JP2018104730A - 溶射システム - Google Patents

Abstract

【課題】溶射ガンの付着物の剥離による溶射被膜の品質低下を抑制し、かつ、稼働時間の低下を抑制することができる溶射システムを提供すること。
【解決手段】表面７１と、表面７１から凹む筒状の内側面７２とを有する被溶射物７の内側面７２に溶射を行うための溶射システムＡ１において、 溶射物を噴射する噴射部４４を備える溶射ガン４０と、溶射ガン４０に向けてガスを吹き付けるエア吹付部６５とを備え、被溶射物７への溶射を行う溶射処理において、エア吹付部６５が溶射ガン４０に向けてガスを吹き付ける工程を含むようにした。
【選択図】図１

Description

本発明は、被溶射物に溶射被膜を形成する溶射システムに関する。

溶射システムを用いて行うアーク溶射においては、溶射ワイヤを溶射ガンに送給させつつアーク放電によって溶射ワイヤを溶融させる。溶融した溶射ワイヤはノズルから噴出されるガス流によって被溶射物へ噴き付けられ、当該被溶射物の表面に溶射被膜が形成される（たとえば、特許文献１，２を参照）。

特許文献１には、シリンダブロックの円筒内面にアーク溶射処理を行うための溶射装置が記載されている。同文献に記載された溶射装置は、比較的に長尺な溶射ガンを備えている。溶射ガンは、ワイヤ導管およびガス流路が円筒部材の内部に設けられた構成である。当該溶射ガンをシリンダブロックの円筒内に挿入した状態にてノズルからガス流を噴出し、円筒内面に溶射被膜を形成する。円筒内面への溶射被膜の形成は、溶射ガンおよびシリンダブロック（円筒内面）を相対移動させながら行う。また、特許文献２には、溶射被膜にならなかった溶射物が粉塵などの異物として外部空間に漂うことを防ぐために、遮蔽器および吸引機構を設けることが記載されている。

円筒内に溶射ガンを挿入して行う溶射処理においては、円筒内面（被溶射物）と溶射ガンとは比較的に近接している。このため、円筒内面にて跳ね返った反射粒子や微細粒子の酸化物（溶射ヒューム）等が溶射ガンに付着しやすい。そして、溶射ヒューム等が溶射ガンに付着した状態で溶射処理を行うと、溶射ガンの付着物が剥がれて落下し、ノズルからのガス流によって被溶射物の内側面に噴き付けられるおそれがある。このような事態を招くと、溶射被膜の品質低下を招いてしまう。これを回避するためには、定期的に手作業での清掃を行う必要があるので、溶射システムの稼働時間が低下してしまう。

特許第４４９６７８３号公報 特開２０１５−１６６４８２号公報

本発明は、このような事情のもとで考え出されたものであって、溶射ガンの付着物の剥離による溶射被膜の品質低下を抑制し、かつ、稼働時間の低下を抑制することができる溶射システムを提供することをその課題とする。

上記の課題を解決するため、本発明では、次の技術的手段を採用した。

本発明によって提供される溶射システムは、表面と、前記表面から凹む筒状の内側面と、を有する被溶射物の前記内側面に溶射を行うための溶射システムであって、溶射物を噴射する噴射部を備える溶射ガンと、前記溶射ガンに向けてガスを吹き付ける吹付部とを備えており、前記被溶射物への溶射を行う溶射処理において、前記吹付部が前記溶射ガンに向けてガスを吹き付ける工程を含んでいることを特徴とする。この構成によると、吹付部が溶射ガンに向けてガスを吹き付けることで、溶射ガンに付着した付着物を剥がして吹き飛ばすことができる。これにより、溶射ガンに付着した付着物を除去することができる。したがって、溶射ガンの付着物が剥がれて落下し被溶射物の内側面に噴き付けられることを抑制することができ、溶射被膜の品質低下を抑制することができる。また、溶射処理において、吹付部が溶射ガンに向けてガスを吹き付ける工程が含まれているので、別途、付着物除去のための定期的な手作業での清掃を必要としない。したがって、溶射システムの稼働時間の低下を抑制することができる。

好ましい実施の形態においては、前記噴射部は、第１方向と前記第１方向の反対の第２方向とに沿って移動可能であり、前記溶射システムは、前記噴射部が移動途中に収容されうる内部空間が形成された遮蔽器をさらに備えている。この構成によると、噴射部が遮蔽器の内部空間に収容されているときに、溶射物の噴射の開始および終了を行うことができる。これにより、被溶射物の内部で溶射物の噴射の開始および終了を行わず、かつ、外部空間に溶射物をまき散らしてしまうことを抑制することができる。

好ましい実施の形態においては、前記吹付部は、前記遮蔽器の前記内部空間に配置されている。この構成によると、遮蔽器の内部空間で溶射ガンに向けてガスの吹き付けを行うことができる。これにより、剥がれた付着物が外部空間にまき散らされることを抑制することができる。

好ましい実施の形態においては、前記吹付部は、前記遮蔽器の外側に配置されている。この構成によると、噴射部が遮蔽器の内部空間に収容されているときに、吹付部が溶射ガンにガスの吹き付けを行っても、ガスは噴射部に吹き付けられない。したがって、吹付部は、噴射部による溶射物の噴射が停止される前に、ガスの吹き付けを開始することができる。

好ましい実施の形態においては、前記吹付部は、前記噴射部が溶射物の噴射を終了したとき以降に、ガスの吹き付けを開始する。この構成によると、噴射された溶射物が吹き付けられたガスによってまき散らされることを防止することができる。

好ましい実施の形態においては、前記吹付部は、前記第１方向に直交する方向より前記第１方向よりにガスを吹き付ける。この構成によると、溶射ガンから剥がれた付着物を、第１方向側に吹き飛ばすことができる。

好ましい実施の形態においては、前記第１方向は、重力下方である。この構成によると、溶射ガンから剥がれた付着物を、重力下方側に吹き飛ばすことができる。

好ましい実施の形態においては、前記遮蔽器は、前記被溶射物の前記表面側に配置されている。この構成によると、噴射部は、被溶射物の表面側から内部に移動する前に溶射物の噴射を開始したり、被溶射物の内部から表面側に移動した後に溶射物の噴射を終了したりすることができる。

好ましい実施の形態においては、前記遮蔽器は、前記被溶射物が配置されるのとは反対側に、前記噴射部が通過するために形成された通過孔を備えており、前記溶射システムは、前記溶射ガンが配置される筐体と、前記遮蔽器と前記筐体との間に配置される筒状部とをさらに備えており、前記筒状部は、一方端が前記溶射ガンを囲むようにして前記筐体に固定されており、他方端が前記通過孔を囲むようにして前記遮蔽器に密着されており、前記噴射部の移動方向に伸び縮みする蛇腹構造となっている。この構成によると、吹付部によるガスの吹き付けによって剥がされた付着物が遮蔽器の通過孔から噴出した場合でも、当該付着物が外部空間にまき散らされることを防止することができる。また、蛇腹構造によって、筐体と遮蔽器との距離の変化に対応することができる。

好ましい実施の形態においては、前記遮蔽器は、前記被溶射物の前記表面側とは反対側に配置されている。この構成によると、噴射部は、被溶射物の表面側とは反対側から内部に移動する前に溶射物の噴射を開始したり、被溶射物の内部から表面側とは反対側に移動した後に溶射物の噴射を終了したりすることができる。

好ましい実施の形態においては、前記溶射システムは、前記内部空間内の気体を吸引する吸引部をさらに備えている。この構成によると、溶射ガンから剥がれた付着物を気体とともに吸引して除去することができる。

好ましい実施の形態においては、前記遮蔽器は、前記吹付部より前記第１方向寄りに形成された吸気用開口を備えており、前記吸引部は、前記吸気用開口から吸引を行う。この構成によると、吹付部によって第１方向側に吹き飛ばされた付着物を効率よく吸引することができる。

好ましい実施の形態においては、前記溶射システムは、前記被溶射物における前記内側面に囲まれた空間を介して、前記内部空間内の気体を吸引する第２の吸引部をさらに備えている。この構成によると、吸引部で吸引できなかった剥がれた付着物を、第２吸引部で吸引することができる。

好ましい実施の形態においては、前記溶射ガンは、前記第１方向に沿って延びる軸を中心として回転する。この構成によると、吹付部は、溶射ガンの全周にわたってガスを吹き付けることができる。したがって、溶射ガンの付着物を全周にわたって剥がすことができる。

好ましい実施の形態においては、前記吹付部が吹き付けるガスの流速は、マッハ１以上である。この構成によると、溶射ガンの付着物が剥がれずに残ってしまうことを抑制することができる。

本発明によると、エア吹付部が溶射ガンに向けてガスを吹き付けることで、溶射ガンに付着した付着物を剥がして吹き飛ばして除去することができる。したがって、溶射ガンの付着物が剥がれて落下し被溶射物の内側面に噴き付けられることを抑制することができ、溶射被膜の品質低下を抑制することができる。また、溶射処理において、エア吹付部が溶射ガンに向けてガスを吹き付ける工程が含まれているので、別途、付着物除去のための定期的な手作業での清掃を必要としない。したがって、溶射システムの稼働時間の低下を抑制することができる。

本発明のその他の特徴および利点は、添付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より明らかとなろう。

本発明の第１実施形態に係る溶射システムの全体構成を模式的に示す図である。 図１に示す溶射システムの要部拡大断面図である。 図２のＩＩＩ−ＩＩＩに沿う断面図である。 図１に示す溶射システムを用いて、被溶射物に溶射処理を行う際の各工程を示す図である。 図１に示す溶射システムの各構成の制御を示すためのタイムチャートである。 本発明の第２実施形態に係る溶射システムの要部拡大断面図である。 本発明の第３実施形態に係る溶射システムの要部拡大断面図である。 本発明の第４実施形態に係る溶射システムの全体構成を模式的に示す図である。

以下、本発明の好ましい実施形態につき、図面を参照しつつ具体的に説明する。

図１〜図３は、本発明の第１実施形態に係る溶射システムを説明するための図である。図１は、当該溶射システムの全体構成を模式的に示す図である。図２は、当該溶射システムの要部拡大断面図であり、図１に示した遮蔽器６を主に示している。図３は、図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿う断面図である。

溶射システムＡ１は、被溶射物７に対し溶射を行うためのものである。被溶射物７に対し溶射を行い、溶射皮膜が形成された工業製品が製造される。被溶射物７は、表面７１および内側面７２を有する。内側面７２は、表面７１からへこむ筒状を呈している。内側面７２の断面形状は、たとえば、円形や矩形である。

図１に示すように、溶射システムＡ１は、溶射装置１、吸引機構５、遮蔽器６、エア吹付部６５、ステージ９、および制御装置１００を備えている。被溶射物７は、ステージ９に載置される。

溶射装置１は、被溶射物７の内側面７２に溶射を行うものであり、ワイヤ送給機構１０、直線移動機構２０、回転機構３０、溶射ガン４０、および筐体８０を備えている。

ワイヤ送給機構１０は、溶射ワイヤＷ１，Ｗ２を溶射ガン４０に向けて送り出すものである。ワイヤ送給機構１０は、筐体８０内に配置されている。図１に示すように、ワイヤ送給機構１０は、第１ワイヤ供給源１１ａ、第２ワイヤ供給源１１ｂ、第１送給ローラ１２ａ、および第２送給ローラ１２ｂを備えている。

第１ワイヤ供給源１１ａは、例えばワイヤリールであり、水平方向に延びる軸心回りに回転可能なリールに溶射ワイヤＷ１が巻き取られた形態を有しており、回転しながら溶射ワイヤＷ１を繰り出すことができる。第１ワイヤ供給源１１ａから繰り出される溶射ワイヤＷ１は、溶射ガン４０に至っている。また、第２ワイヤ供給源１１ｂも、第１ワイヤ供給源１１ａと同様、例えばワイヤリールであって、リールに溶射ワイヤＷ２が巻き取られた形態を有しており、回転しながら溶射ワイヤＷ２を繰り出すことができる。第２ワイヤ供給源１１ｂから繰り出される溶射ワイヤＷ２は、溶射ガン４０に至っている。なお、本実施形態では、第１ワイヤ供給源１１ａおよび第２ワイヤ供給源１１ｂをワイヤリールとした場合を示しているが、これに限られず、パックワイヤとしてもよい。

第１送給ローラ１２ａおよび第２送給ローラ１２ｂは、それぞれ、対をなすローラの少なくとも一方が駆動部（図示略）によって駆動される。これにより、第１ワイヤ供給源１１ａから繰り出される溶射ワイヤＷ１および第２ワイヤ供給源１１ｂから繰り出される溶射ワイヤＷ２を溶射ガン４０に送り出す。本実施形態では、ワイヤ送給機構１０の駆動により、溶射ワイヤＷ１、Ｗ２が対をなして溶射ガン４０に供給される。

溶射ガン４０は、直線移動および回転を行いながら、被溶射物７の内側面７２に溶射を行うものである。溶射ガン４０は、筐体８０に回転可能に配置されている。溶射ガン４０は、本体４１、一対の給電チップ４２ａ，４２ｂ、およびガス噴出孔４３を備えている。

本体４１は、例えば真鍮などの金属製であり、Ｘ１−Ｘ２方向に延びる円柱形状である。第１方向Ｘ１および第２方向Ｘ２は互いに反対の方向である。本実施形態では、第１方向Ｘ１は重力下方に一致する。本実施形態とは異なり、第１方向Ｘ１は重力下方に限定されない。たとえばＸ１−Ｘ２方向が水平方向に一致していてもよいし、Ｘ１−Ｘ２方向が水平方向に対し３０度や６０度傾斜する方向に一致していてもよい。本体４１の内部には、ガス噴出孔４３などから噴出させるガスを流すためのガス流路（図示略）、および、溶射ワイヤＷ１，Ｗ２を挿通させるワイヤ導管（図示略）が設けられている。なお、本体４１の材質および形状は限定されない。また、絶縁性を高めるために、本体４１を、円柱形状の内部本体と、内部本体を内挿される円筒形状の外部本体との二重構造にして、内部本体と外部本体との間に空気層を設けるようにしてもよい。

給電チップ４２ａは、溶射ワイヤＷ１を所望の箇所へ案内するためのものである。給電チップ４２ａには、溶射ワイヤＷ１を挿通するための挿通孔が形成されている。給電チップ４２ｂは、溶射ワイヤＷ２を所望の箇所へ案内するためのものである。給電チップ４２ｂには、溶射ワイヤＷ２を挿通するための挿通孔が形成されている。図２に示すように、給電チップ４２ａ，４２ｂは、それぞれ、本体４１の中心軸Ｏｘの方向に対して傾斜して配置されている。給電チップ４２ａに案内された溶射ワイヤＷ１と、給電チップ４２ｂに案内された溶射ワイヤＷ２とは、本体４１の先端側（第１方向Ｘ１側）に向かうほど近接している。また、給電チップ４２ａ，４２ｂは、図示しない電源装置に接続されている。電源装置が電力を供給することで、給電チップ４２ａに挿通された溶射ワイヤＷ１の先端と、給電チップ４２ｂに挿通された溶射ワイヤＷ２の先端との間に、電圧が印加される。これにより、溶射ワイヤＷ１の先端と溶射ワイヤＷ２の先端との間にアークが発生する。

ガス噴出孔４３は、アーク放電によって溶融した溶射ワイヤＷ１および溶射ワイヤＷ２の溶滴を飛散させるためのガスを噴出させるものである。ガス噴出孔４３は、本体４１の先端の下垂部分に形成されている。ガス噴出孔４３は、Ｘ１−Ｘ２方向と略直交する方向を向いている。なお、ガス噴出孔４３の数、配置場所、吐出方向は、上述したものに限定されない。ガス噴出孔４３には、図示しないガス供給手段から、流量および圧力が制御されたガスが、本体４１内部に配置されているガス流路を介して供給される。本実施形態では、ガス供給手段は、ガスとして圧縮空気を供給する。なお、ガス供給手段が供給するガスは、空気以外の気体であってもよい。本実施形態では、アークを発生させて、ガスで溶滴を飛散させる箇所を噴射部４４とする（図２参照）。

直線移動機構２０は、噴射部４４（溶射ガン４０）を被溶射物７に対して相対的に直線移動させる機構である。本実施形態では、直線移動機構２０は、ガイドレール２１とモータ２３とを含む。ガイドレール２１に沿って筐体８０が移動可能になっており、筐体８０に設けられた溶射ガン４０も移動可能となっている。そのため、モータ２３が駆動することにより、溶射ガン４０が第１方向Ｘ１や第２方向Ｘ２に移動する。溶射ガン４０の第１方向Ｘ１や第２方向Ｘ２への移動に伴い、溶射ガン４０における噴射部４４が、第１方向Ｘ１や第２方向Ｘ２に移動する。なお、本実施形態とは異なり、噴射部４４（溶射ガン４０）を直線移動させる代わりに、被溶射物７が載置されたステージ９を第１方向Ｘ１や第２方向Ｘ２に直線移動させるようにしてもよい。

回転機構３０は、溶射ガン４０の本体４１の中心軸Ｏｘを中心として、被溶射物７に対して噴射部４４（溶射ガン４０）を相対回転させる機構である。本実施形態では、噴射部４４の直線移動方向に沿って延びる軸は、溶射ガン４０の本体４１の中心軸Ｏｘに一致する。なお、本実施形態とは異なり、噴射部４４の直線移動方向に沿って延びる軸は、溶射ガン４０の本体４１の中心軸Ｏｘに平行となっている（一致はしていない）ものであってもよい。本実施形態では、回転機構３０は、溶射ガン４０を中心軸Ｏｘを中心として回転させる機構とモータとを備えている。回転機構３０は、中心軸Ｏｘを中心として、噴射部４４（溶射ガン４０）を回転させる。これにより、ステージ９に載置されて固定された被溶射物７に対して、噴射部４４（溶射ガン４０）が相対回転する。本実施形態では、噴射部４４（溶射ガン４０）は、一分間に例えば１００〜２００回転する。

なお、本実施形態では、溶射ガン４０の本体４１全体が回転する場合について説明したが、これに限られない。本体４１を、上述した内部本体と外部本体との二重構造としている場合は、内部本体は回転させず、外部本体だけを回転させるようにしてもよい。この場合は、給電チップ４２ａ、４２ｂを内部導体に固定してアーク発生個所を回転させず、ガス噴出孔４３を外部本体に設けて、外部本体を中心軸Ｏｘを中心として回転させる。ガス噴出孔４３が、噴出方向をアーク発生個所に向けながら、アーク発生個所の周りを回転することで、噴射部４４が被溶射物７に対して回転する。

また、本実施形態とは異なり、噴射部４４（溶射ガン４０）を回転させる代わりに、被溶射物７が載置されたステージ９を中心軸Ｏｘを中心として回転させるようにしてもよい。この場合、被溶射物７が、中心軸Ｏｘを中心として、噴射部４４（溶射ガン４０）に対して回転する。この場合でも、被溶射物７に対して噴射部４４（溶射ガン４０）を相対回転させることができる。

遮蔽器６は、噴射部４４を配置させて、溶射物の噴射の開始、終了を行うための内部空間６ｓを提供するものである。被溶射物７における内側面７２に囲まれた空間７ｓで噴射部４４が溶射物の噴射の開始、終了を行うと、被溶射物７の内側面７２の溶射被膜の形成に不良が発生する場合がある。したがって、噴射部４４が被溶射物７の空間７ｓに入る前に溶射物の噴射を開始し、噴射部４４が空間７ｓから出た後に溶射物の噴射を終了するのが望ましい。しかし、被溶射物７の空間７ｓの外側で溶射物の噴射の開始、終了を行うと、外部空間に溶射物をまき散らしてしまう。この場合、まき散らされた溶射物は粉塵などの異物として外部空間に漂うことになる。これを防ぐために、本実施形態では、噴射部４４を配置させて、溶射物の噴射の開始、終了を行うための内部空間６ｓを提供する遮蔽器６を備えている。

遮蔽器６は、内部空間６ｓを有する略直方体形状をなし、たとえば金属よりなる。なお、遮蔽器６の材質および形状は限定されない。遮蔽器６は、溶射システムＡ１を使用する際、被溶射物７の表面７１の側に配置される。遮蔽器６には、内部空間６ｓ、下部通過孔６ａ、上部通過孔６ｂ、および吸気用開口６ｃが形成されている。

内部空間６ｓは噴射部４４を収容可能な空間である。下部通過孔６ａは、噴射部４４（および溶射ガン４０）を通過させるためのものである。下部通過孔６ａは、内部空間６ｓに通じており、且つ、第１方向Ｘ１に向かって開放している。上部通過孔６ｂは、噴射部４４（および溶射ガン４０）を通過させるためのものである。上部通過孔６ｂは、内部空間６ｓに通じており、且つ、第２方向Ｘ２に向かって開放している。上部通過孔６ｂは、第１方向Ｘ１視（平面視）において、下部通過孔６ａと重なっている。上部通過孔６ｂの面積は、下部通過孔６ａの面積よりも小さくてもよい。上部通過孔６ｂは、溶射ガン４０が通過可能な限りにおいて、極力小さく形成されている。本実施形態では、下部通過孔６ａおよび上部通過孔６ｂは、中心軸Ｏｘを中心とする円形状とされている。吸気用開口６ｃは、内部空間６ｓに通じている。

遮蔽器６は、箱状であり、上述の内部空間６ｓを規定している。遮蔽器６には、上述の下部通過孔６ａ、上部通過孔６ｂ、および吸気用開口６ｃが形成されている。本実施形態では、遮蔽器６は、保持機構（図示略）によってＸ１−Ｘ２方向に移動可能に保持されている。遮蔽器６は、側部６１、底部６２、および頂部６３を備えている。

図３に示すように、側部６１は、第１方向Ｘ１視において、下部通過孔６ａおよび上部通過孔６ｂを囲む枠状である。

底部６２は、遮蔽器６において第１方向Ｘ１側に位置している。底部６２は、側部６１につながっている。底部６２には、上述の下部通過孔６ａが形成されている。底部６２は、溶射システムＡ１の使用時において、被溶射物７の表面７１に当接される。

頂部６３は、底部６２に対し、第２方向Ｘ２側に位置している。本実施形態では、頂部６３は底部６２に対向している。頂部６３は、側部６１につながっている。頂部６３には、上述の上部通過孔６ｂが形成されている。

遮蔽器６の頂部６３の内側の面（図１および図２における第１方向Ｘ１側の面）には、エア吹付部６５が取り付けられている。エア吹付部６５は、高速気流を吹き付けて、溶射ガン４０に付着した付着物を剥がすためのものであり、いわゆるエアスクレーパである。本実施形態では、図３に示すように、３つのエア吹付部６５が、取り付けられている。各エア吹付部６５は、第１方向Ｘ１視（平面視）において、噴出口が溶射ガン４０の中心（中心軸Ｏｘ）に向かうように、配置されている。なお、噴出口は溶射ガン４０側を向いていればよく、中心軸Ｏｘへの方向よりずらした方向を向くようにしてもよい。また、各エア吹付部６５は、図１および図２に示すように、噴出口から噴出される高速気流が水平方向より若干下方に向かうように配置されている。噴出される高速気流が下方に向かうようにしているのは、剥がれた溶接ヒューム等を下方に吹き飛ばして、エア吹付部６５より下方に配置されている吸気用開口６ｃに吸引しやすいようにするためである。なお、噴出される高速気流の方向は、これに限定されない。高速気流の方向をより上方に向かうようにすれば、溶射ガン４０のより上方（基端側）に付着した付着物を剥がすのに有利になる。また、図３に示すように、各エア吹付部６５は、剥がれた溶接ヒューム等を吸気用開口６ｃに吸引しやすいように、いずれも、吸気用開口６ｃ側に配置されている。なお、エア吹付部６５の配置位置および配置数は限定されない。

エア吹付部６５は、ガス供給手段から供給される圧縮空気を高速気流として吹き付ける。高速気流の流速は、噴出口において、例えばマッハ１以上の速度としている。本実施形態では、エア吹付部６５の噴出口は、溶射ガン４０の延びる方向に合わせて、Ｘ１−Ｘ２方向に長い形状とされている。なお、噴出口の形状は限定されず、例えば円形状であってもよい。また、本実施形態では、エア吹付部６５は、高速気流を連続的に吹き付けるのではなく、断続的に吹き付ける。吹き付けの周期は、溶射ガン４０の回転速度などに応じて、付着物をより剥がしやすいように調整される。なお、エア吹付部６５による高速気流の吹き付け方法は限定されず、連続的に吹き付けるようにしてもよい。

図１に示すように、溶射装置１の筐体８０と遮蔽器６との間には、筒状部８１が設けられている。筒状部８１は、遮蔽器６の上部通過孔６ｂから噴出した溶射物の粉塵や剥がれた付着物が外部空間にまき散らされないようにするための筒状の部材である。筒状部８１の一方端は、溶射ガン４０を囲むようにして、筐体８０の第１方向Ｘ１側の面に固定されている。また、筒状部８１の他方端は、遮蔽器６の上部通過孔６ｂを囲むようにして、頂部６３の外側の面（図１および図２における第２方向Ｘ２側の面）に密着されている。筒状部８１は、筐体８０と遮蔽器６との距離の変化に対応できるように、Ｘ１-Ｘ２方向に伸び縮みする蛇腹構造となっている。筒状部８１の素材は、溶射物の粉塵や剥がれた付着物が通らない素材であればよい。なお、筒状部８１は、蛇腹構造とせずに、例えばゴムなどの伸び縮み可能な部材で形成されたものとしてもよい。本実施形態では、筒状部８１のＸ１-Ｘ２方向に直交する面での断面形状を、遮蔽器６の頂部６３の外側の面の形状に合わせて、矩形状としている。なお、当該断面形状は限定されず、例えば、溶射ガン４０の断面形状および上部通過孔６ｂの形状に合わせて、円形状としてもよい。

吸引機構５は、遮蔽器６の内部空間６ｓおよび被溶射物７の空間７ｓにおける気体を吸引して排出するための機構である。吸引機構５は、噴射部４４が溶射物の噴射を行っている間、および、噴射部４４が溶射物の噴射を終了した後、エア吹付部６５がエアの吹き付けを行っている間、吸引を行う。吸引機構５は、噴射部４４が溶射物の噴射を行っている間、被溶射物７の溶射被膜にならなかった溶射物の粉塵を、気体とともに吸引する。また、吸引機構５は、エア吹付部６５がエアの吹き付けを行っている間、剥がれた付着物を、気体とともに吸引する。本実施形態では、吸引機構５は、第１吸引部５１および第２吸引部５２を備えている。

第１吸引部５１は、内部空間６ｓにおける気体を吸気用開口６ｃを介して吸引するためのものである。吸気用開口６ｃには第１ダクト５１ａが連結されている。そのため、内部空間６ｓにおける気体は、吸気用開口６ｃと第１ダクト５１ａとを通って第１吸引部５１に向かう。

第２吸引部５２は、空間７ｓにおける気体を吸引するためのものである。空間７ｓの図１における下部には、第２ダクト５２ａが配置されている。そのため、空間７ｓにおける気体は、第２ダクト５２ａを通って第２吸引部５２に向かう。また、第２吸引部５２は、被溶射物７の空間７ｓを介して、内部空間６ｓにおける気体も吸引する。

制御装置１００は、溶射システムＡ１を制御するものであり、例えばマイクロコンピュータなどによって実現されている。なお、制御装置１００は、溶射装置１の筐体８０内に収納されていてもよいし、溶射装置１とは別に配置されていてもよい。制御装置１００は、溶射システムＡ１における溶射処理の処理手順を記憶しており、処理手順に従って、各構成に指示を出力する。制御装置１００は、直線移動機構２０（モータ２３）に、噴射部４４（溶射ガン４０）を移動させる指示を出力し、回転機構３０（モータ）に、噴射部４４（溶射ガン４０）を回転させる指示を出力する。また、制御装置１００は、第１送給ローラ１２ａおよび第２送給ローラ１２ｂを駆動させる各モータに、溶射ワイヤＷ１，Ｗ２を送り出す指示を出力し、電源装置に、給電チップ４２ａ，４２ｂへの電力供給の指示を出力し、ガス供給手段に、ガス噴出孔４３からガスを噴出させる指示を出力する。また、制御装置１００は、エア吹付部６５に、高速気流の吹き付けの指示を出力し、吸引機構５の第１吸引部５１および第２吸引部５２に、吸引の指示を出力する。

次に、図４および図５を参照して、溶射システムＡ１の溶射処理について説明する。

まず、図４（ａ）に示すように、被溶射物７における表面７１の側に、内部空間６ｓが形成された遮蔽器６を配置する。具体的には、第１方向Ｘ１視（平面視）において、遮蔽器６の下部通過孔６ａが被溶射物７の内側面７２につながる開口７ａに重なるようにして、遮蔽器６を第１方向Ｘ１に移動させ、底部６２の外側の面（第１方向Ｘ１側の面）を、被溶射物７の表面７１に当接させる。

次に、第１吸引部５１および第２吸引部５２による吸引を開始する。第１吸引部５１および第２吸引部５２の吸引の開始時は、噴射部４４からの溶射物の噴射開始前が好ましい。そして、図の矢印に示すように、噴射部４４（溶射ガン４０）を第１方向Ｘ１に移動させる。

図４（ｂ）は、溶射ガン４０を上部通過孔６ｂから遮蔽器６に挿入させて、噴射部４４を遮蔽器６の内部空間６ｓの所定の位置まで移動させた状態を示している。次に、噴射部４４を内部空間６ｓに位置させた状態で、溶射ワイヤＷ１、Ｗ２の供給を開始し、溶射ワイヤＷ１、Ｗ２への電力の供給を開始することで、溶射ワイヤＷ１の先端と溶射ワイヤＷ２の先端との間にアークを発生させる。また、ガス噴出孔４３からのガスの噴出を開始する。これにより、噴射部４４からの溶射物の噴射が開始される。また、噴射部４４（溶射ガン４０）の回転も開始される。つまり、噴射部４４は、溶射物の噴射を行いながら、中心軸Ｏｘ周りに回転を行う。これにより、噴射部４４は、溶射物の噴射の方向を変化させる。なお、噴射部４４からの溶射物の噴射は、噴射部４４が内部空間６ｓに位置する状態で開始するのが望ましいが、これに限られない。噴射部４４が内部空間６ｓから空間７ｓまでの何処かに位置していればよい。たとえば、本実施形態とは異なり、噴射部４４を空間７ｓに位置させた状態で、噴射部４４からの溶射物の噴射を開始してもよい。噴射部４４から溶射物が噴射されると、溶射物の一部が異物となって、内部空間６ｓ内に漂う。異物は、たとえば粉塵や溶射ヒューム等である。内部空間６ｓ内に漂う異物は、吸引機構５によって吸引される。第１吸引部５１は、空間７ｓを通過させずに、内部空間６ｓにおける気体を吸引する。また、第２吸引部５２は、内部空間６ｓにおける気体を空間７ｓを介して吸引する。これにより、内部空間６ｓにおける異物が除去される。

次に、図４（ｃ）に示すように、噴射部４４（溶射ガン４０）を被溶射物７に対し相対回転させながら、噴射部４４（溶射ガン４０）を第１方向Ｘ１に移動させる。これにより、被溶射物７の内側面７２に対し、噴射部４４から溶射物が噴射されて、内側面７２に対する溶射が行われる。噴射部４４が溶射物を噴射している間は常に、噴射部４４を、内部空間６ｓから空間７ｓまでの何処かに位置させておくとよい。なお、内側面７２のうち、表面７１に近い部分７２ａに溶射する際には、異物が内部空間６ｓに流入することもある。噴射部４４が溶射物を噴射している間は、第１吸引部５１および第２吸引部５２が作動している。そのため、第２吸引部５２は、空間７ｓにおける気体を吸引する。また、第１吸引部５１は、空間７ｓにおける気体を、内部空間６ｓを介して吸引する。これにより、空間７ｓにおける異物が除去される。

噴射部４４が被溶射物７の内側面７２の最下部まで移動した後は、噴射部４４（溶射ガン４０）を第２方向Ｘ２に移動させる。このときはまだ、噴射部４４（溶射ガン４０）の回転は継続し、噴射部４４からの溶射物の噴射も継続している。図４（ｄ）に示すように、噴射部４４を遮蔽器６の内部空間６ｓの所定の位置まで移動させた時に、噴射部４４からの溶射物の噴射は停止される。つまり、溶射ワイヤＷ１、Ｗ２への電力の供給が停止されてアークが消滅し、溶射ワイヤＷ１、Ｗ２の供給も停止される。また、ガス噴出孔４３からのガスの噴出も停止される。そして、エア吹付部６５からの高速気流の吹き付けが開始される。溶射物の噴射が停止される前に高速気流の吹き付けを開始しないのは、噴射された溶射物が高速気流によってまき散らされないようにするためである。溶射物の噴射が停止されて高速気流の吹き付けが開始されても、噴射部４４（溶射ガン４０）の回転は継続される。エア吹付部６５からの高速気流が、回転しながら第２方向Ｘ２に移動する溶射ガン４０に吹き付けられることで、溶射ガン４０に付着した付着物は剥がれて吹き飛ばされる。剥がれた付着物は、第１吸引部５１および第２吸引部５２に吸引される。第１吸引部５１は、剥がれた付着物を、空間７ｓを通過させずに、内部空間６ｓにおける気体とともに吸引して除去する。第１吸引部５１で吸引できず、落下する剥がれた付着物は、空間７ｓを介して、第２吸引部５２によって吸引される。被溶射物７への溶射はすでに終了しているので、空間７ｓを通過する剥がれた付着物が、被溶射物７の内側面７２に吹き付けられることはない。図１および図２は、噴射部４４（溶射ガン４０）が第２方向Ｘ２に移動して、エア吹付部６５からの高速気流が、噴射部４４付近に吹き付けられている状態を示している。

噴射部４４（溶射ガン４０）がさらに第２方向Ｘ２に移動したところで、エア吹付部６５からの高速気流の吹き付け、および、噴射部４４（溶射ガン４０）の回転は終了される。

図５は、溶射システムＡ１の各構成の制御を示すためのタイムチャートである。各構成の制御は、制御装置１００によって行われる。

同図（ａ）は、噴射部４４のＸ１−Ｘ２方向での位置を示している。同図（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）は、それぞれ、噴射部４４からの溶射物の噴射、噴射部４４（溶射ガン４０）の回転、エア吹付部６５からの高速気流の吹き付け、第１吸引部５１および第２吸引部５２による吸引の動作状態（ＯＮ，ＯＦＦ）を示している。

時刻ｔ１において、溶射処理を開始すると、第１吸引部５１および第２吸引部５２による吸引が開始され（同図（ｅ）参照）、噴射部４４の位置が第１方向Ｘ１に移動する。噴射部４４の移動は、直線移動機構２０による溶射ガン４０の移動によって行われる。なお、溶射処理を開始する前には、図４（ａ）のように、遮蔽器６が被溶射物７における表面７１の側に配置されている。

噴射部４４が遮蔽器６の内部空間６ｓ内に入り、時刻ｔ２において、噴射部４４が内部空間６ｓ内の所定の位置に達したときに、噴射部４４の第１方向Ｘ１への移動はいったん停止する（図５（ａ）参照）。そして、時刻ｔ３において、噴射部４４からの溶射物の噴射が開始され（図５（ｂ）参照）、噴射部４４（溶射ガン４０）の回転も開始される（図５（ｃ）参照）。噴射部４４の回転は、回転機構３０による溶射ガン４０の回転によって行われる。そして、時刻ｔ４において、噴射部４４の第１方向Ｘ１への移動が再開される。なお、噴射部４４の第１方向Ｘ１への移動を停止することなく、噴射部４４が所定の位置に達したときに、噴射部４４からの溶射物の噴射および回転を開始するようにしてもよい（つまり、図５において、ｔ２，ｔ３，ｔ４が一致する状態）。

時刻ｔ４から噴射部４４は第１方向Ｘ１へ移動し、被溶射物７の空間７ｓ内に入る。そして、噴射部４４は、溶射物の噴射および回転を継続したまま、第１方向Ｘ１へ移動することで、被溶射物７の内側面７２に溶射を行う。噴射部４４は、時刻ｔ５において最下点に達した後は、移動方向を反転して、第２方向Ｘ２へ移動する。なお、図５（ａ）では、噴射部４４が第１方向Ｘ１へ移動する速度を遅くし、第２方向Ｘ２へ移動する速度を速くしているが、反対に、第１方向Ｘ１へ移動する速度を速くし、第２方向Ｘ２へ移動する速度を遅くするようにしてもよい。

そして、噴射部４４が遮蔽器６の内部空間６ｓ内に入り、時刻ｔ６において、噴射部４４が内部空間６ｓ内の所定の位置に達したときに、噴射部４４の第２方向Ｘ２への移動はいったん停止する（図５（ａ）参照）。そして、時刻ｔ７において、噴射部４４からの溶射物の噴射が停止され（図５（ｂ）参照）、エア吹付部６５からの高速気流の吹き付けが開始される（図５（ｄ）参照）。そして、時刻ｔ８において、噴射部４４の第２方向Ｘ２への移動が再開される。なお、噴射部４４の第２方向Ｘ２への移動を停止することなく、噴射部４４が所定の位置に達したときに、噴射部４４からの溶射物の噴射を停止し、エア吹付部６５からの高速気流の吹き付けを開始するようにしてもよい（つまり、図５において、ｔ６，ｔ７，ｔ８が一致する状態）。

そして、噴射部４４が遮蔽器６の内部空間６ｓから出て、時刻ｔ９において、エア吹付部６５からの高速気流の吹き付けが停止される（図５（ｄ）参照）。なお、噴射部４４が遮蔽器６の内部空間６ｓから出る前に、エア吹付部６５からの高速気流の吹き付けを停止するようにしてもよい。

さらに、噴射部４４が第２方向Ｘ２に移動して、最上点に達した時刻ｔ１０において、第１吸引部５１および第２吸引部５２による吸引が停止され（同図（ｅ）参照）、溶射処理は終了する。なお、第１吸引部５１および第２吸引部５２による吸引の停止は、エア吹付部６５からの高速気流の吹き付けが停止された後であればよく、時刻ｔ９より後であればよい。また、第１吸引部５１および第２吸引部５２による吸引の開始は、噴射部４４からの溶射物の噴射の開始より前であればよく、時刻ｔ３より前であればよい。

なお、図５に示すタイムチャートは、溶射システムＡ１の各構成の制御の一例を示しているにすぎず、上述したものに限定されない。

次に、上記した実施形態に係る溶射システムＡ１の作用について説明する。

本実施形態の溶射システムＡ１においては、遮蔽器６の内部にエア吹付部６５が取り付けられている。そして、エア吹付部６５は、噴射部４４からの溶射物の噴射が停止された後、高速気流の噴出を開始する。エア吹付部６５からの高速気流が、回転しながら第２方向Ｘ２に移動する溶射ガン４０に吹き付けられることで、溶射ガン４０に付着した付着物は剥がれて吹き飛ばされる。剥がれた付着物は、吸引機構５によって吸引される。これにより、溶射ガン４０に付着した付着物を除去することができる。したがって、溶射ガン４０の付着物が剥がれて落下し被溶射物７の内側面７２に噴き付けられることを抑制することができ、溶射被膜の品質低下を抑制することができる。また、溶射処理において、溶射物の噴射の終了後に、自動で溶射ガン４０の付着物の除去を行うので、別途、付着物除去のための定期的な手作業での清掃を必要としない。したがって、溶射システムＡ１の稼働時間の低下を抑制することができる。また、溶射ガン４０の付着物は、付着後すぐに除去されるので、時間が経過して付着物が強固に付着してしまうことを防止することができる。これにより、強固に付着した付着物をブラシで強く清掃することによって溶射ガン４０の外周面を傷つけることもない。

また、本実施形態の溶射システムＡ１においては、エア吹付部６５の下方に、第１吸引部５１による吸引のための吸気用開口６ｃが設けられている。また、エア吹付部６５は、噴出口から噴出される高速気流が水平方向より若干下方に向かうように配置されているので、剥がれた付着物を下方に吹き飛ばすことができる。したがって、エア吹付部６５からの高速気流によって剥がされた付着物を効率よく吸引することができる。また、第２吸引部５２は、空間７ｓを介して内部空間６ｓにおける気体を吸引する。したがって、第１吸引部５１で吸引できずに落下する剥がれた付着物は、第２吸引部５２によって吸引することができる。このとき、被溶射物７への溶射はすでに終了しているので、空間７ｓを通過する剥がれた付着物が、被溶射物７の内側面７２に吹き付けられることはない。

また、本実施形態の溶射システムＡ１においては、溶射装置１の筐体８０と遮蔽器６との間には、筒状部８１が設けられている。したがって、エア吹付部６５からの高速気流によって剥がされた付着物が遮蔽器６の上部通過孔６ｂから噴出した場合でも、当該付着物が外部空間にまき散らされることを防止することができる。

図６〜図８は、本発明の他の実施形態を示している。なお、これらの図において、上記実施形態と同一または類似の要素には、上記実施形態と同一の符号を付している。

図６は、本発明の第２実施形態に係る溶射システムを示す要部拡大断面図である。図６に示す溶射システムＡ２は、エア吹付部６５の取り付け位置が、第１実施形態に係る溶射システムＡ１（図２参照）と異なっている。

エア吹付部６５は、遮蔽器６の頂部６３の外側の面（第２方向Ｘ２側の面）に取り付けられており、遮蔽器６の外側に配置されている。溶射装置１の筐体８０と遮蔽器６との間に筒状部８１が設けられているので、エア吹付部６５からの高速気流によって剥がされた付着物は、外部空間にまき散らされることはない。また、吸引機構５によって内部空間６ｓにおける気体が吸引されるので、筒状部８１内部の気体は、遮蔽器６の上部通過孔６ｂから内部空間６ｓに引き込まれて、吸引機構５によって吸引される。したがって、筒状部８１内部の剥がれた付着物も、吸引機構５によって吸引される。

本実施形態においても、エア吹付部６５からの高速気流が、回転しながら第２方向Ｘ２に移動する溶射ガン４０に吹き付けられるので、溶射ガン４０に付着した付着物は剥がれて吹き飛ばされる。したがって、本実施形態においても、第１実施形態と同様の効果を奏することができる。

また、本実施形態においては、エア吹付部６５は、溶射システムＡ１の場合より、第２方向Ｘ２側に配置されている。したがって、溶射ガン４０のより基端側に高速気流を吹き付けることができる。また、エア吹付部６５は遮蔽器６の外側に配置されているので、噴射部４４が遮蔽器６の内側に配置されているときには、エア吹付部６５が噴出する高速気流は、噴射部４４に吹き付けられない。したがって、エア吹付部６５は、噴射部４４による溶射物の噴射が停止される前に、高速気流の吹き付けを開始することができる。したがって、溶射ガン４０のより基端側に高速気流を吹き付けることができる。よって、溶射ガン４０のより基端側に付着した付着物を剥がすことができる。

なお、エア吹付部６５は、遮蔽器６の内側および外側の両方に配置されていてもよい。

図７は、本発明の第３実施形態に係る溶射システムを示す要部拡大断面図である。図７に示す溶射システムＡ３は、エア吹付部６５の配置数および配置場所が、第１実施形態に係る溶射システムＡ１（図３参照）と異なっている。

エア吹付部６５は、４つ取り付けられており、１つは吸気用開口６ｃ側に配置され、１つは上部通過孔６ｂを挟んで反対側に配置されている。また、他の２つは、側部６１の、吸気用開口６ｃが形成されている面に直交する２つの面側にそれぞれ配置されている。４つのエア吹付部６５は、上部通過孔６ｂの周りに、等間隔で配置されている。

本実施形態においても、エア吹付部６５からの高速気流が、回転しながら第２方向Ｘ２に移動する溶射ガン４０に吹き付けられるので、溶射ガン４０に付着した付着物は剥がれて吹き飛ばされる。したがって、本実施形態においても、第１実施形態と同様の効果を奏することができる。なお、エア吹付部６５の配置位置および配置数は限定されない。例えば、エア吹付部６５は、１つだけ配置されていてもよい。エア吹付部６５の数が多いほど、溶射ガン４０に付着した付着物を剥がすのには有効である。

図８は、本発明の第４実施形態に係る溶射システムを示す図であり、全体構成を模式的に示している。図８に示す溶射システムＡ４は、ステージ９と被溶射物７との間にも遮蔽器６’が配置されており、エア吹付部６５が当該遮蔽器６’に取り付けられている点で、第１実施形態に係る溶射システムＡ１（図１参照）と異なっている。

遮蔽器６’は、遮蔽器６と同様のものであり、ステージ９に固定されている。被溶射物７は、遮蔽器６’の第２方向Ｘ２側に載置される。第２ダクト５２ａは下部通過孔６ａに合わせて配置されており、第２吸引部５２は、遮蔽器６’の内部空間６ｓ’における気体を吸引する。また、第２吸引部５２は、内部空間６ｓ’を介して、被溶射物７の空間７ｓにおける気体も吸引する。エア吹付部６５は、遮蔽器６’の内部に配置されている。

溶射システムＡ４は、第１実施形態に係る溶射システムＡ１と同様、噴射部４４が遮蔽器６の内部空間６ｓに位置するときに溶射物の噴射を開始する。しかし、溶射システムＡ１とは異なり、噴射部４４が遮蔽器６’の内部空間６ｓ’に位置するときに溶射物の噴射を終了する。そして、溶射システムＡ４は、エア吹付部６５からの高速気流の吹き付けを開始する。高速気流によって剥がされた溶射ガン４０の付着物は、第２吸引部５２に吸引される。図８は、噴射部４４が遮蔽器６’の内部空間６ｓ’に位置して、エア吹付部６５からの高速気流が溶射ガン４０に吹き付けられている状態を示している。エア吹付部６５からの高速気流の吹き付けが終了すると、噴射部４４（溶射ガン４０）の回転も終了され、噴射部４４は第２方向Ｘ２へ移動して、溶射処理は終了する。

本実施形態においても、エア吹付部６５からの高速気流が、回転しながら第１方向Ｘ１に移動する溶射ガン４０に吹き付けられるので、溶射ガン４０に付着した付着物は剥がれて吹き飛ばされる。したがって、本実施形態においても、第１実施形態と同様の効果を奏することができる。

なお、本実施形態とは逆に、噴射部４４が遮蔽器６’の内部空間６ｓ’に位置するときに溶射物の噴射を開始し、噴射部４４が遮蔽器６の内部空間６ｓに位置するときに溶射物の噴射を終了するようにしてもよい。すなわち、噴射部４４を第１方向Ｘ１に移動させるときには溶射を行わず、噴射部４４を第２方向Ｘ２に移動させながら溶射を行うようにしてもよい。この場合は、エア吹付部６５を遮蔽器６に配置しておいて、溶射物の噴射を終了してから、高速気流の吹き付けを開始すればよい。なお、遮蔽器６を配置せずに、遮蔽器６’のみを配置して、噴射部４４が遮蔽器６’の内部空間６ｓ’に位置するときに、溶射物の噴射の開始および終了を行うようにしてもよい。

以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明の範囲は上記した実施形態に限定されるものではなく、各請求項に記載した事項の範囲内でのあらゆる変更は、すべて本発明の範囲に包摂される。

Ａ１，Ａ２，Ａ３，Ａ４ ：溶射システム
１ ：溶射装置
１０ ：ワイヤ送給機構
１１ａ ：第１ワイヤ供給源
１１ｂ ：第２ワイヤ供給源
１２ａ ：第１送給ローラ
１２ｂ ：第２送給ローラ
２０ ：直線移動機構
２１ ：ガイドレール
２３ ：モータ
３０ ：回転機構
４０ ：溶射ガン
４１ ：本体
４２ａ，４２ｂ ：給電チップ
４３ ：ガス噴出孔
４４ ：噴射部
８０ ：筐体
８１ ：筒状部
５ ：吸引機構
５１ ：第１吸引部（吸引部）
５１ａ ：第１ダクト
５２ ：第２吸引部（第２の吸引部）
５２ａ ：第２ダクト
６，６' ：遮蔽器
６ａ ：下部通過孔
６ｂ ：上部通過孔（通過孔）
６ｃ ：吸気用開口
６ｓ，６ｓ' ：内部空間
６１ ：側部
６２ ：底部
６３ ：頂部
６５ ：エア吹付部 （吹付部）
９ ：ステージ
１００ ：制御装置
７ ：被溶射物
７ａ ：開口
７ｓ ：空間
７１ ：表面
７２ ：内側面
７２ａ ：部分
Ｏｘ ：中心軸
Ｗ１ ：溶射ワイヤ
Ｗ２ ：溶射ワイヤ
Ｘ１ ：第１方向
Ｘ２ ：第２方向

Claims (15)

1. 表面と、前記表面から凹む筒状の内側面と、を有する被溶射物の前記内側面に溶射を行うための溶射システムであって、
   溶射物を噴射する噴射部を備える溶射ガンと、
   前記溶射ガンに向けてガスを吹き付ける吹付部と、
   を備えており、
   前記被溶射物への溶射を行う溶射処理において、前記吹付部が前記溶射ガンに向けてガスを吹き付ける工程を含んでいる、
   ことを特徴とする溶射システム。
2. 前記噴射部は、第１方向と前記第１方向の反対の第２方向とに沿って移動可能であり、
   前記噴射部が移動途中に収容されうる内部空間が形成された遮蔽器をさらに備えている、
   請求項１に記載の溶射システム。
3. 前記吹付部は、前記遮蔽器の前記内部空間に配置されている、
   請求項２に記載の溶射システム。
4. 前記吹付部は、前記遮蔽器の外側に配置されている、
   請求項２または３に記載の溶射システム。
5. 前記吹付部は、前記噴射部が溶射物の噴射を終了したとき以降に、ガスの吹き付けを開始する、
   請求項２ないし４のいずれかに記載の溶射システム。
6. 前記吹付部は、前記第１方向に直交する方向より前記第１方向よりにガスを吹き付ける、
   請求項２ないし５のいずれかに記載の溶射システム。
7. 前記第１方向は、重力下方である、
   請求項２ないし６のいずれかに記載の溶射システム。
8. 前記遮蔽器は、前記被溶射物の前記表面側に配置されている、
   請求項２ないし７のいずれかに記載の溶射システム。
9. 前記遮蔽器は、前記被溶射物が配置されるのとは反対側に、前記噴射部が通過するために形成された通過孔を備えており、
   前記溶射ガンが配置される筐体と、前記遮蔽器と前記筐体との間に配置される筒状部と、をさらに備えており、
   前記筒状部は、一方端が前記溶射ガンを囲むようにして前記筐体に固定されており、他方端が前記通過孔を囲むようにして前記遮蔽器に密着されており、前記噴射部の移動方向に伸び縮みする蛇腹構造となっている。
   請求項８に記載の溶射システム。
10. 前記遮蔽器は、前記被溶射物の前記表面側とは反対側に配置されている、
    請求項２ないし９のいずれかに記載の溶射システム。
11. 前記内部空間内の気体を吸引する吸引部をさらに備えている、
    請求項２ないし１０のいずれかに記載の溶射システム。
12. 前記遮蔽器は、前記吹付部より前記第１方向寄りに形成された吸気用開口を備えており、
    前記吸引部は、前記吸気用開口から吸引を行う、
    請求項１１に記載の溶射システム。
13. 前記被溶射物における前記内側面に囲まれた空間を介して、前記内部空間内の気体を吸引する第２の吸引部をさらに備えている、
    請求項１１または１２に記載の溶射システム。
14. 前記溶射ガンは、前記第１方向に沿って延びる軸を中心として回転する、
    請求項２ないし１３のいずれかに記載の溶射システム。
15. 前記吹付部が吹き付けるガスの流速は、マッハ１以上である、
    請求項１ないし１４のいずれかに記載の溶射システム。

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