JP2018083171A - 触媒装置 - Google Patents

触媒装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2018083171A
JP2018083171A JP2016228841A JP2016228841A JP2018083171A JP 2018083171 A JP2018083171 A JP 2018083171A JP 2016228841 A JP2016228841 A JP 2016228841A JP 2016228841 A JP2016228841 A JP 2016228841A JP 2018083171 A JP2018083171 A JP 2018083171A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
electrode
gas storage
photocatalyst
storage unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016228841A
Other languages
English (en)
Other versions
JP7047246B2 (ja
Inventor
洋一 丸谷
Yoichi Marutani
洋一 丸谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
IHI Corp
Original Assignee
IHI Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by IHI Corp filed Critical IHI Corp
Priority to JP2016228841A priority Critical patent/JP7047246B2/ja
Publication of JP2018083171A publication Critical patent/JP2018083171A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7047246B2 publication Critical patent/JP7047246B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Catalysts (AREA)

Abstract

【課題】光が届かない箇所においても、光触媒の触媒機能を発揮させる。【解決手段】触媒装置100は、表面112aに光触媒114が配され、光触媒114が触媒機能を発揮する所定の波長の電磁波(例えば、紫外線)を透過させる第1層110と、第1層110の裏面112bに配され、所定の波長の電磁波を放出する第2層120と、を備える。第2層120を備えることにより、光触媒114に電磁波を照射することができる。このため、触媒装置100を光が届かない箇所に設置しても、光触媒114の触媒機能が発揮される。【選択図】図1

Description

本開示は、光触媒を用いた触媒装置に関する。
近年、光の照射により触媒機能を発揮する光触媒が様々な分野で利用されている。例えば、エンジンの燃焼室に堆積するデポジット(燃料の不完全燃焼生成物)を分解するために、燃焼室に光触媒を設ける技術が開発されている(例えば、特許文献1)。この技術では、燃料が着火することによって生じる火炎の光により光触媒の触媒機能を発揮させている。
特開2010−209790号公報
上記したように、光触媒が触媒機能を発揮するためには、光の照射が必要である。このため、光が届かない箇所においては、光触媒を利用できないという課題がある。
本開示は、このような課題に鑑み、光が届かない箇所においても、光触媒の触媒機能を発揮させることが可能な触媒装置を提供することを目的としている。
上記課題を解決するために、本開示の一態様に係る触媒装置は、表面に光触媒が配され、電磁波を透過させる第1層と、前記第1層の裏面に配され、前記電磁波を放出する第2層と、を備える。
また、前記第2層は、内部空間を有するガス収容部と、前記ガス収容部内に設けられ、電極本体が誘電体で囲繞された給電側電極と、を備えてもよい。
また、前記第2層は、内部空間を有するガス収容部と、前記ガス収容部の外周面に設けられた電極対と、を備えてもよい。
また、前記第2層は、内部空間を有するガス収容部と、前記ガス収容部内に設けられた基準電極と、前記基準電極と対向して設けられた発光層と、前記基準電極と前記発光層との間に設けられた放電用電極と、前記発光層と前記放電用電極との間に設けられた引き出し電極と、を備えてもよい。
本開示の触媒装置は、光が届かない箇所においても、光触媒の触媒機能を発揮させることが可能となる。
図1(a)は、第1の実施形態にかかる触媒装置の概略図を示す。図1(b)は、第2層の断面図を示す。図1(c)は、図1(b)におけるIc−Ic線断面図を示す。 図2(a)は、第2の実施形態にかかる触媒装置の概略図を示す。図2(b)は、第2層の平面図を示す。図2(c)は、図2(b)のIIc−IIc線断面の部分拡大図を示す。図2(d)は、図2(b)のIId−IId線断面の部分拡大図を示す。 図3(a)は、第3の実施形態にかかる触媒装置の概略図を示す。図3(b)は、第2層の断面図を示す。
以下に添付図面を参照しながら、本開示の一実施形態について詳細に説明する。かかる実施形態に示す寸法、材料、その他具体的な数値等は、理解を容易とするための例示にすぎず、特に断る場合を除き、本開示を限定するものではない。なお、本明細書および図面において、実質的に同一の機能、構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また本開示に直接関係のない要素は図示を省略する。
(第1の実施形態:触媒装置100)
図1(a)は、第1の実施形態にかかる触媒装置100の概略図を示す。図1(b)は、第2層120の断面図を示す。図1(c)は、図1(b)におけるIc−Ic線断面図を示す。なお、図1中、理解を容易にするために光触媒114を相対的に大きく表す。また、本実施形態の図1を含む以下の図では、垂直に交わるX軸、Y軸、Z軸を図示の通り定義している。触媒装置100は、デポジットが生じ得る箇所に設置される。デポジットが生じ得る箇所は、例えば、エンジンの燃料噴射弁、EGR(Exhaust Gas Recirculation)配管内、EGRバルブの摺動部、ガスエンジンの吸気配管内、過給機等である。
図1(a)に示すように、触媒装置100は、シート形状(平面形状)であり、第1層110と、第2層120とを含んで構成される。
第1層110は、本体112を備える。本体112の表面112aには、光触媒114が配される。光触媒114は、例えば、酸化チタンや酸化タングステンで構成される。本体112は、所定の波長の電磁波(図1(a)中、白抜き矢印で示す)を透過する部材、例えば、ガラス、プラスチック等で構成される。所定の波長は、光触媒114に電磁波が照射された際に、光触媒114が触媒機能を発揮する波長である。本実施形態において、所定の波長の電磁波は、紫外線である。
第2層120は、第1層110の裏面112bに配され、紫外線を放出する。図1(b)に示すように、本実施形態にかかる第2層120は、ガス収容部150を備える。触媒装置100は、ガス収容部150の第1の面150aに、第1層110の裏面112bが対向(当接)するように構成される。
ガス収容部150は、金属で構成された中空部材であり、接地されている。また、ガス収容部150の第1の面150aには、紫外線を透過する窓152が形成されている。窓152は、ガラス、プラスチック等の紫外線を透過する部材で構成される。ガス収容部150の内部空間150bには、ガスが収容される。ガス収容部150は、例えば、Ne、Xe、He、Ar、H、D(重水素)、N、XeCl、および、ArFの群から選択される1または複数のガスを収容する。
ガス収容部150内には、複数の給電側電極160が設けられている。給電側電極160は、円柱形状(棒形状)であり、金属で構成された電極本体162(図1(b)、図1(c)中、黒色で示す)を備える。また、給電側電極160は、円筒形状であり、電極本体162の外周を囲繞する外筒164(囲繞部)を備える。外筒164は、セラミック、樹脂(例えば、テフロン(登録商標))などの誘電体(絶縁体)で構成される。
図1(c)に示すように、複数の給電側電極160は、長手方向に直交する方向に所定の間隔を維持して配置される。また、給電側電極160は、電極本体162と、ガス収容部150(金属の部分)とが非接触な状態(電気的に非接触な状態)を維持するように、ガス収容部150内に配される。具体的に説明すると、本実施形態において、ガス収容部150は、図1(b)に示すように、外部に突出した挿通管150cが接続されており、挿通管150cを通じて、給電側電極160がガス収容部150内に挿通される。なお、給電側電極160のうち、外筒164が挿通管150c、ガス収容部150と接触する。上記したように外筒164は誘電体で構成される。このため、外筒164が挿通管150c、ガス収容部150に接触しても、電極本体162と、ガス収容部150とが非接触な状態を維持したまま、給電側電極160がガス収容部150内に配される。
高周波電源170は、給電側電極160の電極本体162に接続され、電極本体162に高周波電力を供給する。高周波電源170が高周波電力を供給することにより、ガス収容部150が接地側電極として機能する。これにより、給電側電極160の周囲にガスのプラズマが形成される(誘電バリア放電)。そして、ガスのプラズマによって紫外線が放出される。放出された紫外線は、窓152を通じて第1層110の光触媒114に照射される。
以上説明したように、本実施形態にかかる触媒装置100によれば、第2層120を備えることにより、光触媒114に紫外線を照射することができる。このため、触媒装置100を光が届かない箇所に設置しても、光触媒114の触媒機能が発揮される。
(第2の実施形態:触媒装置200)
上記第1の実施形態では、誘電バリア放電を利用して紫外線を放出する第2層120を説明した。しかし、第2層は、光触媒114が触媒機能を発揮する波長の電磁波を放出できれば構成に限定はない。第2の実施形態では、プラズマチューブアレイを利用した第2層を備えた触媒装置について説明する。
図2(a)は、第2の実施形態にかかる触媒装置200の概略図を示す。図2(b)は、第2層220の平面図を示す。図2(c)は、図2(b)のIIc−IIc線断面の部分拡大図を示す。図2(d)は、図2(b)のIId−IId線断面の部分拡大図を示す。なお、図2(c)、図2(d)中、電極対266(電極266a、266b)を黒色で示す。
図2(a)に示すように、触媒装置200は、第1層110と、第2層220とを備える。なお、上述した触媒装置100と実質的に等しい構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。第2層220は、複数のガス収容部250と、電極フィルム260と、パルス電源270とを含んで構成される。触媒装置200は、ガス収容部250の第1の面250aに第1層110の裏面112bが対向(当接)するように構成される。
図2(b)に示すように、複数のガス収容部250は、長手方向に直交する方向(図2中、X軸方向)に互いに隣接して配置される。また、図2(c)、図2(d)に示すように、ガス収容部250は、管体252と、封止部254とを含んで構成される。管体252は、円筒形状(詳細には、短手方向(図2中、X軸方向)の断面が、平坦部と湾曲部とを有するオーバル(長円、角丸長方形)の筒形状)であり、ガラス、プラスチック等の紫外線を透過する部材で構成される。封止部254は、管体252の両端を封止する。ガス収容部250の内部空間250bには、ガスが収容される。ガス収容部250は、例えば、Ne、および、Xeのうちいずれか一方または両方のガスを収容する。
また、ガス収容部250における第1の面250aと対向する第2の面250cには、電極フィルム260が積層される。電極フィルム260は、電極支持シート262と、反射層264と、複数の電極対266とを含んで構成される。電極支持シート262は、可撓性を有するシート(フレキシブルシート)であり、例えば、ポリカーボネートフィルム、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム等で構成される。電極支持シート262の表面には、反射層264が設けられる。反射層264は、ガス収容部250を透過した紫外線を反射する絶縁体で構成される。
複数の電極対266は、ITO(酸化スズドープ酸化インジウム)、SnO等の透明な導電性材料や、Ag、Au、Al、Cu、Cr等の金属の導電性材料で構成される。複数の電極対266は、ガス収容部250の短手方向(図2中、X軸方向)に延在するように反射層264上に設けられ、ガス収容部250の第2の面250c(外周面)に当接される。
パルス電源270は、電極対266を構成する電極266aと、電極266bとの間にパルス電圧を交互に印加する。パルス電源270が電極対266に印加する電圧は、ガス収容部250の内部空間250bにおいて放電を発生させることができる電圧以上の電圧である。パルス電源270が電極266a、電極266bにパルス電圧を交互に印加することにより、ガス収容部250の内部空間250bにガスのプラズマを形成させることができる(面放電)。そして、ガスのプラズマによって紫外線が放出される。放出された紫外線は、管体252の第1の面250aを通じて第1層110の光触媒114に照射されることとなる。
なお、管体252における第2の面250cの内壁に、紫外線蛍光体層256を備えるとしてもよい。紫外線蛍光体層256は、例えば、Gd(ガドリニウム)を含んで構成される。紫外線蛍光体層256を備える構成により、第2層220は、プラズマによって放出される紫外線とは異なる波長の紫外線を放出させることができる。したがって、紫外線蛍光体層256の厚み等を適宜設計することで、第2層220は、光触媒114が触媒機能を効率よく発揮する波長の紫外線を放出させることが可能となる。
以上説明したように、本実施形態にかかる触媒装置200によれば、第2層220を備えることにより、光触媒114に紫外線を照射することができる。このため、触媒装置200を光が届かない箇所に設置しても、光触媒114の触媒機能が発揮される。
(第3の実施形態:触媒装置300)
図3(a)は、第3の実施形態にかかる触媒装置300の概略図を示す。図3(b)は、第2層320の断面図を示す。なお、図3(b)中、電極(加速電極354、基準電極360、放電用電極362、引き出し電極364)を黒色で示す。
図3(a)に示すように、触媒装置300は、第1層110と、第2層320とを備える。なお、上述した触媒装置100と実質的に等しい構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。第2層320は、ガス収容部350を備える。本実施形態において、触媒装置300は、ガス収容部350の第1の面350aに第1層110の裏面112bが対向(当接)するように構成される。
ガス収容部350は、例えば、サファイア基板で構成された中空部材である。ガス収容部350の内部空間350bには、ガスが収容される。ガス収容部350は、例えば、Ne、Xe、He、Ar、H、D、N、XeCl、および、ArFの群から選択される1または複数のガスを収容する。
ガス収容部350における第1の面350aの内壁側には、二次電子放出材料層352が設けられている。二次電子放出材料層352は、MgOまたはBNを含んで構成される。
また、ガス収容部350における第1の面350aと対向する第2の面350cの内壁側には、加速電極354が設けられている。加速電極354には、発光層356が積層されている。二次電子放出材料層352と発光層356との離隔距離は、例えば、0.15mm〜5mm程度である。発光層356は、電子または正イオン(陽イオン)が衝突することにより励起されて発光する材料で構成されている。発光層356は、例えば、MgO、ZnMgO、AlGaN、AlN、MgF、BN、BAlN、CaF、ダイアモンド、および、サファイアの群から選択される1または複数である。なお、発光層356の厚みは、例えば10〜20nmである。
また、内部空間350bにおける、二次電子放出材料層352と発光層356との間には、二次電子放出材料層352側から順に、基準電極360、放電用電極362、引き出し電極364が設けられている。加速電極354、基準電極360、放電用電極362、引き出し電極364は、Fe、Ni、ステンレス、Ti、Mo、Cu、Au、Ag、および、Crの群から選択される1または複数(合金)で構成される。
本実施形態において、基準電極360は接地されている。ただし、基準電極360の電位に制限はない。放電用電極362、引き出し電極364、加速電極354には、パルス電源370が接続されている。
パルス電源370は、放電用電極362に所定のタイミングでパルス電圧P1(第1のパルス電圧)を印加する。パルス電圧P1は、基準電極360の電位よりもプラスまたはマイナスに大きい。パルス電源370が、放電用電極362にパルス電圧P1を印加することにより、基準電極360と放電用電極362との間に、変動する電磁場が形成される。そして、内部空間350b内において、ガスが電磁場によってプラズマを形成する。
また、パルス電源370は、引き出し電極364にパルス電圧P2(第2のパルス電圧)を印加する。パルス電源370は、加速電極354にパルス電圧P3を印加する。なお、パルス電源370は、放電用電極362、引き出し電極364および加速電極354の順にパルス電圧を順次印加する。具体的に説明すると、パルス電源370は、時刻T1〜時刻T2において放電用電極362にパルス電圧P1を印加する。パルス電源370は、時刻T2後の時刻T3〜時刻T4において引き出し電極364にパルス電圧P2を印加する。パルス電源370は、時刻T4後の時刻T5〜時刻T6に加速電極354にパルス電圧P3を印加する。そして、パルス電源370は、以降このサイクルを所定の周期で繰り返す。サイクルの周波数、すなわち、各パルス電圧P1〜P3の周波数は、例えば50Hz〜100MHzである。また、パルス電圧P1〜P3は、例えば100〜5000Vであるが、少なくともパルス電圧P2、P3はパルス電圧P1よりも高く設定される。また、パルス電圧P1〜P3のパルス幅は、例えば10〜50μsである。
これにより、引き出し電極364および加速電極354によって、プラズマから電子または正イオンが引き出されて、発光層356に衝突させることが可能となる。具体的に説明すると、時刻T1〜T2において、放電用電極362にパルス電圧P1が印加されると、基準電極360と放電用電極362との間に、変動する電磁場が形成される。これにより、内部空間350b内においてガスのプラズマが形成される。このとき、プラズマには、電子と正イオンとが等量含まれており、電荷中性状態となっている。
そして、時刻T3〜T4において、引き出し電極364にパルス電圧P2が印加されると、プラズマ中の電子の一部が発光層356側に引っ張られる。これに伴って、プラズマ中のイオンの一部が基準電極360側に引き出される。
そして、時刻T5〜T6において、加速電極354にパルス電圧P3が印加されると、引き出し電極364によって引っ張られた電子が加速されて、発光層356に衝突する。これにより、発光層356が励起されて深紫外線が放出される。放出された深紫外線は、二次電子放出材料層352および第1の面350aを通って、光触媒114に照射される。
以上説明したように、本実施形態にかかる触媒装置300によれば、第2層320を備えることにより、光触媒114に紫外線を照射することができる。このため、触媒装置300を光が届かない箇所に設置しても、光触媒114の触媒機能が発揮される。
以上、添付図面を参照しながら実施形態について説明したが、本開示はかかる実施形態に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に技術的範囲に属するものと了解される。
例えば、上記第1の実施形態において、複数の給電側電極160が1のガス収容部150に収容される構成を例に挙げて説明した。しかし、1の給電側電極160が1のガス収容部150に収容されてもよい。
また、上記第1の実施形態において、複数の給電側電極160が、長手方向に直交する方向に所定の間隔を維持して配置される構成を例に挙げて説明した。しかし、給電側電極160の配列に限定はない。例えば、複数の給電側電極160を網状に配置してもよい。具体的には、複数の給電側電極160を長手方向に直交する方向に所定の間隔を維持して配置した第1の給電側電極160群と、長手方向が第1の給電側電極160群と交差して配される複数の給電側電極160で構成される第2の給電側電極160群とで構成されてもよい。
また、上記第1の実施形態において、ガス収容部150が金属で構成される場合を例に挙げて説明した。しかし、ガス収容部150は、紫外線を透過する部材のみで構成されてもよい。この場合、ガス収容部150内に接地側電極を設けるとよい。
また、上記実施形態において、紫外線が照射されると触媒機能を発揮する光触媒114を例に挙げて説明した。しかし、触媒装置100、200、300は、紫外線以外の波長の電磁波で触媒機能を発揮する光触媒を備えてもよい。例えば、可視光が照射されることにより触媒機能を発揮する光触媒を備えてもよい。この場合、第2層120、220、320は、可視光を放出するとよい。例えば、ガス収容部150、250、350内に、紫外線を可視光に変換する発光層を備えるとよい。なお、この発光層は、紫外線により励起されて可視光を発する蛍光体材料を含んで構成される。
本開示は、光触媒を用いた触媒装置に利用することができる。
100 触媒装置
110 第1層
120 第2層
150 ガス収容部
150a 第1の面
160 給電側電極
200 触媒装置
220 第2層
250 ガス収容部
266 電極対
300 触媒装置
320 第2層
350 ガス収容部
356 発光層
360 基準電極
362 放電用電極
364 引き出し電極

Claims (4)

  1. 表面に光触媒が配され、電磁波を透過させる第1層と、
    前記第1層の裏面に配され、前記電磁波を放出する第2層と、
    を備える触媒装置。
  2. 前記第2層は、
    内部空間を有するガス収容部と、
    前記ガス収容部内に設けられ、電極本体が誘電体で囲繞された給電側電極と、
    を備える請求項1に記載の触媒装置。
  3. 前記第2層は、
    内部空間を有するガス収容部と、
    前記ガス収容部の外周面に設けられた電極対と、
    を備える請求項1に記載の触媒装置。
  4. 前記第2層は、
    内部空間を有するガス収容部と、
    前記ガス収容部内に設けられた基準電極と、
    前記基準電極と対向して設けられた発光層と、
    前記基準電極と前記発光層との間に設けられた放電用電極と、
    前記発光層と前記放電用電極との間に設けられた引き出し電極と、
    を備える請求項1に記載の触媒装置。
JP2016228841A 2016-11-25 2016-11-25 触媒装置 Active JP7047246B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016228841A JP7047246B2 (ja) 2016-11-25 2016-11-25 触媒装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016228841A JP7047246B2 (ja) 2016-11-25 2016-11-25 触媒装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018083171A true JP2018083171A (ja) 2018-05-31
JP7047246B2 JP7047246B2 (ja) 2022-04-05

Family

ID=62236891

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016228841A Active JP7047246B2 (ja) 2016-11-25 2016-11-25 触媒装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7047246B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE202007015595U1 (de) 2007-11-07 2008-01-31 Gühring Ohg Rotierendes Schaftwerkzeug, insbesondere Stufenreibahle

Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0582101A (ja) * 1991-05-31 1993-04-02 Mitsubishi Electric Corp 放電ランプおよびこれを用いる画像表示装置およびこの放電ランプの製造方法
JPH11345572A (ja) * 1998-06-03 1999-12-14 Mitsubishi Electric Corp プラズマディスプレイパネル
JP2000037615A (ja) * 1998-07-23 2000-02-08 Mitsubishi Electric Corp 光源一体型光触媒装置およびその製法
JP2002075286A (ja) * 2000-08-24 2002-03-15 Nec Kansai Ltd 平面型発光素子
JP2002150997A (ja) * 2000-11-10 2002-05-24 Nippon Sheet Glass Co Ltd 平板型紫外線ランプ
JP2004156534A (ja) * 2002-11-06 2004-06-03 Mitsubishi Fuso Truck & Bus Corp 内燃機関の空気流量制御装置
JP2004162552A (ja) * 2002-11-11 2004-06-10 Mitsubishi Fuso Truck & Bus Corp 内燃機関の排出ガス浄化装置
JP2005307905A (ja) * 2004-04-23 2005-11-04 Aisan Ind Co Ltd エンジンの吸気系装置
JP2008034272A (ja) * 2006-07-31 2008-02-14 Ushio Inc 外部電極型希ガス放電ランプ
JP2008136953A (ja) * 2006-12-04 2008-06-19 Keiji Iimura 光触媒の励起方法および応力応答型光触媒装置
JP2011040271A (ja) * 2009-08-11 2011-02-24 Shinoda Plasma Kk 平面光源
JP2011179440A (ja) * 2010-03-02 2011-09-15 Isuzu Motors Ltd 排ガス浄化用制御機器
JP2011193929A (ja) * 2010-03-17 2011-10-06 Shinoda Plasma Kk 紫外光照射装置
JP2013070710A (ja) * 2011-09-26 2013-04-22 Toshiba Corp 空気浄化装置
JP2014514964A (ja) * 2011-12-01 2014-06-26 ミリョン エコ カンパニー リミテッド プラズマ水処理装置
JP2015103340A (ja) * 2013-11-22 2015-06-04 学校法人立命館 深紫外発光素子
JP2016036772A (ja) * 2014-08-07 2016-03-22 ウシオ電機株式会社 紫外線照射式浄水器

Patent Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0582101A (ja) * 1991-05-31 1993-04-02 Mitsubishi Electric Corp 放電ランプおよびこれを用いる画像表示装置およびこの放電ランプの製造方法
JPH11345572A (ja) * 1998-06-03 1999-12-14 Mitsubishi Electric Corp プラズマディスプレイパネル
JP2000037615A (ja) * 1998-07-23 2000-02-08 Mitsubishi Electric Corp 光源一体型光触媒装置およびその製法
JP2002075286A (ja) * 2000-08-24 2002-03-15 Nec Kansai Ltd 平面型発光素子
JP2002150997A (ja) * 2000-11-10 2002-05-24 Nippon Sheet Glass Co Ltd 平板型紫外線ランプ
JP2004156534A (ja) * 2002-11-06 2004-06-03 Mitsubishi Fuso Truck & Bus Corp 内燃機関の空気流量制御装置
JP2004162552A (ja) * 2002-11-11 2004-06-10 Mitsubishi Fuso Truck & Bus Corp 内燃機関の排出ガス浄化装置
JP2005307905A (ja) * 2004-04-23 2005-11-04 Aisan Ind Co Ltd エンジンの吸気系装置
JP2008034272A (ja) * 2006-07-31 2008-02-14 Ushio Inc 外部電極型希ガス放電ランプ
JP2008136953A (ja) * 2006-12-04 2008-06-19 Keiji Iimura 光触媒の励起方法および応力応答型光触媒装置
JP2011040271A (ja) * 2009-08-11 2011-02-24 Shinoda Plasma Kk 平面光源
JP2011179440A (ja) * 2010-03-02 2011-09-15 Isuzu Motors Ltd 排ガス浄化用制御機器
JP2011193929A (ja) * 2010-03-17 2011-10-06 Shinoda Plasma Kk 紫外光照射装置
JP2013070710A (ja) * 2011-09-26 2013-04-22 Toshiba Corp 空気浄化装置
JP2014514964A (ja) * 2011-12-01 2014-06-26 ミリョン エコ カンパニー リミテッド プラズマ水処理装置
JP2015103340A (ja) * 2013-11-22 2015-06-04 学校法人立命館 深紫外発光素子
JP2016036772A (ja) * 2014-08-07 2016-03-22 ウシオ電機株式会社 紫外線照射式浄水器

Also Published As

Publication number Publication date
JP7047246B2 (ja) 2022-04-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Zhang et al. Formation of microdischarges inside a mesoporous catalyst in dielectric barrier discharge plasmas
Engeling et al. Time-resolved evolution of micro-discharges, surface ionization waves and plasma propagation in a two-dimensional packed bed reactor
Li et al. Particle-in-cell simulation of coherent and superradiant Smith-Purcell radiation
CN110731128B (zh) 生成自由电荷、臭氧以及光的高能效等离子体过程
KR101610243B1 (ko) X선관
US20100066252A1 (en) Spiral rf-induction antenna based ion source for neutron generators
JP2018083171A (ja) 触媒装置
Sotnikov et al. Development of high-voltage negative ion based neutral beam injector for fusion devices
CN105261542A (zh) 固定阳极型x射线管
CN100524606C (zh) 电介质屏障放电灯
US20120160671A1 (en) Sputtering device
US7288892B2 (en) Plasma display panel with improved cell geometry
JP2011009238A (ja) 無声放電ランプおよび照射装置
JP6345413B2 (ja) 深紫外発光素子
US20160220942A1 (en) Facility for purifying harmful gas
JP5565793B2 (ja) 深紫外発光素子及びその製造方法
Voronov et al. Spot patterns and instabilities in a pulsed low-pressure rf glow discharge
JP4237420B2 (ja) オゾン発生器用ガラス電極およびオゾン発生器用放電管
US3928781A (en) Gaseous discharge display panel including pilot electrodes and radioactive wire
KR102302182B1 (ko) 제전 장치 및 플라즈마 발생 장치
Roth et al. High current ion beam generation and transport system
CN203176742U (zh) 使用电子枪激发紫外荧光光源的鉴定与透视系统
WO2012147469A1 (ja) 電子線励起型光源装置
Khatun et al. Experimental study of low-pressure nitrogen dielectric barrier discharge
Kushner et al. DOE Plasma Science Center-Predictive Control of Plasma Kinetics: Multi-Phase and Bounded Systems (Final Report DE-SC0001939)

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20191009

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200423

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200609

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200804

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210119

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210312

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210817

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20211015

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220222

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220307

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 7047246

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151