JP2018041877A - Device for adhering adhesive sheet to substrate and adhesion method - Google Patents

Device for adhering adhesive sheet to substrate and adhesion method Download PDF

Info

Publication number
JP2018041877A
JP2018041877A JP2016175971A JP2016175971A JP2018041877A JP 2018041877 A JP2018041877 A JP 2018041877A JP 2016175971 A JP2016175971 A JP 2016175971A JP 2016175971 A JP2016175971 A JP 2016175971A JP 2018041877 A JP2018041877 A JP 2018041877A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
adhesive tape
wafer
gas
attaching
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016175971A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6944625B2 (en
JP2018041877A5 (en
Inventor
隆樹 谷川
Shigeki Tanigawa
隆樹 谷川
耕一 北村
Koichi Kitamura
耕一 北村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Takatori Corp
Original Assignee
Takatori Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Takatori Corp filed Critical Takatori Corp
Priority to JP2016175971A priority Critical patent/JP6944625B2/en
Publication of JP2018041877A publication Critical patent/JP2018041877A/en
Publication of JP2018041877A5 publication Critical patent/JP2018041877A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6944625B2 publication Critical patent/JP6944625B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To adhere an adhesion tape such as a protective tape without being contacted to an inner peripheral surface of a wafer.SOLUTION: An adhesion tape attachment device comprises an adhesion tape conveying body g that holds an adhesion tape T cut in a form of a substrate W to a suction table 59 in an upper chamber 50, transmits the v onto a lower chamber 9, and adheres the adhesion tape onto the substrate W held by an adhesion table 8 of the lower chamber 9. The adhesion table 8 comprises: a table concave part 8b in which a gas introduction hole 24 is provided; and an external peripheral holding part 15 that holds an external peripheral edge part of the substrate W. A vacuum chamber is formed by the upper chamber 50 and the lower chamber 9. After a pressure of the vacuum chamber is reduced and the adhesion tape T is adhered onto the substrate W, a gas is introduced from the gas introduction hole 24 when opening the pressure. Thus, the pressure of the substrate W is applied to the suction table 59 from a back surface side.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、ウエハ等の基板へ保護テープ等の接着シートを貼り付ける貼り付け装置及び貼り付け方法に関する。   The present invention relates to an attaching device and an attaching method for attaching an adhesive sheet such as a protective tape to a substrate such as a wafer.

従来から、半導体ウエハ(以下、単にウエハという)の表面に回路パターンを形成し、前記ウエハ表面の回路パターンに保護テープを貼り付け、その後、前記ウエハの裏面を研削してウエハを薄厚化することが行なわれている。   Conventionally, a circuit pattern is formed on the surface of a semiconductor wafer (hereinafter simply referred to as a wafer), a protective tape is applied to the circuit pattern on the wafer surface, and then the back surface of the wafer is ground to thin the wafer. Has been done.

前記保護テープのウエハへの貼り付けとして、しわや気泡が入らないよう、減圧下で貼り付けを行う保護テープの貼り付け装置が知られている(例えば、特許文献1)。   As a method of attaching the protective tape to the wafer, there is known a protective tape attaching device that applies the adhesive under reduced pressure so that wrinkles and bubbles do not enter (for example, Patent Document 1).

前記保護テープの貼り付け装置では、予めウエハの形状に切断された保護テープを上チャンバと一体となった吸着搬送体に吸着保持し、下チャンバ内の貼り付けテーブルに保持されたウエハ上に前記上チャンバが下降することで、真空チャンバを形成する。そして、前記真空チャンバ内を減圧し、前記吸着搬送体に保持された保護テープを真空チャンバ内でウエハに押圧することでウエハに貼り付けるようになっている。従って、貼り付けられる保護テープにしわや気泡が入らないようになっている。   In the protective tape attaching apparatus, the protective tape, which has been cut in the shape of a wafer in advance, is adsorbed and held on an adsorbing carrier integrated with the upper chamber, and the wafer is held on the adhering table in the lower chamber. A vacuum chamber is formed by lowering the upper chamber. Then, the inside of the vacuum chamber is depressurized, and the protective tape held on the suction conveyance body is pressed against the wafer in the vacuum chamber so as to be attached to the wafer. Therefore, wrinkles and bubbles are prevented from entering the protective tape to be attached.

また、最近では、携帯端末等の小型化に伴い、ウエハをより薄く形成し、小型化を図ることが行なわれている。このウエハの薄厚化に伴い、ウエハの取扱いも困難になってきている。そこで、このウエハの取扱いを容易にするために、ウエハの外周のみ残し、内周部分を研削して環状凸部を形成した凹状のウエハが使用されるようになってきている(例えば、特許文献2)。   Recently, along with the miniaturization of portable terminals and the like, it has been attempted to reduce the size by forming a thinner wafer. With the thinning of the wafer, handling of the wafer has become difficult. Therefore, in order to facilitate the handling of the wafer, a concave wafer is used in which only the outer periphery of the wafer is left and the inner peripheral portion is ground to form an annular convex portion (for example, Patent Documents). 2).

図10は、環状凸部80が形成されたウエハWの一例であり、該ウエハWを裏面から見たものである(理解が容易なように一部切欠いて描いてある)。前記ウエハWは、環状凸部80を残して、該環状凸部80に囲繞されるウエハWの内周部分が研削され、凹状面81が形成されている。   FIG. 10 shows an example of the wafer W on which the annular convex portion 80 is formed. The wafer W is viewed from the back surface (partially cut away for easy understanding). In the wafer W, the inner peripheral portion of the wafer W surrounded by the annular convex portion 80 is ground, leaving the annular convex portion 80, and a concave surface 81 is formed.

図11は、前記環状凸部が形成されたウエハWの形成と該ウエハWを処理する工程の一例を表したものである。以下、前記ウエハWの処理工程について図11(a)から図11(h)に基づいて説明する。   FIG. 11 shows an example of the process of forming the wafer W on which the annular convex portion is formed and processing the wafer W. Hereinafter, the processing steps for the wafer W will be described with reference to FIGS. 11A to 11H.

図11(a)のように、表面に回路パターン(図示せず)の形成されたウエハWが、準備され、図11(b)のように、前記回路パターンに保護テープTが貼り付けられる。   A wafer W having a circuit pattern (not shown) formed on the surface is prepared as shown in FIG. 11A, and a protective tape T is attached to the circuit pattern as shown in FIG. 11B.

次に図11(c)のように、環状凸部80を残して、該環状凸部80に囲繞されるウエハWの内周部分が研削され、凹状面81が形成される。次に図11(d)のように保護テープTが適宜の手段で剥離される。   Next, as shown in FIG. 11C, the inner peripheral portion of the wafer W surrounded by the annular convex portion 80 is ground, leaving the annular convex portion 80, and a concave surface 81 is formed. Next, as shown in FIG. 11D, the protective tape T is peeled off by an appropriate means.

図11(e)のように該凹状面81に金属蒸着やスパッタリングなどにより、金属面が形成され、図11(f)のように再び、ウエハWの表面に保護テープTが貼り付けられる。   A metal surface is formed on the concave surface 81 by metal vapor deposition or sputtering as shown in FIG. 11E, and the protective tape T is affixed to the surface of the wafer W again as shown in FIG.

次に、図11(g)のように環状凸部80が研削され、除去される。続いて、図11(h)のようにダイシングテープDTを介して、ダイシングフレームDFにマウントされる。その後、図示しないがウエハWは、保護テープTが剥離された後、ダイシングされチップ化される。   Next, as shown in FIG. 11G, the annular convex portion 80 is ground and removed. Subsequently, it is mounted on the dicing frame DF via the dicing tape DT as shown in FIG. Thereafter, although not shown, the wafer W is diced into chips after the protective tape T is peeled off.

特開2001−148412号公報JP 2001-148212 A 特開2008−034709号公報JP 2008-034709 A

ところで、特許文献1の保護テープ貼り付け装置は、通常の平面状ウエハの回路パターン面に保護テープを貼り付けるものが前提となっており、前記平面状ウエハに保護テープを貼り付ける場合は、平面状ウエハの裏面を平坦なテーブルに吸着保持し、前記平面状ウエハの回路パターン面に真空チャンバ内の減圧下で、吸着搬送体に保持された保護テープを貼り付けるようになっている。   By the way, the protective tape attaching apparatus of Patent Document 1 is premised on attaching a protective tape to the circuit pattern surface of a normal planar wafer. When the protective tape is attached to the planar wafer, The back surface of the wafer is sucked and held on a flat table, and a protective tape held on the suction carrier is attached to the circuit pattern surface of the flat wafer under reduced pressure in a vacuum chamber.

しかし、環状凸部を有する内周部が研削されたウエハ(以後、単に凹状ウエハという)に保護テープを貼り付ける場合、凹状ウエハの凹状面が、撓んだり、反ったりし、吸着搬送体に保持された保護テープと凹状ウエハの凹状面が密着し難いため、貼り付け面に気泡やしわが発生する問題があった。   However, when a protective tape is affixed to a wafer whose inner peripheral portion having an annular convex portion is ground (hereinafter simply referred to as a concave wafer), the concave surface of the concave wafer bends or warps, and the suction carrier Since the held protective tape and the concave surface of the concave wafer are difficult to adhere, there is a problem that bubbles and wrinkles are generated on the pasting surface.

また、凹状ウエハは、凹状面に金属蒸着等が施されている場合、この凹状面に触れたくないという要請があり、凹状面と触れないように、中空で保持したい要請がある。   Further, when the concave surface is subjected to metal vapor deposition or the like, there is a request that the concave wafer does not want to touch the concave surface, and there is a request that the concave wafer should be held hollow so as not to touch the concave surface.

そこで、凹状ウエハの凹状面に触れずに保持する装置として特許文献2のような装置が開示されている。この特許文献2の装置は、凹状ウエハの表面に貼り付けられた保護テープ上に剥離テープを貼り付けて保護テープを剥離テープと一体に剥離させるようになっている。このとき、凹状ウエハの環状凸部を吸着で保持しながら、凹状面を中空で保持し、この中空部分に圧空を供給して凹状面を表面側に突出させるようになっている。   Therefore, an apparatus as disclosed in Patent Document 2 is disclosed as an apparatus for holding a concave wafer without touching the concave surface. In the apparatus of Patent Document 2, a release tape is attached on a protective tape attached to the surface of a concave wafer, and the protective tape is peeled off integrally with the release tape. At this time, while holding the annular convex portion of the concave wafer by suction, the concave surface is held hollow, and compressed air is supplied to the hollow portion so that the concave surface protrudes to the surface side.

しかし、特許文献2の装置は、保護テープに剥離テープを貼り付ける際、凹状ウエハの上面の一部しか支持していない状態でテーブルと凹状ウエハの中空部分に圧空を導入して凹状ウエハの凹状面を上方に突出させているので、凹状ウエハの環状凸部と凹状面の境界部分に亀裂が発生しやすい問題がある。   However, the apparatus of Patent Document 2 introduces compressed air into the hollow portion of the table and the concave wafer while supporting only a part of the upper surface of the concave wafer when the release tape is applied to the protective tape. Since the surface protrudes upward, there is a problem that cracks are likely to occur at the boundary between the annular convex portion and the concave surface of the concave wafer.

そこで、本発明は、ウエハを破損させず、さらにウエハ内周面にも触れずにウエハを保持するとともに、保護テープをしわや気泡を発生させずに精度良くウエハに貼り付けることを目的とする。   SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to hold a wafer without damaging the wafer and without touching the inner peripheral surface of the wafer, and to attach a protective tape to the wafer with high accuracy without generating wrinkles or bubbles. .

本発明の構成は、以下のような構成を採用する。   The configuration of the present invention employs the following configuration.

本発明は、
基板を保持する貼り付けテーブルが設けられた下チャンバと、
基板の外形に見合う大きさに切断された接着テープを吸着保持して前記下チャンバ上に移送すると共に、前記基板上に接着テープを貼り付ける接着テープ搬送体と、を有し、
前記接着テープ搬送体は、下チャンバと合わさることで真空チャンバを形成する上チャンバと、この上チャンバ内に揺動自在に収納され、前記貼り付けテーブル上への下降時に水平姿勢で接着テープの非粘着面に重なって前記接着テープを吸着保持し、傾斜状態で下チャンバ上へ下降することにより、接着テープの傾斜下がり側の部分を基板上に重ね、傾斜下がり側を基点に揺動して基板上に接着テープを貼り付ける吸着テーブルと、を有する基板への接着テープ貼り付け装置において、
前記貼り付けテーブルは、前記基板の裏面に対向するように形成され、気体を導入する気体導入孔が設けられたテーブル凹部と、前記テーブル凹部を囲繞する外周面に設けられ、前記基板の外周縁部を保持する外周保持部と、を備えて構成され、
前記上チャンバと下チャンバとで真空チャンバを形成するとともに、前記真空チャンバを減圧状態にして前記基板上に前記接着テープを貼り付けた後、前記減圧を開放する際、前記気体導入孔から気体を導入することで、前記基板を裏面側から前記吸着テーブルへ押圧するようにした構成を作用する基板への接着テープ貼り付け装置である。
The present invention
A lower chamber provided with an attaching table for holding a substrate;
An adhesive tape transporter that adsorbs and holds an adhesive tape cut to a size suitable for the outer shape of the substrate and transfers it onto the lower chamber, and affixes the adhesive tape on the substrate, and
The adhesive tape carrier is combined with the lower chamber to form a vacuum chamber, and is accommodated in the upper chamber so as to be swingable. The adhesive tape is attracted and held on the adhesive surface and lowered onto the lower chamber in an inclined state, so that the portion on the inclined side of the adhesive tape is overlapped on the substrate, and the substrate swings around the inclined downward side as a base point. In an adhesive tape affixing device to a substrate having a suction table for affixing an adhesive tape thereon,
The affixing table is formed so as to face the back surface of the substrate, is provided with a table recess provided with a gas introduction hole for introducing gas, and an outer peripheral surface surrounding the table recess, and the outer peripheral edge of the substrate An outer periphery holding part that holds the part,
A vacuum chamber is formed by the upper chamber and the lower chamber, and after the adhesive tape is applied to the substrate with the vacuum chamber in a reduced pressure state, when the reduced pressure is released, gas is introduced from the gas introduction hole. An adhesive tape affixing device to a substrate that operates by adopting a configuration in which the substrate is pressed from the back side to the suction table by being introduced.

本発明は、前記発明において、前記テーブル凹部に、気体排出孔を設け、前記気体導入孔から気体を導入する際に、一部の気体を前記気体排出孔から排出するようにした構成を採用する基板への接着テープ貼り付け装置である。   The present invention employs a configuration in which, in the above invention, a gas discharge hole is provided in the table recess, and a part of the gas is discharged from the gas discharge hole when the gas is introduced from the gas introduction hole. It is an apparatus for attaching an adhesive tape to a substrate.

また、本発明において、前記基板は、環状凸部が設けられ、該環状凸部に囲繞される内周面が研削された凹状ウエハである構成を採用した基板への接着テープ貼り付け装置である。   In the present invention, the substrate is an apparatus for attaching an adhesive tape to a substrate, wherein the substrate is a concave wafer provided with an annular convex portion and whose inner peripheral surface surrounded by the annular convex portion is ground. .

また、本発明は、前記テーブル凹部に、複数の基板保持ピンを突没自在に設け、前記基板保持ピンの先端に開孔を設けるとともに、前記開孔を吸気による吸着または排気による気体噴出を行うように切り替え可能に構成するとともに前記保持ピンの周囲から一部の気体を排気可能にした構成を採用する基板への接着テープ貼り付け装置である。   According to the present invention, a plurality of substrate holding pins are provided in the table recess so as to protrude and retract, an opening is provided at the tip of the substrate holding pin, and the opening is adsorbed by intake or ejected gas by exhaust. In this way, the adhesive tape sticking device to the substrate adopts a configuration in which the gas can be exhausted from the periphery of the holding pin.

また、本発明は、基板を保持する貼り付けテーブルが設けられた下チャンバと、
前記下チャンバと合わさって真空チャンバを形成する上チャンバと、
前記上チャンバ内に前記基板の外形に見合う大きさに切断された接着テープを吸着保持する吸着テーブルと、を設けておき、前記吸着テーブルに保持された接着テープを前記真空チャンバ内の減圧下で基板に貼り付ける基板への接着テープ貼り付け方法において、
前記貼り付けテーブルに、前記基板の裏面に対向するように凹部を形成し、該凹部に気体を導入する気体導入孔を設けるとともに、前記テーブル凹部を囲繞する外周面に前記基板の外周縁部を保持する外周保持部を設けて構成しておき、
前記外周保持部で基板の外周縁部を保持し、前記上チャンバと下チャンバとで真空チャンバを形成し、前記真空チャンバを減圧状態にして前記基板上に前記接着テープを貼り付けた後、前記減圧を開放する際、前記気体導入孔から気体を導入することで、前記基板を裏面側から前記吸着テーブルへ押圧するようにした構成を採用する基板への接着テープ貼り付け方法である。
Further, the present invention provides a lower chamber provided with a pasting table for holding a substrate;
An upper chamber that combines with the lower chamber to form a vacuum chamber;
An adsorbing table for adsorbing and holding an adhesive tape cut to a size corresponding to the outer shape of the substrate is provided in the upper chamber, and the adhering tape held on the adsorbing table is reduced under reduced pressure in the vacuum chamber. In the method of attaching the adhesive tape to the substrate to be attached to the substrate,
A recess is formed in the affixing table so as to face the back surface of the substrate, a gas introduction hole for introducing gas is provided in the recess, and an outer peripheral edge of the substrate is formed on an outer peripheral surface surrounding the table recess. Provide and configure the outer periphery holding part to hold,
After holding the outer peripheral edge of the substrate with the outer peripheral holding portion, forming a vacuum chamber with the upper chamber and the lower chamber, and applying the adhesive tape on the substrate in a vacuum state of the vacuum chamber, This is a method of attaching an adhesive tape to a substrate that employs a configuration in which the substrate is pressed against the suction table from the back surface side by introducing a gas from the gas introduction hole when releasing the pressure reduction.

また、本発明は、前記テーブル凹部に、気体排出孔を設けておき、前記気体導入孔から気体を導入する際に、一部の気体を前記気体排出孔から排出するようにした構成を採用する請求項1記載の基板への接着テープ貼り付け方法である。   Moreover, this invention employ | adopts the structure which provided the gas exhaust hole in the said table recessed part, and discharged some gas from the said gas exhaust hole when introduce | transducing gas from the said gas introduction hole. A method for attaching an adhesive tape to a substrate according to claim 1.

本発明によれば、真空下で各種の接着テープを貼り付けるので気泡やしわの発生無く基板に接着テープを貼り付けることができる。さらに、内周部分に触れたくない要請のあるウエハや環状凸部が形成された凹状ウエハであっても、内周部分に触れることなく接着テープを精度良く貼り付けることができる。また、基板への接着テープの貼り付けの際に、基板が撓んでも、内周部分に触れることなく接着テープを貼り付けることができる。また、基板への接着テープ貼り付けの際に吸着テーブルで接着テープを介して、基板を支持しながら、基板の裏面から、気体で基板を押圧するようにしているので、基板を破損することなく、接着テープを基板に貼り付けることができる。また、前記テーブル凹部に気体排出孔を設けておき、前記気体導入孔から気体を導入する際に、一部の気体を前記気体排出孔から排出するようにすれば、基板に無理な負荷がかからず、基板を破損することがない。   According to the present invention, since various adhesive tapes are affixed under vacuum, the adhesive tape can be affixed to the substrate without generation of bubbles or wrinkles. Furthermore, even if it is a wafer which does not want to touch an inner peripheral part, or a concave wafer in which the annular convex part was formed, an adhesive tape can be affixed accurately, without touching an inner peripheral part. Further, even when the substrate is bent when the adhesive tape is applied to the substrate, the adhesive tape can be applied without touching the inner peripheral portion. Also, since the substrate is pressed with gas from the back side of the substrate while supporting the substrate via the adhesive tape on the suction table when the adhesive tape is attached to the substrate, the substrate is not damaged. Adhesive tape can be attached to the substrate. Further, if a gas discharge hole is provided in the table recess and a part of the gas is discharged from the gas discharge hole when the gas is introduced from the gas introduction hole, an excessive load is applied to the substrate. Therefore, the substrate is not damaged.

は、本発明の一実施形態に係る接着テープ貼り付け装置の平面図である。These are top views of the adhesive tape sticking apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. は、図1のA−A方向断面矢視図である。These are AA direction cross-sectional arrow views of FIG. は、図1のB−B方向断面矢視図である。These are the BB direction cross-section arrow directional views of FIG. は、本発明に用いられる貼り付けテーブルの一実施形態を表す平面図である。These are top views showing one Embodiment of the sticking table used for this invention. は、本発明に用いられる貼り付けテーブルの断面説明図である。These are sectional explanatory drawing of the sticking table used for this invention. (a)及び(b)は、接着テープ切断部で接着テープを穴開きテーブルに貼り付け及び剥離する状態を表す説明図である。(A) And (b) is explanatory drawing showing the state which affixes and peels an adhesive tape on a perforated table in an adhesive tape cutting part. (a)から(c)は、本発明の接着テープ貼り付け装置の接着テープ貼り付け動作を表す説明図である。(A)-(c) is explanatory drawing showing the adhesive tape sticking operation | movement of the adhesive tape sticking apparatus of this invention. (d)から(f)は、本発明の接着テープ貼り付け装置の接着テープ貼り付け動作を表す説明図である。(D)-(f) is explanatory drawing showing the adhesive tape sticking operation | movement of the adhesive tape sticking apparatus of this invention. (g)から(i)は、本発明の接着テープ貼り付け装置の接着テープ貼り付け動作を表す説明図である。(G)-(i) is explanatory drawing showing the adhesive tape sticking operation | movement of the adhesive tape sticking apparatus of this invention. は、環状凸部が形成され、該環状凸部に囲繞される内周面が研削された凹状ウエハの一部切欠き斜視図である。FIG. 5 is a partially cutaway perspective view of a concave wafer in which an annular convex portion is formed and an inner peripheral surface surrounded by the annular convex portion is ground. (a)から(h)は、図10の凹状ウエハの形成及び加工例を表す説明図である。(A) to (h) is an explanatory view showing formation and processing examples of the concave wafer of FIG. は、スリットが形成されたスリットウエハの斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of a slit wafer on which slits are formed.

以下、本発明の基板への接着テープ貼り付け装置の一実施形態について図1から図6に基づいて説明する。   Hereinafter, an embodiment of an apparatus for attaching an adhesive tape to a substrate of the present invention will be described with reference to FIGS.

図1は、本発明の接着テープ貼り付け装置1の平面図であり、図2は、図1のA−A方向断面矢視図であり、図3は、図1のB−B方向断面矢視図である。   1 is a plan view of an adhesive tape attaching apparatus 1 according to the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view taken along a line AA in FIG. 1, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along a line BB in FIG. FIG.

本発明の接着テープ貼り付け装置1は、基板W(以下ウエハWという)を収納するウエハ供給/収納部aと、位置決め部bと、ウエハ供給/収納部aに多段に収納されたウエハWを一枚ずつ取り出して位置決め部bに搬送するウエハ搬送部cと、前記位置決め部bで位置決めされたウエハWを受け取って支持する接着テープ貼り付け部dと、前記位置決め部b上のウエハWを接着テープ貼り付け部dに移送するウエハ搬送部eと、前記接着テープ貼り付け部dに隣接して位置し、前記接着テープTを前記ウエハWの外形とほぼ同等若しくはやや小径に切断する接着テープ切断部fと、前記接着テープ貼り付け部dと前記接着テープ切断部fとの間を移動し、前記接着テープ切断部fで切断された接着テープTを吸着保持して前記接着テープ貼り付け部dに移送すると共に、該接着テープ貼り付け部dで前記ウエハW上に接着テープTを貼り付ける接着テープ搬送体g等から構成されている。   The adhesive tape attaching apparatus 1 of the present invention includes a wafer supply / storage part a for storing a substrate W (hereinafter referred to as a wafer W), a positioning part b, and wafers W stored in multiple stages in the wafer supply / storage part a. Wafer transfer section c for picking up one by one and transferring it to positioning section b; adhesive tape attaching section d for receiving and supporting wafer W positioned by positioning section b; and bonding wafer W on positioning section b Wafer transporting section e to be transferred to tape attaching section d, and adhesive tape cutting that is located adjacent to the adhesive tape attaching section d and cuts the adhesive tape T to be almost the same as or slightly smaller in diameter than the wafer W. Moving between the part f, the adhesive tape attaching part d, and the adhesive tape cutting part f, adsorbing and holding the adhesive tape T cut by the adhesive tape cutting part f, and applying the adhesive tape While transferring the attaching portion d, and a adhesive tape carrier g such paste adhesive tape T on the wafer W with the adhesive tape sticking section d.

本発明で使用するウエハWは、例えば図10に示すように、外周に環状凸部80が設けられ、該環状凸部に囲繞される内周面が研削された凹状ウエハWが用いられる。なお、前記凹状ウエハWだけでなく、内周面に触れたくない要請のあるウエハが、好適に用いられる。例えば図12に示すようなウエハWのパターン82にスリット85が形成されたスリットウエハSWにも適用できる。この場合、前記スリットウエハSWのパターン形成面(表面)を下面として、前記スリットウエハSWの裏面に両面接着テープTを貼り付けることに適用でき、両面接着テープTが貼り付けられたスリットウエハSWは、この後、前記両面接着テープTを介してガラス等の支持基板が貼り付けられる。   For example, as shown in FIG. 10, a wafer W used in the present invention is a concave wafer W in which an annular convex portion 80 is provided on the outer periphery and an inner peripheral surface surrounded by the annular convex portion is ground. In addition, not only the concave wafer W but also a wafer that is requested not to touch the inner peripheral surface is preferably used. For example, the present invention can be applied to a slit wafer SW in which a slit 85 is formed in a pattern 82 of a wafer W as shown in FIG. In this case, the slit wafer SW can be applied to the double-sided adhesive tape T attached to the back surface of the slit wafer SW with the pattern forming surface (front surface) of the slit wafer SW as the bottom surface. Thereafter, a support substrate such as glass is pasted through the double-sided adhesive tape T.

なお、ウエハWの外周の一部には、位置決め用のノッチ82や、オリフラ(図示しない)が形成されていても良い。   A positioning notch 82 or an orientation flat (not shown) may be formed on a part of the outer periphery of the wafer W.

前記ウエハ供給/収納部aは、図1のように、機台2上の右手前に位置し、多段状にウエハWを収納可能な収納カセット3が交換可能に設置されている。前記収納カセット3は、図示しない駆動源によって昇降可能になっており、順次ウエハWの取り出し、収納が自在になっている。   As shown in FIG. 1, the wafer supply / storage unit a is located in front of the machine base 2 and has a storage cassette 3 capable of storing wafers W in a multi-stage manner so as to be replaceable. The storage cassette 3 can be moved up and down by a drive source (not shown), and the wafers W can be taken out and stored sequentially.

位置決め部bは、搬送ロボット4に隣接する位置に配置された支持台28上に設置されている。前記支持台28上には、搬送されたウエハWの外周(本実施形態では凹状ウエハWの環状凸部80)を吸着保持して回転させる回転テーブル5と、その近隣上方に光学手段等の適宜手段でウエハWのノッチ82またはオリフラを検出するセンサ6が設けられている。   The positioning part b is installed on a support base 28 arranged at a position adjacent to the transfer robot 4. On the support table 28, the outer periphery of the transferred wafer W (in this embodiment, the annular convex portion 80 of the concave wafer W) is sucked and held, and the rotary table 5 is rotated. A sensor 6 is provided for detecting the notch 82 or orientation flat of the wafer W by means.

また、図2のように前記回転テーブル5は、モータ7によって回転自在に構成され、保持されたウエハWを回転させて、該ウエハWの外周に設けられたノッチ82に光を照射して該ノッチ82をセンサ6で検出するようになっている。   Further, as shown in FIG. 2, the turntable 5 is configured to be rotatable by a motor 7 and rotates a held wafer W to irradiate light to a notch 82 provided on the outer periphery of the wafer W. The notch 82 is detected by the sensor 6.

ウエハ搬送部cは、前記収納カセット3の左横に位置し、収納カセット3に収納されたウエハWを一枚ずつ取り出す搬送ロボット4が設けられ、該搬送ロボット4は、伸縮と旋回が自在に構成され、ハンド先端の下面でウエハWの外周部を吸着し、前記位置決め部bの回転テーブル5上への移送を行うようになっている。なお、ハンド先端は、適宜ベルヌーイチャック等で非接触タイプのものを用いることもできる。また、前記搬送ロボット4は、接着テープTが貼り付けられた後のウエハWの前記収納カセット3への搬送を行うようになっている。   The wafer transfer section c is located on the left side of the storage cassette 3 and is provided with a transfer robot 4 for taking out the wafers W stored in the storage cassette 3 one by one. The transfer robot 4 can freely extend and retract. The outer peripheral part of the wafer W is adsorbed by the lower surface of the tip of the hand, and the positioning part b is transferred onto the rotary table 5. The tip of the hand can be a non-contact type such as a Bernoulli chuck as appropriate. Further, the transfer robot 4 is configured to transfer the wafer W after the adhesive tape T is pasted to the storage cassette 3.

図1のように機台2の中央には接着テープ貼り付け部dが、位置決め部bと接着テープ切断部fとの間に設けられている。また、前記接着テープ貼り付け部dは、前記機台2上に設置された下チャンバ9と、該下チャンバ9の内部に設けられた貼り付けテーブル8等で構成されている。   As shown in FIG. 1, an adhesive tape attaching part d is provided in the center of the machine base 2 between the positioning part b and the adhesive tape cutting part f. The adhesive tape attaching part d is composed of a lower chamber 9 installed on the machine base 2 and an attaching table 8 provided inside the lower chamber 9.

前記貼り付けテーブル8は、図2のように下方がガイド11に支持され、前記ガイド11は、下チャンバ9にスライド可能に貫入して支持板12に支持されている。また、前記下チャンバ9の下方に支持枠13が設けられている。また、該支持枠13の下面に昇降シリンダ14が設けられ、該昇降シリンダ14のシリンダ軸14a先端に前記支持板12が接続されている。従って、前記支持板12は、前記昇降シリンダ14によって昇降動自在になっており、前記昇降シリンダ14のシリンダ軸14aの伸縮により、前記貼り付けテーブル8は、前記下チャンバ9に対して昇降動が自在になっている。   As shown in FIG. 2, the sticking table 8 is supported by a guide 11 at the bottom, and the guide 11 is slidably inserted into the lower chamber 9 and supported by a support plate 12. A support frame 13 is provided below the lower chamber 9. An elevating cylinder 14 is provided on the lower surface of the support frame 13, and the support plate 12 is connected to the tip of the cylinder shaft 14 a of the elevating cylinder 14. Therefore, the support plate 12 can be moved up and down by the lift cylinder 14, and the sticking table 8 can be lifted and lowered with respect to the lower chamber 9 by expansion and contraction of the cylinder shaft 14 a of the lift cylinder 14. It is free.

また、前記貼り付けテーブル8は、上面に凹部8b(図5参照)が形成され、ウエハW裏面の内周面が前記貼り付けテーブル8に接触しないようになっている。また、前記貼り付けテーブル8は、凹部8bを囲繞する凸部8a上に吸着孔15が複数設けられ、外周保持部を形成している。前記吸着孔15は、後述する真空チャンバ内の吸引とは独立して吸引できる吸引ホース16が接続され、該吸引ホース16は、切替バルブ17を介して真空ポンプ18に接続されている。該真空ポンプ18を起動して、切替バルブ17を開放することで前記吸着孔15に吸引力が作用するようになっている。   Further, the bonding table 8 has a concave portion 8b (see FIG. 5) formed on the upper surface thereof so that the inner peripheral surface of the back surface of the wafer W does not contact the bonding table 8. The affixing table 8 is provided with a plurality of suction holes 15 on the convex portion 8a surrounding the concave portion 8b to form an outer peripheral holding portion. The suction hole 15 is connected to a suction hose 16 that can be suctioned independently of suction in a vacuum chamber described later. The suction hose 16 is connected to a vacuum pump 18 via a switching valve 17. A suction force is applied to the suction hole 15 by starting the vacuum pump 18 and opening the switching valve 17.

前記外周保持部としての前記吸着孔15は、ウエハWの外周部分で接触しても影響が出ない部分を吸着するようになっている。例えば、外周に環状凸部80が形成された凹状ウエハWの場合、前記環状凸部80が吸着保持される。また、スリットウエハSWの場合、パターン形成面の外周部分で接触しても影響が出ない部分が、吸着保持される。   The suction hole 15 as the outer periphery holding portion sucks a portion that does not have an influence even if it contacts the outer periphery of the wafer W. For example, in the case of the concave wafer W having the annular protrusion 80 formed on the outer periphery, the annular protrusion 80 is sucked and held. Further, in the case of the slit wafer SW, a portion that does not have an influence even if contacted at the outer peripheral portion of the pattern forming surface is sucked and held.

また、前記貼り付けテーブル8の凹部8bは、4箇所に開孔19が設けられ、真空チャンバ内と連通している。また、前記開孔19内は、それぞれ4本の支持ピン20が挿通されている。前記支持ピン20は、先端部に吸着部が設けられており、その先端部でウエハWを吸着保持可能になっている。前記開孔19は、後述する前記貼り付けテーブル8の凹部8b内への通気の際に、一部の空気を排出するようになっている。   Further, the recesses 8b of the affixing table 8 are provided with openings 19 at four locations, and communicate with the inside of the vacuum chamber. Further, four support pins 20 are inserted through the openings 19 respectively. The support pin 20 is provided with a suction portion at the tip, and the wafer W can be sucked and held at the tip. The opening 19 discharges part of the air when venting into a recess 8b of the affixing table 8 described later.

前記支持ピン20は、貼り付けテーブル8の下方で、下端が支持枠21に支持されている。前記支持枠12の下面にはシリンダ25が設けられ、前記シリンダ25の軸は、支持枠21に接続されている。前記シリンダ25を作用させることで前記支持ピン20が貼り付けテーブル8の凹部8bから突没するようになっている。前記支持ピン20が、貼り付けテーブル8から突出した際にウエハWの裏面側を吸着保持することが可能になっている。なお、前記支持ピン20は、前記凹状ウエハW等、内周面に触れたくない要請のある場合は、動作させずに待機している(内周面に触れても良いウエハの場合に適宜使用できるようになっている。)。従って、各種のウエハWに応じて、前記支持ピン20の使用有無を切替えることで、各種ウエハWの特性に合わせた処理を適正に行えるようになっている。   The support pin 20 is supported by the support frame 21 at the lower end below the attachment table 8. A cylinder 25 is provided on the lower surface of the support frame 12, and the shaft of the cylinder 25 is connected to the support frame 21. By operating the cylinder 25, the support pin 20 protrudes from the recess 8b of the attaching table 8. When the support pins 20 protrude from the attaching table 8, the back side of the wafer W can be sucked and held. Note that the support pins 20 are in a standby state without being operated when there is a request not to touch the inner peripheral surface, such as the concave wafer W (appropriately used in the case of a wafer that may touch the inner peripheral surface). It can be done.) Therefore, by changing the use / non-use of the support pins 20 in accordance with various types of wafers W, processing suitable for the characteristics of the various types of wafers W can be appropriately performed.

また、前記支持ピン20は、それぞれ内部に通気孔22が穿設され、支持枠21内でそれぞれ連通している。前記支持枠21には、通気パイプ23が接続され、切替バルブ24を介して真空ポンプ18に接続されている。   The support pins 20 are each provided with a vent hole 22 and communicate with each other within the support frame 21. A vent pipe 23 is connected to the support frame 21 and is connected to the vacuum pump 18 via a switching valve 24.

前記貼り付けテーブル8の凹部8bは、中心部に通気孔24が穿孔され、さらに開孔19を囲繞して円周状に複数の通気孔24が穿孔されている。前記通気孔24は、通気パイプ25を介して通気ポンプ26に接続されている。なお、通気ポンプ26に代えて、適宜シリンダ等の通気ラインに切替バルブを設けて接続するようにしても良い。前記通気ポンプ26を作用させることで、前記凹部8b内に大気を導入することが可能になっている。   The concave portion 8b of the affixing table 8 has a vent hole 24 in the center, and further has a plurality of vent holes 24 that surround the opening 19 in a circumferential shape. The vent hole 24 is connected to a vent pump 26 through a vent pipe 25. Instead of the ventilation pump 26, a switching valve may be provided and connected to a ventilation line such as a cylinder as appropriate. By operating the ventilation pump 26, it is possible to introduce the atmosphere into the recess 8b.

前記ウエハ搬送部eは、前記位置決め部bと前記接着テープ貼り付け部dの奥側に水平方向に設けられたレール29と、該レール29に沿って移動自在な吸着ハンド27等から構成されている。   The wafer transfer unit e is composed of a rail 29 provided in the horizontal direction on the back side of the positioning unit b and the adhesive tape attaching unit d, a suction hand 27 movable along the rail 29, and the like. Yes.

前記吸着ハンド27は、本実施形態においては、ウエハWの上面から吸着保持するようになっており、ウエハWの外周のパターン形成面以外の部分を吸着保持するようになっている。なお、前記吸着ハンド27は、非接触タイプのものを用いるようにしても良い。   In the present embodiment, the suction hand 27 sucks and holds from the upper surface of the wafer W, and sucks and holds portions other than the pattern forming surface on the outer periphery of the wafer W. The suction hand 27 may be a non-contact type.

前記レール29は、前記位置決め部bと前記接着テープ貼り付け部dとの間に沿って敷設されている。前記吸着ハンド27の支持部後端は、前記レール26に摺動可能に嵌合され、適宜の駆動源(図示しない)により、前記吸着ハンド27は、前記位置決め部bと前記接着テープ貼り付け部dとの間を移動するようになっている。従って、前記吸着ハンド27は、前記位置決め部bで位置決めされたウエハWを吸着保持し、該ウエハWを前記接着テープ貼り付け部dの貼り付けテーブル8上に移載するようになっている。   The rail 29 is laid along the positioning part b and the adhesive tape attaching part d. The rear end of the support part of the suction hand 27 is slidably fitted to the rail 26, and the suction hand 27 is connected to the positioning part b and the adhesive tape attaching part by an appropriate drive source (not shown). It moves between d. Accordingly, the suction hand 27 sucks and holds the wafer W positioned by the positioning portion b, and transfers the wafer W onto the attachment table 8 of the adhesive tape attaching portion d.

前記接着テープ切断部fは、前記接着テープ貼り付け部dを挟んで前記位置決め部bと反対側に位置し、前記穴開きテーブル30と、接着テープTを前記穴開きテーブル30上に貼り付ける貼り付けユニット37と、前記穴開きテーブル30の下方に設けられたカッタユニット33等を有する。   The adhesive tape cutting part f is located on the opposite side of the positioning part b across the adhesive tape attaching part d, and is affixed to attach the perforating table 30 and the adhesive tape T onto the perforated table 30. And a cutter unit 33 provided below the perforating table 30.

前記穴開きテーブル30の両側に、側板36、36が接着テープ貼り付け装置1の装置奥から装置手前にかけて立設されている。前記側板36、36間には、前記貼り付けユニット37が設けられている。   On both sides of the perforated table 30, side plates 36 and 36 are erected from the back of the adhesive tape applicator 1 to the front of the apparatus. Between the side plates 36, 36, the pasting unit 37 is provided.

前記貼り付けユニット37は、広幅の接着テープTが巻回された供給リール38と、使用済みの接着テープTを巻取る回収リール39と、供給される接着テープTを案内する複数のガイドローラ40と、前記接着テープTからセパレータSを剥離するピンチローラ43と、前記接着テープTから剥離されるセパレータSを巻取るセパレータ回収リール41と、前記接着テープTを前記穴開きテーブル30に押圧して貼り付ける貼り付けローラ42と、前記穴開きテーブル30に貼り付けられた接着テープTの余剰部分を剥離する剥離ローラ44等を備えて構成されている。   The affixing unit 37 includes a supply reel 38 around which a wide adhesive tape T is wound, a recovery reel 39 that winds up the used adhesive tape T, and a plurality of guide rollers 40 that guide the supplied adhesive tape T. A pinch roller 43 for peeling the separator S from the adhesive tape T, a separator collection reel 41 for winding the separator S peeled from the adhesive tape T, and pressing the adhesive tape T against the perforated table 30 An affixing roller 42 to be affixed, a peeling roller 44 for peeling off excess portions of the adhesive tape T affixed to the perforating table 30, and the like are provided.

前記供給リール38は、前記両側板36、36間の装置手前側に軸支されている。前記供給リール38に、例えばウエハWのパターン形成面を保護する保護テープ等の接着テープTが巻回されている。保護テープ以外には例えばダイアタッチフィルムや、ウエハWに支持基板を貼り付ける場合の両面テープ等、各種の接着テープを用いることができる。なお、前記供給リール38は、適宜の駆動源やストッパが設けられ、接着テープTを自在に繰り出すことができる。   The supply reel 38 is pivotally supported on the front side of the apparatus between the side plates 36 and 36. For example, an adhesive tape T such as a protective tape for protecting the pattern forming surface of the wafer W is wound around the supply reel 38. In addition to the protective tape, various adhesive tapes such as a die attach film and a double-sided tape for attaching a support substrate to the wafer W can be used. The supply reel 38 is provided with an appropriate drive source and stopper, and can feed the adhesive tape T freely.

前記供給リール38から繰出された接着テープTは、ガイドローラ40に案内され、ピンチローラ43によって、粘着面側に仮着されたセパレータSが剥離された後、接着面が下になった状態で貼り付けローラ42の下方を通過し、前記穴開きテーブル30上に案内される。この後、前記接着テープTは、前記剥離ローラ44の上方を経由してガイドローラ40に案内され、ピンチローラ45を経由して回収リール39に巻取られる。また、前記剥離されたセパレータSは、セパレータ回収リール41に巻取られる。なお、ピンチローラ45及び回収リール39は、適宜の駆動源(図示しない)が設けられている。   The adhesive tape T fed from the supply reel 38 is guided by the guide roller 40, and after the separator S temporarily attached to the adhesive surface side is peeled off by the pinch roller 43, the adhesive surface is in a state of being down. It passes under the sticking roller 42 and is guided onto the perforating table 30. Thereafter, the adhesive tape T is guided to the guide roller 40 via the upper part of the peeling roller 44 and is wound around the collection reel 39 via the pinch roller 45. Further, the separated separator S is wound around the separator collection reel 41. The pinch roller 45 and the collection reel 39 are provided with appropriate drive sources (not shown).

前記側板36、36の穴開きテーブル30に沿った側方にレール47、47が敷設されている。前記貼り付けローラ42は、軸受部材46に軸支され、前記レール47、47に摺動可能に嵌合している。前記軸受部材46は、スライダ49が設けられ、該スライダ49は、レール47に摺動可能に嵌合している。また、前記軸受部材46は、図示しない適宜の駆動源により、前記レール47に沿って前記貼り付けローラ42と一体に水平動自在になっている。また、前記貼り付けローラ42は、前記接着テープTを押圧しながら転動し、前記接着テープTを穴開きテーブル30上に貼り付けるようになっている。   Rails 47, 47 are laid on the sides of the side plates 36, 36 along the perforated table 30. The affixing roller 42 is pivotally supported by a bearing member 46 and is slidably fitted to the rails 47 and 47. The bearing member 46 is provided with a slider 49, and the slider 49 is slidably fitted to a rail 47. The bearing member 46 is horizontally movable integrally with the attaching roller 42 along the rail 47 by an appropriate driving source (not shown). The affixing roller 42 rolls while pressing the adhesive tape T, and affixes the adhesive tape T on the perforated table 30.

また、前記穴開きテーブル30の側方には剥離ローラ44が設けられている。該剥離ローラ44は、軸受部材48に軸支されている。該軸受部材48は、前記レール47、47に摺動可能に嵌合している。また、前記軸受部材48は、図示しない適宜の駆動源により、前記レール47に沿って前記剥離ローラ44と一体に水平動自在になっている。前記剥離ローラ44は、前記穴開きテーブル30の上面と前記接着テープTの接着面との間を転動することで、くり貫かれた接着テープTの余剰部分を前記穴開きテーブル30から剥離するようになっている。なお、前記剥離ローラ44は、接着テープTの接着面と接することから、適宜の離型処理(例えば、フッ素処理)が施されている。   Further, a peeling roller 44 is provided on the side of the perforating table 30. The peeling roller 44 is pivotally supported by the bearing member 48. The bearing member 48 is slidably fitted to the rails 47 and 47. The bearing member 48 is horizontally movable integrally with the peeling roller 44 along the rail 47 by an appropriate driving source (not shown). The peeling roller 44 rolls between the upper surface of the perforated table 30 and the adhesive surface of the adhesive tape T, so that the excess portion of the cut adhesive tape T is peeled off from the perforated table 30. It is like that. Since the peeling roller 44 is in contact with the adhesive surface of the adhesive tape T, an appropriate release treatment (for example, fluorine treatment) is performed.

前記穴開きテーブル30は、ウエハWの外形よりも大きい矩形状に形成され、前記ウエハWの外径とほぼ同じか、僅かに小径の円形穴32が形成されている。また、前記穴開きテーブル30の上面は、前記貼り付けテーブル8の上端とほぼ同じ高さになっている。また、前記穴開きテーブル30の上面には、上チャンバ50が合わさった際に吸着テーブル59の支持部が干渉しないように退避孔72が設けられている。また、前記穴開きテーブル30の下方には、該穴開きテーブル30に貼り付けられる接着テープTを円形穴32の内周に沿って円周方向に切断するカッタユニット33が設けられている。   The perforated table 30 is formed in a rectangular shape larger than the outer shape of the wafer W, and a circular hole 32 having a diameter substantially the same as or slightly smaller than the outer diameter of the wafer W is formed. Further, the upper surface of the perforated table 30 is substantially the same height as the upper end of the pasting table 8. A retraction hole 72 is provided on the upper surface of the perforated table 30 so that the support portion of the suction table 59 does not interfere when the upper chamber 50 is brought together. A cutter unit 33 is provided below the perforated table 30 for cutting the adhesive tape T attached to the perforated table 30 in the circumferential direction along the inner periphery of the circular hole 32.

前記カッタユニット33は、円周カッタ34を有し、該円周カッタ34は、ベルト36を介してモータ35に接続されることにより、回転が自在になっている。また、前記円周カッタ34は、適宜の駆動源による上下動が可能となっている。なお、ウエハWの位置決め部の形状に応じて、適宜オリフラカッタやノッチカッタを別途設けるようにしても良い。   The cutter unit 33 has a circumferential cutter 34, and the circumferential cutter 34 is connected to a motor 35 via a belt 36 so that the cutter unit 33 can rotate freely. The circumferential cutter 34 can be moved up and down by an appropriate drive source. Depending on the shape of the positioning portion of the wafer W, an orientation flat cutter or a notch cutter may be separately provided as appropriate.

前記穴開きテーブル30に貼り付けられた接着テープTは、前記円形孔32の下方から前記円周カッタ34が突き刺されるようになっている。前記円周カッタ34は、該接着テープTを突き刺した後、回転することでウエハWの外形とほぼ同じまたは、やや小径に接着テープTを切り抜くようになっている。なお、接着テープTのウエハWのノッチやオリフラに対応する部分は、図示しないカッタで切断すれば良い。なお、前記円周カッタ34をウエハWのノッチやオリフラの形状に合わせて移動可能に構成し、前記ノッチやオリフラの形状に前記円周カッタ34を移動制御して、前記ノッチやオリフラを切断するようにしても良い。   The adhesive tape T affixed to the perforated table 30 is configured such that the circumferential cutter 34 is pierced from below the circular hole 32. The circumferential cutter 34 pierces the adhesive tape T, and then rotates to cut out the adhesive tape T to have a diameter that is substantially the same as or slightly smaller than the outer shape of the wafer W. In addition, what is necessary is just to cut | disconnect the part corresponding to the notch and orientation flat of the wafer W of the adhesive tape T with the cutter which is not shown in figure. The circumferential cutter 34 is configured to be movable according to the shape of the notch or orientation flat of the wafer W, and the notch or orientation flat is cut by controlling the movement of the circumferential cutter 34 to the shape of the notch or orientation flat. You may do it.

前記接着テープ搬送体gは、前記接着テープ切断部fの直上に臨んで設けられている。前記接着テープ搬送体gは、上チャンバ50と、上チャンバ50内に設けられた吸着テーブル51と上チャンバ50側部の接着テープ貼り付け部d側に設けられた貼り付けローラ52(図2参照)等から構成されている。   The adhesive tape transport body g is provided directly above the adhesive tape cutting portion f. The adhesive tape transport body g includes an upper chamber 50, a suction table 51 provided in the upper chamber 50, and an attaching roller 52 provided on the adhesive tape attaching portion d side of the upper chamber 50 (see FIG. 2). ) Etc.

前記側板36は、一部切欠かれて切欠部36aが形成されており、前記切欠部36aと垂直方向に支持枠53が設けられている。前記支持枠53は、前記接着テープ切断部f上から前記接着テープ貼り付け部d上にかけて懸架され、両側の支持壁の内側にレール54、54が敷設されている。また、両レール54、54間に、支持枠55が掛け渡され、該支持枠55は、両端に設けられたスライダ58、58を介して両レール54、54に移動可能に支持されている。なお、前記支持枠55は、図示しない適宜の駆動源により、前記両レール54、54に沿って移動自在になっている。   The side plate 36 is partially cut away to form a notch 36a, and a support frame 53 is provided in a direction perpendicular to the notch 36a. The support frame 53 is suspended from the adhesive tape cutting part f to the adhesive tape attaching part d, and rails 54 and 54 are laid inside the support walls on both sides. A support frame 55 is stretched between the rails 54 and 54, and the support frame 55 is movably supported by the rails 54 and 54 via sliders 58 and 58 provided at both ends. The support frame 55 is movable along the rails 54 and 54 by an appropriate drive source (not shown).

前記支持枠55には、前記上チャンバ50が、支持枠55に立設された複数のガイド部材56に昇降可能に支持されている。また、前記支持枠55上に昇降シリンダ57が設けられ、前記上チャンバ50は、前記昇降シリンダ57によって前記支持枠55に対して、昇降自在になっている。   The upper chamber 50 is supported on the support frame 55 by a plurality of guide members 56 erected on the support frame 55 so as to be movable up and down. An elevating cylinder 57 is provided on the support frame 55, and the upper chamber 50 can be raised and lowered with respect to the support frame 55 by the elevating cylinder 57.

前記上チャンバ50上に、真空アダプタ68が設けられ、該真空アダプタ68は、図示しない真空ポンプに接続されている。前記真空アダプタ68から、真空ポンプを通じて排気することで、前記上チャンバ50と前記下チャンバ9とで形成される真空チャンバ内を減圧し、真空状態にすることができる。   A vacuum adapter 68 is provided on the upper chamber 50, and the vacuum adapter 68 is connected to a vacuum pump (not shown). By evacuating from the vacuum adapter 68 through a vacuum pump, the vacuum chamber formed by the upper chamber 50 and the lower chamber 9 can be depressurized to be in a vacuum state.

前記上チャンバ50は、内部に吸着テーブル59を備え、該吸着テーブル59は、接着テープ切断部fで切断される接着テープTを背面側から吸着保持するようになっている。前記吸着テーブル59は、例えば多孔質体で形成され、ウエハWの外形よりやや小さく(例えばウエハ外形より1〜2mm程度小さく形成)形成されている。前記吸着テーブル59の多孔質体は、下面の吸着面を残して、非通気性部材で囲繞され、吸着面に吸着力を発生させるようになっている。   The upper chamber 50 includes a suction table 59 therein, and the suction table 59 sucks and holds the adhesive tape T cut by the adhesive tape cutting portion f from the back side. The suction table 59 is formed of, for example, a porous body, and is slightly smaller than the outer shape of the wafer W (for example, smaller than the wafer outer shape by about 1 to 2 mm). The porous body of the suction table 59 is surrounded by a non-breathable member, leaving the lower suction surface, and generates a suction force on the suction surface.

また、前記吸着テーブル59は、上面側が固定枠60で支持されている。なお、吸着テーブル59は、真空チャンバ内の吸引とは独立して吸引できる吸引ホース61が接続されており、真空チャンバと吸着テーブル59に差圧を発生させることができるようになっている。従って、真空チャンバ内が真空状態となっても前記吸着テーブル59に接着テープTを保持できるようになっている。   The suction table 59 is supported by a fixed frame 60 on the upper surface side. The suction table 59 is connected to a suction hose 61 that can suck independently of the suction in the vacuum chamber, so that a differential pressure can be generated between the vacuum chamber and the suction table 59. Accordingly, the adhesive tape T can be held on the suction table 59 even when the vacuum chamber is in a vacuum state.

また、前記固定枠60は、先端がバネ部材62を介して上チャンバ50に接続されている。前記固定枠60の後端は、支持枠が下方に向けて延設され、該支持枠は、上チャンバ50に固定された固定枠64に軸63を介して軸支されている。   The fixed frame 60 has a tip connected to the upper chamber 50 via a spring member 62. A support frame extends downward from the rear end of the fixed frame 60, and the support frame is pivotally supported via a shaft 63 on a fixed frame 64 fixed to the upper chamber 50.

前記上チャンバ50の内部上壁には、レール66が敷設され、該レール66には、スライダが摺動可能に嵌合している。前記スライダには支持枠を介してスイングローラ67が転動可能に軸支されている。また、前記固定枠60の上面には、レール65が敷設されており、前記スイングローラ67は、前記レール65上を転動するようになっている。   A rail 66 is laid on the inner upper wall of the upper chamber 50, and a slider is slidably fitted to the rail 66. A swing roller 67 is rotatably supported on the slider via a support frame. A rail 65 is laid on the upper surface of the fixed frame 60, and the swing roller 67 rolls on the rail 65.

また、前記固定枠60は、前記バネ部材62によって、前端側が上方に向けて付勢されており、初期状態では、前記吸着テーブル59は、前上がり傾斜状態となっている。そし
て、前記スイングローラ67が前記レール66上を走行することで吸着テーブル59が軸63を支点に揺動し、該吸着テーブル59が水平に保たれるようになっている。
Further, the fixed frame 60 is urged upward by the spring member 62, and in the initial state, the suction table 59 is in an upwardly inclined state. When the swing roller 67 travels on the rail 66, the suction table 59 swings around the shaft 63, and the suction table 59 is kept horizontal.

また、前記上チャンバ50は、前記接着テープ切断部fで切断された接着テープTを前記吸着テーブル59で吸着保持し、前記接着テープ貼り付け部d上に搬送するとともに接着テープ貼り付け部dの下チャンバ9と合わさって真空チャンバを形成するようになっている。   The upper chamber 50 sucks and holds the adhesive tape T cut by the adhesive tape cutting portion f by the suction table 59 and transports the adhesive tape T onto the adhesive tape attaching portion d and the adhesive tape attaching portion d. Together with the lower chamber 9, a vacuum chamber is formed.

また、前記上チャンバ50の接着テープ貼り付け部d側には、支持板70が延設され、該支持板70の下面にローラ枠71が設けられている。該ローラ枠71には、押えローラ52が軸支されている。前記支持板70上には、シリンダ72が立設され、該シリンダ72のシリンダ軸は、前記ローラ枠71に接続されている。また、前記シリンダ72の両側には、ガイド73が立設されており、前記シリンダ72を作用させることで前記押えローラ52が昇降するようになっている。前記押えローラ52は、前記ウエハWに接着テープTを貼り付けた後に作用して、接着テープTの浮き上がりを防止する。   A support plate 70 is extended on the adhesive tape attaching part d side of the upper chamber 50, and a roller frame 71 is provided on the lower surface of the support plate 70. A presser roller 52 is pivotally supported on the roller frame 71. A cylinder 72 is erected on the support plate 70, and a cylinder shaft of the cylinder 72 is connected to the roller frame 71. Further, guides 73 are provided upright on both sides of the cylinder 72, and the presser roller 52 is moved up and down by operating the cylinder 72. The pressing roller 52 acts after the adhesive tape T is attached to the wafer W to prevent the adhesive tape T from being lifted.

以上が、本発明の一実施形態に係る接着テープ貼り付け装置1の構成であり、次に該接着テープ貼り付け装置1の動作について図6から図9に基づいて以下に説明する。   The above is the configuration of the adhesive tape applicator 1 according to one embodiment of the present invention. Next, the operation of the adhesive tape applicator 1 will be described with reference to FIGS.

図6(a)及び(b)は、接着テープ切断部fで接着テープTを穴開きテーブル30に貼り付け及び剥離する動作を表す説明図である。   FIGS. 6A and 6B are explanatory views showing the operation of attaching and peeling the adhesive tape T to the perforating table 30 at the adhesive tape cutting portion f.

図6(a)は、穴開きテーブル30に接着テープTを貼り付ける動作を表す。まず、前記穴開きテーブル30上にセパレータSが剥離された接着テープTが接着面を下にして供給される。続いて、貼り付けローラ42が、接着テープTの背面側を押圧転動しながら、該接着テープTを穴開きテーブル30上に貼り付ける。この後、後述のように接着テープTがウエハWの外形状に切断され、ウエハWへの貼り付け動作が行なわれる。   FIG. 6A shows the operation of attaching the adhesive tape T to the perforated table 30. First, the adhesive tape T from which the separator S has been peeled is supplied onto the perforated table 30 with the adhesive surface down. Subsequently, the affixing roller 42 affixes the adhesive tape T on the perforated table 30 while pressing and rolling the back side of the adhesive tape T. Thereafter, as will be described later, the adhesive tape T is cut into the outer shape of the wafer W, and an attaching operation to the wafer W is performed.

図6(b)は、接着テープTが穴開きテーブル30でくり貫かれた後の接着テープTの余剰部分を剥離する状態を表す説明図である。前記剥離ローラ44が、接着テープTの接着面側と接しながら転動する。前記剥離ローラ44が、穴開きテーブル30の円形穴32の外側部分に貼り付いた接着テープTの余剰部分に到達する。続いて、前記剥離ローラ44が、前記接着テープTの余剰部分と穴開きテーブル30との間に進入し、前記接着テープTが穴開きテーブル30から剥離される。   FIG. 6B is an explanatory diagram illustrating a state in which an excess portion of the adhesive tape T after the adhesive tape T has been punched by the perforated table 30 is peeled off. The peeling roller 44 rolls in contact with the adhesive surface side of the adhesive tape T. The peeling roller 44 reaches the surplus portion of the adhesive tape T attached to the outer portion of the circular hole 32 of the perforated table 30. Subsequently, the peeling roller 44 enters between the excess portion of the adhesive tape T and the perforated table 30, and the adhesive tape T is peeled off from the perforated table 30.

次に図7から図9に基づいて、接着テープTをウエハWに貼り付ける貼り付け動作について説明する。   Next, an attaching operation for attaching the adhesive tape T to the wafer W will be described with reference to FIGS.

図7(a)のように、接着テープ搬送体gとしての上チャンバ50が、接着テープ切断部f上の穴開きテーブル30上に位置する。このとき、接着テープTは、図6(a)のように穴開きテーブル30上に貼り付けられている。また、上チャンバ50内のスイングローラ67が図示矢印のように水平動し、吸着テーブル59が平坦状態にされる。   As shown in FIG. 7A, the upper chamber 50 as the adhesive tape transport body g is located on the perforated table 30 on the adhesive tape cutting part f. At this time, the adhesive tape T is affixed on the perforated table 30 as shown in FIG. Further, the swing roller 67 in the upper chamber 50 moves horizontally as shown in the figure, and the suction table 59 is made flat.

次に前記上チャンバ50が、前記穴開きテーブル30上に下降することで、前記吸着テーブル59が前記接着テープTの背面側に当接し、この状態で前記吸着テーブル59に吸着力を作用させて前記接着テープTを前記吸着テーブル59に吸着保持する。また、前記接着テープ貼り付け部dでは、位置決めされたウエハWが吸着ハンド27によって搬送されて、前記貼り付けテーブル8上に載置される。前記貼り付けテーブル8上に載置された前記ウエハWは、下面の環状凸部80が、吸着孔15により吸着保持される。このとき、前記貼り付けテーブル8の内周部は、凹状に形成されているのでウエハWの裏面は、前記貼り付けテーブル8に触れないようになっている。   Next, the upper chamber 50 is lowered onto the perforated table 30 so that the suction table 59 comes into contact with the back side of the adhesive tape T, and in this state, the suction force is applied to the suction table 59. The adhesive tape T is sucked and held on the suction table 59. In the adhesive tape attaching part d, the positioned wafer W is transported by the suction hand 27 and placed on the attaching table 8. On the wafer W placed on the pasting table 8, the annular convex portion 80 on the lower surface is sucked and held by the suction holes 15. At this time, the inner peripheral portion of the bonding table 8 is formed in a concave shape, so that the back surface of the wafer W does not touch the bonding table 8.

図7(b)のように、円周カッタ34が上昇し、前記穴開きテーブル30と前記吸着テーブル59の隙間に突き刺され、前記円周カッタ34が旋回することで前記吸着テーブル59の外形と同じまたは、僅かに大きく接着テープTがくり貫かれる。   As shown in FIG. 7B, the circumferential cutter 34 is lifted, stabbed into the gap between the perforated table 30 and the suction table 59, and the circumferential cutter 34 turns to The adhesive tape T is cut through the same or slightly larger.

図7(c)のように、前記上チャンバ50が上昇し、前記円周カッタ34が下降する。また、前記上チャンバ50内の前記吸着テーブル59は、前記スイングローラ67が移動することにより、前上がり傾斜状態となる。一方、前記接着テープ貼り付け部dでは、前記貼り付けテーブル8が下降し、下降位置に位置する。   As shown in FIG. 7C, the upper chamber 50 is raised and the circumferential cutter 34 is lowered. In addition, the suction table 59 in the upper chamber 50 is in a forward rising and inclined state as the swing roller 67 moves. On the other hand, in the adhesive tape attaching part d, the attaching table 8 is lowered and positioned at the lowered position.

図8(d)のように、前記上チャンバ50が、前記接着テープ切断部f上から前記接着テープ貼り付け部d上へと移動し、続いて、前記上チャンバ50が前記接着テープ貼り付け部dの下チャンバ9に合わさって真空チャンバを形成する。該真空チャンバ形成後、該真空チャンバ内を前記真空アダプタ68を介して真空ポンプ(図示しない)で吸引して減圧し、真空チャンバ内を真空状態にする。該真空チャンバ内が、真空状態になると前記貼り付けテーブル8が上昇し、前上がり傾斜となった前記吸着テーブル59に保持された前記接着テープTの下端部に前記貼り付けテーブル8に保持されたウエハWが当接される。このとき、前記接着テープTが前記ウエハWに当接される当接点は、前記ウエハWの環状凸部80の前記貼り付けテーブル8に支持された部分であるので、前記ウエハWが破損することがない。   As shown in FIG. 8D, the upper chamber 50 moves from the adhesive tape cutting part f to the adhesive tape attaching part d, and then the upper chamber 50 is moved to the adhesive tape attaching part d. A vacuum chamber is formed together with the lower chamber 9 of d. After the formation of the vacuum chamber, the inside of the vacuum chamber is sucked with a vacuum pump (not shown) through the vacuum adapter 68 to reduce the pressure, and the vacuum chamber is brought into a vacuum state. When the inside of the vacuum chamber is in a vacuum state, the affixing table 8 rises and is held on the affixing table 8 at the lower end of the adhesive tape T held on the suction table 59 that is inclined upward. Wafer W is brought into contact. At this time, the contact point at which the adhesive tape T abuts on the wafer W is a portion of the annular protrusion 80 of the wafer W supported by the affixing table 8, so that the wafer W is damaged. There is no.

図8(e)のように、前上がり傾斜となった前記吸着テーブル59を前記スイングローラ67の移動により揺動させて水平状態とすることで、前記接着テープTをウエハWに順次押し付けて貼り付ける。このようにすることで、前記接着テープTがウエハWに先付きして気泡やしわが入ることを防止できる。   As shown in FIG. 8E, the suction table 59 tilted forward is swung by the movement of the swing roller 67 to be in a horizontal state, so that the adhesive tape T is sequentially pressed against the wafer W and pasted. wear. By doing in this way, it can prevent that the said adhesive tape T precedes the wafer W and a bubble and a wrinkle enter.

図8(f)のように、前記真空アダプタ68から大気を導入することで、真空状態を解除するとともに前記通気ポンプ26を通じて通気することで前記通気孔24を通じて圧空が導入され、前記ウエハWの凹状面が、前記吸着テーブル59に保持された接着テープTに押圧される。すなわち、前記ウエハWと前記吸着テーブル59に接着テープTが挟持され、前記ウエハWに接着テープTが密着される。なお、前記通気孔24から圧空を導入する際、一部の空気を、前記支持ピン20の周囲に形成された開孔19から排出するようにすれば、必要以上に前記ウエハWと前記貼り付けテーブル8の凹状部で形成される空間の圧力が高まり過ぎることがない。前記開孔19からの空気の排出量は、適宜前記開孔19を塞ぐようにすることで調整できるようになっている。また、圧空で導入される空気に代え、アルゴンガスや窒素ガス等の不活性なガスを導入するようにすることもできる。   As shown in FIG. 8 (f), by introducing the atmosphere from the vacuum adapter 68, the vacuum state is released and venting through the vent pump 26 introduces compressed air through the vent hole 24. The concave surface is pressed against the adhesive tape T held on the suction table 59. That is, the adhesive tape T is sandwiched between the wafer W and the suction table 59, and the adhesive tape T is in close contact with the wafer W. In addition, when introducing the compressed air from the vent hole 24, if a part of the air is discharged from the opening 19 formed around the support pin 20, the wafer W and the pasting are more than necessary. The pressure in the space formed by the concave portion of the table 8 does not increase too much. The amount of air discharged from the opening 19 can be adjusted by appropriately closing the opening 19. Moreover, it can replace with the air introduce | transduced by a pressurized air and can also introduce | transduce inert gas, such as argon gas and nitrogen gas.

図9(g)のように、前記上チャンバ50が上昇して、真空チャンバが開放される。   As shown in FIG. 9G, the upper chamber 50 is raised and the vacuum chamber is opened.

図9(h)のように、前記上チャンバ50が水平動し、該上チャンバ50横の貼り付けローラ52が前記ウエハWの端部上に位置する。   As shown in FIG. 9H, the upper chamber 50 moves horizontally, and the adhering roller 52 beside the upper chamber 50 is positioned on the end of the wafer W.

図9(i)のように、前記貼り付けローラ52が下降して、前記ウエハWの貼り付け始端部を押圧しながら、前記上チャンバ50が水平動することで、前記貼り付けローラ52が前記ウエハWを押圧転動し、特に接着テープTの外周端部分を前記ウエハWに良く接着させる。なお、この貼り付けローラ52による貼り付け動作は、接着テープTとウエハWとの接着状態により、必要に応じて適宜行なえば良い。   As shown in FIG. 9I, the attaching roller 52 descends and the upper chamber 50 moves horizontally while pressing the attaching start end portion of the wafer W, so that the attaching roller 52 is The wafer W is pressed and rolled, and in particular, the outer peripheral end portion of the adhesive tape T is well bonded to the wafer W. Note that the attaching operation by the attaching roller 52 may be appropriately performed according to the adhesive state between the adhesive tape T and the wafer W.

以上が、本発明の接着テープ貼り付け装置で接着テープをウエハに貼り付ける一実施形態であるが、適宜発明の範囲内で変更できる。例えば、本実施形態においては、外周に環状凸部が形成された凹状ウエハについて説明したが、前述のスリットウエハSWや各種のウエハを用いることができ、平坦なウエハであっても適用できる。また、接着テープは、保護テープだけでなく、ダイアタッチフィルムや両面テープ等、各種の接着テープを使用できる。   The above is one embodiment in which the adhesive tape is applied to a wafer with the adhesive tape application apparatus of the present invention, but can be changed as appropriate within the scope of the invention. For example, in the present embodiment, the concave wafer having an annular convex portion formed on the outer periphery has been described. However, the above-described slit wafer SW and various wafers can be used, and even a flat wafer can be applied. Further, as the adhesive tape, not only a protective tape but also various adhesive tapes such as a die attach film and a double-sided tape can be used.

W 基板(ウエハ)
Wa 凹状ウエハ
SW スリットウエハ
T 接着テープ
S セパレータ
DT ダイシングテープ
DF ダイシングフレーム
a ウエハ供給/収納部
b 位置決め部
c ウエハ搬送部
d 接着テープ貼り付け部
e ウエハ搬送部
f 接着テープ切断部
g 接着テープ搬送体
1 接着テープ貼り付け装置
2 機台
3 収納カセット
4 搬送ロボット
5 回転テーブル
6 センサ
7 回転モータ
8 貼り付けテーブル
8a 凸部
8b 凹部
9 下チャンバ
10 上チャンバ
11 ガイド
12 支持板
13 支持枠
14 昇降シリンダ
14a シリンダ軸
15 吸着孔
16 吸引ホース
17 切替バルブ
18 真空ポンプ
19 開孔
20 支持ピン
21 支持枠
22 通気孔
23 通気パイプ
24 通気孔
25 シリンダ
26 通気ポンプ
27 吸着ハンド
28 支持台
29 レール
30 穴開きテーブル
31 支持枠
32 円形穴
33 カッタユニット
34 円周カッタ
35 モータ
36 側板
37 貼り付けユニット
38 供給リール
39 回収リール
40 ガイドローラ
41 セパレータ回収リール
42 貼り付けローラ
43 ピンチローラ
44 剥離ローラ
45 ピンチローラ
46 軸受部材
47 レール
48 軸受部材
49 スライダ
50 上チャンバ
51 吸着テーブル
52 貼り付けローラ
53 支持枠
54 レール
55 支持枠
56 ガイド部材
57 昇降シリンダ
58 スライダ
59 吸着テーブル
60 固定枠
61 吸引ホース
62 バネ部材
63 支持枠
64 固定枠
65 レール
66 レール
67 スイングローラ
68 真空アダプタ
70 支持板
71 ローラ枠
72 退避孔
80 環状凸部
81 凹状面
82 ノッチ
83 金属膜
84 回路
85 スリット
W substrate (wafer)
Wa Concave wafer SW Slit wafer T Adhesive tape S Separator DT Dicing tape DF Dicing frame a Wafer supply / storage part b Positioning part c Wafer conveyance part d Adhesive tape attaching part e Wafer conveyance part f Adhesive tape cutting part g Adhesive tape conveyance body DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Adhesive tape sticking apparatus 2 Machine stand 3 Storage cassette 4 Transfer robot 5 Rotary table 6 Sensor 7 Rotating motor 8 Sticking table 8a Convex part 8b Concave part 9 Lower chamber 10 Upper chamber 11 Guide 12 Support plate 13 Support frame 14 Lifting cylinder 14a Cylinder shaft 15 Suction hole 16 Suction hose 17 Switching valve 18 Vacuum pump 19 Open hole 20 Support pin 21 Support frame 22 Vent hole 23 Vent pipe 24 Vent hole 25 Cylinder 26 Vent pump 27 Suction hand 28 Support base 29 Rail 30 Hole-opening table 31 Support frame 32 Circular hole 33 Cutter unit 34 Circumferential cutter 35 Motor 36 Side plate 37 Adhering unit 38 Supply reel 39 Recovery reel 40 Guide roller 41 Separator recovery reel 42 Adhesion roller 43 Pinch roller 44 Peel roller 45 Pinch roller 46 Bearing member 47 Rail 48 Bearing member 49 Slider 50 Upper chamber 51 Adsorption table 52 Adhering roller 53 Support frame 54 Rail 55 Support frame 56 Guide member 57 Lifting cylinder 58 Slider 59 Adsorption table 60 Fixed frame 61 Suction hose 62 Spring member 63 Support frame 64 Fixed Frame 65 Rail 66 Rail 67 Swing roller 68 Vacuum adapter 70 Support plate 71 Roller frame 72 Retraction hole 80 Annular convex part 81 Concave surface 82 Notch 83 Metal film 84 Circuit 85 Slit

Claims (7)

基板をその上面に保持する貼り付けテーブルが設けられた下チャンバと、
基板の外形に見合う大きさに切断された接着テープを非粘着面側から吸着保持して前記下チャンバ上に移送するとともに、前記基板上に接着テープを貼り付ける接着テープ搬送体と、を備え、
前記接着テープ搬送体は、
下チャンバと合わさることで真空チャンバを形成する上チャンバと、この上チャンバ内に揺動自在に支持され、傾斜状態で下チャンバ上へ下降することにより、前記接着テープの傾斜下がり側の部分を基板上に重ね、傾斜下がり側を基点に揺動することにより基板上に接着テープを貼り付ける吸着テーブルと、を備える基板への接着テープ貼り付け装置において、
前記貼り付けテーブルは、前記基板の裏面に対向するように形成されるとともに気体を導入する気体導入孔が設けられたテーブル凹部と、
前記テーブル凹部を囲繞する外周面に設けられ、前記基板の外周縁部を保持する外周保持部と、を備え、
前記上チャンバと下チャンバとで真空チャンバを形成するとともに、前記真空チャンバを減圧状態にして前記基板上に前記接着テープを貼り付けた後、前記減圧を開放する際、前記気体導入孔から気体を導入することで、前記基板を裏面側から前記吸着テーブルへ押圧するようにしたことを特徴とする基板への接着テープ貼り付け装置。
A lower chamber provided with a bonding table for holding the substrate on its upper surface;
An adhesive tape cut to a size suitable for the outer shape of the substrate is sucked and held from the non-adhesive surface side and transferred onto the lower chamber, and an adhesive tape transport body for attaching the adhesive tape on the substrate, and
The adhesive tape carrier is
An upper chamber that forms a vacuum chamber by being combined with the lower chamber, and is supported in the upper chamber so as to be swingable, and descends onto the lower chamber in an inclined state, whereby a portion on the inclined downward side of the adhesive tape is a substrate In an adhesive tape affixing device to a substrate, comprising a suction table that affixes the adhesive tape on the substrate by swinging around the tilted and lowered side as a base point,
The affixing table is formed so as to face the back surface of the substrate and has a table recess provided with a gas introduction hole for introducing gas;
An outer peripheral holding portion that is provided on an outer peripheral surface surrounding the table concave portion and holds an outer peripheral edge portion of the substrate;
A vacuum chamber is formed by the upper chamber and the lower chamber, and after the adhesive tape is applied to the substrate with the vacuum chamber in a reduced pressure state, when the reduced pressure is released, gas is introduced from the gas introduction hole. An adhesive tape affixing device to a substrate, wherein the substrate is pressed from the back side to the suction table by being introduced.
前記テーブル凹部に、気体排出孔を設け、前記気体導入孔から気体を導入する際に、一部の気体を前記気体排出孔から排出するようにしたことを特徴とする請求項1記載の基板への接着テープ貼り付け装置。   The substrate according to claim 1, wherein a gas discharge hole is provided in the table recess, and a part of the gas is discharged from the gas discharge hole when the gas is introduced from the gas introduction hole. Adhesive tape applicator. 前記テーブル凹部に、複数の基板保持ピンを突没自在に設け、前記基板保持ピンの先端に開孔を設けて前記開孔を吸気による吸着または排気による気体噴出を行うように切り替え可能に構成したことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の基板への接着テープ貼り付け装置。   A plurality of substrate holding pins are provided in the table recess so as to be able to project and retract, and an opening is provided at the tip of the substrate holding pin so that the opening can be switched to perform suction by suction or gas ejection by exhaust. The apparatus for attaching an adhesive tape to a substrate according to any one of claims 1 to 3, wherein the adhesive tape is applied to the substrate. 前記気体排出孔は、前記保持ピンの外周に穿設された開孔であり、気体を排出可能に構成されていることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の基板への接着テープ貼り付け装置。   4. The gas discharge hole according to claim 1, wherein the gas discharge hole is an opening formed in an outer periphery of the holding pin, and is configured to be able to discharge gas. 5. Equipment for attaching adhesive tape to substrates. 前記基板は、環状凸部が設けられ、該環状凸部に囲繞される内周面が研削された凹状ウエハであることを特徴とする請求項1または請求項2のいずれか1項に記載の基板への接着テープ貼り付け装置。   3. The substrate according to claim 1, wherein the substrate is a concave wafer provided with an annular convex portion, and an inner peripheral surface surrounded by the annular convex portion is ground. 4. Equipment for attaching adhesive tape to substrates. 基板をその上面に保持する貼り付けテーブルが設けられた下チャンバと、
前記下チャンバと合わさって真空チャンバを形成する上チャンバと、
前記上チャンバ内に前記基板の外形に見合う大きさに切断された接着テープを吸着保持する吸着テーブルと、を設けておき、前記吸着テーブルに保持された接着テープを前記真空チャンバ内の減圧下で基板に貼り付ける基板への接着テープ貼り付け方法において、
前記貼り付けテーブルに、前記基板の裏面に対向するように凹部を形成し、該凹部に気体を導入する気体導入孔を設けるとともに、前記テーブル凹部を囲繞する外周面に前記基板の外周縁部を保持する外周保持部を設けて構成しておき、
前記外周保持部で基板の外周縁部を保持し、前記上チャンバと下チャンバとで真空チャンバを形成し、前記真空チャンバを減圧状態にして前記基板上に前記接着テープを貼り付けた後、前記減圧を開放する際、前記気体導入孔から気体を導入することで、前記基板を裏面側から前記吸着テーブルへ押圧するようにしたことを特徴とする基板への接着テープ貼り付け方法。
A lower chamber provided with a bonding table for holding the substrate on its upper surface;
An upper chamber that combines with the lower chamber to form a vacuum chamber;
An adsorbing table for adsorbing and holding an adhesive tape cut to a size corresponding to the outer shape of the substrate is provided in the upper chamber, and the adhering tape held on the adsorbing table is reduced under reduced pressure in the vacuum chamber. In the method of attaching the adhesive tape to the substrate to be attached to the substrate,
A recess is formed in the affixing table so as to face the back surface of the substrate, a gas introduction hole for introducing gas is provided in the recess, and an outer peripheral edge of the substrate is formed on an outer peripheral surface surrounding the table recess. Provide and configure the outer periphery holding part to hold,
After holding the outer peripheral edge of the substrate with the outer peripheral holding portion, forming a vacuum chamber with the upper chamber and the lower chamber, and applying the adhesive tape on the substrate in a vacuum state of the vacuum chamber, A method for attaching an adhesive tape to a substrate, wherein the substrate is pressed against the suction table from the back side by introducing a gas from the gas introduction hole when releasing the pressure reduction.
前記テーブル凹部に、気体排出孔を設けておき、前記気体導入孔から気体を導入する際に、一部の気体を前記気体排出孔から排出するようにしたことを特徴とする請求項1記載の基板への接着テープ貼り付け方法。   The gas discharge hole is provided in the table recess, and a part of the gas is discharged from the gas discharge hole when the gas is introduced from the gas introduction hole. A method of attaching adhesive tape to a substrate.
JP2016175971A 2016-09-08 2016-09-08 Adhesive sheet sticking device and sticking method to the board Active JP6944625B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016175971A JP6944625B2 (en) 2016-09-08 2016-09-08 Adhesive sheet sticking device and sticking method to the board

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016175971A JP6944625B2 (en) 2016-09-08 2016-09-08 Adhesive sheet sticking device and sticking method to the board

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2018041877A true JP2018041877A (en) 2018-03-15
JP2018041877A5 JP2018041877A5 (en) 2019-08-15
JP6944625B2 JP6944625B2 (en) 2021-10-06

Family

ID=61626499

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016175971A Active JP6944625B2 (en) 2016-09-08 2016-09-08 Adhesive sheet sticking device and sticking method to the board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6944625B2 (en)

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62230561A (en) * 1986-04-01 1987-10-09 Disco Abrasive Syst Ltd Method and device for attaching tape to semiconductor substrate
JPH0311749A (en) * 1989-06-09 1991-01-21 Fujitsu Ltd Bonding of adhesive tape to semiconductor wafer
JP2006196605A (en) * 2005-01-12 2006-07-27 Seiko Epson Corp Device for attaching tape to substrate
JP2009123784A (en) * 2007-11-12 2009-06-04 Denso Corp Tape sticking device and tape sticking method
JP2010135436A (en) * 2008-12-02 2010-06-17 Takatori Corp Apparatus for sticking adhesive tape to substrate
JP2010165962A (en) * 2009-01-19 2010-07-29 Takatori Corp Support table of wafer
JP2012084563A (en) * 2010-10-06 2012-04-26 Fuji Electric Co Ltd Tape adhering device and tape adhering method
JP2013016571A (en) * 2011-07-01 2013-01-24 Nec Engineering Ltd Tape adhering device
JP2015162634A (en) * 2014-02-28 2015-09-07 株式会社タカトリ Device of pasting protective tape to wafer and method of manufacturing wafer
JP2016021480A (en) * 2014-07-14 2016-02-04 Necエンジニアリング株式会社 Tape sticking device and tape sticking jig

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62230561A (en) * 1986-04-01 1987-10-09 Disco Abrasive Syst Ltd Method and device for attaching tape to semiconductor substrate
JPH0311749A (en) * 1989-06-09 1991-01-21 Fujitsu Ltd Bonding of adhesive tape to semiconductor wafer
JP2006196605A (en) * 2005-01-12 2006-07-27 Seiko Epson Corp Device for attaching tape to substrate
JP2009123784A (en) * 2007-11-12 2009-06-04 Denso Corp Tape sticking device and tape sticking method
JP2010135436A (en) * 2008-12-02 2010-06-17 Takatori Corp Apparatus for sticking adhesive tape to substrate
JP2010165962A (en) * 2009-01-19 2010-07-29 Takatori Corp Support table of wafer
JP2012084563A (en) * 2010-10-06 2012-04-26 Fuji Electric Co Ltd Tape adhering device and tape adhering method
JP2013016571A (en) * 2011-07-01 2013-01-24 Nec Engineering Ltd Tape adhering device
JP2015162634A (en) * 2014-02-28 2015-09-07 株式会社タカトリ Device of pasting protective tape to wafer and method of manufacturing wafer
JP2016021480A (en) * 2014-07-14 2016-02-04 Necエンジニアリング株式会社 Tape sticking device and tape sticking jig

Also Published As

Publication number Publication date
JP6944625B2 (en) 2021-10-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5273791B2 (en) Equipment for applying adhesive tape to substrates
JP5543813B2 (en) Work transfer method and work transfer device
JP4297829B2 (en) Adsorption device
JP3607143B2 (en) Method and apparatus for attaching protective tape to semiconductor wafer
TWI417987B (en) Method for joining adhesive tape and apparatus using the method
JP4841412B2 (en) Substrate laminating equipment
JP5543812B2 (en) Adhesive tape application method and adhesive tape application device
JP5201511B2 (en) Wafer holding table
JP4941944B2 (en) Method and apparatus for attaching adhesive tape to substrate
JP2015162634A (en) Device of pasting protective tape to wafer and method of manufacturing wafer
JP5750632B2 (en) Sheet sticking device to substrate
JP2005159044A (en) Method for adhering adhesive tape to ring frame, its device and substrate mounter to the ring frame
JP2020024976A (en) Protective member forming device
JP2009246067A5 (en)
JP2010165962A5 (en)
JP2021108402A (en) Pressure-sensitive adhesive tape sticking method and pressure-sensitive adhesive tape sticking device
JP2018041877A (en) Device for adhering adhesive sheet to substrate and adhesion method
JP2016181613A (en) Device and method for adhesively attaching adhesive tape to substrate
JP5373008B2 (en) Substrate bonding method
JP6933788B2 (en) Adhesive tape affixing device and affixing method to the substrate
JP2006019500A (en) Method and apparatus of bonding protective tape
JP4498085B2 (en) Protective tape cutting method and apparatus using the same
JP2005039114A (en) Semiconductor wafer shifting device
JP2005045109A (en) Semiconductor wafer shifting apparatus
JP2023089631A (en) Protective member formation apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190626

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190626

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200326

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200609

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200805

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210301

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210427

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210727

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20210806

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6944625

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250