JP2018137262A - Mounting device and mounting method - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mounting device and a mounting method which inhibit a difference in mounting quality due to a position of a substrate when semiconductor chips which are laminated in a temporarily compressed state on a plurality of parts of a substrate are mounted by thermocompression bonding.SOLUTION: A mounting device comprises: a bonding head having a function of heating and pressing a region including one or more semiconductor chips as a pressure application region; a backup stage having a function of supporting and heating the substrate in the pressure application region from the opposite surface; and substrate holding means which has a holding part for holding a circumferential part of the substrate and has a function of adjusting a position of the substrate. The mounting device further has a function of adjusting a preset temperature of the backup stage at the time of thermocompression bonding when performing thermocompression bonding of the semiconductor chip arranged between the bonding head and the backup stage, depending on a position of the thermocompression bonding target semiconductor chip in the substrate plane and a position where the holding part holds the substrate.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、実装装置および実装方法に関する。詳しくは、基板上に積層された半導体チップを熱圧着して実装する実装装置および実装方法に関する。   The present invention relates to a mounting apparatus and a mounting method. Specifically, the present invention relates to a mounting apparatus and a mounting method for mounting a semiconductor chip stacked on a substrate by thermocompression bonding.

半導体実装分野において、半導体チップを熱硬化性接着剤を介して基板上に仮圧着してしてから、熱圧着(本圧着)を行なう、所謂仮本分割プロセスがある。   In the field of semiconductor mounting, there is a so-called temporary splitting process in which a semiconductor chip is temporarily press-bonded onto a substrate via a thermosetting adhesive and then thermocompression bonding (main pressing) is performed.

仮本分割プロセスでは、図9(a)に示すような、バンプBが形成された面に熱硬化性接着剤Rの層を(バンプB高さより厚く)設けた半導体チップCを用いる。半導体チップCは、まず、図9(b)のように基板Wの電極EとバンプBが対向した状態で熱硬化性接着剤Rの硬化開始温度以下に加熱して仮圧着して仮固定する。次に、基板W上に仮圧着された半導体チップCを、バンプBを溶融しつつ熱硬化性接着剤Rが硬化する温度で熱圧着して、溶融したバンプBと電極Eが接続した状態で熱硬化性接着剤Rが硬化される。その後、加熱圧着を止めて冷却すれば、図9(c)のように半導体チップCのバンプBと基板Wの電極Eが接続された状態で、接続部周辺は硬化した熱硬化性接着剤Rにより機械的に固定され、半導体チップCは基板Wに実装される。   In the temporary book splitting process, a semiconductor chip C having a layer of a thermosetting adhesive R (thicker than the height of the bump B) provided on the surface on which the bump B is formed as shown in FIG. First, as shown in FIG. 9B, the semiconductor chip C is temporarily fixed by being temporarily pressed by heating below the curing start temperature of the thermosetting adhesive R with the electrodes E and the bumps B of the substrate W facing each other. . Next, the semiconductor chip C temporarily bonded onto the substrate W is thermocompression bonded at a temperature at which the thermosetting adhesive R is cured while the bump B is melted, and the melted bump B and the electrode E are connected. The thermosetting adhesive R is cured. Thereafter, if the thermocompression bonding is stopped and cooling is performed, the periphery of the connection portion is cured in the state where the bump B of the semiconductor chip C and the electrode E of the substrate W are connected as shown in FIG. The semiconductor chip C is mounted on the substrate W.

ところで、半導体チップCが貫通電極を有し、図10に示すようにバンプBが形成された面の反対面に電極Eが設けられたものであれば、三次元実装の効率化が図れる。   By the way, if the semiconductor chip C has a through electrode and the electrode E is provided on the surface opposite to the surface on which the bump B is formed as shown in FIG. 10, the efficiency of the three-dimensional mounting can be improved.

すなわち、半導体チップCを仮圧着状態で多段に積層してから熱圧着を行うことが出来る。その一例を図11および図12を用いて説明する。図11(a)において、演算処理チップCpおよびメモリーチップCmはいずれも半導体チップであり、バンプ面側に未硬化の熱硬化性接着剤Rを設けている。この、演算処理チップCpおよびメモリーチップCmを仮圧着状態で積層した積層体は、仮圧着積層半導体Luとして基板W上に仮固定されている。この状態から、ステージ204上でボンディングヘッド7により熱圧着することにより(図12(a)から図12(b))、対向する電極EとバンプBが接合されるとともに熱硬化性接着剤Rが硬化して、基板W上に三次元実装半導体Lcが形成される(図11(b))。このように、1回の熱圧着により、多段積層した仮圧着状態の半導体チップを一括で熱圧着して実装することが出来るので、半導体チップを一段一段熱圧着して実装するのに比べ、時間短縮および使用エネルギーの低減が図れ、生産効率が向上する。   That is, the thermocompression bonding can be performed after the semiconductor chips C are stacked in multiple stages in a temporary pressure bonding state. An example of this will be described with reference to FIGS. In FIG. 11A, the arithmetic processing chip Cp and the memory chip Cm are both semiconductor chips, and an uncured thermosetting adhesive R is provided on the bump surface side. The stacked body in which the arithmetic processing chip Cp and the memory chip Cm are stacked in a temporarily press-bonded state is temporarily fixed on the substrate W as the temporarily pressed stacked semiconductor Lu. From this state, by thermocompression bonding with the bonding head 7 on the stage 204 (FIGS. 12A to 12B), the opposing electrode E and the bump B are bonded and the thermosetting adhesive R is bonded. Curing is performed to form the three-dimensional mounting semiconductor Lc on the substrate W (FIG. 11B). As described above, a single-stage thermocompression bonding allows the semiconductor chips in a multi-layered pre-crimped state to be mounted together by thermocompression bonding. Shortening and reduction of energy consumption can be achieved and production efficiency is improved.

ところで、上記方法で三次元実装を行なう場合において、通常は図13(a)に示した半導体ウェハのような基板Wの複数位置に、図13(b)にA−A断面図を示すように仮圧着積層半導体Luを仮固定した状態として、各仮圧着積層半導体Luを順次熱圧着する。そこで、熱圧着を行なう装置が、図14(a)に示す実装装置100のように、基板W全面を支持するステージ104を備えている場合、熱圧着を行なう際の断面図は図14(b)のようになる。ところで、仮圧着積層半導体Luを熱圧着する場合、ボンディングヘッド7による加熱だけだと、ボンディングヘッド7に近い半導体チップと、ボンディングヘッド7から離れた(ステージ104に近い)半導体チップに温度差が生じるため、積層下段から上段で接合状態および熱硬化性樹脂Rの硬化状態に差が出てしまい、実装品質にとって好ましくない。そこで、ステージ104側からも仮圧着積層半導体Lu(および基板W)を加熱することが考えられるが、基板W全面を支持するステージ104を加熱すると、熱圧着を行なう前の仮圧着積層半導体Luの熱硬化性接着剤Rを硬化開始温度以上に加熱する可能性がある。   By the way, in the case where three-dimensional mounting is performed by the above method, as shown in FIG. 13B, a cross-sectional view taken along the line AA is usually provided at a plurality of positions of the substrate W such as the semiconductor wafer shown in FIG. Each temporary press-bonded laminated semiconductor Lu is thermocompression bonded in a state where the temporary press-bonded stacked semiconductor Lu is temporarily fixed. Therefore, when the thermocompression bonding apparatus includes a stage 104 that supports the entire surface of the substrate W as in the mounting apparatus 100 shown in FIG. 14A, a cross-sectional view when performing thermocompression bonding is shown in FIG. )become that way. By the way, in the case of thermocompression bonding of the temporary press-bonded laminated semiconductor Lu, a temperature difference is generated between the semiconductor chip close to the bonding head 7 and the semiconductor chip separated from the bonding head 7 (close to the stage 104) only by heating by the bonding head 7. For this reason, there is a difference between the bonded state and the cured state of the thermosetting resin R from the lower layer to the upper layer, which is not preferable for the mounting quality. Therefore, it is conceivable to heat the pre-bonded laminated semiconductor Lu (and the substrate W) also from the stage 104 side. However, when the stage 104 supporting the entire surface of the substrate W is heated, the pre-bonded laminated semiconductor Lu before thermocompression bonding is considered. There is a possibility that the thermosetting adhesive R is heated to the curing start temperature or higher.

このため、図15(a)の実装装置1として例示するような、ボンディングヘッド7が熱圧着する仮圧着積層半導体Luのみを支持および加熱するバックアップステージ4(図15(b)を備えた実装装置が出現している(例えば特許文献1)。このような実装装置では、バックアップステージ4はボンディングヘッド7に対向する位置に固定し、基板Wの周縁部を保持部80で把持して移動させる機能を有した基板保持手段8により、基板Wを移動させることで熱圧着対象の仮圧着積層半導体Luを変更する構成となっている。   For this reason, as illustrated as the mounting apparatus 1 in FIG. 15A, the mounting apparatus including the backup stage 4 (FIG. 15B) that supports and heats only the temporary press-bonded laminated semiconductor Lu to which the bonding head 7 is thermocompression bonded. In such a mounting apparatus, the backup stage 4 is fixed at a position facing the bonding head 7, and the peripheral portion of the substrate W is held and moved by the holding unit 80. The temporary holding laminated semiconductor Lu to be subjected to thermocompression bonding is changed by moving the substrate W by the substrate holding means 8 having the above.

特開2015−19250号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2015-19250

図15(a)に示すような実装装置1を用いて、基板W面上に仮固定された仮圧着積層半導体Luを熱圧着するのに際して、ボンディングヘッド7の加熱温度と加圧力の設定およびバックアップステージ4の加熱温度の設定が同じであるにも係らず、熱圧着後の三次元実装半導体Lcの実装品質に差が生じることがある。例えば、図16に示す基板Wの中心付近Cの三次元実装半導体Lc(C)と、基板外周部付近E1の三次元実装半導体Lc(E1)で実装品質に差が生じることがある。更に、基板外周部E1と基板外周部E2は基板Wの中心部Cからの位置関係は等しいにも係らず、三次元実装半導体Lc(E1)と三次元実装半導体Lc(E2)にも実装品質差が生じることがある。   When the temporary press-bonded laminated semiconductor Lu temporarily fixed on the substrate W surface is thermocompression-bonded using the mounting apparatus 1 as shown in FIG. Although the setting of the heating temperature of the stage 4 is the same, a difference may occur in the mounting quality of the three-dimensional mounting semiconductor Lc after thermocompression bonding. For example, there may be a difference in mounting quality between the three-dimensional mounting semiconductor Lc (C) near the center C of the substrate W shown in FIG. 16 and the three-dimensional mounting semiconductor Lc (E1) near the outer periphery of the substrate E1. Further, the substrate outer peripheral portion E1 and the substrate outer peripheral portion E2 are mounted on the three-dimensional mounting semiconductor Lc (E1) and the three-dimensional mounting semiconductor Lc (E2) even though the positional relationship from the central portion C of the substrate W is equal. Differences can occur.

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、基板上の複数個所に仮圧着状態で積層された半導体チップを熱圧着して実装するのに際して、基板の位置による実装品質差を抑制する実装装置および実装方法を提供するものである。   The present invention has been made in view of the above-described problem, and mounting that suppresses a difference in mounting quality depending on the position of the substrate when mounting the semiconductor chips laminated in a plurality of places on the substrate in a temporarily pressed state by thermocompression bonding. An apparatus and a mounting method are provided.

上記の課題を解決するために、請求項1に記載の発明は、
基板上の複数位置に仮圧着された半導体チップを熱圧着する実装装置であって、
1個以上の半導体チップを含む領域を加圧領域として加熱して押圧する機能を有するボンディングヘッドと、前記加圧領域において、前記基板を反対面から支持するとともに加熱する機能を有するバックアップステージと、
前記基板の周縁部を把持する保持部を有し、前記基板の位置を調整する機能を有する基板保持手段とを備え、
前記ボンディングヘッドと前記バックアップステージの間に配置される半導体チップを熱圧着するのに際して、熱圧着対象の半導体チップの前記基板面内における位置、および前記保持部が前記基板を把持する位置に応じて、熱圧着時の前記バックアップステージの設定温度を調整する機能を有する実装装置である。
In order to solve the above problems, the invention described in claim 1
A mounting device for thermocompression bonding of semiconductor chips temporarily bonded to a plurality of positions on a substrate,
A bonding head having a function of heating and pressing an area including one or more semiconductor chips as a pressure area, and a backup stage having a function of supporting and heating the substrate from the opposite surface in the pressure area;
A holding unit for holding a peripheral portion of the substrate, and a substrate holding unit having a function of adjusting the position of the substrate,
When the semiconductor chip disposed between the bonding head and the backup stage is subjected to thermocompression bonding, the position of the semiconductor chip to be thermocompression bonded in the substrate surface and the position where the holding unit grips the substrate The mounting apparatus has a function of adjusting the set temperature of the backup stage during thermocompression bonding.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の実装装置であって、
前記バックアップステージにパルスヒート可能なヒータが内蔵されている実装装置である。
Invention of Claim 2 is the mounting apparatus of Claim 1, Comprising:
It is a mounting apparatus in which a heater capable of pulse heating is built in the backup stage.

請求項3に記載の発明は、
基板上の複数位置に仮圧着された半導体チップを熱圧着する実装方法であって、
1個以上の半導体チップを含む領域を加圧領域として加熱して押圧するボンディングヘッドと、前記加圧領域において、前記基板を反対面から支持するとともに加熱するバックアップステージと、前記基板周縁部を把持する保持部を有し、前記基板の位置を調整する機能を有する基板保持手段とを用い、
前記ボンディングヘッドと前記バックアップステージの間に配置される半導体チップを熱圧着するのに際して、熱圧着対象の半導体チップの前記基板面内における位置、および前記保持部が前記基板を把持する位置に応じて、熱圧着時の前記バックアップステージの設定温度を調整する実装方法である。
The invention according to claim 3
A mounting method for thermocompression bonding a semiconductor chip temporarily bonded to a plurality of positions on a substrate,
A bonding head that heats and presses an area including one or more semiconductor chips as a pressurizing area, a backup stage that supports and heats the substrate from the opposite surface in the pressurizing area, and grips the peripheral edge of the substrate Using a substrate holding means having a function of adjusting the position of the substrate,
When the semiconductor chip disposed between the bonding head and the backup stage is subjected to thermocompression bonding, the position of the semiconductor chip to be thermocompression bonded in the substrate surface and the position where the holding unit grips the substrate This is a mounting method for adjusting the set temperature of the backup stage during thermocompression bonding.

請求項4に記載の発明は、請求項3に記載の実装方法であって、
前記基板に仮圧着された半導体チップは、2段以上の積層状態で仮圧着されているものであることを特徴とする実装方法である。
Invention of Claim 4 is the mounting method of Claim 3, Comprising:
The mounting method is characterized in that the semiconductor chip temporarily bonded to the substrate is temporarily bonded in a stacked state of two or more stages.

請求項5に記載の発明は、請求項3または請求項4に記載の実装方法であって、
前記基板上の半導体チップは、未硬化の熱硬化性接着フィルムを介して仮圧着されているものであることを特徴とする実装方法である。
Invention of Claim 5 is the mounting method of Claim 3 or Claim 4, Comprising:
The mounting method is characterized in that the semiconductor chip on the substrate is temporarily press-bonded via an uncured thermosetting adhesive film.

本発明により、基板上の複数位置に仮圧着状態で積層された半導体チップを熱圧着して実装するのに際して、基板の位置による実装品質差が生じることを抑制できる。   According to the present invention, it is possible to suppress a difference in mounting quality due to the position of the substrate when the semiconductor chips stacked in a temporarily pressed state are mounted by thermocompression bonding at a plurality of positions on the substrate.

本発明の実施形態に係る実装装置の制御構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the control structure of the mounting apparatus which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る基板内の位置情報を説明する図である。It is a figure explaining the positional information in the board | substrate which concerns on embodiment of this invention. (a)基板内の中心部からの放熱について説明する図である(b)基板内の周辺からの放熱について説明する図である。(A) It is a figure explaining the heat radiation from the center part in a board | substrate, (b) It is a figure explaining the heat radiation from the periphery in a board | substrate. (a)基板内の周辺からの放熱で保持部から離れている例を説明する図である(b)基板内の周辺からの放熱で保持部から近い例を説明する図である。(A) It is a figure explaining the example which is separated from the holding part by the heat radiation from the periphery in a board | substrate, (b) It is a figure explaining the example close | similar to a holding part by the heat radiation from the periphery in a board | substrate. (a)本発明の実施形態に係る基板内の位置情報に加えて保持部の位置を考慮する例を説明する図である(b)同基板内の位置情報で保持部の位置が異なる例を説明する図である。(A) It is a figure explaining the example which considers the position of a holding part in addition to the positional information in the board | substrate which concerns on embodiment of this invention. (B) The example from which the position of a holding part differs with the positional information in the board | substrate. It is a figure explaining. (a)本発明の実施形態に係る実装装置の動作を説明する図であり、熱圧着開始状態を示す図である(b)同動作を説明する図であり、熱圧着終了後を示す図である(c)同動作を説明する図であり、基板移動準備段階を示す図である。(A) It is a figure explaining operation | movement of the mounting apparatus which concerns on embodiment of this invention, It is a figure which shows a thermocompression-bonding start state, (b) It is a figure explaining the operation | movement, and is a figure which shows after completion | finish of thermocompression-bonding. (C) It is a figure explaining the same operation | movement, and is a figure which shows a board | substrate movement preparation stage. (d)本発明の実施形態に係る実装装置の動作を説明する図であり、基板移動後の状態を示す図である(e)同動作を説明する図であり、基板移動後の熱圧着準備段階を示す図である(f)同動作を説明する図であり、基板移動後の熱圧着開始状態を示す図である。(D) It is a figure explaining operation | movement of the mounting apparatus which concerns on embodiment of this invention, and is a figure which shows the state after board | substrate movement. (E) It is a figure explaining the operation | movement, and thermocompression-bonding preparation after board movement. (F) It is a figure which shows a step, It is a figure explaining the operation | movement, and is a figure which shows the thermocompression-bonding start state after a board | substrate movement. 本発明の別の実施形態に係る基板内の位置情報を説明する図である。It is a figure explaining the positional information in the board | substrate which concerns on another embodiment of this invention. (a)バンプ面側に熱硬化性接着剤を設けた半導体チップを説明する図である(b)同半導体チップを基板上に仮圧着した状態を説明する図である(c)同半導体チップを基板上に熱圧着して実装した状態を説明する図である。(A) It is a figure explaining the semiconductor chip which provided the thermosetting adhesive in the bump surface side. (B) It is a figure explaining the state which pressure-bonded the semiconductor chip on the board | substrate (c) The semiconductor chip. It is a figure explaining the state mounted by thermocompression bonding on the board | substrate. 貫通電極を有し、バンプ面側に熱硬化性接着剤を設けた半導体チップを説明する図である。It is a figure explaining the semiconductor chip which has a penetration electrode and provided the thermosetting adhesive in the bump side. (a)仮圧着積層半導体を説明する図である(b)三次元実装半導体を説明する図である。(A) It is a figure explaining a temporary compression lamination semiconductor, (b) It is a figure explaining a three-dimensional mounting semiconductor. (a)仮圧着積層半導体の熱圧着を説明する図である(b)仮圧着積層半導体を熱圧着して三次元実装半導体とする状態を説明する図である。(A) It is a figure explaining the thermocompression bonding of a temporary crimping laminated semiconductor, (b) It is a figure explaining the state which carries out the thermocompression bonding of the temporary crimping laminated semiconductor to make a three-dimensional mounting semiconductor. (a)半導体ウェハ基板に複数位置に仮圧着積層半導体が仮固定されている状態の上面図である(b)同状態の断面図である。(A) It is a top view in the state where the temporary press-bonded laminated semiconductor is temporarily fixed to a semiconductor wafer substrate at a plurality of positions, and (b) is a cross-sectional view in the same state. (a)基板全体を支持するステージを備えた実装装置の一例を示す図である(b)同実装装置のステージに、仮圧着積層半導体を仮固定した基板を配置した断面図である。(A) It is a figure which shows an example of the mounting apparatus provided with the stage which supports the whole board | substrate. (B) It is sectional drawing which has arrange | positioned the board | substrate which temporarily fixed the temporary crimping laminated semiconductor on the stage of the mounting apparatus. (a)熱圧着する仮圧着積層半導体のみを支持するバックアップステージを備えた実装装置の一例を示す図である(b)同実装装置のバックアップステージに、仮圧着積層半導体を仮固定した基板を配置した断面図である。(A) It is a figure which shows an example of the mounting apparatus provided with the backup stage which supports only the temporary crimping laminated semiconductor which carries out thermocompression bonding. (B) The board | substrate which temporarily fixed the temporary crimping laminated semiconductor is arrange | positioned to the backup stage of the mounting apparatus. FIG. 基板内の位置と三次元実装半導体の実装品質の関係を説明する図である。It is a figure explaining the relationship between the position in a board | substrate, and the mounting quality of a three-dimensional mounting semiconductor.

本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。
本発明の一実施形態に係る実装装置の基本構成は、図15(a)に示した実装装置1であり、図1にブロック図を示した制御構成を有している。
Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
The basic configuration of a mounting apparatus according to an embodiment of the present invention is the mounting apparatus 1 shown in FIG. 15A, and has a control configuration shown in a block diagram in FIG.

まず、図15(a)に基本構成を示した実装装置1について説明する。図1の説明において、図の左右方向をX方向、これに直交する奥行き方向をY方向、上下方向をZ方向、Z軸を中心として回転する方向をθ方向として説明する。   First, the mounting apparatus 1 whose basic configuration is shown in FIG. In the description of FIG. 1, the left-right direction in the drawing is described as the X direction, the depth direction orthogonal to the Y direction is defined as the Y direction, the vertical direction is defined as the Z direction, and the direction rotating around the Z axis is defined as the θ direction.

実装装置1は、図15(b)に示したような、基板Wに仮固定された仮圧着積層半導体Luを熱圧着するものである。本実施形態において、基板Wとしてシリコンウェハを想定しているが本発明の対象はこれに限定されるものではなく、非シリコン系半導体、セラミックスおよびガラスエポキシ等を材質とする基板であってもよい。更に、シリコンウェハ等の薄板にサポート基板を貼り合せた積層基板であってもよい。   The mounting apparatus 1 is for thermocompression bonding of a temporary press-bonded laminated semiconductor Lu temporarily fixed to a substrate W as shown in FIG. In the present embodiment, a silicon wafer is assumed as the substrate W, but the object of the present invention is not limited to this, and a substrate made of a non-silicon-based semiconductor, ceramics, glass epoxy, or the like may be used. . Further, it may be a laminated substrate in which a support substrate is bonded to a thin plate such as a silicon wafer.

仮圧着積層半導体Luは図10に示したようにバンプBが形成された面側に未硬化の熱硬化性接着剤Rが設けられ、バンプBが形成された面の反対側にバンプBに(貫通電極を経て)継がる電極Eを設けた半導体チップCを仮圧着積層したものである。なお、仮圧着は熱硬化性接着剤Rを硬化開始温度以下で加熱して軟化させた状態で圧着するものである。ここで、熱硬化性接着剤Rとしては、熱硬化性樹脂を主成分とする非導電性フィルム(以下NCFと記す)を想定しているが、これに限定されるものではなく非導電性ペースト(NCP)であってもよい。また、仮圧着積層半導体Luとして、本実施形態では、図11(a)に示す様な、最下層に演算処理チップCpを配して、その上にメモリーチップCmを複数積層する構成となっているが、これに限定されるものではない。   As shown in FIG. 10, the pre-bonded laminated semiconductor Lu is provided with an uncured thermosetting adhesive R on the surface side on which the bump B is formed, and on the opposite side of the surface on which the bump B is formed ( A semiconductor chip C provided with an electrode E to be connected (through a through electrode) is provisionally pressure-bonded and laminated. In addition, temporary crimping | crimping is crimped | bonded in the state which heated and hardened the thermosetting adhesive R below the curing start temperature. Here, the thermosetting adhesive R is assumed to be a nonconductive film (hereinafter referred to as NCF) mainly composed of a thermosetting resin, but is not limited to this and is not a nonconductive paste. (NCP) may be used. Further, in the present embodiment, as the pre-bonded laminated semiconductor Lu, as shown in FIG. 11A, an arithmetic processing chip Cp is arranged in the lowermost layer, and a plurality of memory chips Cm are laminated thereon. However, it is not limited to this.

実装装置1は、基台2、XYθ可動機構3、バックアップステージ4、フレーム5、圧着ユニット6、ボンディングヘッド7および基板保持手段8により構成され、制御部10によって各構成要素は制御される。   The mounting apparatus 1 includes a base 2, an XYθ movable mechanism 3, a backup stage 4, a frame 5, a pressure bonding unit 6, a bonding head 7, and a substrate holding unit 8, and each component is controlled by a control unit 10.

基台2は実装装置1を構成する主な構造体であり、XYθ可動機構3、バックアップステージ4およびフレーム5を支持している。   The base 2 is a main structure constituting the mounting apparatus 1, and supports the XYθ movable mechanism 3, the backup stage 4, and the frame 5.

XYθ可動機構3は、基板保持手段8によって把持された基板Wを(基板W面方向の)任意の位置に移動させるものである。図15(a)の実装装置1においては、基台2に対しY方向に移動可能なY方向可動部3aを設け、Y方向可動部3a上にX方向可動部3bを設け、X方向可動部3b上にθ方向可動部3cを設けた構成となっているが、これに限定されるものではなく、X、Yおよびθの各方向の位置調整が可能な構成であれば良い。ただし、XYθ可動機構3の可動範囲内において、XYθ可動機構3がバックアップステージ4に接触しない構造である必要がある。   The XYθ movable mechanism 3 moves the substrate W held by the substrate holding means 8 to an arbitrary position (in the direction of the substrate W surface). In the mounting apparatus 1 of FIG. 15A, a Y-direction movable portion 3a that can move in the Y-direction with respect to the base 2 is provided, an X-direction movable portion 3b is provided on the Y-direction movable portion 3a, and an X-direction movable portion is provided. Although the θ-direction movable portion 3c is provided on 3b, the configuration is not limited to this, and any configuration that can adjust the position in each of the X, Y, and θ directions may be used. However, it is necessary that the XYθ movable mechanism 3 does not contact the backup stage 4 within the movable range of the XYθ movable mechanism 3.

バックアップステージ4は、ボンディングヘッド7により基板W上の半導体チップCを熱圧着する際に半導体チップCが仮固定されていない裏面から基板Wを支持するものであり、図示しない吸着機構により基板Wを吸着保持する機能を備えていることが望ましい。バックアップステージ4はヒータを内臓している。このヒータは、ボンディングヘッド7による熱圧着時に基板W側から加熱を行うものであり、急速加熱可能なものが望ましく、パルスヒート可能なセラミックヒータ等が好適である。
バックアップステージ4の上面は、ボンディングヘッド7によって押圧される領域を支持する形状である。ボンディングヘッド7の押圧面とバックアップステージ4の上面は一対を成すことになるので、基板Wの位置とは無関係に同一の平行度で加圧を行うことができる。
The backup stage 4 supports the substrate W from the back surface to which the semiconductor chip C is not temporarily fixed when the semiconductor chip C on the substrate W is thermocompression bonded by the bonding head 7. It is desirable to have a function of adsorbing and holding. The backup stage 4 has a built-in heater. This heater is heated from the substrate W side during thermocompression bonding by the bonding head 7 and is preferably capable of rapid heating, and is preferably a ceramic heater capable of pulse heating.
The upper surface of the backup stage 4 has a shape that supports a region pressed by the bonding head 7. Since the pressing surface of the bonding head 7 and the upper surface of the backup stage 4 form a pair, pressurization can be performed with the same parallelism regardless of the position of the substrate W.

フレーム5は、圧着ユニット6を支持するものである。図15(a)の実装装置1において、支持フレーム5は門型形状としている。これは、圧着ユニット6による加圧力が大きな場合にも適しているためである。   The frame 5 supports the crimping unit 6. In the mounting apparatus 1 of FIG. 15A, the support frame 5 has a gate shape. This is because it is also suitable when the pressure applied by the crimping unit 6 is large.

圧着ユニット6は、ボンディングヘッド7をZ軸方向に移動させるものである。圧着ユニット6は、図示しないサーボモータとボールねじとから構成される。圧着ユニット6は、サーボモータによってボールねじを回転させることによりボールねじの軸方向の駆動力を発生するように構成されている。圧着ユニット6は、ボールねじの軸方向がバックアップステージ4の上面に対して垂直なZ方向になるように支持フレーム5に取り付けられている。つまり、圧着ユニット6は、Z方向の駆動力(加圧力)を発生できるように構成されている。圧着ユニット6は、サーボモータの出力を制御することによりZ方向の加圧力を任意に設定できるように構成されている。なお、本実施形態において、圧着ユニット6は、サーボモータとボールねじの構成としたが、これに限定されるものではなく、空圧アクチュエータ、油圧アクチュエータやボイスコイルモータから構成してもよい。   The crimping unit 6 moves the bonding head 7 in the Z-axis direction. The crimping unit 6 includes a servo motor and a ball screw (not shown). The crimping unit 6 is configured to generate a driving force in the axial direction of the ball screw by rotating the ball screw by a servo motor. The crimping unit 6 is attached to the support frame 5 so that the axial direction of the ball screw is in the Z direction perpendicular to the upper surface of the backup stage 4. That is, the crimping unit 6 is configured to generate a driving force (pressing force) in the Z direction. The crimping unit 6 is configured to be able to arbitrarily set the pressing force in the Z direction by controlling the output of the servo motor. In the present embodiment, the crimping unit 6 is composed of a servo motor and a ball screw, but is not limited to this, and may be composed of a pneumatic actuator, a hydraulic actuator, or a voice coil motor.

ボンディングヘッド7は、圧着ユニット6の駆動力を半導体チップCに伝達するとともに、半導体チップCを加圧して熱圧着を行うものである。ボンディングヘッド7には、半導体チップCを加熱するためのヒータが内蔵されている。このヒータも、バックアップステージ4に内蔵するヒータと同様、急速加熱可能なものが望ましく、セラミックヒータ等が好適である。   The bonding head 7 transmits the driving force of the crimping unit 6 to the semiconductor chip C and pressurizes the semiconductor chip C to perform thermocompression bonding. The bonding head 7 incorporates a heater for heating the semiconductor chip C. As with the heater built in the backup stage 4, this heater is preferably capable of rapid heating, and a ceramic heater or the like is preferable.

ボンディングヘッド7は、圧着ユニット6を構成している図示しないボールねじナットに取り付けられている。つまり、ボンディングヘッド7は、バックアップステージ4と平行に対向するように配置されている。すなわち、ボンディングヘッド7は圧着ユニット6によってZ軸方向に移動されることで、バックアップステージ4に近接する。   The bonding head 7 is attached to a ball screw nut (not shown) constituting the crimping unit 6. That is, the bonding head 7 is disposed so as to face the backup stage 4 in parallel. That is, the bonding head 7 is moved in the Z-axis direction by the pressure-bonding unit 6 and thereby approaches the backup stage 4.

基板保持手段8は、XYθ可動機構3に設けられ、基板Wの周縁部を保持部80により部分的に把持するものである。基板保持手段8に把持された基板Wは、XYθ可動機構3によって任意な位置に移動し、Z軸を中心に回転させることができる。このような動作により、ボンディングヘッド7とバックアップステージ4によって押圧される領域に、熱圧着対象の半導体チップCのXY位置およびθ方向が合うよう、基板Wが配置される。なお、熱圧着対象の半導体チップCをボンディングヘッド7と位置合わせするのに際して、図示していないが、画像認識手段9を用いることが望ましい。   The substrate holding means 8 is provided in the XYθ movable mechanism 3 and partially holds the peripheral edge of the substrate W by the holding portion 80. The substrate W held by the substrate holding means 8 can be moved to an arbitrary position by the XYθ movable mechanism 3 and rotated about the Z axis. With such an operation, the substrate W is arranged in the region pressed by the bonding head 7 and the backup stage 4 so that the XY position and the θ direction of the semiconductor chip C to be thermocompressed are aligned. Although not shown, it is desirable to use the image recognition means 9 when aligning the semiconductor chip C to be thermocompression bonded with the bonding head 7.

基板保持手段8を構成する保持部80は、基板Wの周縁部を部分的に把持するものであり、保持部80は1個でも良いが、安定的に把持するためには複数個設けることが望ましい。また、保持部80は基板Wを確実に把持するために、吸着機能を備えていることが望ましいが、マイクロ吸盤や粘着物質により把持力を増す構成としてもよい。一方において、保持部80を介した伝熱影響は少ないほど好ましく、保持部80の熱伝導率は1w/mk以下であることが望ましい。   The holding unit 80 constituting the substrate holding unit 8 partially grips the peripheral edge of the substrate W. The number of the holding units 80 may be one, but a plurality of holding units 80 may be provided for stable holding. desirable. In addition, the holding unit 80 is desirably provided with an adsorption function in order to reliably hold the substrate W, but may be configured to increase the holding force with a micro suction cup or an adhesive substance. On the other hand, it is preferable that the influence of heat transfer through the holding unit 80 is as small as possible, and the thermal conductivity of the holding unit 80 is desirably 1 w / mk or less.

制御部10は、図1に示すように、XYθ可動機構3、バックアップステージ4、圧着ユニット6、ボンディングヘッド7、基板保持手段8と接続されており、実装装置1が画像認識手段9を備えている場合は画像認識手段9とも接続される。   As shown in FIG. 1, the control unit 10 is connected to an XYθ movable mechanism 3, a backup stage 4, a pressure bonding unit 6, a bonding head 7, and a substrate holding unit 8, and the mounting apparatus 1 includes an image recognition unit 9. If it is, it is also connected to the image recognition means 9.

制御部10は、実体的には、CPU、ROM、HDD等がバスで接続される構成であってもよく、あるいはワンチップのLSIからなる構成であっても良い。制御部10は接続先から信号を取得したり制御するために種々のプログラムやデータが格納されている。   The control unit 10 may actually have a configuration in which a CPU, a ROM, an HDD, and the like are connected by a bus, or may be configured by a one-chip LSI. The control unit 10 stores various programs and data for acquiring and controlling signals from the connection destination.

制御部10は、XYθ可動機構3に接続され、Y方向可動部3a、X方向可動部3b、θ方向可動部3cを個々に制御して、XYθ可動機構3に設けられた基板保持手段8の位置情報を入手するとともに、X方向、Y方向、およびθ方向の移動量を制御することができる。   The control unit 10 is connected to the XYθ movable mechanism 3 and individually controls the Y-direction movable unit 3a, the X-direction movable unit 3b, and the θ-direction movable unit 3c, so that the substrate holding unit 8 provided in the XYθ movable mechanism 3 is controlled. While obtaining position information, it is possible to control the amount of movement in the X, Y, and θ directions.

制御部10は、バックアップステージ4に接続され、バックアップステージ4に内蔵されたヒータを制御することができる。   The control unit 10 is connected to the backup stage 4 and can control a heater built in the backup stage 4.

制御部10は、圧着ユニット6に接続され、圧着ユニット6のZ方向への加圧力を制御することができる。   The control unit 10 is connected to the crimping unit 6 and can control the pressing force of the crimping unit 6 in the Z direction.

制御部10は、ボンディングヘッド7に接続され、ボンディングヘッド7に内蔵されたヒータを制御することができる。   The control unit 10 is connected to the bonding head 7 and can control a heater built in the bonding head 7.

制御部10は、基板保持手段8に接続され、保持部80による基板Wの吸着把持有無およびバックアップステージ4の上面に対する把持基板Wの高さ制御を行なうことができる。   The control unit 10 is connected to the substrate holding unit 8 and can control whether the holding unit 80 sucks and holds the substrate W and the height of the holding substrate W with respect to the upper surface of the backup stage 4.

また、実装装置1が画像認識手段9を備える場合、制御部10は画像認識手段9に接続され、画像認識手段9の位置制御を行うとともに画像信号を取得することができる。   When the mounting apparatus 1 includes the image recognition unit 9, the control unit 10 is connected to the image recognition unit 9 and can control the position of the image recognition unit 9 and acquire an image signal.

本実施形態では、制御部10は、半導体ウェハからなる基板Wに仮固定されている仮圧着積層半導体Luを順次熱圧着するに際して、基板W内における位置に応じて、バックアップステージ4のヒータの設定温度を調整する機能を有している。すなわち、図2に示すような(Xn、Yn)からなる位置情報(図2においてnは1、2、3、4、5のいずれか)に応じて、バックアップステージ4を加熱する際の設定温度を変更する機能を有している。   In the present embodiment, the control unit 10 sets the heater of the backup stage 4 according to the position in the substrate W when the temporary press-bonded laminated semiconductor Lu temporarily fixed to the substrate W made of a semiconductor wafer is sequentially thermocompression bonded. Has the function of adjusting the temperature. That is, the set temperature for heating the backup stage 4 according to the position information (Xn, Yn) as shown in FIG. 2 (n in FIG. 2 is any one of 1, 2, 3, 4, 5). It has a function to change.

バックアップステージ4の設定温度を決定するに際しては、まず、基板W内の位置による放熱性を考慮すると良い。例えば図3(a)に示す基板W中心付近にある仮圧着積層半導体Luを熱圧着する際に基板Wに達した熱は面内各方向に伝熱して放熱するのに対して、図3(b)の示す基板W周辺にある基板Wに仮固定されている仮圧着積層半導体Luを順次熱圧着するに際して、基板W内における位置に基板Wに達した熱は空気の断熱性の影響で伝熱し難い方向を有した放熱となる。このため、基板W周辺部の仮圧着積層半導体Luを熱圧着する際の、バックアップステージ4の設定温度は中心部よりも低く設定する必要がある。   When determining the set temperature of the backup stage 4, first, heat dissipation due to the position in the substrate W may be considered. For example, when the pre-bonded laminated semiconductor Lu in the vicinity of the center of the substrate W shown in FIG. 3A is thermocompression bonded, the heat reaching the substrate W is transferred and radiated in each direction in the plane, whereas FIG. When the temporary press-bonded laminated semiconductor Lu temporarily fixed to the substrate W around the substrate W shown in b) is sequentially thermocompression bonded, the heat reaching the substrate W at a position in the substrate W is transmitted due to the effect of heat insulation of air. The heat release has a direction that is difficult to heat. For this reason, it is necessary to set the set temperature of the backup stage 4 lower than that of the central part when the temporary press-bonded laminated semiconductor Lu around the substrate W is thermocompression bonded.

更に、基板W内の位置による放熱性に加えて、保持部80が基板Wを把持する位置も考慮すると良い。すなわち、保持部80の材質は一般的に空気より伝熱性が高いので、図4(a)と図4(b)に示すように、基板W中心からの距離が等しい位置であっても、近くに保持部80がある方が放熱しやすいので、仮圧着積層半導体Luを熱圧着する際の、バックアップステージ4の設定温度を上げることが望ましい。したがって、基板Wに仮固定されている仮圧着積層半導体Luを順次熱圧着するに際して、保持部80が基板Wを把持する位置を考慮して、基板W内における位置によりバックアップステージ4の設定温度を調整する必要がある。このため、図5(a)と図5(b)では、基板Wの位置が同じであっても、基板Wに仮固定されている仮圧着積層半導体Luを熱圧着する際のバックアップステージ4の設定温度は異なる。すなわち、同じ基板W周辺部であっても、仮圧着積層半導体Luを熱圧着する際の、バックアップステージ4の設定温度は、保持部80付近では熱流出があるため、高く設定する必要がある。   Furthermore, in addition to the heat dissipation by the position in the substrate W, the position where the holding unit 80 holds the substrate W may be considered. That is, since the material of the holding portion 80 is generally higher in heat transfer than air, even if the distance from the center of the substrate W is equal, as shown in FIGS. Therefore, it is desirable to raise the set temperature of the backup stage 4 when the temporary press-bonded laminated semiconductor Lu is thermocompression bonded. Therefore, when the temporary press-bonded laminated semiconductor Lu temporarily fixed to the substrate W is sequentially thermocompression bonded, the set temperature of the backup stage 4 is set according to the position in the substrate W in consideration of the position where the holding unit 80 holds the substrate W. It needs to be adjusted. For this reason, in FIG. 5A and FIG. 5B, even when the position of the substrate W is the same, the backup stage 4 when the temporary compression laminated semiconductor Lu temporarily fixed to the substrate W is thermocompression bonded. The set temperature is different. That is, even in the peripheral portion of the same substrate W, the set temperature of the backup stage 4 when thermobonding the provisional pressure-bonded laminated semiconductor Lu has a heat outflow in the vicinity of the holding unit 80 and needs to be set high.

ここで、基板W内の位置に応じた設定温度を決定するのに際して、上記の放熱性をシミュレーション演算のみによって求めてもよいし、仮圧着積層半導体Luの層間の温度測定をしながら実験的に求めてもよい。更に、シミュレーション演算と実験を組合わせてもよい。   Here, when determining the set temperature according to the position in the substrate W, the heat dissipation may be obtained only by a simulation calculation, or experimentally while measuring the temperature between the layers of the temporary press-bonded laminated semiconductor Lu. You may ask for it. Furthermore, you may combine simulation calculation and experiment.

なお、熱圧着対象となる仮圧着積層半導体Luの基板Wの位置および保持部80が基板Wを把持する位置は、基板保持手段8を設けたXYθ可動機構3の位置情報から演算して求めることも可能であるが、画像認識手段9による画像情報から求めてもよい。また、画像認識手段9で基板WのアライメントマークMの位置情報を取得して、XYθ可動機構3の位置情報を修正してもよい。   In addition, the position of the substrate W of the temporary press-bonded laminated semiconductor Lu to be subjected to thermocompression bonding and the position where the holding unit 80 grips the substrate W are calculated from the position information of the XYθ movable mechanism 3 provided with the substrate holding means 8. However, it may be obtained from image information by the image recognition means 9. Further, the position information of the alignment mark M on the substrate W may be acquired by the image recognition unit 9 to correct the position information of the XYθ movable mechanism 3.

実装装置1による熱圧着動作については、図6および図7を用いて説明する。図6および図7は、実装装置1により、図2に示した基板WのY3行にある仮圧着積層半導体Luを(X1、Y3)から熱圧着して行く際の断面図を示したものである。   The thermocompression bonding operation by the mounting apparatus 1 will be described with reference to FIGS. FIGS. 6 and 7 are cross-sectional views of the temporary compression laminated semiconductor Lu in the Y3 row of the substrate W shown in FIG. 2 by thermocompression bonding from (X1, Y3) by the mounting apparatus 1. FIG. is there.

まず、図6(a)は(X1、Y3)の仮圧着積層半導体Luの熱圧着を開始した状態であり、この状態になった段階でボンディングヘッド7およびバックアップステージ4は所定の設定温度に加熱される。ここで、仮圧着積層半導体Luが4層以下の半導体チップからなる場合は、バンプBを形成しているハンダの溶融と熱硬化性接着剤Rの硬化は、主にボンディングヘッド7による加熱により行なわれ、バックアップステージ4による加熱は補助的なものである。しかし、仮圧着積層体Luが5層以上の場合はハンダ溶融温度以上に設定することが望ましく、8層以上であればハンダ溶融店以上にすることは必須である。   First, FIG. 6A shows a state in which thermocompression bonding of the temporary press-bonded laminated semiconductor Lu of (X1, Y3) is started. At this stage, the bonding head 7 and the backup stage 4 are heated to a predetermined set temperature. Is done. Here, when the temporary press-bonded laminated semiconductor Lu is composed of four or less semiconductor chips, melting of the solder forming the bumps B and curing of the thermosetting adhesive R are mainly performed by heating with the bonding head 7. Thus, the heating by the backup stage 4 is auxiliary. However, when the provisional pressure-bonded laminate Lu is 5 layers or more, it is desirable to set it to the solder melting temperature or more, and when it is 8 layers or more, it is essential to set it to the solder melting store or more.

熱圧着が完了した状態が図6(b)であり、この段階でこの後にボンディングヘッド7およびバックアップステージ4は降温されるとともに、ボンディングヘッド7が上昇してから、保持部80が上昇して基板Wがバックアップステージ4から離れる。その状態が図6(c)であり、この状態からXYθ可動機構3により基板Wを保持した保持部80が移動し、ボンディングヘッド7とバックアップステージ4の間には、(X2、Y3)の仮圧着積層半導体Luが配置される(図7(d))。それから、保持部80が基板Wがバックアップステージ4に密着するまで下降(図7(e))してから、ボンディングヘッド7が更に下降してボンディングヘッド7が仮圧着積層半導体Luの最上部に接触(図7(f))した後に、ボンディングヘッド7による熱圧着を開始する。   FIG. 6B shows a state where the thermocompression bonding is completed. At this stage, the bonding head 7 and the backup stage 4 are subsequently cooled, and after the bonding head 7 is raised, the holding unit 80 is raised and the substrate is raised. W leaves the backup stage 4. This state is shown in FIG. 6C, and from this state, the holding unit 80 holding the substrate W is moved by the XYθ movable mechanism 3 and the temporary (X2, Y3) between the bonding head 7 and the backup stage 4 is moved. A pressure-bonded laminated semiconductor Lu is arranged (FIG. 7D). Then, after the holding unit 80 is lowered until the substrate W comes into close contact with the backup stage 4 (FIG. 7E), the bonding head 7 is further lowered and the bonding head 7 comes into contact with the uppermost portion of the temporary press-bonded laminated semiconductor Lu. After (FIG. 7 (f)), thermocompression bonding by the bonding head 7 is started.

なお、(X2、Y3)の仮圧着積層半導体Luの熱圧着開始に際して、ボンディングヘッド7およびバックアップステージ4は所定の設定温度に加熱されが、この際のバックアップステージ4の設定温度は前述の説明のとおり、(X1、Y3)の仮圧着積層半導体Luの熱圧着とは異なる温度に調整することが望ましい。特に、バックアップステージ4の設定温度が高いほど、基板W内における位置に応じた調整が実装品質均一化には必要になる。すなわち、仮圧着積層体Luの積層数が多いほど基板W内における位置に応じた調整が必要となり、特に8層以上の積層においては必須となる。   Note that when the thermocompression bonding of the (X2, Y3) pre-bonded laminated semiconductor Lu is started, the bonding head 7 and the backup stage 4 are heated to a predetermined set temperature, and the set temperature of the backup stage 4 at this time is as described above. As described above, it is desirable to adjust the temperature to a temperature different from the thermocompression bonding of the (X1, Y3) temporary press-bonded laminated semiconductor Lu. In particular, as the set temperature of the backup stage 4 is higher, adjustment according to the position in the substrate W is required for uniform mounting quality. In other words, the larger the number of layers of the provisional pressure-bonded laminate Lu, the more the adjustment according to the position in the substrate W is required, and this is indispensable particularly in the case of stacking eight or more layers.

ところで、バックアップステージ4の設定温度のみならず、ボンディングヘッド7の設定温度も調整しても良い。図7(f)の状態から熱圧着を実施した後は、図6(b)から図7(e)と同様な動作により、仮圧着積層半導体Luを順次熱圧着して行けばよい。
なお、ここまでの説明において、仮圧着積層半導体Luを1つ単位で熱圧着した例を示したが、ボンディングヘッド7およびバックアップステージ4が2つ以上の仮圧着積層半導体Luを一括で熱圧着しても良い。図8には、別の実施形態として、仮圧着積層半導体Luを2つ同時に熱圧着する例を示す。
Incidentally, not only the set temperature of the backup stage 4 but also the set temperature of the bonding head 7 may be adjusted. After performing the thermocompression bonding from the state shown in FIG. 7 (f), the temporary compression laminated semiconductor Lu may be sequentially thermocompression bonded by the same operation as in FIGS. 6 (b) to 7 (e).
In the description so far, the example in which the temporary press-bonded laminated semiconductor Lu is thermocompression bonded in one unit has been shown. May be. FIG. 8 shows an example in which two pre-bonded laminated semiconductors Lu are thermocompression bonded at the same time as another embodiment.

この例では、ボンディングヘッド7およびバックアップステージ4が仮圧着積層半導体Luを2つ同時に熱圧着できない位置も生じ、仮圧着積層半導体Luを1しか熱圧着しない位置では過熱状態となることもある。このような場合においては、仮圧着積層半導体Luの基板W内の位置および保持部80が基板Wを把持する位置に加えて、一度に熱圧着する仮圧着積層半導体Luの数に応じて、バックアップステージ4の設定温度を調整必要があり、必要に応じてボンディングヘッド7の設定温度も調整する必要がある。   In this example, there may be a position where the bonding head 7 and the backup stage 4 cannot thermocompression-bond two pre-bonded laminated semiconductors Lu at the same time, and an overheated state may occur at a position where only one pre-bonded laminated semiconductor Lu is thermocompression bonded. In such a case, in addition to the position of the temporary press-bonded laminated semiconductor Lu in the substrate W and the position where the holding unit 80 grips the substrate W, the backup is performed according to the number of the temporary press-bonded stacked semiconductor Lu to be thermocompression bonded at a time. The set temperature of the stage 4 needs to be adjusted, and the set temperature of the bonding head 7 needs to be adjusted as necessary.

以上のようにバックアップステージ4(場合によっては、これに加えてボンディングヘッド7)の設定温度を調整することにより、基板Wの位置によらず仮圧着積層半導体Luを熱圧着する際の積層上下間の温度条件をほぼ同一にして、実装品質差が生じることを抑制できる。この効果は、基板Wの熱伝導率が大きい場合に大きく、厚みが400μm以上2mm以下のシリコン基板や、サポート基板上にシリコン薄板を積層した積層基板を用いる場合において顕著な効果が得られている。   As described above, by adjusting the set temperature of the backup stage 4 (in some cases, in addition to this, the bonding head 7), the upper and lower layers of the temporary press-bonded laminated semiconductor Lu when thermocompression bonding is performed regardless of the position of the substrate W. It is possible to suppress the occurrence of mounting quality differences by making the temperature conditions substantially the same. This effect is large when the thermal conductivity of the substrate W is large, and a remarkable effect is obtained when a silicon substrate having a thickness of 400 μm to 2 mm or a laminated substrate in which a silicon thin plate is laminated on a support substrate is used. .

ところで、ここまでの説明において、熱硬化性接着剤Rは半導体チップのバンプ面側に形成することを前提としているが、これに限定するものではなく、半導体チップおよび基板の電極E側に形成されたものであってもよい。   By the way, in the description so far, it is assumed that the thermosetting adhesive R is formed on the bump surface side of the semiconductor chip. However, the present invention is not limited to this, and is formed on the semiconductor chip and the electrode E side of the substrate. It may be.

更には、熱硬化性接着剤Rを用いずに、バンプBのハンダによる粘性を利用して半導体チップを仮圧着積層するような例においても、実装品質差を抑制する観点から、本発明は有効である。   Furthermore, the present invention is effective from the viewpoint of suppressing a difference in mounting quality even in an example in which a semiconductor chip is temporarily press-bonded and laminated using the viscosity of the bump B without using the thermosetting adhesive R. It is.

1 実装装置(本圧着装置)
2 基台
3 XYθ可動機構
3a Y方向可動部
3b X方向可動部
3c θ方向可動部
4 バックアップステージ
5 フレーム
6 圧着ユニット
7 ボンディングヘッド
8 基板保持手段
9 画像認識手段
10 制御部
80 保持部
B バンプ
C 半導体チップ
Cm メモリーチップ(半導体チップ)
Cp 演算処理チップ(半導体チップ)
E 電極
Lu 仮圧着積層半導体
Lc 三次元実装半導体
TF 伝熱
W 基板
1 Mounting device (main crimping device)
2 base 3 XYθ movable mechanism 3a Y direction movable portion 3b X direction movable portion 3c θ direction movable portion
4 Backup stage 5 Frame 6 Crimp unit 7 Bonding head 8 Substrate holding means 9 Image recognition means 10 Control unit 80 Holding part B Bump C Semiconductor chip Cm Memory chip (semiconductor chip)
Cp arithmetic processing chip (semiconductor chip)
E electrode Lu pre-bonded laminated semiconductor Lc three-dimensional mounting semiconductor TF heat transfer W substrate

Claims (5)

基板上の複数位置に仮圧着された半導体チップを熱圧着する実装装置であって、
1個以上の半導体チップを含む領域を加圧領域として加熱して押圧する機能を有するボンディングヘッドと、
前記加圧領域において、前記基板を反対面から支持するとともに加熱する機能を有するバックアップステージと、
前記基板の周縁部を把持する保持部を有し、前記基板の位置を調整する機能を有する基板保持手段とを備え、
前記ボンディングヘッドと前記バックアップステージの間に配置される半導体チップを熱圧着するのに際して、
熱圧着対象の半導体チップの前記基板面内における位置、および前記保持部が前記基板を把持する位置に応じて、熱圧着時の前記バックアップステージの設定温度を調整する機能を有する実装装置。
A mounting device for thermocompression bonding of semiconductor chips temporarily bonded to a plurality of positions on a substrate,
A bonding head having a function of heating and pressing a region including one or more semiconductor chips as a pressure region;
In the pressure region, a backup stage having a function of supporting and heating the substrate from the opposite surface;
A holding unit for holding a peripheral portion of the substrate, and a substrate holding unit having a function of adjusting the position of the substrate,
In thermocompression bonding of a semiconductor chip disposed between the bonding head and the backup stage,
A mounting apparatus having a function of adjusting a set temperature of the backup stage at the time of thermocompression bonding according to a position in a substrate surface of a semiconductor chip to be thermocompression bonded and a position at which the holding unit holds the substrate.
請求項1に記載の実装装置であって、
前記バックアップステージにパルスヒート可能なヒータが内蔵されている実装装置。
The mounting apparatus according to claim 1,
A mounting apparatus in which a heater capable of pulse heating is built in the backup stage.
基板上の複数位置に仮圧着された半導体チップを熱圧着する実装方法であって、
1個以上の半導体チップを含む領域を加圧領域として加熱して押圧するボンディングヘッドと、
前記加圧領域において、前記基板を反対面から支持するとともに加熱するバックアップステージと、
前記基板周縁部を把持する保持部を有し、前記基板の位置を調整する機能を有する基板保持手段とを用い、
前記ボンディングヘッドと前記バックアップステージの間に配置される半導体チップを熱圧着するのに際して、
熱圧着対象の半導体チップの前記基板面内における位置、および前記保持部が前記基板を把持する位置に応じて、熱圧着時の前記バックアップステージの設定温度を調整する実装方法。
A mounting method for thermocompression bonding a semiconductor chip temporarily bonded to a plurality of positions on a substrate,
A bonding head that heats and presses an area including one or more semiconductor chips as a pressure area;
A backup stage for supporting and heating the substrate from the opposite surface in the pressure region;
Using a substrate holding means having a holding portion for holding the peripheral edge of the substrate and having a function of adjusting the position of the substrate;
In thermocompression bonding of a semiconductor chip disposed between the bonding head and the backup stage,
A mounting method for adjusting a set temperature of the backup stage at the time of thermocompression bonding according to a position of the semiconductor chip to be thermocompression bonded in the substrate surface and a position at which the holding portion holds the substrate.
請求項3に記載の実装方法であって、
前記基板に仮圧着された半導体チップは、2段以上の積層状態で仮圧着されているものであることを特徴とする実装方法。
The mounting method according to claim 3,
A mounting method, wherein the semiconductor chip temporarily bonded to the substrate is temporarily bonded in a laminated state of two or more stages.
請求項3または請求項4に記載の実装方法であって、
前記基板上の半導体チップは、未硬化の熱硬化性接着フィルムを介して仮圧着されているものであることを特徴とする実装方法。
The mounting method according to claim 3 or 4, wherein:
The semiconductor chip on the said board | substrate is what is temporarily crimped | bonded via the uncured thermosetting adhesive film, The mounting method characterized by the above-mentioned.
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