JP2018031334A - 積層構造、及び、積層構造を有する機械部品 - Google Patents
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Abstract
【課題】耐エロージョン性と耐ファウリング性を両立させた積層構造、及びそのような積層構造を備える回転機械用部品を提供する。【解決手段】本発明の積層構造1は、母材3の表面の上に、母材3を窒化処理することによって形成される窒化層5と、その窒化層5の窒化層の表面に形成される中間層6と、さらに中間層6の表面に形成されるDLC層(ダイヤモンドライクカーボン層)7と、を有することを特徴とする。積層構造1は、蒸気タービン等の回転機械に用いられる部品に適用することができる。【選択図】図1
Description
本発明は、積層構造及び積層構造を有する機械部品に関する。
従来、例えば、蒸気タービンやコンプレッサポンプ等の回転機械に用いられるブレードを含む回転部品においては、耐熱性や耐食性を考慮した表面処理が施されている。蒸気タービンは、作動流体である蒸気がタービンの動翼に噴射されて駆動されるものであり、動翼である蒸気タービンブレードやロータ等の回転機械の部品が、直接蒸気と接触する。また、化学プラントで用いられ、各種流体を圧縮する圧縮機であるコンプレッサポンプは、外部から動力を与えられてインペラが回転し、当該流体を圧縮する。このようなコンプレッサポンプにおいても、インペラやロータといった回転機械の部品が直接気体に接触する。
ここで、気体に含まれる水滴が高速で衝突する部品、例えば、蒸気タービンのブレードや、コンプレッサポンプのインペラにおいては、衝突する水滴によって表面にエロージョン(erosion)摩耗が発生する。エロージョン磨耗が生じると部品が振動し、この振動によって部品が破損するおそれがある。
また、上述のような回転機械に用いられる部品においては、気体中に含まれるセラミックス成分、例えばSiO2が付着する、所謂ファウリングと呼ばれる現象が発生することがある。このように、部品にセラミック成分が付着した場合には、作動効率が低下するため、装置全体の効率が低下する。
エロージョン磨耗やファウリングを防止するための対策として、母材の表面に皮膜を形成することが広く検討されており、その中で、DLC(Diamond-Like Carbon:ダイヤモンドライクカーボン)膜を用いた皮膜が提案されている。
例えば、特許文献1は、気体が直接接する部位に表面平滑化皮膜を有する回転機械において、表面平滑化皮膜はその表面粗さの最大高さRyが1.0μmを超えない炭素層であるDLC層で形成することを提案している。特許文献1は、母材の表面に、例えば窒化クロム(CrN)からなる硬質窒化層を形成し、その表面に表面平滑化皮膜を形成することも提案している。
また、特許文献2及び特許文献3は、母材の表面上に、TiN、TiAlNなどの硬質皮膜と、フッ素を含有するDLC膜からなるファウリング防止膜とを順に積層することを提案している。
さらに、特許文献4は、金属母材に接着することができる接着ベース層と約Ra0.0254μm以下の表面粗さを有する上面層を含み、接着ベース層の少なくとも1つはダイヤモンドライクカーボンである多層コーティングを形成することを提案している。
例えば、特許文献1は、気体が直接接する部位に表面平滑化皮膜を有する回転機械において、表面平滑化皮膜はその表面粗さの最大高さRyが1.0μmを超えない炭素層であるDLC層で形成することを提案している。特許文献1は、母材の表面に、例えば窒化クロム(CrN)からなる硬質窒化層を形成し、その表面に表面平滑化皮膜を形成することも提案している。
また、特許文献2及び特許文献3は、母材の表面上に、TiN、TiAlNなどの硬質皮膜と、フッ素を含有するDLC膜からなるファウリング防止膜とを順に積層することを提案している。
さらに、特許文献4は、金属母材に接着することができる接着ベース層と約Ra0.0254μm以下の表面粗さを有する上面層を含み、接着ベース層の少なくとも1つはダイヤモンドライクカーボンである多層コーティングを形成することを提案している。
ところが、本発明者らの検討によると、以下の通りである。
はじめに、特許文献1は、DLC膜の硬質窒化層への密着性が不十分であり、特許文献2及び特許文献3も、フッ素含有DLC膜の硬質皮膜への密着性が不十分である。
また、特許文献4は、最上層のDLC層にドレンが衝突すると、その衝撃が母材にまで及んでしまい、母材に微小なへこみが生じ、DLC層がこのへこみに追従できずに、DLC層に亀裂が生ずるおそれがある。そうすると、DLC層が剥離してしまう。
はじめに、特許文献1は、DLC膜の硬質窒化層への密着性が不十分であり、特許文献2及び特許文献3も、フッ素含有DLC膜の硬質皮膜への密着性が不十分である。
また、特許文献4は、最上層のDLC層にドレンが衝突すると、その衝撃が母材にまで及んでしまい、母材に微小なへこみが生じ、DLC層がこのへこみに追従できずに、DLC層に亀裂が生ずるおそれがある。そうすると、DLC層が剥離してしまう。
以上より、本発明は、DLC層の密着性を向上するとともに、耐エロージョン性及び耐ファウリング性を確保できる積層構造を提供することを目的とする。また、本発明は、そのような積層構造を備える回転機械用部品を提供とすることを目的とする。
本発明の積層構造は、鉄系の金属材料からなる母材と、母材を窒化処理することによって、母材の表面に形成される窒化層と、窒化層の表面に形成される中間層と、中間層の表面に形成されるDLC層と、を備えることを特徴とする。
本発明の積層構造は、窒化層が、母材とDLC層の中間の硬さを有し、母材からDLC層に向けて、連続的に硬さが高くなることが好ましい。
本発明の積層構造は、窒化層の厚さが10〜100μmであることが好ましい。
本発明の積層構造は、中間層の厚さが0.5〜2μmであることが好ましい。
本発明の積層構造は、中間層がSiC及びSi3N4の一種又は二種からなることが好ましい。
本発明の積層構造は、中間層がSiC及びSi3N4の一種又は二種からなることが好ましい。
本発明の積層構造は、DLC層の厚さが1〜10μmであることが好ましい。
本発明の積層構造は、母材を窒化処理することによって母材の表面に窒化層を設け、その窒化層の上に中間層を設け、その中間層の上にDLC層を形成した積層構造を有するものである。本発明の積層構造は、窒化層及び中間層を介在させることで、DLC層に加えられた内部応力が緩和されるので、DLC層にドレンが衝突して衝撃が加わっても、DLC層に剥がれや割れが起こり難く、密着性の優れた積層構造にすることができる。また、DLC層は、耐エロージョン性を備えるとともに、それ自体の表面エネルギが小さいために、十分な耐ファウリング性を有している。つまり、本発明の積層構造を採用することにより、密着性が優れるとともに、耐エロージョン性と耐ファウリング性を兼ね備えた回転機械用部品を提供することができる。
以下、添付図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。
本実施形態に係る積層構造1は、図1に示すように、母材3と、母材3の表面に形成される窒化層5と、窒化層5の表面に形成される中間層6と、中間層6の表面に形成されるDLC層7と、を有し、後述する回転機械に適用されることで、耐エロージョン性及び耐ファウリング性を発揮する。
積層構造1は、母材3の表面を窒化して形成される窒化層5と中間層6を介してDLC層7を積層することで、DLC層7の密着性を向上させる。
以下、母材3、窒化層5及びDLC層7の順に説明し、その後、積層構造1を評価した結果を説明する。
本実施形態に係る積層構造1は、図1に示すように、母材3と、母材3の表面に形成される窒化層5と、窒化層5の表面に形成される中間層6と、中間層6の表面に形成されるDLC層7と、を有し、後述する回転機械に適用されることで、耐エロージョン性及び耐ファウリング性を発揮する。
積層構造1は、母材3の表面を窒化して形成される窒化層5と中間層6を介してDLC層7を積層することで、DLC層7の密着性を向上させる。
以下、母材3、窒化層5及びDLC層7の順に説明し、その後、積層構造1を評価した結果を説明する。
[母材3]
積層構造1の母材3は、回転機械の各種部品を構成する鉄系の金属材料からなる。母材3の例としては、SUS403やSUS410J1に代表されるマルテンサイト系ステンレス鋼、SUS301やSUS301J1に代表されるオーステナイト系ステンレス鋼、SUS430やSUS410Lに代表されるフェライト系ステンレス鋼、SUS329J1に代表される二相ステンレス鋼、SUS630に代表される析出軟化系ステンレス鋼、等がある。この他にも、回転機械において一般に用いられている鉄系の金属材料にも制限なく適用することができる。
母材3は、用いる金属材料により異なるが、上述したステンレス鋼であれば、概ねビッカース硬さ(Hv)で200〜500の硬さを有する。本実施形態における母材3は、その表面に形成された窒化層5を除いた部分をいう。
なお、硬さHv及びその測定は、後述する実施例も含めてJIS Z 2244に準拠する。
積層構造1の母材3は、回転機械の各種部品を構成する鉄系の金属材料からなる。母材3の例としては、SUS403やSUS410J1に代表されるマルテンサイト系ステンレス鋼、SUS301やSUS301J1に代表されるオーステナイト系ステンレス鋼、SUS430やSUS410Lに代表されるフェライト系ステンレス鋼、SUS329J1に代表される二相ステンレス鋼、SUS630に代表される析出軟化系ステンレス鋼、等がある。この他にも、回転機械において一般に用いられている鉄系の金属材料にも制限なく適用することができる。
母材3は、用いる金属材料により異なるが、上述したステンレス鋼であれば、概ねビッカース硬さ(Hv)で200〜500の硬さを有する。本実施形態における母材3は、その表面に形成された窒化層5を除いた部分をいう。
なお、硬さHv及びその測定は、後述する実施例も含めてJIS Z 2244に準拠する。
[窒化層5]
窒化層5は、後述するDLC層7の密着性の向上と、ドレンが衝突することによる衝撃を緩衝するために形成される。
窒化層5は、母材3の主成分である鉄(Fe)の窒化物を主体とする化合物からなるが、母材3との界面には窒素が拡散した拡散層が形成される。
窒化層5は、母材3とDLC層7の間に介在し、その硬さが母材3とDLC層7の中間を示すが、母材3を窒化処理して得られるものである。したがって、窒化層5の拡散層は、母材3との界面付近で母材3と同等の硬さを有し、母材3の上に形成された窒化物に比べて、母材3に対する密着性が高い。
窒化層5は、後述するDLC層7の密着性の向上と、ドレンが衝突することによる衝撃を緩衝するために形成される。
窒化層5は、母材3の主成分である鉄(Fe)の窒化物を主体とする化合物からなるが、母材3との界面には窒素が拡散した拡散層が形成される。
窒化層5は、母材3とDLC層7の間に介在し、その硬さが母材3とDLC層7の中間を示すが、母材3を窒化処理して得られるものである。したがって、窒化層5の拡散層は、母材3との界面付近で母材3と同等の硬さを有し、母材3の上に形成された窒化物に比べて、母材3に対する密着性が高い。
窒化層5は、母材3が局部的に変形するのを防止するために設けられ、母材3とDLC層7の中間の硬さを有する。もっとも、後述するように、窒化層5は、その硬さが母材3からDLC層7に向けて連続的に高くなる傾斜構造を有しており、具体的な硬さは、窒化処理する母材3の材質により定まるものであり、例えば、SUS410J1が母材3を構成するものとすると、窒化層5の厚さ方向と直交する断面方向から硬さを測定した場合に、400〜1200Hv程度である。もっとも、後述するように、窒化層5は、その硬さが母材3からDLC層7に向けて連続的に高くなる傾斜構造を有しており、その硬さは厚さ方向において変動する。
窒化層5は、母材3の表面を後述する方法で窒化処理することにより、母材3の当初の表面から厚さ方向に形成されるものである。窒化層5は、窒化処理を施す時間、その他の条件によって、図2の一点鎖線のように厚さを厚くしたり、逆に厚さを薄くしたり調整することができる。窒化層5が薄すぎると、窒化層5を設けることによる効果を十分に得られないことがある。また、窒化層5を必要以上に厚くしても、その効果は飽和する一方、処理時間が長くなり経済性を損ねる。これらのことを考慮すると、窒化層5は、厚さを10〜100μmとするのが好ましく、20〜90μmとするのがより好ましく、25〜80μmとするのがさらに好ましい。
なお、窒化層5の厚さは、前述した拡散層を含む厚さで定義され(JIS B 6905)、後述する実施例の厚さの測定も同様である。窒化層5は、拡散層を有することにより、図2に示すように、DLC層7の表面71から厚さ方向に硬度が低くなる傾斜構造になっている。
なお、窒化層5の厚さは、前述した拡散層を含む厚さで定義され(JIS B 6905)、後述する実施例の厚さの測定も同様である。窒化層5は、拡散層を有することにより、図2に示すように、DLC層7の表面71から厚さ方向に硬度が低くなる傾斜構造になっている。
窒化層5を介在させないで、母材3の表面にDLC層7を形成させると、母材3とDLC層7の硬さの差が大きいために、ドレンが衝突することによりDLC層7に発生する衝撃が母材3に直接的に伝わり、硬さの低い母材3がドレン衝突に対応して局部的に変形する。そうすると、DLC層7にも変形が生じて、DLC層7に割れや剥離が生じやすい。これに対し、母材3よりも硬い窒化層5が母材3の表面に形成されて、母材3とDLC層7との間に介在すると、DLC層7にドレンが衝突しても、窒化層5がその衝撃に抵抗するので、DLC層7に加わった衝撃を窒化層5が緩和するので、母材3の変形を抑えることができる。このように、窒化層5は、DLC層7に割れや剥離が生じるのを抑制する。つまり、窒化層5は応力緩和によって、DLC層7の密着性を向上させる。
さらに、窒化層5が、母材3からDLC層7の方向に連続的に硬さを上昇させてなる傾斜構造であることで、せん断力に対し急激な形状の変化を防ぐことができるので、応力集中を抑制することが可能であり、DLC層7の割れを防止できる。
さらに、窒化層5が、母材3からDLC層7の方向に連続的に硬さを上昇させてなる傾斜構造であることで、せん断力に対し急激な形状の変化を防ぐことができるので、応力集中を抑制することが可能であり、DLC層7の割れを防止できる。
[窒化層5の形成方法]
窒化層5を形成する手段は任意であり、公知の窒化処理を適用できる。窒化処理としては、イオン窒化処理及びラジカル窒化処理が適用できる。
窒化層5を形成する手段は任意であり、公知の窒化処理を適用できる。窒化処理としては、イオン窒化処理及びラジカル窒化処理が適用できる。
イオン窒化は、減圧された真空炉槽中に母材3を陰極、炉体を陽極にして、炉内に窒素と水素を反応ガスとして導入して数百ボルトの直流電圧を印加すると陰極側でグロー放電を生じさせる。これによって+(プラス)に帯電した窒素イオンと水素イオンは、陰極である母材3に衝突するが、この衝突によって母材3は昇温し、窒化物が生成され母材3の内部に拡散して、窒化層5が形成される。プラズマ窒化処理によって形成される窒化層5の厚さは、処理温度、バイアス電圧、処理時間、水素ガスに対する窒素ガスの分圧比を変えることによって調整することができる。
ラジカル窒化処理は、プラズマ窒化法の一種であり、炉内にアンモニアガスと水素ガスの混合ガスを導入して、炉体と母材3の間にグロー放電を生じさせ、プラズマ中の窒素イオンを母材3の金属と反応させて表に窒化層5を形成するものである。ラジカル窒化処理によって形成される窒化層5の厚さは、処理温度、バイアス電圧、処理時間、水素ガスとアンモニアガスの分圧比を変えることによって調整することができる。
[中間層6]
中間層6は、上述した窒化層5の表面に形成される。窒化層5とともにDLC層7の密着性を向上させるためのものである。
中間層6は、SiC(炭化ケイ素)、Si3N4(窒化ケイ素)、及びSiCN(炭窒化ケイ素)の何れか一種、又は、二種以上の層が積層化されている。これらのうち、SiC及びSi3N4の一種、又は、二種の層が積層化されているものが好ましい。
中間層6の硬さは、中間層6がSiC、Si3N4、及びSiCNの何れからなるかにより異なる。例えば、中間層6がSiCからなる場合は、硬さが2000〜2200Hv程度であり、図2に示すように、窒化層5より硬くすることができる。一方、中間層6がSi3N4からなる場合は、硬さを、1400〜1600Hv程度にすることができる。なお、上述したSiCからなる中間層6の硬さは、中間層6の厚さ方向と直交する断面方向からナノインデンテーションで測定したナノインデンテーション硬さを、ビッカース硬さに換算したものである。
なお、中間層6の硬さは、後述する実施例においても断面方向から測定しているが、中間層6の表面が特定される場合には、DLC層7が中間層6の表面に積層されているか否かに関わらず、中間層6の表面と直交する表面方向から測定することも可能である。
中間層6は、上述した窒化層5の表面に形成される。窒化層5とともにDLC層7の密着性を向上させるためのものである。
中間層6は、SiC(炭化ケイ素)、Si3N4(窒化ケイ素)、及びSiCN(炭窒化ケイ素)の何れか一種、又は、二種以上の層が積層化されている。これらのうち、SiC及びSi3N4の一種、又は、二種の層が積層化されているものが好ましい。
中間層6の硬さは、中間層6がSiC、Si3N4、及びSiCNの何れからなるかにより異なる。例えば、中間層6がSiCからなる場合は、硬さが2000〜2200Hv程度であり、図2に示すように、窒化層5より硬くすることができる。一方、中間層6がSi3N4からなる場合は、硬さを、1400〜1600Hv程度にすることができる。なお、上述したSiCからなる中間層6の硬さは、中間層6の厚さ方向と直交する断面方向からナノインデンテーションで測定したナノインデンテーション硬さを、ビッカース硬さに換算したものである。
なお、中間層6の硬さは、後述する実施例においても断面方向から測定しているが、中間層6の表面が特定される場合には、DLC層7が中間層6の表面に積層されているか否かに関わらず、中間層6の表面と直交する表面方向から測定することも可能である。
中間層6を窒化層5とDLC層7の間に配備することで、DLC層7の構成成分である炭素と窒化層5の構成成分である窒素の存在により、DLC層7の密着性が向上することにより耐エロージョン性が向上する。
中間層6は、後述する中間層6の形成方法において、適宜条件を設定することにより、所望の厚さにすることができるが、厚さが0.5〜2μmであることが好ましい。
[中間層6の形成方法]
中間層6を形成する手段は、イオン窒化処理及びラジカル窒化処理に継続して、プラズマ処理で行われる。
中間層6を形成する手段は、イオン窒化処理及びラジカル窒化処理に継続して、プラズマ処理で行われる。
窒化層5がイオン窒化により形成されている場合に、SiCからなる中間層6を形成させる場合は、まず、真空炉槽中の窒化処理時に導入された窒素と水素を徐々に低下させるとともに、真空炉槽中に、Si系ガス(例えば、ヘキサメチルジシロキサンのガス)と、DLCの原料ガス(例えば、アセチレンのガス)を導入する。そして、SiCからなる中間層6は、真空炉槽中にSi系ガスとDLCの原料ガスが存在している状態で、窒化層5が形成されている母材3にプラズマ処理を行うことにより成膜される。
また、Si3N4からなる中間層6は、真空炉槽中にSi系ガス(例えば、ヘキサメチルジシロキサンのガス)を導入して、真空炉槽中に、Si系ガスと窒化処理時に導入された窒素が存在する状態で、窒化層5が形成されている母材3にプラズマ処理を行うことにより成膜される。
さらに、SiCNからなる中間層6は、真空炉槽中に、Si系ガス(例えば、ヘキサメチルジシロキサンのガス)と、DLCの原料ガス(例えば、アセチレンのガス)を導入して、真空炉槽中に、Si系ガスとDLCの原料ガスと窒化処理時に導入された窒素が存在する状態で、窒化層5が形成されている母材3にプラズマ処理を行うことにより成膜される。
また、Si3N4からなる中間層6は、真空炉槽中にSi系ガス(例えば、ヘキサメチルジシロキサンのガス)を導入して、真空炉槽中に、Si系ガスと窒化処理時に導入された窒素が存在する状態で、窒化層5が形成されている母材3にプラズマ処理を行うことにより成膜される。
さらに、SiCNからなる中間層6は、真空炉槽中に、Si系ガス(例えば、ヘキサメチルジシロキサンのガス)と、DLCの原料ガス(例えば、アセチレンのガス)を導入して、真空炉槽中に、Si系ガスとDLCの原料ガスと窒化処理時に導入された窒素が存在する状態で、窒化層5が形成されている母材3にプラズマ処理を行うことにより成膜される。
窒化層5がラジカル窒化により形成されている場合に、SiCからなる中間層6を形成させる場合は、まず、真空炉槽中の窒化処理時のアンモニアと水素ガスを徐々に低下させるとともに、真空炉槽中に、Si系ガス(例えばヘキサメチルジシロキサンのガス)とDLCの原料ガス(例えば、アセチレンのガス)を導入する。そして、SiCからなる中間層6は、真空炉槽中にSi系ガスとDLCの原料ガスが存在している状態で、窒化層5が形成されている母材3にプラズマ処理を行うことのより成膜される。
また、Si3N4からなる中間層6は、真空炉槽中に、Si系ガス(例えばヘキサメチルジシロキサンのガス)を導入して、真空炉槽中に、Si系ガスと窒化処理時に導入されたアンモニアガスが存在する状態で、窒化層5が形成されている母材3にプラズマ処理を行うことにより成膜される。
さらに、SiCNからなる中間層6は、真空炉槽中に、Si系ガス(例えばヘキサメチルジシロキサンのガス)とDLCの原料ガス(例えば、アセチレンのガス)を導入して、真空炉槽中に、Si系ガスとDLCの原料ガスと窒化処理時に導入されたアンモニアガスが存在する状態で、窒化層5が形成されている母材3にプラズマ処理を行うことにより成膜される。
また、Si3N4からなる中間層6は、真空炉槽中に、Si系ガス(例えばヘキサメチルジシロキサンのガス)を導入して、真空炉槽中に、Si系ガスと窒化処理時に導入されたアンモニアガスが存在する状態で、窒化層5が形成されている母材3にプラズマ処理を行うことにより成膜される。
さらに、SiCNからなる中間層6は、真空炉槽中に、Si系ガス(例えばヘキサメチルジシロキサンのガス)とDLCの原料ガス(例えば、アセチレンのガス)を導入して、真空炉槽中に、Si系ガスとDLCの原料ガスと窒化処理時に導入されたアンモニアガスが存在する状態で、窒化層5が形成されている母材3にプラズマ処理を行うことにより成膜される。
[DLC層7]
次に、DLC層7について説明する。
DLC層7は、窒化層5の表面に形成され、積層構造1の最表面(最表層)に位置することで、積層構造1に耐エロージョン性及び耐ファウリング性を付与する。
DLC(Diamond Like Carbon)は、結晶構造が六方晶のグラファイトと立方晶のダイヤモンドの中間的な物性をもつ非晶質のカーボン膜であり、硬さがHvで1000〜5000の範囲を示す硬質膜である。同じDLCでも硬さに範囲があるのは、主にDLCの構成元素の相違による。つまり、DLCは、大きく分けると、構成元素が炭素と水素からなるものと、炭素のみからなるものに区分され、この差は、DLCを成膜する際の製法の違いによる。さらに、水素を含有するDLCでも水素含有量の違いで、硬さ、その他の性質が相違する。一般に、DLC層は、水素含有量を減らすことによって硬さを増加させる方向に制御することができる。
次に、DLC層7について説明する。
DLC層7は、窒化層5の表面に形成され、積層構造1の最表面(最表層)に位置することで、積層構造1に耐エロージョン性及び耐ファウリング性を付与する。
DLC(Diamond Like Carbon)は、結晶構造が六方晶のグラファイトと立方晶のダイヤモンドの中間的な物性をもつ非晶質のカーボン膜であり、硬さがHvで1000〜5000の範囲を示す硬質膜である。同じDLCでも硬さに範囲があるのは、主にDLCの構成元素の相違による。つまり、DLCは、大きく分けると、構成元素が炭素と水素からなるものと、炭素のみからなるものに区分され、この差は、DLCを成膜する際の製法の違いによる。さらに、水素を含有するDLCでも水素含有量の違いで、硬さ、その他の性質が相違する。一般に、DLC層は、水素含有量を減らすことによって硬さを増加させる方向に制御することができる。
本実施形態におけるDLC層7は、硬さが低い場合も逆に高い場合も耐エロージョン性が劣る傾向にある。
DLC層7の硬さは、薄膜の硬度測定に適用されるナノインデンテーション(Nano Indentation)により特定することができる。後述する実施例に示すように、耐エロージョン性を評価する上で、ナノインデンテーション硬さが有効だからである。具体的には、DLC層7の表面と直交する表面方向から硬さを測定した場合に、DLC層7のナノインデンテーション硬さは、13〜30GPaであることが好ましく、14〜27GPaであることがより好ましく、15〜25GPaであることがさらに好ましい。
なお、DLC層7の硬さは、後述する実施例においても表面方向から測定しているが、DLC層7の厚さ方向と直交する断面方向から測定することも可能である。
DLC層7の硬さは、薄膜の硬度測定に適用されるナノインデンテーション(Nano Indentation)により特定することができる。後述する実施例に示すように、耐エロージョン性を評価する上で、ナノインデンテーション硬さが有効だからである。具体的には、DLC層7の表面と直交する表面方向から硬さを測定した場合に、DLC層7のナノインデンテーション硬さは、13〜30GPaであることが好ましく、14〜27GPaであることがより好ましく、15〜25GPaであることがさらに好ましい。
なお、DLC層7の硬さは、後述する実施例においても表面方向から測定しているが、DLC層7の厚さ方向と直交する断面方向から測定することも可能である。
DLC層7は、後述する積層構造1を有する回転機械用部品の交換の期間を考慮して厚さを設定できるが、その厚さは、1〜10μmであることが好ましく、1〜8μmであることがより好ましく、2〜5μmであることがさらに好ましい。
[DLC層7の形成方法]
所望するDLC層7が形成される限り、DLC層7を形成する手段は任意であり、公知のDLCの成膜方法を適用できる。
DLCの成膜方法は、固体の炭素からスパッタリングや陰極アーク放電を利用して成膜するPVD法(Physical Vapor Deposition,物理気相成長法)と、CVD法(Chemical Vapor Deposition,化学気相成長法)の2種に大別される。さらに、CVD法は、成分元素を分子状にガス化し化学反応によって成膜する熱CVD法と、メタン(CH4)やアセチレン(C2H2)等の炭化水素系ガスをプラズマ化して成膜するプラズマCVD法、等がある。プラズマCVD法は、熱CVD法に比べて処理温度を低くできる利点がある。
所望するDLC層7が形成される限り、DLC層7を形成する手段は任意であり、公知のDLCの成膜方法を適用できる。
DLCの成膜方法は、固体の炭素からスパッタリングや陰極アーク放電を利用して成膜するPVD法(Physical Vapor Deposition,物理気相成長法)と、CVD法(Chemical Vapor Deposition,化学気相成長法)の2種に大別される。さらに、CVD法は、成分元素を分子状にガス化し化学反応によって成膜する熱CVD法と、メタン(CH4)やアセチレン(C2H2)等の炭化水素系ガスをプラズマ化して成膜するプラズマCVD法、等がある。プラズマCVD法は、熱CVD法に比べて処理温度を低くできる利点がある。
本実施形態におけるDLC層7は、PVD法及びCVD法のいずれによっても形成できるが、適用する回転機械用部品によっては、PVD法よりもCVD法によりDLC層7を形成することがある。つまり、特に、プラズマCVD法は、狭小空間でもつきまわり性が良好であり、コンプレッサのダイヤフラム、クローズドインペラ内部、蒸気タービンの仕切板などの狭隘な空間を有する部品に成膜するのに好適である。
この際に、プラズマを生成させる方法としてはECR(Electron Cyclotron Resonance:電子サイクロトロン共鳴)プラズマや、マイクロ波を内面に沿って伝搬させて内面で高密度プラズマを作用させるMVP(Microwave-sheath Voltage combination Plasma)を、適用することも可能である。
この際に、プラズマを生成させる方法としてはECR(Electron Cyclotron Resonance:電子サイクロトロン共鳴)プラズマや、マイクロ波を内面に沿って伝搬させて内面で高密度プラズマを作用させるMVP(Microwave-sheath Voltage combination Plasma)を、適用することも可能である。
本実施形態のDLC層7は、表面エネルギが小さいために、セラミックス成分が付着しにくい性質を有するので、フッ素を含有しなくても、耐ファウリング性に優れている。
上記のように構成される本実施形態の積層構造1は、母材3と、母材3の表面に窒化層5と、窒化層5の表面に形成される中間層6と、中間層6の表面にDLC層7と、を有し、後述する回転機械用部品に適用されることで、耐エロージョン性及び耐ファウリング性を発揮する。
積層構造1は、図2に示す硬さの分布を示す。積層構造1は、母材3が図2の横軸で示される厚さ方向において、ほぼ等しい硬さを有するが、窒化層5は母材3のとの境界から中間層6との境界に向けて硬さが上昇する。窒化層5は、母材3を窒化して形成されたものであるから、母材3と窒化層5はその境界において、硬さが連続性を有している。一方、中間層6は窒化層5の表面に形成されたものであり、DLC層7は中間層6の表面に形成されたものであるから、窒化層5、中間層6及びDLC層7の境界における硬さが不連続である。
積層構造1は、硬さに相当の差がある母材3とDLC層7の間に、両者の中間の硬さを有する窒化層5を備えている。したがって、ドレンが衝突してDLC層7に衝撃が生じても、窒化層5が緩衝となり衝撃が母材3に伝わるのを阻止するか、少なくとも軽減するので、母材3に局部的な変形が生じるのを抑制する。
また、中間層6により、DLC層7の密着性が向上することにより耐エロージョン性が向上する。
積層構造1は、図2に示す硬さの分布を示す。積層構造1は、母材3が図2の横軸で示される厚さ方向において、ほぼ等しい硬さを有するが、窒化層5は母材3のとの境界から中間層6との境界に向けて硬さが上昇する。窒化層5は、母材3を窒化して形成されたものであるから、母材3と窒化層5はその境界において、硬さが連続性を有している。一方、中間層6は窒化層5の表面に形成されたものであり、DLC層7は中間層6の表面に形成されたものであるから、窒化層5、中間層6及びDLC層7の境界における硬さが不連続である。
積層構造1は、硬さに相当の差がある母材3とDLC層7の間に、両者の中間の硬さを有する窒化層5を備えている。したがって、ドレンが衝突してDLC層7に衝撃が生じても、窒化層5が緩衝となり衝撃が母材3に伝わるのを阻止するか、少なくとも軽減するので、母材3に局部的な変形が生じるのを抑制する。
また、中間層6により、DLC層7の密着性が向上することにより耐エロージョン性が向上する。
母材3の材質や、積層構造1が適用される回転機械用部品が用いられる環境によって、窒化層5及びDLC層7の、相互の厚さと硬さを適宜調整することができる。なお、窒化層5は、DLC層7よりも厚くなっていることが好ましい。具体的には、窒化層5の厚さとDLC層7の厚さの比は、10:1〜100:1であることが好ましく、10:1〜90:1であることがより好ましく、12:1〜40:1であることが特に好ましい。
以下、本発明を具体的な実施例を挙げて詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではない。
以下に示す実施例1〜実施例4、及び、比較例1〜比較例4による積層構造を作製し、窒化層5、中間層6及びDLC層7の厚さ及び硬さを測定するとともに、DLC層7の密着性の評価(評価1)と、実施例5〜実施例8による積層構造を作製し、耐ドレンエロージョン性の評価(評価2)を行った。
以下に示す実施例1〜実施例4、及び、比較例1〜比較例4による積層構造を作製し、窒化層5、中間層6及びDLC層7の厚さ及び硬さを測定するとともに、DLC層7の密着性の評価(評価1)と、実施例5〜実施例8による積層構造を作製し、耐ドレンエロージョン性の評価(評価2)を行った。
(実施例1)
JIS SUS410J1からなる母材3を、ラジカル窒化処理を行うことにより、母材3の表面に窒化層5を形成した。形成された窒化層5の表面に、プラズマCVD法により、SiCからなる中間層6を形成した。そして、形成された中間層6の表面に、プラズマCVD法により、DLC層7を形成して実施例1を製造した。この積層構造1は、母材3の表面から、窒化層5、中間層6及びDLC層7の順に積層されている。形成させた窒化層5及びDLC層7の厚さと硬さと、中間層6の厚さを図5に示す。
JIS SUS410J1からなる母材3を、ラジカル窒化処理を行うことにより、母材3の表面に窒化層5を形成した。形成された窒化層5の表面に、プラズマCVD法により、SiCからなる中間層6を形成した。そして、形成された中間層6の表面に、プラズマCVD法により、DLC層7を形成して実施例1を製造した。この積層構造1は、母材3の表面から、窒化層5、中間層6及びDLC層7の順に積層されている。形成させた窒化層5及びDLC層7の厚さと硬さと、中間層6の厚さを図5に示す。
(実施例2)
窒化層5、中間層6及びDLC層7を形成させるための条件を変えたこと以外は、実施例1と同様に製造して実施例2を製造した。形成させた窒化層5及びDLC層7の厚さ及び硬さと、中間層6の厚さを図5に示す。
窒化層5、中間層6及びDLC層7を形成させるための条件を変えたこと以外は、実施例1と同様に製造して実施例2を製造した。形成させた窒化層5及びDLC層7の厚さ及び硬さと、中間層6の厚さを図5に示す。
(実施例3)
実施例2と同じ母材3に、イオン窒化処理を行って窒化層5を形成した以外は、実施例2と同様にして実施例3を製造した。形成させた窒化層5及びDLC層7の厚さ及び硬さと、中間層6の厚さを図5に示す。
実施例2と同じ母材3に、イオン窒化処理を行って窒化層5を形成した以外は、実施例2と同様にして実施例3を製造した。形成させた窒化層5及びDLC層7の厚さ及び硬さと、中間層6の厚さを図5に示す。
(実施例4)
実施例2と同じ母材3の表面に形成された窒化層5の表面に、プラズマCVD法により、Si3N4からなる中間層6を形成した以外は、実施例2と同様に製造して実施例4を製造した。形成させた窒化層5及びDLC層7の厚さ及び硬さと、中間層6の厚さを図5に示す。
実施例2と同じ母材3の表面に形成された窒化層5の表面に、プラズマCVD法により、Si3N4からなる中間層6を形成した以外は、実施例2と同様に製造して実施例4を製造した。形成させた窒化層5及びDLC層7の厚さ及び硬さと、中間層6の厚さを図5に示す。
(比較例1)
窒化層5を設けないこと以外は、実施例1と同様にして比較例1を得た。つまり、比較例1は、実施例1と同じ母材3の表面に、実施例1と同様の方法により、DLC層7を形成した。形成されたDLC層7の厚さと硬さを図5に示す。
(比較例2)
実施例1と同じ母材3に、実施例1と同じ方法で、SiCからなる中間層6を形成した。形成された中間層6の表面に、実施例1と同じ方法で、DLC層7を形成した。DLC層7の厚さ及び硬さと、中間層6の厚さを図5に示す。
窒化層5を設けないこと以外は、実施例1と同様にして比較例1を得た。つまり、比較例1は、実施例1と同じ母材3の表面に、実施例1と同様の方法により、DLC層7を形成した。形成されたDLC層7の厚さと硬さを図5に示す。
(比較例2)
実施例1と同じ母材3に、実施例1と同じ方法で、SiCからなる中間層6を形成した。形成された中間層6の表面に、実施例1と同じ方法で、DLC層7を形成した。DLC層7の厚さ及び硬さと、中間層6の厚さを図5に示す。
(比較例3)
実施例1と同じ母材3を、ラジカル窒化処理を行うことにより、母材3の表面に窒化層5を形成した。形成された窒化層5の表面に、プラズマCVD法により、DLC層7を形成して比較例3を製造した。形成された窒化層5とDLC層7の厚さ及び硬さを図5に示す。
(比較例4)
実施例1と同じ母材3を、窒化処理を行う処理時間を半分にしてイオン窒化処理を行って窒化層5を形成した以外は、比較例3と同様に製造して比較例4を製造した。形成された窒化層5とDLC層7の厚さ及び硬さを図5に示す。
実施例1と同じ母材3を、ラジカル窒化処理を行うことにより、母材3の表面に窒化層5を形成した。形成された窒化層5の表面に、プラズマCVD法により、DLC層7を形成して比較例3を製造した。形成された窒化層5とDLC層7の厚さ及び硬さを図5に示す。
(比較例4)
実施例1と同じ母材3を、窒化処理を行う処理時間を半分にしてイオン窒化処理を行って窒化層5を形成した以外は、比較例3と同様に製造して比較例4を製造した。形成された窒化層5とDLC層7の厚さ及び硬さを図5に示す。
実施例1〜4及び比較例1〜4を用いて、以下に説明する評価試験を実施した。評価結果を図5に示す。
[評価1:積層構造の密着性評価]
以下の条件で、スクラッチ試験を行い、積層構造1の特にDLC層7の密着性を評価した。
具体的には、固定した実施例及び比較例の表面に対し、先端にダイヤモンドチップが備わった圧子を押し付け、印加する荷重を徐々に大きくしながら引っ掻くことで意図的にカケ(Chipping)を生じさせた。実施例及び比較例のカケが生じた点をAE(Acoustic Emission)チャートから読み取った。AEチャートから読み取った結果より、剥離発生荷重(単位:N)によって密着性を評価した。その評価結果を図3及図5に示す。密着性は、剥離発生荷重(N)が大きいほど高くなる。
・装置:AEセンサー付き自動スクラッチ試験機(CSM Instruments社製)
・直動試料テーブル移動速度:10mm/min
・荷重負荷レート:100N/min(=10N/mm)
[評価1:積層構造の密着性評価]
以下の条件で、スクラッチ試験を行い、積層構造1の特にDLC層7の密着性を評価した。
具体的には、固定した実施例及び比較例の表面に対し、先端にダイヤモンドチップが備わった圧子を押し付け、印加する荷重を徐々に大きくしながら引っ掻くことで意図的にカケ(Chipping)を生じさせた。実施例及び比較例のカケが生じた点をAE(Acoustic Emission)チャートから読み取った。AEチャートから読み取った結果より、剥離発生荷重(単位:N)によって密着性を評価した。その評価結果を図3及図5に示す。密着性は、剥離発生荷重(N)が大きいほど高くなる。
・装置:AEセンサー付き自動スクラッチ試験機(CSM Instruments社製)
・直動試料テーブル移動速度:10mm/min
・荷重負荷レート:100N/min(=10N/mm)
実施例1〜4は、図3に示すように、比較例1〜4よりも優れた密着性を有している。
実施例1〜4の密着性は、母材3の表面にDLC層7が形成された比較例1、及び母材3の表面に中間層6が形成され、その表面にDLC層7が形成された比較例2との対比から、窒化層5が形成されていることによるものであることが示唆される。一方、母材3の表面に窒化層5が形成されている比較例3及び比較例4は、剥離荷重が、比較例1及び比較例2よりも大きいが、実施例1〜4よりも小さい。
このように、母材3の表面に窒化層5させ、さらに窒化層5の表面に中間層6を形成させることにより、優れた密着性を得ることができ、さらにその密着性を窒化層5の厚さや硬さを変更することで調節することができる。
なお、密着性は、耐エロージョン性の向上にも寄与している。
実施例1〜4の密着性は、母材3の表面にDLC層7が形成された比較例1、及び母材3の表面に中間層6が形成され、その表面にDLC層7が形成された比較例2との対比から、窒化層5が形成されていることによるものであることが示唆される。一方、母材3の表面に窒化層5が形成されている比較例3及び比較例4は、剥離荷重が、比較例1及び比較例2よりも大きいが、実施例1〜4よりも小さい。
このように、母材3の表面に窒化層5させ、さらに窒化層5の表面に中間層6を形成させることにより、優れた密着性を得ることができ、さらにその密着性を窒化層5の厚さや硬さを変更することで調節することができる。
なお、密着性は、耐エロージョン性の向上にも寄与している。
[評価2:耐ドレンエロージョン性の評価]
積層構造1の耐ドレンエロージョン性の評価をするため、実施例5〜8に係る積層構造1を、実施例1〜4の層構成になるように作製し、JIS R 1646(ASTM G32−77)に準じて、キャビテーションエロージョン試験を行った。また、評価1で用いた比較例2〜3の層構成で作成した比較例5〜7についても、同様にキャビテーションエロージョン試験を行った。実施例5〜8及び比較例5〜7の耐ドレンエロージョン性の評価を図6に示す。
積層構造1の耐ドレンエロージョン性の評価をするため、実施例5〜8に係る積層構造1を、実施例1〜4の層構成になるように作製し、JIS R 1646(ASTM G32−77)に準じて、キャビテーションエロージョン試験を行った。また、評価1で用いた比較例2〜3の層構成で作成した比較例5〜7についても、同様にキャビテーションエロージョン試験を行った。実施例5〜8及び比較例5〜7の耐ドレンエロージョン性の評価を図6に示す。
図4(a)に、本評価で用いたキャビテーションエロージョン試験装置80の構成図を示す。
本評価においては、超音波発信器86にて振動子81を発振させ、ホーン82によって振幅を拡大させて、図4(a)に示すように、ホーン82の先端に取付けた試験片A(実施例5〜8)を振動させる方法で評価試験を行った。試験片Aは、図4(b)に示すように、ホーン82に固定されるものであり、円柱状に形成されており、DLC層7がその先端に配置される。
本評価においては、超音波発信器86にて振動子81を発振させ、ホーン82によって振幅を拡大させて、図4(a)に示すように、ホーン82の先端に取付けた試験片A(実施例5〜8)を振動させる方法で評価試験を行った。試験片Aは、図4(b)に示すように、ホーン82に固定されるものであり、円柱状に形成されており、DLC層7がその先端に配置される。
評価は、試験片Aの先端を試験片液85に浸漬しながら振動させて気泡を発生させ、この気泡が崩壊する際の衝撃圧力や液ジェットにより、エロージョンを発生させた。この試験条件は、以下の通りである。
・振動数:18.5KHz
・振幅:25μm
・試験液:イオン交換水
・試験片浸漬深さ:5mm
・試験液温度:20℃
・試験時間:2時間
・振動数:18.5KHz
・振幅:25μm
・試験液:イオン交換水
・試験片浸漬深さ:5mm
・試験液温度:20℃
・試験時間:2時間
上記の試験環境でキャビテーションエロージョン試験を2時間行った後に、実施例5〜8の乾燥重量を電子天秤(精度:0.1mg)によって測定して、重量減少量(エロージョン量)を求めて、耐ドレンエロージョン性を評価した。結果を図6に示す。
図6は、実施例5〜8及び比較例5〜7の体積摩耗速度(単位:mm3/hr)を示している。体積摩耗速度(mm3/hr)が小さいほど耐エロージョン性が高いことを示している。
図6より、実施例5〜8は、比較例5〜7よりも耐エロージョン性が高いことから、母材3と、母材3の表面に窒化層5が形成され、窒化層5の表面に中間層6が形成され、中間層6の表面にDLC層7が形成されていることにより、耐エロージョン性と耐ファウリング性を得られることが示唆される。
図6より、実施例5〜8は、比較例5〜7よりも耐エロージョン性が高いことから、母材3と、母材3の表面に窒化層5が形成され、窒化層5の表面に中間層6が形成され、中間層6の表面にDLC層7が形成されていることにより、耐エロージョン性と耐ファウリング性を得られることが示唆される。
以上説明したように、耐エロージョン性と耐ファウリング性を兼ね備えた積層構造1を提供することができる。また、積層構造1を有する回転機械用部品の種類や、その回転機械用部品の交換の期間に応じて、DLC層7と窒化層5の厚さ及び硬さや層6の厚さを調節することや、中間層6の種類を選択することで、密着性と耐エロージョン性を調節することもできる。
本発明の積層構造1を適用する用途としては、例えば、蒸気タービン等の回転機械に用いられるブレードやロータ等、直接蒸気と接触する回転機械の部品が挙げられる。また、自動車及び航空機分野の機械部品であるクランク軸、シンクロナイザハブ、ロッカアーム、ロッカシャフトバルブ、バルブガイド、インペラ、シリンダーガイド、カム軸、等が挙げられる。また、化学プラント等で用いられる各種流体を圧縮する圧縮機(コンプレッサポンプ)のインペラ、ロータ、ピストン、バルブ、高圧ニードル弁、シリンダチューブ、シリンダロッド等の部品が挙げられる。また、スパーギア、ヘリカルギア、ウォーム&ウォームホイール等のギア類、シャフト、ソケット、カム、等の一般機械部品が挙げられる。更には、ダイカスト、プラスチック、アルミ押出等の各種金型、及び、ドリル、タップ、カッター等の各種工具類、及び、カメラ、時計、ミシン等の精密機器部品等、が挙げられる。
上記以外にも、本発明の主旨を逸脱しない限り、上記実施形態で挙げた構成を取捨選択したり、他の構成に適宜変更したりすることが可能である。
1 積層構造
3 母材
5 窒化層
6 中間層
7 DLC層
71 表面
80 キャビテーションエロージョン試験装置
81 振動子
82 ホーン
85 試験片液
86 超音波発信器
3 母材
5 窒化層
6 中間層
7 DLC層
71 表面
80 キャビテーションエロージョン試験装置
81 振動子
82 ホーン
85 試験片液
86 超音波発信器
Claims (8)
- 鉄系の金属材料からなる母材と、
前記母材を窒化処理することによって、前記母材の表面に形成される窒化層と、
前記窒化層の表面に形成される中間層と、
前記中間層の表面に形成されるDLC層と、を備えること、
を特徴とする積層構造。 - 前記窒化層は、
前記母材と前記DLC層の中間の硬さを有し、前記母材から前記DLC層に向けて、連続的に硬さが高くなる、
請求項1に記載の積層構造。 - 前記窒化層は、
厚さが10〜100μmである、
請求項1又は請求項2に記載の積層構造。 - 前記中間層は、
厚さが0.5〜2μmである、
請求項1〜3のいずれか一項に記載の積層構造。 - 前記中間層は、
SiC及びSi3N4の一種又は二種からなる、
請求項1〜4のいずれか一項に記載の積層構造。 - 前記DLC層は、
厚さが1〜10μmである、
請求項1〜請求項5のいずれか一項に記載の積層構造。 - 請求項1〜請求項6のいずれか一項に記載の積層構造を有する回転機械用部品。
- 前記回転機械用部品は、蒸気タービン又はコンプレッサの部品である請求項7に記載の回転機械用部品。
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