JP2018158298A - Coating device and coating method - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technique which is related to formation of a coating film which is separated in a moving direction of a coating mechanism and can shorten coating treatment time while keeping high accuracy of coating treatment.SOLUTION: A coating device according to the present invention is configured to: perform movement of a first coating mechanism (14) and a second coating mechanism (16) in parallel in time in at least a part of the movement while separating the first coating mechanism (14) from the second coating mechanism (16) by performing time difference control in which timing at which the second coating mechanism (16) reaches a second end (16y) is delayed from timing at which the first coating mechanism (14) reaches a first end (14y).SELECTED DRAWING: Figure 7

Description

この発明は、基板の上面に塗布材を塗布する塗布装置および塗布方法に関するものである。   The present invention relates to a coating apparatus and a coating method for coating a coating material on an upper surface of a substrate.

従来から、ガラス基板などの基板の上面に塗布材を塗布することによって、液晶用ディスプレイ、または、有機EL(Electro-Luminescence)パネルなどが製造されている。   Conventionally, a liquid crystal display, an organic EL (Electro-Luminescence) panel, or the like is manufactured by applying a coating material on the upper surface of a substrate such as a glass substrate.

たとえば、特許文献1には、ノズルを用いて、基板の上面に塗布材を間欠的に塗布する方法が開示されている。当該方法によれば、ノズルの移動方向において離間する塗布膜を形成することができる。   For example, Patent Document 1 discloses a method in which a coating material is intermittently applied to the upper surface of a substrate using a nozzle. According to this method, it is possible to form a coating film that is separated in the moving direction of the nozzle.

特開2015−192987号公報JP2015-192987A

塗布膜の膜厚の均一性などの塗布処理の精度を高く維持するためには、一旦停止された塗布動作を再開する際にはノズルの先端を初期状態に戻すためスクレーパー処理などのメンテナンス処理を行うことが望ましい。   In order to maintain high coating processing accuracy such as coating film thickness uniformity, maintenance processing such as scraper processing is required to return the nozzle tip to the initial state when the stopped coating operation is resumed. It is desirable to do.

一方で、塗布材を間欠的に塗布する場合、塗布動作を停止するたびにメンテナンス処理を行うと、ノズルを含む塗布機構がメンテナンス処理を行うメンテナンス部まで移動するための時間によって塗布処理時間が長くなるという問題があった。   On the other hand, when applying the coating material intermittently, if the maintenance process is performed every time the coating operation is stopped, the coating process time is longer due to the time required for the coating mechanism including the nozzle to move to the maintenance unit that performs the maintenance process. There was a problem of becoming.

この発明は、以上に記載されたような問題を解決するためになされたものであり、塗布機構の移動方向において離間する塗布膜の形成に関し、塗布処理の精度で高く維持しつつ、塗布処理時間を短縮することができる技術を提供することを目的とするものである。   The present invention has been made to solve the problems as described above, and relates to the formation of a coating film that is separated in the moving direction of the coating mechanism, while maintaining a high coating processing accuracy while applying the coating processing time. It is an object of the present invention to provide a technique that can shorten the time.

本願明細書に開示される技術の第1の態様は、基板が配置されるステージと、前記ステージに配置された前記基板の上面に沿う方向である第1の方向に移動可能であり、かつ、前記基板の上面における第1の塗布領域に第1の塗布材を塗布する第1の塗布機構と、前記第1の方向と対向する方向である第2の方向に移動可能であり、かつ、前記基板の上面における第2の塗布領域に第2の塗布材を塗布する第2の塗布機構と、前記ステージの一方側に位置し、かつ、前記第1の塗布機構に対し第1のメンテナンス処理を行う第1のメンテナンス部と、前記ステージの他方側に位置し、かつ、前記第2の塗布機構に対し第2のメンテナンス処理を行う第2のメンテナンス部と、前記第1の塗布機構の動作および前記第2の塗布機構の動作を制御する制御部とを備え、前記制御部は、前記第1のメンテナンス処理のために前記第1の塗布機構を前記第1のメンテナンス部に位置させた後、前記第1の塗布領域において前記第1の塗布機構を前記第1の方向に移動させ、さらに、前記第1の塗布機構が前記第1の塗布領域の第1の端部に到達した後、前記第1の塗布機構を前記第1の端部から退避させ、前記制御部は、前記第2のメンテナンス処理のために前記第2の塗布機構を前記第2のメンテナンス部に位置させた後、前記第2の塗布領域において前記第2の塗布機構を前記第2の方向に移動させ、さらに、前記第2の塗布機構を前記第2の塗布領域の第2の端部に到達させ、前記第1の端部と前記第2の端部との間の距離は、前記第1の端部に位置する前記第1の塗布機構と前記第2の端部に位置する前記第2の塗布機構とが接触する距離以下であり、前記制御部は、前記第2の塗布機構が前記第2の端部に到達するタイミングを前記第1の塗布機構が前記第1の端部に到達するタイミングよりも遅らせる時間差制御を行うことによって、前記第1の塗布機構と前記第2の塗布機構とを離間させつつ、前記第1の塗布機構および前記第2の塗布機構の移動を、少なくともその一部において時間的に並行して行わせる。   A first aspect of the technology disclosed in the specification of the present application is movable in a first direction which is a stage along which a substrate is disposed, a direction along the upper surface of the substrate disposed on the stage, and A first application mechanism that applies a first application material to a first application region on the upper surface of the substrate; and a second direction that is a direction opposite to the first direction; and A second application mechanism that applies a second application material to a second application region on the upper surface of the substrate; and a first maintenance process that is located on one side of the stage and that is applied to the first application mechanism. A first maintenance unit to be performed, a second maintenance unit that is located on the other side of the stage and that performs a second maintenance process on the second coating mechanism, and the operation of the first coating mechanism; Control the operation of the second application mechanism A control unit, wherein the control unit positions the first application mechanism in the first maintenance unit for the first maintenance process, and then performs the first application in the first application region. The first application mechanism is moved in the first direction, and after the first application mechanism reaches the first end of the first application area, the first application mechanism is moved to the first direction. The controller is retracted from the end, and the controller places the second application mechanism on the second maintenance unit for the second maintenance process, and then moves the second application mechanism in the second application region. The coating mechanism is moved in the second direction, and further, the second coating mechanism is made to reach the second end of the second coating region, and the first end and the second end The distance between the first coating mechanism located at the first end and the first Is less than the distance of contact with the second coating mechanism located at the end of the first coating mechanism, and the control unit sets the timing at which the second coating mechanism reaches the second end to the first coating mechanism. By performing a time difference control that delays the timing of reaching the first end, the first coating mechanism and the second coating mechanism are separated from each other while the first coating mechanism and the second coating mechanism are separated from each other. The movement of the coating mechanism is performed at least partially in parallel in time.

本願明細書に開示される技術の第2の態様は、第1の態様に関連し、前記制御部は、前記第2の塗布機構を前記第2のメンテナンス部に位置させるタイミングを、前記第1の塗布機構を前記第1のメンテナンス部に位置させるタイミングよりも遅らせることによって、前記時間差制御を行う。   A second aspect of the technology disclosed in the specification of the present application relates to the first aspect, and the control unit sets a timing at which the second application mechanism is positioned in the second maintenance unit. The time difference control is performed by delaying the application mechanism at a timing earlier than the timing at which the application mechanism is positioned at the first maintenance unit.

本願明細書に開示される技術の第3の態様は、第1の態様または第2の態様に関連し、前記制御部は、前記第2の塗布機構を前記第2の方向に移動させる速度を、前記第1の塗布機構を前記第1の方向に移動させる速度よりも遅くすることによって、前記時間差制御を行う。   A third aspect of the technology disclosed in the specification of the present application relates to the first aspect or the second aspect, and the controller controls a speed of moving the second application mechanism in the second direction. The time difference control is performed by making the first coating mechanism slower than the moving speed of the first coating mechanism in the first direction.

本願明細書に開示される技術の第4の態様は、第1の態様から第3の態様のうちのいずれか1つに関連し、前記第1の塗布材と前記第2の塗布材とは、同一の材料からなる。   A fourth aspect of the technology disclosed in the specification of the present application relates to any one of the first aspect to the third aspect, wherein the first application material and the second application material are , Made of the same material.

本願明細書に開示される技術の第5の態様は、第1の態様から第4の態様のうちのいずれか1つに関連し、前記制御部は、前記第1の塗布機構を前記第1の端部から退避させた直後に、前記第2の塗布機構を前記第2の端部に到達させる前記時間差制御を行う。   A fifth aspect of the technology disclosed in this specification is related to any one of the first to fourth aspects, and the control unit controls the first application mechanism to the first aspect. Immediately after retreating from the end portion, the time difference control for causing the second coating mechanism to reach the second end portion is performed.

本願明細書に開示される技術の第6の態様は、第5の態様に関連し、前記第1の塗布機構が前記第1の端部に位置する際の、平面視において前記第1の塗布機構と重なる前記基板の上面の領域を第1の端部領域とし、前記第2の塗布機構が前記第2の端部に位置する際の、平面視において前記第2の塗布機構と重なる前記基板の上面の領域を第2の端部領域とし、前記制御部は、前記第1の塗布機構が前記第1の端部からの退避を開始した後、平面視において前記第1の塗布機構の全体が前記第1の端部領域と重ならない位置に到達するまでの間に、前記第2の塗布機構の少なくとも一部を前記第2の端部領域に到達させる前記時間差制御を行う。   A sixth aspect of the technology disclosed in the specification of the present application relates to the fifth aspect, and the first application in a plan view when the first application mechanism is located at the first end. The region of the upper surface of the substrate that overlaps the mechanism is a first end region, and the substrate that overlaps the second coating mechanism in plan view when the second coating mechanism is located at the second end portion The upper surface area of the first application mechanism is defined as a second end region, and the control unit is configured to perform the entire operation of the first application mechanism in a plan view after the first application mechanism starts to retract from the first end portion. The time difference control is performed so that at least a part of the second coating mechanism reaches the second end region until it reaches a position that does not overlap with the first end region.

本願明細書に開示される技術の第7の態様は、第1の態様から第6の態様のうちのいずれか1つに関連し、前記第1の塗布機構は、前記第1の塗布領域に前記第1の塗布材を塗布する第1のノズルと、前記第1のノズルを保持し、かつ、前記第1の方向に移動可能である第1の保持部とを備え、前記第2の塗布機構は、前記第2の塗布領域に前記第2の塗布材を塗布する第2のノズルと、前記第2のノズルを保持し、かつ、前記第2の方向に移動可能である第2の保持部とを備え、前記第1の端部と前記第2の端部との間の距離は、前記第1の端部に位置する前記第1の塗布機構の前記第1の保持部と前記第2の端部に位置する前記第2の塗布機構の前記第2の保持部とが接触する距離以下である。   A seventh aspect of the technology disclosed in this specification relates to any one of the first to sixth aspects, and the first application mechanism is disposed in the first application region. A first nozzle for applying the first application material; and a first holding unit that holds the first nozzle and is movable in the first direction. The mechanism holds the second nozzle for applying the second application material to the second application region, and the second holding that holds the second nozzle and is movable in the second direction. And the distance between the first end and the second end is set such that the distance between the first holding portion and the first end of the first application mechanism located at the first end is Or less than the distance that the second holding part of the second application mechanism located at the end of the second part contacts.

本願明細書に開示される技術の第8の態様は、ステージに配置された基板の上面に沿う方向である第1の方向に移動可能であり、かつ、前記基板の上面における第1の塗布領域に第1の塗布材を塗布する第1の塗布機構と、前記第1の方向と対向する方向である第2の方向に移動可能であり、かつ、前記基板の上面における第2の塗布領域に第2の塗布材を塗布する第2の塗布機構とを備える塗布装置を用いて前記第1の塗布材および前記第2の塗布材の塗布を行う塗布方法であり、第1のメンテナンス処理のために前記第1の塗布機構を前記ステージの一方側に位置させた後、前記第1の塗布領域において前記第1の塗布機構を前記第1の方向に移動させ、さらに、前記第1の塗布機構が前記第1の塗布領域の第1の端部に到達した後、前記第1の塗布機構を前記第1の端部から退避させ、第2のメンテナンス処理のために前記第2の塗布機構を前記ステージの他方側に位置させた後、前記第2の塗布領域において前記第2の塗布機構を前記第2の方向に移動させ、さらに、前記第2の塗布機構を前記第2の塗布領域の第2の端部に到達させ、前記第1の端部と前記第2の端部との間の距離は、前記第1の端部に位置する前記第1の塗布機構と前記第2の端部に位置する前記第2の塗布機構とが接触する距離以下であり、前記第2の塗布機構が前記第2の端部に到達するタイミングを前記第1の塗布機構が前記第1の端部に到達するタイミングよりも遅らせる時間差制御を行うことによって、前記第1の塗布機構と前記第2の塗布機構とを離間させつつ、前記第1の塗布機構および前記第2の塗布機構の移動を、少なくともその一部において時間的に並行して行わせる。   An eighth aspect of the technology disclosed in the specification of the present application is movable in a first direction that is a direction along an upper surface of a substrate disposed on a stage, and the first application region on the upper surface of the substrate. A first application mechanism that applies the first application material to the first application mechanism, and a second application region on the upper surface of the substrate that is movable in a second direction that is opposite to the first direction. A coating method that coats the first coating material and the second coating material using a coating device that includes a second coating mechanism that coats a second coating material, for the first maintenance process After the first coating mechanism is positioned on one side of the stage, the first coating mechanism is moved in the first direction in the first coating region, and the first coating mechanism is further moved. After reaching the first end of the first application area, After retracting the first application mechanism from the first end and positioning the second application mechanism on the other side of the stage for a second maintenance process, the second application area in the second application region The second application mechanism is moved in the second direction, and the second application mechanism is made to reach the second end of the second application region, and the first end and the second The distance between the first coating mechanism and the second coating mechanism located at the second end is less than or equal to the distance between the first coating mechanism and the second coating mechanism located at the first edge, respectively. By performing the time difference control for delaying the timing at which the second coating mechanism reaches the second end from the timing at which the first coating mechanism reaches the first end, the first coating is performed. The first coating mechanism and the second coating mechanism are spaced apart from each other. Wherein the movement of the second coating mechanism, causing temporally parallel at least in part.

本願明細書に開示される技術の第1および第8の態様によれば、それぞれの塗布機構が、メンテナンス処理を行った後に塗布材の塗布を行う。また、一方の塗布機構が塗布領域の端部に到達するタイミングを他方の塗布機構のそのタイミングよりも遅らせる時間差制御によって、互いに対向する方向に移動する2つの塗布機構を離間させつつ、少なくとも一部で時間的に並行して塗布材の塗布を行う。結果として、塗布機構の移動方向において近接し、かつ、離間する塗布膜を、膜厚を高い精度で制御しつつ、塗布処理時間を短縮して形成することができる。   According to the first and eighth aspects of the technology disclosed in the specification of the present application, each coating mechanism performs coating of a coating material after performing a maintenance process. In addition, at least a part of the two coating mechanisms moving in the mutually opposing directions is separated by time difference control that delays the timing at which one coating mechanism reaches the end of the coating region from the timing of the other coating mechanism. The coating material is applied in parallel with time. As a result, it is possible to form coating films that are close to each other in the moving direction of the coating mechanism and that are spaced apart from each other while controlling the film thickness with high accuracy and shortening the coating processing time.

特に、第2の態様によれば、メンテナンス処理の直後の塗布材の塗布を開始するタイミングを、2つの塗布機構の間でずらすことができる。そのため、メンテナンス処理後の塗布領域における移動が開始されるまでの時間を塗布機構間で調整しつつ、少なくとも一部で時間的に並行して塗布材の塗布を行うことができる。   In particular, according to the second aspect, the timing for starting the application of the coating material immediately after the maintenance process can be shifted between the two coating mechanisms. Therefore, the application material can be applied in parallel at least in part while adjusting the time until the movement in the application region after the maintenance process is started between the application mechanisms.

特に、第3の態様によれば、塗布材の塗布を開始した後の、2つの塗布機構の塗布処理進行の度合いをずらすことができる。そのため、互いに対向する方向に移動する2つの塗布機構を離間させつつ、少なくとも一部で時間的に並行して塗布材の塗布を行うことができる。   In particular, according to the third aspect, it is possible to shift the degree of progress of the application process of the two application mechanisms after the application of the application material is started. Therefore, it is possible to apply the coating material at least partially in parallel while separating the two coating mechanisms that move in directions facing each other.

特に、第4の態様によれば、同一の材料で形成される複数の塗布領域に対し塗布膜を形成する場合に、塗布処理時間を短縮することができる。   In particular, according to the fourth aspect, when the coating film is formed on a plurality of coating regions formed of the same material, the coating processing time can be shortened.

特に、第5の態様によれば、一方の塗布機構が塗布領域の端部から退避した直後に他方の塗布機構が塗布領域の端部に到達するため、2つの塗布機構が並行して塗布材の塗布を行う時間が長くなる。そのため、塗布材の塗布のための塗布処理時間を効果的に短縮することができる。   In particular, according to the fifth aspect, since one coating mechanism reaches the end of the coating region immediately after the one coating mechanism is retracted from the end of the coating region, the two coating mechanisms are applied in parallel. The time for applying the coating becomes longer. Therefore, the coating processing time for coating the coating material can be effectively shortened.

特に、第6の態様によれば、一方の塗布機構の全体が端部領域から退避し切らない内に他方の塗布機構の少なくとも一部が他の端部領域に到達するため、2つの塗布機構が並行して塗布材の塗布を行う時間が長くなる。そのため、塗布材の塗布のための塗布処理時間を効果的に短縮することができる。   In particular, according to the sixth aspect, since one coating mechanism does not completely retract from the end region, but at least a part of the other coating mechanism reaches the other end region, the two coating mechanisms However, it takes a long time to apply the coating material in parallel. Therefore, the coating processing time for coating the coating material can be effectively shortened.

特に、第7の態様によれば、2つの塗布領域の端部同士が、これらの端部に塗布機構が位置する際に互いに接触する距離以下に位置する場合であっても、一方の塗布機構が塗布領域の端部に到達するタイミングを他方の塗布機構のそのタイミングよりも遅らせる時間差制御によって、2つの塗布機構を離間させつつ、少なくとも一部で時間的に並行して塗布材の塗布を行うことができる。   In particular, according to the seventh aspect, even when the end portions of the two application regions are located at a distance that is less than or equal to the distance at which the end portions contact each other when the application mechanism is located at these end portions, The application material is applied at least partially in parallel while separating the two application mechanisms by time difference control that delays the timing at which the end of the application area reaches the end of the other application mechanism. be able to.

本願明細書に開示される技術に関する目的と、特徴と、局面と、利点とは、以下に示される詳細な説明と添付図面とによって、さらに明白となる。   The objectives, features, aspects, and advantages of the technology disclosed in this specification will become more apparent from the detailed description and the accompanying drawings provided below.

実施の形態に関する、塗布装置の構成を概略的に例示する斜視図である。It is a perspective view which illustrates roughly composition of an application device about an embodiment. 実施の形態に関する、塗布装置の機能的構成を例示する図である。It is a figure which illustrates the functional structure of the coating device regarding embodiment. 塗布装置によって形成される塗布膜の塗布領域を例示する平面図である。It is a top view which illustrates the application area | region of the coating film formed with a coating device. 近接して形成される塗布領域の端部に塗布機構が配置される場合を仮想した側面図である。It is the side view which assumed the case where an application | coating mechanism is arrange | positioned at the edge part of the application | coating area | region formed close. 塗布装置によって形成される塗布膜の塗布領域の変形例を例示する平面図である。It is a top view which illustrates the modification of the application area | region of the coating film formed with a coating device. 塗布装置によって形成される塗布膜の塗布領域の変形例を例示する平面図である。It is a top view which illustrates the modification of the application area | region of the coating film formed with a coating device. 実施の形態に関する、塗布膜を形成する動作のタイミングチャートである。It is a timing chart of the operation | movement which forms a coating film regarding embodiment. 実施の形態に関する、塗布装置の動作を例示するフローチャートである。It is a flowchart which illustrates operation | movement of the coating device regarding embodiment. 塗布機構による塗布動作が終了した際の、塗布機構間の配置関係を例示する側面図である。It is a side view which illustrates the arrangement | positioning relationship between coating mechanisms when the coating operation by a coating mechanism is complete | finished. 塗布機構が端部から退避する際の、塗布機構間の配置関係を例示する側面図である。It is a side view which illustrates the arrangement | positioning relationship between application mechanisms when an application mechanism retracts | saves from an edge part. 1つの塗布機構で塗布膜を形成する動作のタイミングチャートである。It is a timing chart of the operation | movement which forms a coating film with one coating mechanism.

以下、添付される図面を参照しながら実施の形態について説明する。   Embodiments will be described below with reference to the accompanying drawings.

なお、図面は概略的に示されるものであり、説明の便宜のため、適宜、構成の省略、または、構成の簡略化がなされるものである。また、異なる図面にそれぞれ示される構成などの大きさおよび位置の相互関係は、必ずしも正確に記載されるものではなく、適宜変更され得るものである。   Note that the drawings are schematically shown, and the configuration is omitted or simplified as appropriate for the convenience of explanation. In addition, the mutual relationships between the sizes and positions of the configurations and the like shown in different drawings are not necessarily accurately described and can be changed as appropriate.

また、以下に示される説明では、同様の構成要素には同じ符号を付して図示し、それらの名称と機能とについても同様のものとする。したがって、それらについての詳細な説明を、重複を避けるために省略する場合がある。   Moreover, in the description shown below, the same code | symbol is attached | subjected and shown in the same component, and it is the same also about those names and functions. Therefore, detailed descriptions thereof may be omitted to avoid duplication.

また、以下に記載される説明において、「上」、「下」、「左」、「右」、「側」、「底」、「表」または「裏」などの特定の位置と方向とを意味する用語が用いられる場合があっても、これらの用語は、実施の形態の内容を理解することを容易にするために便宜上用いられるものであり、実際に実施される際の方向とは関係しないものである。   In the description described below, a specific position and direction such as “top”, “bottom”, “left”, “right”, “side”, “bottom”, “front” or “back” Even if the meaning terms are used, these terms are used for convenience to facilitate understanding of the contents of the embodiment, and have no relation to the direction in actual implementation. It is something that does not.

また、以下に記載される説明において、「第1の」、または、「第2の」などの序数が用いられる場合があっても、これらの用語は、実施の形態の内容を理解することを容易にするために便宜上用いられるものであり、これらの序数によって生じ得る順序などに限定されるものではない。   In addition, in the description described below, even if an ordinal number such as “first” or “second” is used, these terms mean that the contents of the embodiment are understood. It is used for the sake of convenience, and is not limited to the order that can be generated by these ordinal numbers.

<実施の形態>
以下、本実施の形態に関する塗布装置について説明する。
<Embodiment>
Hereinafter, the coating apparatus regarding this Embodiment is demonstrated.

<塗布装置の構成>
図1は、本実施の形態に関する塗布装置の構成を概略的に例示する斜視図である。図1に例示されるように、塗布装置は、基板10が配置されるステージ12と、塗布機構14と、塗布機構16と、移動機構22と、制御部24と、メンテナンス部26(後述の図2を参照)と、メンテナンス部28(後述の図2を参照)とを備える。
<Configuration of coating apparatus>
FIG. 1 is a perspective view schematically illustrating the configuration of a coating apparatus according to the present embodiment. As illustrated in FIG. 1, the coating apparatus includes a stage 12 on which the substrate 10 is disposed, a coating mechanism 14, a coating mechanism 16, a moving mechanism 22, a control unit 24, and a maintenance unit 26 (described later). 2) and a maintenance unit 28 (see FIG. 2 described later).

基板10は、たとえば、矩形状のガラス基板である。なお、基板10は、ガラス基板に限られるものではなく、一般にフラットパネルディスプレイ用に用いられる種々の基板などを想定することができる。   The substrate 10 is, for example, a rectangular glass substrate. In addition, the board | substrate 10 is not restricted to a glass substrate, The various board | substrate etc. which are generally used for flat panel displays can be assumed.

基板10の上面に塗布される塗布材40(後述の図2を参照)は、たとえば、有機ELパネルを製造するために用いられるポリアミド酸溶液である。具体的には、基板10の上面にポリイミド膜を形成する場合には、ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸(ポリアミック酸)を有機溶媒、たとえば、NMP(N−メチル−2−ピロリドン:N-Methyl-2-Pyrrolidone)で溶解させてなるポリアミド酸溶液を塗布材40として用いる。なお、基板10に塗布された塗布材(ポリアミド酸溶液)40の塗布膜は、その後、乾燥、キュアされてイミド化され、ポリイミド膜となる。なお、塗布材40は、ポリアミド酸溶液に限られるものではなく、たとえば、レジスト液などの液状の材料、シリコン、ナノメタルインク、導電性材料を含むペースト状またはスラリー状の材料などの種々の塗布材を想定することができる。   The coating material 40 (see FIG. 2 described later) applied to the upper surface of the substrate 10 is, for example, a polyamic acid solution used for manufacturing an organic EL panel. Specifically, when a polyimide film is formed on the upper surface of the substrate 10, polyamic acid (polyamic acid) which is a precursor of polyimide is an organic solvent such as NMP (N-methyl-2-pyrrolidone: N-Methyl). -2-Pyrrolidone) is used as the coating material 40. The coating film of the coating material (polyamic acid solution) 40 applied to the substrate 10 is then dried, cured, imidized, and becomes a polyimide film. The coating material 40 is not limited to the polyamic acid solution. For example, various coating materials such as a liquid material such as a resist solution, a paste material or a slurry material containing a conductive material, silicon, nanometal ink, and the like. Can be assumed.

塗布機構14と塗布機構16とで、異なる塗布材が塗布されてもよいし、同じ塗布材が塗布されてもよい。なお、以下の実施の形態では、塗布機構14と塗布機構16とによって、同じ塗布材40が塗布されるものとする。   Different coating materials may be applied by the coating mechanism 14 and the coating mechanism 16, or the same coating material may be applied. In the following embodiment, the same coating material 40 is applied by the coating mechanism 14 and the coating mechanism 16.

ステージ12は、基板10が配置され、当該基板10を保持する台である。ステージ12は、たとえば、直方体形状を有する石製の構造体であり、少なくともその上面、すなわち、基板10の保持面12aは平坦面に加工されている。   The stage 12 is a table on which the substrate 10 is arranged and holds the substrate 10. The stage 12 is, for example, a stone structure having a rectangular parallelepiped shape, and at least the upper surface thereof, that is, the holding surface 12a of the substrate 10 is processed into a flat surface.

水平面である保持面12aには、多数の真空吸着穴(ここでは図示しない)が形成されており、基板10を処理する間、基板10は当該穴を介して保持面12aに吸着され、保持される。ここで、保持面12aのうち、基板10を保持する領域を保持領域12bとする。   A large number of vacuum suction holes (not shown here) are formed in the holding surface 12a which is a horizontal plane, and the substrate 10 is sucked and held by the holding surface 12a through the holes while the substrate 10 is processed. The Here, the area | region which hold | maintains the board | substrate 10 among the holding surfaces 12a is set to the holding | maintenance area | region 12b.

塗布機構14は、スリットノズル14aと、架橋構造14bとを備える。   The coating mechanism 14 includes a slit nozzle 14a and a bridging structure 14b.

スリットノズル14aは、図1におけるy軸方向に延びて設けられる。スリットノズル14aには、塗布材40を供給するための供給機構が接続される。スリットノズル14aは、基板10の上面を走査しつつ、供給機構によって供給される塗布材40を、基板10の上面における所定の領域、すなわち、塗布領域14x(後述の図3を参照)に吐出する。このようにして、スリットノズル14aが基板10に塗布材40を塗布し、塗布膜41a(後述の図3を参照)が形成される。ここで、塗布領域とは、基板10の上面のうちで塗布材40を塗布することが予定される領域であって、たとえば、基板10の全面積から、端縁に沿った所定幅の領域を除いた領域である。   The slit nozzle 14a is provided extending in the y-axis direction in FIG. A supply mechanism for supplying the coating material 40 is connected to the slit nozzle 14a. The slit nozzle 14 a scans the upper surface of the substrate 10 and discharges the coating material 40 supplied by the supply mechanism to a predetermined region on the upper surface of the substrate 10, that is, a coating region 14 x (see FIG. 3 described later). . In this manner, the slit nozzle 14a applies the coating material 40 to the substrate 10, and a coating film 41a (see FIG. 3 described later) is formed. Here, the application region is a region on the upper surface of the substrate 10 where the coating material 40 is planned to be applied. For example, a region having a predetermined width along the edge from the entire area of the substrate 10 is defined. Excluded area.

架橋構造14bは、ステージ12の上方において水平に跨って設けられる。架橋構造14bは、たとえば、カーボンファイバー補強樹脂を骨材とするノズル保持部140と、ノズル保持部140の両端を支持する昇降機構142および昇降機構144と、両昇降機構の端部に取り付けられる移動子146および移動子148とを備える。   The bridging structure 14b is provided horizontally across the stage 12. The bridging structure 14b includes, for example, a nozzle holding part 140 that uses carbon fiber reinforced resin as an aggregate, a lifting mechanism 142 and a lifting mechanism 144 that support both ends of the nozzle holding part 140, and a movement that is attached to the ends of both lifting mechanisms. A child 146 and a mover 148.

ノズル保持部140は、スリットノズル14aを保持する。また、ノズル保持部140には、ギャップセンサー140aおよびギャップセンサー140bが取り付けられる。   The nozzle holding part 140 holds the slit nozzle 14a. In addition, a gap sensor 140 a and a gap sensor 140 b are attached to the nozzle holding unit 140.

ギャップセンサー140aおよびギャップセンサー140bは、それぞれスリットノズル14aの近傍に取り付けられ、下方の存在物、たとえば、基板10の上面または塗布膜41aの上面)との間の高低差、すなわち、ギャップを測定して、測定結果を制御部24に出力する。   Each of the gap sensor 140a and the gap sensor 140b is mounted in the vicinity of the slit nozzle 14a, and measures a difference in height, that is, a gap, with a lower entity, for example, the upper surface of the substrate 10 or the upper surface of the coating film 41a. The measurement result is output to the control unit 24.

昇降機構142および昇降機構144は、たとえば、サーボモータおよびボールネジを備え、架橋構造14bを昇降させる駆動力を生成する。昇降機構142および昇降機構144の駆動によって、架橋構造14bを並進的に昇降させることができる。また、昇降機構142および昇降機構144は、スリットノズル14aのyz平面内における姿勢を調整するためにも用いられる。   The elevating mechanism 142 and the elevating mechanism 144 include, for example, a servo motor and a ball screw, and generate a driving force that elevates and lowers the bridging structure 14b. By driving the elevating mechanism 142 and the elevating mechanism 144, the bridging structure 14b can be moved up and down in a translational manner. The elevating mechanism 142 and the elevating mechanism 144 are also used to adjust the posture of the slit nozzle 14a in the yz plane.

塗布機構16は、スリットノズル16aと、架橋構造16bとを備える。塗布機構16は、塗布機構14とは独立に動作可能であり、かつ、塗布機構14と時間的に並行して動作可能である。   The coating mechanism 16 includes a slit nozzle 16a and a bridging structure 16b. The coating mechanism 16 can operate independently of the coating mechanism 14 and can operate in parallel with the coating mechanism 14 in time.

スリットノズル16aは、図1におけるy軸方向に延びて設けられる。スリットノズル16aには、塗布材40を供給するための供給機構が接続される。スリットノズル16aは、基板10の上面を走査しつつ、供給機構によって供給される塗布材40を、基板10の上面における所定の領域、すなわち、塗布領域16x(後述の図3を参照)に吐出する。ここで、塗布領域16xは、塗布領域14xとは離間して位置する領域である。このようにして、スリットノズル16aが基板10に塗布材40を塗布し、塗布膜41b(後述の図3を参照)が形成される。なお、供給機構の動作については、後述する。   The slit nozzle 16a is provided to extend in the y-axis direction in FIG. A supply mechanism for supplying the coating material 40 is connected to the slit nozzle 16a. The slit nozzle 16a scans the upper surface of the substrate 10 and discharges the coating material 40 supplied by the supply mechanism to a predetermined region on the upper surface of the substrate 10, that is, a coating region 16x (see FIG. 3 described later). . Here, the application region 16x is a region located away from the application region 14x. In this way, the slit nozzle 16a applies the coating material 40 to the substrate 10, and a coating film 41b (see FIG. 3 described later) is formed. The operation of the supply mechanism will be described later.

架橋構造16bは、ステージ12の上方において水平に跨って設けられる。架橋構造16bは、たとえば、カーボンファイバー補強樹脂を骨材とするノズル保持部160と、ノズル保持部160の両端を支持する昇降機構162および昇降機構164と、両昇降機構の端部に取り付けられる移動子166および移動子168を備える。   The bridging structure 16b is provided horizontally across the stage 12. The bridging structure 16b includes, for example, a nozzle holding portion 160 that uses carbon fiber reinforced resin as an aggregate, an elevating mechanism 162 and an elevating mechanism 164 that support both ends of the nozzle holding portion 160, and a movement that is attached to the ends of both elevating mechanisms. A child 166 and a mover 168 are provided.

昇降機構162および昇降機構164は、たとえば、サーボモータおよびボールネジを備え、架橋構造16bを昇降させる駆動力を生成する。   The elevating mechanism 162 and the elevating mechanism 164 include, for example, a servo motor and a ball screw, and generate a driving force that raises and lowers the bridging structure 16b.

ノズル保持部160は、スリットノズル16aを保持する。また、ノズル保持部160には、ギャップセンサー160aおよびギャップセンサー160bが取り付けられる。   The nozzle holding unit 160 holds the slit nozzle 16a. In addition, a gap sensor 160 a and a gap sensor 160 b are attached to the nozzle holding unit 160.

移動機構22は、保持領域12bの両側方においてx軸方向に延びて設けられる走行レール22aおよび走行レール22bと、それぞれの走行レールのさらに外側に、それぞれの走行レールに沿って設けられる固定子22cおよび固定子22dと、固定子22cに沿ってそれぞれ設けられるリニアエンコーダ22eおよびリニアエンコーダ22f(ここでは、図示しない)と、固定子22dに沿ってそれぞれ設けられるリニアエンコーダ22gおよびリニアエンコーダ22hとを備える。   The moving mechanism 22 includes a traveling rail 22a and a traveling rail 22b that extend in the x-axis direction on both sides of the holding region 12b, and a stator 22c that is disposed on the outer side of each traveling rail and along each traveling rail. And a stator 22d, a linear encoder 22e and a linear encoder 22f (not shown here) provided along the stator 22c, respectively, and a linear encoder 22g and a linear encoder 22h provided along the stator 22d, respectively. .

ここで、走行レール22aと走行レール22bとは、互いに平行に延びて設けられる。そして、走行レール22a上には架橋構造14bの一端および架橋構造16bの一端が配置される。走行レール22b上には架橋構造14bの他端および架橋構造16bの他端が配置される。   Here, the traveling rail 22a and the traveling rail 22b are provided to extend in parallel to each other. One end of the bridging structure 14b and one end of the bridging structure 16b are disposed on the traveling rail 22a. On the traveling rail 22b, the other end of the bridge structure 14b and the other end of the bridge structure 16b are disposed.

そして、架橋構造14bおよび架橋構造16bは2つの走行レールが延びる方向、すなわち、図1におけるx軸方向に沿ってそれぞれ平行に移動される。すなわち、走行レール22aおよび走行レール22bは、架橋構造14bおよび架橋構造16bの共通のリニアガイドとして機能する。   The bridge structure 14b and the bridge structure 16b are moved in parallel along the direction in which the two traveling rails extend, that is, the x-axis direction in FIG. That is, the traveling rail 22a and the traveling rail 22b function as a common linear guide for the bridging structure 14b and the bridging structure 16b.

なお、走行レール22aおよび走行レール22bを共通のリニアガイドとして架橋構造14bおよび架橋構造16bが移動する場合、架橋構造14bおよび架橋構造16bの移動方向は、x軸方向に沿う同一の方向(ともにx軸正方向またはx軸負方向)または互いに逆方向(x軸正方向とx軸負方向、または、x軸負方向とx軸正方向)である。   Note that when the bridging structure 14b and the bridging structure 16b move using the traveling rail 22a and the traveling rail 22b as a common linear guide, the movement direction of the bridging structure 14b and the bridging structure 16b is the same direction along the x-axis direction (both x The positive axis direction or the negative x axis direction) or the opposite directions (the positive x axis direction and the negative x axis direction, or the negative x axis direction and the positive x axis direction).

リニアエンコーダ22eは移動子166の位置を検出し、リニアエンコーダ22fは移動子146の位置を検出する。同様に、リニアエンコーダ22gは移動子168の位置を検出し、リニアエンコーダ22hは移動子148の位置を検出する。それぞれのリニアエンコーダ22e、リニアエンコーダ22f、リニアエンコーダ22gおよびリニアエンコーダ22hは、検出した位置情報を制御部24に出力する。   The linear encoder 22e detects the position of the mover 166, and the linear encoder 22f detects the position of the mover 146. Similarly, the linear encoder 22g detects the position of the mover 168, and the linear encoder 22h detects the position of the mover 148. Each of the linear encoder 22e, the linear encoder 22f, the linear encoder 22g, and the linear encoder 22h outputs the detected position information to the control unit 24.

また、保持面12aにおける保持領域12bのx軸方向の両端には、開口32aおよび開口32bが設けられる。開口32aおよび開口32bは、y軸方向に長手方向を有し、かつ、走行レール22aおよび走行レール22bに挟まれる範囲に形成される。   Moreover, the opening 32a and the opening 32b are provided in the both ends of the x-axis direction of the holding | maintenance area | region 12b in the holding surface 12a. The opening 32a and the opening 32b have a longitudinal direction in the y-axis direction and are formed in a range sandwiched between the traveling rail 22a and the traveling rail 22b.

また、図1においては図示が省略されるが、開口32aの下方には、メンテナンス部26が設けられる。同様に、開口32bの下方には、メンテナンス部28が設けられる。開口32bの下方におけるメンテナンス部28は、開口32aの下方におけるメンテナンス部26とはステージ12の本体部を挟んで反対側に位置する。   Although not shown in FIG. 1, a maintenance unit 26 is provided below the opening 32a. Similarly, a maintenance unit 28 is provided below the opening 32b. The maintenance unit 28 below the opening 32b is located on the opposite side of the maintenance unit 26 below the opening 32a with the main body of the stage 12 in between.

制御部24は、内部または外部の記憶媒体に記憶されたプログラムを実行することによって制御対象を制御するものであり、たとえば、CPUまたはマイクロプロセッサなどを備える。   The control unit 24 controls a control target by executing a program stored in an internal or external storage medium, and includes, for example, a CPU or a microprocessor.

図2は、本実施の形態に関する塗布装置の機能的構成を例示する図である。   FIG. 2 is a diagram illustrating a functional configuration of the coating apparatus according to the present embodiment.

図2に例示されるように、制御部24は、プロセッサ24aと、制御プログラムが格納されたメモリ24bとを含み、プロセッサ24aが制御プログラムを実行することによって、塗布処理のための様々な制御を実行するように構成される。なお、メモリとしては、たとえば、HDD、RAM、ROM、フラッシュメモリなどの、揮発性または不揮発性のメモリが想定される。   As illustrated in FIG. 2, the control unit 24 includes a processor 24 a and a memory 24 b in which a control program is stored. The processor 24 a executes a control program to perform various controls for the coating process. Configured to run. As the memory, for example, a volatile or nonvolatile memory such as an HDD, a RAM, a ROM, or a flash memory is assumed.

具体的には、制御部24は、ギャップセンサー140aおよびギャップセンサー140bの出力に応じて、昇降機構142および昇降機構144の駆動を制御する。同様に、制御部24は、ギャップセンサー160aおよびギャップセンサー160bの出力に応じて、昇降機構162および昇降機構164の駆動を制御する。当該制御は、たとえば、メンテナンス処理後の、塗布動作開始前に行われる。   Specifically, the control unit 24 controls driving of the elevating mechanism 142 and the elevating mechanism 144 according to the outputs of the gap sensor 140a and the gap sensor 140b. Similarly, the control unit 24 controls driving of the elevating mechanism 162 and the elevating mechanism 164 according to the outputs of the gap sensor 160a and the gap sensor 160b. The control is performed, for example, after the maintenance process and before the start of the coating operation.

また、制御部24は、リニアエンコーダ22fによる移動子146の位置情報およびリニアエンコーダ22hによる移動子148の位置情報に応じて、スリットノズル14aの移動位置を制御する。同様に、制御部24は、リニアエンコーダ22eによる移動子166の位置情報およびリニアエンコーダ22gによる移動子168の位置情報に応じて、スリットノズル16aの移動位置を制御する。   Further, the control unit 24 controls the movement position of the slit nozzle 14a according to the position information of the moving element 146 by the linear encoder 22f and the position information of the moving element 148 by the linear encoder 22h. Similarly, the control unit 24 controls the movement position of the slit nozzle 16a according to the position information of the moving element 166 by the linear encoder 22e and the position information of the moving element 168 by the linear encoder 22g.

また、制御部24は、スリットノズル14aの位置が塗布領域14xに対応する位置である場合に、供給機構72aを動作させる。また、制御部24は、スリットノズル14aを開口32aに移動させ、メンテナンス部26において所定のメンテナンス処理を行わせる。   The control unit 24 operates the supply mechanism 72a when the position of the slit nozzle 14a is a position corresponding to the application region 14x. In addition, the control unit 24 moves the slit nozzle 14a to the opening 32a and causes the maintenance unit 26 to perform a predetermined maintenance process.

同様に、制御部24は、スリットノズル16aの位置が塗布領域16xに対応する位置である場合に、供給機構72bを動作させる。また、制御部24は、スリットノズル16aを開口32bに移動させ、メンテナンス部28において所定のメンテナンス処理を行わせる。なお、メンテナンス部28におけるメンテナンス処理は、メンテナンス部26におけるメンテナンス処理と異なるものであってもよい。   Similarly, the control unit 24 operates the supply mechanism 72b when the position of the slit nozzle 16a is a position corresponding to the application region 16x. Further, the control unit 24 moves the slit nozzle 16a to the opening 32b and causes the maintenance unit 28 to perform a predetermined maintenance process. The maintenance process in the maintenance unit 28 may be different from the maintenance process in the maintenance unit 26.

ここで、メンテナンス処理とは、たとえば、スリットノズルの先端を塗布処理開始前の初期状態に戻す処理である。たとえば、初期状態において、吐出口が形成されたスリットノズルの先端にその幅方向に亘って均一に塗布材40のビード(液溜まり)が形成されていることが好ましい。または、初期状態において、スリットノズルの幅方向に亘って塗布材40が付着されていないことが好ましい。要するに、初期状態において、スリットノズルの先端における塗布材40の付着状態が幅方向において均一であることが好ましい。この付着状態が不均一な場合、塗布処理開始時に形成される塗布膜の幅方向における膜厚が不均一になるという問題が発生する。   Here, the maintenance process is, for example, a process for returning the tip of the slit nozzle to the initial state before starting the coating process. For example, in the initial state, it is preferable that a bead (liquid reservoir) of the coating material 40 is formed uniformly at the front end of the slit nozzle in which the discharge port is formed over the width direction. Or it is preferable that the coating material 40 is not attached over the width direction of a slit nozzle in an initial state. In short, in the initial state, it is preferable that the state of adhesion of the coating material 40 at the tip of the slit nozzle is uniform in the width direction. When this adhesion state is non-uniform, there arises a problem that the film thickness in the width direction of the coating film formed at the start of the coating process becomes non-uniform.

メンテナンス部26は、洗浄液吐出機構83aと、待機ポット85aと、スクレーパー部84aと、プリ塗布機構86aとを備える。   The maintenance unit 26 includes a cleaning liquid discharge mechanism 83a, a standby pot 85a, a scraper unit 84a, and a pre-coating mechanism 86a.

なお、上述のようなスリットノズルの初期状態を実現させるための機構がメンテナンス部に設けられていればよく、メンテナンス部の構成は上記に限定されない。たとえば、スクレーパー処理のみで初期状態を実現できるのであれば、メンテナンス部にはスクレーパー部のみが備えられればよい。   Note that a mechanism for realizing the initial state of the slit nozzle as described above may be provided in the maintenance unit, and the configuration of the maintenance unit is not limited to the above. For example, if the initial state can be realized only by the scraper processing, the maintenance unit may be provided with only the scraper unit.

洗浄液吐出機構83aは、洗浄液をスリットノズル14aの先端部に向けて吐出する機構である。また、洗浄液吐出機構83aは、不活性ガス(窒素)をスリットノズル14aに向けて噴出させることが可能であってもよい。洗浄液吐出機構83aは、スリットノズル14aの下方をy軸方向に沿って移動しつつ、洗浄液を吐出することによって、スリットノズル14aの先端部を洗浄する。   The cleaning liquid discharge mechanism 83a is a mechanism that discharges the cleaning liquid toward the tip of the slit nozzle 14a. Further, the cleaning liquid discharge mechanism 83a may be capable of ejecting an inert gas (nitrogen) toward the slit nozzle 14a. The cleaning liquid discharge mechanism 83a cleans the tip of the slit nozzle 14a by discharging the cleaning liquid while moving below the slit nozzle 14a along the y-axis direction.

待機ポット85aは、待機中のスリットノズル14aの先端が乾燥しないように設けられるものである。   The standby pot 85a is provided so that the tip of the standby slit nozzle 14a is not dried.

プリ塗布機構86aは、スリットノズル14aが基板10に対して塗布処理を行う直前に、予備塗布を行うための機構である。プリ塗布機構86aはディスペンスロールを備えており、スリットノズル14aは、当該ディスペンスロールに対して塗布材40を吐出して予備塗布を行う。   The pre-coating mechanism 86a is a mechanism for performing preliminary coating immediately before the slit nozzle 14a performs the coating process on the substrate 10. The pre-coating mechanism 86a includes a dispense roll, and the slit nozzle 14a performs pre-coating by discharging the coating material 40 to the dispense roll.

スクレーパー部84aは、予備塗布後のスリットノズル14aの先端に残存する塗布材40を取り除く。スクレーパー部84aは、スリットノズル14aの先端をy軸方向に沿って移動しつつ、スリットノズル14aの先端に残存する塗布材40を取り除く。   The scraper portion 84a removes the coating material 40 remaining at the tip of the slit nozzle 14a after the preliminary coating. The scraper portion 84a removes the coating material 40 remaining at the tip of the slit nozzle 14a while moving the tip of the slit nozzle 14a along the y-axis direction.

メンテナンス部28は、洗浄液吐出機構83bと、待機ポット85bと、スクレーパー部84bと、プリ塗布機構86bとを備える。   The maintenance unit 28 includes a cleaning liquid discharge mechanism 83b, a standby pot 85b, a scraper unit 84b, and a pre-coating mechanism 86b.

洗浄液吐出機構83bは、洗浄液をスリットノズル16aの先端部に向けて吐出する機構である。洗浄液吐出機構83bは、スリットノズル16aの下方をy軸方向に沿って移動しつつ、洗浄液を吐出することによって、スリットノズル16aの先端部を洗浄する。   The cleaning liquid discharge mechanism 83b is a mechanism that discharges the cleaning liquid toward the tip of the slit nozzle 16a. The cleaning liquid discharge mechanism 83b cleans the tip of the slit nozzle 16a by discharging the cleaning liquid while moving below the slit nozzle 16a along the y-axis direction.

待機ポット85bは、待機中のスリットノズル16aの先端が乾燥しないように設けられるものである。   The standby pot 85b is provided so that the tip of the standby slit nozzle 16a is not dried.

プリ塗布機構86bは、スリットノズル16aが基板10に対して塗布処理を行う直前に、予備塗布を行うための機構である。   The pre-coating mechanism 86b is a mechanism for performing pre-coating immediately before the slit nozzle 16a performs the coating process on the substrate 10.

スクレーパー部84bは、予備塗布後のスリットノズル16aの先端に残存する塗布材40を取り除く。スクレーパー部84bは、スリットノズル16aの先端をy軸方向に沿って移動しつつ、スリットノズル16aの先端に残存する塗布材40を取り除く。   The scraper portion 84b removes the coating material 40 remaining at the tip of the slit nozzle 16a after the preliminary coating. The scraper portion 84b removes the coating material 40 remaining at the tip of the slit nozzle 16a while moving the tip of the slit nozzle 16a along the y-axis direction.

<塗布装置の動作>
まず、本実施の形態に関する塗布装置によって形成される塗布膜の、塗布領域について説明する。
<Operation of coating device>
First, the coating region of the coating film formed by the coating apparatus according to the present embodiment will be described.

図3は、塗布装置によって形成される塗布膜の塗布領域を例示する平面図である。図3に例示されるように、塗布膜41aが形成された塗布領域14xと塗布膜41bが形成された塗布領域16xとは、近接し、かつ、離間して配置される。なお、図3においては、塗布領域14xの塗布領域16xに近い端部を端部14yとし、塗布領域16xの塗布領域14xに近い端部を端部16yとする。また、塗布領域14xの端部14yとは反対側の端部を端部14zとし、塗布領域16xの端部16yとは反対側の端部を端部16zとする。なお、塗布材40が塗布される塗布領域の数は、図3に例示される場合に限られない。   FIG. 3 is a plan view illustrating a coating region of a coating film formed by the coating apparatus. As illustrated in FIG. 3, the coating region 14 x where the coating film 41 a is formed and the coating region 16 x where the coating film 41 b is formed are arranged close to each other and apart from each other. In FIG. 3, an end portion of the application region 14x close to the application region 16x is referred to as an end portion 14y, and an end portion of the application region 16x close to the application region 14x is referred to as an end portion 16y. Further, the end portion on the opposite side to the end portion 14y of the application region 14x is defined as an end portion 14z, and the end portion on the opposite side of the end portion 16y of the application region 16x is defined as an end portion 16z. Note that the number of application regions to which the application material 40 is applied is not limited to the case illustrated in FIG. 3.

また、図4は、近接して形成される塗布領域の端部に塗布機構が配置される場合を仮想した側面図である。図4に例示されるように、近接して配置される塗布領域14xと塗布領域16xとにおいて、端部14yと端部16yとの間の距離Aは、端部14yに位置する塗布機構14と端部16yに位置する塗布機構16とが接触する距離以下である。具体的には、端部14yに位置する塗布機構14のノズル保持部140と端部16yに位置する塗布機構16のノズル保持部160とが接触する距離以下である。さらに換言すれば、スリットノズル14aが端部14yに位置する際のノズル保持部140が平面視において塗布領域14xからはみ出る長さBと、スリットノズル16aが端部16yに位置する際のノズル保持部160が平面視において塗布領域16xからはみ出る長さCとの合計が、距離A以上である。つまり、端部14yの位置と端部16yの位置とは、図4に例示される状態が最も離れた位置関係となり、この位置より互いに近づく方向となるように、塗布領域14xと塗布領域16xとが設定される。   FIG. 4 is a side view virtually illustrating a case where the coating mechanism is arranged at the end of the coating region formed in the vicinity. As illustrated in FIG. 4, the distance A between the end portion 14 y and the end portion 16 y in the coating region 14 x and the coating region 16 x that are arranged close to each other is equal to the coating mechanism 14 positioned at the end portion 14 y. It is below the distance which the application | coating mechanism 16 located in the edge part 16y contacts. Specifically, the distance is equal to or less than the distance between the nozzle holding portion 140 of the coating mechanism 14 located at the end portion 14y and the nozzle holding portion 160 of the coating mechanism 16 located at the end portion 16y. In other words, the length B of the nozzle holding portion 140 when the slit nozzle 14a is located at the end portion 14y protrudes from the application region 14x in a plan view, and the nozzle holding portion when the slit nozzle 16a is located at the end portion 16y. The total of the length 160 that protrudes 160 from the application region 16x in plan view is equal to or greater than the distance A. In other words, the position of the end portion 14y and the position of the end portion 16y are in the positional relationship in which the state illustrated in FIG. 4 is farthest away, and the coating region 14x and the coating region 16x are in a direction closer to each other than this position. Is set.

図5は、塗布装置によって形成される塗布膜の塗布領域の変形例を例示する平面図である。図5に例示されるように、塗布領域14xと塗布領域16xとの間に塗布領域15xが形成されていても、端部14yと端部16yとの間の距離Aが、それぞれの端部に位置する塗布機構同士が接触する距離以下である場合には、塗布領域14xと塗布領域16xとは近接すると言える。   FIG. 5 is a plan view illustrating a modified example of the coating region of the coating film formed by the coating apparatus. As illustrated in FIG. 5, even if the application region 15x is formed between the application region 14x and the application region 16x, the distance A between the end portion 14y and the end portion 16y is set at each end portion. In the case where the distance is equal to or shorter than the distance between the coating mechanisms positioned, it can be said that the coating region 14x and the coating region 16x are close to each other.

図6は、塗布装置によって形成される塗布膜の塗布領域の変形例を例示する平面図である。図6に例示されるように、スリットノズル14aによって塗布材40が塗布される塗布領域14cと塗布領域14dとが、y軸方向において離間して形成されていてもよい。同様に、スリットノズル16aによって塗布材40が塗布される塗布領域16cと塗布領域16dとが、y軸方向において離間して形成されていてもよい。なお、図6に例示される塗布領域を形成する場合(ブロック塗布)、それぞれのスリットノズルにはスリット状の吐出口がy軸方向に2つ並んで形成される。   FIG. 6 is a plan view illustrating a modified example of the coating region of the coating film formed by the coating apparatus. As illustrated in FIG. 6, the application region 14 c and the application region 14 d to which the application material 40 is applied by the slit nozzle 14 a may be formed apart from each other in the y-axis direction. Similarly, the application region 16c to which the application material 40 is applied by the slit nozzle 16a and the application region 16d may be formed apart from each other in the y-axis direction. In addition, when forming the application | coating area | region illustrated by FIG. 6 (block application | coating), each slit nozzle is formed with two slit-shaped ejection openings along with the y-axis direction.

次に、本実施の形態に関する塗布装置の動作について説明する。図7は、塗布膜を形成する動作のタイミングチャートである。図7においては、縦軸がスリットノズルの位置(太線)を示し、横軸が時間を示す。また、図7においては、塗布機構14の動作が下方のタイミングチャートによって示され、塗布機構16の動作が上方のタイミングチャートによって示される。なお、図7においては、スリットノズルの位置(太線)に加えて、ノズル保持部が達する領域の境界位置(細線)も併せて示される。また、図8は、塗布装置の動作を例示するフローチャートである。   Next, operation | movement of the coating device regarding this Embodiment is demonstrated. FIG. 7 is a timing chart of the operation for forming the coating film. In FIG. 7, the vertical axis indicates the position of the slit nozzle (thick line), and the horizontal axis indicates time. In FIG. 7, the operation of the application mechanism 14 is shown by a lower timing chart, and the operation of the application mechanism 16 is shown by an upper timing chart. In FIG. 7, in addition to the position of the slit nozzle (thick line), the boundary position (thin line) of the region reached by the nozzle holder is also shown. FIG. 8 is a flowchart illustrating the operation of the coating apparatus.

図7に例示されるように、まず、制御部24が移動機構22の動作を制御することによって、塗布機構14のスリットノズル14aを開口32aに移動させる。この際、制御部24は、昇降機構142および昇降機構144を制御することによって、スリットノズル14aを移動高さに位置させる。そして、制御部24は、メンテナンス部26において所定のメンテナンス処理、具体的には、洗浄液吐出機構83aによる洗浄処理、プリ塗布機構86aにおける予備塗布処理、および、スクレーパー部84aによる残存する塗布材40の除去処理を行わせる(t)。これは、図8に例示されるステップST101に対応する動作である。なお、メンテナンス処理は、たとえば、スリットノズル14aの先端が初期状態となるように整える処理が実行されればよく、上記処理に限定されない。たとえば、少なくともスクレーパー部84aによる塗布材40の除去処理が実行されるメンテナンス処理であってもよい。 As illustrated in FIG. 7, first, the control unit 24 controls the operation of the moving mechanism 22 to move the slit nozzle 14 a of the coating mechanism 14 to the opening 32 a. At this time, the control unit 24 controls the elevating mechanism 142 and the elevating mechanism 144 to position the slit nozzle 14a at the moving height. Then, the control unit 24 performs predetermined maintenance processing in the maintenance unit 26, specifically, cleaning processing by the cleaning liquid discharge mechanism 83a, preliminary coating processing in the pre-coating mechanism 86a, and remaining coating material 40 by the scraper unit 84a. A removal process is performed (t 1 ). This is an operation corresponding to step ST101 illustrated in FIG. The maintenance process is not limited to the above process, for example, as long as a process for adjusting the tip of the slit nozzle 14a to be in an initial state is performed. For example, a maintenance process in which at least the removal process of the coating material 40 by the scraper unit 84a is executed may be performed.

一方で、制御部24は、塗布機構14に対して上記のメンテナンス処理を行っている間、塗布機構16を待機させておく(t)。これは、図8に例示されるステップST201に対応する動作である。 On the other hand, the control unit 24 keeps the coating mechanism 16 on standby while performing the above-described maintenance process on the coating mechanism 14 (t 0 ). This is an operation corresponding to step ST201 illustrated in FIG.

なお、塗布機構16の待機時間は、後述するように、塗布動作を終了した塗布機構14が端部14yから退避するタイミングに基づいて調整される。具体的には、塗布領域16xの幅、塗布機構16の塗布速度、塗布機構14の退避動作の時間などを考慮して、塗布機構16が適切なタイミングで端部16yに到達するように調整される。なお、メンテナンス処理は、塗布機構16の待機の後に行われることが望ましい。メンテナンス処理後の時間経過によって塗布機構16における状態の悪化(スクレーパー部84bによる除去処理後の塗布材40の偏りなど)が懸念されるため、スリットノズルの初期状態を塗布動作の開始時に保つためには、メンテナンス処理は塗布動作の直前に行われることが好ましいためである。   Note that the standby time of the coating mechanism 16 is adjusted based on the timing when the coating mechanism 14 that has finished the coating operation retracts from the end 14y, as will be described later. Specifically, the coating mechanism 16 is adjusted so as to reach the end portion 16y at an appropriate timing in consideration of the width of the coating region 16x, the coating speed of the coating mechanism 16, the time for the retracting operation of the coating mechanism 14, and the like. The The maintenance process is desirably performed after the application mechanism 16 is on standby. In order to maintain the initial state of the slit nozzle at the start of the coating operation because there is a concern that the state of the coating mechanism 16 deteriorates (e.g., the bias of the coating material 40 after the removal processing by the scraper portion 84b) over time after the maintenance processing. This is because the maintenance process is preferably performed immediately before the coating operation.

次に、制御部24が移動機構22の動作を制御することによって、塗布機構14のスリットノズル14aを塗布領域14xの端部14zに移動させる。これは、図8に例示されるステップST102に対応する動作である。   Next, the control unit 24 controls the operation of the moving mechanism 22 to move the slit nozzle 14a of the coating mechanism 14 to the end 14z of the coating region 14x. This is an operation corresponding to step ST102 illustrated in FIG.

一方で、制御部24は、移動機構22の動作を制御することによって、塗布機構16のスリットノズル16aを開口32bに移動させる。この際、制御部24は、昇降機構162および昇降機構164を制御することによって、スリットノズル16aを移動高さに位置させる。そして、制御部24は、メンテナンス部28において所定のメンテナンス処理を行わせる(t)。これは、図8に例示されるステップST202に対応する動作である。なお、この場合、塗布機構16がメンテナンス部28に位置するタイミングは、塗布機構14がメンテナンス部26に位置するタイミングよりも時間的に遅いことになる。 On the other hand, the control unit 24 controls the operation of the moving mechanism 22 to move the slit nozzle 16a of the coating mechanism 16 to the opening 32b. At this time, the control unit 24 controls the lifting mechanism 162 and the lifting mechanism 164 to position the slit nozzle 16a at the moving height. Then, the control unit 24 causes the maintenance unit 28 to perform a predetermined maintenance process (t 1 ). This is an operation corresponding to step ST202 illustrated in FIG. In this case, the timing at which the coating mechanism 16 is positioned at the maintenance unit 28 is later in time than the timing at which the coating mechanism 14 is positioned at the maintenance unit 26.

次に、制御部24は、塗布機構14のスリットノズル14aを塗布領域14xの端部14zから端部14yに移動させつつ、塗布機構14の動作を制御することによって、スリットノズル14aから塗布材40を塗布領域14xに吐出させる(t)。この際、制御部24は、昇降機構142および昇降機構144を制御することによって、スリットノズル14aを基板10の上面に対する塗布高さに位置させる。なお、塗布高さは、移動高さよりも低い。これは、図8に例示されるステップST103に対応する動作である。 Next, the control unit 24 controls the operation of the coating mechanism 14 while moving the slit nozzle 14a of the coating mechanism 14 from the end portion 14z to the end portion 14y of the coating region 14x, so that the coating material 40 is applied from the slit nozzle 14a. Is discharged to the application region 14x (t 2 ). At this time, the control unit 24 controls the elevating mechanism 142 and the elevating mechanism 144 to position the slit nozzle 14 a at the coating height with respect to the upper surface of the substrate 10. The application height is lower than the moving height. This is an operation corresponding to step ST103 illustrated in FIG.

一方で、制御部24は、塗布機構16のスリットノズル16aを塗布領域16xの端部16zに移動させる。これは、図8に例示されるステップST203に対応する動作である。   On the other hand, the control unit 24 moves the slit nozzle 16a of the coating mechanism 16 to the end 16z of the coating region 16x. This is an operation corresponding to step ST203 illustrated in FIG.

さらに、制御部24は、塗布機構16のスリットノズル16aを塗布領域16xの端部16zから端部16yに移動させつつ、塗布機構16の動作を制御することによって、スリットノズル16aから塗布材40を塗布領域16xに吐出させる(t)。この際、制御部24は、昇降機構162および昇降機構164を制御することによって、スリットノズル16aを基板10の上面に対する塗布高さに位置させる。ここで、塗布機構16の端部16zから端部16yへの移動速度は、塗布機構14の端部14zから端部14yへの移動速度と同一の速度である。なお、ここでいう「同一の速度」とは、同時に塗布処理を開始した塗布機構14と塗布機構16とが、それぞれの塗布領域の端部に到達する際に違いに接触しうる速度である。これは、図8に例示されるステップST204に対応する動作である。 Furthermore, the control unit 24 controls the operation of the coating mechanism 16 while moving the slit nozzle 16a of the coating mechanism 16 from the end portion 16z to the end portion 16y of the coating region 16x, thereby removing the coating material 40 from the slit nozzle 16a. ejecting the coating region 16x (t 2). At this time, the control unit 24 controls the elevating mechanism 162 and the elevating mechanism 164 to position the slit nozzle 16 a at the coating height with respect to the upper surface of the substrate 10. Here, the moving speed of the coating mechanism 16 from the end 16z to the end 16y is the same as the moving speed of the coating mechanism 14 from the end 14z to the end 14y. Here, the “same speed” is a speed at which the coating mechanism 14 and the coating mechanism 16 that have started the coating process at the same time can come into contact with each other when reaching the end of each coating region. This is an operation corresponding to step ST204 illustrated in FIG.

ここで、塗布機構16による塗布動作は、塗布機構14による塗布動作よりも時間的に遅れて開始される。なおかつ、塗布機構16による塗布動作は、少なくともその一部において、塗布機構14による塗布動作と時間的に並行して行われる。   Here, the coating operation by the coating mechanism 16 is started with a time delay from the coating operation by the coating mechanism 14. In addition, at least a part of the coating operation by the coating mechanism 16 is performed in parallel with the coating operation by the coating mechanism 14 in time.

次に、制御部24は、端部14yに到達した塗布機構14の塗布動作を終了させる。そして、制御部24は、塗布機構14を端部14yから退避させ、塗布機構14のスリットノズル14aを開口32aに移動させる。この際、制御部24は、昇降機構142および昇降機構144を制御することによって、スリットノズル14aを移動高さに位置させる。これは、図8に例示されるステップST104に対応する動作である。   Next, the control unit 24 ends the coating operation of the coating mechanism 14 that has reached the end 14y. Then, the control unit 24 retracts the coating mechanism 14 from the end 14y, and moves the slit nozzle 14a of the coating mechanism 14 to the opening 32a. At this time, the control unit 24 controls the elevating mechanism 142 and the elevating mechanism 144 to position the slit nozzle 14a at the moving height. This is an operation corresponding to step ST104 illustrated in FIG.

図9は、塗布機構14による塗布膜41aの塗布動作が終了した際の、塗布機構間の配置関係を例示する側面図である。このとき、塗布機構16は塗布膜41bを端部16yよりも手前の位置まで塗布している。図9に例示されるように、図7に例示される塗布動作では、塗布機構14のスリットノズル14aが端部14yに位置する際のノズル保持部140とノズル保持部160との間に、距離Dが確保されている。この距離Dは、塗布機構16がメンテナンス処理される前の待機時間に応じて調整される距離であり、塗布機構14が端部14yから退避するまでの時間を調整するためのものである。   FIG. 9 is a side view illustrating the arrangement relationship between the application mechanisms when the application operation of the application film 41a by the application mechanism 14 is completed. At this time, the coating mechanism 16 applies the coating film 41b to a position before the end 16y. As illustrated in FIG. 9, in the coating operation illustrated in FIG. 7, the distance between the nozzle holding unit 140 and the nozzle holding unit 160 when the slit nozzle 14 a of the coating mechanism 14 is located at the end 14 y is a distance. D is secured. This distance D is a distance that is adjusted according to the waiting time before the coating mechanism 16 is subjected to the maintenance process, and is for adjusting the time until the coating mechanism 14 is retracted from the end portion 14y.

また、図10は、塗布機構14による塗布動作が終了した後で塗布機構14が端部14yから退避する際の、塗布機構間の配置関係を例示する側面図である。図10に例示されるように、塗布機構14が端部14yから退避する際には、塗布機構14と塗布機構16とが最も接近する。より詳細には、ノズル保持部140とノズル保持部160とが最も接近することとなる。   FIG. 10 is a side view illustrating the arrangement relationship between the application mechanisms when the application mechanism 14 is retracted from the end 14y after the application operation by the application mechanism 14 is completed. As illustrated in FIG. 10, when the coating mechanism 14 is retracted from the end 14 y, the coating mechanism 14 and the coating mechanism 16 are closest to each other. More specifically, the nozzle holding unit 140 and the nozzle holding unit 160 are closest to each other.

ここで、塗布機構16が端部16yに到達する際の、塗布機構14の退避動作との関係における望ましい動作タイミングについて、図10を参照しつつ説明する。   Here, desirable operation timing in relation to the retracting operation of the coating mechanism 14 when the coating mechanism 16 reaches the end portion 16y will be described with reference to FIG.

図10に例示されるように、塗布機構14が端部14yに位置する際の、平面視において塗布機構14と重なる基板10の上面の領域を端部領域14wとする。同様に、塗布機構16が端部16yに位置する際の、平面視において塗布機構16と重なる基板10の上面の領域を端部領域16wとする。   As illustrated in FIG. 10, the region of the upper surface of the substrate 10 that overlaps the coating mechanism 14 in plan view when the coating mechanism 14 is positioned at the end 14 y is defined as an end region 14 w. Similarly, the region of the upper surface of the substrate 10 that overlaps the coating mechanism 16 in plan view when the coating mechanism 16 is positioned at the end portion 16y is referred to as an end region 16w.

制御部24は、塗布機構14が端部14yからの退避を開始した後、平面視において塗布機構14の全体が端部領域14wと重ならなくなる位置に到達するまでの間に、塗布機構16の少なくとも一部を端部領域16wに到達させるように、塗布機構の移動に関して時間差制御を行う。図10に例示される場合であれば、塗布機構14が端部14yからの退避を開始した後、平面視においてノズル保持部140全体が端部領域14wと重ならない位置に到達するまでの間に、ノズル保持部160の少なくとも一部を端部領域16wに到達させるように、制御部24は時間差制御を行う。このような時間差制御によって、塗布機構14が端部14yから退避した直後に、塗布機構16が端部16yに到達することとなる。   After the coating mechanism 14 starts to retract from the end portion 14y, the control unit 24 waits until the coating mechanism 14 reaches a position where the entire coating mechanism 14 does not overlap the end region 14w in plan view. The time difference control is performed with respect to the movement of the coating mechanism so that at least a part thereof reaches the end region 16w. In the case illustrated in FIG. 10, after the coating mechanism 14 starts to retract from the end portion 14 y, the entire nozzle holding portion 140 reaches a position that does not overlap the end region 14 w in plan view. The control unit 24 performs time difference control so that at least a part of the nozzle holding unit 160 reaches the end region 16w. By such time difference control, the coating mechanism 16 reaches the end portion 16y immediately after the coating mechanism 14 is retracted from the end portion 14y.

次に、制御部24は、塗布機構14が端部14yから退避した後に端部16yに到達した塗布機構16の塗布動作を終了させる。そして、制御部24は、塗布機構16を端部16yから退避させ、塗布機構16のスリットノズル16aを開口32bに移動させる。この際、制御部24は、昇降機構162および昇降機構164を制御することによって、スリットノズル16aを移動高さに位置させる。これは、図8に例示されるステップST205に対応する動作である。   Next, the control unit 24 ends the coating operation of the coating mechanism 16 that has reached the end portion 16y after the coating mechanism 14 has been retracted from the end portion 14y. Then, the control unit 24 retracts the coating mechanism 16 from the end portion 16y, and moves the slit nozzle 16a of the coating mechanism 16 to the opening 32b. At this time, the control unit 24 controls the lifting mechanism 162 and the lifting mechanism 164 to position the slit nozzle 16a at the moving height. This is an operation corresponding to step ST205 illustrated in FIG.

上記の塗布動作においては、塗布機構16がメンテナンス処理の前に待機する時間が設けられているため、塗布機構16が端部16yに到達するタイミングは、塗布機構14が端部14yに到達するタイミングよりも遅れる。そして、このような塗布動作によれば、互いに対向する方向に移動する塗布機構14および塗布機構16を離間させつつ、全体として塗布動作にかかる時間を短縮することができる。なおかつ、それぞれの塗布機構において、塗布動作前のメンテナンス処理も確実に行うことができる。   In the above-described coating operation, since a time for the coating mechanism 16 to wait before the maintenance process is provided, the timing at which the coating mechanism 16 reaches the end portion 16y is the timing at which the coating mechanism 14 reaches the end portion 14y. Later than. According to such a coating operation, the time required for the coating operation as a whole can be shortened while separating the coating mechanism 14 and the coating mechanism 16 that move in directions opposite to each other. In addition, in each coating mechanism, maintenance processing before the coating operation can be performed reliably.

上記の塗布動作において、塗布機構14の移動速度と塗布機構16の移動速度とが異なっていてもよい。たとえば、塗布動作中の塗布機構16のx軸負方向に移動する速度が、塗布動作中の塗布機構14のx軸正方向に移動する速度よりも遅い場合には、図7に例示される塗布機構16の待機時間(t)がない、または、より短い場合であっても、塗布機構16が塗布領域16xの端部16yに到達するタイミングを塗布機構14が塗布領域14xの端部14yに到達するタイミングよりも遅らせることができる。 In the above-described coating operation, the moving speed of the coating mechanism 14 and the moving speed of the coating mechanism 16 may be different. For example, when the speed at which the coating mechanism 16 moves in the negative x-axis direction during the coating operation is slower than the speed at which the coating mechanism 14 moves in the positive x-axis direction during the coating operation, the coating illustrated in FIG. Even when the waiting time (t 0 ) of the mechanism 16 is not or shorter, the coating mechanism 14 reaches the end 14y of the coating region 14x at the timing when the coating mechanism 16 reaches the end 16y of the coating region 16x. It can be delayed from the arrival timing.

ここで、上記の塗布動作を、1つの塗布機構による塗布動作と比較する。図11は、1つの塗布機構で塗布膜を形成する動作のタイミングチャートである。図11に例示されるように、たとえば、塗布機構14を用いて図3に例示されるような塗布領域に塗布膜を形成する場合、制御部24は、塗布領域14xに塗布膜を形成した後、移動機構22の動作を制御することによって、塗布機構14のスリットノズル14aを開口32aに移動させる。そして、メンテナンス部26によって所定のメンテナンス処理を行わせた後(t)、塗布機構14のスリットノズル14aを塗布領域16xの端部16yに移動させる。 Here, the above-described coating operation is compared with a coating operation by one coating mechanism. FIG. 11 is a timing chart of the operation of forming a coating film with one coating mechanism. As illustrated in FIG. 11, for example, when forming a coating film in the coating region as illustrated in FIG. 3 using the coating mechanism 14, the control unit 24 forms the coating film in the coating region 14 x. By controlling the operation of the moving mechanism 22, the slit nozzle 14a of the coating mechanism 14 is moved to the opening 32a. Then, after a predetermined maintenance process is performed by the maintenance unit 26 (t 1 ), the slit nozzle 14a of the coating mechanism 14 is moved to the end 16y of the coating region 16x.

さらに、制御部24は、塗布機構14のスリットノズル14aを塗布領域16xの端部16yから端部16zに移動させつつ、塗布機構14の動作を制御することによって、スリットノズル14aから塗布材40を塗布領域16xに吐出させる(t)。 Further, the control unit 24 controls the operation of the coating mechanism 14 while moving the slit nozzle 14a of the coating mechanism 14 from the end portion 16y of the coating region 16x to the end portion 16z, whereby the coating material 40 is transferred from the slit nozzle 14a. ejecting the coating region 16x (t 2).

次に、制御部24は、端部16zに到達した塗布機構14の塗布動作を終了させる。そして、制御部24は、塗布機構14を端部16zから退避させ、塗布機構14のスリットノズル14aを開口32aに移動させる。   Next, the control unit 24 ends the coating operation of the coating mechanism 14 that has reached the end 16z. Then, the control unit 24 retracts the coating mechanism 14 from the end 16z, and moves the slit nozzle 14a of the coating mechanism 14 to the opening 32a.

このように、1つの塗布機構14によって塗布領域14xおよび塗布領域16xにそれぞれ塗布膜を形成する場合には、塗布機構14は塗布動作が終了するたびにメンテナンス処理のために開口32aに移動する必要がある。したがって、そのような動作によれば、塗布機構14の移動距離および移動時間が長くなってしまう。   As described above, when the coating film is formed in each of the coating region 14x and the coating region 16x by one coating mechanism 14, the coating mechanism 14 needs to move to the opening 32a for maintenance processing every time the coating operation is completed. There is. Therefore, according to such an operation, the moving distance and moving time of the coating mechanism 14 become long.

一方で、図7に例示される塗布動作によれば、塗布機構14と塗布機構16とが、少なくとも塗布動作の一部において時間的に並行して動作を行うことによって、塗布動作全体としての時間を短縮することができる。具体的には、図11に例示される場合よりもtだけ塗布動作にかかる時間を短縮することができる。 On the other hand, according to the application operation illustrated in FIG. 7, the application mechanism 14 and the application mechanism 16 perform the operation in parallel at least in a part of the application operation, so that the time required for the entire application operation is reached. Can be shortened. Specifically, it is possible to reduce the time to t s by applying operation than illustrated in FIG. 11.

さらに、図7に例示される塗布動作によれば、それぞれの塗布機構に対応するメンテナンス部においてメンテナンス処理が行われた後に、それぞれの塗布機構による塗布動作が行われる。そのため、塗布膜の膜厚の均一性などの塗布処理の精度を高く維持することができる。   Furthermore, according to the coating operation illustrated in FIG. 7, after the maintenance process is performed in the maintenance unit corresponding to each coating mechanism, the coating operation by each coating mechanism is performed. Therefore, it is possible to maintain high accuracy of the coating process such as uniformity of the coating film thickness.

<以上に記載された実施の形態によって生じる効果について>
次に、以上に記載された実施の形態によって生じる効果を例示する。なお、以下の説明においては、以上に記載された実施の形態に例示された具体的な構成に基づいて当該効果が記載されるが、同様の効果が生じる範囲で、本願明細書に例示される他の具体的な構成と置き換えられてもよい。
<About the effects produced by the embodiment described above>
Next, effects produced by the embodiment described above will be exemplified. In the following description, the effect is described based on the specific configuration exemplified in the above-described embodiment, but is exemplified in the present specification within a range in which the same effect occurs. Other specific configurations may be substituted.

以上に記載された実施の形態によれば、塗布装置は、基板10が配置されるステージ12と、第1の塗布機構と、第2の塗布機構と、第1のメンテナンス部と、第2のメンテナンス部と、制御部24とを備える。ここで、第1の塗布機構は、たとえば、塗布機構14に対応するものである。また、第2の塗布機構は、たとえば、塗布機構16に対応するものである。また、第1のメンテナンス部は、たとえば、メンテナンス部26に対応するものである。また、第2のメンテナンス部は、たとえば、メンテナンス部28に対応するものである。   According to the embodiment described above, the coating apparatus includes the stage 12 on which the substrate 10 is disposed, the first coating mechanism, the second coating mechanism, the first maintenance unit, and the second maintenance unit. A maintenance unit and a control unit 24 are provided. Here, the first application mechanism corresponds to, for example, the application mechanism 14. The second application mechanism corresponds to the application mechanism 16, for example. The first maintenance unit corresponds to the maintenance unit 26, for example. The second maintenance unit corresponds to the maintenance unit 28, for example.

塗布機構14は、ステージ12に配置された基板10の上面に沿う方向である第1の方向に移動可能である。また、塗布機構14は、基板10の上面における第1の塗布領域に第1の塗布材を塗布する。ここで、第1の方向は、たとえば、図1におけるx軸正方向に対応するものである。また、第1の塗布領域は、たとえば、塗布領域14xに対応するものである。また、第1の塗布材は、たとえば、塗布材40に対応するものである。   The coating mechanism 14 is movable in a first direction that is a direction along the upper surface of the substrate 10 disposed on the stage 12. The application mechanism 14 applies a first application material to the first application region on the upper surface of the substrate 10. Here, the first direction corresponds to, for example, the positive x-axis direction in FIG. The first application area corresponds to, for example, the application area 14x. The first coating material corresponds to the coating material 40, for example.

塗布機構16は、x軸正方向と対向する方向である第2の方向に移動可能である。また、塗布機構16は、基板10の上面における第2の塗布領域に第2の塗布材を塗布する。ここで、第2の方向は、たとえば、図1におけるx軸負方向に対応するものである。また、第2の塗布領域は、たとえば、塗布領域16xに対応するものである。また、第2の塗布材は、たとえば、塗布材40に対応するものである。   The application mechanism 16 is movable in a second direction that is opposite to the positive x-axis direction. The application mechanism 16 applies the second application material to the second application region on the upper surface of the substrate 10. Here, the second direction corresponds to, for example, the x-axis negative direction in FIG. The second application area corresponds to, for example, the application area 16x. The second coating material corresponds to the coating material 40, for example.

メンテナンス部26は、ステージ12の一方側に位置し、かつ、塗布機構14に対し第1のメンテナンス処理(メンテナンス処理)を行う。メンテナンス部28は、ステージ12の他方側に位置し、かつ、塗布機構16に対し第2のメンテナンス処理(メンテナンス処理)を行う。   The maintenance unit 26 is located on one side of the stage 12 and performs a first maintenance process (maintenance process) on the coating mechanism 14. The maintenance unit 28 is located on the other side of the stage 12 and performs a second maintenance process (maintenance process) on the coating mechanism 16.

制御部24は、塗布機構14の動作および塗布機構16の動作を制御する。具体的には、制御部24は、メンテナンス処理のために塗布機構14をメンテナンス部26に位置させた後、塗布領域14xにおいて塗布機構14をx軸正方向に移動させる。さらに、制御部24は、塗布機構14が塗布領域14xの第1の端部に到達した後、塗布機構14を第1の端部から退避させる。ここで、第1の端部は、たとえば、端部14yに対応するものである。   The control unit 24 controls the operation of the application mechanism 14 and the operation of the application mechanism 16. Specifically, the control unit 24 moves the coating mechanism 14 in the positive x-axis direction in the coating region 14x after positioning the coating mechanism 14 on the maintenance unit 26 for maintenance processing. Further, the control unit 24 retracts the coating mechanism 14 from the first end after the coating mechanism 14 reaches the first end of the coating region 14x. Here, the first end corresponds to, for example, the end 14y.

また、制御部24は、メンテナンス処理のために塗布機構16をメンテナンス部28に位置させた後、塗布領域16xにおいて塗布機構16をx軸負方向に移動させる。さらに、制御部24は、塗布機構16を塗布領域16xの第2の端部に到達させる。ここで、第2の端部は、たとえば、端部16yに対応するものである。   Further, the control unit 24 moves the coating mechanism 16 in the negative x-axis direction in the coating region 16x after positioning the coating mechanism 16 on the maintenance unit 28 for maintenance processing. Further, the control unit 24 causes the application mechanism 16 to reach the second end of the application region 16x. Here, the second end corresponds to, for example, the end 16y.

ここで、端部14yと端部16yとの間の距離Aは、端部14yに位置する塗布機構14と端部16yに位置する塗布機構16とが接触する距離以下である。   Here, the distance A between the end portion 14y and the end portion 16y is equal to or shorter than the distance between the coating mechanism 14 located at the end portion 14y and the coating mechanism 16 located at the end portion 16y.

そして、制御部24は、塗布機構16が端部16yに到達するタイミングを塗布機構14が端部14yに到達するタイミングよりも遅らせる時間差制御を行うことによって、塗布機構14と塗布機構16とを離間させつつ、塗布機構14および塗布機構16の移動を、少なくともその一部において時間的に並行して行わせる。   Then, the control unit 24 separates the coating mechanism 14 and the coating mechanism 16 by performing time difference control that delays the timing at which the coating mechanism 16 reaches the end portion 16y from the timing at which the coating mechanism 14 reaches the end portion 14y. At the same time, at least a part of the movement of the coating mechanism 14 and the coating mechanism 16 is performed in parallel in time.

このような構成によれば、それぞれの塗布機構が、メンテナンス処理を行った後に塗布材の塗布を行う。また、塗布機構16が塗布領域16xの端部16yに到達するタイミングを塗布機構14が塗布領域14xの端部14yに到達するタイミングよりも遅らせる時間差制御によって、互いに対向する方向に移動する塗布機構14および塗布機構16を離間させつつ、少なくとも一部で時間的に並行して塗布材40の塗布動作を行う。結果として、塗布機構の移動方向(図1におけるx軸方向)において近接し、かつ、離間する塗布膜を、膜厚などの塗布処理の精度を高く維持しつつ、塗布処理時間を短縮して形成することができる。塗布処理時間を短縮することによって、たとえば、先に形成された塗布膜が、次の塗布膜が形成されるまでにかかる時間の間に、膜の品質を劣化させたり、膜厚の均一性を悪化させたりすることを抑制することができる。特に、粘度の高い塗布材40、たとえば、ポリアミド酸溶液などが用いられる場合には、メンテナンス処理、および、塗布動作に比較的長い時間を要するため、上記の膜の品質劣化、膜厚の均一性の悪化が顕著となる。   According to such a configuration, each application mechanism applies the application material after performing the maintenance process. In addition, the application mechanism 14 moves in the direction opposite to each other by the time difference control that delays the timing at which the application mechanism 16 reaches the end 16y of the application region 16x from the timing at which the application mechanism 14 reaches the end 14y of the application region 14x. And the application | coating operation | movement of the coating material 40 is performed in parallel at least in part, separating the application | coating mechanism 16. As shown in FIG. As a result, a coating film that is close and separated in the moving direction of the coating mechanism (the x-axis direction in FIG. 1) is formed while reducing the coating processing time while maintaining high coating processing accuracy such as film thickness. can do. By shortening the coating processing time, for example, the coating film formed earlier deteriorates the quality of the film or increases the film thickness uniformity during the time it takes until the next coating film is formed. It can suppress making it worse. In particular, when a coating material 40 having a high viscosity, such as a polyamic acid solution, is used, a relatively long time is required for the maintenance process and the coating operation. The deterioration becomes remarkable.

なお、これらの構成以外の本願明細書に例示される他の構成については適宜省略することができる。すなわち、少なくともこれらの構成を備えていれば、以上に記載された効果を生じさせることができる。   Other configurations exemplified in the present specification other than these configurations can be omitted as appropriate. That is, if at least these configurations are provided, the effects described above can be produced.

しかしながら、本願明細書に例示される他の構成のうちの少なくとも1つを以上に記載された構成に適宜追加した場合、すなわち、以上に記載された構成としては記載されなかった本願明細書に例示される他の構成を以上に記載された構成に追加した場合でも、同様に以上に記載された効果を生じさせることができる。   However, when at least one of the other configurations exemplified in the present specification is appropriately added to the configuration described above, that is, the configuration described above is not exemplified as the configuration described above. Even when other configurations described above are added to the configurations described above, the effects described above can be similarly produced.

また、以上に記載された実施の形態によれば、塗布機構14と塗布機構16とが同一の速度でそれぞれの塗布領域内を移動する場合に、制御部24は、塗布機構16をメンテナンス部28に位置させるタイミングを、塗布機構14をメンテナンス部26に位置させるタイミングよりも遅らせることによって、時間差制御を行う。このような構成によれば、メンテナンス処理の直後の塗布材40の塗布を開始するタイミングを、塗布機構14と塗布機構16との間でずらすことができる。そのため、メンテナンス処理後の塗布処理が開始されるまでの時間を塗布機構14と塗布機構16とで短く、かつ、同一としつつ、少なくとも一部で時間的に並行して塗布材40の塗布を行うことができる。   Further, according to the embodiment described above, when the coating mechanism 14 and the coating mechanism 16 move in the respective coating areas at the same speed, the control unit 24 causes the coating mechanism 16 to be moved to the maintenance unit 28. The time difference control is performed by delaying the timing at which the coating mechanism 14 is positioned on the maintenance unit 26. According to such a configuration, the timing at which application of the application material 40 immediately after the maintenance process is started can be shifted between the application mechanism 14 and the application mechanism 16. Therefore, the coating material 40 is applied in parallel in at least a part of the time while the application mechanism 14 and the application mechanism 16 have a short time until the application process after the maintenance process is started and are the same. be able to.

また、以上に記載された実施の形態によれば、たとえば、塗布機構14と塗布機構16とが同時に塗布処理を開始する場合に、制御部24は、塗布機構16をx軸負方向に移動させる速度を、塗布機構14をx軸正方向に移動させる速度よりも遅くすることによって、時間差制御を行うことも可能である。このような構成によれば、塗布材40の塗布を開始した後の、塗布機構14による塗布動作の進行度合いと塗布機構16による塗布動作の進行度合いとをずらすことができる。そのため、互いに対向する方向に移動する2つの塗布機構を離間させつつ、少なくとも一部で時間的に並行して塗布材40の塗布を行うことができる。   Further, according to the embodiment described above, for example, when the coating mechanism 14 and the coating mechanism 16 simultaneously start the coating process, the control unit 24 moves the coating mechanism 16 in the negative x-axis direction. It is also possible to perform time difference control by making the speed slower than the speed at which the coating mechanism 14 is moved in the positive x-axis direction. According to such a configuration, after the application of the coating material 40 is started, the progress of the application operation by the application mechanism 14 and the progress of the application operation by the application mechanism 16 can be shifted. Therefore, it is possible to apply the coating material 40 in parallel at least in part while separating the two coating mechanisms that move in directions opposite to each other.

また、以上に記載された実施の形態によれば、第1の塗布材と第2の塗布材とは、同一の材料からなる。このような構成によれば、同一の材料で形成される塗布領域14xおよび塗布領域16xに対し塗布膜を形成する場合に、塗布処理時間を短縮することができる。   Moreover, according to embodiment described above, a 1st coating material and a 2nd coating material consist of the same material. According to such a configuration, when the coating film is formed on the coating region 14x and the coating region 16x formed of the same material, the coating processing time can be shortened.

また、以上に記載された実施の形態によれば、制御部24は、塗布機構14を端部14yから退避させた直後に、塗布機構16を端部16yに到達させる時間差制御を行う。このような構成によれば、塗布機構14が塗布領域14xの端部14yから退避した直後に塗布機構16が塗布領域16xの端部16yに到達するため、2つの塗布機構が並行して塗布材40の塗布を行う時間が長くなる。そのため、塗布材40の塗布のための塗布処理時間を効果的に短縮することができる。   Further, according to the embodiment described above, the control unit 24 performs time difference control for causing the coating mechanism 16 to reach the end 16y immediately after the coating mechanism 14 is retracted from the end 14y. According to such a configuration, the coating mechanism 16 reaches the end 16y of the coating region 16x immediately after the coating mechanism 14 is retracted from the end 14y of the coating region 14x. The time for performing the application of 40 becomes longer. Therefore, the coating processing time for coating the coating material 40 can be effectively shortened.

また、以上に記載された実施の形態によれば、塗布機構14が端部14yに位置する際の、平面視において塗布機構14と重なる基板10の上面の領域を第1の端部領域とし、塗布機構16が端部16yに位置する際の、平面視において塗布機構16と重なる基板10の上面の領域を第2の端部領域とする場合に、制御部24は、塗布機構14が端部14yからの退避を開始した後、平面視において塗布機構14の全体が第1の端部領域と重ならない位置に到達するまでの間に、塗布機構16の少なくとも一部を第2の端部領域に到達させる時間差制御を行う。ここで、第1の端部領域は、たとえば、端部領域14wに対応するものである。また、第2の端部領域は、たとえば、端部領域16wに対応するものである。このような構成によれば、塗布機構14の全体が端部領域14wから退避し切らない内に塗布機構16の少なくとも一部が端部領域16wに到達するため、2つの塗布機構が並行して塗布材40の塗布を行う時間が長くなる。そのため、塗布材40の塗布のための塗布処理時間を効果的に短縮することができる。   Further, according to the embodiment described above, the region of the upper surface of the substrate 10 that overlaps the coating mechanism 14 in plan view when the coating mechanism 14 is positioned at the end 14y is defined as the first end region. When the region of the upper surface of the substrate 10 that overlaps the coating mechanism 16 in a plan view when the coating mechanism 16 is positioned at the end portion 16y is the second end region, the control unit 24 has After the retreat from 14y is started, at least a part of the coating mechanism 16 is moved to the second end region until the entire coating mechanism 14 reaches a position where it does not overlap the first end region in plan view. The time difference control to reach is performed. Here, the first end region corresponds to, for example, the end region 14w. Further, the second end region corresponds to, for example, the end region 16w. According to such a configuration, since at least a part of the coating mechanism 16 reaches the end region 16w while the entire coating mechanism 14 is not fully retracted from the end region 14w, the two coating mechanisms are parallel to each other. The time for applying the coating material 40 becomes longer. Therefore, the coating processing time for coating the coating material 40 can be effectively shortened.

また、以上に記載された実施の形態によれば、塗布機構14は、第1のノズルと、第1の保持部とを備える。塗布機構16は、第2のノズルと、第2の保持部とを備える。ここで、第1のノズルは、たとえば、スリットノズル14aに対応するものである。また、第1の保持部は、たとえば、ノズル保持部140に対応するものである。また、第2のノズルは、たとえば、スリットノズル16aに対応するものである。また、第2の保持部は、たとえば、ノズル保持部160に対応するものである。   Moreover, according to embodiment described above, the application | coating mechanism 14 is provided with a 1st nozzle and a 1st holding | maintenance part. The application mechanism 16 includes a second nozzle and a second holding unit. Here, the first nozzle corresponds to, for example, the slit nozzle 14a. The first holding unit corresponds to the nozzle holding unit 140, for example. The second nozzle corresponds to the slit nozzle 16a, for example. The second holding unit corresponds to the nozzle holding unit 160, for example.

スリットノズル14aは、塗布領域14xに塗布材40を塗布する。ノズル保持部140は、スリットノズル14aを保持し、かつ、x軸正方向に移動可能である。スリットノズル16aは、塗布領域16xに塗布材40を塗布する。ノズル保持部160は、スリットノズル16aを保持し、かつ、x軸負方向に移動可能である。そして、端部14yと端部16yとの間の距離Aは、端部14yに位置する塗布機構14のノズル保持部140と端部16yに位置する塗布機構16のノズル保持部160とが接触する距離以下である。   The slit nozzle 14a applies the coating material 40 to the coating region 14x. The nozzle holding unit 140 holds the slit nozzle 14a and is movable in the x-axis positive direction. The slit nozzle 16a applies the coating material 40 to the coating region 16x. The nozzle holding part 160 holds the slit nozzle 16a and is movable in the x-axis negative direction. The distance A between the end portion 14y and the end portion 16y is such that the nozzle holding portion 140 of the coating mechanism 14 located at the end portion 14y contacts the nozzle holding portion 160 of the coating mechanism 16 located at the end portion 16y. Below the distance.

このような構成によれば、塗布領域14xの端部14yと塗布領域16xの端部16yとが、これらの端部に塗布機構が位置する際に互いに接触する距離以下に位置する場合であっても、塗布機構16が塗布領域16xの端部16yに到達するタイミングを塗布機構14が塗布領域14xの端部14yに到達するタイミングよりも遅らせる時間差制御によって、2つの塗布機構を離間させつつ、少なくとも一部で時間的に並行して塗布材40の塗布を行うことができる。   According to such a configuration, the end portion 14y of the application region 14x and the end portion 16y of the application region 16x are located below the distance where they contact each other when the application mechanism is positioned at these ends. In addition, the two application mechanisms are separated from each other by the time difference control that delays the timing at which the application mechanism 16 reaches the end 16y of the application region 16x from the timing at which the application mechanism 14 reaches the end 14y of the application region 14x. The coating material 40 can be applied in part in parallel in time.

以上に記載された実施の形態によれば、塗布方法において、メンテナンス処理のために塗布機構14をステージ12の一方側に位置させた後、塗布領域14xにおいて塗布機構14をx軸正方向に移動させる。さらに、塗布機構14が塗布領域14xの端部14yに到達した後、塗布機構14を端部14yから退避させる。そして、メンテナンス処理のために塗布機構16をステージ12の他方側に位置させた後、塗布領域16xにおいて塗布機構16をx軸負方向に移動させる。さらに、塗布機構16を塗布領域16xの端部16yに到達させる。   According to the embodiment described above, in the coating method, after the coating mechanism 14 is positioned on one side of the stage 12 for maintenance processing, the coating mechanism 14 is moved in the positive x-axis direction in the coating region 14x. Let Further, after the coating mechanism 14 reaches the end 14y of the coating region 14x, the coating mechanism 14 is retracted from the end 14y. Then, after the coating mechanism 16 is positioned on the other side of the stage 12 for the maintenance process, the coating mechanism 16 is moved in the x-axis negative direction in the coating region 16x. Further, the application mechanism 16 is made to reach the end 16y of the application region 16x.

そして、塗布機構16が端部16yに到達するタイミングを塗布機構14が端部14yに到達するタイミングよりも遅らせる時間差制御を行うことによって、塗布機構14と塗布機構16とを離間させつつ、塗布機構14および塗布機構16の移動を、少なくともその一部において時間的に並行して行わせる。   Then, by performing time difference control that delays the timing at which the coating mechanism 16 reaches the end portion 16y from the timing at which the coating mechanism 14 reaches the end portion 14y, the coating mechanism 14 and the coating mechanism 16 are separated from each other, and the coating mechanism 16 is separated. 14 and the application mechanism 16 are moved in parallel at least in part.

このような構成によれば、それぞれの塗布機構が、メンテナンス処理を行った後に塗布材の塗布を行う。また、塗布機構16が塗布領域16xの端部16yに到達するタイミングを塗布機構14が塗布領域14xの端部14yに到達するタイミングよりも遅らせる時間差制御によって、互いに対向する方向に移動する塗布機構14および塗布機構16を離間させつつ、少なくとも一部で時間的に並行して塗布材40の塗布動作を行う。結果として、塗布機構の移動方向において近接し、かつ、離間する塗布膜を、膜厚などの塗布処理の精度を高く維持しつつ、塗布処理時間を短縮して形成することができる。   According to such a configuration, each application mechanism applies the application material after performing the maintenance process. In addition, the application mechanism 14 moves in the direction opposite to each other by the time difference control that delays the timing at which the application mechanism 16 reaches the end 16y of the application region 16x from the timing at which the application mechanism 14 reaches the end 14y of the application region 14x. And the application | coating operation | movement of the coating material 40 is performed in parallel at least in part, separating the application | coating mechanism 16. As shown in FIG. As a result, it is possible to form coating films that are close to each other in the moving direction of the coating mechanism and that are spaced apart from each other while maintaining high accuracy of the coating process such as the film thickness while shortening the coating process time.

なお、これらの構成以外の本願明細書に例示される他の構成については適宜省略することができる。すなわち、少なくともこれらの構成を備えていれば、以上に記載された効果を生じさせることができる。   Other configurations exemplified in the present specification other than these configurations can be omitted as appropriate. That is, if at least these configurations are provided, the effects described above can be produced.

しかしながら、本願明細書に例示される他の構成のうちの少なくとも1つを以上に記載された構成に適宜追加した場合、すなわち、以上に記載された構成としては記載されなかった本願明細書に例示される他の構成を以上に記載された構成に追加した場合でも、同様に以上に記載された効果を生じさせることができる。   However, when at least one of the other configurations exemplified in the present specification is appropriately added to the configuration described above, that is, the configuration described above is not exemplified as the configuration described above. Even when other configurations described above are added to the configurations described above, the effects described above can be similarly produced.

また、特段の制限がない場合には、それぞれの処理が行われる順序は変更することができる。   Moreover, when there is no special restriction | limiting, the order in which each process is performed can be changed.

<以上に記載された実施の形態における変形例について>
以上に記載された実施の形態では、それぞれの構成要素の材質、材料、寸法、形状、相対的配置関係または実施の条件などについても記載する場合があるが、これらはすべての局面において例示であって、本願明細書に記載されたものに限られることはないものとする。
<Modifications in Embodiments Described above>
In the embodiment described above, the material, material, dimension, shape, relative arrangement relationship, or implementation condition of each component may be described, but these are examples in all aspects. Thus, it is not limited to those described in this specification.

したがって、例示されていない無数の変形例、および、均等物が、本願明細書に開示される技術の範囲内において想定される。たとえば、少なくとも1つの構成要素を変形する場合、追加する場合または省略する場合が含まれるものとする。   Accordingly, countless variations and equivalents not illustrated are envisioned within the scope of the technology disclosed in this specification. For example, the case where at least one component is modified, the case where it is added, or the case where it is omitted are included.

10 基板
12 ステージ
12a 保持面
12b 保持領域
14,16 塗布機構
14a,16a スリットノズル
14b,16b 架橋構造
14w,16w 端部領域
14c,14d,14x,15x,16c,16d,16x 塗布領域
14y,14z,16y,16z 端部
22 移動機構
22a,22b 走行レール
22c,22d 固定子
22e,22f,22g,22h リニアエンコーダ
24 制御部
24a プロセッサ
24b メモリ
26,28 メンテナンス部
32a,32b 開口
40 塗布材
41a,41b 塗布膜
72a,72b 供給機構
83a,83b 洗浄液吐出機構
84a,84b スクレーパー部
85a,85b 待機ポット
86a,86b プリ塗布機構
140,160 ノズル保持部
140a,140b,160a,160b ギャップセンサー
142,144,162,164 昇降機構
146,148,166,168 移動子
A,D 距離
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Substrate 12 Stage 12a Holding surface 12b Holding area 14, 16 Coating mechanism 14a, 16a Slit nozzle 14b, 16b Bridge structure 14w, 16w End area 14c, 14d, 14x, 15x, 16c, 16d, 16x Coating area 14y, 14z, 16y, 16z End 22 Moving mechanism 22a, 22b Travel rail 22c, 22d Stator 22e, 22f, 22g, 22h Linear encoder 24 Controller 24a Processor 24b Memory 26, 28 Maintenance unit 32a, 32b Opening 40 Coating material 41a, 41b Coating Films 72a, 72b Supply mechanism 83a, 83b Cleaning liquid discharge mechanism 84a, 84b Scraper unit 85a, 85b Standby pot 86a, 86b Pre-coating mechanism 140, 160 Nozzle holding unit 140a, 140b, 160a, 1 0b gap sensor 142,144,162,164 lifting mechanism 146,148,166,168 mover A, D distance

Claims (8)

基板が配置されるステージと、
前記ステージに配置された前記基板の上面に沿う方向である第1の方向に移動可能であり、かつ、前記基板の上面における第1の塗布領域に第1の塗布材を塗布する第1の塗布機構と、
前記第1の方向と対向する方向である第2の方向に移動可能であり、かつ、前記基板の上面における第2の塗布領域に第2の塗布材を塗布する第2の塗布機構と、
前記ステージの一方側に位置し、かつ、前記第1の塗布機構に対し第1のメンテナンス処理を行う第1のメンテナンス部と、
前記ステージの他方側に位置し、かつ、前記第2の塗布機構に対し第2のメンテナンス処理を行う第2のメンテナンス部と、
前記第1の塗布機構の動作および前記第2の塗布機構の動作を制御する制御部とを備え、
前記制御部は、前記第1のメンテナンス処理のために前記第1の塗布機構を前記第1のメンテナンス部に位置させた後、前記第1の塗布領域において前記第1の塗布機構を前記第1の方向に移動させ、さらに、前記第1の塗布機構が前記第1の塗布領域の第1の端部に到達した後、前記第1の塗布機構を前記第1の端部から退避させ、
前記制御部は、前記第2のメンテナンス処理のために前記第2の塗布機構を前記第2のメンテナンス部に位置させた後、前記第2の塗布領域において前記第2の塗布機構を前記第2の方向に移動させ、さらに、前記第2の塗布機構を前記第2の塗布領域の第2の端部に到達させ、
前記第1の端部と前記第2の端部との間の距離は、前記第1の端部に位置する前記第1の塗布機構と前記第2の端部に位置する前記第2の塗布機構とが接触する距離以下であり、
前記制御部は、前記第2の塗布機構が前記第2の端部に到達するタイミングを前記第1の塗布機構が前記第1の端部に到達するタイミングよりも遅らせる時間差制御を行うことによって、前記第1の塗布機構と前記第2の塗布機構とを離間させつつ、前記第1の塗布機構および前記第2の塗布機構の移動を、少なくともその一部において時間的に並行して行わせる、
塗布装置。
A stage on which the substrate is placed;
A first coating that is movable in a first direction that is along the top surface of the substrate disposed on the stage and that coats a first coating material on a first coating region on the top surface of the substrate. Mechanism,
A second application mechanism that is movable in a second direction that is opposite to the first direction and that applies a second application material to a second application region on the upper surface of the substrate;
A first maintenance unit that is located on one side of the stage and that performs a first maintenance process on the first application mechanism;
A second maintenance unit that is located on the other side of the stage and that performs a second maintenance process on the second coating mechanism;
A controller that controls the operation of the first application mechanism and the operation of the second application mechanism;
The control unit positions the first coating mechanism in the first maintenance unit for the first maintenance process, and then moves the first coating mechanism in the first coating region. Further, after the first coating mechanism reaches the first end of the first coating region, the first coating mechanism is retracted from the first end,
The control unit positions the second coating mechanism in the second maintenance unit for the second maintenance process, and then moves the second coating mechanism to the second coating region in the second coating region. In addition, the second application mechanism reaches the second end of the second application region,
The distance between the first end and the second end is such that the first application mechanism located at the first end and the second application located at the second end. Less than the contact distance with the mechanism,
The control unit performs time difference control for delaying the timing at which the second coating mechanism reaches the second end from the timing at which the first coating mechanism reaches the first end, The first coating mechanism and the second coating mechanism are moved in parallel at least partially in time while separating the first coating mechanism and the second coating mechanism.
Coating device.
前記制御部は、前記第2の塗布機構を前記第2のメンテナンス部に位置させるタイミングを、前記第1の塗布機構を前記第1のメンテナンス部に位置させるタイミングよりも遅らせることによって、前記時間差制御を行う、
請求項1に記載の塗布装置。
The control unit controls the time difference control by delaying a timing for positioning the second coating mechanism in the second maintenance unit from a timing for positioning the first coating mechanism in the first maintenance unit. I do,
The coating apparatus according to claim 1.
前記制御部は、前記第2の塗布機構を前記第2の方向に移動させる速度を、前記第1の塗布機構を前記第1の方向に移動させる速度よりも遅くすることによって、前記時間差制御を行う、
請求項1または請求項2に記載の塗布装置。
The control unit performs the time difference control by making a speed of moving the second coating mechanism in the second direction slower than a speed of moving the first coating mechanism in the first direction. Do,
The coating apparatus of Claim 1 or Claim 2.
前記第1の塗布材と前記第2の塗布材とは、同一の材料からなる、
請求項1から請求項3のうちのいずれか1項に記載の塗布装置。
The first coating material and the second coating material are made of the same material.
The coating apparatus of any one of Claims 1-3.
前記制御部は、前記第1の塗布機構を前記第1の端部から退避させた直後に、前記第2の塗布機構を前記第2の端部に到達させる前記時間差制御を行う、
請求項1から請求項4のうちのいずれか1項に記載の塗布装置。
The control unit performs the time difference control for causing the second coating mechanism to reach the second end immediately after the first coating mechanism is retracted from the first end.
The coating apparatus of any one of Claims 1-4.
前記第1の塗布機構が前記第1の端部に位置する際の、平面視において前記第1の塗布機構と重なる前記基板の上面の領域を第1の端部領域とし、
前記第2の塗布機構が前記第2の端部に位置する際の、平面視において前記第2の塗布機構と重なる前記基板の上面の領域を第2の端部領域とし、
前記制御部は、前記第1の塗布機構が前記第1の端部からの退避を開始した後、平面視において前記第1の塗布機構の全体が前記第1の端部領域と重ならない位置に到達するまでの間に、前記第2の塗布機構の少なくとも一部を前記第2の端部領域に到達させる前記時間差制御を行う、
請求項5に記載の塗布装置。
When the first coating mechanism is located at the first end, a region of the upper surface of the substrate that overlaps the first coating mechanism in a plan view is defined as a first end region.
When the second coating mechanism is located at the second end, a region on the upper surface of the substrate that overlaps the second coating mechanism in a plan view is defined as a second end region.
After the first coating mechanism starts to retract from the first end, the control unit is positioned so that the entire first coating mechanism does not overlap the first end region in plan view. Performing the time difference control to reach at least a part of the second application mechanism to the second end region until it reaches.
The coating device according to claim 5.
前記第1の塗布機構は、
前記第1の塗布領域に前記第1の塗布材を塗布する第1のノズルと、
前記第1のノズルを保持し、かつ、前記第1の方向に移動可能である第1の保持部とを備え、
前記第2の塗布機構は、
前記第2の塗布領域に前記第2の塗布材を塗布する第2のノズルと、
前記第2のノズルを保持し、かつ、前記第2の方向に移動可能である第2の保持部とを備え、
前記第1の端部と前記第2の端部との間の距離は、前記第1の端部に位置する前記第1の塗布機構の前記第1の保持部と前記第2の端部に位置する前記第2の塗布機構の前記第2の保持部とが接触する距離以下である、
請求項1から請求項6のうちのいずれか1項に記載の塗布装置。
The first application mechanism includes:
A first nozzle for applying the first application material to the first application region;
A first holding unit that holds the first nozzle and is movable in the first direction;
The second application mechanism includes:
A second nozzle for applying the second application material to the second application region;
A second holding unit that holds the second nozzle and is movable in the second direction;
The distance between the first end portion and the second end portion is set between the first holding portion and the second end portion of the first application mechanism located at the first end portion. The distance is less than or equal to the distance at which the second holding portion of the second application mechanism located is in contact.
The coating apparatus of any one of Claims 1-6.
ステージに配置された基板の上面に沿う方向である第1の方向に移動可能であり、かつ、前記基板の上面における第1の塗布領域に第1の塗布材を塗布する第1の塗布機構と、前記第1の方向と対向する方向である第2の方向に移動可能であり、かつ、前記基板の上面における第2の塗布領域に第2の塗布材を塗布する第2の塗布機構とを備える塗布装置を用いて前記第1の塗布材および前記第2の塗布材の塗布を行う塗布方法であり、
第1のメンテナンス処理のために前記第1の塗布機構を前記ステージの一方側に位置させた後、前記第1の塗布領域において前記第1の塗布機構を前記第1の方向に移動させ、さらに、前記第1の塗布機構が前記第1の塗布領域の第1の端部に到達した後、前記第1の塗布機構を前記第1の端部から退避させ、
第2のメンテナンス処理のために前記第2の塗布機構を前記ステージの他方側に位置させた後、前記第2の塗布領域において前記第2の塗布機構を前記第2の方向に移動させ、さらに、前記第2の塗布機構を前記第2の塗布領域の第2の端部に到達させ、
前記第1の端部と前記第2の端部との間の距離は、前記第1の端部に位置する前記第1の塗布機構と前記第2の端部に位置する前記第2の塗布機構とが接触する距離以下であり、
前記第2の塗布機構が前記第2の端部に到達するタイミングを前記第1の塗布機構が前記第1の端部に到達するタイミングよりも遅らせる時間差制御を行うことによって、前記第1の塗布機構と前記第2の塗布機構とを離間させつつ、前記第1の塗布機構および前記第2の塗布機構の移動を、少なくともその一部において時間的に並行して行わせる、
塗布方法。
A first application mechanism which is movable in a first direction which is a direction along the upper surface of the substrate disposed on the stage, and which applies a first application material to a first application region on the upper surface of the substrate; A second application mechanism that is movable in a second direction that is opposite to the first direction and that applies a second application material to a second application region on the upper surface of the substrate. An application method for applying the first application material and the second application material using an application device comprising:
After the first coating mechanism is positioned on one side of the stage for the first maintenance process, the first coating mechanism is moved in the first direction in the first coating region, and After the first application mechanism reaches the first end of the first application region, the first application mechanism is retracted from the first end;
After the second coating mechanism is positioned on the other side of the stage for the second maintenance process, the second coating mechanism is moved in the second direction in the second coating region, and , Causing the second application mechanism to reach a second end of the second application region,
The distance between the first end and the second end is such that the first application mechanism located at the first end and the second application located at the second end. Less than the contact distance with the mechanism,
By performing the time difference control for delaying the timing at which the second coating mechanism reaches the second end from the timing at which the first coating mechanism reaches the first end, the first coating is performed. Moving the first coating mechanism and the second coating mechanism in parallel at least partially in time while separating the mechanism and the second coating mechanism;
Application method.
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