JP2018146190A - 吸収式冷凍機、制御プログラム及び吸収式冷凍機の制御方法 - Google Patents

Abstract

【課題】圧力に基づく濃度演算を適切に行って吸収液の希釈の要否を判断する吸収式冷凍機、制御プログラム及び吸収式冷凍機の制御方法を提供する。【解決手段】吸収液Ｓと冷媒Ｖとの吸収サイクルで温度調節対象流体Ｃの冷却又は加熱を行う吸収式冷凍機１は、加熱源３１で吸収液Ｓｗを加熱して冷媒Ｖｇを離脱させる再生器３０と、再生器３０の圧力又はこれと相関を有する物理量を検出する再生器圧力相関値検出部５１と、内部で吸収液Ｓを循環流動させる溶液ポンプ１９と、吸収液Ｓが循環し得る系統１０、１８、３０、３８への冷媒液Ｖｆの混入／不混入を切り替え可能な冷媒液混入可能部７０と、吸収式冷凍機１を停止する際に、低加熱運転を行い、その間に再生器圧力相関値検出部５１で検出された値に基づく演算濃度が所定の値未満のときに吸収式冷凍機１への加熱源３１の供給を停止する制御装置６０とを備える。【選択図】図１

Description

本発明は吸収式冷凍機、制御プログラム及び吸収式冷凍機の制御方法に関し、特に圧力に基づく濃度演算を適切に行って吸収液の希釈の要否を判断する吸収式冷凍機、制御プログラム及び吸収式冷凍機の制御方法に関する。

吸収液（溶液）と冷媒との吸収サイクルにより温度調節対象流体の冷却又は加熱を行う吸収冷温水機等の吸収式冷凍機は、機内において高温で吸収液の濃度に偏りのある運転状態から、負荷が減少した等の事情で停止させる際に、吸収液の結晶を防ぐため、吸収液を冷媒で希釈すると共に吸収液の濃度を均一化する希釈運転を一定時間行ってから停止させるのが一般的である。希釈運転を行う一定時間を最も溶液の濃度が濃い場合を想定して定めた場合の省エネルギーに反するという欠点を解消した吸収冷温水機として、高温再生器内の溶液の濃度を検出する溶液濃度検出手段を設け、吸収冷温水機を停止する際に、溶液濃度検出手段で検出した溶液の濃度が所定値以上の場合に希釈を開始し、溶液の濃度が所定値以下となった後所定の時間だけ溶液ポンプの残留運転を行って希釈を終了するものがある（例えば、特許文献１参照。）。

特開平１１−３７５９５号公報

吸収式冷凍機を停止する際、溶液濃度がある程度高い状態で希釈せずに停止すると、溶液の温度が結晶温度まで低下したときに溶液が結晶することとなる。しかしながら、溶液の温度が結晶温度まで低下するにはある程度時間がかかるため、特許文献１に記載の吸収冷温水機のように溶液の濃度が所定値以上の場合に希釈を開始することとすると、溶液が結晶するまでに時間があるにもかかわらず希釈を行うこととなり、結晶温度に低下する前に吸収冷温水機を再起動した場合は、希釈に要したエネルギーが無駄になると共に、立ち上がりに時間を要することとなる。このような不都合を解消するために、吸収式冷凍機の停止後も継続して溶液濃度を検出し、検出した濃度が溶液の希釈が必要な濃度になったときに希釈を開始することが考えられる。溶液濃度を検出するに際し、より経済的な利点がある缶胴内圧力に基づいて濃度を演算する場合は、吸収式冷凍機の停止後に適切な濃度演算ができなくなってしまっていた。

本発明は上述の課題に鑑み、圧力に基づく濃度演算を適切に行って吸収液の希釈の要否を判断することができる吸収式冷凍機、制御プログラム及び吸収式冷凍機の制御方法を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明の第１の態様に係る吸収式冷凍機は、例えば図１に示すように、加熱源３１が供給されることによって構成される吸収液Ｓと冷媒Ｖとの吸収サイクルにより温度調節対象流体Ｃの冷却又は加熱を行う吸収式冷凍機１であって；冷媒Ｖｅを吸収した吸収液Ｓｗを加熱源３１で加熱し、吸収液Ｓｗから冷媒Ｖｇを離脱させて吸収液Ｓｗの濃度を上昇させる再生器３０と；再生器３０の圧力又は再生器３０の圧力と相関を有する物理量を検出する再生器圧力相関値検出部５２と；吸収式冷凍機１の内部で吸収液Ｓが循環するように吸収液Ｓを流動させる溶液ポンプ１９と；吸収液Ｓが循環し得る系統１０、１８、３０、３８に冷媒の液Ｖｆを混入させる状態と混入させない状態とを切り替え可能な冷媒液混入可能部７０と；吸収式冷凍機１を停止する際に、吸収液Ｓが循環し得る系統１０、１８、３０、３８に冷媒の液Ｖｆを混入させない状態で、溶液ポンプ１９の運転を継続させつつ再生器３０に投入される熱量を所定の熱量に減少させた低加熱運転を行い、低加熱運転中に再生器圧力相関値検出部５２で検出された値に基づいて演算された吸収液Ｓの濃度である演算濃度が所定の値未満のときに吸収式冷凍機１への加熱源３１の供給を停止するように、加熱源３１の供給機構、溶液ポンプ１９及び冷媒液混入可能部７０を制御する制御装置６０とを備える。

このように構成すると、低加熱運転を行いながら再生器圧力相関値検出部で検出された値に基づいて吸収液の濃度が演算されるので、再生器内の飽和状態が保たれて吸収液の濃度を適切に把握することができ、吸収液の希釈の要否を適切に判断することができる。

また、本発明の第２の態様に係る吸収式冷凍機は、例えば図１を参照して示すと、上記本発明の第１の態様に係る吸収式冷凍機１において、制御装置６０は、低加熱運転を開始してから所定の時間が経過しても演算濃度が所定の値未満とならないときに、吸収式冷凍機１への加熱源３１の供給を停止すると共に、溶液ポンプ１９の作動による吸収液Ｓが循環し得る系統１０、１８、３０、３８における吸収液Ｓの濃度の均一化及び冷媒液混入可能部７０による吸収液Ｓが循環し得る系統１０、１８、３０、３８への冷媒の液Ｖｆの混入の少なくとも一方を行うことにより吸収液Ｓを希釈する希釈運転を行うように加熱源３１の供給機構、溶液ポンプ１９及び冷媒液混入可能部７０を制御する。

このように構成すると、低加熱運転を継続することに伴うエネルギー消費を削減することができる。

また、本発明の第３の態様に係る吸収式冷凍機は、例えば図１を参照して示すと、上記本発明の第１の態様又は第２の態様に係る吸収式冷凍機１において、吸収式冷凍機１の周囲の環境の温度に関連する周囲環境温度関連値を把握する周囲環境温度関連値把握部５５を備え；所定の値は、周囲環境温度関連値に応じて変化するように設定されている。

このように構成すると、加熱源の供給停止後に低下し得る吸収液の温度の下限値である周囲環境温度に関連する周囲環境温度関連値を加味して所定の値が変化することとなり、周囲環境温度が高いほど所定の値を大きく設定することができ、吸収液の希釈を行わない範囲を拡大させることができる。

また、本発明の第４の態様に係る吸収式冷凍機は、例えば図１を参照して示すと、上記本発明の第１の態様乃至第３の態様のいずれか１つの態様に係る吸収式冷凍機１において、吸収液Ｓの濃度に関連する吸収液濃度関連値を把握する吸収液濃度関連値把握部５１、５２、６０を備え；制御装置６０は、吸収式冷凍機１を停止する際に、吸収液濃度関連値把握部５１、５２、６０で把握された吸収液濃度関連値が吸収液Ｓの希釈が不要な濃度の上限である希釈不要上限濃度以下のときに、低加熱運転を行わずかつ吸収液Ｓを希釈する希釈運転を行わずに吸収式冷凍機１を停止する。

このように構成すると、低加熱運転を行うのに必要なエネルギーを削減することができる。

また、本発明の第５の態様に係る吸収式冷凍機は、例えば図１を参照して示すと、上記本発明の第４の態様に係る吸収式冷凍機１において、吸収式冷凍機１の周囲の環境の温度に関連する周囲環境温度関連値を把握する周囲環境温度関連値把握部５５を備え；希釈不要上限濃度が周囲環境温度関連値に応じて変化するように設定されている。

このように構成すると、吸収式冷凍機の停止後に低下し得る吸収液の温度の下限値である周囲環境温度に関連する周囲環境温度関連値を加味して希釈不要上限濃度が変化することとなり、周囲環境温度が高いほど希釈不要上限濃度を高く設定することができ、低加熱運転を行わずかつ吸収液の希釈をしない範囲を拡大させることができる。

また、本発明の第６の態様に係る吸収式冷凍機は、例えば図１を参照して示すと、上記本発明の第１の態様乃至第５の態様のいずれか１つの態様に係る吸収式冷凍機１において、制御装置６０は、冷媒液混入可能部７０による吸収液Ｓが循環し得る系統１０、１８、３０、３８への冷媒の液Ｖｆの混入を伴わない吸収サイクルの停止回数が所定の回数に到達したとき、又は冷媒の液Ｖｆが貯留される部分における冷媒Ｖへの吸収液Ｓの混入を検出したときに、演算濃度の値にかかわらず、吸収液Ｓが循環し得る系統１０、１８、３０、３８に冷媒の液Ｖｆを混入させるように冷媒液混入可能部７０を制御する。ここで、吸収液が循環し得る系統への冷媒の液の混入を伴わない吸収サイクルの停止とは、典型的には、冷媒の液の混入を伴う希釈運転を行わずに吸収冷凍機を停止することである。

このように構成すると、冷媒の系統に吸収液が混入してしまっている場合に、冷媒の系統を浄化することができる。

また、本発明の第７の態様に係る吸収式冷凍機は、例えば図１を参照して示すと、上記本発明の第１の態様乃至第６の態様のいずれか１つの態様に係る吸収式冷凍機１において、制御装置６０は、吸収式冷凍機１に吸収液Ｓ及び冷媒Ｖを注入してから所定の運転時間又は所定の運転回数が経過するまでは、吸収式冷凍機１を停止する際に、演算濃度の値にかかわらず、溶液ポンプ１９の作動による吸収液Ｓが循環し得る系統１０、１８、３０、３８における吸収液Ｓの濃度の均一化及び冷媒液混入可能部７０による吸収液Ｓが循環し得る系統１０、１８、３０、３８への冷媒の液Ｖｆの混入の両方を伴う希釈運転を行うように溶液ポンプ１９及び冷媒液混入可能部７０を制御する。

このように構成すると、吸収式冷凍機の構成部材の表面に適切に被膜を形成することができる。

上記目的を達成するために、本発明の第８の態様に係る制御プログラムは、例えば図１及び図２を参照して示すと、加熱源３１が供給されることによって構成される吸収液Ｓと冷媒Ｖとの吸収サイクルにより温度調節対象流体Ｃの冷却又は加熱を行う吸収式冷凍機１を制御するプログラムであって；吸収式冷凍機１を構成する再生器３０の圧力又は再生器３０の圧力と相関を有する物理量に基づいて吸収液Ｓの濃度を演算する吸収液濃度演算工程（Ｓ１２）と；吸収式冷凍機１を停止する際に、再生器３０に投入される熱量を所定の熱量に減少させた低加熱運転を行う低加熱運転工程（Ｓ１１）と；低加熱運転中に吸収液濃度演算工程（Ｓ１２）で算出された演算濃度が所定の値未満のときに吸収式冷凍機１への加熱源３１の供給を停止する加熱源供給停止工程（Ｓ５）とを備える。

このように構成すると、低加熱運転を行いながら再生器の圧力又は再生器の圧力と相関を有する物理量に基づいて吸収液の濃度が演算されるので、再生器内の飽和状態が保たれて吸収液の濃度を適切に把握することができ、吸収液の希釈の要否を適切に判断することができる。

上記目的を達成するために、本発明の第９の態様に係る吸収式冷凍機の制御方法は、例えば図１及び図２を参照して示すと、加熱源３１が供給されることによって構成される吸収液Ｓと冷媒Ｖとの吸収サイクルにより温度調節対象流体Ｃの冷却又は加熱を行う吸収式冷凍機１を制御する方法であって；吸収式冷凍機１を構成する再生器３０の圧力又は再生器３０の圧力と相関を有する物理量に基づいて吸収液Ｓの濃度を演算する吸収液濃度演算工程（Ｓ１２）と；吸収式冷凍機１を停止する際に、再生器３０に投入される熱量を所定の熱量に減少させた低加熱運転を行う低加熱運転工程（Ｓ１１）と；低加熱運転中に吸収液濃度演算工程（Ｓ１２）で算出された演算濃度が所定の値未満のときに吸収式冷凍機１への加熱源３１の供給を停止する加熱源供給停止工程（Ｓ５）とを備える。

このように構成すると、低加熱運転を行いながら再生器の圧力又は再生器の圧力と相関を有する物理量に基づいて吸収液の濃度が演算されるので、再生器内の飽和状態が保たれて吸収液の濃度を適切に把握することができ、吸収液の希釈の要否を適切に判断することができる。

本発明によれば、低加熱運転を行いながら再生器の圧力又は再生器の圧力と相関を有する物理量（再生器圧力相関値検出部で検出された値）に基づいて吸収液の濃度が演算されるので、再生器内の飽和状態が保たれて吸収液の濃度を適切に把握することができ、吸収液の希釈の要否を適切に判断することができる。

本発明の実施の形態に係る吸収冷凍機の模式的系統図である。 本発明の実施の形態に係る吸収冷凍機の停止時の手順の前半部分を説明するフローチャートである。 本発明の実施の形態に係る吸収冷凍機の停止時の手順の後半部分を説明するフローチャートである。 周囲環境温度に対する吸収液の結晶濃度と希釈不要上限濃度との関係を例示するグラフである。 演算濃度と実際の吸収液濃度との誤差を示すグラフである。 本発明の実施の形態に係る吸収冷凍機の停止時の手順の変形部分を説明するフローチャートである。

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。なお、各図において互いに同一又は相当する部材には同一あるいは類似の符号を付し、重複した説明は省略する。

本明細書において、「吸収式冷凍機」は、再生器に加熱源を供給することによって、再生器、凝縮器、吸収器、蒸発器などによる吸収サイクルを構成し、温度調節対象流体の冷却又は加熱を行う吸収式熱源機の総称であり、加熱源を再生器に供給して吸収冷凍サイクルを構成し、冷水（冷却された温度調節対象流体）を供給する機械である吸収冷凍機、加熱源を再生器に供給して吸収サイクルを構成し、冷水（冷却された温度調節対象流体）及び／又は温水（加熱された温度調節対象流体）を供給する機械である吸収冷温水機、及び加熱源を再生器に供給して吸収ヒートポンプサイクルを構成し、蒸発器で熱源水から熱を回収することによって、吸収器及び凝縮器で加熱された温水（加熱された温度調節対象流体）を供給する機械である吸収ヒートポンプを含むものである。以下、吸収式冷凍機は、その一形態である吸収冷凍機であるとして説明する。

まず図１を参照して、本発明の実施の形態に係る吸収冷凍機１を説明する。図１は、吸収冷凍機１の模式的系統図である。吸収冷凍機１は、吸収冷凍サイクルを行う主要構成機器として、吸収器１０と、蒸発器２０と、再生器３０と、凝縮器４０とを備えていると共に、制御装置６０を備えている。吸収冷凍機１は、吸収液Ｓに対して冷媒Ｖが相変化をしながら循環することで熱移動を行わせ、温度調節対象流体である冷水Ｃの温度を低下させる機器である。以下の説明において、吸収液に関し、吸収冷凍サイクル上における区別を容易にするために、性状や吸収冷凍サイクル上の位置に応じて、「希溶液Ｓｗ」、「濃溶液Ｓａ」等と呼称するが、性状等を不問にするときは総称して「吸収液Ｓ」ということとする。また、冷媒に関し、吸収冷凍サイクル上における区別を容易にするために、性状や吸収冷凍サイクル上の位置に応じて、「蒸発器冷媒蒸気Ｖｅ」、「再生器冷媒蒸気Ｖｇ」、「冷媒液Ｖｆ」等と呼称するが、性状等を不問にするときは総称して「冷媒Ｖ」ということとする。本実施の形態では、吸収液Ｓ（吸収剤と冷媒との混合物）としてＬｉＢｒ水溶液が用いられており、冷媒Ｖとして水（Ｈ_２Ｏ）が用いられているが、これに限らず他の冷媒、溶液（吸収剤）の組み合わせで使用してもよい。

吸収器１０は、蒸発器２０で発生した蒸発器冷媒蒸気Ｖｅを濃溶液Ｓａで吸収する機器である。吸収器１０は、冷却水Ｄを流す冷却水流路としての冷却管１１と、濃溶液Ｓａを冷却管１１の外面に向けて散布する濃溶液散布ノズル１２とを、吸収器缶胴１７の内部に有している。濃溶液散布ノズル１２は、散布した濃溶液Ｓａが冷却管１１に降りかかるように、冷却管１１の上方に配設されている。吸収器１０は、散布された濃溶液Ｓａが蒸発器冷媒蒸気Ｖｅを吸収することで濃度の低下した希溶液Ｓｗを吸収器缶胴１７の下部に貯留すると共に、濃溶液Ｓａが蒸発器冷媒蒸気Ｖｅを吸収した際に発生した吸収熱を冷却水Ｄが奪うように構成されている。

蒸発器２０は、冷水Ｃの熱で冷媒液Ｖｆを蒸発させて蒸発器冷媒蒸気Ｖｅを発生させることにより冷水Ｃを冷却する機器である。蒸発器２０は、冷水Ｃを流す冷水流路としての蒸発管２１と、冷媒液Ｖｆを蒸発管２１の外面に向けて散布する冷媒液散布ノズル２２とを、蒸発器缶胴２７の内部に有している。冷媒液散布ノズル２２は、散布した冷媒液Ｖｆが蒸発管２１に降りかかるように、蒸発管２１の上方に配設されている。蒸発器２０は、蒸発器缶胴２７の下部に貯留されている冷媒液Ｖｆを冷媒液散布ノズル２２に導く冷媒液管２８と、冷媒液管２８内の冷媒液Ｖｆを冷媒液散布ノズル２２に送る冷媒ポンプ２９とを有している。蒸発器２０は、蒸発管２１の外面に散布された冷媒液Ｖｆが蒸発して蒸発器冷媒蒸気Ｖｅとなるための気化熱を、蒸発管２１内を流れる冷水Ｃから奪うことで冷水Ｃを冷却し、散布された冷媒液Ｖｆのうち蒸発しなかった冷媒液Ｖｆが蒸発器缶胴２７の下部に貯留されるように構成されている。

本実施の形態では、吸収器１０と蒸発器２０とは隣接して配置されており、吸収器缶胴１７の上部と蒸発器缶胴２７の上部とが連通している。このような構成により、蒸発器缶胴２７の内部で発生した蒸発器冷媒蒸気Ｖｅを吸収器缶胴１７の内部に導くことができるようになっている。冷却管１１には、冷却水Ｄを導入する冷却水入口管１１ａが一端に接続されている。冷却管１１の他端には、冷却水連絡管５８が接続されている。冷却水入口管１１ａには、吸収冷凍機１外の冷却水往管９８が接続される。冷却水往管９８は、吸収冷凍機１外の冷却塔（不図示）に接続されている。冷却水往管９８には、吸収冷凍機１外の冷却水ポンプ９１が配設されている。吸収冷凍機１は、冷却水ポンプ９１の稼働により、冷却管１１内を冷却水Ｄが流動するように構成されている。蒸発管２１には、冷水Ｃを導入する冷水入口管２１ａが一端に接続され、冷水Ｃを流出させる冷水出口管２１ｂが他端に接続されている。冷水入口管２１ａには、吸収冷凍機１外の冷水還管９５が接続される。冷水還管９５には、吸収冷凍機１外の冷水ポンプ９２が配設されている。吸収冷凍機１は、冷水ポンプ９２の稼働により、蒸発管２１内を冷水Ｃが流動するように構成されている。冷水出口管２１ｂには、吸収冷凍機１外の冷水往管９６が接続される。

再生器３０は、希溶液Ｓｗを導入し、加熱することで、希溶液Ｓｗ中の冷媒Ｖを離脱させ、濃溶液Ｓａを生成する機器である。再生器３０において、希溶液Ｓｗから離脱した冷媒Ｖは蒸気の状態であり、この冷媒Ｖの蒸気を再生器冷媒蒸気Ｖｇということとする。再生器３０は、希溶液Ｓｗを加熱する加熱部３１と、導入した吸収液Ｓを貯留する再生器缶胴３７とを有している。加熱部３１は、再生器缶胴３７の内部に配設されており、加熱源として機能する。加熱部３１は、典型的には、バーナーの燃焼熱、外部から導入した蒸気や温水等の熱で、吸収液Ｓを加熱することができるように構成されている。再生器３０として、貫流式再生器や煙管型再生器、液管型再生器等を用いることができる。

凝縮器４０は、再生器３０で希溶液Ｓｗから蒸発した再生器冷媒蒸気Ｖｇを導入し冷却して凝縮させ、蒸発器２０に送る冷媒液Ｖｆを生成する機器である。凝縮器４０は、冷却水Ｄの流路を形成する部材である凝縮管４１を、凝縮器缶胴４７の内部に有している。凝縮管４１の一端には、一端が冷却管１１に接続されている冷却水連絡管５８の他端が接続されている。凝縮管４１の他端には、冷却水Ｄを流出させる冷却水出口管４１ｂが接続されている。冷却水出口管４１ｂには、吸収冷凍機１外の冷却水還管９９が接続される。冷却水還管９９は、吸収冷凍機１外の冷却塔（不図示）に接続されている。このような構成により、冷却水還管９９を流れる冷却水Ｄは、冷却塔（不図示）で冷却されて冷却水往管９８に供給されるようになっている。

凝縮器缶胴４７は、再生器缶胴３７に近接して配設されている。本実施の形態では、再生器缶胴３７の上部と凝縮器缶胴４７の上部とは、再生器冷媒蒸気流路３５を介して連通している。凝縮器４０は、再生器冷媒蒸気流路３５を介して再生器３０から再生器冷媒蒸気Ｖｇを導入し、凝縮管４１を流れる冷却水Ｄに再生器冷媒蒸気Ｖｇの熱を奪わせて、再生器冷媒蒸気Ｖｇを凝縮させて冷媒液Ｖｆにするように構成されている。本実施の形態では、凝縮器缶胴４７及び再生器缶胴３７は、蒸発器缶胴２７及び吸収器缶胴１７の上方に配設されている。凝縮器缶胴４７の冷媒液Ｖｆが貯留される部分（典型的には凝縮器缶胴４７の底部又は下部）と蒸発器缶胴２７とは、凝縮冷媒液管４８で接続されており、凝縮器缶胴４７内の冷媒液Ｖｆを位置ヘッド及び両者の内圧の差で蒸発器缶胴２７内に導くことができるように構成されている。

吸収器缶胴１７の希溶液Ｓｗが貯留される部分（典型的には吸収器缶胴１７の底部又は下部）と、再生器缶胴３７とは、希溶液管１８で接続されている。希溶液管１８には、溶液ポンプ１９が配設されている。吸収冷凍機１は、溶液ポンプ１９により、吸収器缶胴１７の希溶液Ｓｗを再生器缶胴３７内に搬送することができるように構成されている。再生器缶胴３７内では、導入された希溶液Ｓｗが、入口から出口に移動するに連れて希溶液Ｓｗ中から冷媒Ｖが離脱して濃度が上昇するようになっている。

再生器缶胴３７の濃溶液Ｓａが流出する部分と、吸収器１０の濃溶液散布ノズル１２とは、濃溶液管３８で接続されている。吸収冷凍機１は、溶液ポンプ１９によって希溶液Ｓｗが再生器缶胴３７に搬送され、再生器缶胴３７内で冷媒Ｖが離脱して生成された濃溶液Ｓａが、濃溶液管３８を介して濃溶液散布ノズル１２に導入されるように構成されている。つまり、溶液ポンプ１９は、吸収器１０と再生器３０との間で吸収液Ｓを循環させることができる。濃溶液管３８には、再生器３０の出口の濃溶液Ｓａの温度を検出する濃溶液温度計５１が設けられている。再生器缶胴３７には、内部の冷媒Ｖの温度を検出する冷媒温度計５２が設けられている。冷媒温度計５２は、吸収冷凍機１の運転時には、再生器３０内の冷媒Ｖの露点温度を検出するようになっている。再生器３０内の冷媒Ｖの露点温度は再生器３０内の圧力と相関を有する物理量であるので、冷媒温度計５２は再生器圧力相関値検出部に相当する。なお、冷媒温度計５２は、再生器冷媒蒸気流路３５に設けられていてもよい。希溶液管１８及び濃溶液管３８には、希溶液管１８を流れる希溶液Ｓｗと濃溶液管３８を流れる濃溶液Ｓａとの間で熱交換を行わせる溶液熱交換器８１が挿入されて配置されている。

凝縮器缶胴４７の冷媒液Ｖｆが貯留される部分（典型的には凝縮器缶胴４７の底部又は下部）と濃溶液管３８とは、凝縮器缶胴４７内の冷媒液Ｖｆを濃溶液管３８に導く冷媒液混入管７１で接続されている。冷媒液混入管７１には、流路を開閉する冷媒液混入弁７２が配設されている。本実施の形態では、冷媒液混入管７１と冷媒液混入弁７２とで冷媒液混入可能部７０を構成している。冷媒液混入可能部７０は、冷媒液混入弁７２を開けたときの冷媒液Ｖｆを濃溶液管３８に混入させる状態と、冷媒液混入弁７２を閉じたときの冷媒液Ｖｆを濃溶液管３８の混入させない状態とを切り替えることができるように構成されている。また、再生器３０の外側の再生器３０の近傍には、気温を検出する周囲温度計５５が設けられている。再生器３０の外側の気温は、吸収冷凍機１の周囲の環境に相関する温度であり、周囲環境温度関連値に相当する。周囲温度計５５は、周囲環境温度関連値把握部に相当する。

制御装置６０は、吸収冷凍機１の動作を制御する機器である。制御装置６０は、加熱部３１と有線又は無線で電気的に接続されており、加熱部３１に投入される熱量を調節することができるように構成されている。また、制御装置６０は、溶液ポンプ１９、冷媒ポンプ２９、冷却水ポンプ９１、冷水ポンプ９２と、それぞれ有線又は無線で電気的に接続されており、これらの発停を制御することができるように構成されている。また、制御装置６０は、濃溶液温度計５１、冷媒温度計５２、及び周囲温度計５５と、それぞれ有線又は無線で電気的に接続されており、検出された温度を信号として受信することができるように構成されている。また、制御装置６０は、濃溶液温度計５１で検出された温度と、冷媒温度計５２で検出された温度（冷媒Ｖの飽和温度）とから、濃溶液管３８を流れる吸収液Ｓの濃度を演算することができるように構成されている。なお、制御装置６０で演算された吸収液Ｓの濃度を「演算濃度」ということとする。演算濃度は、吸収液Ｓの濃度に関連する値の一態様であり、吸収液濃度関連値を兼ねている。また、本実施の形態では、濃溶液温度計５１で検出された温度と冷媒温度計５２で検出された温度と制御装置６０とが協働して吸収液濃度関連値を把握することができるから、濃溶液温度計５１と冷媒温度計５２と制御装置６０とで吸収液濃度関連値把握部を構成する。また、制御装置６０は、冷媒液混入弁７２と有線又は無線で電気的に接続されており、冷媒液混入弁７２の開閉を切り替えることができるように構成されている。また、制御装置６０は、後述する吸収冷凍機１の作用で説明するような吸収冷凍機１の制御を行うことができるように構成されている。後述する吸収冷凍機１の制御は、シーケンスプログラムとして制御装置６０に格納されている。

引き続き図１を参照して、吸収冷凍機１の作用を説明する。まず、吸収冷凍機１の定常運転時の作用を説明する。吸収冷凍機１の定常運転時は、制御装置６０からの指令により、冷媒液混入弁７２が閉となっており、溶液ポンプ１９、冷媒ポンプ２９、冷却水ポンプ９１、冷水ポンプ９２がそれぞれ稼働している。冷媒Ｖ側のサイクルについて見ると、再生器冷媒蒸気流路３５を介して再生器３０から凝縮器４０に導入された再生器冷媒蒸気Ｖｇは、凝縮管４１を流れる冷却水Ｄに冷却されて凝縮し、冷媒液Ｖｆとなって凝縮器缶胴４７の下部に貯留される。再生器冷媒蒸気Ｖｇを冷却した冷却水Ｄは、温度が上昇して冷却水還管９９から流出し、冷却塔（不図示）に供給される。凝縮器缶胴４７内の冷媒液Ｖｆは、凝縮冷媒液管４８を介して蒸発器缶胴２７内に導入される。

凝縮器缶胴４７から蒸発器缶胴２７に導入された冷媒液Ｖｆは、冷媒液散布ノズル２２から散布されて蒸発しなかった冷媒液Ｖｆと混合して蒸発器缶胴２７の下部に貯留される。蒸発器缶胴２７内の冷媒液Ｖｆは、冷媒ポンプ２９により、冷媒液管２８を流れて冷媒液散布ノズル２２に至る。冷媒液散布ノズル２２に至った冷媒液Ｖｆは、蒸発管２１に向けて散布され、蒸発管２１を流れる冷水Ｃの熱を得て一部が蒸発して蒸発器冷媒蒸気Ｖｅとなり、吸収器缶胴１７に導入される。散布された冷媒液Ｖｆに熱を奪われた冷水Ｃは、温度が低下して冷水往管９６から流出し、空気調和機等の冷水Ｃの利用場所に供給される。冷媒液散布ノズル２２から散布されて蒸発しなかった冷媒液Ｖｆは、凝縮器缶胴４７から導入された冷媒液Ｖｆと混合して蒸発器缶胴２７の下部に貯留される。

次に吸収冷凍機１の溶液Ｓ側のサイクルを見ると、吸収器缶胴１７内の希溶液Ｓｗは、溶液ポンプ１９により、希溶液管１８を流れ、溶液熱交換器８１で温度が上昇した後に、再生器缶胴３７に導入される。再生器缶胴３７に導入された希溶液Ｓｗは、加熱部３１によって加熱され、冷媒Ｖが離脱して濃溶液Ｓａとなる。他方、希溶液Ｓｗから離脱した冷媒Ｖは、再生器冷媒蒸気Ｖｇとして、再生器冷媒蒸気流路３５を介して凝縮器缶胴４７内に送られる。再生器缶胴３７内で生成された濃溶液Ｓａは、濃溶液管３８を流れ、溶液熱交換器８１において希溶液Ｓｗと熱交換して温度が低下したうえで濃溶液散布ノズル１２に至る。

濃溶液散布ノズル１２に至った濃溶液Ｓａは、冷却管１１に向けて散布され、蒸発器２０から導入された蒸発器冷媒蒸気Ｖｅを吸収し濃度が低下して希溶液Ｓｗとなる。吸収器缶胴１７内において、濃溶液Ｓａが蒸発器冷媒蒸気Ｖｅを吸収する際には吸収熱が発生する。この発生した吸収熱は、冷却水往管９８から導入されて冷却管１１を流れる冷却水Ｄによって除去される。冷却管１１を流れる冷却水Ｄは、吸収熱を奪って温度上昇して冷却水連絡管５８に流出し、凝縮器４０の凝縮管４１に供給される。吸収器缶胴１７内で生じた希溶液Ｓｗは、吸収器缶胴１７内に貯留される。

上述のような定常運転を行っている吸収冷凍機１は、冷水Ｃの冷熱が利用される空気調和機等の負荷が減少して（負荷がなくなることも含む）吸収冷凍機１を運転する必要がなくなった場合は、加熱部３１への入熱を停止して、吸収冷凍機１を停止させることになる。一般に、吸収冷凍機を停止させる際は、温度が低下したときの吸収液の結晶を防ぐため、希釈運転を行うことが多い。希釈運転では、通常、適量の冷媒を吸収液に混入させて循環させることにより、吸収冷凍機内の吸収液を結晶しない濃度で均一化させることが行われる。そして、吸収液が希釈された吸収冷凍機を、負荷の増加等に起因して起動させる場合、吸収液を加熱して吸収液に濃度差を生じさせることになる。吸収冷凍機では、吸収液に所定の濃度差が生じてから所望の温度の冷水が得られることとなる。このように、吸収冷凍機では、希釈運転を開始してから再起動を経て定常運転に至るまでの間、冷水の製造に寄与しないエネルギーが消費されることとなる。このエネルギー消費は、吸収液の結晶を回避するためには必要なものであるが、吸収冷凍機を停止してから再起動するまでに吸収液が結晶する状態にならない場合は無駄なものとなる。そこで、本実施の形態に係る吸収冷凍機１では、このような無駄を回避するために、以下の制御を行うこととしている。

図２及び図３は吸収冷凍機１の停止時の手順を説明するフローチャートであり、図２は前半部分を、図３は後半部分を、それぞれ示している。図２及び図３を併せて１つの停止時の手順を示している。以下、主に図２及び図３を参照して吸収冷凍機１の停止時の制御を説明するが、説明において吸収冷凍機１の構成に言及しているときは適宜図１を参照することとする。吸収冷凍機１は、定常運転中、制御装置６０が、吸収冷凍機１を構成する各機器の運転を制御しながら、空気調和機等の冷水Ｃを利用する機器（不図示）からの停止指令を受けられるようにしている。換言すれば、制御装置６０は、停止指令があったか否かを判断している（Ｓ１）。停止指令がない場合は、再び停止指令があったか否かを判断する工程（Ｓ１）に戻る。

停止指令があったか否かを判断する工程（Ｓ１）において、停止指令があった場合、制御装置６０は、濃溶液温度計５１で検知した温度及び冷媒温度計５２で検知した温度に基づいて演算した吸収液Ｓ（濃溶液Ｓａ）の濃度が、希釈不要上限濃度以下か否かを判断する（Ｓ３）。ここで、希釈不要上限濃度は、希釈運転をせずにそのまま吸収冷凍機１の周囲の環境の温度（以下「周囲環境温度」という。）に低下しても吸収液Ｓの結晶が生じない濃度の上限値である。希釈運転は、溶液ポンプ１９を運転することによる吸収液Ｓの濃度を均一化させること（以下「溶液攪拌」という。）、冷媒液混入弁７２を所定時間開にして凝縮器４０内の冷媒液Ｖｆの所定量を濃溶液管３８に流入させること（以下「冷媒移送」という。）の２つがあるが、希釈不要上限濃度は両方の希釈運転が不要な濃度の上限値である。なお、希釈不要上限濃度は、本実施の形態では、周囲温度計５５が検出した温度に応じて可変としている。吸収液Ｓは、濃度が高いほど高い温度で結晶し、濃度が低いほど低い温度で結晶する。吸収冷凍機１の定常運転時に比較的高温となっている吸収液Ｓは、吸収冷凍機１が停止すると周囲環境温度に近づいていき、周囲環境温度を下回ることはない。つまり、吸収液Ｓの濃度の、結晶する濃度までの近さは、周囲環境温度に応じて変化するので、本実施の形態では、周囲環境温度（周囲温度計５５が検出した温度）に応じて希釈不要上限濃度を可変としている。

図４のグラフに、周囲環境温度（単に「周囲温度」という場合もある）に対する吸収液Ｓの結晶濃度と希釈不要上限濃度との関係の例を示す。図４のグラフ中、実線Ｌｓは周囲温度と吸収液Ｓの結晶濃度との関係を示している。本実施の形態では、吸収液Ｓの結晶濃度に対して所定の余裕を有する値を希釈不要上限濃度として定め、図４のグラフ中、破線Ｌｂで示している。例えば、周囲温度計５５が検出した周囲温度が１５℃の場合、吸収液Ｓの結晶濃度が６０％のところ、周囲温度（１５℃）における結晶濃度に対して余裕分を加味した濃度（例えば周囲温度が１５℃における吸収液の濃度５９％）を希釈不要上限濃度とし、これを各周囲温度について求めたものの線図が破線Ｌｂとなる。なお、所定の余裕分を、周囲温度が高いほど大きく、低いほど小さくした、一点鎖線Ｌｄのような可変としてもよい。

再び主に図２及び図３に戻って、吸収冷凍機１の停止時の手順の説明を続ける。吸収液Ｓの濃度が希釈不要上限濃度以下か否かを判断する工程（Ｓ３）において、希釈不要上限濃度以下の場合、制御装置６０は、加熱部３１における加熱を停止する（Ｓ５）。次に、制御装置６０は、冷媒未混入停止回数Ｎが所定の回数以上か否かを判断する（Ｓ６）。ここで、冷媒未混入停止回数Ｎは、吸収液Ｓへの冷媒液Ｖｆの混入を伴う希釈運転を最後に実施した後に吸収冷凍機１を停止してから、吸収液Ｓへの冷媒液Ｖｆの混入を行わずに吸収冷凍サイクルを停止した回数である。吸収冷凍機１では、運転中に、吸収液Ｓの飛散や、再生器冷媒蒸気Ｖｇに吸収液Ｓの液滴が随伴すること等により、冷媒Ｖの系統への吸収液Ｓの混入が生じ得る。冷媒Ｖの系統への吸収液Ｓの混入は、吸収冷凍機１における冷水Ｃの冷却性能の低下を引き起こし得る。そこで、冷媒液Ｖｆを吸収液Ｓの系統に混入させると、冷媒Ｖの系統に吸収液Ｓが混入していた場合に、吸収液Ｓを含んだ冷媒液Ｖｆを吸収液Ｓの系統に導入することができることとなり、後に吸収冷凍サイクルを行って冷媒Ｖを蒸発させて冷媒Ｖの系統に戻すことで、冷媒Ｖの系統を浄化することができる。このため、吸収冷凍機１では、少なくとも冷媒未混入停止回数Ｎが所定の回数となるごとに冷媒液Ｖｆを吸収液Ｓの系統に混入させて、冷媒Ｖの系統における吸収液Ｓの濃度が上昇することを抑制することとしている。

冷媒未混入停止回数Ｎが所定の回数以上か否かを判断する工程（Ｓ６）において、所定の回数以上でない（所定の回数未満である）場合、制御装置６０は、その時点での冷媒未混入停止回数Ｎに１を加算し（Ｓ７）、吸収冷凍機１を待機停止する（Ｓ９）。吸収冷凍機１の待機停止は、吸収冷凍機１の希釈運転を行わずに吸収冷凍機１を停止状態とすることであり、必要に応じて定常運転を開始できるように待機している状態である。

少し戻って、吸収液Ｓの濃度が希釈不要上限濃度以下か否かを判断する工程（Ｓ３）において、希釈不要上限濃度以下でない場合、制御装置６０は、吸収冷凍機１を低加熱運転の状態にする（Ｓ１１）。低加熱運転は、吸収液Ｓの系統に冷媒液Ｖｆを混入させない状態で、溶液ポンプ１９の運転を継続させつつ、加熱部３１による再生器３０への入熱量を所定の熱量に減少させた運転状態である。所定の熱量は、典型的には、再生器３０内の飽和状態を維持できる範囲で可能な限り減少させた熱量である。このようにすると、再生器３０内の飽和状態を維持しつつ熱エネルギーの消費量を抑制することができる。ここで、低加熱運転とするのは、仮に再生器３０への入熱を完全に停止した場合は再生器３０内の飽和状態を維持できなくなって演算濃度と実際の濃度との乖離が大きくなってしまうからである。低加熱運転を開始したら（Ｓ１１）、制御装置６０は、濃溶液温度計５１で検出した温度及び冷媒温度計５２で検出した温度に基づいて演算濃度を算出する（Ｓ１２）。なお、演算濃度を算出する工程（Ｓ１２）は、低加熱運転を開始する工程（Ｓ１１）と並行して行ってもよく、低加熱運転を開始する工程（Ｓ１１）の前に行ってもよい。つまり、演算濃度を算出する工程（Ｓ１２）は、少なくとも低加熱運転を行っているときに（少なくとも加熱部３１に再生器３０内の飽和状態を維持できる入熱量がある場合に）行われる。

次に、制御装置６０は、演算濃度が所定の値未満か否かを判断する（Ｓ１３）。所定の値は、吸収液Ｓの温度が周囲環境温度まで低下しても結晶しない濃度の上限に余裕分を加えた値である。所定の値は、本実施の形態では、前述の希釈不要上限濃度と同様、周囲環境温度に応じて可変であることとしている（図４参照）。ここで、演算濃度が実際の吸収液Ｓの濃度から大きく乖離しているとすると、吸収冷凍機１の停止の判断に影響を及ぼすことになるため、以下に演算濃度と実際の吸収液Ｓの濃度との差について述べる。

図５に演算濃度と実際の吸収液Ｓの濃度との差を示す。図５は、横軸に希釈時間をとり、縦軸に再生器３０の吸収液Ｓの濃度をとっている。図５中、実線Ｃｃが演算濃度、破線Ｃａが実際の吸収液Ｓの濃度を表している。図５に示すように、希釈運転の開始時に同じ値を示していた両者は、時間の経過と共に演算濃度が実際よりも低くなるように乖離していくが、ある時間（図５に示す例では１０分後）以降は乖離幅が広がらなくなる。この乖離は、希釈運転の要否を判断する実用上は誤差の範囲であり、この誤差の分を余裕分としてみて所定の値を決定すれば差し支えない。

再び主に図２及び図３に戻ると、演算濃度が所定の値未満か否かを判断する工程（Ｓ１３）において、所定の値未満の場合は、加熱部３１における加熱を停止する工程（Ｓ５）に進む。他方、所定の値未満でない場合、制御装置６０は、低加熱運転を開始してから所定の時間が経過したか否かを判断する（Ｓ１４）。所定の時間は、加熱部３１による発熱に関するエネルギー消費量を考慮しつつ、演算濃度が所定の値未満になることを待つのを許容できる時間であり、例えば１０分〜１５分程度としてもよい。所定の時間が経過したか否かを判断する工程（Ｓ１４）において、所定の時間が経過していない場合は、演算濃度を算出する工程（Ｓ１２）に戻る。

所定の時間が経過したか否かを判断する工程（Ｓ１４）において、所定の時間が経過した場合、制御装置６０は、加熱部３１における加熱を停止する（Ｓ１５）。次に、制御装置６０は、冷媒未混入停止回数Ｎが所定の回数以上か否かを判断する（Ｓ１６）。この工程（Ｓ１６）は、前述の工程（Ｓ６）と同じ内容であるが、その後の工程が前述の工程（Ｓ６）と異なるので、独立した工程として規定している。冷媒未混入停止回数Ｎが所定の回数以上か否かを判断する工程（Ｓ１６）において、所定の回数以上の場合、制御装置６０は、冷媒未混入停止回数Ｎを０にして（Ｓ１８）、冷媒移送を伴う希釈運転を行い（Ｓ１９）、吸収冷凍機１を停止する（Ｓ２９）。なお、前述の冷媒未混入停止回数Ｎが所定の回数以上か否かを判断する工程（Ｓ６）において所定の回数以上の場合も、冷媒未混入停止回数Ｎを０にする工程（Ｓ１８）に進み、以降、上述のフローに従う。

冷媒未混入停止回数Ｎが所定の回数以上か否かを判断する工程（Ｓ１６）において、所定の回数以上でない（所定の回数未満である）場合、制御装置６０は、希釈運転を行う（Ｓ２１）。この希釈運転（Ｓ２１）は、溶液攪拌及び冷媒移送のいずれか一方又は両方を行う。加熱部３１への入熱を停止した状態で溶液攪拌を行うことにより、濃溶液Ｓａと希溶液Ｓｗとの濃度差が小さくなり、濃溶液Ｓａの濃度が低下して、吸収液Ｓが結晶することを回避することができる。冷媒移送を行うことにより、濃溶液管３８内の濃溶液Ｓａが冷媒液Ｖｆで薄められて濃度が低下し、吸収液Ｓが結晶することを回避することができる。また、冷媒移送を行うことにより、上述のように、冷媒Ｖの系統を浄化することができる。

希釈運転（Ｓ２１）を行ったら、制御装置６０は、冷媒移送を実施したか否か（吸収液Ｓへの冷媒液Ｖｆの混入があったか否か）を判断する（Ｓ２３）。冷媒移送を実施したか否かは、冷媒液混入弁７２を所定時間開にしたか否かで判断することができる。冷媒移送を実施していない場合は、その時点での冷媒未混入停止回数Ｎに１を加算する（Ｓ２７）。冷媒移送を実施した場合は、冷媒未混入停止回数Ｎを０にする（Ｓ２８）。冷媒未混入停止回数Ｎに１を加算したら（Ｓ２７）、又は冷媒未混入停止回数Ｎを０にしたら（Ｓ２８）、制御装置６０は、吸収冷凍機１を停止する工程（Ｓ２９）に進む。

引き続き、吸収冷凍機１が待機停止（Ｓ９）又は停止（Ｓ２９）している状態から、吸収冷凍機１を再起動する手順を説明する。なお、前述のように、待機停止（Ｓ９）は希釈運転を行わずに吸収冷凍機１が停止している状態であり、停止（２９）は希釈運転を行ってから吸収冷凍機１が停止している状態である。待機停止（Ｓ９）している状態において、制御装置６０は、再起動指令があったか否かを判断する（Ｓ３１）。再起動指令がない場合は、再起動指令があったか否かを判断する工程（Ｓ３１）に戻る。他方、再起動指令があった場合、制御装置６０は、吸収冷凍機１の再起動を行う（Ｓ３２）。吸収冷凍機１の再起動は、冷媒液混入弁７２が閉じていることを確認した後、溶液ポンプ１９、冷媒ポンプ２９、冷却水ポンプ９１、冷水ポンプ９２を起動し、加熱部３１に熱を投入することで行う。ここでの再起動（Ｓ３２）は、吸収冷凍機１が希釈運転せずに待機停止していたものであるから、吸収冷凍機１中では濃溶液Ｓａと希溶液Ｓｗとの間に所定の濃度差がついている。所定の濃度差は、所望の温度の冷水Ｃを製造可能な吸収液Ｓと冷媒Ｖとの吸収冷凍サイクルを形成できる濃度差である。再起動（Ｓ３２）を行う際に濃溶液Ｓａと希溶液Ｓｗとの間に所定の濃度差がついていると、再起動（Ｓ３２）の後、濃溶液Ｓａと希溶液Ｓｗとの間に所定の濃度差をつける起動運転を行わずに定常運転に移行することができ、再起動の開始から定常運転に至るまでに要する時間を大幅に短縮することができるのみならず、起動運転時に必要となるエネルギー消費量を削減することができる。

他方、吸収冷凍機１が希釈運転を行った後に停止（Ｓ２９）している状態において、制御装置６０は、再起動指令があったか否かを判断する（Ｓ３３）。再起動指令がない場合は、再び再起動指令があったか否かを判断する工程（Ｓ３３）に戻る。再起動指令があった場合、制御装置６０は、吸収冷凍機１の再起動を行う（Ｓ３５）。ここでの再起動は、上述の再起動工程（Ｓ３２）と同様、冷媒液混入弁７２が閉じていることを確認した後、溶液ポンプ１９、冷媒ポンプ２９、冷却水ポンプ９１、冷水ポンプ９２を起動し、加熱部３１に熱を投入することで行う。このとき、吸収冷凍機１は、吸収液Ｓの希釈が行われて停止していたため、吸収液Ｓの濃度分布が吸収冷凍機１の所望の能力を発揮できる状態ではないので、濃溶液Ｓａと希溶液Ｓｗとの間に所定の濃度差をつける起動運転を行う（Ｓ３７）。起動運転中は、冷水ポンプ９２の起動によって冷水Ｃが流動しているが、冷水Ｃが所望の温度に冷却されないため、冷水Ｃは空気調和機等の負荷には供給されない。起動運転を行うと、次第に濃溶液Ｓａと希溶液Ｓｗとの間に濃度差がついてきて、やがて定常運転状態（所望の冷凍能力を発揮できる運転状態）に到達する。吸収冷凍機１の再起動を開始してから定常運転の状態に至るまでには相当の時間を要する。

ところで、吸収冷凍機１を設置場所に設置した直後、あるいは、メンテナンス等のために吸収冷凍機１から吸収液Ｓ及び冷媒Ｖを抜いたときは、吸収冷凍機１内に吸収液Ｓ及び冷媒Ｖが入っていない場合がある。この場合、吸収冷凍機１を作動させる前に、吸収冷凍機１内に吸収液Ｓ及び冷媒Ｖを注入することとなる。このとき、吸収冷凍機１の内部構成部材の表面に被膜を形成するため、適量のモリブデンを吸収液Ｓに混入させるとよい。モリブデンは、吸収液Ｓの濃度が低い方が吸収液Ｓ中への溶解が促進する。そのため、吸収冷凍機１に吸収液Ｓ及び冷媒Ｖを注入してから所定の運転時間が経過するまで又は所定の運転回数が経過するまで（以下、両者を併せて「所定の条件が充足するまで」という。）は、吸収冷凍機１を停止する指令があった際、希釈不要上限濃度以下か否かや演算濃度が所定の値未満か否かにかかわらず、溶液攪拌及び冷媒移送の両方を伴う希釈運転を行うとよい。なお、運転回数とは、吸収液Ｓ及び冷媒Ｖの吸収サイクルが停止した状態から吸収サイクルが作動した回数である。所定の条件が充足するまで溶液攪拌及び冷媒移送の両方を伴う希釈運転を行う場合は、図６に示すように、図２及び図３のフローチャートにおいて、停止指令があったか否かを判断する工程（Ｓ１）において停止指令があった後、所定の条件が充足したか否かを判断し（Ｓ２）、所定の条件が充足していない場合は希釈運転を行う工程（Ｓ２１）に進み、所定の条件が充足している場合は吸収液Ｓの濃度が希釈不要上限濃度以下か否かを判断する工程（Ｓ３）に進むようにするとよい。

以上で説明した吸収冷凍機１のフロー（停止時の手順）は、典型的には、制御装置６０にインストールされた制御プログラムによって実行される。したがって、フローにおける設定値の変更、工程の一部の追加又は省略、アップデート等を容易に行うことができると共に、制御プログラムの提供（配布）を有線又は無線のネットワークを介して簡便に行うことができる。

以上で説明したように、本実施の形態に係る吸収冷凍機１によれば、停止指令を受けた際に、吸収液Ｓの濃度が希釈不要上限濃度以下の場合、あるいは吸収液Ｓの濃度が希釈不要上限濃度以下でない場合であっても低加熱運転を行っているときに演算濃度が所定の値未満となった場合に、冷媒未混入停止回数Ｎが所定の回数以上でなければ、直ちに吸収液Ｓの希釈を行うことはせずに、待機停止とし、その後に再起動の指令を受けた場合に、起動運転を行わずに定常運転に移行することができるので、吸収液Ｓの希釈及び起動運転に要するエネルギーを削減することができると共に、再起動から定常運転に至るまでの時間を短縮することができる。また、演算濃度は少なくとも低加熱運転を行っているときに算出されるので、吸収液Ｓの濃度を適切に把握することができる。

以上の説明では、再生器圧力相関値検出部が、再生器３０内の圧力と相関を有する物理量である再生器３０内の冷媒Ｖの露点温度を検出する冷媒温度計５２であるとしたが、再生器３０内の圧力を検知する圧力計等であってもよい。また、演算濃度が、濃溶液温度計５１で検出された温度及び冷媒温度計５２で検出された温度から演算されるものとしたが、再生器３０内の圧力を検出すると共に再生器３０内の吸収液Ｓの温度を検出して、これらの検出した圧力及び温度から濃度を演算してもよい。

以上の説明では、吸収液濃度関連値は、演算濃度が兼ねることとしたが、例えば再生器３０の出口の濃溶液Ｓａの濃度を検出する濃溶液濃度計を濃溶液管３８に設けて濃溶液濃度計で検出された吸収液Ｓの濃度としてもよく、あるいは、吸収液Ｓの濃度に関連する物理量（再生器３０の出口の吸収液Ｓの温度・密度、再生器３０の内部の圧力・露点温度等）、希溶液Ｓｗの濃度、冷媒Ｖのレベル、吸収器１０における吸収液Ｓのレベル、吸収冷凍機１の冷凍負荷率、冷却水Ｄの温度、溶液ポンプ１９や冷媒ポンプ２９等のインバータ周波数、加熱部３１における加熱量（加熱量調節弁の開度を含む）等のうちの単体、あるいはこれらのうちの複数の組み合わせとしてもよい。しかしながら、装置構成のコストを低減する観点から、濃溶液濃度計の使用を回避することが好ましい。

以上の説明では、周囲環境温度関連値が再生器３０の近傍の大気温度であるとしたが、この他、吸収冷凍機１の最外部の筐体の温度等、周囲環境温度に関連する物理量であってもよい。

以上の説明では、希釈不要上限濃度及び所定の値が周囲環境温度に応じて可変であるとしたが、希釈不要上限濃度及び所定の値のいずれか一方又は両方が周囲環境温度にかかわらず（安全を見て低めに設定した）決められた値としてもよい。このようにすると、制御を簡素化できる。

以上の説明では、冷媒未混入停止回数Ｎが所定の回数以上か否か（Ｓ６、Ｓ１６）によって、冷媒移送を伴う希釈を行うか否かを決定することとしたが、冷媒未混入停止回数Ｎが所定の回数以上か否かに代えて、凝縮器４０及び／又は蒸発器２０に貯留された冷媒液Ｖｆへの吸収液Ｓの混入があったか否かを判断することとしてもよい。この場合、図２において冷媒未混入停止回数Ｎに関する工程（Ｓ７、Ｓ１８、Ｓ２３、Ｓ２７、Ｓ２８）を省略することができ、冷媒液Ｖｆへの吸収液Ｓの混入があった場合は冷媒移送を伴う希釈運転を行う工程（Ｓ１９）に進み、工程（Ｓ６）の代替で冷媒液Ｖｆへの吸収液Ｓの混入がなかった場合は吸収冷凍機１を待機停止する工程（Ｓ９）に、工程（Ｓ１６）の代替で冷媒液Ｖｆへの吸収液Ｓの混入がなかった場合は希釈運転を行う工程（Ｓ２１）に、それぞれ進むことになる。なお、冷媒液Ｖｆへの吸収液Ｓの混入があったか否かは、濃度計や露点温度計等を用いて検出することができる。

以上の説明では、冷却水Ｄが、吸収器１１に導入された後に凝縮器４０に導入される構成を例示したが、凝縮器４０に導入された後に吸収器１１に導入される構成であってもよく、吸収器１０と凝縮器４０とに並列に導入される構成であってもよい。

以上の説明では、冷却水ポンプ９１及び冷水ポンプ９２が吸収冷凍機１の構成要素ではないものとしたが、冷却水ポンプ９１及び／又は冷水ポンプ９２を吸収冷凍機１の構成要素として備えることとしてもよい。しかしながら、冷却水ポンプ９１が流動させる冷却水Ｄ、及び冷水ポンプ９２が流動させる冷水Ｃは、吸収冷凍機１が設置される場所等の条件によって供給先までの搬送距離や流量等が異なるのが一般的なため、冷却水ポンプ９１及び冷水ポンプ９２を吸収冷凍機１の構成要素とはせず、吸収冷凍機１の設置場所等に適した能力のものを選定できるようにするのが好ましい。

以上の説明では、理解の容易のために、吸収冷凍機１が単効用の構成であるとしたが、複数の再生器を有する多重効用の吸収冷凍機、あるいは、動作圧力の異なる複数の蒸発器／吸収器を有する吸収冷凍機にも適用することができる。

以上の説明では、吸収式冷凍機が吸収冷凍機であるとして説明したが、吸収冷温水機、吸収ヒートポンプ等、吸収液Ｓと冷媒Ｖとの吸収サイクルが行われる他の吸収式熱源機であってもよい。

１ 吸収冷凍機
１０ 吸収器
１８ 希溶液管
１９ 溶液ポンプ
３０ 再生器
３１ 加熱部
３８ 濃溶液管
５１ 濃溶液温度計
５２ 冷媒温度計
５５ 周囲温度計
６０ 制御装置
７０ 冷媒液混入可能部
Ｃ 冷水
Ｓ 吸収液
Ｓｗ 希溶液
Ｖ 冷媒
Ｖｆ 冷媒液
Ｖｇ 再生器冷媒蒸気

Claims (9)

1. 加熱源が供給されることによって構成される吸収液と冷媒との吸収サイクルにより温度調節対象流体の冷却又は加熱を行う吸収式冷凍機であって；
   前記冷媒を吸収した前記吸収液を前記加熱源で加熱し、前記吸収液から前記冷媒を離脱させて前記吸収液の濃度を上昇させる再生器と；
   前記再生器の圧力又は前記再生器の圧力と相関を有する物理量を検出する再生器圧力相関値検出部と；
   前記吸収式冷凍機の内部で前記吸収液が循環するように前記吸収液を流動させる溶液ポンプと；
   前記吸収液が循環し得る系統に前記冷媒の液を混入させる状態と混入させない状態とを切り替え可能な冷媒液混入可能部と；
   前記吸収式冷凍機を停止する際に、前記吸収液が循環し得る系統に前記冷媒の液を混入させない状態で、前記溶液ポンプの運転を継続させつつ前記再生器に投入される熱量を所定の熱量に減少させた低加熱運転を行い、前記低加熱運転中に前記再生器圧力相関値検出部で検出された値に基づいて演算された前記吸収液の濃度である演算濃度が所定の値未満のときに前記吸収式冷凍機への前記加熱源の供給を停止するように、前記加熱源の供給機構、前記溶液ポンプ及び前記冷媒液混入可能部を制御する制御装置とを備える；
   吸収式冷凍機。
2. 前記制御装置は、前記低加熱運転を開始してから所定の時間が経過しても前記演算濃度が前記所定の値未満とならないときに、前記吸収式冷凍機への前記加熱源の供給を停止すると共に、前記溶液ポンプの作動による前記吸収液が循環し得る系統における前記吸収液の濃度の均一化及び前記冷媒液混入可能部による前記吸収液が循環し得る系統への前記冷媒の液の混入の少なくとも一方を行うことにより前記吸収液を希釈する希釈運転を行うように前記加熱源の供給機構、前記溶液ポンプ及び前記冷媒液混入可能部を制御する；
   請求項１に記載の吸収式冷凍機。
3. 前記吸収式冷凍機の周囲の環境の温度に関連する周囲環境温度関連値を把握する周囲環境温度関連値把握部を備え；
   前記所定の値は、前記周囲環境温度関連値に応じて変化するように設定された；
   請求項１又は請求項２に記載の吸収式冷凍機。
4. 前記吸収液の濃度に関連する吸収液濃度関連値を把握する吸収液濃度関連値把握部を備え；
   前記制御装置は、前記吸収式冷凍機を停止する際に、前記吸収液濃度関連値把握部で把握された前記吸収液濃度関連値が前記吸収液の希釈が不要な濃度の上限である希釈不要上限濃度以下のときに、前記低加熱運転を行わずかつ前記吸収液を希釈する希釈運転を行わずに前記吸収式冷凍機を停止する；
   請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の吸収式冷凍機。
5. 前記吸収式冷凍機の周囲の環境の温度に関連する周囲環境温度関連値を把握する周囲環境温度関連値把握部を備え；
   前記希釈不要上限濃度が前記周囲環境温度関連値に応じて変化するように設定された；
   請求項４に記載の吸収式冷凍機。
6. 前記制御装置は、前記冷媒液混入可能部による前記吸収液が循環し得る系統への前記冷媒の液の混入を伴わない前記吸収サイクルの停止回数が所定の回数に到達したとき、又は前記冷媒の液が貯留される部分における前記冷媒への前記吸収液の混入を検出したときに、前記演算濃度の値にかかわらず、前記吸収液が循環し得る系統に前記冷媒の液を混入させるように前記冷媒液混入可能部を制御する；
   請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の吸収式冷凍機。
7. 前記制御装置は、前記吸収式冷凍機に前記吸収液及び前記冷媒を注入してから所定の運転時間又は所定の運転回数が経過するまでは、前記吸収式冷凍機を停止する際に、前記演算濃度の値にかかわらず、前記溶液ポンプの作動による前記吸収液が循環し得る系統における前記吸収液の濃度の均一化及び前記冷媒液混入可能部による前記吸収液が循環し得る系統への前記冷媒の液の混入の両方を伴う希釈運転を行うように前記溶液ポンプ及び前記冷媒液混入可能部を制御する；
   請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の吸収式冷凍機。
8. 加熱源が供給されることによって構成される吸収液と冷媒との吸収サイクルにより温度調節対象流体の冷却又は加熱を行う吸収式冷凍機を制御するプログラムであって；
   前記吸収式冷凍機を構成する再生器の圧力又は前記再生器の圧力と相関を有する物理量に基づいて前記吸収液の濃度を演算する吸収液濃度演算工程と；
   前記吸収式冷凍機を停止する際に、前記再生器に投入される熱量を所定の熱量に減少させた低加熱運転を行う低加熱運転工程と；
   前記低加熱運転中に前記吸収液濃度演算工程で算出された演算濃度が所定の値未満のときに前記吸収式冷凍機への前記加熱源の供給を停止する加熱源供給停止工程とを備える；
   制御プログラム。
9. 加熱源が供給されることによって構成される吸収液と冷媒との吸収サイクルにより温度調節対象流体の冷却又は加熱を行う吸収式冷凍機を制御する方法であって；
   前記吸収式冷凍機を構成する再生器の圧力又は前記再生器の圧力と相関を有する物理量に基づいて前記吸収液の濃度を演算する吸収液濃度演算工程と；
   前記吸収式冷凍機を停止する際に、前記再生器に投入される熱量を所定の熱量に減少させた低加熱運転を行う低加熱運転工程と；
   前記低加熱運転中に前記吸収液濃度演算工程で算出された演算濃度が所定の値未満のときに前記吸収式冷凍機への前記加熱源の供給を停止する加熱源供給停止工程とを備える；
   吸収式冷凍機の制御方法。

Images