JP2018046127A - 半導体装置、パワーモジュールおよび電力変換装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】SiCを含むn型の半導体層と、素子形成領域の外周部のp型ボディ領域PB中に形成されたp+型の半導体領域GRaと、素子形成領域のp型ボディ領域PB上にゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極と、ゲート電極と接続されたゲートパッドと、を有するように、半導体装置を構成する。上記p型ボディ領域PBは、ゲートパッドの形成領域GPAに延在し、ゲート電極は、領域GPAにおいて、p型ボディ領域PB上に絶縁膜(フィールド酸化膜)を介して配置されている。そして、ゲートパッドGPの下方に、p+型の半導体領域PRG設ける。これにより、サージ電圧の発生を抑制することができる。さらに、p+型の半導体領域PRGを、<11−20>方向に垂直な方向に長辺を有する複数の矩形状のパターンとすることで、結晶欠陥の影響を抑制することができる。
【選択図】図1
Description
以下、図面を参照しながら本実施の形態の半導体装置について詳細に説明する。
図1〜図3は、本実施の形態の半導体装置の構成を示す断面図または平面図である。図1および図3は、平面図であり、図2は、断面図である。断面図において、(A)、(B)、(C)は、それぞれ、平面図のA−A断面部、B−B断面部、C−C断面部に対応する。
次いで、本実施の形態の半導体装置の製造工程を説明するとともに、本実施の形態の半導体装置の構造をより明確にする。図4〜図16は、本実施の形態の半導体装置の製造工程を示す断面図または平面図である。
図17〜図19は、本実施の形態の比較例の半導体装置の構成を示す断面図または平面図である。図17〜図19に示すように、比較例の半導体装置においては、ゲートパッドGPの下方のp型ボディ領域PB中に、p+型の半導体領域PRGが設けられていない。なお、他の構成は、本実施の形態(図1〜図3)の構成と同様であるため、その説明を省略する。
図26〜図28は、本発明者による検討例の半導体装置の構成を示す断面図または平面図である。上記シミュレーション結果から、ゲートパッドGPと重なる全領域において、p+型の半導体領域PRGを設ける例も考えられる。図26〜図28に示すように、検討例の半導体装置においては、ゲートパッドGPの下方のp型ボディ領域PB中であって、ゲートパッドGPと重なる全領域において、p+型の半導体領域PRGが設けられている。なお、他の構成は、本実施の形態(図1〜図3)の構成と同様であるため、その説明を省略する。
本実施の形態では、上記実施の形態1の半導体装置(SiCパワー素子)を備えた電力変換装置について説明する。図32は、本実施の形態の電力変換装置(インバータ)の回路図である。図32に示すように、本実施の形態のインバータは、パワーモジュール402内に、スイッチング素子であるSiCパワーMOSFET(MISFET(Metal Insulator Semiconductor FET)とも言う)404を複数有する。各単相において、端子405〜409を介して、電源電圧Vccと負荷(例えばモータ)401の入力電位との間に、SiCパワーMOSFET404が接続されており、当該SiCパワーMOSFET404が上アームを構成する。また、負荷401の入力電位と接地電位GNDとの間にもSiCパワーMOSFET404が接続されており、当該SiCパワーMOSFET404が下アームを構成する。つまり、負荷401では各単相に2つのSiCパワーMOSFET404が設けられており、3相で6つのスイッチング素子(SiCパワーMOSFET404)が設けられている。
上記実施の形態2で説明した3相モータシステムは、ハイブリット自動車、電気自動車、燃料電池自動車などの自動車に用いることができる。本実施の形態では、3相モータシステムを搭載した自動車を、図33および図34を用いて説明する。図33は、本実施の形態の電気自動車の構成を示す概略図である。図34は、本実施の形態の昇圧コンバータの回路図である。
上記実施の形態2の3相モータシステムは、鉄道車両に用いることができる。本実施の形態では、3相モータシステムを用いた鉄道車両について説明する。図35は、本実施の形態の鉄道車両のコンバータおよびインバータを含む回路図である。
本実施の形態においては、上記実施の形態1の応用例について説明する。
実施の形態1の半導体装置(図1〜図3)においては、前述したように、ゲートパッド(GP)が配置される領域(図1中の破線で囲んだ領域)GPAの周囲は、セル領域となり、セル構造からなるMOSFETが配置される(例えば、図2(B)参照)。即ち、MOSFETを構成する、n+型のソース領域SRと、チャネル領域となるp型ボディ領域PBと、チャネル領域上にゲート絶縁膜GIを介して配置されたゲート電極GEとが、GPAの周囲に配置される。そして、上記p型ボディ領域PBの内側に上記n+型のソース領域SRが配置され、n+型のソース領域SRの内側にp+型の半導体領域PRが配置されている(図1参照)。
上記応用例1においては、セル領域の略正方形のp型ボディ領域PBを利用して、領域GPAのp型ボディ領域PBへのソース電位のより良い給電を図ったが、領域GPAの左右において、p型ボディ領域PBをゲートパッド(GP)より一回り大きく形成し、かかる領域を利用してソース電位を給電してもよい。
402 パワーモジュール
403 制御回路
404 パワーMOSFET
405〜411 端子
501a 駆動輪(車輪)
501b 駆動輪(車輪)
502 駆動軸
503 3相モータ
504 インバータ
505 バッテリ
506 電力ライン
507 電力ライン
508 昇圧コンバータ
509 リレー
510 電子制御ユニット
511 リアクトル
512 平滑用コンデンサ
513 インバータ
514 パワーMOSFET
601 負荷
602 インバータ
604 パワーMISFET
607 コンバータ
608 キャパシタ
609 トランス
C1GE コンタクトホール
C1GR コンタクトホール
C1S コンタクトホール
DE ドレイン電極
GD1〜GD4 MOSFET
GE ゲート電極
GF ゲートフィンガー
GI ゲート絶縁膜
GND 接地電位
GP ゲートバッド
GPA 領域(ゲートパッドが配置される領域)
GRa p+型の半導体領域
GRb p+型の半導体領域
IL1 絶縁膜(フィールド絶縁膜)
IL2 絶縁膜(層間絶縁膜)
ND n−型の半導体層
NR n+型の半導体領域
NS SiC基板
OA1 開口部
OW 架線
PB p型ボディ領域
PG パンタグラフ
PR p+型の半導体領域
PRG p+型の半導体領域
RT 線路
SE ソース電極
SR ソース領域
TM p型の半導体領域
Vcc 電源電圧
WH 車輪
Claims (15)
- 基板の上面上に形成され、炭化ケイ素を含む第1導電型の半導体層と、
素子形成領域の外周部において、前記半導体層の上部に形成された前記第1導電型と逆導電型である第2導電型の第1ウエル領域と、
前記第1ウエル領域中に形成された前記第2導電型の第1半導体領域と、
前記素子形成領域に形成され、前記半導体層の上部に形成された前記第2導電型の第2ウエル領域と、
前記第2ウエル領域上にゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極を有する半導体素子と、
前記ゲート電極と接続されたゲートパッドと、
を有し、
前記第1ウエル領域は、前記ゲートパッドの形成領域に延在し、
前記ゲート電極は、前記ゲートパッドの形成領域において、前記第1ウエル領域上に第1絶縁膜を介して配置され、
前記ゲートパッドの形成領域において、前記第1ウエル領域中に形成された前記第2導電型の第2半導体領域を有し、
前記第2半導体領域の前記第2導電型の不純物濃度は、前記第1ウエル領域の前記第2導電型の不純物濃度より大きい、半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記第1半導体領域は、前記素子形成領域の外周部において、環状に配置されている、半導体装置。 - 請求項2記載の半導体装置において、
前記第2半導体領域は、前記第1半導体領域と接続されている、半導体装置。 - 請求項3記載の半導体装置において、
前記第2半導体領域は、第1方向に長辺を有する複数の矩形状のパターンよりなる、半導体装置。 - 請求項4記載の半導体装置において、
前記第1方向は、<11−20>方向に垂直な方向である、半導体装置。 - 請求項5記載の半導体装置において、
前記矩形状のパターンの前記第1方向と直交する第2方向の長さは、100μm以下である、半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記半導体素子は、
前記素子形成領域の前記半導体層の上面に形成されたn型のソース領域と、
前記ソース領域と接するチャネル領域上に前記ゲート絶縁膜を介して形成された前記ゲート電極と、
前記ソース領域と接する前記第2導電型の第3半導体領域と、
を有し、
前記ソース領域と、前記第3半導体領域とは、前記チャネル領域を構成する前記第2導電型の第2ウエル領域中に配置されている、半導体装置。 - 請求項7記載の半導体装置において、
前記第1半導体領域と、前記第2半導体領域と、前記第3半導体領域の、前記第2導電型の濃度は同程度である、半導体装置。 - 請求項7記載の半導体装置において、
前記ソース領域、前記第3半導体領域および前記第1半導体領域に接続されるソース電極と、
前記基板の裏面に形成されたドレイン電極と、を有する、半導体装置。 - 請求項7記載の半導体装置において、
前記第2ウエル領域と前記半導体層とで構成されるダイオードを有する、半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記第1導電型は、n型であり、前記第2導電型は、p型である、半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置を有する、パワーモジュール。
- 請求項12記載のパワーモジュールにおいて、
請求項1記載の前記半導体素子であるMOSFETで構成されるインバータを有する、パワーモジュール。 - 請求項1記載の半導体装置を有するパワーモジュールと、
前記パワーモジュール内の前記半導体装置を制御する制御回路と、
を有する、電力変換装置。 - 請求項14記載の電力変換装置において、
前記パワーモジュールは、請求項1記載の前記半導体素子であるMOSFETで構成されるインバータを有する、電力変換装置。
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WO2011125274A1 (ja) * | 2010-04-06 | 2011-10-13 | 三菱電機株式会社 | 電力用半導体装置およびその製造方法 |
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