JP2018135358A - Ｂｍｄｂｍ光安定剤および日焼け止めの組成物および組合せ - Google Patents

Ｂｍｄｂｍ光安定剤および日焼け止めの組成物および組合せ Download PDF

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Abstract

【課題】ブチルメトキシジベンゾイルメタンの光安定化を目的とする日焼け止めの組合せの提供。【解決手段】ブチルメトキシジベンゾイルメタン（ＢＭＤＢＭ）、ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン（ＢＥＭＴ）、およびメチレンビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール（ＭＢＢＴ）（ここで、ｉ． ＢＥＭＴ／ＢＭＤＢＭ質量比が１以上であり、好ましくは１．５以上であり、ｉｉ． ＢＭＤＢＭの含量が組成物の総重量に対して１重量％〜５重量％であり、ｉｉｉ． ＭＢＢＴの量が組成物の総重量に対して３重量％〜７重量％である）の光安定化した組合せを含む組成物であって、オクトクリレン、ＰＡＢＡまたはエチルヘキシルメトキシ桂皮酸を含まない前記組合せと、薬学上または化粧上許容可能な賦形剤とを含む組成物。【選択図】なし

Description

発明の背景
本発明は、ブチルメトキシジベンゾイルメタン（ＢＭＤＢＭ）の光安定化を目的とする日焼け止めの組合せに関する。
ＵＶＡ（３２０〜４００ｎｍ）からの保護は、皮膚の変化、光老化の促進、皮膚の弾力性の喪失などを生じる可能性がある長時間の露出に関連した損傷を実質的に制限するものでなければならない。
最初に、本発明者らは、本発明の範囲に包含される主要なフィルターの名称および略号を概説することにする。
・ブチルメトキシジベンゾイルメタン（ＢＭＤＢＭ）＝アボベンゾン＝ＣＡＳ登録番号：７０３５６−０９−１であり、このフィルターはＤＳＭ商標Ｐａｒｓｏｌ１７８９（商標）で販売されている、
・２，４−ビス［４−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン＝ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン（ＢＥＭＴ）＝ベモトリジノール＝ＣＡＳ登録番号：１８７３９３−００−６であり、このフィルターはＢＡＳＦ商標Ｔｉｎｏｓｏｒｂ Ｓ（商標）で販売されている、
・２，２’−メチレン−ビス−（６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェノール＝メチレンビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール（ＭＢＢＴ）＝ビスオクトリゾール＝ＣＡＳ登録番号：１０３５９７−４５−１であり、このフィルターはＢＡＳＦ商標Ｔｉｎｏｓｏｒｂ Ｍ（商標）で販売されている。
ブチルメトキシジベンゾイルメタン（ＢＭＤＢＭ）は、紫外線に安定なフィルターではない。分子の開裂が起こり、吸収活性を持たない様々な化学元素へと分解する。
他のフィルター（例えば、エチルヘキシルメトキシ桂皮酸）と組み合わせても、ＢＭＤＢＭは分解して、その光保護特性を喪失する可能性がある。
ＢＭＤＢＭは、それを光安定化するオクトクリレンと、またはＰＡＢＡ（商標）（パラ−アミノ安息香酸）と組み合わせられることが多い。しかしながら、オクトクリレンは、小児に接触性湿疹やケトプロフェンとの交差アレルギーを引き起こす強力なアレルゲンであるという欠点を有する。
更に最近では、従来技術は、合成または天然のフィトエンまたはフィトフルエンの添加によるＢＭＤＢＭの安定化を教示している文献ＵＳ２０１１０２１２０４０号明細書を包含している。
本発明の目的は、現行の規制に準じた光保護システムを開発しながらＢＭＤＢＭを光安定化する新規な代替法を提供することである。
本発明は、ブチルメトキシジベンゾイルメタン（ＢＭＤＢＭ）、ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン（ＢＥＭＴ）、およびメチレンビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール（ＭＢＢＴ）を含む組合せであって、
・ＢＥＭＴ／ＢＭＤＢＭ質量比が１以上であり、好ましくは１．５以上であり、
・前記組合せがオクトクリレンを含まない
ことを特徴とする、組合せに関する。
本発明は、ブチルメトキシジベンゾイルメタン（ＢＭＤＢＭ）、ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン（ＢＥＭＴ）、およびメチレンビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール（ＭＢＢＴ）を含む光安定化した組合せであって、
ｉ． ＢＥＭＴ／ＢＭＤＢＭ質量比が１以上であり、好ましくは１．５以上であり、
ｉｉ． ＢＭＤＢＭの含量が組成物の総重量に対して１重量％〜５重量％であり、
ｉｉｉ． ＭＢＢＴの量が組成物の総重量に対して３重量％〜７重量％であり、
前記組合せがオクトクリレン、ＰＡＢＡまたはエチルヘキシルメトキシ桂皮酸を含まない組合せに関する。
発明の具体的説明
本発明の一つの具体的実施態様では、ＢＥＭＴ／ＢＭＤＢＭ質量比は５以下であり、好ましくは４以下であり、更に一層優先的には３以下である。
優先的には、ＢＥＭＴ／ＢＭＤＢＭ質量比は１〜５、優先的には１．５〜５、更に一層優先的には１．５〜３の範囲で選択される。
本発明のもう一つの特徴によれば、ＢＥＭＴ含量は組成物の総重量に対して２重量％〜６重量％である。
本発明のフレームワークでは、ＢＥＭＴ／ＢＭＤＢＭ質量比は、主な特徴と考えられなければならない。それは、様々な日光フィルターＢＥＭＴ、ＢＭＤＢＭおよびＭＢＢＴの濃度は、前記質量比が最初かつ最も尊重されるべきものとするため、それぞれの濃度比内で調整されねばならないことを意味する。
本発明のもう一つの主題は、ＢＭＤＢＭ、ＢＥＭＴおよびＭＢＢＴの組合せを含む組成物であって、
・ＢＥＭＴ／ＢＭＤＢＭ質量比が１以上であり、好ましくは１．５以上であり、
・前記組合せがオクトクリレンを含まず、
・ＭＢＢＴの量が組成物の総重量に対して３重量％〜７重量％であり、かつ
・薬学上または化粧上許容可能な賦形剤を含む
ことを特徴とする組成物に関する。
本発明のもう一つの主題は、ＢＭＤＢＭ、ＢＥＭＴおよびＭＢＢＴの組合せを含む組成物であって、
・ＢＥＭＴ／ＢＭＤＢＭ質量比が１以上であり、好ましくは１．５以上であり、
・前記組合せがオクトクリレン、ＰＡＢＡまたはエチルヘキシルメトキシ桂皮酸を含まず、
・ＭＢＢＴの量が組成物の総重量に対して３重量％〜７重量％であり、かつ
・薬学上または化粧上許容可能な賦形剤を含む
ことを特徴とする組成物に関する。
本発明のもう一つの特徴によれば、前記組成物は、組成物の総重量に対して２〜６重量％の含量のビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン（ＢＥＭＴ）をも有する。
本発明のもう一つの特徴によれば、前記組成物は、組成物の総重量に対して１〜５重量％の含量のブチルメトキシジベンゾイルメタン（ＢＭＤＢＭ）をも有する。
最後に、本発明のもう一つの特徴によれば、前記組成物は、好ましくは組成物の総重量に対して１〜１０重量％のもう一つのフィルターを有する。
もう一つの面によれば、本発明は、ブチルメトキシジベンゾイルメタン（ＢＭＤＢＭ）ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン（ＢＥＭＴ）、およびメチレンビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール（ＭＢＢＴ）の組合せの使用であって、ＢＥＭＴ／ＢＭＤＢＭ質量比が１以上であり、好ましくは１．５以上であり、かつ、オクトクリレン、ＰＡＢＡおよびエチルヘキシルメトキシ桂皮酸の非存在下において光保護組成物中のＢＭＤＢＭを光安定化するための組合せの使用にも関する。
「光安定化、光に安定なまたは光安定性」とは、本発明の意味において、５ＭＥＤ、好ましくは１０ＭＥＤの照射後に、
・総ＳＰＦ（２９０〜４００ｎｍ）の少なくとも８０％、好ましくは少なくとも８５％、更に一層優先的には少なくとも９０％、および
・ＵＶＡ ｐａｒｔ（３２０〜４００ｎｍ）について、総ＳＰＦの少なくとも８０％、好ましくは少なくとも８５％、更に一層優先的には少なくとも９０％
が保持されることを意味する。
好ましくは、本発明による組合せまたは組成物はまた、ＰＡＢＡ（商標）を含まない。
本発明による組合せは、皮膚に完全かつ均一に分布される有機脂溶性フィルター（ＢＭＤＢＭおよびＢＥＭＴなど）および水性相中に分散し吸収応答を一層良好にすることにより効果を一層良好にする有機スクリーン（ＭＢＢＴ）を組み合わせている光に安定な光保護システムを表す。
好ましくは、本発明による組成物は、
・最大幅の可能なＵＶ吸収スペクトル（最大スペクトル範囲２９０〜４００ｎｍ）を有し、
・現行規制に準じて、臨界波長λｃが３７０ｎｍ以上でありかつＳＰＦ／ＵＶＡ比が３以下である
光保護システムが得られるように調整される。
更に優先的には、本発明の組成物は、日焼け防止に関して最大カテゴリー、すなわちＳＰＦ５０＋を有するものに相当することがある。
下記のＵＶＢフィルターの１個以上を、本発明による組成物に添加することができる：・サリチル酸塩：ホモサレート、エチルヘキシルサリシレート、
・フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
・エチルヘキシルトリアゾン、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
・ＴｉＯ２
・トリス−ビフェニルトリアジン。
前記のＵＶＢフィルターは、耐性、毒性、光安定化およびＵＶ吸収の観点から満足であると考えられるＵＶＢフィルターである。従って、ホモサレートに関する予防措置として、好ましくは、下記のＵＶＢフィルターまたはフィルター類が好ましい：
・エチルヘキシルサリシレート、
・フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
・エチルヘキシルトリアゾン、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
・ＴｉＯ２、
・トリス−ビフェニルトリアジン。
更に、この組成物は、優先的には光、空気、湿度および温度に安定である。
本発明のもう一つの主題は、
− ブチルメトキシジベンゾイルメタン（ＢＭＤＢＭ）、ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン（ＢＥＭＴ）、およびメチレンビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール（ＭＢＢＴ）（ここで、
ｉ． ＢＥＭＴ／ＢＭＤＢＭ質量比が１以上であり、好ましくは１．５以上であり、
ｉｉ． ＢＭＤＢＭの含量が組成物の総重量に対して１重量％〜５重量％であり、
ｉｉｉ． ＭＢＢＴの量が組成物の総重量に対して３重量％〜７重量％である）と、
− 更に、下記のフィルター：
・エチルヘキシルサリシレート、
・フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
・エチルヘキシルトリアゾン、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
・ＴｉＯ２
・トリス−ビフェニルトリアジン
から選択される１種類以上のＵＶＢフィルター
を含んでなる光安定化した組合せと、
薬学上または化粧上許容可能な賦形剤
とを含む組成物に関する。
本発明の一つの具体的実施態様では、ＵＶＢフィルターまたはフィルター類の量は、組成物の重量に対して全体で１重量％〜１０重量％である。
本発明のもう一つの実施態様では、組成物は、組成物の重量に対して１重量％〜１０重量％の量の、好ましくは組成物の重量に対して１重量％〜５重量％の量の単一種の追加のＵＶＢフィルターを含む。
本発明の一つの具体的実施態様では、組成物は、下記のフィルター：
・エチルヘキシルサリシレート、
・フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
・エチルヘキシルトリアゾン、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
・ＴｉＯ２、
・トリス−ビフェニルトリアジン
から選択される単一のＵＶＢフィルターを含む。
本発明は、最後に、
− ブチルメトキシジベンゾイルメタン（ＢＭＤＢＭ）、ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン（ＢＥＭＴ）、およびメチレンビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール（ＭＢＢＴ）であって、ＢＥＭＴ／ＢＭＤＢＭ質量比が１以上であり、好ましくは１．５以上であるものと、
− 下記のフィルター：
・エチルヘキシルサリシレート、
・フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
・エチルヘキシルトリアゾン、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
・ＴｉＯ２、
・トリス−ビフェニルトリアジン
から選択される１種類以上のＵＶＢフィルター、好ましくは上記のフィルターから選択されるＵＶＢフィルター１種類のみ
を含む組合せの使用であって、光保護組成物中のＢＭＤＢＭを光安定化することに関する。
「薬学上または化粧上許容可能な賦形剤」は、組成物を製造し、保存しまたは投与するための任意のアジュバントまたは賦形剤を意味する。
本発明による組成物は、一層具体的には日焼け止め組成物であってもよい。それらは、具体的には皮膚（顔および／または身体）および／または毛髪を紫外線から保護しようとするものである。
本発明は、前記組成物を皮膚（顔および／または身体）および／または毛髪に塗布することを含んでなる、皮膚（顔および／または身体）および／または毛髪を紫外線から保護する方法にも関する。
本発明による組成物は、従来の化粧用または医薬用のアジュバント、具体的には脂肪、有機溶媒、増粘剤、柔軟剤、乳白剤、安定剤、軟化剤、消泡剤、保湿剤、芳香剤、防腐剤、ポリマー、充填剤、金属イオン封鎖剤、殺菌剤、臭気吸収剤、塩基性化または酸性化剤、界面活性剤、フリーラジカル捕捉剤、酸化防止剤、ビタミンＥおよびＣ、α−ヒドロキシ酸、または詳細には日焼け止め組成物の製造を目的とする化粧品または医薬品で普通に用いられる任意の他成分から選択される従来の化粧用または医薬用のアジュバントを含んでなることもある。
脂肪は、油またはワックス、またはそれらの混合物からなることがあり、それらは脂肪酸、脂肪アルコールおよび脂肪酸エステルも包含する。油は、動物、植物、鉱物または合成油、特にワセリン油、パラフィン油、揮発性または不揮発性シリコーン油、イソパラフィン、ポリオレフィン、およびフッ素化および過フッ素化油から選択することができる。
同様に、ワックスは、蜜蝋、カンデリラワックス、カルナウバワックス、石油ワックス（または微晶質ワックス）、パラフィン、およびそれらの混合物のような動物、化石、植物または合成ワックスから選択することができる。
組成物は、更に、室温（約２５℃）で水混和性ポリオール、詳細には２〜２０個の炭素原子を有し、好ましくは２〜１０個の炭素原子を有し、優先的には２〜６個の炭素原子を有するポリオール、例えば、グリセリン；プロピレングリコール、ブチレングリコール、ペンチレングリコール、ヘキシレングリコール、ジプロピレングリコールおよびジエチレングリコールなどのグリコール誘導体；モノ−、ジ−またはトリ−プロピレングリコールのＣ１〜Ｃ４アルキルエーテル、モノ−、ジ−またはトリエチレングリコールのＣ１〜Ｃ４アルキルエーテルおよびそれらの混合物などのグリコールエーテルから選択される水混和性ポリオールを含んでなることもできる。
組成物は、例えば、非イオン性のエトキシル化して疎水性に改質したウレタンのような増粘剤またはレオロジー改質剤、アクリレート／ステアレス２０メタクリレートコポリマー、カルボマー、架橋アクリレートコポリマーおよびそれらの混合物のようなポリカルボン酸増粘剤を含んでなることもできる。
組成物は、酸および塩基を含んでなり、前記組成物のｐＨ領域を調節することもできる。塩基は、無機物（水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニアなど）または有機物、例えば、モノ−、ジ−またはトリエタノールアミン、アミノメチルプロパンジオール、Ｎ−メチルグルカミン、アルギニンおよびリシンのような塩基性アミノ酸、およびそれらの混合物であることができる。
組成物は、皮膚コンディショナーを含んでなることもできる。皮膚コンディショナーの例としては、ラウリル硫酸ナトリウム、ジオクチルスルホコハク酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、ソルビタンエステル、エトキシル化脂肪酸、エトキシル化脂肪アルコール（トリデセス−９およびＰＥＧ−５エチルヘキサノエートなど）のようなアニオン性、カチオン性およびノニオン性界面活性剤、、熟練者に知られている任意の他の乳化剤およびコンディショニング剤、およびそれらの混合物が挙げられるが、これらに限定されない。
本発明による組成物は、更に、詳細には保湿剤、角質剥離剤、バリアー機能向上剤、脱色素剤、酸化防止剤、皮膚収斂剤、糖化防止剤、皮膚および／または表皮高分子の合成刺激剤および／またはそれらの分解防止剤、線維芽細胞またはケラチン生成細胞増殖刺激剤及び／またはケラチン生成細胞分化刺激剤、ＮＯシンターゼ阻害剤、皮脂腺の活性増加剤、テンション剤、脂肪再構成剤、痩身剤、皮膚微小循環促進剤、無痛化および／または刺激剤、皮脂調節または脂漏防止剤、収斂剤、創傷治癒剤、抗炎症剤、抗ニキビ剤、およびそれらの混合物から選択される追加の活性剤を含んでなることもできる。
本発明による組成物は、特に皮膚および／または毛髪に局所適用の目的で任意の適当な形態で提供することができる。詳細には、それらは、水性相に脂肪性相を分散させることによって得られるエマルション、例えば１または複数の水中油または油中水エマルションの形態、またはゲルまたは無水液状、ペースト状若しくは固形生成物の形態、または球状体の存在下における分散体の形態とすることができる。本発明による組成物は、流動性を少なくすることもでき、白色または着色したクリーム、軟膏、ミルク、ローション、乳清、ペースト、マスク、粉末、固形スティックまたは場合によってはエアゾール、泡またはスプレーの形態とすることができる。これらの組成物は、耐水性とすることもできる。
全ＵＶおよびＵＶＡ光安定性を評価するインビトロ法
Ａ）材料
・ＵＶ分光光度計:
分光光度計は、日焼け止め組成物の層を有するまたは持たないプレート表面でのプレートを通過するスペクトル透過率を測定する。
分光光度計は、２９０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲で測定することができるものでなければならない。測定値の読みの間の変動性を少なくし、生成物層の均一性の欠如を補償するため、部位の読み領域は少なくとも０．５ｃｍ２とすることが推奨される。
これらの測定に用いられる分光光度計は、Ｌａｂｓｐｈｅｒｅ（商標）ＵＶ−１０００Ｓまたは２０００Ｓである。
・プレート：
プレートは、その上に日焼け止め組成物を塗布する材料である。この材料は、ＵＶ透過性であり、非蛍光性であり、光に安定であり、試験組成物の化合物に不活性でなければならない。このプロトコルについては、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）プレートが理想的であることが分かった。
・ＵＶ源：
ＵＶ源は、可視＋ＵＶＡ＋ＵＶＢスペクトルを放射するキセノンアークランプを備えたソーラーシミュレーターである。この研究に用いられるＵＶ源はＳｕｎｔｅｓｔ ＣＰＳ＋（Ａｔｌａｓ）である。
Ｂ）方法：
未処理プレート中の透過率の測定：
最初に、対照プレート中のＵＶ透過率を測定する必要がある。これは、数μｌのグリセリンをプレートの表面が完全に被覆されるように塗り広げることによって調製される。
・試料塗布：
試験を行う試料を、１．３ｍｇ／ｃｍ２の量（プレート上に残っている実際量）でＰＭＭＡプレート上に塗布する。量の精度および結果の再現性を保証するため、塗布領域は１０ｃｍ２より大きい。
試験を行う試料を、プレートの全表面上に分布した同一体積の多数の小滴の形態で塗布する。
生成物の量が正確であることを確かめるために、塗布した生成物の量を確認する方法を採用しなければならない（例えば、生成物の塗布前および後のプレートを秤量する）。
画定量の試料を塗布した後、試料をプレート全体にわたってできるだけ速やかに（３０秒間未満）塗り広げるべきである．
次いで、試料を、室温にて暗所に１５分間置き、均質なフィルムの形成を促進させる。
・試料で処理したプレート中の透過率の測定：
試料で処理したプレートを分光光度計で分析し、試料を通る紫外線透過率の平均値を、２９０ｎｍ〜４００ｎｍのそれぞれの波長について測定する（プレートの様々な箇所で測定した単色吸光度データーを使用）。
・測定回数：
少なくとも３個のＰＭＭＡプレートを、それぞれの試料について調製すべきである。それぞれのプレートは、ほぼ全表面を分光光度法によって測定しない限り、少なくとも９箇所の異なる部分で測定すべきである。
Ｃ）光安定性の計算：
５および１０ＭＥＤの線量の照射前および後の吸光度データーＡ（λ）からのインビトロでのＳＰＦおよびＵＶＡ（ＰＰＤ）の計算
Figure 2018135358
 （式中、
Ｅ（λ）＝ 紅斑有効性スペクトル
Ｓ（λ）＝ 太陽スペクトル照度
Ａ（λ）＝ 試料吸光度
ｄλ ＝ 波長変動（１ｎｍ））
Figure 2018135358
 （式中、
Ｐ（λ）＝ ＰＰＤ作用スペクトル（持続性色素黒化）
Ｉ（λ）＝ 太陽スペクトル照度
Ａ（λ）＝ 試料吸光度
ｄλ ＝ 波長変動（１ｎｍ）
下式からの光安定性の計算：
総ＵＶ光安定性＝ 照射前のＳＰＦ
照射後のＳＰＦ
ＵＶＡ光安定性＝ 照射前のＰＰＤ
照射後のＰＰＤ
組成物例
組成物１
Figure 2018135358
組成物２
Figure 2018135358
光安定性の結果
Figure 2018135358

Claims (10)

  1. ブチルメトキシジベンゾイルメタン（ＢＭＤＢＭ）、ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン（ＢＥＭＴ）、およびメチレンビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール（ＭＢＢＴ）
    （ここで、
    ｉ． ＢＥＭＴ／ＢＭＤＢＭ質量比が１以上であり、好ましくは１．５以上であり、
    ｉｉ． ＢＭＤＢＭの含量が組成物の総重量に対して１重量％〜５重量％であり、
    ｉｉｉ． ＭＢＢＴの量が組成物の総重量に対して３重量％〜７重量％である）
    の光安定化した組合せを含む組成物であって、
    オクトクリレン、ＰＡＢＡまたはエチルヘキシルメトキシ桂皮酸を含まない前記組合せと、
    薬学上または化粧上許容可能な賦形剤
    とを含む組成物。
  2. ＢＥＭＴ含量が組成物の総重量に対して２重量％〜６重量％である、請求項１に記載の組成物。
  3. 組成物の総重量に対して１重量％〜１０重量％の量で含まれる１種類以上の追加フィルターを含む、請求項２に記載の組成物。
  4. 追加フィルターが、下記のフィルター：
    ・エチルヘキシルサリシレート、
    ・フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
    ・エチルヘキシルトリアゾン、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
    ・ＴｉＯ２、
    ・トリス−ビフェニルトリアジン、並びに
    それらの混合物
    から選択されるＵＶＢフィルターである、請求項３に記載の組成物。
  5. 組成物の重量に対して１重量％〜１０重量％の量で含まれ、好ましくは組成物の重量に対して１重量％〜５重量％の量で含まれる単一の追加ＵＶＢフィルターを含む、請求項４に記載の組成物。
  6. 光保護システムとして用いるための、請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物。
  7. ブチルメトキシジベンゾイルメタン（ＢＭＤＢＭ）、ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン（ＢＥＭＴ）、およびメチレンビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール（ＭＢＢＴ）の組合せの使用であって、ＢＥＭＴ／ＢＭＤＢＭ質量比が１以上であり、好ましくは１．５以上であり、オクトクリレン、ＰＡＢＡおよびエチルヘキシルメトキシ桂皮酸の非存在下において、光保護組成物中のＢＭＤＢＭを光安定化するための使用。
  8. ＢＭＤＢＭ含量が組成物の総重量に対して１重量％〜５重量％である、請求項７に記載の使用。
  9. ＢＥＭＴ含量が組成物の総重量に対して２重量％〜６重量％である、請求項７または８に記載の使用。
  10. ＭＢＢＴ含量が組成物の総重量に対して３重量％〜７重量％である、請求項７〜９のいずれか一項に記載の使用。
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