JP2018133540A - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 - Google Patents
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018133540A JP2018133540A JP2017028453A JP2017028453A JP2018133540A JP 2018133540 A JP2018133540 A JP 2018133540A JP 2017028453 A JP2017028453 A JP 2017028453A JP 2017028453 A JP2017028453 A JP 2017028453A JP 2018133540 A JP2018133540 A JP 2018133540A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- substrate
- holding sheet
- determination
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6831—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using electrostatic chucks
- H01L21/6833—Details of electrostatic chucks
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/3244—Gas supply means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32715—Workpiece holder
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32798—Further details of plasma apparatus not provided for in groups H01J37/3244 - H01J37/32788; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
- H01J37/32816—Pressure
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32917—Plasma diagnostics
- H01J37/3299—Feedback systems
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/306—Chemical or electrical treatment, e.g. electrolytic etching
- H01L21/3065—Plasma etching; Reactive-ion etching
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/306—Chemical or electrical treatment, e.g. electrolytic etching
- H01L21/3065—Plasma etching; Reactive-ion etching
- H01L21/30655—Plasma etching; Reactive-ion etching comprising alternated and repeated etching and passivation steps, e.g. Bosch process
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/31—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to form insulating layers thereon, e.g. for masking or by using photolithographic techniques; After treatment of these layers; Selection of materials for these layers
- H01L21/3105—After-treatment
- H01L21/311—Etching the insulating layers by chemical or physical means
- H01L21/31127—Etching organic layers
- H01L21/31133—Etching organic layers by chemical means
- H01L21/31138—Etching organic layers by chemical means by dry-etching
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67063—Apparatus for fluid treatment for etching
- H01L21/67069—Apparatus for fluid treatment for etching for drying etching
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67098—Apparatus for thermal treatment
- H01L21/67109—Apparatus for thermal treatment mainly by convection
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67253—Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6831—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using electrostatic chucks
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6835—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6835—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
- H01L21/6836—Wafer tapes, e.g. grinding or dicing support tapes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
- H01L21/68735—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by edge profile or support profile
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
- H01L21/68742—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a lifting arrangement, e.g. lift pins
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
- H01L21/68785—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by the mechanical construction of the susceptor, stage or support
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
- H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
- H01L22/20—Sequence of activities consisting of a plurality of measurements, corrections, marking or sorting steps
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/245—Detection characterised by the variable being measured
- H01J2237/24571—Measurements of non-electric or non-magnetic variables
- H01J2237/24585—Other variables, e.g. energy, mass, velocity, time, temperature
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/32—Processing objects by plasma generation
- H01J2237/33—Processing objects by plasma generation characterised by the type of processing
- H01J2237/334—Etching
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67092—Apparatus for mechanical treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2221/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
- H01L2221/67—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L2221/683—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L2221/68304—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
- H01L2221/68327—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used during dicing or grinding
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Dicing (AREA)
Abstract
【解決手段】処理室と、処理室に設けられるとともに、外周部がフレームで固定された保持シートおよび保持シートに保持された基板を載置するステージと、保持シートをステージに固定する固定機構と、処理室の外部に配置され、第1の電極および第1の電極に電力を供給する第1の高周波電源を備えるプラズマ発生部と、保持シートのステージへの接触状態を判定する判定部と、を備えており、ステージの表面は、ガス導入経路に接続された判定用ガス孔を有し、判定用ガス孔は、ステージに載置されるフレームの内縁と基板の外縁との間に対応する環状領域に設けられており、判定部は、判定用ガス孔からステージと保持シートとの間に導入されるガスの、ガス導入経路における圧力または圧力の制御情報に基づいて、接触状態の判定を行う、プラズマ処理装置。
【選択図】図3
Description
本実施形態に係るプラズマ処理装置は、処理室と、処理室に設けられるとともに、外周部がフレームで固定された保持シートおよび保持シートに保持された基板を載置するステージと、保持シートをステージに固定する固定機構と、処理室の外部に配置されるとともに、第1の電極および第1の電極に電力を供給する第1の高周波電源を備えるプラズマ発生部と、保持シートのステージへの接触状態を判定する判定部と、を備える。
基板1は、プラズマ処理の対象物である。基板1は、例えば、本体部の一方の表面に、半導体回路、電子部品素子、MEMS等の回路層を形成した後、回路層とは反対側である本体部の裏面を研削し、厚みを薄くすることにより作製される。基板1を個片化することにより、上記回路層を有する電子部品(図示せず)が得られる。
フレーム2は、基板1の全体と同じかそれ以上の面積の開口を有した枠体であり、所定の幅および略一定の薄い厚みを有している。フレーム2は、保持シート3および基板1を保持した状態で搬送できる程度の剛性を有している。
保持シート3は、例えば、粘着剤を有する面(粘着面3a)と粘着剤を有しない面(非粘着面3b)とを備えている。粘着面3aの外周縁は、フレーム2の一方の面に貼着しており、フレーム2の開口を覆っている。また、粘着面3aのフレーム2の開口から露出した部分には、基板1が貼着される。
次に、図2を参照しながら、本発明の実施形態に係るプラズマ処理装置100の基本構造を説明する。図2は、プラズマ処理装置100の基本構造の断面を概略的に示している。
プラズマ処理装置100は、ステージ111を備えている。搬送キャリア10は、保持シート3の基板1を保持している面が上方を向くように、ステージ111に搭載される。ステージ111は、搬送キャリア10の全体を載置できる程度の大きさを備える。ステージ111の上方には、フレーム2および保持シート3の少なくとも一部を覆うとともに、基板1の少なくとも一部を露出させるための窓部(第3の窓部124W)を有するカバー124が配置されている。カバー124には、フレーム2がステージ111に載置されている状態のとき、フレーム2を押圧するための押さえ部材107が配置されている。押さえ部材107は、フレーム2と点接触できる部材(例えば、コイルバネや弾力性を有する樹脂)であることが好ましい。これにより、フレーム2およびカバー124の熱が互いに影響し合うことを抑制しながら、フレーム2の歪みを矯正することができる。
続いて、本実施形態に係るプラズマ処理装置100を、図3〜図6を用いて説明する。図3および図4は、本実施形態に係るプラズマ処理装置100の要部を示す概念図である。図5および図6は、判定用ガス孔210の位置を説明する概念図である。便宜上、図6では第2の電極120にハッチングを付している。
判定用ガス孔210は、ガス導入経路211に接続している。ガス導入経路211には、ガス導入経路211におけるガスの圧力を測定するマノメータ212、ガスの流量を調節する流量コントローラ(MFC)213、判定用のガスの圧力を調整する調圧バルブ214、ガスを排気するためのバイパス弁215、判定用ガス源216等が接続されている。判定用ガス孔210が複数ある場合には、ガス導入経路211を分岐させて、すべての判定用ガス孔210をガス導入経路211に接続すればよい。判定用ガス源216から供給されるガスは、MFC213で所定の流量に調整され、ガス導入経路211に供給される。そして、マノメータ212により測定されたガス導入経路211内のガス圧力に基づき、調圧バルブ214のバルブ開度を調整することにより、ガス導入経路211内のガス圧力を所定の圧力に調整することができる。バイパス弁215を開くことにより、ガス導入経路211内部のガスは排気される。
保持シート3のシワは、保持シート3に弛みがあることにより生じる。一方、保持シート3の周囲はフレーム2によって固定されているため、適度な張力を備える。したがって、保持シート3に発生するシワは、保持シート3のフレーム2に近い部分に端を発し、保持シート3の基板1が保持されていない領域を横断して、基板1が保持されている領域にまで達するような形状となる場合が多い。つまり、保持シート3の弛みによって基板1に形成されるシワは、ほとんどの場合において、保持シート3の基板1が保持されていない領域を横断するように延在している。したがって、判定用ガス孔210を、ステージ111の表面のフレーム2の内縁2Einと基板1の外縁1Eとの間に対応する環状領域に設けることにより、基板1の接触状態を把握することができる。
静電吸着機構では、ステージ111の内部に配置されたESC電極119に電圧を印加することにより、搬送キャリア10の保持シート3とステージ111との間に吸着力を発生させて、保持シート3およびこれに保持された基板1を、ステージ111に固定する。ESC電極119は、基板1の全面を安定して固定するために、少なくとも基板1に対応する領域に配置されていることが好ましい。特に、本実施形態では、プラズマエッチング工程により基板1が個片化されて、複数の電子部品が形成される。均一なエッチングを行うためには、形成される過程における個々の電子部品の前駆体が、ステージ111に固定された状態でプラズマ処理されることが望ましい。そのため、基板1の全面がステージ111に吸着されていることが好ましく、ESC電極119は、少なくとも基板1に対応する領域に配置されていることが好ましい。
単極型のESC電極119は、少なくとも1つの電極を含む。単極型のESC電極119に2以上の電極が含まれる場合、いずれにも同じ極性の電圧が印加される。単極型のESC電極119を備える静電吸着機構は、吸着メカニズムとしてクーロン力を利用する。ステージ111の上に載置された保持シート3をプラズマにより負電荷に帯電させるとともに、ESC電極119に正極性の電圧を印加する。その結果、電位差により、ESC電極119と帯電した保持シート3との間でクーロン力が働き、搬送キャリア10がステージ111に吸着される。なお、保持シート3を帯電させるためには、真空チャンバ103内でプラズマを発生させ、発生したプラズマに保持シート3を曝せばよい。
ステージ111の内部には、第2の電極120が配置されることが好ましい。プラズマエッチング工程において、第2の電極120に高周波電力が供給されると、真空チャンバ103内にバイアス電圧が発生する。これにより、プラズマP2に含まれるイオンが加速された状態で基板1に入射し、エッチング速度が増加する。
本実施形態に係るプラズマ処理方法は、基板を保持させた保持シートを、プラズマ処理装置に設置されたステージに載置する載置工程と、前記保持シートを前記ステージに固定する固定工程と、前記固定工程の後、前記保持シートの前記ステージへの接触状態の良否を判定する判定工程と、前記判定工程において接触状態が良好であると判定された場合に、前記ステージ上で、前記基板の表面をプラズマP2に晒すことにより前記基板をエッチングする、プラズマエッチング工程と、を備える。これにより、保持シートを介した基板とステージとの接触状態が良好であることを確認した後、プラズマ処理が実行されるため、プラズマ処理が不良になることが抑制される。その結果、製品の歩留まりが向上する。
まず、搬送キャリア10を準備する。搬送キャリア10は、保持シート3をフレーム2の一方の面に貼着し、固定することにより得られる。このとき、図1(b)に示すように、保持シート3の粘着面3aをフレームに対向させる。次いで、保持シート3の粘着面3aに基板1を貼着することにより、基板1を搬送キャリア10に保持させる。
次に、基板1が保持された搬送キャリア10を真空チャンバ103内に搬入する。
真空チャンバ103内では、昇降ロッド121の駆動により、カバー124が所定の位置まで上昇している。続いて、図示しないロードロック室から搬送キャリア10が搬入される。複数の支持部122は、上昇した状態で待機している。搬送キャリア10がステージ111上方の所定の位置に到達すると、支持部122に搬送キャリア10が受け渡される。搬送キャリア10は、保持シート3の基板1を保持している面が上方を向くように、支持部122の上端面に載置される。
搬送キャリア10が支持部122に受け渡されると、真空チャンバ103は密閉状態に置かれる。次に、支持部122が降下を開始する。支持部122の上端面が、ステージ111と同じレベル以下にまで降下することにより、搬送キャリア10は、ステージ111に載置される。続いて、昇降ロッド121が駆動する。昇降ロッド121は、カバー124を所定の位置にまで降下させる。このとき、カバー124に配置された押さえ部材107がフレーム2に点接触できるように、カバー124とステージ111との距離は調節されている。これにより、フレーム2が押さえ部材107によって押圧されるとともに、フレーム2および保持シート3の基板1を保持していない部分がカバー124によって覆われ、基板1はカバー124の第3の窓部124Wから露出する。
固定工程では、ステージ111に載置された搬送キャリア10がステージ111上に固定される。ステージ111がESC電極119を備える場合、ESC電極119に電圧を印加することにより、搬送キャリア10の保持シート3とステージ111との間に吸着力を発生させ、保持シート3、ひいては搬送キャリア10を、ステージ111に固定することができる。
判定工程では、ガス導入経路211におけるガスの圧力あるいはガスの圧力の制御情報に基づいて、接触状態の判定が行われる。具体的には、判定用ガス孔210から、ステージ111と保持シート3との間にガスを導入し、ガスの導入を開始してから規定時間内に、ガスの圧力が規定値に達するか否かによって、保持シート3(基板1)とステージ111との接触状態の良否を判定する。あるいは、判定用ガス孔210から、ステージ111と保持シート3との間にガスを導入する際のガスの圧力の制御情報によって、保持シート3(基板1)とステージ111との接触状態の良否を判定する。図8A((b)、(c))に、接触状態が良好であると判定される場合のグラフを示す。図8B((b)、(c))および図8C((b)、(c))に、接触状態が不良であると判定される場合のグラフを示す。
判定工程において、基板1とステージ111との接触状態が良好であると判定されると、プラズマエッチング工程に進む。一方、接触状態が不良であると判定されると、搬送キャリア10は真空チャンバ103から搬出される。あるいは、再び支持部122が上昇して、搬送キャリア10はステージ111から離間され、載置工程からリトライされる。リトライにおいて、支持部122を上昇あるいは降下させる間に、支持部122を小さく昇降させてもよい。これにより、保持シート3のシワが解消され易くなる。
アッシングが終了すると、真空チャンバ103内のガスが排出される。個片化された基板1を保持する搬送キャリア10は、プラズマ処理装置100から搬出される。搬送キャリア10が搬出されると、真空チャンバ103は再び密閉状態に置かれる。搬送キャリア10の搬出プロセスは、上記のような基板1をステージ111に搭載する手順とは逆の手順で行われてもよい。すなわち、カバー124を所定の位置にまで上昇させた後、ESC電極119への印加電圧をゼロにして、搬送キャリア10のステージ111への吸着を解除し、支持部122を上昇させる。支持部122が所定の位置まで上昇した後、搬送キャリア10は搬出される。
1E:基板の外縁
2:フレーム
2a:ノッチ
2b:コーナーカット
2Ein:フレームの内縁
2Eout:フレームの外縁
3:保持シート
3a:粘着面
3b:非粘着面
10:搬送キャリア
100:プラズマ処理装置
103:真空チャンバ
103a:ガス導入口
103b:排気口
107:押さえ部材
108:誘電体部材
109:第1の電極
110A:第1の高周波電源
110B:第2の高周波電源
111:ステージ
112:プロセスガス源
113:アッシングガス源
114:減圧機構
115:電極層
116:金属層
117:基台
118:外周部
119:ESC電極
119A、119B:半円型の電極対
119E:ESC電極の外縁
119W:第1の窓部
120:第2の電極
120E:第2の電極の外縁
120W:第2の窓部
121:昇降ロッド
122:支持部
123A、123B:昇降機構
124:カバー
124W:第3の窓部
125:冷媒循環装置
126:直流電源
127:冷媒流路
128:制御装置
129:外周リング
210:判定用ガス孔
211:ガス導入経路
212:マノメータ
213:MFC
214:調圧バルブ
215:バイパス弁
216:判定用ガス源
217:自動圧力レギュレータ
217a:圧力計
217b:ピエゾバルブ
217c:流量計
218:オリフィス
Claims (8)
- 処理室と、
前記処理室に設けられるとともに、外周部がフレームで固定された保持シートおよび前記保持シートに保持された基板を載置するステージと、
前記保持シートを前記ステージに固定する固定機構と、
前記処理室の外部に配置され、第1の電極および前記第1の電極に電力を供給する第1の高周波電源を備えるプラズマ発生部と、
前記保持シートの前記ステージへの接触状態を判定する判定部と、を備えており、
前記ステージの表面は、ガス導入経路に接続された判定用ガス孔を有し、
前記判定用ガス孔は、前記ステージに載置される前記フレームの内縁と前記基板の外縁との間に対応する環状領域に設けられており、
前記判定部は、前記判定用ガス孔から前記ステージと前記保持シートとの間に導入されるガスの、前記ガス導入経路における圧力または前記圧力の制御情報に基づいて、前記接触状態の判定を行う、プラズマ処理装置。 - 前記判定用ガス孔が、前記環状領域の前記基板の外縁寄りに設けられている、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記固定機構が、前記ステージの内部に配置された、一対の半円型電極を備える静電吸着機構であり、
前記半円型電極は、その外縁の円弧部分が、前記ステージに載置される前記フレームの外縁と前記基板の前記外縁との間に配置されるとともに、前記判定用ガス孔に対応する位置に第1の窓部を備える、請求項1または2に記載のプラズマ処理装置。 - さらに、前記ステージの内部に配置される第2の電極、および、前記第2の電極に電力を供給する第2の高周波電源を備えるバイアス電圧発生部を備え、
前記第2の電極は、その外縁が、前記ステージに載置される前記フレームの外縁と前記基板の前記外縁との間に配置されるとともに、前記判定用ガス孔に対応する位置に第2の窓部を備える、請求項1〜3のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。 - 外周部がフレームで固定されるとともに基板を保持させた保持シートを、プラズマ処理装置に設置されたステージに載置する載置工程と、
前記保持シートを前記ステージに固定する固定工程と、
前記固定工程の後、前記保持シートの前記ステージへの接触状態を判定する判定工程と、
前記判定工程において接触状態が良好であると判定された場合に、前記ステージ上で、前記基板の表面をプラズマに晒すことにより前記基板をエッチングする、プラズマエッチング工程と、を備え、
前記ステージの表面は、ガス導入経路に接続された判定用ガス孔を有し、
前記判定用ガス孔は、前記ステージに載置される前記フレームの内縁と前記基板の外縁との間に対応する環状領域に設けられており、
前記判定工程において、前記判定用ガス孔から前記ステージと前記保持シートとの間にガスを導入し、前記ガス導入経路における前記ガスの圧力または前記圧力の制御情報に基づいて、前記接触状態の判定を行う、プラズマ処理方法。 - 前記判定用ガス孔が、前記環状領域の前記基板の外縁寄りに設けられている、請求項5に記載のプラズマ処理方法。
- 前記ステージの内部に、一対の半円型電極が配置されており、
前記半円型電極は、その外縁の円弧部分が、前記ステージに載置される前記フレームの外縁と前記基板の前記外縁との間に配置されるとともに、前記判定用ガス孔に対応する位置に第1の窓部を備えており、
前記固定工程では、前記一対の半円型電極に電圧を印加して、前記保持シートと前記ステージとの間に吸着力を発生させることにより、前記保持シートを前記ステージに固定する、請求項5または6に記載のプラズマ処理方法。 - 前記ステージの内部に、第2の電極が配置されており、
前記第2の電極は、その外縁が、前記ステージに載置される前記フレームの外縁と前記基板の前記外縁との間に配置されるとともに、前記判定用ガス孔に対応する位置に第2の窓部を備えており、
前記プラズマエッチング工程では、前記第2の電極に高周波電力を供給して、前記ステージの表面にバイアス電圧を発生させる、請求項5〜7のいずれか一項に記載のプラズマ処理方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017028453A JP6650593B2 (ja) | 2017-02-17 | 2017-02-17 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
US15/888,161 US10361111B2 (en) | 2017-02-17 | 2018-02-05 | Plasma processing apparatus and plasma processing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017028453A JP6650593B2 (ja) | 2017-02-17 | 2017-02-17 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018133540A true JP2018133540A (ja) | 2018-08-23 |
JP6650593B2 JP6650593B2 (ja) | 2020-02-19 |
Family
ID=63167945
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017028453A Active JP6650593B2 (ja) | 2017-02-17 | 2017-02-17 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10361111B2 (ja) |
JP (1) | JP6650593B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102147615B1 (ko) * | 2014-10-30 | 2020-08-24 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 적재대 |
JP6519802B2 (ja) * | 2016-03-18 | 2019-05-29 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置 |
JP6530859B2 (ja) * | 2017-03-21 | 2019-06-12 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置 |
JP7209247B2 (ja) * | 2018-09-25 | 2023-01-20 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 素子チップの製造方法 |
US10957594B2 (en) * | 2018-10-05 | 2021-03-23 | Winbond Electronics Corp. | Manufacturing method of semiconductor chip |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10240356A (ja) * | 1997-02-21 | 1998-09-11 | Anelva Corp | 基板処理装置の基板温度制御法と基板温度制御性判定法 |
JPH1187480A (ja) * | 1997-09-11 | 1999-03-30 | Ulvac Japan Ltd | 被吸着物の吸着状態モニター方法及び真空装置 |
JP2007234869A (ja) * | 2006-03-01 | 2007-09-13 | Hitachi High-Technologies Corp | エッチング処理装置および自己バイアス電圧測定方法ならびにエッチング処理装置の監視方法 |
JP2008042141A (ja) * | 2006-08-10 | 2008-02-21 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 静電チャック装置 |
JP2014513868A (ja) * | 2011-03-14 | 2014-06-05 | プラズマ − サーム、エルエルシー | 半導体ウェーハをプラズマ・ダイシングする方法及び装置 |
JP2015225890A (ja) * | 2014-05-26 | 2015-12-14 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | プラズマ処理装置及び方法 |
JP2016195020A (ja) * | 2015-03-31 | 2016-11-17 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6519802B2 (ja) * | 2016-03-18 | 2019-05-29 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置 |
-
2017
- 2017-02-17 JP JP2017028453A patent/JP6650593B2/ja active Active
-
2018
- 2018-02-05 US US15/888,161 patent/US10361111B2/en active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10240356A (ja) * | 1997-02-21 | 1998-09-11 | Anelva Corp | 基板処理装置の基板温度制御法と基板温度制御性判定法 |
JPH1187480A (ja) * | 1997-09-11 | 1999-03-30 | Ulvac Japan Ltd | 被吸着物の吸着状態モニター方法及び真空装置 |
JP2007234869A (ja) * | 2006-03-01 | 2007-09-13 | Hitachi High-Technologies Corp | エッチング処理装置および自己バイアス電圧測定方法ならびにエッチング処理装置の監視方法 |
JP2008042141A (ja) * | 2006-08-10 | 2008-02-21 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 静電チャック装置 |
JP2014513868A (ja) * | 2011-03-14 | 2014-06-05 | プラズマ − サーム、エルエルシー | 半導体ウェーハをプラズマ・ダイシングする方法及び装置 |
JP2015225890A (ja) * | 2014-05-26 | 2015-12-14 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | プラズマ処理装置及び方法 |
JP2016195020A (ja) * | 2015-03-31 | 2016-11-17 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US10361111B2 (en) | 2019-07-23 |
JP6650593B2 (ja) | 2020-02-19 |
US20180240697A1 (en) | 2018-08-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN107204274B (zh) | 等离子体处理方法以及等离子体处理装置 | |
JP6650593B2 (ja) | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | |
US9502220B2 (en) | Plasma processing apparatus and plasma processing method | |
CN106024682B (zh) | 等离子处理装置以及等离子处理方法 | |
US10037891B2 (en) | Manufacturing method of element chip | |
KR101906695B1 (ko) | 반도체 웨이퍼를 플라즈마 다이싱하기 위한 방법 및 장치 | |
US9799495B2 (en) | Plasma processing apparatus and plasma processing method | |
JP2018137405A (ja) | 素子チップおよびその製造方法 | |
JP6555656B2 (ja) | プラズマ処理装置および電子部品の製造方法 | |
US10424488B2 (en) | Method of manufacturing electronic component | |
JP6485702B2 (ja) | プラズマ処理方法および電子部品の製造方法 | |
US20190122892A1 (en) | Plasma processing method | |
US9779986B2 (en) | Plasma treatment method and method of manufacturing electronic component | |
JP2016195150A (ja) | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | |
JP2016195151A (ja) | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | |
JP7209247B2 (ja) | 素子チップの製造方法 | |
JP6440120B2 (ja) | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | |
JP7361306B2 (ja) | プラズマ処理装置、プラズマ処理方法ならびに素子チップの製造方法 | |
JP6704147B2 (ja) | プラズマ処理方法、電子部品の製造方法およびプラズマ処理装置 | |
JP2023058363A (ja) | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | |
JP2023058362A (ja) | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | |
JP6516125B2 (ja) | プラズマ処理方法および電子部品の製造方法 | |
JP2019186563A (ja) | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | |
JP2020053472A (ja) | 素子チップの製造方法 | |
JP2016195153A (ja) | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180227 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20180227 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20181213 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181218 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190201 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190205 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190716 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190805 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20191210 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20191224 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6650593 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |