JP2018148042A - ウェーハの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体単結晶インゴットを切断することでウェーハを製造する方法であって、ワイヤソーを用いて半導体単結晶インゴットをスライスすることでウェーハ状のワークを得た後に、レーザーを用いてウェーハ状のワークを厚さ方向に分割することで、それぞれのウェーハ状のワークから複数のウェーハを得ることを特徴とするウェーハの製造方法。
【選択図】 図1
Description
本発明のウェーハの製造方法(実施例1、2)と従来の方法(比較例)とで、それぞれ同じ長さのシリコン単結晶インゴットを切断した際の結果を比較した。実施例1、2では、図1のような本発明のウェーハ製造方法に従ったフローでシリコン単結晶インゴットを切断して複数のシリコンウェーハを製造した。一方、比較例では、図3のような従来の方法に従ったフローでシリコン単結晶インゴットを切断した。また、図1、3の工程4及び4’におけるシリコンウェーハの厚さを、実施例1、2、比較例の全てで880μmとなるように切断した。また、図1、3の工程5及び5’以降の加工条件は同条件とした。
Claims (4)
- 半導体単結晶インゴットを切断することでウェーハを製造する方法であって、
ワイヤソーを用いて前記半導体単結晶インゴットをスライスすることでウェーハ状のワークを得た後に、レーザーを用いて前記ウェーハ状のワークを厚さ方向に分割することで、それぞれの前記ウェーハ状のワークから複数のウェーハを得ることを特徴とするウェーハの製造方法。 - 前記ワイヤソーを用いた前記半導体単結晶インゴットのスライスにおいて、前記ウェーハ状のワークの厚みが、製品となるウェーハの厚みの2倍を超える厚みとなるように前記半導体単結晶インゴットをスライスすることを特徴とする請求項1に記載のウェーハの製造方法。
- 前記レーザーを用いた前記ウェーハ状のワークの分割において、前記ウェーハ状のワークを厚さ方向に2枚又は3枚に分割することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のウェーハの製造方法。
- 前記半導体単結晶インゴットを直径が300mm以上のものとすることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のウェーハの製造方法。
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