다. 상기 경화된 광경화성 조성물이 이루는 접착제층의 두께는 2㎛ 이었다. After dyeing the dichroic dye on the polyvinyl alcohol (PVA) -based resin film, a polarizer was prepared by stretching and crosslinking in a certain direction. As an adhesive layer, a photocurable composition C1 was coated on one surface of the prepared polarizer using a roll coater, a PET film was laminated as a protective film, and then irradiated with ultraviolet rays to cure the adhesive layer. The thickness of the adhesive layer formed by the cured photocurable composition was 2 μm.

이후, 편광자의 보호필름이 적층된 면의 타면에 광경화성 조성물 A1을 바 코터 또는 롤 코터를 사용하여 코팅하고, 자외선을 조사하여 6㎛ 두께를 갖는 보호층을 형성하여 편광판을 제조하였다. 상기 편광판은 편광자의 일면에 2㎛의 접착제층을 매개로 하여 보호필름이 적층되고, 상기 편광자의 보호필름이 적층된 면의 타면에 보호층이 직접 형성된 구조를 가진다. Subsequently, a photocurable composition A1 was coated on the other surface of the surface on which the protective film of the polarizer was laminated using a bar coater or a roll coater, and a protective layer having a thickness of 6 μm was formed by irradiating ultraviolet rays to prepare a polarizing plate. The polarizing plate has a structure in which a protective film is laminated on one surface of the polarizer via an adhesive layer of 2 μm, and a protective layer is directly formed on the other surface of the surface on which the protective film of the polarizer is laminated.

<실시예 2><Example 2>

보호층의 두께가 5㎛인 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.A polarizing plate was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the protective layer was 5 μm.

<실시예 3><Example 3>

보호층의 두께가 8㎛인 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.A polarizing plate was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the protective layer was 8 μm.

<실시예 4><Example 4>

보호층의 두께가 10㎛인 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.A polarizing plate was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the protective layer was 10 μm.

<실시예 5><Example 5>

보호층의 재료로서 광경화성 조성물 A1 대신 광경화성 조성물 A2를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.A polarizing plate was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the photocurable composition A2 was used instead of the photocurable composition A1 as a material for the protective layer.

<실시예 6><Example 6>

접착제층의 재료로서 광경화성 조성물 C1 대신 광경화성 조성물 A2를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 5와 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.A polarizing plate was manufactured in the same manner as in Example 5, except that the photocurable composition A2 was used instead of the photocurable composition C1 as a material for the adhesive layer.

<비교예 1><Comparative Example 1>

상기 실시예 1에 있어서, 보호층의 재료로서 광경화성 조성물 A1 대신 광경화성 조성물 C1을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.In Example 1, a polarizing plate was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the photocurable composition C1 was used instead of the photocurable composition A1 as a material for the protective layer.

<비교예 2><Comparative Example 2>

접착제층의 재료로서 접착제 조성물 C1 대신 광경화성 조성물 C2를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.A polarizing plate was manufactured in the same manner as in Example 1, except that instead of the adhesive composition C1, the photocurable composition C2 was used as a material for the adhesive layer.

<비교예 3- PET 보호필름/접착제층/PVA/접착제층/TAC 보호필름><Comparative Example 3- PET protective film / adhesive layer / PVA / adhesive layer / TAC protective film>

실시예 1에서 사용된 것과 동일한 편광자의 일면에 광경화성 조성물 A2를 두께 2㎛가 되도록 롤 코터를 사용하여 도포하고 코로나 처리된 80 ㎛ 두께의 PET 필름을 접합하였다. 상기 편광자의 광경화성 조성물 A2가 도포된 면의 타면에 접착제 조성물 C3를 두께 1㎛가 되도록 롤 코터를 사용하여 도포하고 25 ㎛ 두께의 TAC 필름(후지사 제조)을 접합하고, 자외선을 조사하여 상기 광경화성 조성물 A2 및 접착제 조성물 C3를 경화시켜 편광판을 제조하였다.A photocurable composition A2 was applied to one surface of the same polarizer used in Example 1 using a roll coater to have a thickness of 2 μm, and a corona-treated PET film of 80 μm thickness was bonded. The adhesive composition C3 was applied to the other surface of the surface on which the photocurable composition A2 of the polarizer was applied using a roll coater to a thickness of 1 μm, and a 25 μm thick TAC film (manufactured by Fuji Corporation) was bonded, and irradiated with ultraviolet rays to The photocurable composition A2 and the adhesive composition C3 were cured to prepare a polarizing plate.

<비교예 4><Comparative Example 4>

TAC 필름 대신 40 ㎛ 두께의 아크릴 필름(Rinken 사 제조)를 사용한 것 외에는 상기 비교예 3과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.A polarizing plate was manufactured in the same manner as in Comparative Example 3, except that an acrylic film having a thickness of 40 μm (manufactured by Rinken) was used instead of the TAC film.

<비교예 5>- 보호필름/편광판/보호층의 구조<Comparative Example 5>-Structure of protective film / polarizing plate / protective layer

보호층의 두께가 20㎛인 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.A polarizing plate was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the protective layer was 20 μm.

<비교예 6><Comparative Example 6>

보호층의 두께가 30㎛인 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.A polarizing plate was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the protective layer was 30 μm.

<비교예 7 내지 비교예 15><Comparative Example 7 to Comparative Example 15>

보호층의 재료로서 광경화성 조성물 1 대신 광경화성 조성물 B1 내지 98을 사용한 것 외에는 실시예 1과 동일하게 편광판을 제조하였다.A polarizing plate was prepared in the same manner as in Example 1, except that photocurable compositions B1 to 98 were used instead of photocurable composition 1 as a material for the protective layer.

상기 제조된 실시예 및 비교예의 편광판의 보호층 조성 및 두께를 아래 표 4에 표시하였다.The composition and thickness of the protective layer of the polarizing plates of the prepared examples and comparative examples are shown in Table 4 below.

구분division layer 조성Furtherance 두께thickness 실시예 1Example 1 보호층Protective layer 조성물 A1Composition A1 6㎛6㎛ 접착제층Adhesive layer 조성물 C1Composition C1 2㎛2㎛ 실시예 2Example 2 보호층Protective layer 조성물 A1Composition A1 5㎛5㎛ 실시예 3Example 3 보호층Protective layer 조성물 A1Composition A1 8㎛8㎛ 실시예 4Example 4 보호층Protective layer 조성물 A1Composition A1 10㎛10㎛ 실시예 5Example 5 보호층Protective layer 조성물 A2Composition A2 6㎛6㎛ 접착제층Adhesive layer 조성물 C1Composition C1 2㎛2㎛ 실시예 6Example 6 보호층Protective layer 조성물 A2Composition A2 6㎛6㎛ 접착제층Adhesive layer 조성물 A2Composition A2 2㎛2㎛ 비교예 1Comparative Example 1 보호층Protective layer 조성물 C1Composition C1 6㎛6㎛ 비교예 2Comparative Example 2 보호층Protective layer 조성물 A1Composition A1 6㎛6㎛ 접착제층Adhesive layer 조성물 C2Composition C2 2㎛2㎛ 비교예 3Comparative Example 3 제1 보호필름1st protective film PETPET 80㎛80㎛ 제1 접착제층First adhesive layer 조성물 A2Composition A2 2㎛2㎛ 제2 접착제층Second adhesive layer 조성물 C3Composition C3 1㎛1㎛ 제2 보호필름2nd protective film TACTAC 25㎛25㎛ 비교예 4Comparative Example 4 제1 보호필름1st protective film PETPET 80㎛80㎛ 제1 접착제층First adhesive layer 조성물 A2Composition A2 2㎛2㎛ 제2 접착제층Second adhesive layer 조성물 C3Composition C3 1㎛1㎛ 제2 보호필름2nd protective film 아크릴 필름Acrylic film 40㎛40㎛ 비교예 5Comparative Example 5 보호층Protective layer 조성물 A1Composition A1 20㎛20㎛ 비교예 6Comparative Example 6 보호층Protective layer 조성물 A1Composition A1 30㎛30㎛ 비교예 7Comparative Example 7 보호층Protective layer 조성물 B1Composition B1 6㎛6㎛ 비교예 8Comparative Example 8 보호층Protective layer 조성물 B2Composition B2 6㎛6㎛ 비교예 9Comparative Example 9 보호층Protective layer 조성물 B3Composition B3 6㎛6㎛ 비교예 10Comparative Example 10 보호층Protective layer 조성물 B4Composition B4 6㎛6㎛ 비교예 11Comparative Example 11 보호층Protective layer 조성물 B5Composition B5 6㎛6㎛ 비교예 12Comparative Example 12 보호층Protective layer 조성물 B6Composition B6 6㎛6㎛ 비교예 13Comparative Example 13 보호층Protective layer 조성물 B7Composition B7 6㎛6㎛ 비교예 14Comparative Example 14 보호층Protective layer 조성물 B8Composition B8 6㎛6㎛ 비교예 15Comparative Example 15 보호층Protective layer 조성물 B9Composition B9 6㎛6㎛

실시예 2 내지 4, 비교예 1, 비교예 5 내지 15의 접착제층은 실시예 1과 동일하게 접착제 조성물 C1을 사용한 2㎛ 두께의 접착제층이다.The adhesive layers of Examples 2 to 4, Comparative Examples 1 and 5 to 15 are 2 µm thick adhesive layers using the adhesive composition C1 in the same manner as in Example 1.

<실험예><Experimental Example>

<물성 측정 방법><Method for measuring physical properties>

1. 인장 탄성률 측정1. Tensile modulus measurement

상기 제조예에서 제조된 광경화성 조성물을 이용하여 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름에 두께 100 ㎛로 도포하고, 광량 1000mJ/cm2 이상의 조건에서 자외선을 조사하여 경화시킨 후, 이형 필름을 제거하고, 시편을 10mm 폭으로 일정하게 레이저 재단한 후, UTM(Universal Testing Machine)을 통해 측정한다. 이 때, 측정 온도는 상온(25℃)으로 하고 측정 길이는 50 mm 인장속도는 50 mm/min으로 일정하게 인장하여 얻은 S-S (Stress-Strain) 커브를 통해 인장탄성률을 구한다. 인장 탄성률은 S-S 커브의 초기 기울기 값에 100을 곱하여 구한다.After coating the polyethylene terephthalate film with a thickness of 100 μm using the photo-curable composition prepared in the preparation example, and curing it by irradiating with ultraviolet light under conditions of 1000 mJ / cm 2 or more, the release film is removed, and the specimen is 10 mm wide. After laser cutting with constant, it is measured through UTM (Universal Testing Machine). At this time, the measurement temperature is set to room temperature (25 ° C), and the measurement length is 50 mm. The tensile modulus is obtained through the SS (Stress-Strain) curve obtained by constantly pulling the tensile speed at 50 mm / min. The tensile modulus is obtained by multiplying the initial slope of the SS curve by 100.

2. 저장 탄성률 측정2. Storage modulus measurement

상기 실시예 및 비교예에서 제조된 편광판을 폭 5.3㎜, 길이 4.5cm 크기로 레이저를 이용하여 재단하였다. 이후, DMA(Dynamic mechanical analyzer)를 이용하여 저장 탄성률을 측정하였다. 측정 모드는 Multi-Frequency-Strain 으로, 1분당 5℃씩 -30℃에서 160℃까지 승온 시키며 측정하였다The polarizing plates prepared in Examples and Comparative Examples were cut using a laser having a size of 5.3 mm in width and 4.5 cm in length. Thereafter, a storage elastic modulus was measured using a DMA (Dynamic Mechanical Analyzer). The measurement mode was Multi-Frequency-Strain, and the temperature was increased from -30 ℃ to 160 ℃ at 5 ℃ per minute.

3. 열팽창계수 측정3. Measurement of thermal expansion coefficient

상기 제조예에서 제조된 광경화성 조성물을 이형 PET 사이에 도포한 다음 최종 두께가 50㎛가 되도록 상기 실시예와 동일한 경화 조건으로 경화하였다. 그 후, 이형 PET에서 분리해낸 경화물을 폭 6㎜, 길이 10㎜ 크기로 재단하였다. 이후, TMA를 이용하여, Tension load를 0.05N 유지한 상태에서, 30℃ ~ 150℃로 승온 속도 5℃/min의 속도로 승온시키고, 변화된 길이를 측정하여 열팽창계수(CTE)를 측정하였다.The photocurable composition prepared in the preparation example was coated between release PETs, and then cured under the same curing conditions as in the above example so that the final thickness was 50 μm. Then, the cured product separated from the release PET was cut into 6 mm wide and 10 mm long. Then, using a TMA, while maintaining a tension load of 0.05N, the temperature was increased at a rate of 5 ° C / min at a rate of temperature increase from 30 ° C to 150 ° C, and the changed length was measured to measure the coefficient of thermal expansion (CTE).

4. 고온 촉진 평가4. High temperature acceleration evaluation

상기 제조예에서 제조된 광경화성 조성물을 이용하여 보호필름을 편광자에 적층하고, 실시예와 동일한 방법으로 경화하였다. 이후, 뭉툭한 펜슬을 이용하여 300g의 하중으로 긁어 편광자에 크랙을 유발한 것 외에는, 상기 실시예 및 비교예와 동일한 방법으로 편광자 상에 코팅하여 편광판을 제조하였다.A protective film was laminated on a polarizer using the photocurable composition prepared in the above-mentioned preparation example, and cured in the same manner as in the example. Subsequently, a polarizing plate was prepared by coating on the polarizer in the same manner as in the above Examples and Comparative Examples, except that cracking was caused in the polarizer by scratching with a load of 300 g using a blunt pencil.

이후, 상기 편광판을 폭 6mm 길이 10mm로 재단한 후, 80℃에서 100 시간 동안 방치한 후, 편광자 수축으로 인해 크랙이 벌어져 빛이 새는 지 관찰하였고, 전체 크랙 중 빛이 새는 크랙의 수를 계산하여, 편광판 내 크랙(crack) 발생률을 도출하였다.Subsequently, after cutting the polarizing plate to a width of 6 mm and a length of 10 mm, and then standing at 80 ° C. for 100 hours, the cracks were cracked due to the shrinkage of the polarizer, and light was leaked, and the number of cracks leaking out of all cracks was calculated. , The crack generation rate in the polarizing plate was derived.

또한, 상기 편광판의 크기를 변경하여 55인치 패널에 적용한 경우의 편광판 내 크랙 발생률을 측정하였다.In addition, when the size of the polarizing plate was changed and applied to a 55-inch panel, crack incidence in the polarizing plate was measured.

*크랙 발생률: 빛이 새는 크랙의 수/전체 크랙의 수 x 100(%)* Crack incidence: Number of cracks leaking / Total number of cracks x 100 (%)

5. 접착력 평가5. Evaluation of adhesion

상기 제조예에서 제조된 광경화성 조성물을 이용하여 보호필름을 편광자에 적층하고, 실시예와 동일한 방법으로 경화하였다. 이후, 보호필름과 편광자의 박리력이 2N/cm 이상이면 양호, 그 이하이면 불량으로 한다.A protective film was laminated on a polarizer using the photocurable composition prepared in the above-mentioned preparation example, and cured in the same manner as in the example. Thereafter, when the peeling force of the protective film and the polarizer is 2 N / cm or more, it is good, and if it is less than that, it is considered defective.

6. 보호층 성분 분석6. Analysis of protective layer composition

실시예 및 비교예 편광판의 보호층에 대한 FTIR 분석을 수행하여, 1720 cm-1, 1410 cm-1 및 910 cm-1에서의 피크 면적을 분석하여 아래 표 5에 나타냈다. 또한, 비교예 8에 대한 FTIR 스펙트럼을 도 5에 나타내고, 실시예 1에 대한 FTIR 스펙트럼을 도 6에 각각 나타냈다. 보호층 조성물의 경화 전 후에 대하여 각각 측정하였다. 또한, 식 1의 범위를 측정하여 아래 표 5에 나타냈다.Examples and Comparative Examples By performing FTIR analysis on the protective layer of the polarizing plate, the peak areas at 1720 cm -1 , 1410 cm -1 and 910 cm -1 were analyzed and are shown in Table 5 below. In addition, the FTIR spectrum for Comparative Example 8 is shown in Fig. 5, and the FTIR spectrum for Example 1 is shown in Fig. 6, respectively. The protective layer composition was measured before and after curing. In addition, the range of Equation 1 was measured and shown in Table 5 below.

구분division 피크 면적Peak area 식 1Equation 1 1720 cm-1
(C=O 결합)
1720 cm -1
(C = O bond)
Ia(1410 cm-1의 피크 강도 사용, 아크릴)Ia (with peak intensity of 1410 cm -1 , acrylic) Ie (910 cm-1 의 피크 강도 사용, 에폭시)Ie (with peak intensity of 910 cm -1 , epoxy)
실시예 1Example 1 3.383.38 00 0.060.06 1One 실시예 2Example 2 6.836.83 00 0.060.06 1One 비교예 7Comparative Example 7 8.058.05 0.470.47 0.340.34 0.070.07 비교예 8Comparative Example 8 8.468.46 0.610.61 0.030.03 0.050.05 비교예 9Comparative Example 9 7.187.18 0.280.28 0.030.03 0.10.1 비교예 10Comparative Example 10 7.297.29 0.380.38 0.020.02 0.050.05 비교예 11Comparative Example 11 7.607.60 0.850.85 0.030.03 0.080.08 비교예 12Comparative Example 12 7.007.00 0.280.28 0.030.03 0.10.1 비교예 13Comparative Example 13 7.407.40 0.370.37 0.030.03 0.080.08 비교예 14Comparative Example 14 7.167.16 0.330.33 0.030.03 0.080.08

식 1에 있어서, 1740cm-1 내지 1700cm-1에서의 피크로 1720 cm-1에서의 피크를 선택하고, 1420 cm-1 내지 1380cm-1에서의 피크로 1410 cm-1 에서의 피크를 각각 선택하여 1720 cm-1에서의 피크 강도 대비 1410 cm-1 에서의 피크 강도의 비율을 Ie로 계산하였다.In the formula 1, with a peak at 1740cm -1 to 1700cm -1 select a peak at 1720 cm -1, and each select a peak at 1410 cm -1 to the peak at 1420 cm -1 to 1380cm -1 The ratio of the peak intensity at 1410 cm -1 to the peak intensity at 1720 cm -1 was calculated as Ie.

또한, 식 1에 있어서, 1740cm-1 내지 1700cm-1에서의 피크로 1720 cm-1에서의 피크를 선택하고, 920 cm-1 내지 900cm-1에서의 피크로 910 cm-1 에서의 피크를 각각 선택하여 1720 cm-1에서의 피크 강도 대비 910 cm-1 에서의 피크 강도의 비율을 Ie로 계산하였다.Further, in the equation 1, a peak of 1740cm -1 to 1700cm -1 in the selected peak at 1720 cm -1 and the peak at 910 cm -1 to the peak at 920 cm -1 to 900cm -1, respectively By selecting, the ratio of the peak intensity at 910 cm -1 to the peak intensity at 1720 cm -1 was calculated as Ie.

상기 피크 강도는 FTIR 스펙트럼의 피크 면적에 상응한다. 상기 피크 면적은 직접 적분법에 의하여 도출될 수 있다. 또는 상기 FTIR 스펙트럼의 일 피크를 가우시안 분포로 가정하고, 상기 피크 면적은 상기 피크의 높이와 반값 폭(half value width)의 곱으로부터 계산하였다.The peak intensity corresponds to the peak area of the FTIR spectrum. The peak area can be derived by direct integration. Alternatively, one peak of the FTIR spectrum is assumed to be a Gaussian distribution, and the peak area is calculated from the product of the height of the peak and a half value width.

상기 결과로부터, 실시예 1 및 실시예 2의 편광판 보호층에는 아크릴레이트기가 포함되지 않으나, 비교예 7 내지 14의 편광판 보호층에는 아크릴레이트기가 포함된 것을 확인할 수 있다.From the above results, it can be seen that the polarizing plate protective layers of Examples 1 and 2 did not include an acrylate group, but the polarizing plate protective layers of Comparative Examples 7 to 14 contained an acrylate group.

7. 편광판 수축력 테스트7. Polarizer shrinkage test

실시예 1의 편광판의 수축력을 테스트하였다.The shrinkage force of the polarizing plate of Example 1 was tested.

상기 수축력은 편광판을 2mm(투과축 방향)×50mm(흡수축 방향) 크기로 절단한 후, 표점 거리를 15mm로 하고, 80℃에서 4시간 이상 등온 상태인 채로 정치하고 DMA Q800(Dynamic mechanical analyzer, TA사)로 MD 방향 또는 TD 방향의 수축력을 측정하였다. 이때 측정 전에 편광판을 평탄한 상태로 유지하기 위해 최소한의 하중을 편광자의 두께 방향에 걸쳐 측정하였다.The shrinking force is 2mm (transmission axis direction) × 50mm (absorption axis direction) cut the polarizing plate, the target distance is set to 15mm, and is left in an isothermal state at 80 ℃ for 4 hours or more DMA Q800 (Dynamic mechanical analyzer, TA company) to measure the contraction force in the MD or TD direction. At this time, in order to keep the polarizing plate flat before the measurement, the minimum load was measured over the thickness direction of the polarizer.

8회 반복 측정하였으며, 그 결과를 아래 표 6에 나타내었다. MD 방향으로의 평균 수축력이 8.03 N이고, 6.62 N이었다.The measurement was repeated 8 times, and the results are shown in Table 6 below. The average shrinkage force in the MD direction was 8.03 N and 6.62 N.

구분division 수축력(단위: N)Shrinking force (unit: N) MD 방향MD direction TD 방향TD direction 1회1 time 7.97.9 8.098.09 2회Episode 2 7.737.73 8.288.28 3회3rd time 7.97.9 8.098.09 4회Episode 4 7.737.73 8.288.28 5회Episode 5 8.128.12 6.456.45 6회Episode 6 8.118.11 3.963.96 7회Episode 7 9.069.06 6.446.44 8회Episode 8 7.587.58 3.43.4 평균Average 8.03 N8.03 N 6.62 N6.62 N

<보호층의 아크릴레이트 포함 여부에 따른 실험 결과><Experimental results depending on whether the protective layer contains acrylate>

보호층의 아크릴레이트 포함 유무에 따른 내구성/내열성 테스트와 접착력 테스트를 하여 아래 표 7에 나타냈다.The durability / heat resistance test and adhesion test according to the presence or absence of acrylate in the protective layer are shown in Table 7 below.

이 결과로부터, 편광판 보호층이 아크릴레이트기를 포함하지 않는 경우(실시예 1, 2), 포함하는 경우(비교예 7 내지 14)에 비하여 고온 내구성 및 접착력이 우수한 것을 확인할 수 있었다.From this result, it was confirmed that the polarizing plate protective layer does not contain an acrylate group (Examples 1 and 2) and has a high temperature durability and adhesion compared to the case of containing (Comparative Examples 7 to 14).

즉, 실시예의 편광판 보호층은 아크릴 화합물 대신 에폭시 화합물 및 옥세탄 화합물을 포함함으로써, 보호층에 의한 편광자 보호 효과가 우수하므로 편광판 또는 편광자의 수축력이 큰 경우에도, 고온 환경 하에서 편광자에 크랙이 발생하는 것을 최소화할 수 있는 장점이 있다.That is, since the polarizing plate protective layer of the embodiment includes an epoxy compound and an oxetane compound instead of an acrylic compound, since the polarizer protective effect by the protective layer is excellent, even when the shrinking force of the polarizing plate or the polarizer is large, cracks occur in the polarizer under a high temperature environment It has the advantage of minimizing things.

구분division 고온 촉진 평가 결과 크랙 발생률(단위 크기)Crack incidence as a result of accelerated high temperature evaluation (unit size) 접착력 테스트Adhesion test 실시예 1Example 1 0%0% 양호Good 실시예 2Example 2 10%10% 양호Good 비교예 7Comparative Example 7 65%65% 불량Bad 비교예 8Comparative Example 8 80%80% 불량Bad 비교예 9Comparative Example 9 50%50% 불량Bad 비교예 10Comparative Example 10 80%80% 불량Bad 비교예 11Comparative Example 11 70%70% 불량Bad 비교예 12Comparative Example 12 50%50% 불량Bad 비교예 13Comparative Example 13 70%70% 불량Bad 비교예 14Comparative Example 14 70%70% 불량Bad

<황변 현상 테스트><Yellowing test>

상기 실시예 1의 보호층 적층에 따른 황변 현상 테스트를 위하여, 샘플을 제조하였다. 구체적으로, TAC 필름(후지사 제조, 두께 25㎛)에 상기 실시예 1의 보호층을 형성하는 데 사용된 조성물과 동일한 광경화성 조성물 A1을 바 코터 또는 롤 코터를 사용하여 도포하고, 자외선 조사 장치를 이용하여 1,000 mJ/cm2의 자외선을 조사하여 6㎛ 두께의 보호층을 형성하였다. 이후, 25℃의 온도 및 상대습도(RH) 40% 조건 하에서 48 시간 동안 방치한 후 광선 분광계(V-7100, JASCO사 제조)를 이용하여 편광판의 황색도(b*)값을 측정하였다. 정확도를 위하여, 3회 반복 측정 후 평균값을 계산하였다.For the yellowing phenomenon test according to the protective layer stacking of Example 1, a sample was prepared. Specifically, the same photocurable composition A1 as the composition used to form the protective layer of Example 1 on the TAC film (manufactured by Fuji Corporation, thickness 25 µm) was applied using a bar coater or roll coater, and an ultraviolet irradiation device A protective layer having a thickness of 6 μm was formed by irradiating UV light at 1,000 mJ / cm 2 with. Thereafter, after standing for 48 hours under a temperature of 25 ° C and a relative humidity (RH) of 40%, the yellowness (b *) value of the polarizing plate was measured using a light spectrometer (V-7100, manufactured by JASCO). For accuracy, the average value was calculated after 3 repeated measurements.

나머지 실시예 및 비교예에 대해서도 같은 방법으로 측정하여 아래 표 8에 정리하였다.The rest of the Examples and Comparative Examples were also measured in the same way and summarized in Table 8 below.

보호층 적층 전 편광판 및 편광자의 황색도(Ybi)는 2.3 내지 2.4이었다.The yellowness (Ybi) of the polarizing plate and the polarizer before lamination of the protective layer was 2.3 to 2.4.

구분division 보호층 두께Protective layer thickness 방치 후 편광판의 황색도(Ybf)Yellowness of polarizing plate after standing (Ybf) 황색도 변화
(△Yp=Ybf-Ybi)
Yellowness change
(△ Yp = Ybf-Ybi)
실시예 1Example 1 6 ㎛6 μm 3.0033.003 0.6410.641 실시예 2Example 2 5 ㎛5 μm 2.9322.932 0.5420.542 실시예 3Example 3 8 ㎛8 μm 3.1123.112 0.750.75 실시예 4Example 4 10 ㎛10 μm 3.2753.275 0.9130.913 실시예 5Example 5 6 ㎛6 μm 2.7372.737 0.3470.347 비교예 5Comparative Example 5 20 ㎛20 μm 3.7743.774 1.3841.384 비교예 6Comparative Example 6 30 ㎛30 μm 4.3514.351 1.9891.989

상기 결과로부터, 보호층의 두께가 10㎛를 초과하는 비교예 5 및 6의 경우, 보호층의 조성이 실시예 1 내지 4와 동일하더라도 황색도가 크게 증가하는 것을 확인할 수 있었다.From the above results, it was confirmed that in the case of Comparative Examples 5 and 6 in which the thickness of the protective layer exceeded 10 µm, even if the composition of the protective layer was the same as in Examples 1 to 4, the yellowness increased significantly.

<보호층의 조성에 따른 실험결과><Experimental results according to the composition of the protective layer>

실시예 및 비교예의 조성과 그 실험결과는 아래 표 9와 같다.The composition of the Examples and Comparative Examples and the experimental results are shown in Table 9 below.

구분division 층 구분Floor division @80℃
열팽창계수
(ppm/K)
@ 80 ℃
Coefficient of thermal expansion
(ppm / K)
@25℃ 인장
탄성률
@ 25 ℃ tensile
Modulus of elasticity
@80℃ 저장 탄성률@ 80 ℃ storage elastic modulus 편광판
크랙 발생률
Polarizer
Crack incidence
실시예 1Example 1 보호층Protective layer 82.3382.33 2200Mpa2200Mpa 2500MPa2500MPa 0%0% 접착제층Adhesive layer 130.89130.89 900MPa900 MPa 800MPa800 MPa 실시예 2Example 2 보호층Protective layer 82.3382.33 2200Ma2200Ma 2500MPa2500MPa 5%5% 접착제층Adhesive layer 130.89130.89 900MPa900 MPa 800MPa800 MPa 실시예 3Example 3 보호층Protective layer 82.3382.33 2200Ma2200Ma 2500MPa2500MPa 0%0% 접착제층Adhesive layer 130.89130.89 900MPa900 MPa 800MPa800 MPa 실시예 4Example 4 보호층Protective layer 82.3382.33 2200MPa2200MPa 2500MPa2500MPa 0%0% 접착제층Adhesive layer 130.89130.89 900MPa900 MPa 800MPa800 MPa 실시예 5Example 5 보호층Protective layer 99.8799.87 2000MPa2000MPa 1900MPa1900MPa 10%10% 접착제층Adhesive layer 130.89130.89 900MPa900 MPa 800MPa800 MPa 실시예 6Example 6 보호층Protective layer 99.8799.87 2000MPa2000MPa 1900MPa1900MPa 5%5% 접착제층Adhesive layer 99.8799.87 2000MPa2000MPa 1900MPa1900MPa 비교예 1Comparative Example 1 보호층Protective layer 130.89130.89 900MPa900 MPa 800MPa800 MPa 50%50% 접착제층Adhesive layer 130.89130.89 900MPa900 MPa 800MPa800 MPa 비교예 2Comparative Example 2 보호층Protective layer 130.89130.89 900MPa900 MPa 800MPa800 MPa 100%100% 접착제층Adhesive layer 1063.61063.6 50MPa50MPa 70MPa70MPa 비교예 15Comparative Example 15 보호층Protective layer 1,000 이상1,000 or more -(미실시)-(Not implemented) 300 Mpa 이하300 Mpa or less 100%100% 접착제층Adhesive layer 130.89130.89 900MPa900 MPa 800MPa800 MPa

실시예 1 내지 6에 따른 편광판은 편광판 크랙 발생률이 10% 이내이었으나, 비교에 1, 2 및 비교예 15에 따른 편광판은 편광판 크랙이 다수 발생하는 것을 확인할 수 있었다. 편광자에 직접 보호층이 형성된 실시예 1 내지 6은 보호층의 두께가 얇으면서도(5~10㎛) 편광판 크랙 발생률이 거의 없는 우수한 결과를 나타냈다. 이는 보호층의 열팽창계수가 낮고, 인장 탄성률 및 저장 탄성률이 우수하여 고온에서 편광자가 팽창 또는 수축하는 것을 효과적으로 억제하였기 때문이다.The polarizing plates according to Examples 1 to 6 had a polarizing plate crack incidence of less than 10%, but it was confirmed that a number of polarizing plate cracks were generated in the polarizing plates according to Comparative Examples 1 and 2 and Comparative Example 15. Examples 1 to 6, in which the protective layer was directly formed on the polarizer, showed excellent results while the thickness of the protective layer was thin (5 to 10 µm) and little incidence of cracks in the polarizing plate. This is because the thermal expansion coefficient of the protective layer is low, and the tensile modulus and storage modulus are excellent, effectively suppressing the polarizer from expanding or contracting at high temperatures.

반면에, 비교예 1, 2 및 비교예 15에 따른 편광판의 경우, 편광자에 직접 형성된 보호층의 열팽창계수가 높으므로, 고온에서 편광자가 팽창 또는 수축하는 것을 억제하지 못하여, 편광자에 크랙이 발생하는 것을 확인할 수 있었다.On the other hand, in the case of the polarizing plates according to Comparative Examples 1, 2 and Comparative Example 15, since the thermal expansion coefficient of the protective layer directly formed on the polarizer is high, it is impossible to suppress the polarizer from expanding or contracting at high temperatures, and cracks are generated in the polarizer. I could confirm that.

특히, 비교예 15의 편광판은 보호층에 아크릴 화합물을 포함하는데, 이 경우, 보호층의 열팽창계수가 너무 높고(1,000 ppm/K 이상), 저장 탄성률이 낮기 때문에(300 Mpa 이하), 고온 촉진 평가 결과 크랙이 다수 발생하는 것을 확인할 수 있다.Particularly, the polarizing plate of Comparative Example 15 contains an acrylic compound in the protective layer. In this case, because the thermal expansion coefficient of the protective layer is too high (1,000 ppm / K or more), and the storage elastic modulus is low (300 Mpa or less), high temperature acceleration evaluation As a result, it can be seen that many cracks were generated.

<편광판 적층 구조에 따른 실험결과><Experimental results according to the laminated structure of the polarizing plate>

아래 표 10은 '보호필름/접착제층/PVA/보호층'의 구조를 갖는 편광판(실시예 1 내지 6)과 '보호필름/접착제층/PVA/접착제층/보호필름'의 구조를 갖는 편광판(비교예 3 및 4)의 편광판을 서로 비교하고, 실시예 1 내지 6의 편광자에 직접 형성된 보호층과 비교예 3 및 4의 편광판에 접착제층을 매개로 형성된 보호필름의 재료와 그 특성을 비교한 것이다.Table 10 below shows a polarizing plate having structures of 'protective film / adhesive layer / PVA / protective layer' (Examples 1 to 6) and a polarizing plate having a structure of 'protective film / adhesive layer / PVA / adhesive layer / protective film' ( The polarizing plates of Comparative Examples 3 and 4) were compared with each other, and the properties of the protective layers formed directly on the polarizers of Examples 1 to 6 and the protective films formed through the adhesive layer on the polarizing plates of Comparative Examples 3 and 4 were compared. will be.

구분division 두께 (㎛)Thickness (㎛) 80℃
열팽창계수
(ppm/K)
80 ℃
Coefficient of thermal expansion
(ppm / K)
80℃ 저장 탄성률 (Mpa)80 ℃ storage modulus (Mpa) 편광판
크랙 발생률
Polarizer
Crack incidence
실시예 1Example 1 보호층Protective layer 66 82.3382.33 25002500 0%0% 실시예 2Example 2 보호층Protective layer 55 82.3382.33 25002500 5%5% 실시예 3Example 3 보호층Protective layer 88 82.3382.33 25002500 0%0% 실시예 4Example 4 보호층Protective layer 1010 82.3382.33 25002500 0%0% 실시예 5Example 5 보호층Protective layer 66 99.8799.87 19001900 10%10% 실시예 6Example 6 보호층Protective layer 66 99.8799.87 19001900 5%5% 비교예 3Comparative Example 3 보호필름Protection film 4040 8888 18001800 80%80% 접착제층Adhesive layer 1One 223223 700700 비교예 4Comparative Example 4 보호필름Protection film 4040 8383 19001900 80%80% 접착제층Adhesive layer 1One 223223 700700

비교예 3 및 4에 따른 편광판의 경우, 접착제층 및 보호필름의 총 두께가 두꺼움에도 불구하고, 편광판 크랙이 다수 발생하여 내구성이 떨어지는 결과를 나타냈다.In the case of the polarizing plates according to Comparative Examples 3 and 4, although the total thickness of the adhesive layer and the protective film was thick, a large number of polarizing plate cracks were generated, resulting in poor durability.

반면에, 실시예 1 내지 6에 따른 편광판의 경우, 편광자에 직접 형성되는 보호층의 두께가 5 내지 10 ㎛로 얇으면서도 편광판 크랙 발생률이 낮은 결과를 나타냈다.On the other hand, in the case of the polarizing plates according to Examples 1 to 6, the thickness of the protective layer directly formed on the polarizer was 5 to 10 µm, but the polarization plate crack incidence was low.

이는 실시예 1 내지 6에 따른 편광판의 편광자에 직접 형성되는 보호층의 열팽창계수가 낮으면서도 저장 탄성률이 우수하기 때문에. 별도의 보호필름이 없더라도 편광자의 고온에서의 수축 또는 팽창 현상을 효과적으로 억제하였기 때문이다.This is because the thermal expansion coefficient of the protective layer formed directly on the polarizer of the polarizing plates according to Examples 1 to 6 is low, but the storage elastic modulus is excellent. This is because even if there is no separate protective film, the shrinkage or expansion phenomenon at a high temperature of the polarizer is effectively suppressed.

반면에, 비교예 3 및 4에 따른 편광판의 경우, 보호필름의 열팽창계수값이 낮더라도, 편광자에 직접 형성되는 접착제층의 열팽창계수가 높기 때문에, 편광자의 고온에서의 수축 또는 팽창 현상을 효과적으로 억제하지 못하였기 때문이다.On the other hand, in the case of the polarizing plates according to Comparative Examples 3 and 4, even if the thermal expansion coefficient value of the protective film is low, since the thermal expansion coefficient of the adhesive layer directly formed on the polarizer is high, the shrinkage or expansion phenomenon at high temperature of the polarizer is effectively suppressed. Because it did not.

10: 편광자
20: 보호층
30: 보호필름
40: 점착층
100: 편광판
200: 액정 패널
10: polarizer
20: protective layer
30: protective film
40: adhesive layer
100: polarizer
200: liquid crystal panel

Claims (15)

편광자; 및
상기 편광자의 일면 또는 양면에 상기 편광자에 직접 접하여 구비된 보호층을 포함하고,
상기 보호층은 에폭시 화합물, 옥세탄계 화합물, 광개시제 및 광증감제를 포함하는 편광판 보호층용 광경화성 조성물의 경화물이고,
상기 광개시제 및 광증감제의 함량은 각각 상기 편광판 보호층용 광경화성 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 5 중량부이고,
상기 보호층의 두께가 4 ㎛ 내지 11㎛이고,
상기 보호층의 푸리에 변환 적외분광법(FTIR)에 의한 스펙트럼에 있어서, 하기 식 1을 만족하고,
하기 식 2로 계산되는 황색도 변화(△Yp)가 1 이하인 것인 편광판:
[식 1]
Figure 112019111277250-pat00018

[식 2]
황색도 변화: △Yp=Ybf-Ybi
상기 식 1에 있어서,
Ie는 상기 보호층의 푸리에 변환 적외분광법(FTIR)에 의한 스펙트럼에서 1740cm-1 내지 1700cm-1에서의 피크 강도 대비 920 cm-1 내지 900cm-1에서의 피크 강도의 비율이고,
Ia는 상기 보호층의 푸리에 변환 적외분광법(FTIR)에 의한 스펙트럼에서 1740cm-1 내지 1700cm-1에서의 피크 강도 대비 1420 cm-1 내지 1380cm-1에서의 피크 강도이고,
상기 식 2에 있어서, Ybi는 상기 편광자의 황색도이고,
Ybf는 상기 편광판을 25℃ 및 40%의 상대습도 조건에서 48 시간 동안 방치하였을 때의 보호층의 황색도이다.
Polarizer; And
A protective layer provided in direct contact with the polarizer on one or both sides of the polarizer,
The protective layer is a cured product of a photocurable composition for a polarizing plate protective layer comprising an epoxy compound, an oxetane-based compound, a photoinitiator and a photosensitizer,
The content of the photoinitiator and the photosensitizer is 0.01 parts by weight to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the photocurable composition for the protective layer of the polarizing plate, respectively.
The thickness of the protective layer is 4㎛ to 11㎛,
In the spectrum by the Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR) of the protective layer, the following equation 1 is satisfied,
A polarizing plate having a yellowness change (ΔYp) calculated by Equation 2 below 1 or less:
[Equation 1]
Figure 112019111277250-pat00018

[Equation 2]
Yellowness change: △ Yp = Ybf-Ybi
In Equation 1,
I e is the ratio of the peak intensity in the protective layer Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR) 1740cm -1 to 1700cm -1 in the spectra due to the peak intensity compared to 920 cm -1 to 900cm -1 in a,
I a is the intensity of the peak in a Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR) spectrum 1740cm -1 to 1700cm -1 1420 cm -1 peak intensity compared to 1380cm -1 in at by the protective layer,
In Formula 2, Ybi is the yellowness of the polarizer,
Ybf is the yellowness of the protective layer when the polarizing plate is left at 25 ° C and 40% relative humidity for 48 hours.
삭제delete 삭제delete 청구항 1에 있어서, 상기 보호층의 80℃에서의 열팽창계수가 100 ppm/K 이하인 것인 편광판.The polarizing plate according to claim 1, wherein the thermal expansion coefficient of the protective layer at 80 ° C. is 100 ppm / K or less. 청구항 1에 있어서, 상기 보호층의 유리전이온도(Tg)가 90 ℃ 이상 170 ℃ 이하인 것인 것인 편광판.The method according to claim 1, wherein the glass transition temperature (Tg) of the protective layer is 90 ° C or more and 170 ° C or less. 청구항 1에 있어서, 상기 보호층의 80℃에서의 저장 탄성률이 1,500 Mpa 이상인 것인 편광판.The polarizing plate according to claim 1, wherein the storage layer has a storage modulus at 80 ° C. of 1,500 Mpa or higher. 청구항 1에 있어서, 상기 보호층의 25℃에서의 인장 탄성률이 1,700 Mpa 이상인 것인 편광판.The polarizing plate according to claim 1, wherein the protective layer has a tensile modulus of elasticity at 25 ° C. of 1,700 Mpa or more. 청구항 1에 있어서, 상기 편광판을 80℃에서 4시간 이상 방치하였을 때, 흡수축 방향(MD 방향) 및 투과축 방향(TD 방향) 중 어느 하나 이상의 수축력이 3N 내지 10N인 것인 편광판.The method according to claim 1, When the polarizing plate is left at 80 ° C for 4 hours or more, the shrinking force of at least one of the absorption axis direction (MD direction) and the transmission axis direction (TD direction) is 3N to 10N. 청구항 1에 있어서, 하기 식 A를 만족하는 것인 편광판.
[식 A]
Figure 112018094257594-pat00019

상기 식 A에 있어서,
상기 Lc는 편광판의 중심부를 원점으로 하는 지름 1cm 원면적에 해당하는 영역의 수축력이고,
상기 Le는 편광판의 각 꼭지점에서 만나는 두 edge부에 접하는 지름 1cm 원면적에 해당하는 영역의 편광판 수축력이고,
상기 Li는 편광자의 흡수축 방향(MD 방향) 또는 투과축 방향(TD 방향)의 평균 수축력; 또는 편광판의 흡수축 방향(MD 방향) 또는 투과축 방향(TD 방향)의 평균 수축력이다.
The polarizing plate according to claim 1, which satisfies Expression A below.
[Equation A]
Figure 112018094257594-pat00019

In the above formula A,
The L c is the contraction force of a region corresponding to a circular area of 1 cm in diameter with the center of the polarizing plate as the origin,
The L e is a shrinking force of the polarizing plate in a region corresponding to a circular area of 1 cm in diameter, which is in contact with two edge portions that meet at each vertex of the polarizing plate,
The L i is the average shrinking force in the absorption axis direction (MD direction) or the transmission axis direction (TD direction) of the polarizer; Alternatively, it is the average shrinkage force in the absorption axis direction (MD direction) or transmission axis direction (TD direction) of the polarizing plate.
청구항 1에 있어서, 상기 에폭시 화합물은 지환족 에폭시 화합물을 포함하는 것인 편광판.The method according to claim 1, wherein the epoxy compound is a polarizing plate comprising an alicyclic epoxy compound. 청구항 1에 있어서, 상기 에폭시 화합물과 옥세탄계 화합물의 중량비가 9:1 내지 1:9인 것인 편광판.The method according to claim 1, wherein the weight ratio of the epoxy compound and the oxetane-based compound is 9: 1 to 1: 9 polarizing plate. 청구항 1에 있어서, 상기 보호층이 상기 편광자의 일면에 구비되고,
상기 편광자의 보호층이 구비된 면의 타면에 접착제층을 매개로 보호필름이 부착된 편광판으로서,
상기 보호필름의 25℃에서의 인장 탄성률이 1700 Mpa 이상인 것인 편광판.
The method according to claim 1, The protective layer is provided on one surface of the polarizer,
As a polarizing plate is a protective film is attached to the other side of the surface provided with a protective layer of the polarizer via an adhesive layer,
A polarizing plate having a tensile modulus of elasticity at 25 ° C of the protective film of 1700 Mpa or more.
청구항 1에 있어서, 상기 보호층은 상기 편광자의 양면에 구비되는 것인 편광판.The method according to claim 1, wherein the protective layer is provided on both sides of the polarizer. 청구항 1에 있어서, 상기 보호층의 상기 편광자에 대향하는 면의 반대면에 점착층을 더 포함하는 편광판.The method according to claim 1, The polarizing plate further comprises an adhesive layer on the opposite surface of the surface opposite to the polarizer of the protective layer. 청구항 1 및 4 내지 14 중 어느 한 항의 편광판을 포함하는 화상표시장치.
An image display device comprising the polarizing plate of any one of claims 1 and 4 to 14.
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