KR20140125402A - 부틸 메톡시디벤조일메탄 (ｂｍｄｂｍ)광안정화를 위한 선스크린 조성물 및 조합물 - Google Patents

부틸 메톡시디벤조일메탄 (ｂｍｄｂｍ)광안정화를 위한 선스크린 조성물 및 조합물 Download PDF

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Abstract

본 발명은 부틸 메톡시디벤조일메탄 (BMDBM), 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진 (BEMT), 및 메틸렌 비스-벤조트리아졸일 테트라메틸부틸페놀 (MBBT)의 광안정화 조합물 및 약학적 또는 화장학적 허용 가능한 부형제를 함유하는 조성물에 있어서, i. BEMT/BMDBM 중량비는 1 이상 바람직하게는 1.5 이상, ii. BMDBM 함량은 조성물 총 중량에 대하여 1% 내지 5중량%로 이루어지고, iii. MBBT 함량은 조성물 총 중량에 대하여 3% 내지 7중량% 로 이루어지고, 상기 조합물은 옥토크릴렌, PABA 또는 에틸헥실 메톡시신나메이트를 함유하지 않는, 조성물에 관한 것이다.

Description

부틸 메톡시디벤조일메탄 (ＢＭＤＢＭ)광안정화를 위한 선스크린 조성물 및 조합물{COMPOSITION AND ASSOCITAION OF SUNSCREENS FOR PHOTOSTABILIZING BUTYL METHOXYDIBENZOYLMETHANE (BMDBM)}
본 발명은 부틸 메톡시디벤조일메탄 (BMDBM) 광안정화를 위한 선스크린들의 조합물에 관한 것이다.
피부 변화, 광노화 촉진, 피부 탄력 상실 등에 이를 수 있는 장기간 노출 관련 손상을 제한하기 위하여 UVA (320-400 nm)에 대한 보호는 중요하다.
먼저, 본 발명의 범위에 속하는 주요 차단제 (filter)의 명명 및 약어를 살펴본다:
- 부틸 메톡시디벤조일메탄 (BMDBM) = 아보벤존 = CAS 등록번호: 70356-09-1, DSM 상표 Parsol1789®로 판매되는 차단제,
- 2,4-비스[4-(2-에틸헥실옥시)-2-히드록시페닐]-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진 = 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진 (BEMT) = 베모트리니놀 = CAS 등록번호: 187393-00-6, BASF 상표 Tinosorb S®로 판매되는 차단제,
- 2,2’-메틸렌-비스-(6-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-페놀 = 메틸렌 비스-벤조트리아졸일 테트라메틸부틸페놀 (MBBT) = 비스옥트리졸 = CAS 등록번호: 103597-45-1, BASF 상표 Tinosorb M®로 판매되는 차단제.
부틸 메톡시디벤조일메탄 (BMDBM)은 UV 복사선 안정 차단제는 아니다. 분자 절단으로 흡수 활성이 없는 다양한 화학적 성분들로 분해된다.
기타 차단제 (예를들면 에틸헥실 메톡시신나메이트)과의 조합물에서도, BMDBM은 여전히 절단되고 차광 특성 (photoprotective properties)이 상실된다.
BMDBM은 종종 이것을 광안정화 시키는 옥토크릴렌, 또는 PABA® (파라-아미노벤조산)와 조합된다. 그러나, 옥토크릴렌은 강력한 알레르겐이므로 아동에게 접촉성 피부염 및 케토프로펜과 교차 알레르기를 유발한다.
최근 선행자료는 합성 또는 천연 파이토인 또는 파이토플루엔 첨가로 인한 BMDBM 안정화를 교시한 US20110212040를 포함한다.
본 발명의 목적은 현재 규정에 따른 차광계 (photoprotective system)로 개발되면서도 BMDBM 광안정화를 위한 새로운 대안을 제공하는 것이다.
본 발명은 부틸 메톡시디벤조일메탄 (BMDBM), 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진 (BEMT), 및 메틸렌 비스-벤조트리아졸일 테트라메틸부틸페놀 (MBBT)의 조합물에 관한 것이고 다음과 같은 특징을 가진다:
- BEMT/BMDBM 중량비는 1 이상, 바람직하게는 1.5 이상이고
- 상기 조합물은 옥토크릴렌을 함유하지 않는다.
본 발명은 부틸 메톡시디벤조일메탄 (BMDBM), 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진 (BEMT), 및 메틸렌 비스-벤조트리아졸일 테트라메틸부틸페놀 (MBBT)의 광안정화 조합물 함유 조성물에 관한 것이고,
i. BEMT/BMDBM 중량비는 1 이상 바람직하게는 1.5 이상이고
ii. BMDBM함량은 조성물 총 중량에 대하여 1% 내지 5중량%이며,
iii. MBBT 함량은 조성물 총 중량에 대하여 3% 내지 7중량%이고,
상기 조합물은 옥토크릴렌, PABA 또는 에틸헥실 메톡시신나메이트를 함유하지 않고, 약학적 또는 화장학적 허용 가능한 부형제로 구성된다.
본 발명의 하나의 특정 실시태양에서, BEMT/ BMDBM 중량비는 5 이하, 바람직하게는 4 이하 및 더욱 바람직하게는 3 이하이다.
유리하게는, BEMT/BMDBM 중량비는 1 내지 5, 유리하게는 1.5 내지 5 및 더욱 바람직하게는 1.5 내지 3에서 선택된다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, BEMT 함량은 조성물 총 중량에 대하여 2% 내지 6중량%로 이루어진다.
본 발명에 있어서, BEMT/BMDBM 중량비는 주요 특징부로 고려된다. 이는 상이한 태양광 차단제인 BEMT, BMDBM 및 MBBT의 농도가 각각의 농도 비율로 우선적으로 조정되어야 한다는 것을 의미한다.
본 발명의 다른 주제는 다음과 같은 특징을 가지는 BMDBM, BEMT 및 MBBT의 조합물 및 약학적 또는 화장학적 허용 가능한 부형제를 함유한 조성물에 관한 것이다:
- BEMT/BMDBM 중량비는 1 이상 바람직하게는 1.5 이상이고
- 상기 조합물은 옥토크릴렌을 함유하지 않고,
- MBBT 함량은 조성물 총 중량에 대하여 3 % 내지 7중량%로 이루어진다.
본 발명의 다른 주제는 다음과 같은 특징을 가지는 BMDBM, BEMT 및 MBBT의 조합물 및 약학적 또는 화장학적 허용 가능한 부형제를 함유한 조성물에 관한 것이다:
- BEMT/BMDBM 중량비는 1 이상 바람직하게는 1.5 이상이고,
- 상기 조합물은 옥토크릴렌, PABA 또는 에틸헥실 메톡시신나메이트를 함유하지 않고,
- MBBT 함량은 조성물 총 중량에 대하여 3 % 내지 7중량%로 이루어진다.
본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 조성물의 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진 (BEMT) 함량이 조성물 총 중량에 대하여 2 내지 6중량%로 이루어진다.
본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 조성물의 부틸 메톡시디벤조일메탄 (BMDBM) 함량이 조성물 총 중량에 대하여 1 내지 5 중량%로 이루어진다.
마지막으로, 본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 조성물은, 바람직하게는 조성물 총 중량에 대하여 1 내지 10 중량%의 다른 차단제를 더욱 포함한다.
다른 양태에 따르면, 본 발명은 또한 부틸 메톡시디벤조일메탄 (BMDBM) 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진 (BEMT), 및 메틸렌 비스-벤조트리아졸일 테트라메틸부틸페놀 (MBBT)의 조합물 용도에 관한 것이고, 이때 BEMT/BMDBM 중량비는 1 이상 바람직하게는 1.5 이상이고, 차광 조성물에서 BMDBM를 광안정화 시키기 위한 옥토크릴렌, PABA 및 에틸헥실 메톡시신나메이트은 부재이다.
본 발명에서 “광안정성, 빛 안정성 또는 광안정도”란, 5 MED 및 바람직하게는 10 MED 복사선 조사 후, 다음이 유지되는 것을 의미한다:
- 총 SPF (290 내지 400 nm)의 적어도 80% 및 바람직하게는 적어도 85% 및 더욱 바람직하게는 적어도 90%; 및
- 총 SPF의 UVA 부분 (320 내지 400 nm)에 대하여 적어도 80% 및 바람직하게는 적어도 85% 및 더욱 바람직하게는 적어도 90%.
바람직하게는, 본 발명에 의한 조합물 또는 조성물은 또한 PABA®를 함유하지 않는다.
본 발명에 의한 조합물은 represent combining 피부에 완벽하게 균일 분포되는 유기 지방-용해성 차단제 (예컨대 BMDBM 및 BEMT) 및 수상에 분산되는 (MBBT와 같은) 유기 스크린 (screen)을 함유한 광안정성 차광계들로서 양호한 흡수 응답 및 따라서 양호한 효능을 보인다.
바람직하게는, 본 발명에 의한 조성물은 다음 특성과 같은 차광계를 획득하도록 구성된다:
- 가장 광범위한 UV 흡수 스펙트럼 (최대 분광 범위는 290 내지 400 nm)을 가지고,
- 임계 파장 λc 370 nm 이상 및 SPF/UVA 비율 3 이하의 현재 규정들을 만족.
더욱 바람직하게는, 본 발명에 의한 조성물은 일광 차단 측면에서 최대 카테고리에 해당하는, 즉 SPF 50+을 가진다.
하나 이상의 다음 UVB 차단제가 본 발명에 의한 조성물에 첨가될 수 있다:
- 살리실레이트: 호모살레이트, 에틸헥실 살리실레이트
- 페닐벤지미다졸 술폰산
- 에틸헥실 트리아존, 디에틸헥실 부타미도 트리아존
- TiO2
- 트리스-비페닐 트리아진
상기 UVB 차단제는 내성, 독성, 광안정성 및 UV 흡수 관점에서 만족스러운 UVB 차단제이다. 따라서, 호모살레이트에 대하여는 예비적으로, 바람직하게는 다음 UVB 차단제 또는 차단제들이 바람직하다:
- 에틸헥실 살리실레이트
- 페닐벤지미다졸 술폰산
- 에틸헥실 트리아존, 디에틸헥실 부타미도 트리아존
- TiO2
- 트리스-비페닐 트리아진
또한, 본 조성물은 유리하게는 빛, 공기, 습기 및 온도에 대하여 안정하다.
본 발명의 다른 주제는 다음으로 구성되는 광안정화 조합물 및 약학적 또는 화장학적 허용 가능한 부형제를 함유하는 조성물에 관한 것이다:
- 부틸 메톡시디벤조일메탄 (BMDBM), 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진 (BEMT), 및 메틸렌 비스-벤조트리아졸일 테트라메틸부틸페놀 (MBBT) 여기에서:
i. BEMT/BMDBM 중량비는 1 이상 바람직하게는 이상 1.5이고
ii. BMDBM 함량은 조성물 총 중량에 대하여 1% 내지 5중량%로 이루어지고,
iii. MBBT 함량은 조성물 총 중량에 대하여 3% 내지 7중량%로 이루어진다,
- 부가적으로, 다음 차단제들에서 선택되는 하나 이상의 UVB 차단제:
에틸헥실 살리실레이트, 페닐벤지미다졸 술폰산, 에틸헥실 트리아존, 디에틸헥실 부타미도 트리아존, TiO2, 트리스-비페닐 트리아진.
본 발명의 하나의 특정 실시태양에서, UVB 차단제 또는 차단제들의 총 함량은 조성물 중량에 대하여 1 내지 10중량%로 이루어진다.
본 발명의 다른 실시태양에서, 조성물은 조성물 중량에 대하여 1% 내지 10중량% 및 바람직하게는 조성물 중량에 대하여 1% 내지 5중량%의 단일 추가 UVB 차단제를 함유한다.
본 발명의 하나의 특정 실시태양에서, 조성물은 다음 차단제들에서 선택되는 단일 UVB 차단제를 함유한다:
에틸헥실 살리실레이트, 페닐벤지미다졸 술폰산, 에틸헥실 트리아존, 디에틸헥실 부타미도 트리아존, TiO2, 트리스-비페닐 트리아진.
마지막으로 본 발명은, 차광 조성물에서 BMDBM을 광안정화 시키기 위하여 다음을 함유하는 조합물의 용도에 관한 것이다:
- 부틸 메톡시디벤조일메탄 (BMDBM), 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진 (BEMT), 및 메틸렌 비스-벤조트리아졸일 테트라메틸부틸페놀 (MBBT), 이때 BEMT/BMDBM 중량비는 1 이상 바람직하게는 1.5 이상이고,
- 다음 차단제들에서 선택되고 바람직하게는 단지 1종의 UVB 차단제를 함유하는 하나 이상의 UVB 차단제:
에틸헥실 살리실레이트, 페닐벤지미다졸 술폰산, 에틸헥실 트리아존, 디에틸헥실 부타미도 트리아존, TiO2, 트리스-비페닐 트리아진
“약학적 또는 화장학적 허용 가능한 부형제”란 조성물 제조, 보전 또는 투여를 위한 임의의 보조제 또는 부형제를 의미한다.
본 발명에 의한 조성물은 더욱 상세하게는 선스크린 조성물이다. 특히 피부 (안면 및/또는 신체) 및/또는 모발을 자외선으로부터 보호하기 위한 선스크린 조성물이다.
또한 본 발명은 피부 (안면 및/또는 신체) 및/또는 모발을 자외선으로부터 보호하는 방법에 관한 것이고 상기 조성물을 피부 (안면 및/또는 신체) 및/또는 모발에 도포하는 단계로 구성된다.
본 발명에 의한 조성물은 지방, 유기용매, 증점제, 연화제, 불투명화제, 안정화제, 완화제, 소포제 수분공급제, 방향제, 보존제, 폴리머, 충전제, 금속이온봉쇄제, 살균제, 악취흡착제, 염기성 또는 산성화제, 계면활성제, 자유-라디칼 제거제, 항산화제, 비타민 E 및 C, 알파-히드록시산 또는 특히 선스크린 조성물 제조용 화장품 또는 약품에 통상 사용되는 임의의 기타 성분들에서 선택되는 통상적인 화장 또는 약학 보조제를 더욱 포함한다.
지방은 오일 또는 왁스 또는 이들의 혼합물로 이루어지고, 지방산, 지방알코올 및 지방산에스테르를 더욱 포함한다. 오일은 동물성, 식물성, 광유 또는 합성오일 및 특히 바세린 오일, 파라핀 오일, 휘발성 또는 비휘발성 실리콘 오일, 이소파라핀, 폴리올레핀 및 불소화 및 과불소화 오일에서 선택된다. 유사하게, 왁스는 동물성, 화석, 식물성 또는 합성 왁스 예컨대 밀랍, 칸델리라 왁스, 카나우바 왁스, 석유 왁스 (또는 미세결정질 왁스), 파라핀, 및 이들의 혼합물에서 선택된다.
조성물은 특히 2 내지 20개의 탄소원자들, 바람직하게는 2 내지 10개의 탄소원자들, 유리하게는 2 내지 6개의 탄소원자들을 가지는 폴리올, 예컨대 글리세린; 글리콜 유도체들 예컨대 프로필렌 글리콜, 부틸렌 글리콜, 펜틸렌 글리콜, 헥실렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜 및 디에틸렌 글리콜; 글리콜 에테르 예컨대 모노-, 디- 또는 트리-프로필렌 글리콜의 C1-C4 알킬 에테르, 모노-, 디- 또는 트리에틸렌 글리콜의 C1-C4 알킬 에테르 및 이들의 혼합물에서 선택되는 실온 (대략 25°C)에서 수-혼화성인 폴리올을 더욱 포함한다.
조성물은 증점제 또는 유동개질제, 예를들면, 비이온성 에톡시화 소수성 개질 우레탄, 폴리카르복실산 증점제 예컨대 아크릴레이트/스테아레스 20 메타크릴레이트 공중합체, 카보머, 가교화 아크릴레이트 공중합체 및 이들의 혼합물을 더욱 포함한다.
조성물은 상기 조성물의 pH 조절을 위한 산 및 염기를 더욱 포함한다. 염기는 무기 (수산화나트륨, 수산화칼륨, 암모니아, 등) 또는 유기 예컨대 모노-, 디- 또는 트리에탄올아민, 아미노메틸프로판디올, N-메틸글루카민, 염기성 아미노산 예컨대 알기닌 및 리신, 및 이들의 혼합물일 수 있다.
조성물은 피부 컨디셔너를 더욱 포함한다. 예시적 피부 컨디셔너는, 제한되지는 않지만, 음이온성, 양이온성 및 비이온성 계면활성제 예컨대 라우릴황산나트륨, 디옥틸황화숙신산나트륨, 스테아린산나트륨, 소르비탄에스테르, 에톡시화 지방산, 에톡시화 지방알코올 예컨대 트리데세스-9 및 PEG-5 에틸헥사노에이트; 당업자에게 알려진 임의의 기타 유화제 및 분산제 (conditioning agent), 및 이들의 혼합물을 포함한다.
본 발명에 의한 조성물은 특히 수분공급제, 박리제, 장벽기능 개선제, 미백제, 항산화제, 피부 탄력제, 항-당화제, 진피 및/또는 상피 거대분자 합성 자극 및/또는 분해 방지제, 섬유아세포 또는 각질세포 증식 및/또는 각질세포 분화 자극제, NO 생성효소 억제제, 피지선 활성 증가제, 팽창제, 리포-재구성제, 체중감소제, 피부 미소순환 촉진제, 진정제 및/또는 자극성 작용제, 세보-조정제 또는 항-지루성 조제, 수렴제, 상처치료제, 소염제, 항-여드름 조제, 및 이들의 혼합물에서 선택되는 추가 활성제를 더욱 포함한다.
본 발명에 의한 조성물은 특히 피부 및/또는 모발 국소 도포용으로 적합한 임의의 형태로 제공된다. 특히, 지방상을 수상에 분산시켜 획득되는 에멀젼 형태, 예를들면 하나 이상의 수-중-유 또는 유-중-수 에멀젼, 또는 겔 또는 무수 액상, 점착성 (pasty) 또는 고체 생성물 형태, 또는 소구체 존재에서의 분산 형태이다. 본 발명에 의한 조성물은 덜 유동성일 수 있고 화이트 또는 유색 크림, 연고, 밀크, 로션, 유액, 페이스트, 마스크, 분말, 고체 스택 또는 선택적으로, 에어로졸, 폼 또는 스프레이일 수 있다. 이들 조성물은 내수성일 수 있다.
토탈 (total) UV 및 UVA 광안정도 생체외 평가방법
A) 재료
- UV 분광광도계:
분광광도계로 표면에 선스크린 조성물 층이 존재하거나 부재하는 플레이트의 분광 투과율을 측정한다.
분광광도계로 290 nm 내지 400 nm 영역을 측정하여야 한다. 측정값 가변성을 줄이고 생성물 층 균일성 결여를 보상하기 위하여, 측정 영역은 적어도 0.5 cm2 정도는 되어야 한다.
이러한 측정에 사용한 분광광도계는 Labsphere® UV-1000S 또는 2000S이다.
- 플레이트:
플레이트는 선스크린 조성물이 도포되는 재료이다. 상기 재료는 UV에 투명, 비-형광성, 광 안정성 및 피험 조성물의 화합물들과 반응하지 않아야 한다. 본 프로토콜에서, 폴리메틸 메타크릴레이트 (PMMA) 플레이트들이 이상적이다.
- UV 광원:
UV 광원은 가시광선 + UVA + UVB 스펙트럼으로 확산되는 제논 아크 램프의 태양광 시뮬레이터이다. 본 연구에서 사용되는 UV 광원은 Suntest CPS+ (Atlas)이다.
B) 방법:
- 미처리 플레이트에 대한 투과율 측정:
먼저, 대조 플레이트에 대한 UV 투과율을 결정한다. 이는 플레이트 표면이 완전히 덮이도록 글리세린 수 마이크로리터를 분산시켜 준비한다.
샘플 도포:
피처리 샘플을 PMMA 플레이트에 1.3 mg/cm2 (플레이트에 잔류하는 실제량)도포하였다. 정확한 양 및 결과 재현성을 보증하기 위하여, 도포 구역은 10 cm²보다 크다.
피처리 샘플을 동일 부피의 다수의 작은 방울들 형태로 플레이트 전체 표면 상에 분포시켜 도포하였다.
생성물의 양이 정확한지를 보증하기 위하여, 생성물 양 확인 방법이 적용된다 (예를들면: 생성물 도포 전후의 플레이트를 계량).
소정량의 샘플을 도포한 후, 전체 플레이트에 가능한 신속하게 (30초 내에) 샘플을 펼친다.
이후 샘플을 실온 암실에 15 분간 정치하여 균질 막 형성을 촉진시킨다.
- 샘플로 처리된 플레이트의 투과율 측정:
샘플로 처리된 플레이트를 분광광도계로 측정하고 샘플 통과 UV 복사선 투과율 평균값을 290 nm 내지 400 nm의 각각의 파장에 대하여 측정하였다 (플레이트의 다른 영역에서 측정된 단색 흡광도 이용).
측정 횟수:
각각의 샘플에 대하여 적어도 3개의 PMMA 플레이트들을 준비하여야 한다. 전체 표면 거의 분광광도계로 측정되지 않는 한 각각의 플레이트에 대하여 적어도 상이한 9 영역들에 대하여 측정한다.
C) 광안정도계산:
5 및 10 MED 선량의 복사선 조사 전후의 흡광도 데이터 A(λ)로부터 생체외 SPF 및 UVA (PPD)를 계산.
생체외 SPF=
Figure pct00001
식 중:
- E(λ)= 홍반 유효 스펙트럼
- S(λ)= 태양광 분광 조도
- A(λ)= 샘플 흡광도
- d λ= 파장 변화 (1 nm)
생체외 PPD =
Figure pct00002
식 중:
-P(λ) = PPD 작용 스펙트럼 (지속형 즉시 흑화)
-I(λ)= 태양광 분광 조도
- A(λ)= 샘플 흡광도
dλ = 파장 변화 (1 nm)
다음 식들로부터 광안정도 계산:
Figure pct00003

조성물 실시예들
조성물 1
성분들 %
부틸 메톡시디벤조일메탄 1-5
비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진 2-6
메틸렌 비스-벤조트리아졸일 테트라메틸부틸페놀 3-7
글리세린 10.0
순수 QSP 100
Na2EDTA 0.1
잔탄검 0.3
C12-C15 알킬 벤조에이트 25.0
보존제 qs
스테아릴알코올 2.5
글리세롤 모노스테아레이트 2.5
세틸인산칼륨 1.8
조성물 2
성분들 %
부틸 메톡시디벤조일메탄 1-5
비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진 2-6
메틸렌 비스-벤조트리아졸일 테트라메틸부틸페놀 3-7
UVB 차단제 1-10
글리세린 10.0
순수 QSP 100
Na2EDTA 0.1
잔탄검 0.3
C12-C15 알킬 벤조에이트 25.0
보존제 qs
스테아릴알코올 2.5
글리세롤 모노스테아레이트 2.5
세틸인산칼륨 1.8
광안정도 결과
광안정도: 조성물 1 조성물 2
토탈 UV - 5 MED 96% 93%
UVA - 5 MED 95% 92%
토탈 UV - 10 MED 92% 90%
UVA - 10 MED 91% 89%

Claims (10)

  1. 부틸 메톡시디벤조일메탄 (BMDBM), 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진 (BEMT), 및 메틸렌 비스-벤조트리아졸일 테트라메틸부틸페놀 (MBBT)의 광안정화 조합물 및 약학적 또는 화장학적 허용 가능한 부형제를 함유하는 조성물에 있어서,
    i. BEMT/BMDBM 중량비는 1 이상 바람직하게는 1.5 이상,
    ii. BMDBM 함량은 조성물 총 중량에 대하여 1% 내지 5중량%로 이루어지고,
    iii. MBBT 함량은 조성물 총 중량에 대하여 3% 내지 7중량% 로 이루어지고, 상기 조합물은 옥토크릴렌, PABA 또는 에틸헥실 메톡시신나메이트를 함유하지 않는, 조성물.
  2. 제1항에 있어서, BEMT 함량은 조성물 총 중량에 대하여 2% 내지 6중량%로 이루어지는, 조성물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 하나 이상의 추가 차단제가 조성물 중량에 대하여 총 1% 내지 10중량%로 존재하는, 조성물.
  4. 제3항에 있어서, 추가 차단제는 에틸헥실 살리실레이트, 페닐벤지미다졸 술폰산, 에틸헥실 트리아존, 디에틸헥실 부타미도 트리아존, TiO2, 트리스-비페닐 트리아진 및 이들의 혼합물에서 선택되는 UVB 차단제인, 조성물.
  5. 제4항에 있어서, 단일 추가 UVB 차단제가 조성물 중량에 대하여 1% 내지 10중량% 바람직하게는 조성물 중량에 대하여 1% 내지 5중량%로 존재하는, 조성물.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 하나의 항에 있어서, 차광계 (potoprotective system)로 사용되는, 조성물.
  7. BEMT/BMDBM중량비가 1 이상 바람직하게는 1.5 이상이고, 옥토크릴렌, PABA 및 에틸헥실 메톡시신나메이트가 존재하지 않는, 부틸 메톡시디벤조일메탄 (BMDBM) 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진 (BEMT), 및 메틸렌 비스-벤조트리아졸일 테트라메틸부틸페놀 (MBBT)의 조합물의, 차광 조성물에서 BMDBM을 광안정화 시키기 위한 용도.
  8. 제7항에 있어서, BMDBM 함량은 조성물 총 중량에 대하여 1% 내지 5중량%로 이루어지는, 차광 조성물에서 BMDBM을 광안정화 시키기 위한 용도.
  9. 제7항 또는 제8항에 있어서, BEMT 함량은 조성물 총 중량에 대하여 2% 및 6중량%로 이루어지는, 차광 조성물에서 BMDBM을 광안정화 시키기 위한 용도.
  10. 제7항 내지 제9항 중 어느 하나의 항에 있어서, MBBT 함량은 조성물 총 중량에 대하여 3 % 및 7중량% 로 이루어지는, 차광 조성물에서 BMDBM을 광안정화 시키기 위한 용도.
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