JP2017535955A - 光構成要素の高速較正およびプログラミング - Google Patents

光構成要素の高速較正およびプログラミング Download PDF

Info

Publication number
JP2017535955A
JP2017535955A JP2017523271A JP2017523271A JP2017535955A JP 2017535955 A JP2017535955 A JP 2017535955A JP 2017523271 A JP2017523271 A JP 2017523271A JP 2017523271 A JP2017523271 A JP 2017523271A JP 2017535955 A JP2017535955 A JP 2017535955A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mirror
electronic circuit
tunable laser
wavelength
mirrors
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2017523271A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6689264B2 (ja
Inventor
ダニエル ブルーメンタール,
ダニエル ブルーメンタール,
ホルガー クライン,
ホルガー クライン,
チャド アルトハウス,
チャド アルトハウス,
トッド チッチ,
トッド チッチ,
パトリック バイビー,
パトリック バイビー,
ヘンリック ポールセン,
ヘンリック ポールセン,
サラート チャンドラ ガンダヴァラプ,
サラート チャンドラ ガンダヴァラプ,
Original Assignee
オーイー・ソリューションズ・アメリカ・インコーポレーテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by オーイー・ソリューションズ・アメリカ・インコーポレーテッド filed Critical オーイー・ソリューションズ・アメリカ・インコーポレーテッド
Publication of JP2017535955A publication Critical patent/JP2017535955A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6689264B2 publication Critical patent/JP6689264B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/10Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
    • H01S5/12Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region the resonator having a periodic structure, e.g. in distributed feedback [DFB] lasers
    • H01S5/1206Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region the resonator having a periodic structure, e.g. in distributed feedback [DFB] lasers having a non constant or multiplicity of periods
    • H01S5/1209Sampled grating
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/0014Measuring characteristics or properties thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/024Arrangements for thermal management
    • H01S5/02407Active cooling, e.g. the laser temperature is controlled by a thermo-electric cooler or water cooling
    • H01S5/02415Active cooling, e.g. the laser temperature is controlled by a thermo-electric cooler or water cooling by using a thermo-electric cooler [TEC], e.g. Peltier element
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/026Monolithically integrated components, e.g. waveguides, monitoring photo-detectors, drivers
    • H01S5/0268Integrated waveguide grating router, e.g. emission of a multi-wavelength laser array is combined by a "dragon router"
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/06Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
    • H01S5/0617Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium using memorised or pre-programmed laser characteristics
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/06Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
    • H01S5/062Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying the potential of the electrodes
    • H01S5/0625Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying the potential of the electrodes in multi-section lasers
    • H01S5/06255Controlling the frequency of the radiation
    • H01S5/06256Controlling the frequency of the radiation with DBR-structure
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/06Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
    • H01S5/068Stabilisation of laser output parameters
    • H01S5/0683Stabilisation of laser output parameters by monitoring the optical output parameters
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/06Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
    • H01S5/068Stabilisation of laser output parameters
    • H01S5/0683Stabilisation of laser output parameters by monitoring the optical output parameters
    • H01S5/0687Stabilising the frequency of the laser
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/10Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
    • H01S5/12Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region the resonator having a periodic structure, e.g. in distributed feedback [DFB] lasers
    • H01S5/125Distributed Bragg reflector [DBR] lasers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/50Amplifier structures not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/06Construction or shape of active medium
    • H01S3/07Construction or shape of active medium consisting of a plurality of parts, e.g. segments
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/10Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
    • H01S5/1003Waveguide having a modified shape along the axis, e.g. branched, curved, tapered, voids
    • H01S5/101Curved waveguide

Abstract

波長可変レーザを較正し制御するための方法および装置を開示する。本明細書で開示する複数の方法論は、単独または組み合わせて使用することができ、この方法論によって、較正時間が著しく速まり、したがって波長可変レーザを較正する際に、既存技術に対する著しい利点をもたらす。ある方法論では、2つ以上の光ファセットを出力部に連結するという波長可変レーザの独特の設計から恩恵を受けている。波長可変レーザには、2つ以上のサンプルグレーティング分布ブラッグ反射(SGDBR)型ミラーを装備することができ、SGDBR型ミラーの後ろに半導体光増幅器(SOA)を含むことができる。【選択図】図21

Description

米国特許法第119条に基づく優先権の主張
本特許出願は、「Method and apparatus for fast calibration and programming tunable lasers and associated transmitters and optical subassemblies」と題され、2014年10月31日に出願された米国仮特許出願第62/073,713号の利益を主張するものであり、この米国仮特許出願の全開示が全体として参照により本明細書に援用される。
今日の光ファイバをベースとしたネットワークは、電子機器と光ファイバ上を伝搬する光信号との間のインターフェースとして、および電子形態と光学形態との間で情報を変換するネットワーク内の他のポイントで、送受信機を使用する。
フォトニックデバイスおよび/または光電子デバイス、ならびに光ファイバ上での送信のために光データを送信し、符号化し、受信し、復号するために使用される構成要素を含む光通信デバイスは、これらの部品を制御するため、ならびに、送信側および受信側で電子形態のデータをインターフェース接続し、電子データを符号化および復号し、クロック修復および誤り訂正のような他の機能を実行し、温度を含む様々な電子回路の環境を制御するために要求される機能を実現するために使用される様々な電子回路にインターフェース接続される。
波長可変レーザ、モジュール、および/またはサブアセンブリに対して今日存在する課題は、波長可変レーザに基づいて言うと、部分的には、印加された制御信号(例えば、電圧、電流、温度、またはこれらの任意の組合せ)に応答して、出力部の出力特性、具体的には光周波数(または波長)を較正する際の複雑性および必要となる時間にある。レーザの設計および同調の物理特性次第で、制御方法および制御信号は、大きく変化する可能性がある。広範囲の同調、例えば通信システムに関するCバンドまたはOバンド、に関して、(いくつかの特定精度の範囲内で)任意の所望波長に同調することができる設計を含む、波長可変レーザのいくつかのクラスが存在する。
波長可変レーザを製造し、その波長較正を高速かつ堅牢にするためにかかる費用は、固定波長レーザを波長可変レーザに交換する際、ならびに新しい用途および市場を開拓する際に重要である。単一のファイバ上に多くの波長またはチャネルを送信するシステムにおいて、波長可変レーザに移行する必要性が、経済的かつ実用的に必要なものになってきた。というのは、全ての固定波長レーザのインベントリを伝送すると、このインベントリを特定し、かつ伝送することをサポートする必要があるインフラストラクチャ、ならびに、不適切な波長のレーザを現場に出荷した際に利用不能および犯された誤りによるチャネルの稼働停止時間を抱えるためにかかる費用が、それぞれのファイバが40、80、96、128またはこれ以上の波長を伝送できる今日の大容量ネットワークにとって、重要な因子になるからである。
さらに、100ギガビット/秒(Gbps)、200Gbps、400Gbps、およびさらに高速にデータを送信するように構成された新しいモジュールにかかる費用によって、1つのモジュール形式を使用して、ファイバチャネル上の任意のチャネルにアクセスできるような波長可変レーザを使用することが必要となる。これらの新しい大容量システムに対して、固定波長レーザを伴うこれらのインターフェースを導入する費用が非常に高くなってきており、当産業界は、単一波長で高ビットレートのモジュールおよびインターフェースに関連した波長可変レーザの方向に移行しつつある。
全体として参照により本明細書に援用される米国特許仮出願第61/748,415号に記載されたものなどの、フォトニック集積回路(PIC:photonic integrated circuit)上にモノリシックに集積することができる波長可変レーザの1つの広く使用されているクラスは、制御信号と波長の間にマッピングされる一連の制御信号でレーザの多数のセクションを制御する必要がある制御システムによって任意の所望波長に到達できるレーザとして定義される、レーザの準連続同調クラスに属する。制御信号と出力波長の間の複雑な関係を考えると、しばしば、準連続レーザを同調するために使用される制御方法は複雑になることがあり、したがって、較正時間中に全ての制御信号と所望波長に関する完全同調マップが格納されている参照テーブルのような技法を利用する。準連続レーザ型は、全ての出力周波数または波長を通じて掃引できる単一のノブまたは単一の制御信号の調節によってレーザを連続的に同調でき、較正の制御およびしばしば時間が、準連続レーザに対して単純化されている連続レーザ型とは区別される
しかし、波長可変レーザ、具体的には、米国特許仮出願第61/748,415号に記載されたような準連続レーザに関する主要な問題点は、制御信号および出力波長の観点から波長可変レーザを完全に較正するためにかかる時間である。この較正は高速でなければならず、製造工程の妨げになってはならず、さもなければ、レーザの費用および製造能力を大きく引き上げることになるが、較正の堅牢性、ある程度のプロセスオートメーション、および、制御回路および光学素子、処理の変化ならびにレーザの操作の変化および経時変化を取り巻く、設計トレランスに対する堅牢性にも影響を及ぼす。
波長可変レーザおよび他の構成要素は、(例えば、光データ変調器および波長ロッカのように)いっそう密に集積されつつあるので、高速な較正時間ならびに関連する方法および装置は、費用、他のサブアセンブリおよびシステムへのレーザの集積という点で、波長可変レーザの大規模な導入にとって重要になる。さらに、レーザ波長較正の速度は、較正が行われる可能性がある場所に影響を及ぼすことがあり、高速技術は、レーザの製造者において較正することだけでなく、レーザをベースとした構成要素をシステムに組み込む機器製造業者において較正することにも、および現場でのシステム内のレーザの再較正にさえ、可能性を開いたままである。
今日の技術の態様は、波長可変レーザの較正のために、マイクロプロセッサおよび/またはステートマシン上で実行する線形モノリシックコードを、較正ルーチンに対して使用し、その後、較正の結果を、所望出力波長に対する制御信号をマッピングするために使用される参照テーブルに格納することができるというものである。しかし、この手法に関していくつかの欠点が存在し、1つは、較正ルーチンおよび制御を実行するために、ならびにツールおよび機器の全て、および較正される波長可変レーザまたはデバイスとインターフェース接続をするために、パーソナルコンピュータ(PC)またはマイクロプロセッサによる手法を使用する際の効率性(速度の欠如)である。もう1つの欠点は、最終的に較正データをFPGAに格納できる製造の一貫性、および製造中に較正ルーチンを実行する能力であり、一旦、波長可変レーザをベースとした製品が通信システムで利用されると、波長較正のために別のマイクロプロセッサを必要とする。製造ラインおよび較正ラインならびに導入ラインにおけるコードの一貫性、コードの調節性、ハードウェアの一貫性が、既存技術に対する経済的な効率性および他の効率性につながる。
既存の波長較正方法および装置の主要な欠点は、較正処理、ならびに較正の自動化およびソフトウェア制御を可能にするレーザの設計および技法に部分的に関係している。これらの較正の欠点が、製造に対する費用、時間および複雑性の増加、ならびに製品にインストールする間の、または現場に導入する間の再較正に対する制限によって、波長可変レーザ、ならびにこのようなレーザを用いる光サブアセンブリおよび通信モジュールの市場を制限している。
したがって、製造にかかる費用および時間、ならびにシステム、通信システムおよびネットワークにこのような波長可変レーザを組み込むことに関してさらなる自動化を行うことにかかる費用および時間を低減するために、新しい高速な波長可変レーザ較正の技術、アルゴリズムおよび実装が必要である。
本開示によれば、本明細書で開示されたのは、光通信のための波長可変レーザの波長較正のための装置および方法である。波長可変レーザは、光出力部において複数のミラーの多数のファセットにアクセスするように構成され、それぞれのミラーは、異なるサンプルグレーティング周期を有する。波長可変レーザの所望波長に複数のミラーを同調するために必要とされるミラー電流は、電子回路を介して、波長可変レーザの利得セクションの利得電圧マップ、半導体光増幅器(SOA:semiconductor optical amplifier)光電流マップ、複数のミラーのミラー反射スペクトル、および波長可変レーザのモードホッピングのうちの少なくとも1つに基づいて決定することができる。
本開示の1つの態様では、電子回路を介して、ミラー電流の全範囲に渡って、波長可変レーザの利得セクションの電圧値をモニタすることができ、電子回路を介して、電圧降下または最低値のポイントを決定することができ、電圧降下または最低値のポイントは、波長可変レーザが1組のミラー電流において最大強度を出力していることを表している。
本開示の別の態様では、電子回路を介して、複数のミラーのそれぞれのファセットからの出力強度を、光検出器として動作する複数のSOAを使用して決定する。さらに、1つのSOAのSOA光電流マップを、変化するミラー電流および波長可変レーザからの光出力に基づいて決定し、このSOAは、波長可変レーザに関連した複数のSOAのうちの1つである。また、電子回路による画像処理を介して、決定されたSOA光電流マップの輪郭の中心位置を決定する。
本開示の1つの態様では、電子回路を介して、複数のSOAのうちの1つに、順バイアスをかけることができ、複数のSOAのうちの残りの他のSOAに逆バイアスをかけることができる。
本開示の1つの態様では、複数のミラーの反射スペクトルは、ミラー電流の全範囲に渡って、取得される。また、複数のミラーの反射スペクトルの分析に基づいて、波長可変レーザの個別の波長に複数のミラーを同調するために必要とされるミラー電流を決定する。
本開示の別の態様では、複数のミラーに対するミラー電流におけるミラーのピークに関するグラフを作り出すことができ、最大範囲における全波長に対するミラー電流を取得することができる。
本開示の1つの態様では、個別の波長に対するミラー電流の値は、参照テーブルとしてメモリ内に格納することができる。
本開示の別の態様では、利得セクション(例えば、レーザダイオード(LD:laser diode)セクション)の利得電圧同調マップを生成することができ、画像処理を介して、利得電圧同調マップの最低値を決定することができる。さらに、画像処理を介して、最低値に対応する制御ポイントに関連した波長出力を決定することができる。
本開示の1つの態様では、複数の半導体光増幅器(SOA)のうちの1つに、順バイアスをかけることができ、複数のSOAのうちの残りの他のSOAに逆バイアスをかけることができる。
本開示の別の態様では、複数のSOAの光出力に関するデータを収集することができ、収集データに基づいて、ミラーの電流限界の全範囲に渡って、光スペクトルを決定することができる。
本開示の別の態様では、光増幅器(例えばSOA)のSOA光電流マップを取得することができ、画像処理を介して、取得されたSOA光電流マップ上でエッジを検出することができる。
さらに、画像処理を介して、SOA光電流マップ上で輪郭を決定することができ、SOA光電流マップ上で検出された輪郭の中心の位置を決定することができる。検出された輪郭の、決定された中心の位置は、波長可変レーザの波長を同調するための操作点に関するミラー電流に対してマッピングすることができる。
本開示の1つの態様では、複数のミラーからのミラー反射スペクトルを計測することができ、計測されたミラー反射スペクトルに基づいてピーク波長を決定することができる。
本開示の1つの態様では、潜在増幅自然放出(ASE:amplified spontaneous emission)を決定することができ、計測されたミラー反射スペクトルに対して平均化操作を適用することができ、平均化されたミラー反射スペクトルから潜在増幅自然放出を差し引くことができる。
本開示の1つの態様では、複数のミラー電流に対する決定されたピーク波長の複数の追跡を含むデータに多項式フィッティングを適用することができ、多項式フィッティングされたデータを参照テーブルとしてメモリ内に格納することができる。
本開示の1つの態様では、波長ホップの1つまたは複数の開始点を発見することができ、複数のミラーのミラー電流の1次元の線に沿って波長ホップを追跡することができ、所望波長に対するミラー電流の操作設定を決定することができる。さらに、所望波長の微調整として働く波長可変レーザのキャビティモードの位置の最適化を図ることができる。
本開示の別の態様では、光通信デバイスに対する波長較正のために装置が提供される。この装置は、光出力部において複数のミラーの多数のファセットにアクセスするように構成され、それぞれのミラーが、異なるサンプルグレーティング周期を有する波長可変レーザ、および波長可変レーザおよびホストコントローラに連結された電子回路を含む。さらに、電子回路は、波長可変レーザの利得セクションの利得電圧マップ、半導体光増幅器(SOA)光電流マップ、複数のミラーの反射スペクトル、および波長可変レーザのモードホッピングのうちの少なくとも1つに基づいて、波長可変レーザの所望波長に複数のミラーを同調するために必要とされるミラー電流を決定するように構成される。
本開示の1つの態様では、さらに、この装置の電子回路は、ミラー電流の全範囲に渡って、波長可変レーザの利得セクションの電圧値をモニタし、電圧降下または最低値のポイントを決定するように構成され、電圧降下または最低値のポイントは、波長可変レーザが1組のミラー電流において最大強度を出力していることを表している。
本開示の別の態様では、さらに、この装置の電子回路は、光検出器として動作するように構成された複数のSOAを介して複数のミラーのそれぞれのファセットからの出力強度をモニタし、変化するミラー電流および波長可変レーザからの光出力に基づいてSOA光電流マップを決定し、このSOA光電流マップは、複数のSOAのうちの1つに関係し、SOA光電流マップに対する画像処理を介して、決定されたSOA光電流マップの輪郭の中心位置を決定するように構成される。
本開示の1つの態様では、さらに、この装置の電子回路は、複数のSOAのうちの1つに順バイアスをかけ、複数のSOAの残りの他のSOAに逆バイアスをかけるように構成される。
本開示の1つの態様では、さらに、この装置の電子回路は、ミラー電流の全範囲に渡って、複数のミラーの反射スペクトルを取得し、複数のミラーの反射スペクトルの分析に基づいて、波長可変レーザの所望波長に複数のミラーを同調するために必要とされるミラー電流を決定するように構成される。
本開示の1つの態様では、さらに、この装置の電子回路は、波長ホップの1つまたは複数の開始点を発見し、複数のミラーのミラー電流の1次元の線に沿って波長ホップを追跡し、所望波長に対するミラー電流の操作設定を決定し、波長可変レーザの微調整として働く波長可変レーザのキャビティモードの位置の最適化を図るように構成される。
本開示の1つの態様では、複数のミラーは、それぞれ、サンプルグレーティング分布ブラッグ反射型ミラーを含むことができる。
本開示の1つの態様では、電子回路は、プロセッサ、マイクロコントローラ、フィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA:field programmable gate array)、特定用途向け集積回路(ASIC:application specific integrated circuit)のうちの少なくとも1つを含むことができる。
本開示の1つの態様では、この装置は、複数のミラーに対応した複数の半導体光増幅器(SOA)を含むことができる。
本開示の1つの態様では、さらに、電子回路は、SOA光電流マップを取得し、画像処理を介して、取得したSOA光電流マップ上で、エッジを検出し、画像処理を介して、SOA光電流マップ上で、輪郭を検出し、画像処理を介して、SOA光電流マップ上の検出された輪郭の中心の位置を決定し、波長可変レーザの波長を所望波長に同調するための操作点に関するミラー電流に対して、検出された輪郭の決定された中心の位置をマッピングするように構成される。
本開示の1つの態様では、この装置は、電子回路に連結され、波長可変レーザの所望波長に対するミラー電流を格納するように構成されたメモリを含むことができる。
本開示のこれら、および他の態様は、以下に続く、発明を実施するための形態の検討でさらに完全に理解されるであろう。
さらに詳細な理解は、添付の図面と共に以下の説明から取得することができる。
本開示の1つの態様による、波長可変レーザの前後のミラーの電流を変化させた波長同調マップの例を示した図である。 本開示の1つの態様による、利得電圧同調マップの例を示した図である。 本開示の1つの態様による、半導体光増幅器(SOA)光電流マップの例を示した図である。 本開示の1つの態様による、波長を抽出する例を示した流れ図である。 本開示の1つの態様による、SOAマップの例を示した図である。 本開示の別の態様による、波長可変レーザの構成例を示したブロック図である。 本開示の1つの態様による、ミラー反射スペクトルの例を示したグラフである。 本開示の1つの態様による、ミラー反射スペクトルの例を示したグラフである。 本開示の1つの態様による、ミラー反射スペクトルの例を示したグラフである。 本開示の1つの態様による、ミラー反射スペクトルの例を示したグラフである。 本開示の1つの態様による、同調電流に対する波長の例を示したグラフである。 本開示の1つの態様による、同調電流に対する波長の例を示したグラフである。 本開示の1つの態様による、ミラー反射スペクトルの例を示したグラフである。 本開示の1つの態様による、モードホップ追跡のための処理の例を示した流れ図である。 本開示の1つの態様による、モードホップ追跡のための処理の例を示した流れ図である。 本開示の1つの態様による、波長較正の例を示したグラフである。 本開示の1つの態様による、波長較正処理の一部を示したグラフである。 本開示の1つの態様による、波長較正処理の一部を示したグラフである。 本開示の1つの態様による、波長較正処理の一部を示したグラフである。 本開示の1つの態様による、波長較正処理の一部を示したグラフである。 本開示の1つの態様による、波長較正処理の一部を示したグラフである。 本開示の1つの態様による、波長較正処理の一部を示したグラフである。 本開示の1つの態様による、システムの例を示した図である。 本開示の1つの態様による、システムの例を示した図である。
次に、図示の例の詳細な説明を、様々な図と関連付けて以下に示す。以下の説明は、例示的なものであり、特許請求された発明の範囲をなんら限定するものではない。可能な実装形態の詳細な例を提供するが、本明細書で説明する概念を実践できるただ1つの構成を表すものではない。したがって、詳細な説明は、様々な概念を十分に理解するために具体的詳細を含むが、これらの具体的詳細なしに、これらの概念を実践できるということに留意されたい。いくつかの例では、このような概念が不明瞭になるのを防ぐために、よく知られた構造および構成要素は、ブロック図の形式で示している。
本発明に従って、光構成要素の高速較正およびプログラミングのための方法および装置が提供され、波長可変レーザならびに関連する送信機および光サブアセンブリの高速較正およびプログラミングのための方法および装置を含む。1つの実施形態では、光送受信機、光モジュールおよび光サブアセンブリ、ならびにレーザ送信機および受信機を含む、光デバイスが提供される。光デバイスは、光変調器および半導体光増幅器、非集積型の光部品および光電子部品、ならびに他の計測および制御のためのデバイスおよび部品と共に、同一基板上に集積された、広範に同調可能な半導体レーザのような多数の部品を内蔵する集積型の電子機器とフォトニック集積回路との組合せを用いる。本発明による方法および装置によって、多段処理を通じた光構成要素の全体的な較正処理の速度が増加し、これによって較正時間が著しく減少する。
波長可変レーザの較正における既存技術は、レーザまたはレーザセクションを全ての可能な値に徐々に調節し、レーザ出力を調節値と共に記録する直接的な検索を必要とする。波長可変レーザの光出力は、波長、光強度、光サイドモード抑圧比(SMSR:optical side−mode−suppression−ratio)などのパラメータに関してモニタされる。このような力ずくの手法に伴う問題の1つは、それぞれの制御パラメータの値に、同調チャネル出力を逃さないように十分に高い解像度を与える必要があり、今日のモノリシックに集積された半導体レーザには、制御し、かつ同調しなければならない多数のセクションが存在するというものである。したがって、波長可変レーザを同調するためのデータ点の数が、極めて大きな、数万程度になることがある。印加された制御信号に応答してレーザ出力を記録するのに必要である試験機器は、数ミリ秒から数秒までのレスポンス時間を有することがあり、これまでの状況から見て較正処理を数10時間まで増加させる。
2つの制御可能なミラーを利用する波長可変レーザに対して、標準的な較正を使用することができ、レーザ出力強度を、ミラーを徐々に同調しながら記録する波長同調マップと呼ぶことがある。1つの実装形態では、本段落に示したものと同様の2次元の輪郭マップを、波長同調マップとして生成することができる。図1は、波長可変レーザの前後のミラーにおいて電流を変化させた状態の典型的な波長同調マップを示している。
波長可変レーザの波長およびパラメータの較正で生じる問題には、温度および他の条件に対する較正技法の堅牢性の問題、ならびに波長可変レーザの全ての可能な同調チャネルにアクセスする能力が含まれる。さらに、波長可変レーザに対する多くの既存技法が公開文献で報告されており、この既存技法では、レーザキャビティ内部のダイオードセクションの電圧、例えば、利得セクションの電圧を使用することができる。例えば、利得セクションの電圧は、その点で波長可変レーザが最大強度を出力している点を表す電圧降下または最低の値についてモニタすることができる。1つの実装形態では、この処理から図2に示したようなものと同様の利得電圧同調マップを生成することができ、利得電圧同調マップ内の最低値の全てを識別するために後続のステップを実行することが必要になることがある。さらに、利得電圧同調マップの最低値について、計測器を使用して光出力強度の値および関連した波長が計測され、波長可変レーザが位相セクションのような微調整機構を使用している場合には、出力波長をさらに同調し、制御値を記録することができる。
この種類の較正(例えば、利得電圧同調マップに基づく技法)は、まず、高速な電子計測器を使用して利得電圧同調マップを生成し、次に、利得電圧同調マップ内の最低値の識別後、これらの制御ポイントだけを使用して外部の計器で波長出力を観測するという点で、波長だけのマッピング(例えば、波長同調マップ)を使用するよりも堅牢かつ高速にすることができ、計測器による時間制限を減らす。しかし、利得電圧マップは、ノイズが多くなることがあり、単一点の解釈時間を増加させることが必要になることがあるということ、ならびに利得電圧マップの最低値の探知機は点をランダムに分布させることがあるということに留意されたい。
既存技法における高速な波長およびレーザの較正における別の制限因子は、波長可変レーザの基本設計から生じる。波長可変レーザは、レーザのファセット(またはミラー)の1つから最大エネルギーを抽出するように設計されてきたので、較正ルーチンは、1つのファセットから抽出された光信号に基づいて行われなければならない。2つ以上のミラーおよび場合によっては位相電流セクションによるレーザ同調の完全な情報を使用して同調することができるが、較正アルゴリズムおよび較正技法は、ただ1つのミラーだけがアクセス可能なときに制限されることがある。
本明細書で説明する本技術は、波長可変レーザの設計特性を完全に使用するので、これらの制限を部分的に克服する。つまり、本技術は、レーザキャビティの多数のファセット(例えば、2つ以上のファセットまたはミラー)から抽出した光エネルギーを使用する。この例では、較正処理における多数のファセット(例えば、2つ以上のファセットまたはミラー)にアクセスする能力は、ただ1つのファセット(ミラー)だけに対するアクセスを有する既存技術に対する根本的な優位性をもたらすことができる。制限を克服する本開示の他の態様には、(集積型光データ変調器を伴う、または伴わない)多数の出力ファセット、利得電圧マップ、最低値検索アルゴリズム、高速なカーブフィッティングアルゴリズム、必要なデータだけを迅速に収集するための試験機器および計測機器のインターフェース、および、光源としてオンチップの光増幅器を使用して多数のミラーから収集する同調データに基づいたアルゴリズムと組み合わせて利用する能力が含まれる。結果として、本明細書で説明する本技術は、全体的な較正処理を著しく速め、多段処理を可能にし、これによって様々なチャネル間隔(例えば、6.25GHz、37.5GHz、50GHz、100GHz)で大きなチャネル数(例えば、80チャネル超)に対して同調できる波長可変レーザについて、約数分程度にまで較正時間を減少させる。
本開示では、4例の方法論またはアルゴリズムを説明し、本技術の様々な態様において、この全てを単独または他との組合せで使用することができる。示された4つの方法論を、単なる例示のケースとして本明細書で提供する。したがって、本開示は、この形態におけるこれらの開示された方法論にのみ限定されるものではなく、他の組合せにおいてレーザ設計および本開示の本質的な態様を活用する他の変形形態および方法論を含むことができる。
さらに、本明細書で説明する本技術は、既存技術よりも桁違いに大きな改善をもたらし、波長可変レーザの較正処理中に2つ以上のファセットがチップの出力部でアクセス可能である波長可変レーザの設計によって可能になる。さらに、半導体光増幅器(SOA)などのオンチップの光源を使用して、本明細書で説明する本技術は、較正の第1段のうちの1つのウェハレベルの規模の試験を可能にすることができ、これによって、キャリアレベルでの個々のダイまたはチップで行われる完全な較正に対する試験を行うための費用を著しく減らす。
高速な波長較正アルゴリズムを有する別の理由は、コヒーレント通信に対する波長可変レーザのためである。波長可変レーザの線幅および光出力のノイズは、波長可変レーザの様々なセクションを同調する電流源のノイズによって部分的に制限される可能性があるコヒーレント(および他の)通信システムにとって重要になることがある。電流同調を置き換え、または強化することができる、波長可変レーザの同調に対する代替手法、例えば波長可変レーザのレーザ同調セクションを加熱することがある。しかし、いかなる種類の同調に関する温度制御(例えば、温度同調技法)も、電流制御手法よりも桁違いに遅く、結果として温度制御に基づいた波長較正ルーチンは、容認できないレベルまで減速する可能性があり、これによって製造にかかる費用および時間が大いにつり上がる。したがって、本明細書で説明する本技術によって可能になるような高速波長較正の方法、アルゴリズム、および装置は、コヒーレント通信に対する波長可変レーザの製造費用の低減および製造性の改善にとって極めて重要である。
上述の通り、本技術は、2つ以上の光出力ファセット(例えば、多数のファセット)が出力部においてアクセス可能である波長可変レーザ(例えば、波長可変U−レーザ)、または波長可変レーザの一般クラスの独特な態様によって、部分的に可能になる。波長可変レーザの較正中に、アルゴリズムおよびフィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)などのハードウェアと共に多数のファセットを使用して、波長較正に対するかなりの量の複雑性および時間を著しく減少させ、ならびに多くの時間を必要とする試験機器および手順の費用および使用も減少させる。
本開示による態様は、較正の計測器およびアルゴリズムに関して、2つ以上のレーザミラー(またはファセット)が光出力部にアクセス可能であるレーザ構造の利用である。光データ変調器と統合された波長可変レーザの場合、波長可変レーザの両方のミラーは、光出力部および較正計測器にアクセスできる可能性がある。
本開示による別の態様は、波長可変レーザのレーザキャビティ内のミラー同調の様々な段と他の同調機構とを組み合わせ、および/または、さらに、同調フィッティングアルゴリズムと、全体的な較正時間を削減するように設計された較正の様々な段とを組み合わせて、利得電圧同調マップを使用できることである。
本開示による別の態様は、波長マップ点に対する全ての制御に関する完全マップを予備成形することに対する複雑性を大きく削減した線形ミラー走査および/または同調曲線で波長較正処理を行えるように、主要な光チップの出力を介して、レーザミラーおよび任意の内部のレーザ同調セクションの同調特性に関する情報を提供する際にオンチップの光源、例えば光増幅器を使用できるというものである。
本開示による別の態様は、利得電圧同調マップ中の最低値または最大値を識別する際に、急速マッピング技法および機器を使用してレーザ同調点の識別を速めるために、1つまたは複数の画像処理技法を使用することができ、比較的遅い試験機器および較正機器を使用して比較的少ない点を試験し計測する較正処理内の後ろの段に比較的遅い較正部分を任せるというものである。
本開示による別の態様は、FPGAなどのハードウェアレベルのゲートに、およびデータを格納する同じFPGAにさえ、較正ルーチンを埋め込むことを活用することであり、これにより、波長較正を行う際、例えば、製造中、システムの統合中、および波長可変レーザの導入後の期間でさえ、製造効率の増加、費用の削減、ならびに柔軟性の増加につなげることができる。
本開示による別の態様は、1組の方法論またはアルゴリズムは、独立で、または組み合わせて使用することができ、波長可変レーザの多数のファセット出力へのアクセス、および、ハードウェアゲート、例えばFPGA内への波長較正の埋込みによって可能になるというものである。
本開示による別の態様は、独立で、または部分的にスーパーモードビーティングを使用して、掃引操作点の境界を追跡することができるというものである。例えば、この方法論またはアルゴリズムは、高速波長計を使用して約10分以内に100個のITUチャネルをマッピングすることができるというものである。
本開示による別の態様は、アルゴリズムに利用できる2つ以上のファセット(ミラー)がある波長可変レーザによって可能になるミラー反射較正を利用することである。この技法の例は、N^2点の問題から2Nの問題までマッピングの複雑性を削減することができ、したがって、数分でフォトニック集積回路(PIC)を完全にマッピングできる。
本開示による別の態様は、特にレーザ同調セクションを加熱するような低速同調機構を使用する場合に、波長可変レーザの小さい線幅および光出力のノイズが、コヒーレント(および他の)通信システムにとって重要である、波長可変レーザの波長を較正するために本技術を使用するときに、1つまたは複数の恩恵を得ることができるというものである。
本開示による別の態様は、本明細書で開示し、多数のファセット出力部を有する波長可変レーザの利点によって可能になる、1つまたは複数の技法または方法論と組み合わせることである。例えば、利得電圧マップを使用すると、検出器として逆バイアスがかかり、主要なレーザ出力部のそれぞれと接続された、オンチップの集積型半導体光増幅器(SOA)と組み合わせることができ、この出力は、フォトニック集積回路の主出力部で同時に利用できる。あるいは、または加えて、本明細書で開示した本技術を、外部の検出器と共に使用することもできるが、それぞれのレーザミラーの出力部で検出器として働く増幅器(例えば、SOA)を埋込むと、安定したレーザ出力のin−situモニタリングが利得電圧同調マップと相関することを可能にし、利得セクションの電圧および光出力強度に基づいて、レーザの同調特性をマッピングすることが可能になる。本明細書で開示した本技術は、電流注入同調を使用するとき、高速な電流源計量器および高速な波長計と組み合わせると、著しく高速である。
本開示による別の態様は、大量のデータを収集しなければならない段に最速技法を適用し、その後、データセットを大きく削減できたときに、比較的遅い技法または計測法を較正の段に適用する、パイプライン方式による多数の技法の組合せである。1つの実装形態では、全てのアクセス可能な同調点の高速較正を、上記の技法のいずれか、または組合せを使用して行うことができ、実際の波長が知られていないか、またはサイドモード抑圧比(SMSR)などの他のパラメータであり、以前のさらに制限された一連の所望チャネルおよび制御の設定点が知られている場合、それぞれのチャネルの最終的な特性を決定するために使用される光スペクトル分析器(または、高速な並行チャネルの光スペクトル分析器)などの比較的低速な計器で最終的な掃引を行うことができる。
本開示による別の態様は、上記のいずれか、または上記の技法もしくは他の技法の組合せを用いて生成されたマップから所望チャネルに対する制御同調点の位置を精緻化するために、画像処理を使用して波長を追跡することである。例えば、利得セクションを、最適な光出力に要求される一定の電流レベルに設定した場合、出力光強度の検出器として働くように、SOAに逆バイアスをかけることができる。ミラー電流を変化させると、異なる出力強度を伴う様々な波長でピークをもたらす波長可変レーザを同調することができる。ミラー電流を変化させた状態の、SOAのうちの任意の1つに関するSOA光電流マップ(例えば、図3に示したもの)は、ミラーセクションおよび利得セクションに対応したモードホッピングを示している。ミラー電流に対するSOA光電流のグラフ(本明細書では「SOAマップ」と呼ぶ)上に、これらのホップは、「ブロック」を形成するように重なる。これらのブロックの中心が、波長可変レーザを同調するための理想的な操作点を形成する。
本開示による1つの態様では、様々な方法論またはアルゴリズムを、波長可変レーザを較正するために、独立で、またはこれらの組合せとして使用することができる。以下の説明において、様々な方法論は、本開示の態様に従って表現され、利得電圧マップアルゴリズム、利得電圧およびSOA光電流マップアルゴリズム、ミラー反射アルゴリズム、ならびにモードホッピングアルゴリズムを含み、これらのアルゴリズムのそれぞれは、単独または他のアルゴリズムとの組合せで実装することができる。
利得電圧およびSOA光電流マップアルゴリズム
上述の通り、例として、本開示の1つの態様において、SOA光電流マップ、または利得電圧マップとSOA光電流マップの組合せを、波長較正処理のために使用することができる。この例では、光増幅器の画像マップ(例えば、SOAマップ)から、画像処理およびコンピュータビジョンの機能を使用して波長を抽出することができる。光増幅器は、独立した計測器として、または利得電圧マップとの組合せで、ミラー電流を変化させて光電流の変化をモニタするために、波長可変レーザと同じチップ上またはチップの外部に、ただしアクセス可能な2つ以上のレーザミラーの外側に、配置することができる。
この例では、波長可変レーザの利得セクションは、最適な光出力に要求される一定の電流レベルに設定することができる。フォトニック集積回路(PIC)は、電気的な逆バイアスを印加することによって、SOAを光検出器として使用して、それぞれのレーザのファセットからの光出力強度をモニタできるように、レーザミラー出力部のそれぞれに接続された多数のSOAを搭載するように構成することができる。ミラー電流を変化させると、異なる出力強度を伴う様々な波長でピークをもたらすレーザの光出力波長を同調することができる。SOAのうちの任意の1つに関するSOA光電流マップは、変化するミラー電流および関連するレーザミラーに対する光出力に応じて取得することができる。
準連続波長可変レーザの特徴は、一連の多数の波長のピーク出力を通じて、時々、光出力が1つの波長から別の波長に飛び越える、モードホッピングを含むことがある。この例では、SOA同調マップは、ミラーセクションおよび利得セクションに応じて、モードホップを示すことがある。図3に示すように、ミラー電流に対するSOA光電流のグラフ(例えば、SOAマップ)上で、これらのモードホップは、ピークの輪郭で囲まれた「ブロック」または区画、および区画が対称なときに最低値が中心近くのどこかに位置する谷間を形成するように重なる。したがって、これらのブロックの中心(例えば、最低値を伴う谷間近く)は、結果として、波長可変レーザを同調するための操作に関する理想的な点を形成する。しかし、この区画は、往々にして、特にマップ全体に渡って、対称的ではなく、最低値の1つまたは複数の位置を決定することが、局所的な理想の操作をする最低値操作点について加速するという本開示の1つの態様である。
本開示による別の態様では、方法論またはアルゴリズムの例を使用して、SOA光電流マップの画像処理によってブロックの中心を決定することができる。この例では、アルゴリズムは、次の4つのステップ、すなわち、(i)SOA電流マップを取得する、(ii)取得したSOA光電流マップ上でエッジ検出を行う、(iii)ステップ(ii)で取得した画像上で輪郭検出を行う、および(iv)輪郭の中心検出を行う、を含むことができ、検出された輪郭の中心は、波長可変レーザを同調するための操作点に関するミラー電流に対してマッピングされる。このアルゴリズムに対するプロセスフローの例が、図4Aに示されている。また、図4B〜図4Dは、エッジ検出および輪郭検出によって決まったSOA光電流マップの例を示している。
図4Aに示すようなプロセスフローに戻って参照すると、401において、最初にSOA光電流マップを取得し抽出する。例として、プロセッサ、マイクロプロセッサ、もしくはFPGA、または同様のものなどの電子回路を使用して、SOA光電流マップを構築する。例えば、図4Bに示すように、第2の光増幅器(例えば、SOA2)に対して、ミラー電流(例えば、ミラー1の電流(M1)、およびミラー2の電流(M2))を変化させて、SOA2光電流マップを取得する。
403において、1つまたは複数のプロセッサ、FPGA、または同様のものなどの電子回路を介して画像処理を行うことによって、SOA2光電流マップの画像上でエッジを検出することができる。一般に、波長ホップは、SOA2光電流マップの画像上の、ブロックまたは輪郭の境界(またはエッジ)に変換され得る。適切な画像の閾値によって、様々な特性の検出技法、例えば、コンピュータビジョンの分野で使用される技法および/またはアルゴリズムを使用して、素早くかつ簡単に境界を検出することができる。使用できるエッジ検出技法の例には、キャニーエッジ検出法が含まれる。
さらに、エッジ検出の効率性は、一般に、ブロックの検出されたエッジの有効性によって決まり、この有効性は、画像の閾値に依存することがある。エッジ検出に使用される画像の閾値は、その後、出力光強度に基づいて較正することができる。画像閾値は、SOA2光電流マップのミラー電流の全掃引範囲に渡って一定ではないことがあることに留意されたい。
405において、ブロックのエッジを検出した後、SOA2光電流マップの検出されたエッジ上で、画像処理を介して、輪郭を検出することができる。また、検出された輪郭は、SOA2光電流マップの画像に戻して描かれる。この例では、図4Cに示すように、閉じた輪郭がモードホップにより形成されたブロックを表すので、閉じた輪郭だけが重要である。例として、1つまたは複数のプロセッサ、マイクロプロセッサ、もしくはFPGA、または同様のものなどの電子回路を使用して、SOA2光電流マップの画像上の輪郭を検出することができる。
407において、それぞれの有効な輪郭の中心は、画像処理を介して、画像モーメントに基づいて決定することができる。さらに、それぞれの有効な輪郭を処理し、有効な輪郭の中心を決定する。その後、図4Dに示すように、決定された有効な輪郭の中心を、サブピクセルに及ぶ精度でミラー電流に戻してマッピングすることができる。例として、1つまたは複数のプロセッサ、マイクロプロセッサ、もしくはFPGA、または同様のものなどの電子回路を使用して、SOA2光電流マップの画像上の検出された輪郭の中心を決定することができる。決定された中心に関連するミラー電流は、レーザ発振波長のピークに一致する。
ミラー反射アルゴリズム
あるいは、または加えて、波長較正処理のために、ミラー反射アルゴリズムを単独または他のアルゴリズムとの組合せで使用することができる。本開示の1つの態様では、例として、2つのサンプルグレーティング分布ブラッグ反射(SGDBR)型ミラーを備える2重の光波長可変レーザの発光波長を、本明細書で開示した1つまたは複数の技法によって、マッピングすることができる。1つまたは複数の技法は、波長可変レーザの両方の発光ファセットにアクセスする能力に依存することに留意されたい。さらに、波長可変レーザは、ミラーの後ろに半導体光増幅器(SOA)を有していることもあれば、有していないこともある。また、SOAは、PICの一部であるか、またはPICの外部に配置され、波長可変レーザに結合していることもある。
(多数のミラーに対応した)2つ以上のSOAを備える波長可変レーザの2つの構成例を図5Aおよび図5Bに示している。一般原則は、様々な同調状態で、波長可変レーザのミラー1およびミラー2の反射スペクトルを計測すること、ならびに波長可変レーザをレーザ発振するための所望波長に設定するために要求される設定値を計算することである。ミラー(例えば、ミラー1およびミラー2)およびレーザ位相セクションの屈折率同調は、電流注入または波長可変レーザの光導波路の熱による加熱を含む様々な技法で行うことができる。
この例では、必須ではないが、波長可変レーザのミラー反射スペクトルを取得する手順は、両方のミラーに対して同じである。以下の考察では、ミラー1に対してミラー反射スペクトルを計測する方法を説明する。例として、1つの実装形態では、SOA1に順バイアスをかけて増幅自然放出(ASE:amplified spontaneous emission)を発生させる。利得セクション(または図5Aでは2つ)には逆バイアスをかけることができ、または逆バイアスが利用できなければ、吸収するために0mAにバイアスをかけることができる。SOA2には逆バイアスをかけ、または逆バイアスが利用できなければ、吸収するために0mAにバイアスをかける。ミラー1の反射スペクトルは、SOA1に関連した出力点、例えば出力1を介して、記録することができる。図6Aは、波長同調プロセスのない状態でのミラー1の反射スペクトルを示している。この例では、反射スペクトルは、図6Bに示すように、ミラー1に対する多数のミラー電流において(例えば、0mA、5mA、15mA、および25mAにおいて)、異なる同調ステップで記録される。最大同調ステップは、同調していない1つスペクトルから、反射ピークが近くのピークと重なるほど、反射ピークが大きくシフトしたものであるはずである。したがって、図7は、35mAの同調電流におけるピークが、同調電流が印加されない(例えば0mA)のピークと重なる例を示している。したがって、35mAが最大同調ステップである可能性がある。
同様に、ミラー1に対するデータと同様のデータは、SOA2からのASEを使用し、SOA2に関連した出力点、例えば出力2で、ミラー反射スペクトルを計測することによって、ミラー2に対して取得することができる。この場合、SOA1には逆バイアスをかけることができ、逆バイアスが利用できなければ、吸収するために0mAにバイアスをかけることができる。
さらに、ミラー反射スペクトルを含む取得または収集されたデータに基づいて、あらゆる単一の反射ピークを抽出するか、または決定する。しかし、この例では、データ収集方法が、単一の反射ピークの存在を保証する必要があるか、または、データがさらに処理され、例えば1つの反射ピーク中の多数の最大値を避けるために平準化された反射ピークを生成する必要がある。例として、図8に示すように、未加工のデータには、1つのピーク801に2つの最大値が含まれることがある。このような場合、平準化または平均化操作を未加工データに対して行い、平準化曲線、例えば15ポイント(15pts)の平均化曲線807、または200ポイント(200pts)の平均化曲線805を生成する。
この例では、上述の通り、それぞれの計測されたミラー反射スペクトルから、様々な信号処理操作を使用して個々のピーク波長を抽出することができる。そうするために、様々な平均化法を含む任意のピーク検出アルゴリズムを使用することができる。ピーク検出および/またはピーク抽出を容易にするために、それぞれの計測されたミラー反射スペクトルから潜在ASEを差し引くことができる。また、潜在ASEスペクトルに対して、例えば200ポイント平均化法から生じる平準化曲線805のように、データ中にピークが見えなくなるように、それぞれの計測されたミラー反射スペクトルを平準化することができる。
図9は、潜在ASEスペクトルを決定し、ミラー反射スペクトルから差し引いた、ミラー反射スペクトルを示している。この例では、ミラー反射スペクトル901を、図8に示すように、15pts平均化曲線のスペクトルから200pts平均化曲線のスペクトルを差し引くことによって、取得する。以上のように、差し引かれたASEを伴うミラー反射スペクトルを、計測されたピーク波長でグラフ化すると、ピーク検出アルゴリズムを使用して、ピーク毎の波長の値を検出することができる。
完全な波長較正マップを得るための次のステップは、複数の同調電流の値もしくは複数の同調加熱器の強度の値に対する、または波長可変レーザのミラーを同調するために使用されるユニットに対するピーク波長をグラフ化することである。図10Aは、波長可変レーザのミラー1の複数の同調電流に対してグラフ化された複数の抽出後のピーク波長を示している。具体的には、例として、ミラー1の同調電流に対して抽出後のピーク波長をグラフ化した後、図10Aに示す全ての追跡に対して2次多項式フィッティングを適用する。多項式フィッティング後の線を図10Bに示す。同様に、波長可変レーザのミラー2に関する収集データに対して同じ分析を行う。
ここで、ミラー1およびミラー2に利用できる多項式フィッティングされたデータを用いると、波長可変レーザを設定するために望まれる任意の波長を、多項式フィッティングされたデータに基づいて、決定するか、または抽出することができる。図11は、ミラー1およびミラー2に関する、このような多項式フィッティングされたデータの例を示している。電流同調に対し、増加する電流に伴うピーク波長を削減することができる。所望波長を抽出するために、より高い波長で始まる、両方のミラーの多項式フィッティングされたデータセットを選択し、ミラーを所望波長に正確に設定するために、要求される電流を計算する必要がある。例として、1550nmの所望波長に対して、図11に示した多項式フィッティングされたデータを使用すると、第1のミラー電流、例えばミラー1は、12.7mA(例えば、M1=12.7mA)に設定され、第2のミラー電流、例えばミラー2は、4.0mA(例えば、M2=4.0mA)に設定される。
さらに、波長可変レーザのミラー1およびミラー2を、所望のレーザ発振波長(例えば、1550nm)に整合させた後、ファブリペロー(FP:Fabry−Perot)モードを、所望の発振波長に完璧に一致するように調節する必要がある。これを行うために、波長可変レーザの位相セクション(例えば、LasPhaseセクション)を同調する必要がある。LasPhaseセクションを同調しないと、FPモードを完璧に整合させることができない。図12は、完璧に整合させたミラーの反射ピークの例のシミュレーション結果を示しており、1542.05nmの所望発振波長を想定して、FPモードをシミュレートしている。LasPhaseセクションの3mAの同調電流に対して、1つのFPモードが、1201において、1542.05nmでミラーと完璧に整合していることが理解できる。
モードホッピングアルゴリズム
本開示の1つの態様では、あるいは、または加えて、モードホッピング(または、モードホップもしくはモード追跡)アルゴリズムを、同調波長較正プロセスのために、単独または他のアルゴリズムと組み合わせて使用することができる。例として、モードホップアルゴリズムまたはモード追跡アルゴリズムは、2つのSGDBR型ミラーを有する広範に波長可変レーザを特徴づけるためのアルゴリズムである。1つのこのようなレーザは、例示のケースとして本明細書で説明したU−レーザであるが、モードホップアルゴリズムは、他の波長可変レーザ、特に、出力部に伝達するために使用される2つ以上の出力ファセットを有する波長可変レーザに適用することができる。この較正方法を説明するために、U−レーザが機能する仕組みを理解することが有益である。次節は、波長可変U−レーザの広範な同調能力を可能にする概念の簡単な説明である。さらに、提案された較正機器の説明を後で行う。
広範に同調可能な波長可変U−レーザの能力は、2つのSGDBR型ミラーの電流の設定値に基づいている。波長可変U−レーザのキャビティモードの同調は、レーザ波長の微調整を可能にしている。SGDBR型ミラーは、それぞれ、見せかけの反射ピークを生成し、いつでもミラー間に共通のただ1つのピークしか存在しないように、一方のミラーのピーク間隔が他方のミラーのピーク間隔とわずかに異なる。一方のミラーの反射ピークの波長が他方のミラーの反射ピークの波長と一致すると、波長可変レーザはその波長でレーザ発振する。一方のミラーの電流、したがって見せかけのピークが他方と比較してシフトすると、レーザ発振波長は、1つの見せかけのピークから、その時両方のミラーで一致している隣のピークまでホップする。両方のミラーを一緒に同調すると、見せかけのピーク間の間隔をスムーズに同調することが可能である。したがって、この例では、ホッピングとスムーズな同調の組合せによって、広範囲の波長に対する完全な同調性を実現することが可能である。以下の説明において、本開示は、このホッピングとスムーズな同調とを合わせて言及する。
較正は、いくつかの異なるタイプの計測器で行うことができ、説明目的でここに例を示す。本開示の1つの態様では、FPGA、プロセッサ、コンピュータ、または同様のもの、によって制御された電流源/電圧源、ならびに、波長可変レーザの波長を計測し、この情報を電流源/電圧源を制御する同じコンピュータに返すことができる、光スペクトル分析器、波長計、または他の同様のツールを含むがこれらに限定されない、制御された他の計測器を使用する。
図13Aは、モードホップ処理で使用される流れ図の例を示している。本開示の1つの態様では、2つのミラーを有する波長可変レーザに対するモードホップ処理は、次のステップまたは部分を含むことができる。
ステップ1:ホップ線の開始点の発見1301、
ステップ2:ホップ線の追跡1303、
ステップ3:収集されたホップ線のデータの分析、およびチャネルのミラー電流の取得1305、
ステップ4:レーザキャビティの位相セクション(LasPhase)の最適化、および
ステップ5:LasPhaseが波長オフセットの原因となるチャネルに対するミラー電流の確定1309。
つまり、まず、第1ステップ1301で、波長ホップの開始点を発見する。次に、第2ステップ1303で、両方のミラーの徐々に大きくなるミラー電流の1次元の線に沿って、これらの波長ホップを追跡する。第3ステップ1305として、所望の特定のレーザ発振波長のための操作設定を決定するために、第2ステップ1303から収集したデータの分析を行う。次に、第4ステップ1307で、レーザ発振波長の微調整として働く、波長可変レーザのキャビティモード位置の最適化を行う。第5ステップ1309として、いくつかのチャネルに対するミラー電流の再最適化も行う。これらのステップを実行する際、1つまたは複数のプロセッサ、マイクロコントローラ、フィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)、特定用途向け集積回路(ASIC)、または論理機能を実行するように構成することができる他の電子機器を含み、ソフトウェア構成要素とハードウェア構成要素の任意の組合せを含む電子回路を使用できることを留意されたい。
図13Bは、モードホップ処理の最初の4ステップを行うための疑似コードの例および流れ図を示している。例として、上述の通り、第1ステップは、ミラー電流の波長ホップが生成される場所を発見することである。これは、ミラーの電流に対して繰り返しわずかな修正を行い、結果として生じる波長およびミラー電流を計測し、記録することによって実現することができる。ここで、ミラー電流の初期値は、選択すべき本質的なパラメータであり、ミラー電流の1つの初期値は、両方のミラーに対して零電流を含むことができるということに留意されたい。本開示では、ミラー電流は、M1(ミラー1のミラー電流)およびM2(ミラー2のミラー電流)と、入れ替えて呼ぶことができる。さらに、上述のように、M1およびM2は最初に0mAに設定することができる。
本開示の1つの態様では、1つの手法は、全てのステップにおいて、結果として生じる波長を計測しながら、ある電流量、例えばデルタdIずつM1を繰り返し増加させることである。それぞれのステップの後、波長は、概ね比較的小さな量でしか変化しない。波長がミラーの見かけのピーク間隔の間隔と同様の量だけ変化する場合、モードホップの位置が識別されたことがわかる。この処理は、図14に詳細に示すことができる。この結果として生じるM1およびM2の電流設定値は、モードホップ処理の第2ステップの初期値として使用される。
あるいは、モードホップ処理は、この開始点に対して第2ステップに進むことができる。他のモードホップの開始点を発見するために継続することも可能である。モードホップに関するこの発見を継続するために、M1の値は、次のモードホップが観測されるまで1つの方向1401に沿って増加させることができ、その後、記録することができる。M1の値を増加させ、確認されたホップを記録する処理は、所定数のホップが決定され、ミラーのいずれかに対して最大電流限界に到達するまで継続される。次に、モードホップ処理は、M1=0mAおよびM2=0mAに戻って反復し、同じ処理を開始することができるが、今回は、M1=0mAのままであるのに対し、新しい方向1403に沿ってM2をdIずつ徐々に増加させ、確認されたホップを記録する。結果として、この処理によって、全てのミラーのホップの開始点が概ね発見される。
あるいは、M1=alpha−M2であり、alphaがミラーの電流限界に関する定数である線に沿って行うことなど、同様のことをするための他の方法がある。図14は、M1およびM2に対する走査の方向、ならびに発見された複数のホップ線の開始点を概念的に示している。図14に示すように、矢印は、走査の方向1401または1403を表し、円は発見されたホップ線の開始点を表す。
本開示の1つの態様では、モードホップ処理の第2ステップの例は、両方のミラーの徐々に大きく(または小さく)なるミラー電流の1次元の線に沿った、ホップの開始位置の追跡であり、この例が図15に概念的に示されている。この線1501を追跡しながら、ミラー電流およびレーザ発振ピークの波長を記録することができる。モードホップ線を追跡する方法によっては、第1のピークの強度、ならびに第2のピークの強度および波長も記録することができる。この例では、このホップ線は、M1、M2および波長が個別のホップ線に対して共依存関係にあるので、1次元である。仮にミラーの電流の変化による波長の変化が線形であるなら、M1およびM2は、同じ量で増加することができ、依然としてこのホップ線上に存在することができる。しかし、これは通常、事実とは異なるので、注意深くM1およびM2を調節し、線上に留まるようにすることが重要である。1つの実装形態では、これを行うための1つの方法は、ホップが観測されるまでM1だけを増加させ、その後、戻って他の方向にホップが識別されるまで、M2だけを増加させることである。この処理は、所定波長または電流限界に到達するまで、1つのホップに至るまでM1を増加させることと、その後、別のホップに至るまでM2を増加させることとの間で継続することができる。
あるいは、ホップ線を追跡する作業は、ホップ中に起こることがある2つのレーザ発振ピークの強度の比を調べることによって行うことができる。2つの強度レベルの比は、ホップ線に留めるために、増加するM2の量に対して増加するM1の量に関する指針になることがある。どのような方法を使用してホップ線を追跡するにしても、ホップ線の追跡は、モードホップ処理の第1ステップで決定された開始位置のそれぞれに対して行うことができる。
本開示による別の態様では、モードホップ処理の第3ステップの例は、較正中の波長可変レーザに関するモードホップ線に沿ったM1およびM2の値を表すデータを用いて、所望の特定のレーザ発振波長に対する操作設定を決定するために、第2の部分から生じるデータの分析を行うことである。図16は、それぞれのチャネル1605に対して要求されるミラー電流の概念マップを示している。この例では、モードホップ線1603は理想的な操作条件ではないので、モードホップ線1603から離れていることが重要である。比較的良い操作条件は、モードホップ線1603の中間に、直接発見することができる。例えば、モードホップ線1603は、レーザ操作に対する理想的な条件1601もまた、モードホップ線1603の間を直接走る線を形成するように、互いに同様の方向に走る。本開示では、理想的な操作に関するこれらの線を、理想線と呼ぶ。(まさにモードホップ線のような)理想線は、それぞれ、M1、M2、および波長に関する1次元の共依存の関数を成す。この例では、理想線を描く1次元の共依存の関数は、理想線1601の両側にあるモードホップ線1603の関数のパラメータを平均することによって決定することができる。モードホップ線1603の関数のパラメータは、モードホップ処理の第2ステップから生じるデータの適合度から導出される。一旦理想線の全てに対する関数のパラメータを発見すれば、関数を使用して、波長可変レーザの同調範囲に求められる任意の波長に波長可変レーザを設定するために要求されるミラー電流を決定することができる。
さらに、関数のパラメータは、後で使用するために参照テーブルに格納することができる。あるいは、それぞれの所望波長の最後の電流は、FPGAの中など、ハードウェアゲートの中に組み込まれた参照テーブルに格納することができる。較正ルーチンをFPGAのハードウェア上で実行する1つの実装形態では、方法論またはアルゴリズム、データの収集および保管は、同じハードウェアをベースとした論理回路で全て行うことができる。さらに、処理および保管は、既存技術に対して著しい利点を有する、極めて高速な、ゲートレベルをベースとした並行処理によって行うことができる。
本開示の1つの態様では、図17に示すように、それぞれのモードホップ線1701の両側からデータを取得することも可能である。この例では、M1およびM2の値は、それぞれの側である程度似ているが、それぞれの側の波長は、スーパーモードの間隔によって隔てられている。本開示では、線1701の両側を、「左側」および「右側」と呼び、ここで、用語「左」および「右」は、図17に示すように、低いミラー電流から高いミラー電流へ線1701に沿って移動することに基づいて設定する。左端の線上のゼロで始まり、右端の線まで増加するモードホップ線は、ラベル付けされている(図17の線上の番号を参照)。
本開示の1つの態様では、理想線(例えば、図16の1601)の計算を説明するために、モードホップ線3とモードホップ線4との間の理想線を計算するための処理を理解した方が良い。モードホップ線3の右側は、モードホップ線4の左側と同様の波長を有する。この場合、M1に対する波長、および同様にM2に対する波長に関して、モードホップ線3の右側に対して2次方程式を使用する例としてカーブフィッティングを行う。次に、このカーブフィッティングは、モードホップ線4の左側に対して繰り返され、全部で4つの方程式になる。方程式のそれぞれは、2次方程式として以下に示すように表すことができる。
Y=AX+BX+C
4つの方程式は、上記A、B、およびCパラメータの代わりに4文字の用語を使用して書くことができる。第1の文字は、A、B、またはCである。第2の文字は、モードホップ線の番号である。第3の文字は、モードホップ線の右側、またはモードホップ線の左側を意味する、RまたはLである。第4の文字は、M1またはM2のいずれかのカーブフィッティングに関する1または2である。
したがって、4つの方程式は、以下のように書くことができる。
Λ(モードホップ線3の右側)=(A3R1)(M1)+(B3R1)(M1)+(C3R1)
Λ(モードホップ線3の右側)=(A3R2)(M2)+(B3R2)(M2)+(C3R2)
Λ(モードホップ線4の左側)=(A4L1)(M1)+(B4L1)(M1)+(C4L1)
Λ(モードホップ線4の左側)=(A4L2)(M2)+(B4L2)(M2)+(C4L2)
次に、上記パラメータの平均を使用する理想線に関する2次方程式は、以下のように決定することができる。
Λ(3−4理想線)=(A1)(M1)+(B1)(M1)+(C1)
Λ(3−4理想線)=(A2)(M2)+(B2)(M2)+(C2)
ただし、A1=(A3R1+A4L1)/2、B1=(B3R1+B4L1)/2、C1=(C3R1+C4L1)/2、A2=(A3R2+A4L2)/2、B2=(B3R2+B4L2)/2、およびC2=(C3R2+C4L2)/2である。
最後に、2次方程式の解の公式を利用して、2つの理想線の方程式に対する波長の関数として、M1およびM2を取得することができ、この情報を使用して、適度なM1およびM2の電流(例えば、0より大きく、最大ミラー電流よりも小さい電流)を有するこの線上に、任意の国際電気通信連合(ITU:International Telecommunication Union)の波長が存在するかどうかを決定することができる。
本開示の1つの態様では、モードホップ処理の第4の部分は、波長の微調整として働く、波長可変レーザのキャビティモード位置の最適化を図ることである。U−レーザおよび同種のレーザを含む波長可変レーザは、同時に1つのキャビティモードだけしかレーザ発振できないように設計されている。したがって、この単一のレーザ発振するキャビティモードの位置は、波長可変レーザの所望のレーザ出力波長と整合している必要がある。
1つの実装形態では、キャビティモードの整合は、波長をモニタしながら、レーザ位相(例えば、LasPha)セクションの電流を掃引することによって行われる。図19は、レーザ位相セクションの電流を掃引するこのステップから生じる典型的なデータを示している。図19に示すように、3.2mAにおけるものなどの不連続性は、1つのキャビティモードが、個々のミラー反射率のピークを離れ、次のキャビティモードが反射率のピークに来たときに認められる。図19に示した例によれば、波長可変レーザが1578.9nmでレーザ発振することが望まれる場合、LasPhaセクションの電流は、約1.3mAに設定することができる。この調節は、フィードバックループ内にある波長ロッカによって自動的に行うことができ、フィードバックループ内で、波長ロッカは、光学的に較正された所望のレーザ波長を維持するように、LasPhaセクションの電流を調節する。また、キャビティモードの整合は、全ての波長に対して行うことができ、パラメータは、本開示において本明細書で説明するように、操作上の使用のために参照テーブルに格納することができる。
図19に示した最大波長と最小波長の間の範囲には、マッピングされたチャネルを含めないことがあることにも留意されたい。これは、ホップ線データの分析において発見されたミラー電流が正確でない場合に起こることがある。したがって、本開示の1つの態様では、ミラー電流に対して補正を行うことができる。すなわち、ミラー電流に対して、小さなオフセットに対する補正を行うことができる。例として、所望出力波長が1579.1nmであると仮定する。この場合、上記(例えば、ステップ3)で計算されたフィッティングパラメータを使用して、ミラー電流をシフトすることができる。まず、ミラー電流がどれだけ遠くに離れているかを推定する。次に、図19の最大波長と最小波長の平均を決定して、以下のようにミラーのピークの位置の推定値を得る。
最大=1579.024nm
最小=1578.789nm
最大と最小の平均=(1579.024nm+1578.789nm)/2=1578.907nm
ラムダオフセット=1579.1nm−1578.907nm=0.193nm
次に、以下のようにフィッティングの導関数を使用してミラー電流の変化について解くと、波長の変化に対するミラー電流の変化を求めることができる。
Y=AX+BX+C
dY=(2AX+B)dX
dX=dY/(2AX+B)
ミラーのオフセット=(ラムダオフセット)/(2(ミラー電流))+B)
これだけが、小さなオフセットに対して有効であることを留意されたい。)
結果として、最新のミラー電流は、以下のように決定することができる。
新しいミラー電流=古いミラー電流+ミラーオフセット
ミラー1およびミラー2の両方に対して同じ方程式を使用することができるが、ここで、ミラー1に対してミラー1のフィッティングパラメータを、およびミラー2に対してミラー2のフィッティングパラメータを使用してみよう。ミラー電流に関するこれらの最新情報を使用すると、ステップ4は、同調マップの最小値に到達するため、および所望出力波長のチャネルに到達するために、再最適化を必要とするチャネルに対して繰り返される。ステップ5が完了すると、1つまたは複数のプロセッサ、マイクロコントローラ、FPGA、ASIC、または同様のものを介して、波長可変レーザを任意のチャネルに同調でき、ミラー電流およびLasPha電流を参照テーブルに格納することができる。図20は、本明細書で説明する本技術を使用して約数分で取得された、波長可変U−レーザに対する、較正後の100個のチャネル同調の例を示している。
しばしば、波長可変レーザの波長較正における主要な課題は、生産量の中で波長可変レーザを生産するために、実現可能なレベルに較正時間を削減することにある。例えば、1か月に10,000ユニットを生産することになると仮定し、生産ラインが1日に24時間稼働し、完璧な効率性で連続的にユニットを較正すると、ユニットあたりに使用できる較正時間は、10,000ユニットで除算された30*24(=720時間/月)になる(=0.072時間/ユニット=4.32分/ユニット)。生産ユニットを並行処理することによって、較正時間に関するこの問題は削減されるが、製造ユニットを並行処理するために要求される追加の試験機器および人員によって費用も増加する。したがって、工場レベルにおける波長可変レーザの較正時間のあらゆる削減が、最高に重要になることがある。その上、SDNを通じて現場に既に導入された古くなったユニットの、現場での較正または再較正、およびサービス中の較正または再較正でさえも、あらゆる稼働停止時間および交換に関係する費用を大いに削減することを意味する。
これらの目標(例えば、較正時間の削減)を達成するには、波長可変レーザの較正を行うインテリジェンスを波長可変レーザのより近くに搭載すること、および較正を行うために要求される電子機器の費用/サイズ/電力を削減することを要求されることがある。例として、本開示で説明したように、FPGA中心の設計を使用して、波長可変レーザの較正時間に著しい量の削減をもたらす本技術の様々な態様を実装することができる。すなわち、FPGAおよび本開示による関連電子機器を使用すると、工場における初期較正の費用が大いに削減され、および/または納品された製品の一部として実装することができ、SDNを通じて現場での較正を可能にする。
本明細書で説明するような方法論およびハードウェアアーキテクチャによって、10分以下にまで較正時間を削減することができる。しかし、桁違いに短くなった時間によって、関連機器にかかる費用をさらに削減することが望まれる可能性がある。しばしば、このような較正時間の削減に対する制限因子は、標準的なインターフェースで市販の試験機器と通信する標準的なホスト(例えば、1つまたは複数のプロセッサを含むコンピュータ)で、1つまたは複数の較正アルゴリズムを行うことに伴う処理のオーバーヘッドおよびデータ転送のボトルネックである。したがって、費用の制約は、しばしば、レーザ電極制御のチャネルあたり数千ドルの費用がかかる可能性がある試験機器になることがある。本明細書で説明する本技術によって、納品された製品(例えば、波長可変レーザ)に新しく効率的な較正方法論を使用することを可能にしながら、これらの制限の両方を回避することができる。
本明細書で説明する波長較正を行う方法を含む本技術は、ハードウェア、ソフトウェア、またはこれらの任意の組合せの中に実装することができる。しかし、本開示の1つの態様では、本技術は、ハードウェアアクセラレーションとして実装することができる。この例では、較正方法論のインテリジェンスを、最適化された専用の方法で本技術を実践するように設計することができるFPGA内に搭載することができ、標準的なホストのプロセッサの負荷を軽減し、結果として生じるデータセットの取得および報告のタスクのみにする。図21は、FPGA中心の波長較正に関する構成要素を概念的に示したブロック図を示している。図21に示したシステム2100は、ホストコントローラ2101、FPGA2103、レーザ制御電子機器2105、レーザ2109、およびストレージ2111を含む。ホストコントローラ2101は、制御および管理を含む様々な目的に対してFPGA2103と通信するように構成することができ、波長可変レーザ2109の較正に関するデータを受け取るように構成することもできる。この例では、また、FPGA2103は、FPGA2103とインターフェース接続され、波長可変レーザ2109に接続されたデジタル/アナログ変換器(DAC:digital−to−analog converter)2117を通じて、レーザ制御電子機器2105を駆動する。また、FPGA2103は、本明細書で説明する本方法論の様々な態様を実装するために、較正の構成要素2113、および/または温度の構成要素2115を含む、様々な構成要素を含むことができる。さらに、FPGA2103は、本技術を実装するためのパラメータを含む様々なパラメータを格納するために、内部ストレージ(図示せず)、および/またはFPGA2103に連結されたメモリ2111などの外部ストレージを含むことができる。本開示の1つの態様では、メモリ2111は、本明細書で説明する本技術の様々な態様を実装することに関連するデータに関する1つまたは複数の参照テーブルを含むことができる。
本開示の1つの態様では、初期開発費用が発生する可能性はあるものの、システム2100は、製品の耐用年数の終わりまで、既存の市販の機器(例えば、汎用(COTS:commercial−off−the−shelf)機器)よりも大幅に安価であり、大幅に高速化を実現する。
さらに、本開示の1つの実装形態では、例えば波長較正に関するFPGA中心の方法を以下のように行うことができる。ホストコントローラ2101は、組込みソフトのプロセッサ内の高水準プログラミング言語(例えばCコード等)、またはさらなる効率化および高速化のために、ハードウェア記述言語(例えばHDLコード等)のような、1つまたは複数の較正アルゴリズムに対するコードをFPGA2103に移植することができる。ホストコントローラ2101は、標準的なインターフェース、すなわちユニバーサルシリアルバス(USB:universal serial bus)接続を通じて接続することができ、較正の進行を制御し、結果として生じる較正パラメータを転送して格納することのみを、担当することができる。FPGA2103は、較正アルゴリズムを含む様々な方法論を実行しながら、波長可変レーザ2109のレーザミラーを含む様々な構成要素に電流を送るように構成されたDAC2117と直接通信することができ、本技術によって要求される、波長可変レーザ2109からのデータを収集するために電極の電圧検出器および/または強度検出器をモニタするように構成されたADC2107と通信する。あるいは、または加えて、FPGA2103は、波長可変レーザ2109のサーミスタをモニタし、電流制御入力を波長可変レーザ2109のTECコントローラに送ることによって、レーザ温度の過渡電流を制御することができる。FPGA2103は、この処理において大規模に並行にできるので、本明細書で説明する較正方法論により、この機能の同時操作によるオーバーヘッドが発生する可能性はない。
さらに、FPGA2103は、メモリ2111(例えば、SDRAM)などの1つまたは複数の記憶装置に、レーザ2109から収集したデータをバッファリングするか、または格納することができ、本技術の様々な態様を実行でき、未加工のデータセットよりもサイズがとても小さい一連の較正パラメータを生成することができる。本開示の1つの態様では、ホストコントローラ2101が転送し格納することが必要になる可能性があるのは、この削減後の一連のパラメータ(および/またはデータ)だけになり、これによってレーザ2109を較正する際の効率性が大きく増大する。この例において、ホストコントローラ2101は、削減後のデータセットを管理すること、較正処理を開始および停止すること、人間の試験操作者に較正の状態/結果を通知すること、ならびに操作者に較正パラメータを設定させることだけを必要とすることができる。
本技術のFPGAをベースとした実装は、ハードウェアアーキテクチャおよび方法論またはアルゴリズム自体に対して最適化できるので、ごくわずかなオーバーヘッドがFPGA2103における方法論の処理において発生する可能性はあるが、連結されたADC2107、DAC2117、およびメモリ2111の間のデータ転送のやりとりは、非常に効率的になる可能性がある。結果として、較正システム(例えばシステム2100)は、電極の電流変化の際の熱過渡に起因する波長の修正時間を含む、レーザ自体(例えば、レーザ2109)の性能によるものを除き、その性能において、較正システム自体のオーバーヘッドおよび転送速度による制限を今はもう受けない。
例として、本明細書で説明するようなアーキテクチャの例は、100KHzの割合で、単一の電極の電流をセットするか、または単一の電極の電圧を読み取ることができる。利得電圧マップに対する単一のデータ点を収集するために、2つのレーザ電極の電流を変化させる必要があり、1つの電極の電圧を計測する必要があると仮定すると、データ点は、約30KHz、すなわちデータ点あたり約33μsで収集することができる。レーザ修正時間が十分に速いと仮定すると、利得電圧マップ全体を1秒の1/3で収集することができ、既存のCOTS機器よりも桁違いに高速になる可能性がある。その上、本明細書で説明するアーキテクチャの例を、納品済み製品(例えば、波長可変レーザ)内のレーザ/変調器に対するコントローラとして用いる場合、利得電圧マップは、使用中に最小限の稼働停止時間で収集および処理することができ、現場で納品済み製品をモニタするため、および/または再較正するために、SDNを介して、人間または自律演算器に転送することができる。
上記に記載した本発明の説明によって、当業者が、現在、最良の形態であると考えられているものを製造し使用することができるようになるが、当業者は、本明細書の具体的な実施形態、方法および例に関する変形形態、組合せおよび均等物の存在を理解し認識するであろう。したがって、本発明は、本発明の精神および範囲内の全ての実施形態および方法によるものを除き、上述した実施形態、方法および例によって限定されるべきではない。
本開示の様々な態様は、1つまたは複数の処理システムによって実装することもできる。例えば、ホストコントローラ2101、FPGA2103、またはレーザ2109は、図22に示すように、1つのバスおよび任意の数の相互接続バスおよびブリッジを含むことができるバスアーキテクチャで実装することができる。バスは、1つまたは複数の処理システム(またはプロセッサ)、1つまたは複数のメモリ、1つまたは複数の通信インターフェース、および入出力デバイスを含む、様々な回路を互いにリンクする。1つまたは複数の処理システムは、非一時的コンピュータ可読媒体上に格納されたソフトウェアの実行を含む、バスおよび全体処理を管理することを担当する。上述したように、1つまたは複数の処理システムは、命令を解釈し実行する1つまたは複数のプロセッサ、マイクロプロセッサを含むことができる。他の実装形態では、1つまたは複数の処理システムは、1つまたは複数の特定用途向け集積回路、フィールドプログラマブル論理アレイ、または同様のものとして実装するか、または含むことができる。ソフトウェアは、1つまたは複数の処理システムによって実行されるとき、1つまたは複数の処理システムに、任意の個別の装置に対する本明細書で説明する様々な機能を実行させる。非一時的コンピュータ可読媒体を使用して、ソフトウェアを実行するときに1つまたは複数の処理システムによって操作されるデータを格納することもできる。1つまたは複数のメモリは、ランダムアクセスメモリもしくはリードオンリメモリ、ならびに/または他の種類の磁気記録媒体もしくは光記録媒体、ならびに情報および/もしくは命令を格納するための対応デバイスを含む、様々な種類のメモリを含むことができる。1つまたは複数の通信インターフェースは、光送受信機(例えばTOSAおよび/またはROSA)を含む、他のデバイスおよび/またはシステムとの通信を可能にする機構のような任意の送受信機も含むことができる。1つまたは複数の入出力デバイスは、外部デバイスまたは外部機器に対して、情報を入力すること、および/または情報を出力することを可能にするデバイスを含むことができる。
具体的な特徴の組合せは、本明細書に開示し、および/または請求項に記載するが、これらの組合せは、本技術の開示を限定するものではない。さらに、本明細書で開示した本技術に関する方法または方法論は、ソフトウェア、ハードウェア、ソフトウェアとハードウェアの任意の組合せ、コントローラ、プロセッサ、コンピュータ、または1つもしくは複数のプロセッサを含む処理システムで実行するためにコンピュータ可読媒体に搭載されたコンピュータプログラムまたはファームウェアの中に実装することができる。プロセッサの例には、マイクロコントローラ、マイクロプロセッサ、デジタル信号プロセッサ(DSP)、ディスクリートハードウェア回路、ゲート論理回路、ステートマシン、プログラマブル論理デバイス(PLD)、フィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)、特定用途向け集積回路(ASIC)、および本明細書で説明する様々な機能を実行するように構成された他の適切なハードウェアが含まれる。
本明細書で使用される用語「ソフトウェア」は、任意の命令、命令セット、プログラム、サブプログラム、コード、プログラムコード、ソフトウェアモジュール、アプリケーション、ソフトウェアパッケージ、ルーチン、オブジェクト、実行ファイル、実行スレッド、プロシージャ、関数などを意味するように広く解釈されるべきであり、ファームウェア、マイクロコード、ミドルウェア、ソフトウェア、ハードウェア記述言語、または同様のものを含む。また、ソフトウェアは、命令、コード、プログラム、サブプログラム、ソフトウェアモジュール、アプリケーション、ソフトウェアパッケージ、ルーチン、サブルーチン、実行ファイル、プロシージャ、関数などを含む、様々な種類の機械語命令を含むことができる。さらに、ソフトウェアは、汎用ソフトウェア、ファームウェア、ミドルウェア、マイクロコード、ハードウェア記述言語、またはその他についても言及することができる。上述のように、ソフトウェアは、コンピュータ可読媒体に格納することができる。
コンピュータ可読媒体の例は、例として、光ディスク、磁気記憶装置、デジタル多用途ディスク、フラッシュメモリ、ランダムアクセスメモリ(RAM)、スタティックランダムアクセスメモリ(SRAM)、シンクロナスダイナミックランダムアクセスメモリ(SDRAM)、リードオンリメモリ(ROM)、レジスタ、プログラマブルROM(PROM)、消去可能PROM(EPROM)、電気的消去可能PROM(EEPROM)、リムーバブルディスク、フラッシュメモリデバイス、およびプロセッサまたは処理システムによってアクセスし、読み込むことができるソフトウェアを格納するための任意の他の適切な媒体などの、非一時的コンピュータ可読媒体を含むことができる。当業者が、設計の制約の中で個別のアプリケーションに依存する既存のネットワーク部品に、新しいシステム機能性を追加することに関する説明された機能性を実装する最適な方法を認識するであろうことも理解される。
本明細書で使用される用語「ユニット」または「構成要素」は、ソフトウェア、ハードウェア、またはこれらの任意の組合せを意味する。構成要素は、ソフトウェア構成要素、ハードウェア構成要素、またはこれらの任意の組合せとして実装することができ、フィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)、デジタル論理回路、デジタル論理回路アレイ、特定用途向け集積回路(ASIC)、デジタル信号プロセッサ(DSP)、マイクロコントローラ、マイクロプロセッサ等、またはこれらの任意の組合せを含む。したがって、構成要素は、ソフトウェア構成要素、タスク構成要素、プロセス、プロシージャ、関数、プログラムコード、ファームウェア、マイクロコード、回路、データ構造、テーブル、配列、および変数を含むことができる。
簡単にするために一連のステップまたは行為として本明細書で方法論を説明したが、いくつかのステップまたは行為が、本明細書で示し説明した順番とは異なる順番で、および/または本明細書で示し説明した他の行為と同時に発生する可能性があるので、特許請求された主題は、ステップまたは行為の順番によって限定されないことを理解されたい。さらに、全ての図示したステップまたは行為が、本明細書で開示した本技術による様々な方法論を実装するために要求されるわけではない。その上、本明細書および本明細書全体に渡って開示した方法論は、このような方法論を、1つまたは複数の処理システムに移送することおよび移植することを容易にするために製造品に格納することができる。本明細書で使用されるような用語「製造品」は、コンピュータ可読デバイス、キャリア、または媒体からアクセス可能なコンピュータプログラムを包含するものである。
本明細書で使用される用語「第1の」「第2の」などは、様々な構成要素を説明するために使用することができるが、構成要素は上記の用語によって限定されない。上記の用語は、一方の構成要素を他方の構成要素と区別するためだけに使用される。例えば、本開示の範囲から逸脱することなく、第2の構成要素は、第1の構成要素と呼ぶことができ、同様の方法で、第1の構成要素は、第2の構成要素と呼ぶことができる。また、本明細書で使用される用語「および/または」は、複数の関連要素の組合せまたは複数の関連要素のうちのいずれかの項目を含む。
さらに、1つの部品が別の部品に「連結する」または「接続する」ことを記述するとき、部品は、他の部品に直接連結できるか、もしくは直接接続でき、または部品は、第3の部品を通じて他の部品に連結できるか、もしくは接続できるということに留意されたい。文脈の中にあきらかに反対の意味が存在しない場合、単数形は複数形を含むことができる。本開示では、本明細書で使用される用語「含む」または「有する」は、本明細書で説明する特徴、操作、構成要素、ステップ、数、部分、またはこれらの任意の組合せが存在することを意味する。しかし、用語「含む」または「有する」は、1つまたは複数の他の特徴、操作、構成要素、ステップ、数、部分、または組合せの存在または追加の可能性を除外しない。また、本明細書で使用されるように、冠詞「a」は、1つまたは複数の項目を含むものとする。さらに、本開示で使用される部品、行為、ステップ、または指示は、本開示においてそのようなものとして明確に説明しない限り、本開示にとって重要または不可欠なものとして解釈するべきではない。
本技術は、実施形態の例を説明するために、本明細書で説明する具体例で示してきたが、多種多様の代替および/または均等な実装形態は、本開示の範囲から逸脱することなく、示され、説明された具体例の代わりに使用することができるということが当業者によって理解される。したがって、本開示は、本開示の精神および技術的範囲から逸脱することなく、本明細書で示し、説明した、例および/または実施形態のあらゆる変更形態または変形形態を網羅するものとする。

Claims (26)

  1. 光通信用の波長可変レーザを較正する方法であって、前記波長可変レーザが光出力部において複数のミラーの多数のファセットにアクセスするように構成され、それぞれのミラーが、異なるサンプルグレーティング周期を有し、前記方法は、
    電子回路を介して、前記波長可変レーザの利得セクションの利得電圧マップ、半導体光増幅器(SOA)光電流マップ、前記複数のミラーのミラー反射スペクトル、および前記波長可変レーザのモードホッピングのうちの少なくとも1つに基づいて、前記複数のミラーを前記波長可変レーザの所望波長に同調するために必要とされるミラー電流を決定すること
    を含む方法。
  2. 前記電子回路を介して、ミラー電流の全範囲に渡って、前記波長可変レーザの前記利得セクションの電圧値をモニタすることと、
    前記電子回路を介して、電圧降下または最低値のポイントを決定することであって、電圧降下または最低値の前記ポイントが、前記波長可変レーザが1組のミラー電流において最大強度を出力していることを表している、決定することと
    をさらに含む、請求項1に記載の方法。
  3. 前記電子回路を介して、光検出器として動作するように構成された複数のSOAを介して前記複数のミラーのそれぞれのファセットからの出力強度をモニタすることと、
    前記電子回路を介して、変化するミラー電流および前記波長可変レーザからの光出力に基づいて、SOAの前記SOA光電流マップを決定することであって、前記SOAが前記複数のSOAのうちの1つである、決定することと、
    前記電子回路による前記SOA光電流マップの画像処理を介して、前記決定されたSOA光電流マップの輪郭の中心位置を決定することと
    をさらに含む、請求項1に記載の方法。
  4. 前記電子回路を介して、前記複数のSOAのうちの1つに順バイアスをかけることと、
    前記電子回路を介して、前記複数のSOAのうちの残りの他のSOAに逆バイアスをかけることと
    をさらに含む、請求項3に記載の方法。
  5. 前記電子回路を介して、ミラー電流の全範囲に渡って、前記複数のミラーの反射スペクトルを取得することと、
    前記電子回路を介して、前記複数のミラーの前記反射スペクトルの分析に基づいて、前記波長可変レーザの前記所望波長に前記複数のミラーを同調するために必要とされるミラー電流を決定することと
    をさらに含む、請求項1に記載の方法。
  6. 前記電子回路を介して、波長ホップの1つまたは複数の開始点を決定することと、
    前記電子回路を介して、前記複数のミラーのミラー電流の1次元の線に沿って前記波長ホップを追跡することと、
    前記電子回路を介して、前記所望波長に対するミラー電流の操作設定を決定することと、
    前記電子回路を介して、前記波長可変レーザの微調整として働く、前記波長可変レーザのキャビティモードの位置の最適化を図ることと
    をさらに含む、請求項1に記載の方法。
  7. 前記複数のSOAが、前記波長可変レーザのフォトニック集積回路(PIC)の内部に配置される、請求項3に記載の方法。
  8. 前記複数のSOAが、前記波長可変レーザのフォトニック集積回路(PIC)の外部に配置される、請求項3に記載の方法。
  9. 前記複数のミラーが、それぞれ、サンプルグレーティング分布ブラッグ反射型ミラーを含む、請求項1に記載の方法。
  10. 前記所望波長に対する前記ミラー電流の値を、メモリ内に参照テーブルとして格納することをさらに含む、請求項1に記載の方法。
  11. 前記電子回路を介して、前記ミラー電流の全範囲に渡って、前記利得電圧マップを生成することと、
    前記電子回路の画像処理を介して、前記利得電圧マップの最低値を識別することと
    をさらに含む、請求項2に記載の方法。
  12. 前記電子回路を介して、前記複数のSOAのうちの1つに順バイアスをかけることと、
    前記電子回路を介して、前記複数のSOAのうちの残りのSOAに逆バイアスをかけることと、
    前記電子回路を介して、前記複数のSOAの光出力に関するデータを収集することと、
    前記電子回路を介して、前記収集されたデータに基づいて、前記ミラー電流の全範囲に渡って、光スペクトルを決定することと
    をさらに含む、請求項11に記載の方法。
  13. 前記電子回路を介して、前記複数のミラーからのミラー反射スペクトルを計測することと、
    前記電子回路を介して、前記計測されたミラー反射スペクトルに基づいてピーク波長を決定することと
    をさらに含む、請求項5に記載の方法。
  14. 前記計測されたミラー反射スペクトルに基づいてピーク波長を決定することが、
    前記電子回路を介して、潜在増幅自然放出(ASE)を決定することと、
    前記電子回路を介して、前記計測されたミラー反射スペクトルに対して平均化操作を適用することと、
    前記電子回路を介して、前記平均化されたミラー反射スペクトルから前記潜在増幅自然放出を差し引くことと
    を含む、請求項13に記載の方法。
  15. 前記電子回路を介して、前記複数のミラー電流に対する前記決定されたピーク波長の複数の追跡を含むデータに多項式フィッティングを適用することと、
    前記電子回路を介して、参照テーブルとしてメモリ内に前記多項式フィッティングされたデータを格納することと
    をさらに含む、請求項14に記載の方法。
  16. 前記電子回路が、プロセッサ、マイクロコントローラ、フィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)、または特定用途向け集積回路(ASIC)のうちの少なくとも1つを含む、請求項1に記載の方法。
  17. 光通信デバイスの波長較正のための装置であって、
    光出力において複数のミラーの多数のファセットにアクセスするように構成された波長可変レーザであって、それぞれのミラーが異なるサンプルグレーティング周期を有する波長可変レーザと、
    前記波長可変レーザおよびホストコントローラに連結された電子回路であって、
    前記波長可変レーザの利得セクションの利得電圧マップ、半導体光増幅器(SOA)光電流マップ、前記複数のミラーの反射スペクトル、および前記波長可変レーザのモードホッピングのうちの少なくとも1つに基づいて、前記複数のミラーを前記波長可変レーザの所望波長に同調するために必要とされるミラー電流を決定する
    ように構成された電子回路と
    を備える装置。
  18. 前記複数のミラーが、それぞれ、サンプルグレーティング分布ブラッグ反射型ミラーを備える、請求項17に記載の装置。
  19. 前記電子回路が、プロセッサ、マイクロコントローラ、フィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)、または特定用途向け集積回路(ASIC)のうちの少なくとも1つを備える、請求項17に記載の装置。
  20. 前記複数のミラーに対応する複数の半導体光増幅器(SOA)をさらに備える、請求項17に記載の装置。
  21. 前記電子回路に連結され、前記波長可変レーザの前記所望波長に対する前記ミラー電流を格納するように構成されたメモリをさらに備える、請求項17に記載の装置。
  22. 前記電子回路が、
    ミラー電流の全範囲に渡って、前記波長可変レーザの前記利得セクションの電圧値をモニタし、
    前記波長可変レーザが1組のミラー電流において最大強度を出力していることを表している電圧降下または最低値のポイントを決定する
    ようにさらに構成された、請求項17に記載の装置。
  23. 前記電子回路が、
    光検出器として動作するように構成された複数のSOAを介して前記複数のミラーのそれぞれのファセットからの出力強度をモニタし、
    変化するミラー電流および前記波長可変レーザからの光出力に基づいて、前記複数のSOAのうちの1つと関係した前記SOA光電流マップを決定し、
    前記SOA光電流マップの画像処理を介して、前記決定されたSOA光電流マップの輪郭の中心位置を決定する
    ようにさらに構成された、請求項17に記載の装置。
  24. 前記電子回路が、
    前記複数のSOAのうちの1つに順バイアスをかけ、
    前記複数のSOAのうちの残りの他のSOAに逆バイアスをかける
    ようにさらに構成された、請求項23に記載の装置。
  25. 前記電子回路が、
    ミラー電流の全範囲に渡って、前記複数のミラーの反射スペクトルを取得し、
    前記複数のミラーの前記反射スペクトルの分析に基づいて、前記波長可変レーザの前記所望波長に前記複数のミラーを同調するために必要とされるミラー電流を決定する
    ようにさらに構成された、請求項17に記載の装置。
  26. 前記電子回路が、
    波長ホップの1つまたは複数の開始点を決定し、
    前記複数のミラーのミラー電流の1次元の線に沿って前記波長ホップを追跡し、
    前記所望波長に対するミラー電流の操作設定を決定し、
    前記波長可変レーザの微調整として働く、前記波長可変レーザのキャビティモードの位置の最適化を図る
    ようにさらに構成された、請求項17に記載の装置。
JP2017523271A 2014-10-31 2015-10-30 光構成要素の高速較正およびプログラミング Active JP6689264B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201462073713P 2014-10-31 2014-10-31
US62/073,713 2014-10-31
PCT/US2015/058495 WO2016070142A1 (en) 2014-10-31 2015-10-30 Fast calibration and programming optical components

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017535955A true JP2017535955A (ja) 2017-11-30
JP6689264B2 JP6689264B2 (ja) 2020-04-28

Family

ID=55858435

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017523271A Active JP6689264B2 (ja) 2014-10-31 2015-10-30 光構成要素の高速較正およびプログラミング

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9543737B2 (ja)
EP (1) EP3213378B1 (ja)
JP (1) JP6689264B2 (ja)
KR (1) KR101970711B1 (ja)
CN (1) CN107431332B (ja)
WO (1) WO2016070142A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021128994A (ja) * 2020-02-13 2021-09-02 古河電気工業株式会社 レーザ装置の検査方法およびレーザ装置

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101916849B1 (ko) * 2014-11-20 2018-11-08 오이솔루션 아메리카 인코퍼레이티드 가변 광학 디바이스, 및 서브어셈블리를 제어, 모니터링, 및 통신하기 위한 방법 및 장치
CN110224295A (zh) * 2019-04-28 2019-09-10 中国计量科学研究院 一种半导体激光器驱动装置和方法
CN115755669B (zh) * 2022-10-23 2024-04-19 中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所 一种基于fpga的像移补偿方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003511866A (ja) * 1999-10-15 2003-03-25 ツナミ、フォトニクス、リミテッド 可変波長レーザを組込んだオプトエレクトロニクス・デバイスとそれの特性調整方法
US20030147442A1 (en) * 2001-12-04 2003-08-07 Larson Michael C. Methods for robust channel switching of widely-tunable sampled-grating distributed bragg reflector lasers
JP2003283044A (ja) * 2002-03-25 2003-10-03 Mitsubishi Electric Corp 波長可変半導体レーザの波長制御装置、波長制御方法および波長可変半導体レーザ装置
JP2004047638A (ja) * 2002-07-10 2004-02-12 Mitsubishi Electric Corp 波長可変半導体レーザの波長制御装置および方法
JP2005503028A (ja) * 2001-09-10 2005-01-27 インチューン テクノロジーズ リミテッド 他区域レーザーダイオードの周波数ロッキング
JP2005521233A (ja) * 2001-07-06 2005-07-14 インテル・コーポレーション 波長可変レーザの制御システム
JP2014522105A (ja) * 2011-07-22 2014-08-28 インサイト フォトニック ソリューションズ,インコーポレイテッド 波長連続及び規定された時間に対する波長掃引をレーザーから動的及び適応的に生成するシステム及び方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6191878B1 (en) * 1994-04-01 2001-02-20 Brett Spivey Optical communication system
DE19750810A1 (de) 1997-11-17 1999-05-20 Zarm Technik Gmbh Verfahren zur Kalibrierung abstimmbarer, insbesondere schmalbandiger Laser
WO2001018919A1 (en) * 1999-09-03 2001-03-15 The Regents Of The University Of California Tunable laser source with integrated optical modulator
US7061943B2 (en) 2000-06-29 2006-06-13 Agility Communications, Inc. Controller calibration for small form factor sampled grating distributed Bragg reflector laser
AU2002309809A1 (en) 2001-05-15 2002-11-25 Agility Communications, Inc. Sampled grating distributed bragg reflector laser controller
US20060072634A1 (en) 2004-09-30 2006-04-06 Daiber Andrew J Calibration methods for tunable lasers
US7929581B2 (en) * 2007-12-28 2011-04-19 Eudyna Devices Inc. Testing method of wavelength-tunable laser, controlling method of wavelength-tunable laser and laser device
US9407426B2 (en) 2009-11-12 2016-08-02 Oe Solutions America, Inc. Optical network interface, module and engine
SE535247C2 (sv) 2010-10-06 2012-06-05 Syntune Ab Förfarande för att kalibrera en avstämbar laser
EP2521227B1 (en) * 2011-05-04 2016-09-07 Alcatel Lucent Semiconductor optical amplifier device and optical matrix switch
EP2873175B1 (en) 2012-07-15 2023-05-17 OE Solutions America Inc. Control systems for optical devices and subassemblies
JP2015523578A (ja) * 2012-07-27 2015-08-13 ソルラブス、インコーポレイテッド 敏捷な画像化システム
JP6169725B2 (ja) * 2013-01-02 2017-07-26 オーイー・ソリューションズ・アメリカ・インコーポレーテッド 集積マッハツェンダ変調器を有する調整可能uレーザ送信機

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003511866A (ja) * 1999-10-15 2003-03-25 ツナミ、フォトニクス、リミテッド 可変波長レーザを組込んだオプトエレクトロニクス・デバイスとそれの特性調整方法
JP2005521233A (ja) * 2001-07-06 2005-07-14 インテル・コーポレーション 波長可変レーザの制御システム
JP2005503028A (ja) * 2001-09-10 2005-01-27 インチューン テクノロジーズ リミテッド 他区域レーザーダイオードの周波数ロッキング
US20030147442A1 (en) * 2001-12-04 2003-08-07 Larson Michael C. Methods for robust channel switching of widely-tunable sampled-grating distributed bragg reflector lasers
JP2003283044A (ja) * 2002-03-25 2003-10-03 Mitsubishi Electric Corp 波長可変半導体レーザの波長制御装置、波長制御方法および波長可変半導体レーザ装置
JP2004047638A (ja) * 2002-07-10 2004-02-12 Mitsubishi Electric Corp 波長可変半導体レーザの波長制御装置および方法
JP2014522105A (ja) * 2011-07-22 2014-08-28 インサイト フォトニック ソリューションズ,インコーポレイテッド 波長連続及び規定された時間に対する波長掃引をレーザーから動的及び適応的に生成するシステム及び方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021128994A (ja) * 2020-02-13 2021-09-02 古河電気工業株式会社 レーザ装置の検査方法およびレーザ装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP6689264B2 (ja) 2020-04-28
US9543737B2 (en) 2017-01-10
EP3213378B1 (en) 2020-01-08
WO2016070142A1 (en) 2016-05-06
KR20170071606A (ko) 2017-06-23
CN107431332A (zh) 2017-12-01
EP3213378A1 (en) 2017-09-06
KR101970711B1 (ko) 2019-04-22
US20160254644A1 (en) 2016-09-01
EP3213378A4 (en) 2018-09-05
CN107431332B (zh) 2019-06-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1564915B1 (en) Low relative intensity noise fiber grating type laser diode
US8249405B2 (en) Variable wavelength light source, optical module and manufacturing method of variable wavelength light source
US9722705B2 (en) Method and apparatus for controlling, monitoring, and communicating with tunable optical devices and subassemblies
JP6689264B2 (ja) 光構成要素の高速較正およびプログラミング
EP1624543B1 (en) Optical module and method for monitoring and controlling wavelength
US9059555B2 (en) Wavelength-stabilized diode laser
US6879421B2 (en) Method and system for performing swept-wavelength measurements within an optical system incorporating a reference resonator
CN107490822B (zh) 光器件、可调光源和光发送器
JP2011247894A (ja) 周波数偏移干渉計及び選択的データ処理
JP2011108910A (ja) 光半導体装置
US20180183517A1 (en) Wavelength tunable light source, and optical transceiver using the same
JP6039493B2 (ja) 波長掃引光源の光周波数校正方法とそのプログラム及び記憶媒体、光周波数校正装置、光干渉断層計測装置
US9885612B2 (en) Optical temperature sensor and method of controlling same
CN109792131A (zh) 一种波长锁定方法及激光器
WO2020197497A1 (en) Self-calibrating spectral sensor modules
US11855412B1 (en) Tunable laser
RU2623710C1 (ru) Способ определения центральной частоты симметричной оптической структуры (варианты) и устройство для его реализации
WO2003083418A1 (en) Frequency identification with frequency locker
US6243401B1 (en) Methods and apparatus for wavelength measurement and tracking using a semiconductor laser amplifier
JP2014077712A (ja) 光共振器測定法及び測定装置
US11916351B2 (en) Methods and systems for improving single-frequency operations of diode lasers
US20230072680A1 (en) Wavelength-controlled tunable chip-scale laser
CN112994796B (zh) 基于正交补偿调制的光纤干涉型传感器静态工作点优化方法
US20210381820A1 (en) Tunable light source for optical fiber proximity and testing
US20040091008A1 (en) Wavelength tuning optimization of semiconductor lasers

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20181030

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20181102

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20181211

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190115

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20190702

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20191105

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20200130

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200324

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200407

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6689264

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250